TWI503208B - Surface treatment device - Google Patents

Description

表面處理裝置

本發明係關於往棒材等被處理物之表面投射投射材以表面處理之表面處理裝置。

於表面處理裝置有例如將被處理對象物搬入箱本體內並往搬入之被處理對象物之表面投射投射材以噴珠處理者(例如參照專利文獻1)。

專利文獻1：日本特開2003-334759公報

然而，以此等裝置可能有投射材等飛散而從裝置內洩漏之場合。

本發明係考慮上述事實，獲得可防止或抑制投射材等從裝置內洩漏之表面處理裝置為目的。

本發明之第1態樣之表面處理裝置係一種表面處理裝置，具有：對被往既定之搬送方向搬送之被處理對象物投射投射材之投射裝置；於內部形成藉由被前述投射裝置投射之投射材進行前述被處理對象物之表面加工之投射室且形成有前述被處理對象物之搬入用之搬入口與搬出用之搬出口之箱本體；鄰接於前述箱本體之前述搬送方向之上流側且形成以前述搬入口連通於前述投射室之空間且前述被處理對象物之搬入用之外側入口對向於前述搬入口而形成之箱體前部；鄰接於前述箱本體之前述搬送方向之下流側且形成以前述搬出口連通於前述投射室之空間且前述被處理對象物之搬出用之外側出口對向於前述搬出口而形成之箱體後部；安裝於前述箱本體之前述搬入口及前述搬出口而構成前述被處理對象物之搬送通路之一部分且形成為筒狀而前述被處理對象物可通過筒內側且投射材從形成於上部之孔流入而於筒內側堆積投射材之密封筒部。

根據本發明之第1態樣之表面處理裝置，通過箱體前部之外側入口從箱本體之搬入口搬入之被處理對象物係在到達箱本體之投射室後藉由投射裝置投射投射材。投射投射材之被處理對象物通過箱本體之搬出口從箱體後部之外側出口搬出。在此，於前述箱本體之前述搬入口及前述搬出口係安裝密封筒部而構成前述被處理對象物之搬送通路之一部分。密封筒部係形成為筒狀而前述被處理對象物可通過筒內側，投射材從形成於上部之孔流入而於筒內側堆積投射材。因此，即使投射之投射材飛散，該投射材亦會於於密封筒部內堆積之投射材擋止。此外，流入之投射材之中超過在密封筒部之收容量之部分之投射材會往箱體前部、箱本體、箱體後部其中之一落下，故抑制往裝置外之漏出。

本發明之第2態樣之表面處理裝置係如申請專利範圍第1項記載之表面處理裝置，其中，於前述密封筒部中之前述搬送方向之上流側及下流側之端部之至少一方設有鄰接配置於該端部之筒內側之下端且將從該筒內側之投射材之流出擋止之擋止部。

根據本發明之第2態樣之表面處理裝置，於前述密封筒部中之前述搬送方向之上流側及下流側之端部之至少一方設有鄰接配置於該端部之筒內側之下端且將從該筒內側之投射材之流出擋止之擋止部，故於密封筒部之筒內側投射材有效率地堆積。因此，即使例如抑制密封筒部之軸方向長度(沿搬送方向之長度)，亦可於密封筒部之內側堆積充分之量之投射材。

本發明之第3態樣之表面處理裝置係如申請專利範圍第1或2項記載之表面處理裝置，其中，於前述外側入口側及前述外側出口側設有板面對前述搬送方向垂直配置且做為投射材之漏出阻止用之密封板，前述密封板具備可撓性且藉由狹縫劃分為複數且於前述被處理對象物之通過時以前述狹縫分割而可往前述搬送方向之下流側分別彎曲變形。

根據本發明之第3態樣之表面處理裝置，於前述外側入口側及前述外側出口側設有板面對前述搬送方向垂直配置且做為投射材之漏出阻止用之密封板，前述密封板具備可撓性且藉由狹縫劃分為複數且於前述被處理對象物之通過時以前述狹縫分割而可往前述搬送方向之下流側分別彎曲變形。因此，即使假設投射材往外側入口及外側出口飛散亦藉由密封板阻止往裝置外之投射材之漏出。

本發明之第4態樣之表面處理裝置係如申請專利範圍第1或2項記載之表面處理裝置，其中，設有於前述箱體後部之內部配置吹送口而可往前述被處理對象物吹送氣體之吹送裝置。

根據本發明之第4態樣之表面處理裝置，設有於前述箱體後部之內部配置吹送口而可往前述被處理對象物吹送氣體之吹送裝置，故於被處理對象物之上殘留之投射材等藉由吹送裝置之氣體之吹送而吹落。

本發明之第5態樣之表面處理裝置係如申請專利範圍第1或2項記載之表面處理裝置，其中，前述投射裝置係以動葉輪之旋轉對投射材給予離心力並投射投射材之離心式之投射裝置，配置於前述箱本體內。

根據本發明之第5態樣之表面處理裝置，前述投射裝置係以動葉輪之旋轉對投射材給予離心力並投射投射材之離心式之投射裝置，配置於前述箱本體內，故可對被處理對象物效率良好地投射。此外，離心式之投射裝置比起空氣噴嘴式之投射裝置抑制箱本體內之氣壓之變動，故在密封筒部內堆積投射材之狀態容易維持。

本發明之第6態樣之表面處理裝置係如申請專利範圍第5項記載之表面處理裝置，其中，前述投射裝置係在前述箱本體內配置於前述搬送方向之上流側及搬送方向之下流側；配置於前述搬送方向之上流側之上流側投射裝置之動葉輪係設定為依前述搬送方向之上流側、前述被處理對象物之搬送通路側、前述搬送方向之下流側之順序旋轉且放出投射材之部位相對前述動葉輪之旋轉軸設定於前述搬送方向之上流側；配置於前述搬送方向之下流側之下流側投射裝置之動葉輪係設定為依前述搬送方向之下流側、前述被處理對象物之搬送通路側、前述搬送方向之上流側之順序旋轉且放出投射材之部位相對前述動葉輪之旋轉軸設定於前述搬送方向之下流側。

根據本發明之第6態樣之表面處理裝置，配置於前述搬送方向之上流側之上流側投射裝置之動葉輪係設定為依前述搬送方向之上流側、前述被處理對象物之搬送通路側、前述搬送方向之下流側之順序旋轉且放出投射材之部位相對前述動葉輪之旋轉軸設定於前述搬送方向之上流側，故投射材之大部分係往從搬入口遠離之方向(箱本體內之向內方向)投射。因此，抑制從搬入口之投射材之流出。配置於前述搬送方向之下流側之下流側投射裝置之動葉輪係設定為依前述搬送方向之下流側、前述被處理對象物之搬送通路側、前述搬送方向之上流側之順序旋轉且放出投射材之部位相對前述動葉輪之旋轉軸設定於前述搬送方向之下流側，故投射材之大部分係往從搬出口遠離之方向(箱本體內之向內方向)投射。

本發明之第7態樣之表面處理裝置係如申請專利範圍第1或2項記載之表面處理裝置，其中，前述被處理對象物為棒材且設有使前述棒材旋轉同時往前述搬送方向搬送之旋轉搬送手段，前述投射裝置之投射方向與前述旋轉搬送手段之搬送位置設定為來自前述投射裝置之投射朝向前述棒材之軸心側。

根據本發明之第7態樣之表面處理裝置，前述被處理對象物為棒材且設有使前述棒材旋轉同時往前述搬送方向搬送之旋轉搬送手段，前述投射裝置之投射方向與前述旋轉搬送手段之搬送位置設定為來自前述投射裝置之投射朝向前述棒材之軸心側，故對被處理對象物即棒材效率良好地進行投射裝置之投射。

本發明之第8態樣之表面處理裝置係如申請專利範圍第7項記載之表面處理裝置，其中，設定為於前述棒材通過在前述投射室投射投射材之範圍之期間前述旋轉搬送手段使前述棒材旋轉三圈以上。

根據本發明之第8態樣之表面處理裝置，設定為於前述棒材通過在前述投射室投射投射材之範圍之期間前述旋轉搬送手段使前述棒材旋轉三圈以上，故棒材之表面加工涵蓋全周無遺漏地進行。

如以上說明，根據本發明之表面處理裝置，具有可防止或抑制投射材等從裝置內洩漏之優良效果。

[第1實施形態]

針對做為本發明之一實施形態之表面處理裝置之噴珠裝置使用圖1~圖6說明。於圖1，噴珠裝置10係以前視圖顯示，於圖2，噴珠裝置10係以俯視圖顯示，於圖3，噴珠裝置10係以右側視圖顯示。

另外，本實施形態之噴珠裝置10係以金屬製之棒材12做為被處理對象物。於圖中適當顯示之箭頭X係表示棒材12搬送之搬送方向(以下稱為「棒材搬送方向」。)。

如圖1所示，噴珠裝置10具備箱體14。於構成箱體14之大部分之箱本體16之內部形成有藉由往棒材12之投射材之投射來進行棒材12之表面加工之投射室16A(亦稱為「加工室」、「研掃室」)。此外，於箱本體16係於棒材搬送方向之上流側(圖中左側)形成棒材12之搬入用之搬入口18，於棒材搬送方向之下流側(圖中右側)形成有棒材12之搬出用之搬出口20。

於箱本體16之棒材搬送方向之上流側係構成箱體14之一部分之箱體前部22鄰接。箱體前部22係形成有以搬入口18連通於投射室16A之空間22A。此外，於箱體前部22係對向於箱本體16之搬入口18形成有棒材12之搬入用之外側入口24。

相對於此，於箱本體16之棒材搬送方向之下流側係構成箱體14之一部分之箱體後部26鄰接。箱體後部26係形成有以搬出口20連通於投射室16A之空間26A。此外，於箱體後部26係對向於箱本體16之搬出口20形成有棒材12之搬出用之外側出口28。

於箱體14之內部設有使棒材12旋轉同時搬送之做為旋轉搬送手段之旋轉搬送裝置30。旋轉搬送裝置30係包含棒材12載置之複數輸送機轉子32、將此等輸送機轉子32旋轉驅動之驅動機構(圖示省略)而構成。複數輸送機轉子32係沿棒材12之搬送通路隔著既定之間隔配置。各輸送機轉子32係從其軸線方向之兩端側往中央側逐漸變小徑而形成為該軸線方向之中央部縮徑之所謂鼓型(參照圖6)。如圖2所示，故輸送機轉子32之軸線方向係設定為對棒材搬送方向傾斜且互相平行。

此等輸送機轉子32係藉由驅動機構(圖示省略)同時以同速度旋轉。前述驅動機構係藉由將馬達(圖示省略)之輸出軸之旋轉透過動力傳達機構(圖示省略)往輸送機轉子32傳達來驅動輸送機轉子32。此外，旋轉搬送裝置30係設定為棒材12通過在於圖1顯示之投射室16A以後述之投射裝置36投射投射材之範圍之期間使棒材12旋轉三圈以上。

於箱本體16內係於棒材12之搬送通路之上方側配置有複數台(在本實施形態係計四台)之投射裝置36。投射裝置36係在箱本體16內於棒材搬送方向之上流側及下流側分別配置各兩台。此等四台之投射裝置36係於棒材搬送方向隔著既定之間隔配置，對往棒材搬送方向搬送之棒材12投射投射材。本實施形態之投射裝置36係以動葉輪37A、37C之旋轉對投射材(在本實施形態做為一例係鋼球)給予離心力並投射投射材之離心式投射裝置(動葉輪單元、離心投射手段)。動葉輪37A、37C之旋轉軸37X、37Z在本實施形態係水平配置並沿正交於棒材搬送方向之方向設置。

四台之投射裝置36之中計二台配置於棒材搬送方向之上流側之上流側投射裝置36A之動葉輪37A係設定為依棒材搬送方向之上流側(圖中左側)、棒材12之搬送通路側(圖中下側)、棒材搬送方向之下流側(圖中右側)之順序旋轉(在圖1係往箭頭A方向(逆時針方向))且放出投射材之部位37B相對前述動葉輪37A之旋轉軸37X設定於棒材搬送方向之上流側(圖中左側)。

相對於此，四台之投射裝置36之中計二台配置於棒材搬送方向之下流側之下流側投射裝置36B之動葉輪37C係設定為依棒材搬送方向之下流側(圖中右側)、棒材12之搬送通路側(圖中下側)、棒材搬送方向之上流側(圖中左側)之順序旋轉(在圖1係往箭頭B方向(順時針方向))且放出投射材之部位37D相對前述動葉輪37C之旋轉軸37Z設定於棒材搬送方向之下流側(圖中右側)。

藉此，投射裝置36(36A、36B)係各投射材之噴流之中心係設定為朝向靠近箱本體16之沿棒材搬送方向之長度方向之中央部之方向(向內方向)。此外，投射裝置36之投射方向與旋轉搬送手段之搬送位置係設定為來自前述投射裝置36之投射朝向前述棒材12之軸心側。

投射裝置36之投射在本實施形態係為了將附著於棒材12之表面之鏽皮、生鏽等附著物除去而為。投射裝置36係連接於不圖示之ECU(Electronic Control Unit，控制手段)，進行關於投射之控制。

於投射裝置36之上方側配置有投射材供給裝置38(流量調節裝置)。投射材供給裝置38係往投射裝置36供給投射材之裝置，於投射材之供給部具備可開閉之投射材閘門(圖示省略)。投射材供給裝置38可藉由變更前述投射材閘門之開度來變更往投射裝置36之投射材之供給量。

於投射裝置36係透過投射材供給裝置38連結有循環裝置40。循環裝置40係搬送由投射裝置36投射之投射材並使往投射裝置36循環之裝置，具備配置於箱體14之內部之底部側之螺旋輸送機42及於裝置上下方向延伸之斗式升降機44(參照圖3)。

螺旋輸送機42係水平配置且以棒材搬送方向為軸方向延在，一端到達箱體前部22內之下部，另一端到達箱體後部26之下部，軸部之兩端側於箱體14側支持為可旋轉。此螺旋輸送機42係連接於驅動力傳達機構46(參照圖3)並藉由驅動馬達之驅動力而旋轉，具備可將堆積於箱體14之下部之投射材往與棒材搬送方向為相反方向搬送之螺桿部。

對螺旋輸送機42之與棒材搬送方向為相反方向之端部係配置為斗式升降機44之收集口(圖示省略)面對。換言之，螺旋輸送機42係配置為可往斗式升降機44之下端部側之前述收集口搬送投射材。斗式升降機44雖因係公知構造而省略詳細說明，但如圖3所示，於配置於噴珠裝置10之上部及下部之滑輪44A捲掛無端皮帶44B，於無端皮帶44B安裝有多數斗(圖示省略)。此外，滑輪44A係連接於馬達而可旋轉驅動。藉此，斗式升降機44係將以螺旋輸送機42回收之(暫時貯藏之)投射材以前述斗撈起並藉由以馬達使滑輪44A旋轉來將前述斗內之投射材往箱體14之上方側搬送。

此外，於斗式升降機44之上部側之附近配置有分離器48(參照圖3)。分離器48係設於循環裝置40之循環路徑，將投射材以外之異物(從棒材表面脫落之微細鏽皮等)及以斗式升降機44搬送之投射材(亦即以投射裝置36投射之投射材)之中裂開之投射材分離除去。於分離器48係透過風道連接有不圖示之集塵機。前述集塵機係吸引並收集包含粉塵之空氣。另一方面，於使可再利用之投射材落下之分離器48之下端部之下方側設有於圖1顯示之上部螺旋輸送機50之一端側。上部螺旋輸送機50係於水平方向配置並以棒材搬送方向為軸方向延在，將投射材往棒材搬送方向搬送。於上部螺旋輸送機50之下方側設有投射材貯藏用投射材槽52。投射材槽52係連結於投射材供給裝置38。

另一方面，於箱體前部22之外側入口24設有投射材之漏出阻止用之密封板54，於箱體後部26之外側出口28亦同樣地設有投射材之漏出阻止用之密封板56。如圖4所示，密封板54係配置於安裝於外側入口24之圓筒狀之筒體60之內側。此外，如圖5所示，密封板56係配置於安裝於外側出口28之圓筒狀之筒體62之內側。

如圖4及圖5所示，筒體60、62係以棒材搬送方向為軸心方向配置，密封板54、56係其外周部於筒體60、62固定而板面對棒材搬送方向垂直配置，沿棒材搬送方向複數片(在本實施形態係各三片)串聯配置。此等密封板54、56係以橡膠等形成而具備可撓性。如圖3所示，密封板54係藉由狹縫S(切除)劃分為複數且於棒材12之通過時以前述狹縫S分割而可往棒材搬送方向之下流側分別彎曲變形(圖示省略)。雖省略圖示，於圖5顯示之密封板56亦形成同樣之狹縫而可同樣地彎曲變形。

如圖4及圖5所示，於箱本體16之搬入口18透過凸緣部61安裝有密封筒部64，於箱本體16之搬出口20透過凸緣部63安裝有密封筒部66。另外，在本實施形態雖係密封筒部64係於箱體前部22內配置之構成部、於箱本體16內配置之構成部以不同零件構成，但以具備此等構成部之一零件構成亦可。此外，密封筒部66雖係於箱體後部26內配置之構成部、於箱本體16內配置之構成部以不同零件構成，但以具備此等構成部之一零件構成亦可。

密封筒部64、66構成棒材12之搬送通路之一部分，形成為筒狀而棒材12可通過筒內側且於上部形成有使投射材流入之孔64A、66A。於密封筒部64、66之上方側配置有漏斗68、70，漏斗68、70之內部空間與密封筒部64、66之筒內側空間透過孔64A、66A連通。於漏斗68、70之上方側做為往漏斗68、70(進而密封筒部64、66)之投射材供給用設有投射材供給管72、74，投射材供給管72、74係通往投射材槽52(參照圖1)。

藉此，成為投射材槽52(參照圖1)之投射材透過投射材供給管72、74及漏斗68、70從密封筒部64、66之孔64A、66A往密封筒部64、66之筒內側流入之構造，於密 封筒部64、66之筒內側有投射材堆積。更具體而言，成為隨時從漏斗68、70側往密封筒部64、66之筒內側有投射材90流入以使於棒材12之搬送時於棒材搬送方向觀察棒材12與密封筒部64、66之筒內面之間隙以投射材90阻塞(密封)之構造。亦即，為雖於棒材12之搬送時於密封筒部64、66之兩端側有投射材90流落但從漏斗68、70側往密封筒部64、66之筒內側補給該部分之構成。

另外，於投射材供給管72、74之上部內側設置調整閥(圖示省略)並控制為於漏斗68、70內隨時有既定量以上之投射材貯藏較理想。做為一例，可適用藉由於漏斗68、70有檢出投射材之貯藏之感測器安裝，於此感測器連接之控制部有閥調整手段連接，前述控制部基於前述感測器之檢出結果對前述閥調整手段發出指令而前述閥調整手段變更(調整)前述調整閥之開度之構成。

如圖4所示，於密封筒部64之棒材搬送方向之上流側之端部安裝有短筒狀之導引筒構件76。於導引筒構件76形成之導引孔76A係往密封筒部64側(棒材搬送方向之下流側)逐漸變小，導引筒構件76之軸心係配置為與密封筒部64之軸心一致。導引孔76A之密封筒部64側(棒材搬送方向之下流側)之開口部之內徑係設定為比密封筒部64之內徑若干小。

藉此，於密封筒部64之棒材搬送方向之上流側之端部係構成導引筒構件76之一部分之擋止部76B鄰接配置於該端部之筒內側之下端之構成，此擋止部76B係擋止從密封筒部64之筒內側之投射材90之流出之部位。

於導引筒構件76之棒材搬送方向之上流側之開口端安裝有遮蔽板77而在自然狀態下阻塞導引筒構件76之閉口部。遮蔽板77係與密封板54同樣地以橡膠等形成而具備可撓性且形成有與密封板54同樣之狹縫(圖示省略)。

此外，於密封筒部64之棒材搬送方向之下流側之端部透過構成凸緣之平板部65安裝有短筒狀之導引筒體78。導引筒體78係以於棒材搬送方向串聯配置之複數個(在本實施形態係計三個)導引筒構件78A、78B、78C一體化構成。於導引筒構件78A、78B、78C形成之導引孔79A、79B、79C係任一者皆往密封筒部64側(棒材搬送方向之上流側)逐漸變小徑，導引筒構件78A、78B、78C之軸心係配置為與密封筒部64之軸心一致。各導引孔79A、79B、79C之密封筒部64側(棒材搬送方向之上流側)之開口部之徑係設定為任一者皆比密封筒部64之內徑若干小。

藉此，於密封筒部64之棒材搬送方向之下流側之端部係構成導引筒構件78A之一部分之擋止部78D鄰接配置於該端部之筒內側之下端之構成，此擋止部78D係擋止從密封筒部64之筒內側之投射材90之流出之部位。另外，做為本實施形態之變形例，例如藉由使為於密封筒部64之棒材搬送方向之下流側之端部鄰接配置該端部抵接之蓋體且於此蓋體形成與密封筒部64之貫通部同軸且做為棒材12之通過用之貫通孔且前述貫通孔設定為比密封筒部64之內徑小徑之構成來以前述蓋體之一部分做為擋止部。此外，藉由代替前述蓋體而配置與密封板54同樣之構成之遮蔽板來，以此遮蔽板之一部分做為擋止部亦可。

如上述，藉由對密封筒部64安裝導引筒構件76及導引筒體78且於導引筒構件76安裝遮蔽板77，成為易於密封筒部64之筒內側堆積投射材90之構造。

如圖5所示，於密封筒部66之棒材搬送方向之下流側之端部安裝有短筒狀之導引筒構件80。於導引筒構件80形成之導引孔80A係往密封筒部66側(棒材搬送方向之上流側)逐漸變小徑，導引筒構件80之軸心係配置為與密封筒部66之軸心一致。導引孔80A之密封筒部66側(棒材搬送方向之上流側)之開口部之內徑係設定為比密封筒部66之內徑若干小。

藉此，於密封筒部66之棒材搬送方向之下流側之端部係構成導引筒構件80之一部分之擋止部80B鄰接配置於該端部之筒內側之下端之構成，此擋止部80B係擋止從密封筒部66之筒內側之投射材90之流出之部位。

於導引筒構件80之棒材搬送方向之下流側之開口端安裝有遮蔽板81而在自然狀態下阻塞導引筒構件80之開口部。遮蔽板81係與密封板54同樣地以橡膠等形成而具備可撓性且形成有與密封板54同樣之狹縫(圖示省略)。

此外，於密封筒部66之棒材搬送方向之上流側之端部透過構成凸緣之平板部67安裝有短筒狀之導引筒體82。導引筒體82係以於棒材搬送方向串聯配置之複數個(在本實施形態係計三個)導引筒構件82A、82B、82C一體化構成。於導引筒構件82A、82B、82C形成之導引孔83A、83B、83C係任一者皆往密封筒部66側(棒材搬送方向之下流側)逐漸變小徑，導引筒構件82A、82B、82C之軸心係配置為與密封筒部66之軸心一致。各導引孔83A、83B、83C之密封筒部66側(棒材搬送方向之下流側)之開口部之徑係設定為任一者皆比密封筒部66之內徑若干小。

藉此，於密封筒部66之棒材搬送方向之上流側之端部係構成導引筒構件82A之一部分之擋止部82D鄰接配置於該端部之筒內側之下端之構成，此擋止部82D係擋止從密封筒部66之筒內側之投射材90之流出之部位。另外，做為本實施形態之變形例，例如藉由使為於密封筒部66之棒材搬送方向之下流側之端部鄰接配置該端部抵接之蓋體且於此蓋體形成與密封筒部66之貫通部同軸且做為棒材12之通過用之貫通孔且前述貫通孔設定為比密封筒部66之內徑小徑之構成來以前述蓋體之一部分做為擋止部。此外，藉由代替前述蓋體而配置與密封板56同樣之構成之遮蔽板來，以此遮蔽板之一部分做為擋止部亦可。

如上述，藉由對密封筒部66安裝導引筒構件80及導引筒體82且於導引筒構件80安裝遮蔽板81，成為易於密封筒部66之筒內側堆積投射材90之構造。

另一方面，於箱體後部26之內部於比導引筒構件80更往棒材搬送方向之下流側配置有做為吹送裝置之鼓風裝置84之吹送口86A。如沿圖5之6-6線之擴大剖面圖即圖6所示，鼓風裝置84具備朝向搬送通路側(棒材12側)之 噴嘴86，噴嘴86係繞搬送通路配置複數個(在本實施形態係計四個)。此等噴嘴86係設定為往搬送通路側(棒材12側)往棒材搬送方向之上流側若干傾斜之方向(參照圖5)。此外，此等噴嘴86係分別連接於配置於搬送通路周圍之風道88，風道88係連接於不圖示之壓縮空氣供給部。藉此，鼓風裝置84可向棒材12(搬送通路)吹送氣體(在本實施形態係壓縮空氣)。鼓風裝置84係連接於ECU(圖示省略)，進行關於吹送之控制。

其次，針對上述實施形態之作用及效果說明。

如圖1所示，通過箱體前部22之外側入口24從箱本體16之搬入口18搬入之棒材12藉由旋轉搬送裝置30旋轉同時往棒材搬送方向搬送。在到達箱本體16之投射室16A後藉由投射裝置36投射投射材。投射裝置36之投射方向與旋轉搬送裝置30之搬送位置係設定為來自前述投射裝置36之投射朝向前述棒材12之軸心側，故投射裝置36之投射對棒材12效率良好地進行。此外，於前述棒材12通過在前述投射室16A投射投射材之範圍之期間前述棒材12係藉由旋轉搬送裝置30旋轉三圈以上，故棒材12之表面加工涵蓋全周無遺漏地進行。

投射投射材之棒材12通過箱本體16之搬出口20從箱體後部26之外側出口28搬出。在此，於前述箱本體16之前述搬入口18及前述搬出口20係安裝密封筒部64、66而構成前述棒材12之搬送通路之一部分。如圖4及圖5所示，密封筒部64、66係形成為筒狀而前述棒材12可通過筒內側，投射材90從形成於上部之孔64A、66A流入而於筒內側堆積投射材90。因此，即使投射之投射材飛散，該投射材亦會於於密封筒部64、66內堆積之投射材擋止。此外，流入之投射材90之中超過在密封筒部64、66之收容量之部分之投射材會經過導引筒構件76、80或導引筒體78、82往箱體前部22、箱本體16、箱體後部26其中之一之下部落下，故抑制往裝置外之漏出。

此外，在本實施形態之噴珠裝置10係於前述密封筒部64、66中之前述棒材搬送方向之上流側及下流側之端部設有鄰接配置於該端部之筒內側之下端之擋止部76B、78D、80B、82D，故從該密封筒部64、66之筒內側之投射材90之流出藉由擋止部76B、78D、80B、82D擋止。因此，於密封筒部64、66之筒內側投射材有效率地堆積，即使例如抑制密封筒部64、66之軸方向長度(沿搬送方向之長度)，亦可於密封筒部64、66之內側堆積充分之量之投射材90。因此，投射材90之密封性提高。

此外，於前述外側入口24側及前述外側出口28側設有板面對前述棒材搬送方向垂直配置且做為投射材之漏出阻止用之密封板54、56。此密封板54、56具備可撓性且藉由狹縫S(參照圖3)劃分為複數且於前述棒材12之通過時以前述狹縫S分割而可往前述棒材搬送方向之下流側分別彎曲變形，故即使假設投射材往外側入口24及外側出口28飛散亦藉由密封板54、56阻止往裝置外之投射材之漏出。

此外，如圖5所示，設有於前述箱體後部26之內部配置吹送口86A而可往前述棒材12吹送氣體之鼓風裝置84，故於棒材12之上殘留之投射材等藉由鼓風裝置84之氣體之吹送而吹落。

此外，前述投射裝置36雖因係以動葉輪37A、37C之旋轉對投射材給予離心力並投射投射材之離心式之投射裝置，配置於前述箱本體16內，故可對棒材12效率良好地投射，但此離心式之投射裝置比起空氣噴嘴式之投射裝置抑制箱本體16內之氣壓之變動，故在密封筒部64、66內堆積投射材90之狀態容易維持。

進而，上流側投射裝置36A之動葉輪37A係設定為依前述棒材搬送方向之上流側、前述棒材12之搬送通路側、前述棒材搬送方向之下流側之順序旋轉且放出投射材之部位37B相對前述動葉輪37A之旋轉軸37X設定於前述棒材搬送方向之上流側，故投射材之大部分係往從搬入口18遠離之方向(箱本體16內之向內方向)投射。因此，抑制從搬入口18之投射材之流出。另一方面，下流側投射裝置36B之動葉輪37C係設定為依前述棒材搬送方向之下流側、前述棒材之搬送通路側、前述棒材搬送方向之上流側之順序旋轉且放出投射材之部位37D相對前述動葉輪37C之旋轉軸37Z設定於前述搬送方向之下流側，故投射材之大部分係往從搬出口20遠離之方向(箱本體內16之向內方向)投射。因此，抑制從搬出口20之投射材之流出。

如以上說明，根據本實施形態之噴珠裝置10，可防止或抑制投射材等從裝置內洩漏。

另外，在上述實施形態雖係擋止部76B、78D、80B、82D鄰接配置於於圖4及圖5顯示之密封筒部64、66之端部，從於密封筒部64、66之內側效率良好地堆積投射材90之觀點係此種構成較理想，但於例如可確保密封筒部64、66之軸方向之長度較長之場合等，亦可為擋止部不鄰接配置於密封筒部之端部之構成。此外，為擋止部僅鄰接配置於密封筒部之搬送方向之上流側及下流側之端部之一方側之構成亦可。

此外，在上述實施形態雖係於外側入口24側及外側出口28側配置有密封板54、56，從投射材之往裝置外之漏出阻止之觀點係此種構成更理想，但亦可為於外側入口側及外側出口側不配置密封板之構成或代替密封板而配置有刷體等之構成。

此外，在上述實施形態雖係於箱體後部26之內部配置有做為吹送裝置之鼓風裝置84之吹送口86A，但亦可為不設此種吹送裝置之構成。此外，代替吹送壓縮空氣之鼓風裝置84而適用包含外氣導入用之風扇而構成之吹送裝置亦可。

此外，在上述實施形態雖係於噴珠裝置10適用將投射材以離心力加速投射之離心式投射材投射裝置做為投射裝置36，但於表面處理裝置適用之投射裝置為例如與壓縮空氣一起將投射材押送並從噴嘴噴射之空氣噴嘴式之投射裝置等其他投射裝置亦可。

此外，在上述實施形態雖係投射裝置36配置於箱本體16內，但為投射裝置36配置於箱本體16之外側並透過風道等連結於箱本體16者亦可。

此外，在上述實施形態雖係投射裝置36之動葉輪37A、37C之旋轉軸37X、37Z水平配置並沿與棒材搬送方向正交之方向設置，但例如於動葉輪之位置與搬送通路同高度位置之場合，對水平面垂直配置並沿與棒材搬送方向正交之方向設置投射裝置之動葉輪之旋轉軸等，動葉輪之旋轉軸之方向並不限於上述實施形態。

此外，在上述實施形態雖係投射裝置36在箱本體16內於棒材搬送方向之上流側及下流側配置，但投射裝置亦可例如僅在箱本體內於沿被處理對象物之搬送方向之長度方向之中央部配置。

此外，在上述實施形態雖係表面處理裝置為噴珠裝置10，但表面處理裝置係例如shot peening裝置亦可。

此外，在上述實施形態雖係針對被處理對象物為棒材12之噴珠裝置10說明，但表面處理裝置為例如處理被處理對象物為線材或板狀構件等其他被處理對象物之表面處理裝置亦可。

另外，在上述實施形態雖係設有做為使棒材12旋轉同時搬送之旋轉搬送手段之旋轉搬送裝置30，但為設有不使被處理對象物旋轉而搬送之搬送手段之構成亦可。

另外，在上述實施形態雖係設定為於前述棒材12通過在前述投射室16A投射投射材之範圍之期間旋轉搬送裝置30使棒材12旋轉三圈以上，從棒材12之表面加工涵蓋全周無遺漏地進行之觀點係此種構成較理想，但亦可不設定為於前述棒材12通過在前述投射室16A投射投射材之範圍之期間旋轉搬送裝置30使棒材12旋轉三圈以上。

另外，上述實施形態及上述之複數變形例可適當組合實施。

10．．．噴珠裝置(表面處理裝置)

12．．．棒材(被處理對象物)

16．．．箱本體

16A．．．投射室

18．．．搬入口

20．．．搬出口

22．．．箱體前部

22A．．．空間

24．．．外側入口

26．．．箱體後部

26A．．．空間

28．．．外側出口

30．．．旋轉搬送裝置(旋轉搬送手段)

36．．．投射裝置

36A．．．上流側投射裝置(投射裝置)

36B．．．下流側投射裝置(投射裝置)

37A．．．動葉輪

37B．．．將投射材放出之部位

37C．．．動葉輪

37D．．．將投射材放出之部位

37X．．．旋轉軸

37Z．．．旋轉軸

54．．．密封板

56．．．密封板

64．．．密封筒部

64A．．．孔

66．．．密封筒部

66A．．．孔

76B．．．擋止部

78D．．．擋止部

80B．．．擋止部

82D‧‧‧擋止部

84‧‧‧鼓風裝置(吹送裝置)

86A‧‧‧吹送口

S‧‧‧狹縫

X‧‧‧棒材搬送方向(搬送方向)

圖1為顯示本發明之一實施形態之噴珠裝置之前視圖。

圖2為圖1之噴珠裝置之俯視圖。

圖3為圖1之噴珠裝置之右側面圖。

圖4為擴大顯示圖1之噴珠裝置之搬入口側之部分擴大圖。

圖5為擴大顯示圖1之噴珠裝置之搬出口側之部分擴大圖。

圖6為沿圖5之6-6線之擴大剖面圖。

10．．．噴珠裝置(表面處理裝置)

12．．．棒材(被處理對象物)

14．．．箱體

16．．．箱本體

16A．．．投射室

18．．．搬入口

20．．．搬出口

22．．．箱體前部

22A．．．空間

24．．．外側入口

26．．．箱體後部

26A．．．空間

28．．．外側出口

30．．．旋轉搬送裝置(旋轉搬送手段)

32．．．輸送機轉子

36．．．投射裝置

36A．．．上流側投射裝置(投射裝置)

36B．．．下流側投射裝置(投射裝置)

37A．．．動葉輪

37B．．．將投射材放出之部位

37C．．．動葉輪

37D．．．將投射材放出之部位

37X．．．旋轉軸

37Z．．．旋轉軸

38．．．投射材供給裝置

40．．．循環裝置

42．．．螺旋輸送機

44．．．斗式升降機

50．．．上部螺旋輸送機

52．．．投射材槽

54．．．密封板

56．．．密封板

64．．．密封筒部

66．．．密封筒部

68．．．漏斗

70．．．漏斗

72．．．投射材供給管

74．．．投射材供給管

90．．．投射材

Claims (7)

1. 一種表面處理裝置，具有：對被往既定之搬送方向搬送之被處理對象物投射投射材之投射裝置；於內部形成藉由被前述投射裝置投射之投射材進行前述被處理對象物之表面加工之投射室且形成有前述被處理對象物之搬入用之搬入口與搬出用之搬出口之箱本體；鄰接於前述箱本體之前述搬送方向之上流側且形成以前述搬入口連通於前述投射室之空間且前述被處理對象物之搬入用之外側入口對向於前述搬入口而形成之箱體前部；鄰接於前述箱本體之前述搬送方向之下流側且形成以前述搬出口連通於前述投射室之空間且前述被處理對象物之搬出用之外側出口對向於前述搬出口而形成之箱體後部；安裝於前述箱本體之前述搬入口及前述搬出口而構成前述被處理對象物之搬送通路之一部分且形成為筒狀而前述被處理對象物可通過筒內側且投射材從形成於上部之孔流入而於筒內側堆積投射材之密封筒部；於前述密封筒部中之前述搬送方向之上流側及下流側之端部之至少一方設有鄰接配置於該端部之筒內側之下端且將從該筒內側之投射材之流出擋止之擋止部；於前述密封筒部之前述搬送方向之上流側及下流側之端部安裝有短筒狀之導引筒構件； 於前述密封筒部之前述搬送方向之上流側及下流側之端部有構成前述導引筒構件之一部分之前述擋止部鄰接配置於該端部之筒內側之下端；於前述導引筒構件之棒材搬送方向之上流側及下流側之開口端安裝有遮蔽板，阻塞前述導引筒構件之開口部。
2. 如申請專利範圍第1項記載之表面處理裝置，其中，於前述外側入口側及前述外側出口側設有板面對前述搬送方向垂直配置且做為投射材之漏出阻止用之密封板，前述密封板具備可撓性且藉由狹縫劃分為複數且於前述被處理對象物之通過時以前述狹縫分割而可往前述搬送方向之下流側分別彎曲變形。
3. 如申請專利範圍第1項記載之表面處理裝置，其中，設有於前述箱體後部之內部配置吹送口而可往前述被處理對象物吹送氣體之吹送裝置。
4. 如申請專利範圍第1項記載之表面處理裝置，其中，前述投射裝置係以動葉輪之旋轉對投射材給予離心力並投射投射材之離心式投射裝置，配置於前述箱本體內。
5. 如申請專利範圍第4項記載之表面處理裝置，其中，前述投射裝置係在前述箱本體內配置於前述搬送方向之上流側及搬送方向之下流側；配置於前述搬送方向之上流側之上流側投射裝置之動葉輪係設定為依前述搬送方向之上流側、前述被處理對象物之搬送通路側、前述搬送方向之下流側之順序旋轉且放出投射材之部位相對前述動葉輪之旋轉軸設定於前述搬送 方向之上流側；配置於前述搬送方向之下流側之下流側投射裝置之動葉輪係設定為依前述搬送方向之下流側、前述被處理對象物之搬送通路側、前述搬送方向之上流側之順序旋轉且放出投射材之部位相對前述動葉輪之旋轉軸設定於前述搬送方向之下流側。
6. 如申請專利範圍第1項記載之表面處理裝置，其中，前述被處理對象物為棒材且設有使前述棒材旋轉同時往前述搬送方向搬送之旋轉搬送手段，前述投射裝置之投射方向與前述旋轉搬送手段之搬送位置設定為來自前述投射裝置之投射朝向前述棒材之軸心側。
7. 如申請專利範圍第6項記載之表面處理裝置，其中，設定為於前述棒材通過在前述投射室投射投射材之範圍之期間前述旋轉搬送手段使前述棒材旋轉三圈以上。