JP2012040628A - 表面処理装置 - Google Patents

Abstract

【課題】投射材等が装置内から漏れてしまうのを防止又は抑制することができる表面処理装置を得る。
【解決手段】キャビネット本体１６の搬入口１８及び搬出口２０にはシール筒部６４、６６が取り付けられて棒材１２の搬送通路の一部を構成している。シール筒部６４、６６は、筒状に形成されて棒材１２が筒内側を通過可能とされると共に、上部に形成された孔６４Ａ、６６Ａから投射材９０が流入されて筒内側に投射材９０が溜められている。このため、投射された投射材が飛散しても当該投射材はシール筒部６４、６６内に溜められた投射材９０に堰き止められる。
【選択図】図１

Description

本発明は、棒材等の被処理対象物の表面へ投射材を投射して表面処理をする表面処理装置に関する。

表面処理装置においては、例えば、キャビネット内に被処理対象物を搬入すると共に、搬入された被処理対象物の表面へ投射材を投射してブラスト処理するものがある（例えば、特許文献１参照）。

特開２００３−３３４７５９公報

しかしながら、このような装置では、投射材等が飛散して装置内から漏れてしまう場合がある。

本発明は、上記事実を考慮して、投射材等が装置内から漏れてしまうのを防止又は抑制することができる表面処理装置を得ることが目的である。

請求項１に記載する本発明の表面処理装置は、所定の搬送方向へ搬送される被処理対象物に対して投射材を投射する投射装置と、前記投射装置により投射された投射材によって前記被処理対象物の表面加工をなす投射室が内部に形成されると共に、前記被処理対象物の搬入用の搬入口及び搬出用の搬出口が形成されたキャビネット本体と、前記キャビネット本体の前記搬送方向の上流側に隣接すると共に前記投射室に前記搬入口で連通する空間を形成し、前記被処理対象物の搬入用の外側入口が前記搬入口に対向して形成されたキャビネット前部と、前記キャビネット本体の前記搬送方向の下流側に隣接すると共に前記投射室に前記搬出口で連通する空間を形成し、前記被処理対象物の搬出用の外側出口が前記搬出口に対向して形成されたキャビネット後部と、前記キャビネット本体の前記搬入口及び前記搬出口に取り付けられて前記被処理対象物の搬送通路の一部を構成し、筒状に形成されて前記被処理対象物が筒内側を通過可能とされると共に、上部に形成された孔から投射材が流入されて筒内側に投射材が溜められるシール筒部と、を有する。

請求項１に記載する本発明の表面処理装置によれば、キャビネット前部の外側入口を通ってキャビネット本体の搬入口から搬入された被処理対象物は、キャビネット本体の投射室に至ると投射装置によって投射材が投射される。投射材が投射された被処理対象物は、キャビネット本体の搬出口を通ってキャビネット後部の外側出口から搬出される。ここで、キャビネット本体の搬入口及び搬出口にはシール筒部が取り付けられて被処理対象物の搬送通路の一部を構成している。シール筒部は、筒状に形成されて被処理対象物が筒内側を通過可能となっており、上部に形成された孔から投射材が流入されて筒内側に投射材が溜められる。このため、投射された投射材が飛散しても当該投射材はシール筒部内に溜められた投射材に堰き止められる。また、流入された投射材のうちシール筒部での収容量を超える分の投射材は、キャビネット前部、キャビネット本体、キャビネット後部のいずれかの下部に落下するので、装置外への漏出が抑えられる。

請求項２に記載する本発明の表面処理装置は、請求項１記載の構成において、前記シール筒部における前記搬送方向の上流側及び下流側の端部の少なくともいずれかには、当該端部の筒内側の下端に隣接配置されて当該筒内側からの投射材の流出を堰き止める堰止部が設けられている。

請求項２に記載する本発明の表面処理装置によれば、シール筒部における搬送方向の上流側及び下流側の端部の少なくともいずれかには、当該端部の筒内側の下端に隣接配置されて当該筒内側からの投射材の流出を堰き止める堰止部が設けられているので、シール筒部の筒内側に投射材が効率的に溜められる。よって、例えば、シール筒部の軸方向長さ（搬送方向に沿った長さ）が抑えられても、シール筒部の内側に十分な量の投射材を溜めることが可能になる。

請求項３に記載する本発明の表面処理装置は、請求項１又は請求項２に記載の構成において、前記外側入口側及び前記外側出口側には、前記搬送方向に対して板面が垂直に配置されて投射材の漏出阻止用とされたシール板が設けられ、前記シール板は、可撓性を備えると共にスリットによって複数に区画されかつ前記被処理対象物の通過時に前記スリットで分割されて前記搬送方向の下流側へそれぞれ撓み変形可能とされている。

請求項３に記載する本発明の表面処理装置によれば、外側入口側及び外側出口側には、搬送方向に対して板面が垂直に配置されて投射材の漏出阻止用とされたシール板が設けられており、これらのシール板は、可撓性を備えると共にスリットによって複数に区画されかつ被処理対象物の通過時にスリットで分割されて搬送方向の下流側へそれぞれ撓み変形可能となっているので、仮に外側入口側及び外側出口側に投射材が飛散してもシール板によって装置外への投射材の漏出が阻止される。

請求項４に記載する本発明の表面処理装置は、請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の構成において、前記キャビネット後部の内部に吹付口が配置されて前記被処理対象物へ向けて気体の吹き付けが可能な吹付装置が設けられている。

請求項４に記載する本発明の表面処理装置によれば、キャビネット後部の内部に吹付口が配置されて被処理対象物へ向けて気体の吹き付けが可能な吹付装置が設けられているので、被処理対象物の上に残留した投射材等が吹付装置の気体の吹き付けによって吹き落とされる。

請求項５に記載する本発明の表面処理装置は、請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の構成において、前記投射装置は、インペラの回転により投射材に遠心力を付与して投射材を投射する遠心式の投射装置とされて前記キャビネット本体内に配置されている。

請求項５に記載する本発明の表面処理装置によれば、投射装置は、インペラの回転により投射材に遠心力を付与して投射材を投射する遠心式の投射装置となっており、キャビネット本体内に配置されているので、被処理対象物に対して効率良く投射できる。また、遠心式の投射装置は、エアノズル式の投射装置に比べてキャビネット本体内の気圧の変動が抑えられるので、シール筒部内で投射材を溜めた状態が容易に維持される。

請求項６に記載する本発明の表面処理装置は、請求項５記載の構成において、前記投射装置は、前記キャビネット本体内で前記搬送方向の上流側及び下流側に配置され、前記搬送方向の上流側に配置された上流側投射装置は、前記搬送方向の上流側、前記被処理対象物の搬送通路側、前記搬送方向の下流側の順に回転するようにインペラの回転方向が設定され、かつ投射材を放出する部位が前記インペラの回転軸に対して前記搬送方向の上流側に設定されており、前記搬送方向の下流側に配置された下流側投射装置は、前記搬送方向の下流側、前記被処理対象物の搬送通路側、前記搬送方向の上流側の順に回転するようにインペラの回転方向が設定され、かつ投射材を放出する部位が前記インペラの回転軸に対して前記搬送方向の下流側に設定されている。

請求項６に記載する本発明の表面処理装置によれば、搬送方向の上流側に配置された上流側投射装置は、搬送方向の上流側、被処理対象物の搬送通路側、搬送方向の下流側の順に回転するようにインペラの回転方向が設定され、かつ投射材を放出する部位がインペラの回転軸に対して搬送方向の上流側に設定されているので、投射材の大部分は、搬入口から遠ざかる方向（キャビネット本体内の内向き）へ投射される。このため、搬入口からの投射材の流出が抑えられる。搬送方向の下流側に配置された下流側投射装置は、搬送方向の下流側、被処理対象物の搬送通路側、搬送方向の上流側の順に回転するようにインペラの回転方向が設定され、かつ投射材を放出する部位がインペラの回転軸に対して搬送方向の下流側に設定されているので、投射材の大部分は、搬出口から遠ざかる方向（キャビネット本体内の内向き）へ投射される。このため、搬出口からの投射材の流出が抑えられる。

請求項７に記載する本発明の表面処理装置は、請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載の構成において、前記被処理対象物が棒材とされると共に前記棒材を回転させながら前記搬送方向へ搬送する回転搬送手段が設けられ、前記投射装置からの投射が前記棒材の軸心側へ向くように前記投射装置による投射方向と前記回転搬送手段による搬送位置が設定されている。

請求項７に記載する本発明の表面処理装置によれば、被処理対象物が棒材とされると共に棒材を回転させながら搬送方向へ搬送する回転搬送手段が設けられ、投射装置からの投射が棒材の軸心側へ向くように投射装置による投射方向と回転搬送手段による搬送位置が設定されているので、被処理対象物である棒材に対して投射装置による投射が効率良くなされる。

請求項８に記載する本発明の表面処理装置は、請求項７記載の構成において、前記投射室で投射材が投射される範囲を前記棒材が通過する間に前記回転搬送手段が前記棒材を三回転以上回転させるように設定されている。

請求項８に記載する本発明の表面処理装置によれば、投射室で投射材が投射される範囲を棒材が通過する間に棒材は回転搬送手段によって三回転以上回転させられるように設定されているので、棒材の表面加工が全周に亘ってむらなくなされる。

以上説明したように、本発明に係る表面処理装置によれば、投射材等が装置内から漏れてしまうのを防止又は抑制することができるという優れた効果を有する。

本発明の一実施形態に係るショットブラスト装置を示す正面図である。 図１のショットブラスト装置の平面図である。 図１のショットブラスト装置の右側面図である。 図１のショットブラスト装置の搬入口側を拡大して示す部分拡大図である。 図１のショットブラスト装置の搬出口側を拡大して示す部分拡大図である。 図５の６−６線に沿った拡大断面図である。

（実施形態の構成）
本発明の一実施形態に係る表面処理装置としてのショットブラスト装置について図１〜図６を用いて説明する。図１には、ショットブラスト装置１０が正面図にて示されており、図２には、ショットブラスト装置１０が平面図にて示されており、図３には、ショットブラスト装置１０が右側面図にて示されている。

なお、本実施形態に係るショットブラスト装置１０は、棒材１２を被処理対象物としている。図中において適宜示される矢印Ｘは、棒材１２が搬送される搬送方向（以下、「棒材搬送方向」という。）を示している。

図１に示されるように、ショットブラスト装置１０は、キャビネット１４を備えている。キャビネット１４の大部分を構成するキャビネット本体１６の内部には、棒材１２への投射材の投射によって棒材１２の表面加工をなす投射室１６Ａ（「加工室」、「研掃室」ともいう。）が形成されている。また、キャビネット本体１６には、棒材搬送方向の上流側（図中左側）に棒材１２の搬入用とされた搬入口１８が形成されると共に、棒材搬送方向の下流側（図中右側）に棒材１２の搬出用とされた搬出口２０が形成されている。

キャビネット本体１６の棒材搬送方向の上流側には、キャビネット１４の一部を構成するキャビネット前部２２が隣接している。キャビネット前部２２は、投射室１６Ａに搬入口１８で連通する空間２２Ａを形成している。また、キャビネット前部２２には、棒材１２の搬入用の外側入口２４がキャビネット本体１６の搬入口１８に対向して形成されている。

これに対して、キャビネット本体１６の棒材搬送方向の下流側には、キャビネット１４の一部を構成するキャビネット後部２６が隣接している。キャビネット後部２６は、投射室１６Ａに搬出口２０で連通する空間２６Ａを形成している。また、キャビネット後部２６には、棒材１２の搬出用の外側出口２８がキャビネット本体１６の搬出口２０に対向して形成されている。

キャビネット１４の内部には、棒材１２を回転させながら搬送する回転搬送手段としての回転搬送装置３０が設けられている。回転搬送装置３０は、棒材１２が載せられる複数のコンベアローラ３２と、これらのコンベアローラ３２を回転駆動する駆動機構（図示省略）と、を含んで構成されている。複数のコンベアローラ３２は、棒材１２の搬送通路に沿って所定の間隔をおいて配置されている。各コンベアローラ３２は、その軸線方向の両端側から中央側へ向けて徐々に小径となって当該軸線方向の中央部が括れた所謂、鼓型に形成されている（図６参照）。図２に示されるように、各コンベアローラ３２の軸線方向は、棒材搬送方向に対して傾斜し、かつ互いに平行に設定されている。

これらのコンベアローラ３２は、駆動機構（図示省略）によって同時に同速度で回転するようになっている。前記駆動機構は、モータ（図示省略）の出力軸の回転を、動力伝達機構（図示省略）を介してコンベアローラ３２へ伝達することでコンベアローラ３２を駆動している。また、回転搬送装置３０は、図１に示される投射室１６Ａで後述する投射装置３６により投射材が投射される範囲を棒材１２が通過する間に棒材１２を三回転以上回転させるように設定されている。

キャビネット本体１６内には、棒材１２の搬送通路の上方側に複数台（本実施形態では計四台）の投射装置３６が配置されている。投射装置３６は、キャビネット本体１６内で棒材搬送方向の上流側及び下流側にそれぞれ二台ずつ配置されている。これら四台の投射装置３６は、棒材搬送方向に所定の間隔をおいて配置され、棒材搬送方向へ搬送される棒材１２に対して投射材を投射するようになっている。本実施形態の投射装置３６は、インペラ３７Ａ、３７Ｃの回転により投射材（ショット、本実施形態では一例として鋼球）に遠心力を付与して投射材を投射する遠心式の投射装置（インペラーユニット、遠心投射手段）とされている。インペラ３７Ａ、３７Ｃの回転軸３７Ｘ、３７Ｚは、本実施形態では、水平に配置されて棒材搬送方向に直交する方向に沿って設けられている。

四台の投射装置３６のうち棒材搬送方向の上流側に計二台配置された上流側投射装置３６Ａは、棒材搬送方向の上流側（図中左側）、棒材１２の搬送通路側（図中下側）、棒材搬送方向の下流側（図中右側）の順に回転するように（図１では矢印Ａ方向（時計回り方向）に）インペラ３７Ａの回転方向が設定され、かつ投射材を放出する部位３７Ｂがインペラ３７Ａの回転軸３７Ｘに対して棒材搬送方向の上流側（図中左側）に設定されている。

これに対して、四台の投射装置３６のうち棒材搬送方向の下流側に計二台配置された下流側投射装置３６Ｂは、棒材搬送方向の下流側（図中右側）、棒材１２の搬送通路側（図中下側）、棒材搬送方向の上流側（図中左側）の順に回転するように（図１では矢印Ｂ方向（反時計回り方向）に）インペラ３７Ｃの回転方向が設定され、かつ投射材を放出する部位３７Ｄがインペラ３７Ｃの回転軸３７Ｚに対して棒材搬送方向の下流側（図中右側）に設定されている。

これらによって、投射装置３６（３６Ａ、３６Ｂ）は、それぞれ投射方向の分布の中心がキャビネット本体１６の棒材搬送方向に沿った長さ方向の中央部寄りに向く方向（内向き）となるように設定されている。また、投射装置３６による投射方向と回転搬送装置３０による搬送位置とは、投射装置３６からの投射が棒材１２の軸心側へ向くことになるように設定されている。

投射装置３６による投射は、本実施形態では、棒材１２の表面に付着するスケール・錆等の付着物を除去するためになされる。投射装置３６は、図示しないＥＣＵ（Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ Ｃｏｎｔｒｏｌ Ｕｎｉｔ、制御手段）に接続されており、投射に関する制御がなされるようになっている。

投射装置３６の上方側には、ショット供給装置３８（流量調整装置）が配置されている。ショット供給装置３８は、投射装置３６へ投射材を供給する装置であり、投射材の供給部に開閉可能なショットゲート（図示省略）を備えている。ショット供給装置３８は、前記ショットゲートの開度を変更することによって投射装置３６への投射材の供給量を変更可能となっている。

投射装置３６には、ショット供給装置３８を介して循環装置４０が連結されている。循環装置４０は、投射装置３６によって投射された投射材を搬送して投射装置３６へ循環させる装置であり、キャビネット１４の内部の底部側に配置されたスクリュウコンベヤ４２及び装置上下方向に延びるバケットエレベータ４４（図３参照）を備えている。

スクリュウコンベヤ４２は、水平に配置されて棒材搬送方向を軸方向として延在し、一端がキャビネット前部２２内の下部に、他端がキャビネット後部２６の下部に、それぞれ至っており、軸部の両端側がキャビネット１４側に回転可能に支持されている。このスクリュウコンベヤ４２は、駆動力伝達機構４６（図３参照）に接続されて駆動モータの駆動力によって回転するようになっており、キャビネット１４の下部に溜まった投射材を棒材搬送方向とは反対方向へ搬送可能なネジ部を備えている。

スクリュウコンベヤ４２における棒材搬送方向とは反対方向の端部に対しては、バケットエレベータ４４の収集口（図示省略）が臨むように配置されている。換言すれば、スクリュウコンベヤ４２は、バケットエレベータ４４の下端部側の前記収集口へ投射材を搬送することができるように配置されている。バケットエレベータ４４は、公知構造であるため詳細説明を省略するが、図３に示されるように、ショットブラスト装置１０の上部及び下部に配置されたプーリ４４Ａに無端ベルト４４Ｂが巻き掛けられると共に、無端ベルト４４Ｂに多数のバケット（図示省略）が取り付けられている。またプーリ４４Ａはモータに接続されて回転駆動可能とされている。これにより、バケットエレベータ４４は、スクリュウコンベヤ４２で回収した（一時貯留された）投射材を前記バケットで掬い上げると共に、プーリ４４Ａをモータで回転させることによって、バケット内の投射材をキャビネット１４の上方側へ向けて搬送するようになっている。

また、バケットエレベータ４４の上部側の近傍には、セパレータ４８が配置されている。セパレータ４８は、循環装置４０の循環経路に設けられ、投射材以外の異物（線材表面から脱落した微細スケール等）、及びバケットエレベータ４４で搬送された投射材（すなわち投射装置３６で投射された投射材）のうち割れた投射材を分離除去するようになっている。セパレータ４８には、ダクトを介して図示しない集塵機が接続されている。前記集塵機は、粉塵を含む空気を吸引して収集するようになっている。一方、セパレータ４８に対して、再利用可能な投射材を落とし込む下端部の下方側には、図１に示される上部スクリュウコンベヤ５０の一端側が設けられている。上部スクリュウコンベヤ５０は、水平方向に配置されて棒材搬送方向を軸方向として延在しており、投射材を棒材搬送方向へ搬送するようになっている。上部スクリュウコンベヤ５０の下方側には、投射材貯蔵用のショットタンク５２が設けられている。ショットタンク５２は、ショット供給装置３８に連結されている。

一方、キャビネット前部２２の外側入口２４側には、投射材の漏出阻止用とされたシール板５４が設けられ、キャビネット後部２６の外側出口２８側にも同様に投射材の漏出阻止用とされたシール板５６が設けられている。図４に示されるように、シール板５４は、外側入口２４に取り付けられた円筒状の筒体６０の内側に配置されている。また、図５に示されるように、シール板５６は、外側出口２８に取り付けられた円筒状の筒体６２の内側に配置されている。

図４及び図５に示されるように、筒体６０、６２は、棒材搬送方向を軸心方向として配置されており、シール板５４、５６は、その外周部が筒体６０、６２に固定されて棒材搬送方向に対して板面が垂直に配置され、棒材搬送方向に沿って複数枚（本実施形態ではいずれも三枚）が直列的に配置されている。これらのシール板５４、５６は、ゴム等で形成されて可撓性を備えている。図３に示されるように、シール板５４は、スリットＳ（切欠）によって複数に区画されかつ棒材１２の通過時にスリットＳで分割されて棒材搬送方向の下流側へそれぞれ撓み変形可能とされている（図示省略）。図示を省略するが、図５に示されるシール板５６にも同様のスリットが形成されて同様に撓み変形可能とされている。

図４及び図５に示されるように、キャビネット本体１６の搬入口１８にはシール筒部６４がフランジ部６１を介して取り付けられ、キャビネット本体１６の搬出口２０にはシール筒部６６がフランジ部６３を介して取り付けられている。なお、本実施形態では、シール筒部６４は、キャビネット前部２２内に配置される構成部と、キャビネット本体１６内に配置される構成部とが別部品で構成されているが、これらの構成部を備えた一部品で構成されてもよい。また、シール筒部６６は、キャビネット本体１６内に配置される構成部と、キャビネット後部２６内に配置される構成部とが別部品で構成されているが、これらの構成部を備えた一部品で構成されてもよい。

シール筒部６４、６６は、棒材１２の搬送通路の一部を構成し、筒状に形成されて棒材１２が筒内側を通過可能とされると共に、上部には投射材を流入させるための孔６４Ａ、６６Ａが貫通形成されている。シール筒部６４、６６の上方側には、ホッパ６８、７０が配置されており、ホッパ６８、７０の内部空間とシール筒部６４、６６の筒内側空間とが孔６４Ａ、６６Ａを介して連通している。ホッパ６８、７０の上方側には、ショット供給管７２、７４がホッパ６８、７０（ひいてはシール筒部６４、６６）への投射材供給用として設けられており、ショット供給管７２、７４は、ショットタンク５２（図１参照）に通じている。

これらによって、ショットタンク５２（図１参照）の投射材がショット供給管７２、７４及びホッパ６８、７０を介してシール筒部６４、６６の孔６４Ａ、６６Ａからシール筒部６４、６６の筒内側に流入する構造になっており、シール筒部６４、６６の筒内側には投射材が溜められるようになっている。より具体的には、棒材１２の搬送時に棒材搬送方向に見て棒材１２とシール筒部６４、６６の筒内面との間の隙間が投射材９０によって塞がれる（シールされる）ように、常時ホッパ６８、７０側からシール筒部６４、６６の筒内側に投射材９０が流入される構造になっている。すなわち、棒材１２の搬送時にはシール筒部６４、６６の両端側から投射材９０が流れ落ちるが、その分をホッパ６８、７０側からシール筒部６４、６６の筒内側に補給する構成である。

なお、ショット供給管７２、７４の上部内側には調整弁（図示省略）が設けられてホッパ６８、７０内に常時所定量以上の投射材が貯留されるように制御されるのが好ましい。一例として、ホッパ６８、７０に投射材の貯留用を検出するセンサが取り付けられ、このセンサが接続される制御部に弁調整手段が接続されると共に、前記制御部が前記センサの検出結果に基づいて前記弁調整手段に指令を出すことによって前記弁調整手段が前記調整弁の開度を変更（調整）する構成が適用可能である。

図４に示されるように、シール筒部６４における棒材搬送方向の上流側の端部には短筒状のガイド筒部材７６が取り付けられている。ガイド筒部材７６に形成されたガイド孔７６Ａは、シール筒部６４側（棒材搬送方向の下流側）へ向けて徐々に小径となっており、ガイド筒部材７６の軸心は、シール筒部６４の軸心と一致するように配置されている。ガイド孔７６Ａのシール筒部６４側（棒材搬送方向の下流側）の開口部の内径は、シール筒部６４の内径に比べて若干小さく設定されている。

これにより、シール筒部６４における棒材搬送方向の上流側の端部には、当該端部の筒内側の下端にガイド筒部材７６の一部を構成する堰止部７６Ｂが隣接配置される構成となっており、この堰止部７６Ｂは、シール筒部６４の筒内側からの投射材９０の流出を堰き止める部位とされている。

ガイド筒部材７６における棒材搬送方向の上流側の開口端には遮蔽板７７が取り付けられて自然状態でガイド筒部材７６の開口部を塞いでいる。遮蔽板７７は、シール板５４と同様にゴム等で形成されて可撓性を備えると共にシール板５４と同様のスリット（図示省略）が形成されている。

また、シール筒部６４における棒材搬送方向の下流側の端部には、フランジを構成する平板部６５を介して短筒状のガイド筒体７８が取り付けられている。ガイド筒体７８は、棒材搬送方向に直列に配置された複数個（本実施形態では計三個）のガイド筒部材７８Ａ、７８Ｂ、７８Ｃが一体化されることで構成されている。ガイド筒部材７８Ａ、７８Ｂ、７８Ｃに形成されたガイド孔７９Ａ、７９Ｂ、７９Ｃは、いずれもシール筒部６４側（棒材搬送方向の上流側）へ向けて徐々に小径となっており、ガイド筒部材７８Ａ、７８Ｂ、７８Ｃの軸心は、シール筒部６４の軸心と一致するように配置されている。各ガイド孔７９Ａ、７９Ｂ、７９Ｃのシール筒部６４側（棒材搬送方向の上流側）の開口部の径は、いずれもシール筒部６４の内径に比べて若干小さく設定されている。

これにより、シール筒部６４における棒材搬送方向の下流側の端部には、当該端部の筒内側の下端にガイド筒部材７８Ａの一部を構成する堰止部７８Ｄが隣接配置される構成となっており、この堰止部７８Ｄは、シール筒部６４の筒内側からの投射材９０の流出を堰き止める部位とされている。なお、本実施形態の変形例として、例えば、シール筒部６４における棒材搬送方向の下流側の端部に、当該端部が突き当てられる蓋体を隣接配置すると共に、この蓋体にシール筒部６４の貫通部と同軸で棒材１２の通過用とされた貫通孔が形成されかつ前記貫通孔がシール筒部６４の内径よりも小径に設定される構成とすることで、前記蓋体の一部を堰止部としてもよい。また、前記蓋体に代えて、シール板５４と同様の構成の遮蔽板を配置することで、この遮蔽板の一部を堰止部としてもよい。

このように、シール筒部６４に対してガイド筒部材７６及びガイド筒体７８が取り付けられると共にガイド筒部材７６に遮蔽板７７が取り付けられることで、シール筒部６４の筒内側に投射材９０を溜め易い構造になっている。

図５に示されるように、シール筒部６６における棒材搬送方向の下流側の端部には短筒状のガイド筒部材８０が取り付けられている。ガイド筒部材８０に形成されたガイド孔８０Ａは、シール筒部６６側（棒材搬送方向の上流側）へ向けて徐々に小径となっており、ガイド筒部材８０の軸心は、シール筒部６６の軸心と一致するように配置されている。ガイド孔８０Ａのシール筒部６６側（棒材搬送方向の上流側）の開口部の内径は、シール筒部６６の内径に比べて若干小さく設定されている。

これにより、シール筒部６６における棒材搬送方向の下流側の端部には、当該端部の筒内側の下端にガイド筒部材８０の一部を構成する堰止部８０Ｂが隣接配置される構成となっており、この堰止部８０Ｂは、シール筒部６６の筒内側からの投射材９０の流出を堰き止める部位とされている。

ガイド筒部材８０における棒材搬送方向の下流側の開口端には遮蔽板８１が取り付けられて自然状態でガイド筒部材８０の開口部を塞いでいる。遮蔽板８１は、シール板５４と同様にゴム等で形成されて可撓性を備えると共にシール板５４と同様のスリット（図示省略）が形成されている。

また、シール筒部６６における棒材搬送方向の上流側の端部には、フランジを構成する平板部６７を介して短筒状のガイド筒体８２が取り付けられている。ガイド筒体８２は、棒材搬送方向に直列に配置された複数個（本実施形態では計三個）のガイド筒部材８２Ａ、８２Ｂ、８２Ｃが一体化されることで構成されている。ガイド筒部材８２Ａ、８２Ｂ、８２Ｃに形成されたガイド孔８３Ａ、８３Ｂ、８３Ｃは、いずれもシール筒部６６側（棒材搬送方向の下流側）へ向けて徐々に小径となっており、ガイド筒部材８２Ａ、８２Ｂ、８２Ｃの軸心は、シール筒部６６の軸心と一致するように配置されている。各ガイド孔８３Ａ、８３Ｂ、８３Ｃのシール筒部６６側（棒材搬送方向の下流側）の開口部の径は、いずれもシール筒部６６の内径に比べて若干小さく設定されている。

これにより、シール筒部６６における棒材搬送方向の上流側の端部には、当該端部の筒内側の下端にガイド筒部材８２Ａの一部を構成する堰止部８２Ｄが隣接配置される構成となっており、この堰止部８２Ｄは、シール筒部６６の筒内側からの投射材９０の流出を堰き止める部位とされている。なお、本実施形態の変形例として、例えば、シール筒部６６における棒材搬送方向の下流側の端部に、当該端部が突き当てられる蓋体を隣接配置すると共に、この蓋体にシール筒部６６の貫通部と同軸で棒材１２の通過用とされた貫通孔が形成されかつ前記貫通孔がシール筒部６６の内径よりも小径に設定される構成とすることで、前記蓋体の一部を堰止部としてもよい。また、前記蓋体に代えて、シール板５６と同様の構成の遮蔽板を配置することで、この遮蔽板の一部を堰止部としてもよい。

このように、シール筒部６６に対してガイド筒部材８０及びガイド筒体８２が取り付けられると共にガイド筒部材８０に遮蔽板８１が取り付けられることで、シール筒部６６の筒内側に投射材９０を溜め易い構造になっている。

一方、キャビネット後部２６の内部には、ガイド筒部材８０よりも棒材搬送方向の下流側に吹付装置としてのエアブロア装置８４の吹付口８６Ａが配置されている。図５の６−６線に沿った拡大断面図である図６に示されるように、エアブロア装置８４は、搬送通路側（棒材１２側）へ向けられたノズル８６を備え、ノズル８６は、搬送通路周りに複数個（本実施形態では計四個）配置されている。これらのノズル８６は、搬送通路側（棒材１２側）へ向けて棒材搬送方向の上流側へ若干傾斜する向きに設定されている（図５参照）。また、これらのノズル８６は、搬送通路周りに配置されたダクト８８にそれぞれ接続されており、ダクト８８は、図示しない圧縮空気供給部に接続されている。これらによって、エアブロア装置８４は、棒材１２（搬送通路）へ向けて気体（本実施形態では圧縮空気）の吹き付けが可能になっている。エアブロア装置８４は、ＥＣＵ（図示省略）に接続されており、吹き付けに関する制御がなされるようになっている。

（実施形態の作用・効果）
次に、上記実施形態の作用及び効果について説明する。

図１に示されるように、キャビネット前部２２の外側入口２４を通ってキャビネット本体１６の搬入口１８から搬入された棒材１２は、回転搬送装置３０によって回転させられながら棒材搬送方向へ搬送させられる。キャビネット本体１６の投射室１６Ａに至ると投射装置３６によって投射材が投射される。投射装置３６による投射方向と回転搬送装置３０による搬送位置とは、投射装置３６からの投射が棒材１２の軸心側へ向くことになるように設定されているので、棒材１２に対して投射装置３６による投射が効率良くなされる。また、投射室１６Ａで投射材が投射される範囲を棒材１２が通過する間に棒材１２は回転搬送装置３０によって三回転以上回転させられるので、棒材１２の表面加工が全周に亘ってむらなくなされる。

投射材が投射された棒材１２は、キャビネット本体１６の搬出口２０を通ってキャビネット後部２６の外側出口２８から搬出される。ここで、キャビネット本体１６の搬入口１８及び搬出口２０にはシール筒部６４、６６が取り付けられて棒材１２の搬送通路の一部を構成している。図４及び図５に示されるように、シール筒部６４、６６は、筒状に形成されて棒材１２が筒内側を通過可能とされると共に、上部に形成された孔６４Ａ、６６Ａから投射材９０が流入されて筒内側に投射材９０が溜められている。このため、投射された投射材が飛散しても当該投射材はシール筒部６４、６６内に溜められた投射材９０に堰き止められる。また、流入された投射材９０のうちシール筒部６４、６６での収容量を超える分の投射材は、ガイド筒部材７６、８０やガイド筒体７８、８２を経てキャビネット前部２２、キャビネット本体１６、及びキャビネット後部２６のいずれかの下部に落下するので、装置外への漏出が抑えられる。

また、本実施形態に係るショットブラスト装置１０では、シール筒部６４、６６における棒材搬送方向の上流側及び下流側の端部には、当該端部の筒内側の下端に堰止部７６Ｂ、７８Ｄ、８２Ｄ、８０Ｂが隣接配置されているので、シール筒部６４、６６の筒内側からの投射材９０の流出が堰止部７６Ｂ、７８Ｄ、８２Ｄ、８０Ｂによって堰き止められる。このため、シール筒部６４、６６の筒内側に投射材が効率的に溜められ、シール筒部６４、６６の軸方向長さ（棒材搬送方向に沿った長さ）が抑えられても、シール筒部６４、６６の内側に十分な量の投射材９０を溜めることが可能になる。よって、投射材９０によるシール性が高められる。

また、外側入口２４側及び外側出口２８側には、棒材搬送方向に対して板面が垂直に配置されて投射材の漏出阻止用とされたシール板５４、５６が設けられている。このシール板５４、５６は、可撓性を備えると共にスリットＳ（図３参照）によって複数に区画されかつ棒材１２の通過時にスリットＳで分割されて棒材搬送方向の下流側へそれぞれ撓み変形可能となっているので、仮に外側入口２４側及び外側出口２８側に投射材が飛散してもシール板５４、５６によって装置外への漏出が阻止される。

また、図５に示されるように、キャビネット後部２６の内部に吹付口８６Ａが配置されて棒材１２へ向けて気体の吹き付けが可能なエアブロア装置８４が設けられているので、棒材１２の上に残留した投射材等がエアブロア装置８４の気体の吹き付けによって吹き落とされる。

また、投射装置３６は、インペラ３７Ａ、３７Ｃの回転により投射材に遠心力を付与して投射材を投射する遠心式の投射装置となっており、キャビネット本体１６内に配置されているので、棒材１２に対して効率良く投射できるが、このような遠心式の投射装置は、エアノズル式の投射装置に比べてキャビネット本体１６内の気圧の変動が抑えられるので、シール筒部６４、６６内で投射材９０を溜めた状態が容易に維持される。

さらに、上流側投射装置３６Ａは、棒材搬送方向の上流側、棒材１２の搬送通路側、搬送方向の下流側の順に回転するようにインペラ３７Ａの回転方向が設定され、かつ投射材を放出する部位３７Ｂがインペラ３７Ａの回転軸３７Ｘに対して棒材搬送方向の上流側に設定されているので、投射材の大部分は、搬入口１８から遠ざかる方向（キャビネット本体１６内の内向き）へ投射される。このため、搬入口１８からの投射材の流出が抑えられる。一方、下流側投射装置３６Ｂは、棒材搬送方向の下流側、棒材１２の搬送通路側、棒材搬送方向の上流側の順に回転するようにインペラ３７Ｃの回転方向が設定され、かつ投射材を放出する部位３７Ｄがインペラ３７Ｃの回転軸３７Ｚに対して搬送方向の下流側に設定されているので、投射材の大部分は、搬出口２０から遠ざかる方向（キャビネット本体１６内の内向き）へ投射される。このため、搬出口２０からの投射材の流出が抑えられる。

以上説明したように、本実施形態に係るショットブラスト装置１０によれば、投射材等が装置内から漏れてしまうのを防止又は抑制することができる。

（実施形態の補足説明）
なお、上記実施形態では、図４及び図５に示されるシール筒部６４、６６の端部に堰止部７６Ｂ、７８Ｄ、８２Ｄ、８０Ｂが隣接配置されており、シール筒部６４、６６の内側に投射材９０を効率良く溜める観点からは、このような構成が好ましいが、例えば、シール筒部の軸方向の長さを長く確保できるような場合等には、シール筒部の端部に堰止部が隣接配置されていない構成とすることも可能である。また、堰止部がシール筒部における搬送方向の上流側及び下流側の端部の一方側にのみ隣接配置されている構成であってもよい。

また、上記実施形態では、外側入口２４側及び外側出口２８側にシール板５４、５６が配置されており、投射材の装置外への漏出阻止の観点からはこのような構成がより好ましいが、外側入口側及び外側出口側にシール板が配置されない構成やシール板に代えて、ブラシ体等が配置された構成とすることも可能である。

また、上記実施形態では、キャビネット後部２６の内部に吹付装置としてのエアブロア装置８４の吹付口８６Ａが配置されているが、このような吹付装置を設けない構成とすることも可能である。また、吹付装置は、圧縮空気を吹き付けるエアブロア装置８４に代えて、外気導入用のファンを含んで構成された吹付装置を適用してもよい。

また、上記実施形態では、ショットブラスト装置１０には、投射材を遠心力で加速して投射する遠心式のショット投射装置が投射装置３６として適用されているが、表面処理装置に適用される投射装置は、例えば、圧縮空気とともに投射材を圧送しノズルから噴射するエアノズル式の投射装置等のような他の投射装置であってもよい。

また、上記実施形態では、投射装置３６がキャビネット本体１６内に配置されているが、投射装置は、キャビネット本体の外側に配置されてダクト等を介してキャビネット本体に連結されたようなものであってもよい。

また、上記実施形態では、投射装置３６のインペラ３７Ａ、３７Ｃの回転軸３７Ｘ、３７Ｚは、水平に配置されて棒材搬送方向に直交する方向に沿って設けられているが、例えば、インペラの位置が搬送通路と同じ高さ位置の場合には、水平面に対して垂直に配置されて棒材搬送方向に直交する方向に沿って投射装置のインペラの回転軸が設けられる等、インペラの回転軸の方向は上記実施形態の例に限定されない。

また、上記実施形態では、投射装置３６は、キャビネット本体１６内で棒材搬送方向の上流側及び下流側に配置されているが、投射装置は、例えば、キャビネット本体内で被処理対象物の搬送方向に沿った長さ方向の中央部にのみ配置されていてもよい。

また、上記実施形態では、表面処理装置は、ショットブラスト装置１０とされているが、表面処理装置は、例えば、ショットピーニング装置であってもよい。

また、上記実施形態では、被処理対象物が棒材１２とされたショットブラスト装置１０について説明したが、表面処理装置は、例えば、被処理対象物が線材や板状部材等のような他の被処理対象物を処理するための表面処理装置であってもよい。

さらに、上記実施形態では、棒材１２を回転させながら搬送する回転搬送手段としての回転搬送装置３０が設けられているが、被処理対象物を回転させずに搬送する搬送手段が設けられた構成であってもよい。

さらにまた、上記実施形態では、投射室１６Ａで投射材が投射される範囲を棒材１２が通過する間に回転搬送装置３０が棒材１２を三回転以上回転させるように設定されており、棒材１２の表面加工が全周に亘ってむらなく行う観点からはこのような構成が好ましいが、投射室で投射材が投射される範囲を棒材が通過する間に回転搬送手段が棒材を三回転以上回転させるように設定されていないものとすることも可能である。

なお、上記実施形態及び上述の複数の変形例は、適宜組み合わされて実施可能である。

１０ ショットブラスト装置（表面処理装置）
１２ 棒材（被処理対象物）
１６ キャビネット本体
１６Ａ 投射室
１８ 搬入口
２０ 搬出口
２２ キャビネット前部
２２Ａ 空間
２４ 外側入口
２６ キャビネット後部
２６Ａ 空間
２８ 外側出口
３０ 回転搬送装置（回転搬送手段）
３６ 投射装置
３６Ａ 上流側投射装置（投射装置）
３６Ｂ 下流側投射装置（投射装置）
３７Ａ インペラ
３７Ｂ 投射材を放出する部位
３７Ｃ インペラ
３７Ｄ 投射材を放出する部位
３７Ｘ 回転軸
３７Ｚ 回転軸
５４ シール板
５６ シール板
６４ シール筒部
６４Ａ 孔
６６ シール筒部
６６Ａ 孔
７６Ｂ 堰止部
７８Ｄ 堰止部
８０Ｂ 堰止部
８２Ｄ 堰止部
８４ エアブロア装置（吹付装置）
８６Ａ 吹付口
Ｓ スリット
Ｘ 棒材搬送方向（搬送方向）

Claims (8)

1. 所定の搬送方向へ搬送される被処理対象物に対して投射材を投射する投射装置と、
   前記投射装置により投射された投射材によって前記被処理対象物の表面加工をなす投射室が内部に形成されると共に、前記被処理対象物の搬入用の搬入口及び搬出用の搬出口が形成されたキャビネット本体と、
   前記キャビネット本体の前記搬送方向の上流側に隣接すると共に前記投射室に前記搬入口で連通する空間を形成し、前記被処理対象物の搬入用の外側入口が前記搬入口に対向して形成されたキャビネット前部と、
   前記キャビネット本体の前記搬送方向の下流側に隣接すると共に前記投射室に前記搬出口で連通する空間を形成し、前記被処理対象物の搬出用の外側出口が前記搬出口に対向して形成されたキャビネット後部と、
   前記キャビネット本体の前記搬入口及び前記搬出口に取り付けられて前記被処理対象物の搬送通路の一部を構成し、筒状に形成されて前記被処理対象物が筒内側を通過可能とされると共に、上部に形成された孔から投射材が流入されて筒内側に投射材が溜められるシール筒部と、
   を有する表面処理装置。
2. 前記シール筒部における前記搬送方向の上流側及び下流側の端部の少なくともいずれかには、当該端部の筒内側の下端に隣接配置されて当該筒内側からの投射材の流出を堰き止める堰止部が設けられている請求項１記載の表面処理装置。
3. 前記外側入口側及び前記外側出口側には、前記搬送方向に対して板面が垂直に配置されて投射材の漏出阻止用とされたシール板が設けられ、前記シール板は、可撓性を備えると共にスリットによって複数に区画されかつ前記被処理対象物の通過時に前記スリットで分割されて前記搬送方向の下流側へそれぞれ撓み変形可能とされている請求項１又は請求項２に記載の表面処理装置。
4. 前記キャビネット後部の内部に吹付口が配置されて前記被処理対象物へ向けて気体の吹き付けが可能な吹付装置が設けられている請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の表面処理装置。
5. 前記投射装置は、インペラの回転により投射材に遠心力を付与して投射材を投射する遠心式の投射装置とされて前記キャビネット本体内に配置されている請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の表面処理装置。
6. 前記投射装置は、前記キャビネット本体内で前記搬送方向の上流側及び下流側に配置され、
   前記搬送方向の上流側に配置された上流側投射装置は、前記搬送方向の上流側、前記被処理対象物の搬送通路側、前記搬送方向の下流側の順に回転するようにインペラの回転方向が設定され、かつ投射材を放出する部位が前記インペラの回転軸に対して前記搬送方向の上流側に設定されており、
   前記搬送方向の下流側に配置された下流側投射装置は、前記搬送方向の下流側、前記被処理対象物の搬送通路側、前記搬送方向の上流側の順に回転するようにインペラの回転方向が設定され、かつ投射材を放出する部位が前記インペラの回転軸に対して前記搬送方向の下流側に設定されている請求項５記載の表面処理装置。
7. 前記被処理対象物が棒材とされると共に前記棒材を回転させながら前記搬送方向へ搬送する回転搬送手段が設けられ、前記投射装置からの投射が前記棒材の軸心側へ向くように前記投射装置による投射方向と前記回転搬送手段による搬送位置が設定されている請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載の表面処理装置。
8. 前記投射室で投射材が投射される範囲を前記棒材が通過する間に前記回転搬送手段が前記棒材を三回転以上回転させるように設定されている請求項７記載の表面処理装置。