TWI500716B

TWI500716B - 多層膜及其製造方法

Info

Publication number: TWI500716B
Application number: TW099143342A
Authority: TW
Inventors: Naoya Imamura; Takafumi Saiki; Yasuo Enatsu
Original assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 2009-12-10
Filing date: 2010-12-10
Publication date: 2015-09-21
Also published as: JP5480608B2; TW201127916A; JP2011123270A; KR101717614B1; KR20110066104A

Description

多層膜及其製造方法

本發明係關於一種多層膜及其製造方法。

稜鏡片、透鏡片、擴散片等光學片作為平面顯示器之背光單元之構成部件而被廣泛利用。光學片藉由於支撐體上形成多數個向預定方向折射入射光之稜鏡或透鏡來製造。或者，光學片藉由將使入射光各種各樣地折射而擴散之擴散層設置於支撐體上來製造。由多數個稜鏡或透鏡構成之層或擴散層總稱為光功能層。平面顯示器伴隨其市場的擴大，正在面向高性能化。

然而，製造光學片時，有時會發生劃傷。例如，於支撐體之表面塗布用於形成光功能層之材料時，容易劃傷支撐體。又，搬送所製造的光學片時、或集成光學片時、或將光學片組裝於背光單元中時，因與其他光學部件等之接觸，於該光學片之支撐體表面產生擦傷。

因此，日本專利公開2006-348198號公報中提出有：以賦予耐劃傷之類的所谓耐劃擦性為目的，於與設置光學片的光功能層的面之相反面設置硬塗层。

然而，若設置日本專利公開2006-348198號公報之硬塗層，則存在如下問題：用於設置光功能层之後工序需要較長時間，光學膜之生產性差。

本發明之目的在於，提供一種如能夠以比以往更短的時間設置光功能層的、光學膜之生產性優異的多層膜及其製造方法。

本發明之多層膜，具備支撐體和硬塗層，對340nm波長之光具有70%以上100%以下範圍之透射率。支撐體，為透明者。欲於支撐體之一面形成塗膜。前述塗膜由照射光光固化。硬塗層，為透明者，且由聚合物構成。硬塗層配設於前述支撐體之另一面。

前述塗膜藉由光固化而成為使入射光折射而聚光或擴散之光功能層。

前述照射光較佳為，透過前述硬塗層和前述支撐體照射至前述塗膜上。

前述硬塗層較佳為，係藉由加熱使塗布於前述支撐體的熱固化之塗布組成物固化而形成者。

前述塗布組成物較佳為，含有矽醇水溶液、水溶性固化劑及膠態二氧化矽之塗布液。前述矽醇，係藉由於酸性水溶液中水解四烷氧基矽烷和通式(1)表示的有機矽化合物而生成者。前述固化劑，係對前述矽醇進行脫水縮合者。前述膠態二氧化矽的膠體顆粒之平均粒徑為3nm以上50nm以下範圍，前述膠體顆粒分散於水中。式(1)中，R¹ 為不含氨基的碳數為1以上15以下的有機基團。R² 為甲基或乙基。

R¹ Si(OR² )₃ ...(1)

前述塗布組成物較佳為，於水中含有單體和低聚物的至少任意一方之塗布液。前述單體及低聚物於分子中具有多數個聚合性雙鍵。

未塗布前述塗布組成物之前述支撐體較佳為，在170℃、10分鐘下之加熱收縮率為0.1%以上3.0%以下範圍。

前述硬塗層在25℃、40%RH環境下的表面電阻率較佳為10¹² Ω/□以下。

多層膜較佳為還具備粘接層，前述粘接層將前述支撐體粘接於前述塗膜已光固化之光固化部。粘接層設置於前述支撐體之前述一面。

前述光功能層較佳為藉由鑄型聚合法形成。

又，本發明之多層膜之製造方法為多層膜之製造方法，前述多層膜具備：透明支撐體，欲於一面形成由照射光光固化之塗膜；以及，硬塗層，配設於前述支撐體之另一面。本發明之多層膜之製造方法具備，塗布組成物之準備工序、塗布工序及固化工序。塗布組成物之準備工序，係準備進行熱固化之塗布組成物之工序。前述塗布組成物成為前述硬塗層。塗布工序，係於前述支撐體之另一面塗布前述塗布組成物之工序。固化工序，係藉由加熱使所塗布之前述塗布組成物固化而作為前述硬化層之工序。前述支撐體和所塗布的前述塗布組成物，藉由前述固化而成為340nm波長光之透射率為70%以上100%以下範圍之前述多層膜。

前述塗布組成物為，含有矽醇水溶液、水溶性固化劑及膠態二氧化矽之塗布液。前述矽醇，藉由於酸性水溶液中水解四烷氧基矽烷和通式(1)表示的有機矽化合物而生成。前述固化劑使前述矽醇進行脫水縮合。前述膠態二氧化矽的膠體顆粒之平均粒徑為3nm以上50nm以下範圍，前述膠體顆粒分散於水中。式(1)中，R¹ 為不含氨基的碳數為1以上15以下的有機基團。R² 為甲基或乙基。

R¹ Si(OR² )₃ ...(1)

前述塗布組成物較佳為，係於水中含有單體和低聚物中的至少任意一方之塗布液。前述單體及低聚物於分子中具有多數個聚合性雙鍵。

依本發明，能夠以比以往更短的時間賦予光功能層，並可以製造光學膜之生產性優異的多層膜。再者，依本發明，因防止雜質之附著，故而形成均勻的光功能層而提高光學膜之收率，並提高生產性。

如圖1所示般，本發明之第1實施形態之多層膜10，具備支撐體11和硬塗層12。支撐體11由高分子化合物構成。硬塗層12保護支撐體11之一面(以下，稱為第1表面)11a。

如圖2所示般，第2實施形態之多層膜20具有支撐體11、硬塗層12及第1粘接層21。第1粘接層21，提高支撐體11與硬塗層12之粘附力，將支撐體11粘接於硬塗層12上。支撐體11和硬塗層12為與圖1相同的要素，故而省略說明。

在後工序中，於多層膜10、20設置光功能層而作為光學膜。光功能層設置於支撐體11之另一面(下面，稱為第2表面)11b。例如，將多層膜20用於光學膜上之形態示於圖3。光學膜25於多層膜20的支撐體11之第2表面11b具備光功能層26。光功能層26使入射光折射而聚光或擴散。作為該種光功能層26，有透鏡層或稜鏡層、擴散層。圖3中，圖示有將光功能層26作為稜鏡層之情況。

作為稜鏡層之光功能層26，係以一定間距形成截面三角形之多數個稜鏡者。若從硬塗層12側入射光，則具有該種光功能層26之光學膜25藉由稜鏡，將入射之光線朝向預定方向折射。藉此，以如於預定方向上具有大峰值之光分佈射出光。例如，若將入射之光線朝向法線方向折射，則成為如於法線方向上具有大峰值之光分佈。藉此，若將光學膜25用於液晶顯示器之背光單元，則提高液晶顯示器之正面亮度。光功能層26之詳細內容後述。

如圖4所示般，第3實施形態之多層膜30具有支撐體11、硬塗層12及第2粘接層31。第2粘接層31設置於支撐體11之第2表面11b上。亦即，多層膜30為，於多層膜10上進一步設置第2粘接層31之形態。

如圖5所示般，第4實施形態之多層膜40具有支撐體11、硬塗層12、第1粘接層21及第2粘接層31。亦即，多層膜40為，於多層膜20上進一步設置第2粘接層31之形態。

在後工序中，於多層膜30、40上設置光功能層。多層膜30、40之第2粘接層31，係提高支撐體11與光功能層26之粘附力，並將支撐體11粘接於前述光功能層者。例如，在多層膜40用於光學膜之形態中，如圖6所示般，光學膜45透過第2粘接層31，於多層膜40的支撐體11之第2表面11b上具備光功能層26。圖6中的光功能層26與圖3相同，作為稜鏡層而存在，但並不限於此。例如，光功能層26只要具備以下構成及作用即可。

光功能層26如前所述般，使光折射而使入射光聚光或擴散。如此來控制光路徑。就光而言，存在如下情況：於光功能層26之表面，根據其入射角、和支撐體11及光功能層26之折射率之差來折射，或者入射之光於射出面折射或反射。因此，根據光功能層26之構成，還進一步發現並利用這些光特性。

因此，將光學膜25、45使用於液晶顯示器之背光單元中時，若來自光源之光從硬塗層12側入射，則光功能層26有時具有稜鏡功能、透鏡功能。具有該種功能之光學膜25、45可以用作所謂稜鏡片、透鏡片。又，若來自光源之光從硬塗層12側入射，則光功能層26有時具有擴散功能。具有該種功能之光學膜25、45可以用作所謂擴散片。稜鏡功能、透鏡功能為如下功能：其控制入射光之聚光度，以如於預定方向上具有大峰值之光分佈射出光，從而調整液晶顯示器之正面亮度。又，擴散功能為，使入射光擴散而設為均等的光分佈之功能。

光功能層26為透鏡層時，以預定間距排列而構成折射光之多數個透鏡。若從支撐體11之第2表面11b射出之光入射至光功能層26，則光功能層26控制入射光之射出角度。作為透鏡，有在軸向上將圓柱狀分為二的圓柱透鏡、球面透鏡、非球面透鏡，也可以為三角柱稜鏡。因此，如圖3、圖6所示之作為稜鏡層之光功能層26也可以稱為透鏡層的一種。

作為稜鏡層乃至透鏡層之光功能層26，有以壓花法形成之情況和以鑄型聚合法形成之情況。通常利用生產性更高於壓花法之鑄型聚合法。

在鑄型聚合法中，通常將由以紫外線(UV)固化之UV固化性化合物構成之膜設為預定形狀，在維持其形狀之狀態下以UV固化化合物。藉由固化，形成多數個預定稜鏡乃至透鏡而作為光功能層26。亦即，光功能層26為由光固化之光固化部。以鑄型聚合法形成光功能層26時，一般將以具有自由基聚合性雙鍵之單體、低聚物、聚合物為主成份之物質作為素材來使用，進一步使聚合引發劑包含於該些主成份中。作為具有自由基聚合性雙鍵之單體、低聚物，例如有丙烯酸單體、丙烯酸低聚物。從批量生產性觀點來看，壓花法更較佳於鑄型聚合法，在鑄型聚合法中還較佳為使用UV固化性化合物之鑄型聚合法。

如上所述般，在後工序中，於多層膜10、20、30、40的支撐體11之第2表面11b側形成光功能層26。因此，從硬塗層12側入射光時，多層膜10、20、30、40均設為，入射光中波長為340nm的光透射率在70%以上100%以下範圍。藉此，與以往相比，更能縮短賦予光功能層26之後工序，提高光學膜25、45之生產效率，并提高生產性。

一般來講，用於UV固化之金屬鹵化物燈之主要發光波長處於340nm以上400nm以下範圍，高壓水銀燈之主要發光波長為365nm。又，於可見光區域中要求透明性的多層膜之透射率具有如下傾向：在340nm以上400nm以下範圍內，波長越短，透射率越變低。因此，較佳為，至少為340nm的光透射率為70%以上且小於100%。特佳為，在340～400nm的整個範圍內，光透射率為70%以上且小於100%。若波長為340nm之光透射率小於70%，則以UV固化將光功能層26設置於第2表面11b側時，用金屬鹵化物燈或高壓水銀燈從硬塗層12側照射之UV被吸收至多層膜10、20、30、40。因該吸收，能夠有助於用於形成光功能層26的固化之UV強度下降。結果，光功能層26之固化效率下降。若固化效率下降，則成為預定固化狀態為止，需要加長固化時間，而光學膜之生產性下降。又，當不加長固化時間時，由於光功能層26之固化不充分，故而光功能層26之耐劃擦性變得不充分。

就多層膜10、20、30、40而言，當從硬塗層12側入射光時，更佳為，入射光中波長為365nm之光透射率均為76%以上100%以下範圍。這在使用高壓水銀燈作為形成光功能層26時使用的照射光之光源時，特別有效。這是因為，高壓水銀燈之亮線為365nm之光。

[支撐體]

支撐體11，係藉由熔融製膜方法或溶液製膜方法將高分子化合物設為膜形狀者。用於支撐體11之高分子化合物，係透明者。當與硬塗層12多層化而作為多層膜10、20、30、40，向多層膜10、20、30、40入射光時，支撐體11進一步具有如下透明性：以70%以上100%以下之透射率透射入射光中波長為340nm之光而從第2表面11b射出。

作為支撐體11，較佳為聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚對苯二甲酸丁二醇酯(PBT)、聚萘二甲酸丁二醇酯(PBN)、聚芳酯類、聚醚砜、聚碳酸酯、聚醚酮、聚砜、聚苯硫醚、聚酯系液晶聚合物、三乙酰纖維素、纖維素衍生物、聚丙烯、聚酰胺類、聚酰亞胺、多環烯烴類等。

其中，更佳為PET、PEN、三乙酰纖維素、纖維素衍生物，特佳為PET、PEN。

而且，较佳使用所謂雙向拉伸高分子膜作為支撐體11，該雙向拉伸高分子膜，將上述高分子化合物成為長形膜狀者朝向長邊方向與寬度方向相互正交的雙向拉伸。從彈性模量、透明性觀點考慮，特佳為，將膜狀PET、PEN雙向拉伸者作為支撐體11。

又，支撐體11亦可以，係第1表面11a和第2表面11b中的至少任意一方進行電暈放電處理者。第1表面11a和第2表面11b藉由電暈放電處理而被親水化。藉此，可以提高後述的水性的各種塗布液之潤濕性。又，藉由電暈放電處理，可以導入羧基、羥基等官能團。藉由如此提高潤濕性或導入官能團，第1表面11a與硬塗層12或第1粘接層21之粘附力，或者，第2表面11b與光功能層21或第2粘接層31之粘附力進一步提高。

藉由熱固化形成硬塗層12時的支撐體11之加熱收縮率，較佳為0.1%以上3.0%以下範圍，更佳為0.2%以上2.5%以下範圍，尤其較佳為0.4%以上2.0%以下範圍。

加熱收縮率之上述值為在170℃、10分鐘下的值。如後述般，硬塗層12藉由如下形成：直接或透過第1粘接層21，將用於形成硬塗層12之預定塗布液塗布於支撐體11上，將此加熱至160℃以上之溫度，藉由該加熱使之固化而形成。塗膜伴隨加熱固化時的塗膜中的矽醇之脫水縮合而收縮。然而，藉由使用具有如上述般加熱收縮率之支撐體11，不會產生裂痕而形成硬塗層12，並且可以防止支撐體11之捲曲。這是因為，支撐體11伴隨塗膜固化時的收縮而變形。亦即，是因為，支撐體11跟隨形成硬塗層12為止的塗膜之收縮。因此，支撐體11之加熱收縮率較佳為，在與固化塗膜時的塗膜溫度相同或與其接近的溫度下求出，從該觀點考慮，較佳為使用後述物質作為塗布液時，以170℃下之加熱收縮率作為目標。為了防止測定誤差，求出支撐體11之加熱收縮率時的保持時間較佳為10分鐘。保持時間亦可以長於10分鐘，但長於10分鐘時的效果不太明顯。

藉由將支撐體11之加熱收縮率設為0.1%以上，與小於0.1%之情況相比，塗膜以按照塗膜之固化收縮之方式變形，可以更確實地防止如由兩者的收縮率之差引起的塗膜裂痕。即使在加熱收縮率大於3%之情況下，也不產生塗膜裂痕。然而，藉由將加熱收縮率設為3%以下，與大於3%之情況相比，支撐體11本身的變形程度變小，故而所獲得之多層膜10、20、30、40可作為平坦膜者而更確實地獲得。

加熱收縮率之上述值為由以下方法求出的值。首先，從支撐體11取樣供測定之試樣。對該試樣預先測定預定方向上的長度。將該長度設為L1。對已測定長度L1之試樣不施加張力而在保持於170℃的恒溫裝置內放置10分鐘。作為恒溫裝置，可以舉出向內部送入熱風而將內部保持為預定溫度之加熱釜等。冷卻經加熱處理之試樣之後，在與加熱處理前測定之方向相同方向上測定長度。將該長度設為L2。而且，藉由式：{(L1-L2)/L1}×100求出加熱收縮率(單位；%)。然而，本發明並不限於加熱收縮率之上述測定方法。例如，藉由其他測定方法求出加熱收縮率時，預先求出以欲使用之測定方法和上述方法獲得之值的相關關係，依據其關係，測定值對應於以上述方法求出的上述值之範圍即可。

加熱收縮率較佳為，在正交的雙向上，均在170℃、10分鐘下為0.1%以上3%以下範圍，更佳為0.2%以上2.5%以下範圍，特佳為0.4%以上2.0%以下範圍。

另外，設置第1粘接層21時，具備第1粘接層21之狀態的支撐體11之加熱收縮率只要成為上述範圍即可。

[第1粘接層或第2粘接層]

為了提高支撐體11對硬塗層12之粘接性，並提高與硬塗層12之粘附力，將第1粘接層21適當設置於支撐體11之第1表面11a上。為了提高支撐體11對光功能層26之粘接性，並提高與光功能層26之粘附力，將第2粘接層31適當設置於支撐體11之第2表面11b上。

第1、第2粘接層21、31，將由粘合劑、固化劑及表面活性劑構成之塗布液分別塗布於第1表面11a、第2表面11b而形成。以提高與硬塗層12、光功能層26每一個的粘附力為目的，就在第1、第2粘接層21、31上分別使用的素材而言，較佳為選擇適合各自的素材。又，亦可以於第1、第2粘接層21、31中適當含有有機或無機微粒。

在第1、第2粘接層21、31上使用的粘合劑沒有特別限定。其中，從粘附力之觀點考慮，較佳為聚酯、聚氨基甲酸酯、丙烯酸樹脂、苯乙烯丁二烯共聚物中的至少一個。又，就粘合劑而言，在具有水溶性或水分散性者對環境的負荷小的觀點上特佳。

以調整第1、第2粘接層21、31之折射率為目的，於第1、第2粘接層21、31亦可以含有由金屬氧化物構成之微粒。作為金屬氧化物，較佳為氧化錫、氧化鋯、氧化鋅、氧化鈦、氧化鈰、氧化鈮等折射率高者。這是因為，越是折射率高者，即使少量也可以改變折射率。金屬氧化物微粒之粒徑，較佳為1nm以上50nm以下範圍，特佳為2nm以上40nm以下範圍。金屬氧化物之微粒量，根據目標折射率決定即可，較佳為，以將第1、第2粘接層21、31之總質量設為100時微粒質量成為10以上90以下範圍之方式包含於第1、第2粘接層21、31中，特佳為以成為30以上80以下範圍之方式包含。

以降低向多層膜10、20、30、40之硬塗層12照射光時的干涉色為目的，考慮硬塗層12之折射率而決定第1粘接層21之折射率。將第1粘接層21之折射率設為n21、將硬塗層12之折射率設為n12、將支撐體11之折射率設為n11時，特佳為成立以下關係。

可以藉由調整形成各粘接層21、31之各粘接用溶液之塗布量，控制第1粘接層21之厚度T21和第2粘接層31之厚度T31。為了發現高透明度且優異粘附力，更佳為厚度T21、T31在0.01μm以上5μm以下範圍內恒定。藉由將厚度T21、T31設為0.01μm以上，與小於0.01μm之情況相比，可以更確實地提高粘附力。藉由將厚度T21、T31設為5μm以下，與設為大於5μm之情況相比，能夠以更均勻之厚度形成各粘接層21、31，進而可以抑制粘接用溶液之使用量增加而防止乾燥時間長時間化，並可以抑制成本增加。更佳厚度T21、T31之範圍為0.02μm以上3μm以下。

再者，與折射率之情況相同，以降低從硬塗層21側向多層膜10、20、30、40照射光時的干涉色為目的，較佳為以干涉色變得不顯眼之方式由硬塗層12之折射率n12和第1粘接層21之折射率n21決定第1粘接層21之厚度T21，特佳為成立以下關係。再者，在下述式中，λ為測定波長。就λ而言，較佳為考慮高發光率之500nm以上600nm以下之波長光而進行選擇。這是因為，干涉色之降低效果小。

T21=λ/(4×n21)

另外，如上述各實施形態，第1粘接層21、第2粘接層31可以是僅1層，亦可以是重疊多數個粘接層之形態。當分別重疊多數個第1粘接層21、第2粘接層31時，將各粘接層21、31之厚度合計分別看作厚度T21、T31。

[硬塗層]

硬塗層12，如前所述般地保護支撐體11之第1表面11a。硬塗層12，藉此彌補作為多層膜10、20、30、40之硬度和耐劃擦性。

當與支撐體11多層化而作為多層膜10、20、30、40，向各多層膜10、20、30、40入射光時，硬塗層12進一步具有如下透明性：以70%以上100%以下透射率，透射入射光中波長為340nm之光，而從支撐體11之第2表面11b射出。硬塗層12更佳為，具有如下透明性：以72%以上100%以下透射率，透射入射光中波長為340nm之光，而從支撐體11之第2表面11b射出。

當與支撐體11一同使用而作為多層膜10、20、30、40，向各多層膜10、20、30、40入射光時，硬塗層12更佳為，具有如下透明性：以76%以上100%以下透射率，透射入射光中波長為365nm之光，而從支撐體11之第2表面11b射出。

硬塗層12之厚度T12沒有特別限定。其中，從良好的透明性和強度之觀點考慮，厚度T12較佳為0.5μm以上10μm以下範圍，更佳為0.8μm以上8μm以下範圍，尤其較佳為1.1μm～6μm範圍。

可以藉由調整形成硬塗層12之後述硬塗用塗布液之塗布量進行控制。

但是，若雜質附著於多層膜10、20、30、40之表面，則在進行用於形成光功能層26之固化時，雜質妨礙作為照射光之UV光透射。因妨礙UV光之透射，有時光功能層26局部無法固化而成為缺陷。此時，光學膜25、45之收率下降，或用於使其固化成為均勻之光功能層26的時間變長。如此，若雜質附著於多層膜10、20、30、40，則光學膜25、45之生產性顯著下降。因此，硬塗層12在25℃、40%RH下之表面電阻率較佳為，10⁸ Ω/□以上10¹² Ω/□以下。藉此，對光學膜25、45賦予防靜電功能。另外，Ω/□亦記載為Ω/sq.。若表面電阻率為10¹² Ω/□以下，則與大於10¹² Ω/□之情況相比，在設置光功能層26之工序中，塵埃等雜質更難以附著於多層膜10、20、30、40之表面。藉此，光學膜25、45之收率提高，故而光學膜25、45之生產性提高。

於光學膜25、45上附著有雜質時，作為背光單元的顯示質量下降。例如，顯示器之顯示對比度變差。又，當背光單元中有透鏡片時，劃傷因其透鏡擴大而發生亮度不均勻等、圖像顯示質量變差。藉由將硬塗層12之表面電阻率設為10¹² Ω/□以下，與大於10¹² Ω/□之情況相比，雜質更難以附著於使用多層膜10、20、30、40製造的光學膜25、45之表面。因此，若將硬塗層12之表面電阻率設為10¹² Ω/□以下，則與大於10¹² Ω/□之情況相比，亦更不易產生如上述的顯示質量之問題。再者，就將硬塗層12之表面電阻率設為小於10⁸ Ω/□而言，在多層膜10、20、30、40及光學膜25、45之性能方面上沒有問題，但存在製造成本變高之類的成本方面上之虞。

為了對多層膜10、20、30、40賦予防靜電功能，較佳為以形成上述表面電阻率之硬塗層12之方法，於形成硬塗層之塗布液中添加陽離子、陰離子、甜菜鹼等離子性防靜電劑。其中，較佳為2-烷基-N-羧基乙基-N-羥基乙基咪唑啉甜菜鹼等具有咪唑啉骨架之甜菜鹼系化合物。代替離子性防靜電劑或除此以外，還可以使用由導電性氧化錫、氧化銦、氧化鋅、氧化鈦、氧化鎂、氧化銻等金屬氧化物構成之微粒。

另外，為了對多層膜10、20、30、40賦予防靜電功能，並非於硬塗層12含有導電性材料，而是可以於第1粘接層21和第2粘接層31中的任意一方含有導電性材料。作為導電性材料，較佳為氧化錫、氧化銦、氧化鋅、氧化鈦、氧化鎂、氧化銻等金屬氧化物、或聚吡咯、聚噻吩、聚苯胺等導電性高分子。將該些素材添加於形成第1粘接層21或第2粘接層31之塗布液中，將此塗布於支撐體11，從而可以對多層膜10、20、30、40賦予防靜電性。

光學膜25、45有時與導光板、擴散膜等其他光學部件重疊使用。重疊時，有可能與其他光學部件接觸或摩擦等而劃傷光學膜25、45，或者引起相互粘接。以避免該可能性為目的，亦可以於硬塗層12之表面設置適度的凹凸。

作為於硬塗層12之表面設置凹凸之手段，在成為硬塗層12之硬塗用塗布液中添加去光材料，這在製造方面很容易。作為去光材料，可以使用有機、無機的各種微粒，較佳為PMMA顆粒、聚苯乙烯顆粒、聚苯乙烯-二乙烯基苯共聚物顆粒、二氧化矽顆粒等。去光材料之粒徑較佳為0.3μm以上5μm以下範圍。若去光材料之粒徑為0.3μm以上，則與小於0.3μm之情況相比，去光材料不易埋沒於硬塗層12之內部，更容易確實地獲得表面凹凸。又，若去光材料之粒徑為5μm以下，則與大於5μm之情況相比，從硬塗層12之表面突出之凸部高度不會過度變大。因此，可以更確實地避免劃傷其他光學部件，或去光材料脫離硬塗層12等問題。去光材料之粒徑更佳為0.6μm以上3μm以下範圍。去光材料之添加量只要能獲得目標表面凹凸，就沒有特別限定，但從光學特性之觀點考慮，較佳為多層膜10、20、30、40之霧度率不超過30%範圍內之添加量，特佳為不超過20%範圍內之添加量。

硬塗層12較佳為由液體塗布組成物形成。作為該種硬塗用塗布液之成份，只要是藉由熱和活性能量線中的至少任意一方固化者就沒有特別限制。其中，為了滿足多層膜10、20、30、40之上述預定波長光之上述透射率，較佳為形成340nm以上400nm以下之光透射率高的硬塗層12者。另外，根據需要，亦可加入聚合引發劑、固化劑、添加劑等，而構成硬塗用塗布液。

在上述中，硬塗用塗布液亦較佳為，不需要光聚合引發劑的熱固化型塗布液。亦即，較佳為，塗布欲熱固化之塗布液，並藉由加熱使該硬塗用塗布液固化，而形成硬塗層12。

作為藉由熱固化之素材，可以舉出一般的熱固化性樹脂，例如氨基甲酸酯樹脂、環氧樹脂，酚醛樹脂、三聚氰胺樹脂、脲醛樹脂、氨基樹脂、矽酮系素材等。尤其是，具有三維交聯之矽氧烷鍵之矽酮樹脂，因交聯密度高，故而能夠形成高硬度膜。

又，藉由並用熱聚合引發劑，可以使用具有包含可自由基聚合之雙鍵的丙烯酸基或甲基丙烯酸基之單體或低聚物。作為單體，較佳為雙季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷聚乙氧基三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷聚丙氧基三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、雙三羥甲基丙烷四丙烯酸酯等多官能團單體。又，亦較佳為具有丙烯酸基或甲基丙烯酸基之氨基甲酸酯丙烯酸酯、環氧基丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、聚醚丙烯酸酯等低聚物。又，亦較佳為苯乙烯、二乙烯苯、苯丙烯、二苯丙烯、三烯丙基異氰脲酸酯、鄰苯二甲酸二丙烯酯類、二甘醇雙(烯丙基碳酸)等。為了將硬塗層12設為所期待之物性，較佳為組合使用多種該些單體及低聚物。

<聚合引發劑>

作為前述聚合引發劑，例如可以使用通常於具有可自由基聚合之雙鍵的單體、低聚物之聚合中所使用之熱聚合引發劑。作為熱聚合引發劑之例子，可以使用有機氧化物、偶氮系化合物等。

作為有機氧化物，例如可以舉出酮過氧化物類、過氧縮酮類、氫過氧化物類、二烷基過氧化物類、二酰基過氧化物類、過氧化酯類、過氧化二碳酸酯類等。具體而言，較佳為二丁基過氧化物、二異丙基過氧化物、過氧化新戊酸叔丁酯、過氧化二月桂酰、過氧化二苯甲酰、過氧化月桂酸叔丁酯、過氧化苯甲酸叔丁酯、過氧化二叔丁基等。

作為偶氮系化合物，較佳為2，2’-偶氮雙(N-環己基-2-甲基丙酰胺)、2，2’-偶氮雙(N-丁基-2-甲基丙酰胺)、1-[(1-氰基-1-甲基乙基)偶氮]甲酰胺、2，2’-偶氮雙(N-(2-丙烯基)-2-甲基丙酰胺)、1，1-偶氮雙(環己基-1-腈)、2，2’-偶氮雙(2-甲基丁腈)、2，2’-偶氮雙(2-丙酸甲酯)等。

聚合引發劑之添加量較佳為相對於硬塗用塗布液通常在0.1～10質量%範圍。其中，在340nm以上400nm以下範圍內具有吸收波長時，限制其使用量，以使儘量防止由硬塗層12引起的上述波長光之透射率下降。

又，藉由並用光聚合引發劑作為聚合引發劑，可以在前述熱聚合中使用具有包含例示的可自由基聚合之雙鍵的丙烯酸基或甲基丙烯酸基之單體、低聚物。但是，光聚合引發劑具有340nm以上400nm以下之吸收波長之情況較多。因此，使用光聚合引發劑時，將其使用量抑制到最小限度。

作為光聚合引發劑之具體例子，可以舉出苯乙酮、二苯甲酮、苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻丁醚、氯苯乙酮、酰基氧化膦、2-乙基蒽醌、联苯酰缩二甲醇、酰基膦氧化物，此外，可以舉出具有三嗪骨架的鹵代烴、具有噁二唑骨架的鹵代烴、苯基吖啶衍生物、酮化合物、酮肟化合物、有機過氧化物、硫化合物、六芳基二咪唑、芳香族鎓鹽、酮肟醚、茂鈦系化合物等。

在該些中，作為在硬塗層12中使用的素材，較佳為使用水溶性或水分散性素材，從降低由VOC(volatile organic compounds)引起的環境污染的觀點考慮，特佳為使用由該些素材構成之水性硬塗用塗布液。

作為硬塗用塗布液，分別較佳為以下兩者第1硬塗用塗布液和第2硬塗用塗布液。藉由使用該些硬塗用塗布液，可以形成具有優異的耐劃擦性之硬塗層12，並且可以做成以高透射率透射波長為340nm之光或365nm之光的多層膜10、20、30、40。

第1硬塗用塗布液，係包含矽醇水溶液、水溶性固化劑及膠態二氧化矽者。矽醇，係藉由於酸性水溶液中水解四烷氧基矽烷和通式(1)表示的有機矽化合物而生成者。固化劑使前述矽醇進行脫水縮合。膠態二氧化矽，係平均粒徑為3nm以上50nm以下範圍之膠體顆粒分散於水中者。第2硬塗用塗布液為，於水中包含單體和低聚物中的至少任意一方之塗布液。單體及低聚物於分子中具有多數個聚合性雙鍵。

R¹ Si(OR² )₃ ...(1)

(其中，R¹ 為不含氨基的碳數為1以上15以下的有機基團，R² 為甲基或乙基)

<通式(1)之有機矽化合物>

作為適合用作第1硬塗用塗布液之第1成分，亦即通式(1)之有機矽化合物之化合物，可以舉出乙烯基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基矽烷、3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基矽烷、3-氯丙基三甲氧基矽烷、3-脲丙基三甲氧基矽烷、丙基三甲氧基矽烷、苯基三甲氧基矽烷、3-縮水甘油醚氧基丙基三乙氧基矽烷、2-(3，4-環氧環己基)乙基三乙氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三乙氧基矽烷、3-丙烯酰氧基丙基三乙氧基矽烷、3-氯丙基三乙氧基矽烷、3-脲丙基三乙氧基矽烷、丙基三乙氧基矽烷、苯基三乙氧基矽烷、3-縮水甘油醚氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、2-(3，4-環氧環己基)乙基甲基二甲氧基矽烷、乙烯基甲基二甲氧基矽烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-丙烯酰氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、氯丙基甲基二甲氧基矽烷、丙基甲基二甲氧基矽烷、苯基甲基二甲氧基矽烷、3-縮水甘油醚氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、2-(3，4-環氧環己基)乙基甲基二乙氧基矽烷、乙烯基甲基二乙氧基矽烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、3-丙烯酰氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、氯丙基甲基二乙氧基矽烷、丙基甲基二乙氧基矽烷、苯基甲基二乙氧基矽烷、3-三甲氧基甲矽烷基丙基-2-[2-(甲氧基乙氧基)乙氧基]乙基氨基甲酸酯、3-三乙氧基甲矽烷基丙基-2-[2-(甲氧基乙氧基)乙氧基]乙基氨基甲酸酯、3-三甲氧基甲矽烷基丙基-2-[2-(甲氧基丙氧基)丙氧基]丙基氨基甲酸酯、3-三乙氧基甲矽烷基丙基-2-[2-(甲氧基丙氧基)丙氧基]丙基氨基甲酸酯。

其中，更佳為n=0的三烷氧基矽烷，有3-縮水甘油醚氧基丙基三甲氧基矽烷、3-氯丙基三甲氧基矽烷、2-(3，4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷、3-脲丙基三乙氧基矽烷、3-三甲氧基甲矽烷基丙基-2-[2-(甲氧基乙氧基)乙氧基]乙基氨基甲酸酯、3-三甲氧基甲矽烷基丙基-2-[2-(甲氧基丙氧基)丙氧基]丙基氨基甲酸酯。

通式(1)表示的有機矽化合物不將氨基作為官能團含有。亦即，該有機矽化合物具有不含氨基之有機基團R¹ 。這是因為，當R¹ 具有氨基時，若與四烷氧基矽烷混合而進行水解，則所生成的矽醇彼此促進脫水縮合，因此，硬塗用塗布液變得不穩定。R¹ 只要是具有如碳數在1以上15以下範圍的分子鏈長度之有機基團即可。其中，為了獲得脆性被進一步改善的硬塗層12，及為了進一步提高硬塗層12與支撐體11或第1粘接層21之粘附性，碳數範圍更佳為3以上15以下，進一步較佳為5以上13以下。另外，藉由將碳數設為15以下，與16以上之情況相比，硬塗層12之柔軟性不會過於變大而形成足夠的硬度。

而且，R¹ 表示的有機基團較佳為具有氧、氮、硫黃等之雜環原子。藉由有機基團具有雜環原子，可以更加提高與支撐體11或第1粘接層21之粘附力。尤其，較佳為於有機基團R¹ 中具有環氧基、胺基、氨基甲酸酯基、尿素基、酯基、羥基、羧基等。其中，含有環氧基之有機矽化合物具有提高酸性水中的矽醇穩定性之效果，故而為特佳。

<四烷氧基矽烷>

藉由使用四烷氧基矽烷作為第1硬塗用塗布液之第2成分，提高由四烷氧基矽烷與通式(1)之有機矽化合物之水解中所產生的依據矽醇之脫水縮合之交聯密度。藉此，可以形成比以往更硬的硬塗層12。

四烷氧基矽烷沒有特別限定，更佳為係碳數為1～4者，特佳為四甲氧基矽烷、四乙氧基矽烷。藉由碳數為4以下，與5以上之情況相比，與酸性水攙和時的四烷氧基矽烷之水解速度不會過於變慢，成均勻水溶液為止溶解所需的時間變得更短。

將通式(1)之有機矽化合物之質量設為X1、四烷氧基矽烷之質量設為X2。用{X2/(X1+X2)}×100求出的四烷氧基矽烷之質量比率較佳為20%以上95%以下範圍，特佳為30%以上90%以下範圍。藉由設為該範圍之質量比率，可增高交聯密度，故而可以獲得具有足夠的高硬度並且進一步改善了脆性之硬塗層12。該質量比率為20%以上時，與小於20%之情況相比，交聯密度不會過低，故而硬塗層12充分變硬。又，上述質量比率為95%以下時，與超過95%之情況相比，交聯密度不會變得過高。故而，可更加確實地獲得具有良好柔軟性且無脆度之硬塗層12。

<酸性水>

作為塗布液之第3成份的酸性水，較佳為氫離子指數(pH)為2以上6以下範圍者，特佳為2.5以上5.5以下範圍。這是因為，若pH小於2或大於6，則具有如下傾向：當將四烷氧基矽烷和通式(1)之有機矽化合物混合於該酸性水中而作為水溶液時，烷氧基矽烷在該水溶液中，亦即在烷氧基矽烷水溶液中水解而生成矽醇之後，進行矽醇之縮合，變得容易引起該水溶液之粘度上升。另外，上述pH值為所謂稱為“室溫”之25℃下的值。

酸性水藉由於水中溶解有機酸或無機酸而獲得。酸沒有特別限定，可以使用醋酸、丙酸、蟻酸、富馬酸、馬來酸、草酸、丙二酸、琥珀酸、檸檬酸、蘋果酸、抗壞血酸等有機酸、鹽酸、硝酸、硫酸、磷酸、硼酸等無機酸。其中，從操作性觀點考慮，較佳為醋酸。

烷氧基矽烷水溶液如下調製：將四烷氧基矽烷與通式(1)之有機矽化合物之合計量，亦即所使用的烷氧基矽烷量設為100質量份時，使酸性水量成60質量份以上2000質量份以下範圍。藉由設為該組成，可獲得具有良好的水解性和所生成的矽醇之穩定性的烷氧基矽烷之水解水溶液。而且，該種烷氧基矽烷之水解水溶液，亦即使用矽醇水溶液而獲得的第1硬塗用塗布液，不拘於水性而成為穩定性優異者。因此，開始製造多層膜10、20、30、40之前的儲藏時間之限制少，又，在連續製造多層膜10、20、30、40中，亦無需藉由硬塗用塗布液之性狀變化來改變製造條件。就酸性水量而言，相對於四烷氧基矽烷與通式(1)之有機矽化合物之合計100質量份，更佳為100質量份以上1500質量份以下範圍，特佳為150質量份以上1200質量份以下範圍。如果相對於烷氧基矽烷100質量份，酸性水小於60質量份，則有如下傾向：藉由烷氧基矽烷之水解生成的矽醇進行脫水縮合，從而容易進行水溶液之凝膠化，但藉由設為60質量份以上，可以更加確實地抑制該凝膠化。另一方面，酸性水為2000質量份以下時，與超過2000質量份之情況相比，因塗布液中的烷氧基矽烷之濃度高，故而用於將硬塗層12形成為充分厚度之塗布量不會變得過多。因此，可以更加確實地防止硬塗用塗膜之厚度不均勻之產生或塗膜乾燥時間之長期化。

另外，亦可將與四烷氧基矽烷和通式(1)之有機矽化合物均不同的矽烷化合物用於硬塗用塗布液中。此時，較佳為，相對於四烷氧基矽烷、通式(1)之有機矽化合物及其他矽烷化合物之合計量100質量份，以酸性水成60質量份以上2000質量份以下範圍之方式混合它們。

<膠態二氧化矽>

在第1硬塗用塗布液中亦可以包含膠態二氧化矽作為第4成份。該膠態二氧化矽為二氧化矽或其水合物分散於水中之膠體，膠體顆粒之平均粒徑為3nm以上50nm以下範圍。藉由膠體顆粒之平均粒徑為3nm以上，第1硬塗用塗布液之粘度不會過於變高，故而膠態二氧化矽之添加亦不會限制塗布條件，可以更硬地形成硬塗層12。又，藉由膠體顆粒之平均粒徑為50nm以下，入射至硬塗層12之光散射不會過度變大，從而不會損害多層膜10、20、30、40及光學膜25、45之透明性。膠體顆粒之平均粒徑較佳為4nm以上50nm以下範圍，更佳為4nm以上40nm以下範圍，特佳為5nm以上35nm以下範圍。

另外，膠態二氧化矽更佳為調整成如下：在添加至第1硬塗用塗布液中的時點下的pH(氫離子指數)為2以上7以下範圍。若該pH為2以上7以下，則與小於2或大於7之情況相比，烷氧基矽烷之水解物亦即矽醇之穩定性更加良好，並可以更加確實地抑制由該矽醇之脫水縮合反應快速進行而引起的塗布液之粘度上升。

就膠態二氧化矽量而言，相對於四烷氧基矽烷與通式(1)之有機矽化合物之合計100質量份，較佳為40質量份以上200質量份以下範圍，更佳為80質量份以上150質量份以下範圍。膠態二氧化矽之量為40質量份以下時，由加熱固化時的脫水縮合引起的體積收縮率變大，有時於固化膜上產生裂痕，但藉由設為40質量份以上，可以更加確實地抑制該裂紋。又，若膠態二氧化矽之添加量超過200質量份，則膜脆性變大，彎曲多層膜10、20、30、40，從而有時產生龜裂。但是，藉由將膠態二氧化矽之添加量設為200質量份以下，可以更加確實地防止該種現象。

<固化劑>

作為第1硬塗用塗布液的第5成份之固化劑，較佳為水溶性。固化劑，係促使矽醇之脫水縮合而促進矽氧烷鍵之形成者。作為水溶性固化劑，可以使用水溶性無機酸、有機酸、有機酸鹽、無機酸鹽、金屬醇鹽、金屬絡合物。

作為無機酸，可以舉出硼酸、磷酸、鹽酸、硝酸、硫酸為較佳者。

作為有機酸，可以舉出醋酸、蟻酸、草酸、檸檬酸、蘋果酸、抗壞血酸為較佳者。

作為有機酸鹽，可以舉出醋酸鋁、草酸鋁、醋酸鋅、草酸鋅、醋酸鎂、草酸鎂、醋酸鋯、草酸鋯為較佳者。

作為無機酸鹽，可以舉出氯化鋁、硫酸鋁、硝酸鋁、氯化鋅、硫酸鋅、硝酸鋅、氯化鎂、硫酸鎂、硝酸鎂、氯化鋯、硫酸鋯、硝酸鋯為較佳者。

作為金屬醇鹽，可以舉出鋁醇鹽、鈦醇鹽、鋯醇鹽為較佳者。

作為金屬絡合物，可以舉出乙酰丙酮鋁、乙酰乙酸乙基鋁、乙酰丙酮鈦、乙酰乙酸乙酯鈦為較佳者。

在以上固化劑中，從水溶性、水中穩定性之觀點考慮，特佳為硼酸、磷酸、鋁醇鹽、乙酰丙酮鋁等，含硼化合物、含磷化合物、含鋁化合物，只要將它們中至少任意一種用作固化劑即可。

固化劑較佳為於塗布液中均勻混合、溶解，在確保硬塗層12之透明性方面較佳為，將其溶解於本發明之第1硬塗用塗布液之作為溶劑之水中。這是因為，對水的溶解性較低時，於塗布液中以固體方式存在，故而塗布乾燥後也以雜質方式殘留，根據情況，有時成為低透明度之硬塗層12。

就固化劑量而言，相對於包含四烷氧基矽烷和通式(1)表示的有機矽化合物的所有烷氧基矽烷100質量份，較佳為0.1質量份以上20質量份以下範圍，尤其較佳為0.5質量份以上10質量份以下範圍，特佳為1質量份以上8質量份以下範圍。

第2硬塗用塗布液為，於水中包含單體和低聚物中的至少任意一方的水性塗布液，前述單體和低聚物於分子中具有多數個聚合性雙鍵。前述單體和前述低聚物分散或溶解於水中。

作為單體，可以使用具有多數個丙烯酸基之多官能團單體。例如，較佳為含有多官能團之雙季戊四醇六丙烯酸酯、雙季戊四醇五丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯者。

作為低聚物，較佳為氨基甲酸酯丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、環氧基丙烯酸酯。

通常，上述單體或低聚物對水的溶解度低。因此，無法溶解於水時或無法均勻分散於水中時，較佳為使用表面活性劑，而使單體或低聚物乳化分散於水中。

作為表面活性劑，只要是能夠使用於通常乳化者，就沒有特別限定。還可以使用陰離子、陽離子、非離子、甜菜鹼中的任意表面活性劑。該些當中，較佳為HLB(Hydrophile-Lipophile Balance)值為7以上18以下，特佳為9以上16以下範圍。HLB值為表示表面活性劑對水和油的親和性程度之值。HLB值之較佳上述值為依據Atlas式的HLB-數方式之值。

作為陰離子表面活性劑，可以舉出苯基聚氧乙烯醚硫酸鹽、烷基聚氧乙烯醚硫酸鹽、烷基聚氧乙烯醚磷酸鹽、烷基聚氧乙烯醚醋酸鹽、烷基苯磺酸鹽、脂肪酸鹽等為較佳者。

作為陽離子表面活性劑，可以舉出烷基胺鹽、季銨鹽等為較佳者。

作為非離子表面活性劑，可以舉出聚氧烯基烷基醚、聚氧乙烯衍生物、聚氧乙烯聚氧丙烯二醇、聚氧乙烯脂肪酸酯、甘油聚氧乙烯醚脂肪酸酯、山梨糖醇酐脂肪酸酯、聚氧乙烯山梨糖醇酐脂肪酸酯、聚氧乙烯山梨糖醇脂肪酸酯、聚氧乙烯固化蓖麻油、蔗糖脂肪酸酯為較佳者。

作為甜菜鹼系表面活性劑，可以舉出2-烷基-N-羧甲基-N-羥乙基咪唑甜菜鹼、十二烷基二甲基胺醋酸甜菜鹼等為較佳甜菜鹼系表面活性劑。

作為乳化分散之方法，一般為強制乳化法。例如，可以使用如下方法，使用解析機、均勻機等，一邊對單體或低聚物、表面活性劑等乳化劑及水施加剪切力，一邊強制攪拌等。

<聚合引發劑>

使用第2硬塗用塗布液，再使用自由基聚合引發劑時，自由基聚合引發劑較佳為油溶性有機化氧化物、偶氮系化合物或光聚合引發劑。而且，或者可以將該些自由基聚合引發劑溶解於前述單體或低聚物中，與該些一同強制乳化，或者可以使用水溶性偶氮系引發劑。作為油溶性有機過氧化物、偶氮系化合物、光聚合引發劑，只要可以用作通常的自由基聚合引發劑，就沒有特別限定，較佳為在340nm以上400nm以下的光吸收較少之情況。

作為水溶性偶氮系化合物，特佳為2，2’-偶氮雙(4-甲氧基-2，4-二甲基戊腈)、2，2’-偶氮雙(2，4-二甲基戊腈)、2，2’-偶氮雙(2-甲基丁腈)、1，1-偶氮雙(環己烷-1-甲腈)、1-[(1-氰基-1-甲基乙基)偶氮]甲酰胺、2，2’-偶氮雙(N-丁基-2-甲基丙酰胺)等。

<其他添加物>

為了控制多層膜10、20、30、40之表面特性，尤其是摩擦係數，亦可於硬塗用塗布液中包含去光劑或蠟。

作為去光劑，可以使用二氧化矽、碳酸鈣、碳酸鎂、硫酸鋇、聚苯乙烯、聚苯乙烯-二乙烯基苯共聚物、聚甲基丙烯酸甲酯、交聯聚甲基丙烯酸甲酯、三聚氰胺、苯代三聚氰胺等有機、無機素材。

作為蠟，可以使用石蠟、微晶蠟、聚乙烯蠟、聚酯系蠟、棕櫚蠟、脂肪酸、脂肪酸酰胺、金屬皂等。

又，亦可以於第1及第2硬塗用塗布液中包含表面活性劑。藉由使用表面活性劑，硬塗用塗布液之表面張力下降。藉此，可以抑制硬塗用塗布液對支撐體11或第1粘接層21之塗布不均勻，並可以將均勻厚度的硬塗層12形成於支撐體11或第1粘接層21上。表面活性劑沒有特別限定，可以為脂肪族、芳香族、氟系中的任意表面活性劑，又，亦可為非離子系、陰離子系、陽離子系中的任意表面活性劑。

以下，對多層膜40之製造方法進行說明。如圖7所示般，多層膜製造設備51具備支撐體製造裝置52、塗布液製造裝置54、兩個粘接用溶液製造裝置(無圖示)、第1粘接層形成裝置59、硬塗層形成裝置63、第2粘接層形成裝置60、及捲取裝置64。支撐體製造裝置52製造支撐體11。兩個粘接用溶液製造裝置中之一方調製第1粘接用溶液57，另一方調製第2粘接用溶液58。第1粘接用溶液57塗布於支撐體11之第1表面11a而形成第1粘接層21。第2粘接用溶液58塗布於支撐體11之第2表面11b而形成第2粘接層31。塗布液製造裝置54調製形成硬塗層12之硬塗用塗布液53。第1粘接層形成裝置59將第1粘接用溶液57塗布於支撐體11。硬塗層形成裝置63形成硬塗層12。第2粘接層形成裝置60將第2粘接用溶液58塗布於支撐體11。

支撐體製造裝置52將作為支撐體11之原材料的例如小粒狀高分子化合物66導入至乾燥機67而使之乾燥之後，將該小粒引導至熔融擠出機68，並用該熔融擠出機68擠出成膜形狀。以下，將該成為膜形狀的高分子化合物稱為基材71。該基材71引導至拉伸機73。

拉伸機73上設置有將基材71調整為預定溫度之溫度調整機(未圖示)。藉由該溫度調整機，基材71以一邊搬送一邊於預定時刻達到預定溫度之方式升溫或降溫。

在拉伸機73中，一邊搬送基材71，一邊實施向預定方向施加張力之拉伸工序。拉伸工序包含第1拉伸工序、第2拉伸工序、熱固定工序、緩和工序及冷卻工序。第1拉伸工序向搬送方向延伸基材71(以下，稱為MD方向)。第2拉伸工序向寬度方向(以下，稱為TD方向)拉緊基材71，並擴展寬度。熱固定工序，在第2拉伸工序之後進行，藉由加熱基材71而固定分子取向。緩和工序，在熱固定工序之後進行，藉由縮小寬度，來緩和TD方向之張力，從而降低殘餘應變。冷卻工序，對基材71進行冷卻。另外，亦可在第1拉伸工序之前，實施對基材71進行加熱而預先升溫至預定溫度之預熱工序。又，亦可以將公知的同時雙向拉伸機組裝於拉伸機73，而同時實施第1拉伸工序和第2拉伸工序。

另外，拉伸機73中的基材71之搬送方法及拉伸方法，沒有特別限定，只要是公知方法即可。例如，在第1拉伸工序中，用兩根輥搬送基材71，并對兩者設置圓周速度差，以使下游側另一方之圓周速度大於上游側一方之圓周速度，從而向MD方向拉伸基材71。藉由調節該2根輥之圓周速度，可以控制MD方向之拉伸倍率。在第2拉伸工序中，可以使用具備夾子(未圖示)、鏈條(未圖示)及導軌(未圖示)之拉伸機。夾子為保持基材71之側端部而進行搬送之保持部件。鏈條上安裝有夾子57並無休止地行走。導軌決定鏈條之軌道。此時的導軌上具備有位移機構(未圖示)。送入拉伸機73之基材71，若到達預定位置，則用夾子保持兩側端部。位移機構使導軌向基材71之寬度方向移動，藉此鏈條進行變位。鏈條上之夾子以保持基材71之狀態向基材71之寬度方向移動，而基材71向寬度方向被賦予張力。藉由控制鏈條之變位，可以改變基材71之TD方向上的拉伸倍率。

藉由在該拉伸機73中的上述各工序，基材71一邊搬送，一邊控制向搬送方向和寬度方向賦予的張力，而成為如170℃、10分鐘的加熱收縮率為所希望的範圍之支撐體11。

然而，支撐體11之製造方法並不限於上述方法，可以使用公知的聚合物膜製造設備。例如，亦可以使用如“PET膜-拉伸技術．特性．評價．高功能化．用途展現-(1990年技術資訊協會發行)”中記載的一般聚酯膜製造設備。由聚酯製造支撐體11時，較佳為用周知的逐次雙向拉伸法或同時雙向拉伸法進行製造，但如果具有170℃、10分鐘的上述加熱收縮率，則按照用途，亦可將僅實施MD方向上的拉伸的，所謂單軸拉伸膜，或者未經過拉伸工序的，所謂無拉伸膜用作支撐體11。

就塗布液製造裝置54而言，由四烷氧基矽烷74、通式(1)之有機矽化合物75、酸性水76、固化劑78及膠態二氧化矽79製造第1硬塗用塗布液53。

再者，當由第2硬塗用塗布液形成硬塗層12時，代替塗布液製造裝置54，而設為製造第2硬塗用塗布液(無圖示)的塗布液製造裝置(未圖示)。

用塗布液製造裝置54實施的硬塗用塗布液53之調製工序，由第1工序和第2工序構成。第1工序為如下工序，將通式(1)表示的有機矽化合物75和四烷氧基矽烷74溶解於酸性水76中而調製矽醇水溶液81之工序。第2工序為如下工序，於第1工序中調製的矽醇水溶液81中添加固化劑78和膠態二氧化矽79，而作為第1硬塗用塗布液53之工序。另外，於硬塗用塗布液53中包含固化劑78以外的添加劑時，可以在第1工序和第2工序的任意工序中添加此。

在第1工序中，於具備攪拌裝置和將內部溫度調整為預定溫度的調溫裝置之罐內預先容納預定量之酸性水76，於該酸性水76中，首先添加通式(1)之有機矽化合物75。有關該添加，用攪拌裝置激烈攪拌酸性水76的同時，加以實施。接著，用攪拌裝置激烈攪拌該酸性水76的同時，添加四烷氧基矽烷74并使之溶解，從而獲得矽醇水溶液81。

在第2工序中，一邊攪拌矽醇水溶液81，一邊於該矽醇水溶液81中添加固化劑63和膠態二氧化矽79。較佳為抑制成，所生成的矽醇之脫水縮合反應儘量不在該第2工序中進行。為了抑制矽醇之脫水縮合反應進行，較佳為少量添加且充分攪拌矽醇水溶液81的同時，加以實施，以免pH急劇變化。又，較佳為該第2工序期間進行冷卻，以免矽醇水溶液81之溫度變得過高。另外，添加固化劑63以外的添加劑時，可以在開始添加該固化劑63和膠態二氧化矽79之前、添加結束之後、及添加的同時中的任意時刻進行實施。

在粘接用溶液製造裝置中，由粘合劑(無圖示)、固化劑(無圖示)、表面活性劑(無圖示)及水72調製第1粘接用溶液57。於粘接層中含有微粒時，在該粘接用溶液製造部38中添加微粒。

藉由支撐體製造裝置52中的製膜獲得之支撐體11，被連續引導至第1粘接層形成裝置59。在第1粘接層形成裝置59中形成第1粘接層21。第1粘接層形成裝置59具備塗布機82和乾燥機83。塗布機82將第1粘接用溶液57塗布於支撐體11之第1表面11a上。乾燥機83對支撐體11上之第1粘接用溶液57進行乾燥。可以於塗布機82之上游設置電暈放電器84，在塗布之前實施電暈放電處理。用該第1粘接層形成裝置59，於所搬送之支撐體11上形成第1粘接用溶液57之塗膜，并用乾燥機83乾燥該塗膜而作為第1粘接層21。不形成第1粘接層21而於支撐體11上直接形成硬塗層12時，不設置該第1粘接層形成裝置59。

另外，支撐體11可以不從支撐體製造裝置52連續引導至第1粘接層形成裝置59，而在支撐體製造裝置52中製膜之後，暫且捲取成軋輥狀。此時，將成軋輥狀之支撐體11佈置於送出機(無圖示)，而藉由該送出機進行開卷，從而送到第1粘接層形成裝置59。

又，第1粘接用溶液57之塗布亦可於支撐體製造裝置52中實施。例如，可以對進入拉伸機73之前的基材71塗布第1粘接層溶液57，而在第1拉伸工序之後實施第2拉伸工序時，亦可在第1拉伸工序與第2拉伸工序之間進行塗布。

將形成有第1粘接層21之支撐體11，連續引導至硬塗層形成裝置63。該硬塗層形成裝置63具備塗布機85和加熱機86。塗布機85將硬塗用塗布液53塗布於形成在支撐體11之第1粘接層21上。加熱機86加熱硬塗用塗布液53而進行乾燥。用該硬塗層形成裝置63，將硬塗用塗布液53塗布於所搬送之支撐體11上，用加熱機86加熱該塗膜而使之固化，作為硬塗層12。

另外，形成有第1粘接層21之支撐體11，可以不從第1粘接層形成裝置59連續引導至硬塗層形成裝置63，而在第1粘接層形成裝置59中形成第1粘接層21之後，暫且捲取成軋輥狀。此時，將成軋輥狀之支撐體11佈置於送出機(無圖示)，而藉由該送出機進行開卷，從而送至硬塗層形成裝置63。

第1粘接層21及硬塗層12之形成方法沒有特別限定，根據目的，適當選擇公知塗布機進行塗布即可。例如，可以舉出依據旋塗機、輥塗機、刮塗機、幕式塗淋機之塗布。

在所塗布的硬塗用塗布液53之加熱固化中，用加熱機86加熱，以使由支撐體11上之硬塗用塗布液53構成之塗膜溫度至少成為160℃，亦即成為160℃以上溫度。另外，就本實施形態之由加熱引起的固化而言，塗膜除了由反應引起的固化之外，還包括由乾燥引起的固化。

為了使塗膜更充分地固化，較佳為將塗膜溫度設為140℃以上220℃以下範圍，更佳為150℃以上220℃以下範圍，尤其較佳為170℃以上210℃以下範圍。若將塗膜溫度設為140℃以上，則與小於140℃時相比，更加充分地進行塗膜固化，而可以更加確實地形成足夠硬度之硬塗層12。另外，就塗膜溫度為220℃這種上述上限值而言，使用PET等聚酯作為支撐體11之高分子化合物66時，以支撐體11不會根據其耐熱性變形的程度，決定上限值即可。

又，為了避免由加熱引起的損壞，較佳為除加熱溫度以外儘量縮短加熱時間，考慮塗布液之固化速度和固化進程，而決定加熱時間。上述溫度範圍情況下的加熱時間較佳為10秒以上10分鐘以下範圍，更佳為20秒以上6分鐘以下範圍。

形成有硬塗層12之支撐體11，被連續引導至第2粘接層形成裝置60。在第2粘接層形成裝置60中形成第2粘接層31。第2粘接層形成裝置60具備塗布機90和乾燥機91。塗布機90將第2粘接用溶液58塗布於支撐體11之第2表面11b上。乾燥機91對支撐體11上之第2粘接用溶液58進行乾燥。亦可以於塗布機90之上游設置電暈放電器92，在塗布之前實施電暈放電處理。用該第2粘接層形成裝置60，於所搬送之支撐體11上形成第2粘接用溶液58之塗膜，並用乾燥機91乾燥該塗膜而作為第2粘接層31。藉此，製造多層膜40。不形成第2粘接層31而直接於支撐體11形成光功能層26時，不設置該第2粘接層形成裝置60。

另外，支撐體11可以不從硬塗層形成裝置63連續引導至第2粘接層形成裝置60，而在硬塗層形成裝置63中形成硬塗層12之後，暫且捲取成軋輥狀。此時，將成軋輥狀之支撐體11佈置於送出機(無圖示)，而藉由該送出機進行開卷，從而送至第2粘接層形成裝置60。

多層膜40被送至捲取裝置64而捲取成軋輥狀。另外，可以於第2粘接層形成裝置與捲取裝置64之間設置向長邊方向切割多層膜40之分切機，並切割成預定寬度。此時，使用多數個捲取裝置64分別捲取所分切的各多層膜40。

圖8之光學膜製造裝置101具備送出機102和塗布機105。送出機102對成軋輥狀之多層膜40進行開卷并送出。塗布機105塗布稜鏡層用塗布液104。送出機102送出多層膜40，以使在多層膜40之第2粘接層31上塗布稜鏡層用塗布液104。

塗布機105之塗布頭沒有特別限定。例如，可以使用擠壓模107。

藉由稜鏡層用塗布液104從擠壓模107流出，而於第2粘接層31上形成塗膜。

塗布有稜鏡層用塗布液104之多層膜40被引導至乾燥機106。乾燥機106對稜鏡層用塗布液104進行乾燥。

光學膜製造裝置101於多層膜40之搬送路上具備稜鏡形成用輥111、夾持輥112及剝離輥113。稜鏡形成用輥111配設於由多層膜40之稜鏡層用塗布液形成之塗膜側。夾持輥112和剝離輥113配設於多層膜40之硬塗層12側。

為了仿照稜鏡，於稜鏡形成用輥111之周面111a形成有截面三角形之凹凸。稜鏡形成用輥111向周向旋轉。夾持輥112於與稜鏡形成用輥111之間挾持多層膜40。藉由夾持輥112和稜鏡形成用輥111挾持的挾持位置的上游側之多層膜40捲繞於夾持輥112上，挾持位置的下游側之多層膜40捲繞於稜鏡形成用輥111上。藉此，藉由夾持輥112和稜鏡形成用輥111搬送多層膜40的同時，連續形成多數個稜鏡。

多層膜40之硬塗層12側，亦即稜鏡形成用輥111之下方配設用於使由稜鏡層用塗布液104形成之塗膜光固化之光源116。光源116透過硬塗層12、第1粘接層21、支撐體11及第2粘接層31，將光照射至由稜鏡層用塗布液104形成之塗膜。

配設於稜鏡形成用輥111的下游之剝離輥113，從稜鏡形成用輥111向周面捲繞形成有光功能層26之多層膜40，亦即光學膜45而進行旋轉。藉此，從稜鏡形成用輥111剝掉光學膜45。另外，在圖8中，相對於多層膜40之厚度，對由稜鏡層用塗布液104形成之塗膜及光功能層26之各厚度、光功能層26之各稜鏡、稜鏡形成用輥111的周面111a之凹凸較大且立體地進行描繪。

用以上方法製造的光學膜45被送至將此捲取成軋輥狀的捲取裝置(未圖示)，或切割成所希望的大小或形狀的薄片之薄片化裝置等之下一個工序。

[實施例1]

以下，記載實施例及比較例，詳細內容記載於實施例1中，關於其他實施例與比較例，僅記載與實施例1不同的條件。

對固有粘度為0.66之PET進行乾燥，直至含水率成為50ppm以下。PET，係藉由將鍺(Ge)作為觸媒之縮聚而獲得者。乾燥後，藉由熔融擠出機68將PET設為膜形狀之基材71。熔融擠出機68具備熔融PET之加熱器、將所熔融的PET擠出為膜形狀之擠出模、以及從該模配設於擠出口下游之冷硬軋輥。冷硬軋輥為具有對周面進行冷卻的冷卻機構并對接觸於該表面之PET膜進行冷卻的冷卻軋輥。熔融擠出機68之加熱器溫度在280℃以上300℃以下范围內保持為大致恒定。用該加熱器對PET進行熔融，從模擠出成外加了靜電的冷硬軋輥，而作為非晶態基材71。將該非晶態基材71搬送至設置於熔融擠出機68下游之拉伸機73。

在拉伸機73中實施：第1拉伸工序，向MD方向延伸基材71；第2拉伸工序，在該第1拉伸工序之後，向TD方向延伸基材71；該第2拉伸工序之後的熱固定工序；該熱固定工序之後的緩和工序；及緩和工序之後的冷卻工序，獲得了支撐體11。在第1拉伸工序中，將基材71延伸成3.1倍，在第2拉伸工序中，向寬度方向賦予張力，以使寬度成為3.9倍。又，在熱固定工序中，將基材71加熱至240℃，在緩和工序中，將基材71加熱至235℃。將完成冷卻而從夾子釋放之時點的基材71之寬度設為Y1、第2拉伸工序中的基材71之寬度最大值設為Y2時，縮小基材71之寬度，以使100×(Y2-Y1)/Y2成為3.2%。在冷卻工序中，將基材71冷卻至室溫。所得支撐體11之厚度為188μm。

用下述配合調製第1粘接用溶液57。將該第1粘接用溶液57作為第1粘接用溶液試樣A-1。

(第1粘接用溶液試樣A-1)

‧Takelac WS-4000　5.0質量份

(固體含量濃度30%，三井化學(株)製造)

‧表面活性劑　0.3質量份

(NAROACTY HN-100，三洋化成工業(株)製造)

‧表面活性劑　0.3質量份

(SUNDET BL，固體含量濃度43%，三洋化成工業(株)

製造)

‧水　94.4質量份

對支撐體11之一面施以電暈放電處理。於已施以該電暈放電處理之面塗布第1粘接用溶液試樣A-1，并在120℃下使之乾燥2分鐘，而形成厚度為0.11μm之第1粘接層21。

於MD方向和TD方向分別測定設置有第1粘接層21之支撐體11在170℃、10分鐘下之加熱收縮率。對於該測定結果，示於表1之“支撐體”欄中之「加熱收縮率」欄內。另外，表1之“MD”欄之數值(單位：%)為MD方向上之加熱收縮率，“TD”欄之數值(單位：%)為TD方向上之加熱收縮率。對求加熱收縮率之方法進行後述。

用以下配合，調製了形成硬塗層12之硬塗用塗布液53。將該硬塗用塗布液53作為硬塗層用塗布液試樣H-1。

(硬塗層用塗布液試樣H-1)

‧四乙氧基矽烷　4.48質量份

(KBE-04，信越化學工業(株)製造)

‧3-縮水甘油醚氧基丙基三乙氧基矽烷　6.36質量份

(KBE-403，信越化學工業(株)製造)

‧醋酸水溶液(醋酸濃度=0.05%，pH=5.2　14.0質量份

‧固化劑　0.19質量份

(ALUMICHELATE A(W)，KAWAKEN FINE CHEMICALS CO.,LTD.製造)

‧膠態二氧化矽　33.9質量份

(SNOW TEX O-33，平均粒徑10nm～20nm，固體含量濃度33%，pH=2.6，日產化學工業(株)製造)

‧表面活性劑　0.13質量份

(NAROACTY HN-100，三洋化成工業(株)製造)

‧表面活性劑　0.27質量份

(SUNDET BL，固體含量濃度43%，三洋化成工業(株)製造)

‧水　7.33質量份

用以下方法調製硬塗層用塗布液試樣H-1。如上所述，在該硬塗層用塗布液試樣H-1中，使用3-縮水甘油醚氧基丙基三乙氧基矽烷作為通式(1)表示的有機矽化合物75。首先，激烈攪拌作為酸性水76之醋酸水溶液的同時，用3分鐘滴下3-縮水甘油醚氧基丙基三乙氧基矽烷至該醋酸水溶液中。接著，激烈攪拌的同時，用5分鐘將作為四烷氧基矽烷74之四甲氧基矽烷添加至醋酸水溶液中，之後繼續攪拌2小時。接著，在該矽醇水溶液81中依序添加膠態二氧化矽79、固化劑78及表面活性劑，從而調製了水性第1硬塗用塗布液53。

藉由刮塗法於第1粘接層21上塗布該硬塗層用塗布液試樣H-1。在170℃下對該塗膜加熱5分鐘并乾燥，形成厚度為4.1μm之硬塗層12。

用下述配合，調製第2粘接用溶液58。將該第2粘接用溶液58作為第2粘接用溶液試樣B-1。

[第2粘接用溶液試樣B-1]

‧粘合劑　44.9質量份

(Fine Tex ES-650，固體含量29%，大日本油墨化學工業(株)製造)

‧交聯劑　1.3質量份

(Carbodilite V-02-L2，NISSHINBO CHEMICAL INC.製造)

‧氧化矽微粒　1.4質量份

(NIPPON AEROSIL CO.,LTD.製造，AEROSIL OX-50，固體含量10%)

‧表面活性劑1　1.2質量份

(日本油脂(株)，RAPISOL B-90，陰離子性)

‧表面活性劑2　0.1質量份

(三洋化成工業(株)，NAROACTY HN-100，非離子性)

對支撐體11之第2表面11b施以電暈放電處理。於已施以電暈放電處理之第2表面11b塗布第2粘接用溶液試樣B-1。在160℃下使該塗膜乾燥2分鐘，從而形成厚度為0.09μm之第2粘接層31。

[稜鏡層用塗布液試樣F]

以所記載之質量比混合下述所示之化合物，加熱至50℃并攪拌溶解，調製稜鏡層用塗布液104。將該稜鏡層用塗布液104作為稜鏡層用塗布液試樣F。

‧BrBPA　35.0質量份

(含有四溴雙酚A骨架之環氧丙烯酸酯)

‧BPE200　35.0質量份

(NK ESTER BPE-200，新中村化學(株)製造，環氧乙烷附加雙酚A甲基丙烯酸酯)

‧BR-31　30.0質量份

(NEW FRONTIER BR-31，第一工業製藥(株)製造，三溴苯氧基乙酯)

‧LR8893X　2.0質量份

(Lucirin LR8893X，BASF(株)製造的光自由基產生劑，乙基-2，4，6-三甲基苯甲酰基乙氧苯基氧化膦)

‧甲基乙基酮(MEK)　43.7質量份

藉由光學膜製造裝置101，於第2粘接層31上塗布該稜鏡層用塗布液試樣F，製造光學膜45。另外，多層膜40在捲取至捲取裝置102之前，藉由分切機預先連續切割，藉此設寬度為500mm。

作為稜鏡形成用輥111，使用長邊方向，亦即多層膜40之寬度方向上的長度為700mm、直徑為300mm之S45C制，且將表面材質設為鎳之輥。藉由使用金剛石車刀(單點)之切削加工，於該輥表面的大致500mm寬度之全周形成輥軸向之間距為50μm之槽。槽之截面形狀是頂角為90度之三角形。槽底部亦為無平坦部的90度之三角形。亦即，槽寬度為50μm，槽深度為約25μm。由於該槽在稜鏡形成用輥111之周向上無接頭，故而藉由該稜鏡形成用輥111形成多數個截面為三角形之雙凸型透鏡。另外，槽加工之後，於稜鏡形成用輥111之周面施以鎳電鍍。

使用模塗布機作為塗布機105。使用擠壓模107作為塗布機105之塗布頭。

關於稜鏡層用塗布液試樣F之濕潤狀態之厚度，對稜鏡層用塗布液試樣F向擠壓模107之供給量進行控制，以使依乾燥機106之有機溶劑乾燥後之膜厚成為20μm。供給量之控制，藉由連接於擠壓模107的作為液體供給裝置之送液泵(無圖示)進行控制。

使用熱風於內部循環之所謂熱風循環方式之乾燥機作為乾燥機106。熱風溫度設定為100℃。

使用直徑為200mm、於表面形成有橡膠硬度為90的矽橡膠層之輥作為夾持輥112。用稜鏡形成用輥111和夾持輥112按壓多層膜40之夾持壓力(實效夾持壓力)設為0.5Pa。

使用具備多數個金屬鹵化物燈116之光源作為光源116。實施照射至可以看到塗膜已固化程度為止。固化所需的能量記載於表1之“照射能量”欄中。該欄中的單位為mJ/cm² 。

藉由以上，製造了作為稜鏡片之光學膜45。亦即，該光學膜45之光功能層26之形成方法相當於鑄型聚合法。

對於支撐體11、多層膜40、光學膜45，進行下述評價。

(1)支撐體之加熱收縮率

用以下方法求出加熱收縮率。從設置有第1粘接層21之支撐體11，以TD方向30mm、MD方向120mm之大小取樣。精確地加入2條基準綫，以使在該試樣之MD方向上成為100mm間隔，在無張力下，在170℃加熱釜中放置10分鐘。進行該放置之後，冷卻至室溫，測定2條基準綫之間隔並將該值設為L(單位；mm)，採用式{(100-L)/100}×100，設為MD方向上之加熱收縮率。又，從設置有第1粘接層21之支撐體11，以MD方向30mm、TD方向120mm之大小取樣，同樣進行測定和計算，設為TD方向上之加熱收縮率。

(2)多層膜中的硬塗層之裂痕

目視觀察硬塗層之表面，用以下基準進行了評價。

○：完全沒有裂痕

△：局部產生裂痕，故而實用上有障礙

×：整面產生裂痕，無法使用

(3)多層膜中的硬塗層的鉛筆硬度之評價

使用往復磨損試驗機TRIBOGEAR(登錄商標)TYPE：30S(新東科學(株)製造)，依據JIS K5600-5-4,以移動速度0.5mm/秒、荷重750g，測定硬塗層之鉛筆硬度。硬塗層之鉛筆硬度根據用途，所要求的水平不同，但只要是“H”以上，則可以說滿足作為硬塗層之功能。另外，在後述的比較例中，當不設置硬塗層時，對外露的第1粘接層21或支撐體11進行該鉛筆硬度之評價。該結果示於表1之“鉛筆硬度”欄中。

(4)多層膜40之硬塗層中的耐劃擦性之評價

對鋼棉#0000施加200g/cm² 之荷重并使之於硬塗層上往復20次，目視觀察劃傷之產生，用以下基準進行了評價。另外，在後述的比較例中，當不設置硬塗層時，對外露的第1粘接層21或支撐體11進行該鉛筆硬高度之評價。該結果示於表1之“耐劃擦性”欄中。

A：完全看不到劃傷，非常良好

B：可以看到1～7條劃傷，但為實用上沒有問題之水平

C：可以看到多數條劃傷，為無法用作製品之水平

(5)多層膜之表面電阻率之測定

在25℃、40%RH氣氛下，使用於數字．靜電計R8252(ADVANTEST CORPORATION製造)連接RESISTIVITY．CHAMBER R12704A(ADVANTEST CORPORATION製造)之裝置作為測定裝置，以JIS K 6911為標準，對多層膜之硬塗層面測定了表面電阻率。另外，在後述的比較例中，當不設置硬塗層時，對外露的第1粘接層21或支撐體11，進行該鉛筆硬度之評價。結果記載於表1之“表面電阻”欄中。單位為Ω/□(=Ω/sq)。該欄中的後接於“E-”之數字為指數部。例如，“3E-13”表示”3×10¹³ ”。

(6)多層膜之霧度率

以霧度儀(SUGA TEST INSTRUMENTS CO.,LTD.製造)測定C光源中的霧度率(%)。

(7)多層膜的透射率之測定

從多層膜之硬塗層側入射測定光，在300nm以上800nm以下範圍，測定分光透射率。使用紫外可見分光光度計UV-2450((株)島津製作所製造)作為測定裝置。

(8)光功能層固化所需的照射能量

對成為光功能層26之UV固化性化合物獲得恒定硬度所需的金屬鹵化物燈之照射能(mJ/cm² )進行了評價。恒定硬度為，對鋼棉#0000施加20g/cm² 之荷載并使之於光功能層26上往復10次之後，目視觀察有無光功能層26上的劃傷之產生時，完全看不到劃傷之硬度。

在下述實施例及比較例中亦進行了以上評價。各結果示於表1。

[實施例2]

使用硬塗層用塗布液試樣H-2來代替硬塗層用塗布液試樣H-1。藉由刮塗法，將該硬塗層用塗布液試樣H-2塗布於第1粘接層21上。在200℃下，乾燥該塗膜120秒，形成厚度為2.8μm之硬塗層12。其他條件設為與實施例1相同，而獲得作為稜鏡片之光學膜45。

(硬塗層用塗布液試樣H-2)

‧四乙氧基矽烷　5.9質量份

(KBE-04，信越化學工業公司製造)

‧3-縮水甘油醚氧基丙基三乙氧基矽烷　6.8質量份

(KBM-403，信越化學工業公司製造)

‧醋酸水溶液(醋酸濃度1.0%，pH=3.3)　30.4質量份

‧固化劑　0.2質量份

(ALUMICHELATE A(W)，KAWAKEN FINE CHEMICALS CO.,LTD.製造)

‧膠態二氧化矽　60.0質量份

(SNOW TEX OS，平均粒徑7～9nm，固體含量濃度20%，pH=2.6，日產化學工業(株)製造)

‧表面活性劑　0.1質量份

(NAROACTY HN-100，三洋化成工業(株)製造)

‧表面活性劑　0.2質量份

(SUNDET BL，固體含量濃度43%，三洋化成工業(株)製造)

‧水　8質量份

[實施例3]

在支撐體11之製作中，由熱固定工序加熱至235℃，在緩和工序中加熱至210℃。又，在緩和工序中，縮小寬度，以使100×(Y2-Y1)/100成為5.1%，除此之外，與實施例1完全相同地進行，而獲得由聚酯膜構成之支撐體11。所獲得之支撐體之厚度為188μm。使用該支撐體11，與實施例1相同地進行，而製作了作為稜鏡片之光學膜45。

[實施例4]

在支撐體11之製作中，由熱固定工序加熱至235℃，在緩和工序中加熱至220℃。又，在緩和工序中，縮小寬度，以使100×(Y2-Y1)/100成為3.6%，除此之外，與實施例1完全相同地進行，而獲得由聚酯膜構成之支撐體。所獲得之支撐體之厚度為188μm。使用該支撐體11，與實施例1相同地進行，而製作了作為稜鏡片之光學膜45。

[實施例5]

在支撐體11之製作中，由熱固定工序加熱至245℃，在緩和工序中加熱至235℃。又，在緩和工序中，縮小寬度，以使100×(Y2-Y1)/100成為1.4%，除此之外，與實施例1完全相同地進行，而獲得由聚酯膜構成之支撐體。所獲得之支撐體之厚度為188μm。使用該支撐體11，與實施例1相同地進行，而製作了作為稜鏡片之光學膜45。

[實施例6]

使用以下硬塗層用塗布液試樣H-3來代替硬塗層用塗布液試樣H-1。藉由刮塗法，將該硬塗層用塗布液試樣H-3塗布於第1粘接層21上。在190℃下，乾燥該塗膜180秒，形成厚度為2.1μm之硬塗層12。其他條件設為與實施例1相同，而獲得作為稜鏡片之光學膜45。

(硬塗層用塗布液試樣H-3)

‧四甲氧基矽烷　4.5質量份

(KBM-04，信越化學工業(株)製造)

‧3-縮水甘油醚氧基丙基三乙氧基矽烷　6.4質量份

(KBE-403，信越化學工業(株)製造)

‧醋酸水溶液(醋酸濃度1.0%，pH=3.3)　50.0質量份

‧固化劑　0.4質量份

(ALUMICHELATE A(W)，KAWAKEN FINE CHEMICALS CO.,LTD.製造)

‧膠態二氧化矽　55.0質量份

‧PMMA交聯微粒　0.2質量份

(MX300,平均粒徑3.0μm，綜研化學(株)製造)

‧表面活性劑　0.13質量份

(NAROACTY HN-100，三洋化成工業(株)製造)

‧表面活性劑　0.27質量份

(SUNDET BL，固體含量濃度43%，三洋化成工業(株)製造)

‧水　50質量份

[實施例7]

使用硬塗層用塗布液試樣H-4來代替硬塗層用塗布液試樣H-1。藉由刮塗法，將該硬塗層用塗布液試樣H-4塗布於第1粘接層21上。在190℃下，乾燥該塗膜180秒，形成厚度為4.1μm之硬塗層12。其他條件設為與實施例1相同，而獲得作為稜鏡片之光學膜45。

(硬塗層用塗布液試樣H-4)

‧四乙氧基矽烷　6.0質量份

(KBE-04，信越化學工業(株)製造)

‧3-縮水甘油醚氧基丙基三乙氧基矽烷　8.5質量份

(KBE-403，信越化學工業(株)製造)

‧醋酸水溶液(醋酸濃度1.0%，pH=3.3)　20.0質量份

‧固化劑　0.25質量份

(ALUMICHELATE A(W)，KAWAKEN FINE CHEMICALS CO.,LTD.製造)

‧膠態二氧化矽　45.0質量份

(SNOW TEX O，平均粒徑10nm～20nm，固體含量濃度20%，pH=2.6，日產化學工業(株)製造)

‧防靜電劑　0.6質量份

(ENERGY CALL CNS，LION CORPORATION製造)

‧表面活性劑　0.3質量份

(SUNDET BL，固體含量濃度43%，三洋化成工業(株)製造)

[實施例8]

使用有機溶劑系硬塗層用塗布液試樣H-5來代替硬塗層用塗布液試樣H-1。藉由刮塗法，將該硬塗層用塗布液試樣H-5塗布於第1粘接層21上。在150℃下，乾燥該塗膜180秒，形成厚度為5.1μm之硬塗層12。其他條件設為與實施例1相同，而製造多層膜40及作為稜鏡片之光學膜45。

(硬塗層用塗布液試樣H-5)

‧熱固化型矽酮硬塗　100質量份

(SHC900，固體含量30%，MOMENTIVE．PERFORMANCE．MATERIALS．JAPAN制造)

‧表面活性劑　0.1質量份

(MAGAFAC F780F，大日本油墨化學工業(株)製造)

[實施例9]

用下述配合，調製第1粘接用溶液57來代替第1粘接用溶液試樣A-1。將該第1粘接用溶液57作為第1粘接用溶液試樣A-2。

(第1粘接用溶液試樣A-2)

‧聚酯膠乳　2質量份

(Vylonal MD1245，東洋紡織(株)製造)

‧交聯劑　1質量份

(Carbodilite V-02-L2，NISSHINBO CHEMICAL INC.製造)

‧表面活性劑　0.3質量份

(NAROACTY HN-100，三洋化成工業(株)製造)

‧水　96.7質量份

對支撐體11之第1表面11a施以電暈放電處理。於已施以該電暈放電處理之面塗布上述第1粘接用溶液試樣A-2，在120℃下使之乾燥2分鐘，而形成厚度為0.11μm之第1粘接層21。

使用水系硬塗層用塗布液試樣H-6來代替硬塗層用塗布液試樣H-1，藉由刮塗法於所形成的第1粘接層21上進行塗布。在190℃下，乾燥該塗膜180秒，形成厚度為7.1μm之硬塗層12。其他條件設為與實施例1相同，而製作了作為稜鏡片之光學膜45。

(硬塗層用塗布液試樣H-6)

‧多官能團氨基甲酸酯丙烯酸酯水分散液　74.9質量份

(KRM8428，固體含量60%，DAICEL．CYTEC COMPANY LTD.製造)

‧熱聚合引發劑　2.7質量份

(VA-086，和光純藥工業(株)製造)

‧表面活性劑　0.4質量份

(NAROACTY HN-100，三洋化成工業(株)製造)

‧表面活性劑　0.4質量份

(SUNDET BL，固體含量濃度43%，三洋化成工業(株)製造)

‧水　23.1質量份

[實施例10]

使用硬塗層用塗布液試樣H-7來代替實施例9中的硬塗層用塗布液試樣H-6。以與實施例9相同的條件，於第1粘接層21上形成厚度為7.1μm之硬塗層12。其他條件設為與實施例2相同，而製作了作為稜鏡片之光學膜45。

(硬塗層用塗布液試樣H-7)

‧多官能團氨基甲酸酯丙烯酸酯水分散液　74.9質量份

(KRM8428，固體含量60%，DAICEL．CYTEC COMPANY LTD.製造)

‧防靜電劑　1.2質量份

(ENERGY CALL CNS，LION公司製造)

‧熱聚合引發劑　2.7質量份

(VA-086，和光純藥公司製造)

‧表面活性劑　0.6質量份

(SUNDET BL，固體含量濃度43%，三洋化成工業公司製造)

‧水　23.1質量份

[實施例11]

用下述配合調製了第1粘接用溶液57來代替第1粘接用溶液試樣A-1。將此溶液作為第1粘接用溶液試樣A-3。其他設為與實施例1完全相同，而製作了多層膜40，進一步設置光功能層26，從而製作了光學膜45。

(第1粘接用溶液試樣A-3)

‧Takelac WS-4000　5.0質量份

(固體含量濃度30%，三井化學(株)製造)

‧氧化錫-氧化銻之水分散體(折射率調整用)5.2質量份

(FS-10D，固體含量濃度20%，石原產業公司製造)

‧表面活性劑　0.03質量份

(NAROACTY HN-100，三洋化成工業(株)製造)

‧表面活性劑　0.03質量份

(SUNDET BL，固體含量濃度43%，三洋化成工業(株)製造)

‧水　89.0質量份

對支撐體11之第1表面11a施以電暈放電處理。於已施以該電暈放電處理之面塗布上述第1粘接用溶液試樣A-3，并在120℃下使之乾燥2分鐘，而形成第1粘接層21。

所得第1粘接層21之折射率為1.562，膜厚為88nm。另外，所使用的作為支撐體11的聚酯膜之折射率為1.66，實施例11之硬塗層12之折射率為1.47。

[實施例12]

使用以下述配合調製的第1粘接用溶液試樣A-4來代替第1粘接用溶液試樣A-1，除此之外，與實施例1完全相同地進行，而製作多層膜40，進一步設置光功能層26，而製作了光學膜45。

(第1粘接用溶液試樣A-4)

‧Takelac WS-4000　5.0質量份

(固體含量濃度30%，三井化學(株)製造)

‧氧化鋯水性溶膠　2.0質量份

(NANOUSE ZR-40BL，固體含量濃度40%，日產化學工業公司製造)

‧聚(3，4-乙烯二氧噻吩)聚苯乙烯磺酸　4.0質量份

(ORGACON HBS，固體含量1.2%，AGFA公司製造)

‧表面活性劑　0.03質量份

(NAROACTY HN-100，三洋化成工業(株)製造)

‧表面活性劑　0.03質量份

(SUNDET BL，固體含量濃度43%，三洋化成工業(株)製造)

‧水　88.1質量份

對支撐體11之第1表面11a施以電暈放電處理。於已施以該電暈放電處理之面塗布上述第1粘接用溶液試樣A-4，并在120℃下使之乾燥2分鐘，而形成第1粘接層21。所形成的第1粘接層21之折射率為1.564，膜厚為88nm。另外，所使用的作為支撐體11的聚酯膜之折射率為1.66，實施例12之硬塗層12之折射率為1.47。

[比較例1]

除了未設置第1粘接層21和硬塗層12以外，與實施例1相同地進行，而獲得作為稜鏡片之光學膜。

[比較例2]

除了未設置硬塗層12以外，與實施例1相同地進行，而獲得作為稜鏡片之光學膜。

[比較例3]

在實施例9中，使用硬塗層用塗布液試樣H-8來代替硬塗層用塗布液試樣H-6，藉由刮塗法進行塗布，在130℃下乾燥2分鐘，而獲得膜厚為8μm之塗膜。使用120W/cm能量之高壓水銀燈，以150mm的照射距離向該塗布層照射約30秒，使該塗布層固化，從而形成硬塗層。其他條件設為與實施例1相同，而獲得了作為稜鏡片之光學膜。

(硬塗層用塗布液試樣H-8)

‧多官能團丙烯酸單體　45質量份

(ARONIX M-405，東亞合成(株)製造)

‧多官能團丙烯酸單體　14質量份

(ARONIX M-350，東亞合成(株)製造)

‧光聚合引發劑　1.2質量份

(IRGACURE 184，CIBA SPECIALTY CHEMICALS INC.製造)

‧表面活性劑　0.1質量份

(MAGAFAC F780F，大日本油墨化學工業(株)製造)

‧甲基乙基酮　40質量份

[比較例4]

在實施例9中，使用水系硬塗層用塗布液試樣H-8來代替硬塗層用塗布液試樣H-6。藉由刮塗法，將此塗布於第1粘接層21上，在150℃下乾燥2分鐘，而獲得膜厚為8μm之塗膜。使用120W/cm能量之高壓水銀燈，以150mm的照射距離向該塗膜照射約40秒，使該塗膜固化，而形成硬塗層。其他條件設為與實施例1相同，而製作了作為稜鏡片之光學膜。

(硬塗層用塗布液試樣H-8)

‧多官能團氨基甲酸酯丙烯酸酯水分散液　81.0質量份

(UT4613，固體含量49%，日本合成化學(株)製造)

‧光聚合引發劑　2.0質量份

(IRGACURE 2959，CIBA SPECIALTY CHEMICALS INC.製造)

‧表面活性劑　0.4質量份

(NAROACTY HN-100，三洋化成工業(株)製造)

‧表面活性劑　0.4質量份

(SUNDET BL，固體含量濃度43%，三洋化成工業(株)製造)

‧水　16.2質量份

(硬塗層用塗布液試樣H-9)

‧四乙氧基矽烷　6.8質量份

(KBE-04，信越化學工業(株)製造)

‧N-2-(氨乙基)-3-氨丙基三乙氧基矽烷　5.9質量份

(KBE-603，信越化學工業(株)製造)

‧醋酸水溶液(醋酸濃度1.0%，pH=3.3)　27.4質量份

‧固化劑　0.4質量份

(ALUMICHELATE A(W)，KAWAKEN FINE CHEMICALS CO.,LTD製造)

‧膠態二氧化矽　60.0質量份

(SNOW TEX O，平均粒徑8～11nm，固體含量濃度20%，pH=2.6，日產化學工業(株)製造)

‧表面活性劑　0.2質量份

(NAROACTY HN-100，三洋化成工業(株)製造)

‧表面活性劑　0.2質量份

(SUNDET BL，固體含量濃度43%，三洋化成工業(株)製造)

10、20、30、40．．．多層膜

11．．．支撐體

11a．．．第1表面

11b．．．第2表面

12．．．硬塗層

21．．．第1粘接層

25、45．．．光學膜

26．．．光功能層

31．．．第2粘接層

51．．．多層膜製造設備

52．．．支撐體製造裝置

53．．．第1硬塗用塗布液

54．．．塗布液製造裝置

57．．．第1粘接用溶液

58．．．第2粘接用溶液

59．．．第1粘接層形成裝置

60．．．第2粘接層形成裝置

63．．．硬塗層形成裝置

64．．．捲取裝置

66．．．高分子化合物

67、83、91、106．．．乾燥機

68．．．熔融擠出機

71．．．基材

73．．．拉伸機

74．．．四烷氧基矽烷

75．．．有機矽化合物

76．．．酸性水

78．．．固化劑

79．．．膠態二氧化矽

81．．．矽醇水溶液

82、85、90、105．．．塗布機

84、92．．．電暈放電器

86．．．加熱機

101．．．光學膜製造裝置

102．．．送出機

104．．．稜鏡層用塗布液

107‧‧‧擠壓模

111‧‧‧稜鏡形成用輥

111a‧‧‧周面

112‧‧‧夾持輥

113‧‧‧剝離輥

116‧‧‧光源

藉由參照附圖，並解讀較佳實施例之詳細說明，當業者可以容易理解上述目的、優點。

圖1為本發明之第1實施形態之多層膜之剖視圖。

圖2為第2實施形態之多層膜之剖視圖。

圖3為使用本發明之多層膜的光學膜之剖視圖。

圖4為本發明之第3實施形態之多層膜之剖視圖。

圖5為第4實施形態之多層膜之剖視圖。

圖6為使用本發明之多層膜的光學膜之剖視圖。

圖7為多層膜之製造設備之簡要圖。

圖8為光學膜之製造裝置之簡要圖。

11．．．支撐體

12．．．硬塗層

20．．．多層膜

21．．．第1粘接層

25．．．光學膜

Claims

一種多層膜，其特徵為，係具備以下：透明支撐體，欲於前述支撐體之一面形成由照射光光固化之塗膜；透明硬塗層，由聚合物構成，並配設於前述支撐體之另一面；以及透射率，對於340nm波長之光，為70%以上100%以下範圍，其中，前述硬塗層，藉由加熱使塗布於前述支撐體的熱固化之塗布組成物固化而形成者，且前述塗布組成物為含有矽醇水溶液、水溶性固化劑及膠態二氧化矽之塗布液，前述矽醇，藉由於酸性水溶液中水解四烷氧基矽烷和通式(1)表示的有機矽化合物而生成者，R¹ Si(OR² )₃ ...(1)其中，R¹ 為不含氨基的碳數為1以上15以下的有機基團，R² 為甲基或乙基；前述固化劑，係對前述矽醇進行脫水縮合者；以及前述膠態二氧化矽的膠體顆粒之平均粒徑為3nm以上50nm以下範圍，前述膠體顆粒分散於水中，且前述膠態二氧化矽的氫離子指數pH為2以上7以下範圍。
如申請專利範圍第1項所述之多層膜，其中，前述塗膜藉由光固化成為光功能層，前述光功能層使入射光折射而聚光或擴散。
如申請專利範圍第1項所述之多層膜，其中，前述照射光透過前述硬塗層和前述支撐體照射至前述塗膜上。
如申請專利範圍第1項所述之多層膜，其中，前述塗布組成物為具有熱聚合引發劑，且為於水中含有單體和低聚物中的至少任意一方之塗布液，前述單體及低聚物於分子中具有多數個聚合性雙鍵。
如申請專利範圍第1項所述之多層膜，其中，未塗布前述塗布組成物之前述支撐體在170℃、10分鐘下之加熱收縮率為0.1%以上3.0%以下範圍。
如申請專利範圍第1項所述之多層膜，其中，前述硬塗層在25℃、40%RH環境下的表面電阻率為10¹² Ω/□以下。
如申請專利範圍第1項所述之多層膜，其中，還具備粘接層，前述粘接層設置於前述支撐體之前述一面，並將前述支撐體粘接於前述塗膜已光固化之光固化部。
如申請專利範圍第2項所述之多層膜，其中，前述光功能層藉由鑄型聚合法形成。
一種多層膜之製造方法，前述多層膜具備：光功能層；透明支撐體，欲於一面形成由照射光光固化之塗膜；硬塗層，配設於前述支撐體之另一面，其特徵為，具備以下工序：準備熱固化之塗布組成物，前述塗布組成物成為前述硬塗層；於形成有前述硬塗層的前述支撐體之另一面塗布前述塗布組成物；以及藉由加熱使所塗布之前述塗布組成物固化而作為前述硬塗層，前述支撐體和所塗布的前述塗布組成物，藉由前述固化而成為340nm波長光之透射率為70%以上100%以下範圍之前述多層膜；以及通過所述硬塗層及所述透明支撐體，將前述照射光照射於前述塗膜，形成前述光功能層。
如申請專利範圍第9項所述之多層膜之製造方法，其中，前述塗布組成物為含有矽醇水溶液、水溶性固化劑及膠態二氧化矽之塗布液，前述矽醇，係藉由於酸性水溶液中水解四烷氧基矽烷和通式(1)表示的有機矽化合物而生成者，前述固化劑使前述矽醇進行脫水縮合，前述膠態二氧化矽的膠體顆粒之平均粒徑為3nm以上50nm以下範圍，前述膠體顆粒分散於水中，其中，R¹ 為不含氨基的碳數為1以上15以下的有機基團，R² 為甲基或乙基，R¹ Si(OR² )₃ ...(1)。
如申請專利範圍第9項所述之多層膜之製造方法，其中，前述塗布組成物為於水中含有單體和低聚物中的至少任意一方之塗布液，前述單體及低聚物於分子中具有多數個聚合性雙鍵。