TWI494620B - An adhesive type optical film, a manufacturing method thereof, and an image display device - Google Patents

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TWI494620B
TWI494620B TW101146712A TW101146712A TWI494620B TW I494620 B TWI494620 B TW I494620B TW 101146712 A TW101146712 A TW 101146712A TW 101146712 A TW101146712 A TW 101146712A TW I494620 B TWI494620 B TW I494620B
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Atsushi Yasui
Yuusuke Toyama
Takaaki Ishii
Masakuni Fujita
Tomoyuki Kimura
Masayuki Satake
Shusuke Goto
Takeharu Kitagawa
Minoru Miyatake
Tomohiro Mori
Takashi Kamijo
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Nitto Denko Corp
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Description

黏著型光學薄膜、其製造方法及影像顯示裝置 發明領域
本發明係有關於一種黏著型光學薄膜及其製造方法。進而，本發明係有關於一種與使用前述黏著型光學薄膜之影像顯示裝置共同使用之構件，而該影像顯示裝置包括液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置、CRT、PDP等影像顯示裝置及前面板等。作為前述光學薄膜，可使用偏光板、相位差板、光學補償膜、亮度提升膜或抗反射膜等表面處理薄膜、以及積層有該等者。
在前述黏著型光學薄膜中，當作為光學薄膜使用偏光板之黏著型偏光板係設置在液晶顯示裝置及有機EL顯示裝置等影像顯示裝置之可視側時，尤其適合作為在液晶顯示裝置中設置在就液晶胞元而言為可視側之所謂的上側黏著型偏光板。適用於該液晶顯示裝置之上側黏著型偏光板係隔著黏著型偏光板之黏著劑層而黏貼於液晶胞元。
 發明背景
液晶顯示裝置及有機EL顯示裝置等從其影像形成方式看來，例如，在液晶顯示裝置中，不可欠缺地必需於液晶胞元之兩側配置偏光元件，一般係黏貼有偏光板。又，在液晶面板及有機EL面板等顯示面板除偏光板以外，為使提升顯示器之顯示品質，逐漸開始使用各種光學元件。又，為保護液晶顯示裝置或有機EL顯示裝置、CRT、PDP等影 像顯示裝置、或賦予高級感以使設計有所區別，會使用前面板。在共同使用在該等液晶顯示裝置及有機EL顯示裝置等影像顯示裝置或前面板等影像顯示裝置之構件部分，例如有：使用作為防止著色之相位差板、或用以改善液晶顯示器視角之視角擴大薄膜，還有用以提高顯示器之對比之亮度提升膜、用以賦予表面之耐擦傷性而使用之硬塗薄膜、用以防止對影像顯示裝置之映射之防眩處理薄膜、抗反射薄膜、及低反射薄膜等抗反射膜等之表面處理薄膜。該等薄膜總稱為光學薄膜。
上述液晶面板及有機EL面板等顯示面板在時鐘、行動電話PDA、筆記型電腦、電腦用監視器、DVD播放機與TV等中，係使用於液晶顯示裝置及有機EL顯示裝置等。在液晶面板中，從液晶顯示裝置之顯示機構作為光學薄膜係使用偏光板於液晶胞元之兩側(上側：可視側，及下側：可視側之相反側或背光側)。又，偏光板通常於偏光元件之一側或兩側設置有透明保護薄膜。近年，對於液晶面板及有機EL面板等顯示面板，有逐年升高有關亮度提升、高精細化、及低反射化等顯示特性之要求。又，就使用在液晶面板及有機EL面板等顯示面板之光學薄膜亦有連同提高對於外觀之要求。
將前述光學薄膜黏貼至液晶胞元及有機EL面板等顯示面板或前面板時，通常係使用黏著劑。又，光學薄膜與液晶胞元與有機EL面板等顯示面板、或前面板、或光學薄膜間之接著，通常，為使光之損失減低，係使用黏著劑來密 接各個材料。在上述情況下，由於具有不需要為了使光學薄膜固接而具備乾燥步驟等優點，因此，黏著劑一般係使用預先設置在光學薄膜之一側作為黏著劑層之黏著型光學薄膜。
前述黏著劑層從各種觀點看來，有提議控制黏著劑層之表面狀態。例如，有關設置在偏光板等之黏著劑層之厚度不一致，有提議藉由縮小標準偏差來提升在高溫及高溫多濕環境下之耐久性(專利文獻1)。又，有提議可藉由控制黏著劑層之表面粗糙度來抑制黏著劑層之不均勻以改善可視性(專利文獻2)。
先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：特開平9-90125號公報
專利文獻2：特開2008-302580號公報
 發明揭示
在上述專利文獻1、2中，有提議控制黏著劑層之表面狀態。但，在專利文獻1中，雖有揭示依據溶劑澆鑄法形成標準偏差小的黏著劑層，卻未記載具體的黏著劑層之形成方法，而無法實質地形成標準偏差小的黏著劑層。又，在專利文獻2中雖有揭示控制黏著劑層之表面粗糙度，卻沒有有關縮小控制黏著劑層之厚度不一致之記載。
又，習知，在上側偏光板中，係於就偏光元件而言之 可視側使用為使成為高霧度值而施加有防眩處理之透明保護薄膜。因此，即便在偏光板或黏著劑層有凹凸，由於有施加防眩處理之透明保護薄膜之霧度值很高，所以前述凹凸就作為不均勻現象尚未達及可視的狀態。
另一方面，近年就液晶顯示裝置而言，尤其TV、筆記型電腦、及電腦用監視器之液晶面板之最表面，開始重視亮度，即期待清晰且具有高級感者。就此種清晰系液晶顯示裝置而言，有將玻璃或壓克力板等前面板使用於液晶顯示裝置之最表面者，但前面板之採用會帶來成本提高或重量增加，故非理想。又，為獲得前述清晰系液晶顯示裝置，在上側偏光板中，就偏光元件而言為可視側之透明保護薄膜係未施加防眩處理、或使用為使成為低霧度值而施加有防眩處理之透明保護薄膜。但，在使用此種未防眩處理或低霧度值之施加有防眩處理之透明保護薄膜的情況下，因反射會使在使用習知之高霧度值之透明保護薄膜時為不可視之偏光板或黏著劑層之凹凸變成可視。
又，在前述液晶顯示裝置方面，有增加於可視側設置前面板或觸控板之機種。在此種構成中，為抑制因空氣層與前面板或觸控板之界面之反射所造成之可視性之降低，有在前面板或觸控板黏貼附有黏著劑層之表面處理薄膜。但，如上述，習知之黏著型光學薄膜因光學薄膜及黏著劑層之厚度不均所造成的表面凹凸很大。近年，在低霧度且清晰表面處理謂為主流當中，因黏著劑層與光學薄膜之凹凸而損害清晰的觀感已為問題，且在附有黏著劑層之表面 處理薄膜中，亦要求沒有凹凸的平滑黏著劑層。
本發明係具有光學薄膜及黏著劑層之黏著型光學薄膜，其目的在於提供一種可減低基於黏著劑層之可視性之不均勻問題的黏著型光學薄膜及其製造方法。
又，本發明之目的在於提供一種前述黏著型光學薄膜為具有偏光板及黏著劑層之黏著型偏光板時，具有清晰的高級感且可減低基於黏著型偏光板之可視性之不均勻問題的黏著型偏光板及其製造方法。
又，本發明之目的在於提供一種使用前述黏著型光學薄膜之影像顯示裝置。
本發明人等為解決前述課題而不斷重複精闢檢討的結果發現：藉由下述黏著型光學薄膜等可解決上述課題而完成本發明。
即，本發明係有關於一種黏著型光學薄膜，其係具有光學薄膜及設置在前述光學薄膜之黏著劑層者，其特徵在於，前述黏著劑層之厚度(μm)標準偏差值在0.12μm以下。
作為前述黏著型光學薄膜，例如有：前述光學薄膜係偏光板，其係於偏光元件之一側具有第一透明保護薄膜或於兩側具有第一及第二透明保護薄膜者(以下，黏著型光學薄膜之中將使用偏光板作為光學薄膜者稱為黏著型偏光板)，前述第一透明保護薄膜之霧度值在15%以下，前述黏著劑層係設置在不具有前述第一透明保護薄膜之側之偏光板者。
在前述黏著型偏光板中，前述第一透明保護薄膜之厚度在60μm以下為宜。
在前述黏著型偏光板中，前述偏光板於偏光元件之兩側具有第一及第二透明保護薄膜，第一及第二透明保護薄膜中至少一方之厚度在60μm以下為宜。
在前述黏著型偏光板中，前述偏光元件之厚度在10μm以下為宜。
在前述黏著型光學薄膜中，作為前述光學薄膜可使用相位差板。前述相位差板之厚度在60μm以下為宜。
在前述黏著型光學薄膜中，作為前述光學薄膜可適當使用霧度值在15%以下之光學薄膜。該光學薄膜係以作為黏貼至前面板或觸控板為目的之光學薄膜為理想。
前述霧度值在15%以下之光學薄膜以厚度在60μm以下為宜。又，可使用表面處理薄膜作為前述霧度值在15%以下之光學薄膜。
又，本發明係有關於一種黏著型光學薄膜之製造方法，該欲製造之黏著型光學薄膜係具有光學薄膜及設置在前述光學薄膜之黏著劑層者，前述黏著型光學薄膜之製造方法之特徵在於具有：步驟(1A)，以塗裝厚度X(μm)將黏度Y(P)之黏著劑塗裝液塗裝至前述光學薄膜之不具有前述第一透明保護薄膜之側；及步驟(2A)，使已塗裝之黏著劑塗裝液乾燥形成黏著劑層；且，前述黏著劑塗裝液之黏度Y及塗裝厚度X滿足0.8X-Y≦68。
又，本發明係有關於一種黏著型光學薄膜之製造方 法，該欲製造之黏著型光學薄膜係具有光學薄膜及設置在前述光學薄膜之黏著劑層者，前述黏著型光學薄膜之製造方法之特徵在於具有：步驟(1B)，以塗裝厚度X(μm)將黏度Y(P)之黏著劑塗裝液塗裝至脫模薄膜；步驟(2B)，使已塗裝之黏著劑塗裝液乾燥形成黏著劑層；及步驟(3)，使形成在脫模薄膜之黏著劑層黏貼至前述光學薄膜之不具有前述第一透明保護薄膜之側；且，前述黏著劑塗裝液之黏度Y及塗裝厚度X滿足0.8X-Y≦68。
在前述黏著型光學薄膜之製造方法中，前述黏著劑塗裝液之黏度Y(P)為2~160P，塗裝厚度X(μm)為20~250μm為宜。
又，本發明係有關於一種黏著型光學薄膜(以下稱為積層黏著型光學薄膜)，其係至少2片光學薄膜及至少2層黏著劑層彼此交互積層者，其特徵在於，前述黏著劑層中至少1層之厚度(μm)標準偏差值在0.12μm以下。
在前述積層黏著型光學薄膜中，至少2層黏著劑層之全部的厚度(μm)標準偏差值在0.12μm以下為宜。
又，作為前述積層黏著型光學薄膜，例如，前述光學薄膜之一者係於偏光元件之一側具有第一透明保護薄膜或於兩側具有第一及第二透明保護薄膜之偏光板(以下，積層黏著型光學薄膜中使用偏光板作為光學薄膜之一者稱為積層黏著型偏光板)，前述第一透明保護薄膜之霧度值在15%以下，前述黏著劑層係設置在不具有前述第一透明保護薄膜之側之偏光板者。
在前述積層黏著型偏光板中，前述第一透明保護薄膜之厚度在60μm以下為宜。
在前述積層黏著型偏光板中，前述偏光板於偏光元件之兩側具有第一及第二透明保護薄膜，第一及第二透明保護薄膜中至少一方之厚度在60μm以下為宜。
在前述積層黏著型偏光板中，前述偏光元件之厚度在10μm以下為宜。
在前述積層黏著型光學薄膜中，前述光學薄膜之一係偏光板，其係於偏光元件之一側具有第一透明保護薄膜或於兩側具有第一及第二透明保護薄膜者，前述第一透明保護薄膜之霧度值在15%以下，前述黏著劑層係設置在不具有前述第一透明保護薄膜之側之偏光板，可使用其他光學薄膜之至少1者為相位差板者。前述相位差板之厚度在60μm以下為宜。
又，本發明係有關於一種影像顯示裝置，其特徵在於具有至少1片前述黏著型光學薄膜(或積層黏著型光學薄膜)。
本發明係將前述黏著型光學薄膜(或積層黏著型光學薄膜)之黏著劑層之厚度(μm)標準偏差值控制在0.12μm以下，黏著劑層之厚度之凹凸不一致非常小且有良好的平滑性。黏著型光學薄膜之表面凹凸係起因於黏著劑層與光學薄膜之厚度不一致，依據本發明之黏著型光學薄膜，可減低基於光學薄膜及黏著劑層之凹凸不均勻。
在本發明中發現黏著劑層之厚度之凹凸不一致係以乾燥時之黏著劑塗裝液之流動為原因，並且，係以提高黏著劑塗裝液之黏度Y、及藉由減薄黏著劑塗裝液之塗裝厚度X來縮小黏著劑塗裝液之流動，還有以該等滿足預定關係的方式形成黏著劑層，而將黏著劑層之厚度之凹凸不一致控制在極小的範圍內。
又，若前述黏著型光學薄膜(或積層黏著型光學薄膜)為黏著型偏光板(或積層黏著型偏光板)，該黏著型偏光板(或積層黏著型偏光板)作為可能成為液晶顯示裝置及有機EL顯示裝置等影像顯示裝置之最表面之透明保護薄膜(在液晶顯示裝置中上側偏光板之最表面之透明保護薄膜)而使用霧度值在15%以下之透明保護薄膜時，可提供一種即便未使用前面板亦相當清晰且具有高級感的液晶顯示裝置及有機EL顯示裝置等影像顯示裝置。又，在黏著型偏光板之黏著劑層係將其厚度(μm)標準偏差值控制在0.12μm以下，黏著劑層之厚度之凹凸不一致非常小且有良好的平滑性。因此，依據本發明之黏著型偏光板，不會觀察到基於黏著型偏光板之凹凸不均勻，且可將清晰與高級感賦予至液晶顯示裝置等影像顯示裝置。
又，在前述黏著型光學薄膜中，使用霧度15%以下之光學薄膜(例如，表面處理薄膜)作為光學薄膜時，係藉由將此黏貼至前面板而賦予前面板之清晰與高級感，並且，可將標準偏差值控制在0.12μm以下而不會從黏著劑層觀察到凹凸之不均勻，並可將清晰與高級感賦予至液晶顯示裝置 及有機EL顯示裝置等影像顯示裝置。
圖式簡單說明
第1圖係顯示本發明之黏著型光學薄膜之一例之剖面圖。
第2圖係顯示本發明之黏著型光學薄膜之一例之剖面圖。
第3圖係顯示本發明之黏著型光學薄膜之一例之剖面圖。
第4圖係顯示本發明之積層黏著型光學薄膜之一例之剖面圖。
第5圖係顯示本發明之積層黏著型光學薄膜之一例之剖面圖。
第6圖係顯示本發明之積層黏著型光學薄膜之一例之剖面圖。
第7圖係顯示本發明之積層黏著型光學薄膜之一例之剖面圖。
第8圖係顯示本發明之黏著型光學薄膜之使用態樣之一例之剖面圖。
第9圖係顯示本發明之黏著型光學薄膜之使用態樣之一例之剖面圖。
第10圖係顯示本發明之黏著型光學薄膜之使用態樣之一例之剖面圖。
第11圖係薄型高功能偏光膜之製造步驟之概略圖。
第12圖係薄型高功能偏光膜之製造方法與包含乾式延 伸之製造方法之製造步驟之示意圖。
第13圖係薄型高功能偏光膜之參考製造例及參考比較例之光學特性值之比較表。
第14圖係薄型高功能偏光膜之參考製造例及參考比較例之各T/P值之表。
第15圖係依據薄型高功能偏光膜之參考製造例及參考比較例之各T/P值之T-P圖表。
第16圖係薄型高功能偏光膜之T-P圖表之示意圖。
 用以實施發明之形態
以下參考圖式說明本發明之黏著型光學薄膜。如第1圖顯示，黏著型光學薄膜具有光學薄膜1及設置在前述光學薄膜1之黏著劑層2。前述黏著劑層2之厚度(μm)標準偏差值在0.12μm以下。就光學薄膜1而言，可使用偏光板、相位差板、光學補償膜、亮度提升膜或抗反射膜等之表面處理薄膜等各種光學薄膜。在第2圖至第10圖中，舉例顯示各種光學薄膜之態樣。
第2圖及第3圖係本發明之黏著型光學薄膜為黏著型偏光板之態樣。該黏著型偏光板具有屬光學薄膜1之偏光板A1或A2、及設置在該偏光板A1或A2之黏著劑層2。該黏著型偏光板在液晶顯示裝置中係隔著黏著劑層2配置在就液晶胞元而言之可視側。偏光板A1或A2具有偏光元件a，及於偏光元件a之單側具有第一透明保護薄膜b1或於兩側具有第一透明保護薄膜b1及第二透明保護薄膜b2。第2圖之偏光 板A1係僅於偏光元件a之單側具有第一透明保護薄膜b1之態樣，第3圖之偏光板A2係於偏光元件a之兩側具有第一透明保護薄膜b1及第二透明保護薄膜b2之態樣。又，該偏光板A1或A2至少具有第一透明保護薄膜b1，第一透明保護薄膜b1之側在液晶顯示裝置及有機EL顯示裝置等影像顯示裝置中為最表面。第2圖及第3圖中之前述黏著劑層2係設置在前述偏光板A1或A2中不具有第一透明保護薄膜b1之側。即，如第2圖，當僅於偏光元件a之一側具有第一透明保護薄膜b1時，黏著劑層2設置於偏光元件a，當於偏光元件a之兩側具有第一透明保護薄膜b1及第二透明保護薄膜b2時，黏著劑層2設置於第二透明保護薄膜b2。
第4圖至第7圖顯示至少2片光學薄膜1及至少2層黏著劑層2彼此交互積層之積層黏著型光學薄膜。在第4圖至第7圖中，係於第2圖或第3圖之黏著型偏光板中之黏著劑層2積層相位差板B作為光學薄膜1，並於該相位差板B設置有黏著劑層2。在第4圖中，於第2圖之偏光板A1中之第二透明保護薄膜b2依序設置有第一黏著劑層21、第一相位差板B1、與第二黏著劑層22。在第6圖中，進一步於第二黏著劑層22依序設置有第二相位差板B2、與第三黏著劑層23。在第5圖中，於第3圖之偏光板A2中之偏光元件a依序設置有第一黏著劑層21、第一相位差板B1、與第二黏著劑層22。在第6圖中，另於第二黏著劑層22依序設置有第二相位差板B2、與第三黏著劑層23。而，在積層黏著型光學薄膜中，黏著劑層2係其中至少1者之厚度(μm)標準偏差值在0.12μm以 下。理想為全部的黏著劑層2之厚度(μm)標準偏差值在0.12μm以下。
第8圖至第10圖顯示作為本發明之黏著型光學薄膜中之光學薄膜1使用表面處理薄膜C之黏著型表面處理薄膜之使用態樣。而，表面處理薄膜C於基材薄膜之單側有施加表面處理。在黏著型表面處理薄膜中，黏著劑層2係設置在未施加表面處理之側之基材薄膜。第8圖係將黏著型表面處理薄膜之黏著劑層2黏貼至前面板F之態樣。第9圖係在第8圖之態樣中還將前面板F設置於觸控板T之態樣。第10圖係將黏著型表面處理薄膜之黏著劑層2黏貼至觸控板T之態樣。在第10圖中，還於觸控板T設置有前面板F。第8圖至第10圖中記載之適用黏著型表面處理薄膜C之前面板F或觸控板T等，表面處理薄膜C皆位在一側之表面。適用黏著型表面處理薄膜C之前面板F或觸控板T等係設置在就液晶顯示裝置及有機EL顯示裝置等影像顯示裝置而言之可視側，然其適用亦可將表面處理薄膜C之側設置在影像顯示裝置之側，亦可設置為相對於影像顯示裝置之相反側之最表層。
本發明之適用於偏光板之偏光元件並未有特別限定，可使用各種物品。作為偏光元件，例如有於聚乙烯醇系薄膜、部分甲醛化聚乙烯醇系薄膜、乙烯‧乙酸乙酯共聚物系部分皂化薄膜等親水性高分子薄膜上吸附碘或二向色染料之二向色物質並單軸延伸者，或有聚乙烯醇之脫水處理物及聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等多烯系定向薄膜等。該等之中，以由聚乙烯醇系薄膜及碘等二向色物質所構成之偏 光元件為適當。該等偏光元件之厚度並未有特別限制，一般係在80μm左右以下。該厚度以10~50μm為佳，以15~30μm更佳。
以碘染色聚乙烯醇系薄膜單軸延伸之偏光元件，例如可藉由將聚乙烯醇浸泡在碘水溶液中而染色，且藉由延伸至原長度之3~7倍而製作。視情況，亦可浸泡在硼酸、或可包含硫酸鋅與氯化鋅等之碘化鉀等水溶液中。此外，視情況亦可於染色前將聚乙烯醇系薄膜浸泡於水中進行水洗。藉由水洗聚乙烯醇系薄膜可洗淨聚乙烯醇系薄膜表面之污垢或抗結塊劑，亦有藉由使聚乙烯醇系薄膜膨潤來防止染色不均等之不均勻現象之效果。延伸亦可在以碘染色後進行，或可邊染色邊延伸，又可延伸後再以碘染色。亦可在硼酸或碘化鉀等水溶液或水浴中延伸。
又，作為偏光元件可使用厚度在10μm以下之薄型偏光元件。從薄型化之觀點說來，該厚度以1~7μm為佳。此種薄型偏光元件少有厚度不均現象且具有良好的可視性，又，由於少有尺寸變化故有良好的耐久性，此外，作為偏光板之厚度亦因可圖謀薄型化之觀點而相當適宜。
就薄型偏光元件而言，代表上例如有特開昭51-069644號公報或特開2000-338329號公報、及WO2010/100917號小冊子、PCT/JP2010/001460之說明書、或特願2010-269002號說明書或特願2010-263692號說明書中所記載之薄型偏光膜。該等薄型偏光膜可藉由包含以積層體之狀態延伸聚乙烯醇系樹脂(以下亦稱為PVA系樹脂)層與延伸用樹脂基 材之步驟及染色之步驟之製法而製得。只要使用該製法，即便PVA系樹脂層再薄，亦可藉由受延伸用樹脂基材所支撐而在沒有因延伸所造成之破裂等問題的情況下延伸。
就前述薄型偏光膜而言，在包含以積層體之狀態進行延伸之步驟及染色之步驟之製法中，在可高倍率延伸並提升偏光性能之觀點上，以如WO2010/100917號小冊子、PCT/JP2010/001460之說明書、或特願2010-269002號說明書及特願2010-263692號說明書中記載包含以在某硼酸水溶液中進行延伸之步驟之製法而製得者為佳，尤其，以特願2010-269002號說明書或特願2010-263692號說明書中記載包含藉由在某硼酸水溶液中進行延伸之前，以輔助性的方式進行空中延伸之步驟之製法而製得者為佳。
上述PCT/JP2010/001460之說明書中記載之薄型高功能偏光膜，係由一體製膜於樹脂基材並使二向色物質定向之PVA系樹脂所構成且厚度在7μm以下之薄型高功能偏光膜，具有單體穿透率在42.0%以上及偏光度在99.95%以上之光學特性。
就上述薄型偏光元件而言，適合使用PCT/JP2010/001460之說明書中記載之薄型高功能偏光膜。
上述薄型高功能偏光膜係由一體製膜於樹脂基材並使二向色物質定向之聚乙烯醇系樹脂(以下亦稱為PVA系樹脂)所構成且厚度在7μm以下之薄型高功能偏光膜，具有單體穿透率在42.0%以上及偏光度在99.95%以上之光學特性。前述厚度以2~6μm為佳。
上述薄型高功能偏光膜可藉由下列方法製造，即：藉由將聚乙烯醇系樹脂塗佈於具有至少20μm厚度之樹脂基材及使其乾燥而生成聚乙烯醇系樹脂層，再將所生成之聚乙烯醇系樹脂層浸泡於二向色物質之染色液中使聚乙烯醇系樹脂層吸附二向色物質，然後使已吸附二向色物質之聚乙烯醇系樹脂層，在硼酸水溶液中與樹脂基材成一體將總延伸倍率延伸為原長度之5倍以上。
又，一種製造包含已使二向色物質定向之薄型高功能偏光膜之積層體薄膜之方法，其係藉由包含下列步驟而可製造上述薄型高功能偏光膜，即包含：生成步驟、吸附步驟、延伸步驟、製造步驟。該生成步驟係生成包含至少具有20μm厚度之樹脂基材及聚乙烯醇系樹脂層之積層體薄膜者，前述聚乙烯醇系樹脂層係藉由將包含聚乙烯醇系樹脂之水溶液塗佈至樹脂基材之一面及使其乾燥所形成；該吸附步驟係藉由將包含樹脂基材與形成於樹脂基材之一面之聚乙烯醇系樹脂層的前述積層體薄膜，浸泡於包含二向色物質之染色液中，使二向色物質吸附於積層體薄膜中所含之聚乙烯醇系樹脂層；該延伸步驟係使包含已吸附二向色物質之聚乙烯醇系樹脂層之前述積層體薄膜，在硼酸水溶液中延伸成總延伸倍率為原長度之5倍以上；該製造步驟係藉由使已吸附二向色物質之聚乙烯醇系樹脂層與樹脂基材成一體進行延伸，來製造使薄型高功能偏光膜製膜於樹脂基材之一面之積層體薄膜。前述薄型高功能偏光膜係由已使二向色物質定向之聚乙烯醇系樹脂層所構成，厚度在 7μm以下並具有單體穿透率在42.0%以上且偏光度在99.95%以上之光學特性者。
就發明技術而言，需有有關光學特性之整理。可用於大型顯示元件之偏光膜之光學特性明顯地可以偏光度P與單體穿透率T顯示。偏光膜之性能一般係以將取捨關係之偏光度P與單體穿透率T之兩光學特性值加以製圖之T-P圖表表示。
請參考第16圖之示意圖。T=50%且P=100%為理想特性。T值愈低愈容易提高P值，T值愈高愈難提高P值。因此，在薄型偏光膜中尚未實現之偏光度P在99.95%以上且單體穿透率T在42.0%以上的特性，於現今或未來乃作為大型顯示元件等偏光膜性能所謀求之光學特性。在此，理想特性雖為T=50%且P=100%，但當光穿透偏光膜時，會產生一部分的光在偏光膜與空氣之界面反射之現象。若考慮到該反射現象，反射之量乃穿透率之減少，因此現實上可達成之T值之最大值為45~46%左右。
偏光度P可表示偏光膜或顯示器之對比比率(CR)。99.95%之偏光度P在偏光膜之CR中相當於2000：1，將此使用於一般市售之液晶電視用胞元時之顯示器之CR中相當於1050：1。兩CR皆是具有愈大的顯示對比愈佳且容易觀看。如後述，偏光膜之CR係以正交穿透率除以平行穿透率之值。顯示器之CR係以最小亮度除以最大亮度之值。最小亮度為黑顯示時之亮度，在預定一般視聽環境之液晶電視中，必須在0.5cd/m2 以下。若超過該值之值，顏色重現性會 降低。又，最大亮度為白顯示時之亮度，在預定一般視聽環境之液晶電視中係在450~550cd/m2 之範圍內使用。若低於該值，可視性會降低。
從以上看來，一般而言液晶電視必須有1000：1以上之CR。另一方面，若考慮到液晶胞元中之偏光消除，在偏光膜必須有2000：1以上之CR。該比值相當於99.95%以上之偏光度P。
又，作為液晶電視用偏光膜，一般係使用單體穿透率T在42.0%以上者。一旦偏光膜之單體穿透率T低於42.0%，顯示器之亮度L會下降。例如，與使用T=42.0%之偏光膜之顯示器亮度L=100的情況相比之下，T=40.0%之偏光膜之顯示器亮度為L=90。此表示，為了確保T=42.0%之顯示器亮度L=100，必須將使用T=40.0%之偏光膜之顯示器之光源或使用時之點燈能量增加10%。若考慮到用於顯示元件之光源，為使作為偏光膜之單體穿透率T相當於42.0%之顯示器，必需藉由將光源本身加以高亮度化來提高顯示器亮度L。
依據上述薄型高功能偏光膜及其製造方法，可提供一種高光學特性之薄偏光膜。
迄今之薄型偏光膜之製法都必須在烘箱等加熱裝置中使用延伸機以乾式進行延伸。以乾式進行延伸會使樹脂基材及形成於其之PVA系樹脂層之結晶化進展，而難以將積層體本身延伸成原長度之5倍以上。該結晶化現象在製造以乾式進行單層體延伸之厚型偏光膜的情況亦同。因PVA系 樹脂層之結晶化與延伸倍率之極限，無法充分使二向色物質定向。此為第1技術性課題。
想當然爾，至今尚未開發可匹敵於以濕式進行延伸之厚型偏光膜之光學特性之薄型偏光膜。PVA系樹脂為親水性高分子組成物，易溶於水。故有下列課題，即：如何使薄PVA系樹脂層不會在水溶液中溶化，或如何使藉由高倍率之延伸所吸附之二向色物質高階定向，而就其結果而言如何實現高光學特性之薄型偏光膜。
可在低溫(65℃以下)之硼酸水溶液中，使已藉由塗佈及乾燥PVA系樹脂之水溶液形成於樹脂基材之薄PVA系樹脂層，與樹脂基材成一體進行高倍率(5倍以上)延伸。較詳細而言，係在低溫(65℃以下)之硼酸水溶液中，藉由交聯作用使形成於樹脂基材之薄PVA系樹脂層成不溶解化，並藉此以5倍以上之倍率使不溶解化之薄PVA系樹脂層與樹脂基材成一體進行延伸。
此外，須特別註記者為，因水分子作為塑化劑之作用，使得在較樹脂基材本身的玻璃轉移溫度更低之硼酸水溶液中，亦可使薄PVA系樹脂層與樹脂基材成一體進行高倍率延伸之驚人發現。藉此，如第14圖或第15圖之薄型高功能偏光膜之參考製造例1及2可見，可獲得可使用於藉由抑制PVA系樹脂之結晶化的高倍率延伸而充分吸附及定向二向色物質之大型顯示元件之高光學特性的薄型偏光膜，即所謂的薄型高功能偏光膜。有關薄型高功能偏光膜及用於其製造方法之步驟及作用於以下說明。
(a)低溫(65℃以下)之硼酸水溶液中之延伸作用
為了在水溶液中使厚度為十數μm以下之薄PVA系樹脂薄膜高倍率延伸，即便形成於厚度在20μm以上之樹脂基材，亦必需對PVA系樹脂薄膜本身賦予可忍受延伸時所附加之張力且不會在延伸中溶解於水之耐水性。即，必須為不溶解化之PVA系樹脂薄膜。
如下式顯示，硼酸可在水溶液中生成四羥硼酸鹽陰離子。
H3 BO3 +H2 O←→H+ +[B(OH)4 ]-
可推測該四羥硼酸鹽陰離子與乙烯醇系聚合物之羥基氫鍵結，使乙烯醇系聚合物交聯。作為該交聯狀態，如化學式(1)之狀態可作為推定模式之一(化學式(1)之點線之鍵結為交聯)。藉由該交聯，乙烯醇系聚合物不溶解化。
只要在硼酸水溶液中延伸PVA系樹脂，就可使PVA系樹脂層不溶解化，因此可以5倍以上之高倍率進行延伸。
(b)高倍率之延伸作用
依據第12圖之薄型高功能偏光膜之參考比較例1及2中提出以乾式將薄PVA系樹脂與樹脂基材成一體進行延伸之習知製法，難以獲得具有例如單體穿透率在42.0%以上且偏 光度在99.95%以上之光學特性之薄型偏光膜。其主要原因在於使用稱為「乾式延伸」之延伸方法。乾式延伸難以於比延伸對象之樹脂基材之玻璃轉移溫度更低之溫度進行延伸。通常延伸對象之樹脂基材會破裂。即便成功將其延伸亦無法均勻延伸。因此，乾式延伸一般係以高於延伸對象之樹脂基材之玻璃轉移溫度之溫度進行延伸。以65℃以下之低溫進行延伸時，必然是選擇玻璃轉移溫度在65℃以下之延伸對象之樹脂基材。
玻璃轉移溫度與延伸溫度之關係在PVA系樹脂層亦相同。一般的PVA系樹脂之玻璃轉移溫度為80℃左右，乾式延伸時難以在較該溫度更低之低溫進行均勻且高倍率延伸。又，在無關於溫度進行乾式延伸時，因延伸使PVA系樹脂之結晶化進展，包括延伸對象之樹脂基材將難以使總延伸倍率設為原長度之5倍以上。且，推斷係因為於PVA系樹脂形成如層狀結構或球晶等無法對定向有所貢獻之高階結構(大型結構)，而變成無法充分吸附二向色物質及定向為高階者。上述情況被認為是習知製法之薄型偏光膜之光學特性低之主要原因。
假設第12圖中顯示之薄型高功能偏光膜之製造方法。例如，在65℃以下之硼酸水溶液中，將形成在樹脂基材之薄PVA系樹脂加以延伸。樹脂基材係具有65℃以上之玻璃轉移溫度之組成物，理想為由非晶質的酯系或烯烴系之熱可塑性樹脂所構成之樹脂基材。即使樹脂基材之玻璃轉移溫度在65℃以上，亦可藉由水分子之作為塑化劑之功能使 其樹脂基材在65℃以下亦可延伸。水分子對於PVA系樹脂亦可作用為塑化劑。因此，可在65℃以下之硼酸水溶液中使薄PVA系樹脂與樹脂基材成一體進行延伸。
藉此，可防止PVA系樹脂之結晶化，並將薄PVA系樹脂延伸成5倍以上之高倍率。因而達到薄PVA系樹脂之非晶質部分之定向性提高之推論。又，藉由進行高倍率延伸，使存於PVA系樹脂中之聚碘離子錯合物等二向色物質呈高階單一方向排列。其結果，可獲得高光學特性之薄型偏光膜，即所謂的薄型高功能偏光膜。
薄型高功能偏光膜之實施態樣如下。
薄型高功能偏光膜之第1態樣係有關於一種薄型高功能偏光膜，該薄型高功能偏光膜係由一體製膜於樹脂基材並使二向色物質定向之PVA系樹脂所構成且厚度7μm以下者，其具有單體穿透率在42.0%以上及偏光度在99.95%以上之光學特性。謹請參考第13圖之表。藉此，成功地開發出可達成顯示元件之薄型化、顯示不均之消除、及能量消費量之減低，並接近至今都被認為難以達成之第16圖之T-P圖表中所表現之理想特性的薄型高功能偏光膜。該者係可匹敵於以厚型偏光膜所實現之光學特性者。
在第1實施態樣中，樹脂基材係吸水率在0.50%以上且玻璃轉移溫度在25℃至85℃範圍內之酯系或烯烴系之熱可塑性樹脂，就具體例而言，係酯系樹脂薄膜之非晶質聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(非晶聚對苯二甲酸乙二酯薄膜、A-PET薄膜)。又，為使成為保護薄型高功能偏光膜之一面 之光學功能薄膜，樹脂基材宜為透明樹脂。此外，已吸附及定向於薄型高功能偏光膜之二向色物質可為碘、有機染料或該等之混合物其中一者。
薄型高功能偏光膜之第2態樣係有關於一種製造薄型高功能偏光膜之方法，該薄型高功能偏光膜係由使二向色物質定向於樹脂基材之PVA系樹脂所構成且厚度7μm以下者，其具有單體穿透率在42.0%以上且偏光度在99.95%以上之光學特性。具體而言，首先，包含藉由PVA系樹脂水溶液塗佈及乾燥於至少具有20μm厚度之樹脂基材生成PVA系樹脂層之步驟。第2態樣之樹脂基材亦同於第1實施態樣，為吸水率在0.50%以上且玻璃轉移溫度在25℃至85℃範圍內之酯系或烯烴系之熱可塑性樹脂，又，為使成為保護薄型高功能偏光膜之一面之光學功能薄膜，宜為透明樹脂。
接下來，包含將所生成之PVA系樹脂層浸泡至二向色物質之染色液中使二向色物質吸附於PVA系樹脂層之步驟。二向色物質同於第1實施態樣，可為碘、有機染料或該等之混合物其中一者。又，在染色液中，二向色物質係藉由在0.1wt%以上且4.5wt%以下之水溶液中浸泡5~60秒鐘而吸附於PVA系樹脂層內。使用碘作為二向色物質時，由於可促進碘之溶解並進一步提升染色效率，因此以再添加碘化物較佳。
而，在染色步驟中，親水性PVA系樹脂溶出至水溶液中之影響，在製造厚型偏光膜的情況下不成問題，但在薄型偏光膜之製造中卻為無法忽視之技術性課題之一。問題 在於防止PVA系樹脂溶出至染色中之水溶液內。染色步驟只要在短時間內即不成問題，但視情況亦可能會影響偏光膜之完成。將已生成於樹脂基材之PVA系樹脂層浸泡於染色液之前，預先對PVA系樹脂層施加不溶解化處理將有所助益，作為其方法，可藉由浸泡於常溫的硼酸水溶液中來達成PVA系樹脂層之不溶解化。
還包含在硼酸水溶液中使已吸附二向色物質之PVA系樹脂層與樹脂基材成一體進行延伸之步驟。在水溶液中，由於在延伸中變薄之PVA系樹脂層會溶出，因此難以將PVA系樹脂層延伸成使總延伸倍率成為原長度之5倍以上，即，難以延伸成PVA系樹脂層之原長度之5倍以上的長度。故而在可同時達成硼酸之交聯效果與不溶解化之硼酸水溶液中，可實現已吸附二向色物質之PVA系樹脂層之高倍率延伸而提高定向性能。
如上述指出，在薄型偏光膜之製造中，在「乾式延伸」中無法將總延伸倍率設為原長度之5倍以上。又，從在延伸中防止PVA系樹脂層之結晶化之觀點看來，因選擇即便在低於樹脂基材本身之玻璃轉移溫度的溫度下亦可達成高倍率延伸之樹脂基材，宜使用65℃以下低溫度之硼酸水溶液。
如第13圖之表顯示，經過上述步驟，可於樹脂基材製膜薄型高功能偏光膜，該薄型高功能偏光膜係由已定向二向色物質之PVA系樹脂所構成，厚度在7μm以下並具有單體穿透率在42.0%以上且偏光度在99.95%以上之光學特性。
亦可在與樹脂基材成一體製造之薄型高功能偏光膜中 未製膜於樹脂基材之面，隔著接著劑將其他樹脂膜予以積層，並同時，從薄型高功能偏光膜剝離樹脂基材，藉以將薄型高功能偏光膜轉印至其他樹脂膜。藉由對已轉印之樹脂膜使用光學功能薄膜，可於所製造之薄型高功能偏光膜之單面形成光學功能薄膜。又，亦可隔著接著劑於已於一面形成有光學功能薄膜之薄型高功能偏光膜之另一面，積層第2光學功能薄膜。藉此，可製造於兩面皆形成有光學功能薄膜之薄型高功能偏光膜。
薄型高功能偏光膜之第3態樣係有關於製造積層體薄膜之方法，該積層體薄膜包含已定向二向色物質之薄型高功能偏光膜。具體而言，係有關於一種製造使薄型高功能偏光膜製膜於樹脂基材之一面之積層體薄膜的方法者，該薄型高功能偏光膜係由已定向二向色物質之PVA系樹脂層所構成，厚度在7μm以下並具有單體穿透率在42.0%以上且偏光度在99.95%以上之光學特性，其製造方法包含下述步驟。
包含生成積層體薄膜之步驟，該積層體薄膜至少具有20μm厚度之樹脂基材、及藉由將包含PVA系樹脂之水溶液塗佈及乾燥於樹脂基材之一面所形成之PVA系樹脂層。第3態樣之樹脂基材亦同於第1及第2實施態樣，係吸水率在0.50%以上且玻璃轉移溫度在25℃至85℃範圍內之酯系或烯烴系之熱可塑性樹脂，又，為使成為保護薄型高功能偏光膜之一面之光學功能薄膜，宜為透明樹脂。
包含藉由將含有樹脂基材與已形成在樹脂基材單面之 PVA系樹脂層的積層體薄膜，浸泡至含二向色物質之染色液中，使二向色物質吸附於積層體薄膜中所含PVA系樹脂層之步驟。二向色物質同於第1及第2實施態樣，可為碘、有機染料或該等之混合物其中一者。又，在染色液中亦同於第2實施態樣，二向色物質可藉由以0.1wt%以上且4.5wt%以下之水溶液浸泡5~60秒鐘而吸附於PVA系樹脂層內。使用碘作為二向色物質時，由於可促進碘之溶解並進一步提升染色效率，因此以再添加碘化物較佳。又，將含於積層體薄膜中之PVA系樹脂層浸泡於包含二向色物質之染色液中之前，預先將積層體薄膜浸泡於常溫的硼酸水溶液中，藉以對PVA系樹脂層施加不溶解化處理較佳。
還包含在硼酸水溶液中使含已吸附二向色物質之PVA系樹脂層之前述積層體薄膜進行延伸之步驟。如第2實施態樣中相關指出，在水溶液中，由於在延伸中連同樹脂基材變薄的PVA系樹脂層會溶出，因此難以將含於積層體薄膜中之PVA系樹脂層延伸成總延伸倍率為原長度之5倍以上，即，難以延伸成PVA系樹脂層之原長度之5倍以上的長度。故而在可同時達成硼酸之交聯效果及不溶解化之硼酸水溶液中，可藉由已吸附二向色物質之PVA系樹脂層與樹脂基材成一體進行高倍率延伸，而提高二向色物質之定向性能。
又，從於積層體薄膜之延伸中防止PVA系樹脂層之結晶化之觀點看來，因選擇即便在比含於積層體薄膜中之樹脂基材本身之玻璃轉移溫度低的溫度下亦可達成高倍率延 伸之樹脂基材，較宜在65℃以下低溫度之硼酸水溶液中將積層體薄膜予以延伸。
如第13圖之表顯示，經過上述步驟，可製造已將薄型高功能偏光膜製膜於樹脂基材之一面之積層體薄膜，該薄型高功能偏光膜係由已定向二向色物質之PVA系樹脂層所構成，厚度在7μm以下並具有單體穿透率在42.0%以上且偏光度在99.95%以上之光學特性。
亦可包含以水溶液洗淨已製造之包含由已定向二向色物質之PVA系樹脂所構成的薄型高功能偏光膜之積層體薄膜的步驟。該水溶液包含比含於積層體薄膜中之樹脂基材之玻璃轉移溫度低之溫度的碘化物鹽。此外還可包含以50℃以上且100℃以下之溫度將已洗淨之積層體薄膜予以乾燥之步驟。
此外，還可藉由在已乾燥之積層體薄膜中所含樹脂基材薄膜之單面上已製膜之薄型高功能偏光膜之另一面，隔著接著劑將光學功能薄膜予以積層之步驟，製造於兩面皆形成有光學功能薄膜之薄型高功能偏光膜。或，亦可 在已乾燥之積層體薄膜中所含薄型高功能偏光膜中未製膜於樹脂基材之面，隔著接著劑將其他樹脂膜予以積層，並同時，從薄型高功能偏光膜剝離樹脂基材，藉以將薄型高功能偏光膜轉印至其他樹脂膜，製造形成有由已轉印至一面之樹脂膜所構成之光學功能薄膜之薄型高功能偏光膜。
[薄型高功能偏光膜之製造步驟概要]
令依據參考製造例1，說明薄型高功能偏光膜10之製造。如第11圖顯示，樹脂基材11係使用例如玻璃轉移溫度為80℃之非晶質聚對苯二甲酸乙二酯薄膜。樹脂基材11可支撐薄型高功能偏光膜10之一面。延伸前之樹脂基材11之厚度理想在20μm~500μm之範圍內即可。為防止二向色物質14’造成之染色，樹脂基材11可使用不溶於水且不膨潤之疏水性樹脂。具體而言，係指於分子結構中不具有羧基、磺酸基、第4胺基等解離基；或如羥基、醯胺基等非離子性親水基之樹脂。
例如，樹脂基材11為酯系樹脂薄膜或烯烴系樹脂薄膜，理想為非晶質聚對苯二甲酸乙二酯薄膜。已結晶化之聚對苯二甲酸乙二酯薄膜一般有高彈性率，因此難以進行低溫下之延伸。另一方面，非晶質聚對苯二甲酸乙二酯薄膜在低溫下仍可進行延伸。為使提升與PVA系樹脂層12之密接性，亦可對該等表面施加包含電暈處理之表面改質處理。又，亦可設置接著層。而，樹脂基材11之吸水率(JIS K 7209)理想在0.3%以上，更理想在0.5%以上。樹脂基材之玻璃轉移溫度(JIS K 7121 DSC法)理想在85℃以下，更理想在25℃~85℃。只要為此種物性之樹脂薄膜，在65℃以下之硼酸水溶液中亦可進行高倍率延伸。
由樹脂基材11及PVA系樹脂層12所構成之積層體薄膜13係以步驟(A)製作。
製作步驟(A)首先準備由厚度100μm之樹脂基材11所構成之薄膜卷。接下來，準備相對於溶劑100重量份為3~10 重量份之PVA系樹脂之水溶液。藉由上述準備從薄膜卷連續放出樹脂基材11，並於樹脂基材上塗佈PVA系樹脂之水溶液，再在60℃之烘箱內進行乾燥，並同步於樹脂基材11製膜厚度10μm之PVA系樹脂層12。捲取如此所製作之積層體薄膜13之連續波亦可。接下來，依以下連續步驟處理積層體薄膜13。
首先為染色步驟(B)。此是將積層體薄膜13浸泡於染色液14中使二向色物質14’吸附至PVA系樹脂層12之步驟。染色液14之溶劑一般是使用水。二向色物質14’通常係相對於以水為主要成分之溶劑100重量份，使用0.1~4.3重量份(0.1~4.5wt%)之比率。就二向色物質14’而言，例如有：碘、有機染料、及該等之混合物等。該等二向色物質可使用一種類，亦可併用二種類以上使用。
使用碘作為二向色物質14’時，由於可促進碘之溶解並進一步提升染色效率，以再添加碘化物為宜。碘化物係以相對於溶劑100重量份，使用0.02~20重量份為理想，更理想係使用0.1~10重量份之比率。就碘化物之具體例而言，例如有：碘化鉀、碘化鋰、碘化鈉、碘化鋅、碘化鋁、碘化鉛、碘化鋼、碘化鋇、碘化鈣、碘化錫、及碘化鈦等。該等中，又以添加碘化鉀為宜。於染色液14中之浸泡時間並未有特別限定，通常在5秒鐘~5分鐘左右。染色液14之溫度通常在20~50℃左右。
在染色步驟(B)中，將積層體薄膜13浸泡於液溫在30℃且包含碘及碘化鉀之染色液14中30秒鐘。藉此，可使碘吸 附於PVA系層12。染色液14之碘含量係相對於水100重量份設在0.1重量份，碘化鉀含量係相對於水100重量份設在0.7重量份。
接下來係與交聯步驟(C)成一體之延伸步驟(D)。交聯步驟(C)係將積層體薄膜13浸泡於硼酸水溶液15中，交聯已吸附二向色物質14’之PVA系樹脂層12之步驟。該交聯步驟(C)亦是使已膨潤化之PVA系樹脂不會溶解於水中之不溶解化步驟。
硼酸水溶液15係將硼酸或硼酸鹽溶解至溶劑之液中而製得。除硼酸或硼酸鹽以外，可使用硼砂等硼化合物及乙二醛、戊二醛等。硼酸濃度相對於水100重量份通常係以1~10重量份之比率使用。若以抑制已吸附於PVA系樹脂層12之碘之溶出之目的為出發點，宜於硼酸水溶液15中添加碘化物。碘化物之濃度理想為0.05~15重量%，更理想為0.5~8重量%。碘化物之具體例與染色步驟(A)之情況相同。於硼酸水溶液15中之浸泡時間並未有特別限定，通常在15秒鐘~5分鐘左右。硼酸水溶液15之溫度通常在20~70℃左右。
已吸附碘之PVA系樹脂層12係在液溫為60℃且包含碘化鉀之硼酸水溶液15中進行交聯，並藉由具有圓周速率相異之多數組捲輥之捲輥延伸機16與樹脂基材11成一體延伸。此是與交聯步驟(C)成一體之延伸步驟(D)。延伸步驟(D)中，積層體薄膜13係往縱向單軸延伸至延伸倍率5.0倍為止。此時之硼酸水溶液15之硼酸含量係相對於水100重量份 設為4重量份，碘化鉀含量係相對於水100重量份設為5重量份。
硼酸水溶液15之溫度理想在85℃以下。一旦超過85℃，容易溶出已吸附於PVA系樹脂之碘，且亦有可能溶出PVA系樹脂，而使製造之薄型高功能偏光膜10之光學特性降低。又，當PVA系樹脂層12之厚度較薄時，PVA系樹脂層12會溶解而使獲得之薄型高功能偏光薄10之光學特性進一步降低。硼酸水溶液15之溫度較理想為30℃~65℃。當硼酸水溶液15之溫度小於30℃時，水作為塑化劑之功能亦無法充分發揮，因而無法充分獲得樹脂基材11及PVA系樹脂層12之軟化，而難以使積層體薄膜13之總延伸倍率延伸成原長度之5倍以上。
在硼酸水溶液15中所延伸之積層體薄膜之延伸倍率，理想為積層體薄膜13之原長度之5倍以上，更理想為積層體薄膜13之原長度之5.5倍以上。一旦延伸倍率小於5倍，二向色物質14’將無法充分定向而使所獲得之薄型高功能偏光膜10之光學特性變低。一旦延伸倍率超過6.5倍，積層體薄膜13將易於破裂而難以穩定進行製造。「延伸倍率」指當延伸處理為一階段時，在其處理中之延伸倍率。當在水溶液中設置多數的延伸機進行多階段延伸時，「延伸倍率」指各步驟之延伸倍率之合計(總延伸倍率)。
如第11圖顯示，以硼酸水溶液所行之交聯步驟可設置為染色步驟(B)之前步驟。由於在厚型偏光膜之製造中PVA系樹脂之溶解不成問題，因此不需要該交聯步驟(E)。然 而，在使用於樹脂基材11製膜有薄PVA樹脂層12之積層體薄膜13之薄型高功能偏光膜10之製造中，PVA系樹脂於染色液14中之溶解乃無法忽視之問題。因此，在高光學特性之薄型高功能偏光膜之製造中，在染色步驟(B)之前步驟設置交聯步驟(E)相當有效。甚且，從補強在染色步驟中脫離之硼酸之觀點看來，亦可於硼酸水溶液中之延伸步驟(D)之前步驟另外設置硼酸水溶液之交聯步驟(F)。
從硼酸水溶液15取出延伸成5.0倍之積層體薄膜13，接下來將之送往洗淨步驟(G)。洗淨步驟(G)係洗滌包含有已施加各種處理之薄型高功能偏光膜10之積層體薄膜之不要殘存物之步驟。如果該處理不夠充分，積層體薄膜乾燥後可能會從薄型高功能偏光膜10析出硼酸。又，洗淨係以PVA樹脂不會溶解的方式在包含碘化鉀之洗淨液中處理。洗淨液中之碘化鉀濃度在0.5~10重量%左右。洗淨液之溫度在10~50℃左右。浸泡時間通常在1秒鐘~1分鐘左右。
最終步驟為乾燥步驟(H)。就乾燥步驟(H)而言，可採用任意的適當方法，如：自然乾燥、送風乾燥、或加熱乾燥。參考製造例1係以60℃之溫風乾燥30秒鐘。
已完成之積層體薄膜中所含之樹脂基材11與成一體延伸之PVA系樹脂層12之厚度為3μm。由已使碘定向之3μm厚之PVA樹脂所構成之薄型高功能偏光膜10，係製膜於樹脂基材11上。此即於第13圖之表中顯示特性之參考製造例1之薄型高功能偏光膜10。
薄型高功能偏光膜10已製膜於樹脂基材11上之積層體 薄膜，亦可藉由第11圖中顯示之轉印步驟(I)進一步從薄型高功能偏光膜10剝離樹脂基材11，同時將薄型高功能偏光膜10轉印至其他的光學功能薄膜。
用於薄型高功能偏光膜之PVA系樹脂係藉由皂化聚乙烯醇系樹脂而製得。皂化度通常為85莫耳%~100莫耳%，聚合度為1,000~10,000。該PVA系樹脂為聚乙烯醇或乙烯-乙烯醇共聚物。
所製造之薄型高功能偏光膜10理想係以可視光域(波長380nm~780nm)中任一波長顯示吸收二向色性。厚度在7μm以下，理想為0.5μm~5μm。由於該薄型高功能偏光膜10之收縮應力很小，因此在高溫環境下中亦具有良好的尺寸穩定性，又可顯示單體穿透率42.0%以上且偏光度99.95%以上之光學特性。
[參考製造例1] (積層體之製作步驟)
樹脂基材係使用玻璃轉移溫度80℃之非晶質聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(三菱樹脂社製NOVACLEAR)。包含樹脂基材與聚乙烯醇層之積層體薄膜係如下製作。首先，準備厚度100μm之樹脂基材。接下來，於其樹脂基材上塗佈聚乙烯醇(日本合成化學社製NH26)之水溶液，並以60℃之溫度乾燥，同時製膜厚度12μm之聚乙烯醇層。以上述方法製作出積層體薄膜。
(不溶解化步驟)
將所製得之積層體薄膜浸泡於液溫30℃之硼酸水溶液 中30秒鐘。硼酸水溶液之硼酸含量係相對於水100重量份設為4重量份。
(染色步驟)
將所製作之積層體薄膜浸泡於液溫30℃且包含碘及碘化鉀之染色液中任意時間量，以使最後的偏光膜之單體穿透率成為40~44%。藉此使碘吸附至聚乙烯醇層。染色液之碘含量係相對於水100重量份設為0.1重量份，碘化鉀含量係相對於水100重量份設為0.7重量份。
(交聯步驟)
再來，使浸泡於液溫30℃且包含硼酸及碘化鉀之硼酸水溶液中30秒鐘。硼酸水溶液之硼酸含量係相對於水100重量份設為3重量份，碘化鉀含量係相對於水100重量份設為3重量份。
使包含有於樹脂基材吸附碘之聚乙烯醇層之積層體薄膜在液溫60℃且包含硼酸及碘化鉀之硼酸水溶液中，通過圓周速率相異之多數組捲輥間，使其積層體薄膜於縱向單軸延伸直到快破裂為止。此時之延伸倍率(最大延伸倍率)為5.0倍。硼酸水溶液之硼酸含量係相對於水100重量份設為4重量份，碘化鉀含量係相對於水100重量份設為5重量份。在此所謂之「直到快破裂為止」及「最大延伸倍率」係事前確認好破裂之延伸倍率所決定。具體而言，係指較事前所確認之已破裂的延伸倍率低0.2倍左右之倍率之延伸。
(洗淨步驟)
其後，使積層體薄膜浸泡於液溫30℃之碘化鉀水溶液中30秒鐘，洗淨附著於表面之硼酸。碘化鉀水溶液之碘化鉀含量係相對於水100重量份將碘化鉀設為3重量份。
從硼酸水溶液取出已延伸成5.0倍之積層體薄膜，接下來以60℃之溫風加以乾燥。與樹脂基材成一體延伸之聚乙烯醇層之厚度為5μm。將以上述方式使碘定向之5μm厚聚乙烯醇樹脂層製膜於樹脂基材上。此即於第13圖之表中顯示特性之參考製造例1之薄型高功能偏光膜。
[參考製造例2]
樹脂基材係使用玻璃轉移溫度30℃之聚甲基戊烯薄膜(三井化學社製TPX)。參考製造例2係以同於參考製造例1之方法，使包含已於樹脂基材吸附碘之聚乙烯醇層(但厚度為7μm)之積層體薄膜在液溫60℃且包含硼酸及碘化鉀之硼酸水溶液中，通過圓周速率相異之多數組捲輥間，使其積層體薄膜於縱向單軸延伸直到快破裂為止。此時之延伸倍率(最大延伸倍率)為5.5倍。
在此所謂之「直到快破裂為止」及「最大延伸倍率」與參考製造例1之情況同樣地係指較事前所確認之已破裂之延伸倍率低0.2倍左右之倍率之延伸。將以上述方式使碘定向之3μm厚聚乙烯醇樹脂層製膜於樹脂基材上。此即於第13圖之表中顯示特性之參考製造例2之薄型高功能偏光膜。
[參考比較例1]
樹脂基材係使用玻璃轉移溫度80℃之非晶質聚對苯二 甲酸乙二酯薄膜(三菱樹脂社製NOVACLEAR)。以同於參考製造例1之方法製作於厚度100μm之樹脂基材上製膜厚度10μm之聚乙烯醇樹脂層之積層體薄膜。接下來在110℃之烘箱內將所製作之積層體薄膜於縱向單軸延伸直到快破裂為止。此時之延伸倍率(最大延伸倍率)為4.0倍。在此所謂之「直到快破裂為止」及「最大延伸倍率」與參考製造例1之情況同樣地係指較事前所確認之已破裂之延伸倍率低0.2倍左右之倍率之延伸。
此外，與參考製造例1同樣地，將已延伸之積層薄膜浸泡在染色液中任意時間量，以使最後的偏光膜之穿透率成為40~44%。以60℃之溫風乾燥從染色液所取出之積層體薄膜。與樹脂基材成一體延伸之聚乙烯醇樹脂層之厚度為4μm。將以上述方式使碘定向之4μm厚聚乙烯醇樹脂層製膜於樹脂基材上。此即於第13圖之表中顯示特性之參考比較例1之薄型偏光膜。
[參考比較例2]
與參考製造例1同樣地，製作已於厚度100μm之樹脂基材上製膜有厚度10μm之聚乙烯醇樹脂層之積層體薄膜。將所製作之積層體薄膜與參考製造例1同樣地浸泡於染色液中任意時間量，以使最後的偏光膜之穿透率成為40~44%。以60℃之溫風乾燥從染色液所取出之積層體薄膜。接下來在90℃之烘箱內將已吸附碘之積層體薄膜於縱向單軸延伸直到快破裂為止。此時之延伸倍率(最大延伸倍率)為4.5倍。在此所謂之「直到快破裂為止」及「最大延伸倍率」 與參考製造例1之情況同樣地係指較事前所確認之已破裂之延伸倍率低0.2倍左右之倍率之延伸。
與樹脂基材成一體延伸之聚乙烯醇層之厚度為4μm。將以上述方式使碘定向之4μm厚聚乙烯醇樹脂層製膜於樹脂基材上。此即於第13圖之表中顯示特性之參考比較例2之薄型偏光膜。
[測定方法] [厚度測定]
樹脂基材及薄型偏光膜之厚度係使用電子測微計(安立社製KC-351C)所測定。
[穿透率及偏光度測定]
薄型偏光膜之單體穿透率T、平行穿透率Tp、及正交穿透率Tc係使用紫外可視分光光度計(日本分光社製V7100)所測定。該等穿透率T、Tp、Tc係藉由JIS Z 8701之2度視角(C光源)測定進行視感度補正之Y值。
使用上述穿透率，以下式求算偏光度P。
偏光度P(%)={(Tp-Tc)/(Tp+Tc)}1/2 ×100
偏光膜之對比比率(CR)係以下式求算。
CR=Tp/Tc
顯示器之對比比率(CR)係以下式求算。
CR=最大亮度/最小亮度
上述特願2010-269002號說明書或特願2010-263692號說明書之薄型偏光膜係由使二向色物質定向之PVA系樹脂所構成之連續波偏光膜，乃藉由包含製膜於非晶形酯系熱 可塑性樹脂基材之PVA系樹脂層之積層體，以由空中輔助延伸與硼酸水中延伸所構成之2段延伸步驟進行延伸而成為10μm以下之厚度者。該薄型偏光膜將單體穿透率設為T且將偏光度設為P時，宜具有滿足P>-(100.929T-42.4 -1)×100(但T<42.3)、及P≧99.9(但T≧42.3)之條件之光學特性。
具體而言，前述薄型偏光膜可藉由薄型偏光膜之製造方法而製造，該薄型偏光膜之製造方法包含：延伸中間生成物生成步驟，係藉由對製膜於連續波之非晶形酯系熱可塑性樹脂基材之PVA系樹脂層進行空中高溫延伸，生成由預定向之PVA系樹脂層構成之延伸中間生成物者；著色中間生成物生成步驟，係藉由對延伸中間生成物進行二向色物質之吸附，生成由使二向色物質(碘或碘與有機染料之混合物為宜)定向之PVA系樹脂層構成之著色中間生成物者；及偏光膜生成步驟，係藉由對著色中間生成物進行硼酸水中延伸，生成由使二向色物質定向之PVA系樹脂層構成之厚度10μm以下之偏光膜者。
在該製造方法中，藉由空中高溫延伸與硼酸水中延伸而製膜於非晶形酯系熱可塑性樹脂基材之PVA系樹脂層之總延伸倍率，宜設在5倍以上。用以進行硼酸水中延伸之硼酸水溶液之液溫可設在60℃以上。在硼酸水溶液中延伸著色中間生成物之前，宜對著色中間生成物施加不溶解化處理，屆時，宜將前述著色中間生成物浸泡至液溫未超過40℃之硼酸水溶液中進行。上述非晶形酯系熱可塑性樹脂基材可設為使異酞酸共聚合之共聚聚對苯二甲酸乙二酯、使 環己烷二甲醇共聚合之共聚聚對苯二甲酸乙二酯或包含其他共聚聚對苯二甲酸乙二酯之非晶形聚對苯二甲酸乙二酯，以由透明樹脂所構成者為宜，其厚度可設在製膜之PVA系樹脂層厚度之7倍以上。又，空中高溫延伸之延伸倍率宜在3.5倍以下，空中高溫延伸之延伸溫度宜在PVA系樹脂之玻璃轉移溫度以上，具體而言宜在95℃~150℃之範圍內。以自由端單軸延伸進行空中高溫延伸時，製膜於非晶形酯系熱可塑性樹脂基材之PVA系樹指層之總延伸倍率以5倍以上且7.5倍以下為宜。又，以固定端單軸延伸進行空中高溫延伸時，製膜於非晶形酯系熱可塑性樹脂基材之PVA系樹脂層之總延伸倍率以5倍以上且8.5倍以下為宜。
更具體而言，可藉由下列方法製造薄型偏光膜。
製作使異酞酸6mol%共聚合之異酞酸共聚聚對苯二甲酸乙二酯(非晶形PET)之連續波之基材。非晶形PET之玻璃轉移溫度為75℃。如下製作由連續波之非晶形PET基材與聚乙烯醇(PVA)層所構成之積層體。另，PVA之玻璃轉移溫度為80℃。
準備將200μm厚之非晶形PET基材與聚合度1000以上且皂化度99%以上之PVA粉末溶解於液中之4~5%濃度之PVA水溶液。接下來，將PVA水溶液塗佈於200μm厚之非晶形PET基材，並以50~60℃之溫度乾燥而製得於非晶形PET基材製膜有7μm厚之PVA層之積層體。
使包含7μm厚之PVA層之積層體通過包含空中輔助延伸及硼酸水中延伸之2段延伸步驟之以下步驟，製造3μm厚 之薄型高功能偏光膜。藉由第1段之空中輔助延伸步驟，將包含7μm厚之PVA層之積層體與非晶形PET基材成一體延伸，而生成包含5μm厚之PVA層之延伸積層體。具體而言，該延伸積層體係將包含7μm厚之PVA層之積層體放到配置有設置在130℃之延伸溫度環境中之烘箱之延伸裝置，而於自由端單軸延伸使延伸倍率成為1.8倍者。藉由該延伸處理，可使含於延伸積層體中之PVA層變化成已定向PVA分子之5μm厚之PVA層。
接下來，藉由染色步驟生成於已定向PVA分子之5μm厚之PVA層有吸附碘之著色積層體。具體而言，該著色積層體係將延伸積層體浸泡於液溫30℃且包含碘及碘化鉀之染色液中任意時間量，以使構成最後生成之高功能偏光膜之PVA層之單體穿透率成為40~44%，藉以使碘吸附於含於延伸積層體中之PVA層者。在本步驟中，染色液係將水作為溶劑，將碘濃度設在0.12~0.30重量%之範圍內，並將碘化鉀濃度設在0.7~2.1重量%之範圍內。碘與碘化鉀之濃度比為1比7。另，為使碘溶解，液中必須具有碘化鉀。較詳細而言，係藉由將延伸積層體浸泡於碘濃度0.30重量%且碘化鉀濃度2.1重量%之染色液中60秒鐘，生成於已定向PVA分子之5μm厚之PVA層吸附有碘之著色積層體。
進而，藉由第2段之硼酸水中延伸步驟，將著色積層體與非晶形PET基材成一體進一步延伸，而生成包含構成3μm厚之高功能偏光膜之PVA層之光學薄膜積層體。具體而言，該光學薄膜積層體係將著色積層體放到配置有設定於 包含硼酸與碘化鉀之液溫範圍60~85℃之硼酸水溶液之處理裝置的延伸裝置，於自由端單軸延伸使延伸倍率成為3.3倍者。較詳細而言，硼酸水溶液之液溫為65℃。又，使硼酸含量相對於水100重量份設為4重量份，使碘化鉀含量相對於水100重量份設為5重量份。在本步驟中，首先，將有調整碘吸附量之著色積層體浸泡於硼酸水溶液中5~10秒鐘。然後，使其著色積層體在該狀態下通過配置在處理裝置之延伸裝置之圓周速率相異的多數組捲輥間，以30~90秒鐘於自由端單軸延伸使延伸倍率成為3.3倍。藉由該延伸處理，使含於著色積層體中之PVA層變化成所吸附之碘作為聚碘離子錯合物往一方向高階定向之3μm厚之PVA層。該PVA層構成光學薄膜積層體之高功能偏光膜。
於光學薄膜積層體之製造雖非必須步驟，但宜藉由洗淨步驟從硼酸水溶液取出光學薄膜積層體，以碘化鉀水溶液洗淨附著在製膜於非晶形PET基材之3μm厚之PVA層表面之硼酸。然後，藉由60℃溫風之乾燥步驟乾燥所洗淨之光學薄膜積層體。而，洗淨步驟係用以消除硼酸析出等外觀不良之步驟。
同樣地，於光學薄膜積層體之製造雖非必須步驟，但可藉由黏貼及/或轉印步驟將接著劑塗佈於製膜在非晶形PET基材之3μm厚之PVA層表面，使80μm厚之三醋酸纖維素薄膜黏貼後剝離非晶形PET基材，再將3μm厚之PVA層轉印至80μm厚之三醋酸纖維素薄膜。
[其他步驟]
上述薄型偏光膜之製造方法除上述步驟以外，還可包含其他步驟。其他步驟例如有：不溶解化步驟、交聯步驟、及乾燥(水分百分比調節)步驟等。其他步驟可在任意的適當時序進行。
代表上，上述不溶解化步驟係藉由使PVA系樹脂層浸泡於硼酸水溶液中而進行。藉由施加不溶解化處理，可對PVA系樹脂層賦予耐水性。該硼酸水溶液之濃度相對於水100重量份，理想為1重量份~4重量份。不溶解化浴(硼酸水溶液)之液溫理想為20℃~50℃。理想上，不溶解化步驟係於積層體製作後且染色步驟或液中延伸步驟之前進行。
代表上，上述交聯步驟係藉由使PVA系樹脂層浸泡於硼酸水溶液中而進行。藉由施加交聯處理，可對PVA系樹脂層賦予耐水性。該硼酸水溶液之濃度相對於水100重量份，理想為1重量份~4重量份。又，於上述染色步驟後進行交聯步驟時，宜另摻混碘化物。藉由摻混碘化物，可抑制吸附於PVA系樹脂層之碘之溶出。碘化物之摻混量相對於水100重量份，理想為1重量份~5重量份。碘化物之具體例如上述。交聯浴(硼酸水溶液)之液溫理想為20℃~50℃。理想上，交聯步驟係於上述第2硼酸水中延伸步驟之前進行。在理想的實施形態中，係依序進行染色步驟、交聯步驟及第2硼酸水中延伸步驟。
構成第一及第二透明保護薄膜之材料，例如可使用具有良好的透明性、機械強度、熱穩定性、水分阻斷性、及均向性等之熱可塑性樹脂。就此種熱可塑性樹脂之具體例 而言，例如有：三醋酸纖維素等纖維素樹脂、聚酯樹脂、聚醚碸樹脂、聚碸樹脂、聚碳酸樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚烯烴樹脂、(甲基)丙烯樹脂、環狀聚烯烴樹脂(降莰烯系樹脂)、多芳基樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚乙烯醇樹脂、及該等之混合物。而，作為透明保護薄膜，可使用(甲基)丙烯系、胺甲酸乙酯系、丙烯胺甲酸乙酯系、環氧系、及矽氧系等熱硬化性樹脂或紫外線硬化型樹脂。透明保護薄膜中亦可含有1種類以上之任意的適當添加劑。就添加劑而言，例如有：紫外線吸收劑、抗氧化劑、潤滑劑、塑化劑、脫模劑、防止著色劑、阻燃劑、成核劑、抗靜電劑、顏料、及著色劑等。透明保護薄膜中之上述熱可塑性樹脂之含量理想為50~100重量%，較理想為50~99重量%，更理想為60~98重量%，尤其理想為70~97重量%。透明保護薄膜中之上述熱可塑性樹脂之含量在50重量%以下時，有無法充分表現熱可塑性樹脂原有的高透明性等之虞。
作為本發明之透明保護薄膜，宜使用選自於纖維素樹脂、環狀聚烯烴樹脂、(甲基)丙烯樹脂及聚酯樹脂其中至少1者。
纖維素樹脂係纖維素與脂肪酸之酯。此種纖維素酯系樹脂之具體例，例如有：三醋酸纖維素、二醋酸纖維素、三丙醯基纖維素、及二丙醯基纖維素等。該等中，又以三醋酸纖維素尤佳。三醋酸纖維素有諸多產品經市售，在可輕易入手及成本之觀點上亦相當有利。三醋酸纖維素之市售品之例，例如有：富士薄膜社製之商品名「UV-50」、 「UV-80」、「SH-80」、「TD-80U」、「TD-TAC」、「UZ-TAC]或柯尼卡社製之「KC系列」等。
就環狀聚烯烴樹脂之具體而言，理想為降莰烯系樹脂。環狀烯烴系樹脂係將環狀烯烴作為聚合單元加以聚合之樹脂總稱，例如有：特開平1-240517號公報、特開平3-14882號公報、及特開平3-122137號公報等中所記載之樹脂。就具體例而言，例如有：環狀烯烴之開環(共)聚合物、環狀烯烴之加成聚合物、環狀烯烴與乙烯、丙烯等α-烯烴與其共聚物(代表的隨機共聚物)、及以不飽和羧酸或其衍生物將該等改質之接枝聚合物，以及該等氫化物等。就環狀烯烴之具體例而言，例如有降莰烯系單體。環狀聚烯烴樹脂有各種產品市售。就具體例而言，例如有：日本Zeon株式會社製之商品名「ZEONEX」、「ZEONOR」，JSR株式會社製之商品名「ARTON」，TICONA社製之商品名「TOPAS]，及三井化學株式會社製之商品名「APEL」。
作為(甲基)丙烯系樹脂，可在不會損害本發明效果之範圍內，採用任意的適當(甲基)丙烯系樹脂。例如有：聚甲基丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸酯、甲基丙烯酸甲基-(甲基)丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸甲基-(甲基)丙烯酸甲酯共聚物、甲基丙烯酸甲基-丙烯酸酯-(甲基)丙烯酸共聚物、(甲基)丙烯酸甲基-苯乙烯共聚物(MS樹脂等)、及含有脂環族烴基之聚合物(例如，甲基丙烯酸甲基-甲基丙烯酸環己基共聚物、甲基丙烯酸甲基-(甲基)丙烯酸降莰基共聚物等)。理想為聚(甲基)丙烯酸甲基等之聚(甲基)丙烯酸C1-6烷。例如， 較理想為以甲基丙烯酸甲基為主要成分(50~100重量%，理想為70~100重量%)之甲基丙烯酸甲基系樹脂。
作為(甲基)丙烯系樹脂之具體例，例如有：三菱麗陽株式會社製之ACRYPET VH與ACRYPET VRL20A，特開2004-70296號公報中記載於分子內具有環結構之(甲基)丙烯系樹脂，及藉由分子內交聯或分子內環化反應而獲得之高Tg(甲基)丙烯系樹脂。
作為(甲基)丙烯系樹脂，亦可使用具有內酯環結構之(甲基)丙烯系樹脂。因為，可藉由高耐熱性、高透明性、及進行雙軸延伸而具有高機械強度。具有內酯環結構之(甲基)丙烯系樹脂，例如有：特開2000-230016號公報、特開2001-151814號公報、特開2002-120326號公報、特開2002-254544號公報、及特開2005-146084號公報等中所記載之具有內酯環結構之(甲基)丙烯系樹脂。
作為聚酯樹脂並未有特別限定，例如有：將二羧酸及二醇個別1種予以聚縮合而構成之均聚物，將二羧酸1種以上及二醇2種以上予以聚縮合而構成之共聚物，將二羧酸2種以上及二醇1種以上予以聚縮合而構成之共聚物，以及將該等之均聚物或共聚物予以混合2種以上而構成之混合樹脂中之其中一者。當中，又可適當使用聚對苯二甲酸乙二酯樹脂。尤其，以非晶質之聚對苯二甲酸乙二酯樹脂為宜。前述二羧酸例如為：對苯二甲酸、異酞酸、鄰苯二甲酸、2,5-奈二羧酸、2,6-奈二羧酸、1,4-奈二羧酸、1,5-奈二羧酸、二苯基羧酸、二苯氧乙烷二羧酸、二苯基磺羧酸、蒽二羧 酸、1,3-環戊烷二羧酸、1,3-環己烷二羧酸、1,4-環己烷二羧酸、六氰對苯二甲酸、六氰異酞酸、丙二酸、二甲基丙二酸、琥珀酸、3,3二乙基琥珀酸、戊二酸、2,2-二甲基戊二酸、己二酸、2-甲基己二酸、三甲基己二酸、庚二酸、壬二酸、二聚酸、癸二酸、辛二酸、及十二二羧酸等。前述二醇例如為：乙二醇、丙二醇、六亞甲二醇、新戊二醇、1,2-環己烷二甲醇、1,4-環己烷二甲醇、十亞甲二醇、1,3-丙二醇、1,4-丁二醇、1,5-戊二醇、1,6-己二醇、2,2-雙(4-羥苯基)丙烷、及雙(4-羥苯基)碸等。
第一透明保護薄膜之厚度可適當決定。一般從強度或處理性等作業性及薄層性等觀點看來以1~80μm為佳，又，從可抑制縮小基於偏光板之凹凸之觀點看來，第一透明保護薄膜之厚度以60μm以下為佳，較理想為10~60μm，更理想為10~50μm。
又，第一透明保護薄膜適合使用霧度值在15%以下者。通常，由上述材料形成之透明保護薄膜之霧度值在1%以下，理想為0.5%以下，更理想為0.3%。因此，由上述材料形成之透明保護薄膜可直接作為第一透明保護薄膜使用。
另一方面，作為第一透明保護薄膜者，在霧度值為15%以下之範圍內，可使用於未接著由該上述材料形成之透明保護薄膜之偏光元件之面施加有硬塗層、或以抗反射處理、擴散或防眩為目的之功能層者。只要霧度值在15%以下，可滿足清晰的高級感。當第一透明保護薄膜具有功能 層時，亦以霧度值較小者為佳，霧度值以10%以下為佳，以5%以下更佳。
硬塗處理係以偏光板表面之抗擦傷等為目的而施加者，例如，可藉由將具有良好的丙烯系與矽氧系等適當的紫外線硬化型樹脂之硬度與滑動特性等之硬化皮膜，加成於透明保護薄膜表面之方式等而形成。抗反射處理係以防止在偏光板表面之外光之反射為目的而施加者，可藉由依據習知之抗反射膜等之形成而達成。
又，防眩處理係以防止在偏光板表面外光反射而阻礙偏光板穿透光之可視性等為目的而施加者，例如，可藉由以噴砂方式或凸印加工方式之粗面化方式或透明微粒子之複合方式等適宜方式，對透明保護薄膜表面賦予微細凹凸結構而形成。作為含於前述表面微細凹凸結構之形成之微粒子，例如可使用由平均粒徑在0.5~20μm之氧化矽、氧化鋁、氧化鈦、氧化鋯、氧化錫、氧化銦、氧化鎘、及氧化銻等所構成且亦具有導電性的無機系微粒子，及由交聯或未交聯之聚合物等所構成之有機系微粒子等透明微粒子。形成表面微細凹凸結構時，微粒子之使用量相對於形成表面微細凹凸結構之透明樹脂100重量份，一般在2~70重量份左右，以5~50重量份為宜。防眩層亦可為兼具用以擴散偏光板穿透光擴大視角等之擴散層(視角擴大功能等)者。
而，前述抗反射層、擴散層與防眩層等功能層除可設置在透明保護薄膜本身以外，還可另外作為光學層設置為有別於透明保護薄膜之另一層。而，前述功能層之厚度通 常在10μm以下，理想為1~10μm，更理想為3~7μm，該等功能層之厚度係依照形成功能層之材料之種類與組成而設計，以使第一透明保護薄膜之霧度值在15%以下。當第一透明保護薄膜具有前述功能層時，第一透明保護薄膜之厚度亦宜在前述範圍內。
雖可於上述偏光元件之一側設置上述第一透明保護薄膜，亦可於另一側設置第二透明保護薄膜。此時，第一及第二透明保護薄膜可為相同聚合物材料，亦可為相異聚合物材料等。
第二透明保護薄膜之厚度可適當決定，一般從強度與處理性等作業性及薄層性等之觀點看來，以1~80μm為佳，又，從可抑制縮小基於偏光板之凹凸之觀點看來，設置第一及第二透明保護薄膜時，以第一及第二透明保護薄膜中至少一方之厚度在60μm以下為佳，較理想為10~60μm，更理想為10~50μm。
第一及第二透明保護薄膜皆以厚度在60μm以下為佳，較理想為10~60μm，更理想為10~50μm。
又，第二透明保護薄膜之霧度值通常在1%以下，理想為0.5%以下，更理想為0.3%，可將由上述材料而形成之透明保護薄膜直接作為第二透明保護薄膜使用。
在前述偏光元件與第一及/或第二透明保護薄膜之接著處理，可使用接著劑。接著劑可舉例顯示如：異氰酸酯系接著劑、聚乙烯醇系接著劑、明膠系接著劑、乙烯系乳膠系、及水系聚酯等。前述接著劑通常係作為由水溶液所 構成之接著劑使用，通常含有0.5~60重量%之固體成分。上述以外，作為偏光元件與透明保護薄膜之接著劑例如有：紫外硬化型接著劑、與電子線硬化型接著劑等。電子線硬化型偏光板用接著劑相對於上述各種透明保護薄膜，可顯示良好的接著性。又，在本發明中使用之接著劑可含有金屬化合物填料。
又，偏光板以外之光學薄膜，例如有：使用於反射板或反穿透板、相位差板(包含1/2或1/4等波長板)、視角補償薄膜、亮度提升膜、及表面處理薄膜等液晶顯示裝置等之形成之光學層者。該等可單獨作為光學薄膜使用，還可在實用時使用1層或2層以上積層於前述偏光板。
在本發明之黏著型光學薄膜中，黏著型偏光板在液晶顯示裝置等影像顯示裝置之形成係配置在可視側使用，在影像顯示裝置之形成時亦可組合其他光學薄膜使用。本發明之黏著型偏光板在液晶顯示裝置係作為就液晶胞元而言為可視側之偏光板使用。相對於液晶胞元為相反側之偏光板並未有特別限制。
已於偏光板積層前述光學層之光學薄膜，可在液晶顯示裝置等製造過程中以依序別個積層之方式形成，而預先積層作為光學薄膜者具有優異的品質穩定性或組裝作業等可使液晶顯示裝置等之製造步驟提升之優點。積層可使用黏著層等適當的接著機構。在前述之偏光板與其他光學層之接著時，該等光學軸可因應目的之相位差特性等設為適當的配置角度。
作為相位差板，例如有：將高聚物予以單軸或雙軸延伸處理而構成之複折射性薄膜、液晶聚合物之定向薄膜、及以薄膜支撐液晶聚合物之定向層者等。相位差板之厚度亦未有特別限制，一般在10~150μm左右。從可抑制縮小基於偏光板之凹凸之觀點看來，相位差板之厚度在60μm以下為佳，較理想為10~60μm，更理想為10~50μm。
作為高分子素材，例如有：聚乙烯醇、聚乙烯縮丁醛、聚甲基乙烯基醚、多羥基丙烯酸乙酯、羥苯基乙基纖維素、羥苯基丙基纖維素、甲基纖維素、聚碳酸、多芳基、聚碸、聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚醚碸、聚苯硫、聚苯醚、聚芳碸、聚醯胺、聚醯亞胺、聚烯烴、聚氯乙烯纖維素系聚合物、降莰烯系樹脂、或該等之二元系、三元系各種共聚物、接枝共聚物、與混合物等。該等高聚物可藉由延伸等而成為定向物(延伸薄膜)。
作為液晶聚合物，例如有將賦予液晶定向性之共軛性之直線狀原子群(液晶原)導入聚合物之主鏈或側鏈之主鏈型或側鏈型之各種等。就主鏈型液晶聚合物之具體例而言，例如有：以賦予可撓性之間隔部結合液晶原之結構之例如向列定向性之聚酯系液晶性聚合物、與二向色聚合物或膽固醇型聚合物等。就側鏈型液晶聚合物之具體例而言，例如有以聚矽氧、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯或聚丙二酸酯為主鏈骨架，隔著由共軛性原子群所構成之間隔部而具有由向列定向賦予性之對位取代環狀化合物單元所構成之液晶原部作為側鏈者等。該等液晶聚合物例如係藉 由於將形成在玻璃板上之聚醯亞胺或聚乙烯醇等薄膜表面進行摩擦處理者、或將氧化矽予以斜向蒸鍍者等之定向處理面上，展開液晶性聚合物之溶液進行熱處理而進行。
相位差板可為因應例如以各種波長板或液晶層之複折射之著色或視角等補償為目的者等使用目的而具有適當的相位差者，亦可為積層2種以上之相位差板並已控制相位差等光學特性者等。
又，光學薄膜可適當使用霧度值在15%以下者。作為該光學薄膜，例如可舉例顯示同於在透明保護薄膜中所舉例顯示者。霧度值在15%以下之光學薄膜相當適合作為以黏貼於前面板或觸控板為目的之基材薄膜。只要霧度值在15%以下，可使用表面處理薄膜作為前述光學薄膜。表面處理薄膜可藉由進行前述基材薄膜之表面處理而製得。
前述霧度值理想在1%以下，較理想在0.5%以下，更理想在0.3%。又，一般從強度或處理性等作業性、與薄層性等觀點看來，霧度值在15%以下之光學薄膜之厚度以1~80μm為宜，從可抑制縮小光學薄膜之凹凸之觀點看來，其厚度以60μm以下為宜，較理想為10~60μm，更理想為10~50μm。
表面處理薄膜例如有：用以賦予表面耐擦傷性而使用之硬塗薄膜，以及用以防止對影像顯示裝置之映射的防眩處理薄膜、抗反射薄膜、與低反射薄膜等抗反射膜等。前面板係設置黏貼於前述影像顯示裝置之表面，以使可保護液晶顯示裝置或有機EL顯示裝置、CRT、PDP等影像顯示 裝置，或使賦予高級感，或因設計而使有所區別。又，前面板可作為3D-TV中之λ/4板之支撐物使用。例如，在液晶顯示裝置中，可設置於可視側之偏光板上側。使用本發明之黏著劑層時，作為前面板除玻璃基材以外，在聚碳酸基材、或聚甲基丙烯酸甲酯基材等塑膠基材，亦可與玻璃基材發揮同樣的效果。
設置在前述光學薄膜之黏著劑層係由黏著劑形成。黏著劑可使用各種黏著劑，例如有：橡膠系黏著劑、丙烯系黏著劑、矽氧系黏著劑、胺甲酸乙酯系黏著劑、乙烯基烷醚系黏著劑、聚乙烯醇系黏著劑、聚乙烯吡咯啶酮系黏著劑、聚丙烯醯胺系黏著劑、及纖維素系黏著劑等。因應前述黏著劑之種類可選擇黏著性之基質聚合物。
前述黏著劑中，以具有良好的光學透明性顯示適當的濕潤性、凝聚性與接著性之黏著特性且具有良好的耐候性與耐熱性等優點看來，適合使用丙烯系黏著劑。
丙烯系黏著劑係以(甲基)丙烯酸烷酯之單體單元為主骨架之(甲基)丙烯系聚合物作為基質聚合物。而，(甲基)丙烯酸烷酯指丙烯酸烷酯及/或(甲基)丙烯酸烷酯，與本發明之(甲基)為同樣意思。構成(甲基)丙烯系聚合物之主骨架之(甲基)丙烯酸烷酯，例如可為直鏈狀或分枝鏈狀之烷基之碳數1~18者。例如，前述烷基可為：甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、戊基、己基、環己基、庚基、2-乙基己基、異辛基、壬基、癸基、異癸基、十二烷基、異肉豆蔻基、月桂基、十三烷基、十五烷基、十六烷基、十七 烷基、及十八烷基等。該等可單獨或組合使用。該等烷基之平均碳數以3~9為宜。
又，可使用含有如(甲基)丙烯酸苯氧乙酯、與(甲基)丙烯酸苯甲酯之芳香族環之(甲基)丙烯酸烷酯。含有芳香族環之(甲基)丙烯酸烷酯可將聚合其之聚合物混合至前述舉例顯示之(甲基)丙烯系聚合物中使用，惟以透明性之觀點看來，含有芳香族環之(甲基)丙烯酸烷酯宜與前述(甲基)丙烯酸烷酯共聚使用。
以接著性或耐熱性之改善為目的，藉由共聚將具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等具有不飽和雙鍵之聚合性官能基之1種類以上共聚物單體導入前述(甲基)丙烯系聚合物中。就上述共聚物單體之具體例而言，例如有：(甲基)丙烯酸2-羥乙基、(甲基)丙烯酸3-羥苯基丙基、(甲基)丙烯酸4-羥苯基丁基、(甲基)丙烯酸6-羥苯基己基、(甲基)丙烯酸8-羥辛基、(甲基)丙烯酸10-羥癸基、(甲基)丙烯酸12-羥月桂基或(4-羥甲基環己基)-甲基丙烯酸酯等含羥基之單體；(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧乙酯、(甲基)丙烯酸羧戊酯、伊康酸、馬來酸、延胡索酸、巴豆酸等含羧基之單體；馬來酸酐、伊康酸酐等含酸酐基之單體；丙烯酸之己內酯加成物；苯乙烯磺酸或丙烯磺酸、2-(甲基)丙烯醯胺-2-甲基丙烷磺酸、(甲基)丙烯醯胺丙烷磺酸、(甲基)丙烯酸磺酸丙酯、(甲基)丙烯醯氧基萘磺酸等含磺酸基之單體；及2-羥乙基丙烯醯磷酸酯等含磷酸基之單體等。
又，作為改質目的之單體例，例如有：(甲基)丙烯醯胺、 N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N-丁基(甲基)丙烯醯胺或N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、及N-羥甲基丙烷(甲基)丙烯醯胺等(N-取代)醯胺系單體；(甲基)丙烯酸胺基乙基、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基乙基、及(甲基)丙烯酸三級丁基胺基乙基等(甲基)丙烯酸烷基胺烷基系單體；(甲基)丙烯酸甲氧基乙基、及(甲基)丙烯酸乙氧基乙基等(甲基)丙烯酸烷氧烷基系單體；N-(甲基)丙烯醯氧基亞甲基琥珀醯亞胺或N-(甲基)丙烯醯-6-氧基六亞甲基琥珀醯亞胺、N-(甲基)丙烯醯-8-氧基八亞甲基琥珀醯亞胺、及N-丙烯醯基嗎福林等琥珀醯亞胺系單體；N-環己基馬來醯亞胺或N-異丙基馬來醯亞胺、及N-月桂基馬來醯亞胺或N-苯基馬來醯亞胺等馬來醯亞胺系單體；N-甲基伊康醯亞胺、N-乙基伊康醯亞胺、N-丁基伊康醯亞胺、N-辛基伊康醯亞胺、N-2-乙基己基伊康醯亞胺、N-環己基伊康醯亞胺、及N-月桂基伊康醯亞胺等伊康醯亞胺系單體等。
此外，改質單體亦可使用乙酸乙酯、丙酸乙酯、N-乙烯吡咯啶酮、甲基乙烯吡咯啶酮、乙烯吡啶、乙烯哌啶、乙烯嘧啶、乙烯六氫吡、乙烯吡、乙烯吡咯、乙烯咪唑、乙烯噁唑、乙烯嗎福林、N-乙烯羧醯胺類、苯乙烯、α-甲基苯乙烯、及N-乙烯己內醯胺等乙烯系單體；丙烯腈、及甲基丙烯腈等氰基丙烯酸酯系單體；縮水甘油(甲基)丙烯酸等含環氧基之丙烯系單體；(甲基)丙烯酸聚乙二醇、(甲基)丙烯酸聚丙二醇、(甲基)丙烯酸甲氧乙二醇、及(甲基)丙烯酸甲氧聚丙二醇等二醇系丙烯酸酯單體；(甲基)丙烯酸 四氫呋喃甲酯、氟化(甲基)丙烯酸酯、矽氧(甲基)丙烯酸酯或丙烯酸2-甲氧乙酯等丙烯酸酯系單體等。另外，例如有：異戊二烯、丁二烯、異丁烯、及乙烯基醚等。
此外，作為上述以外的可共聚合之單體，例如有含有矽原子之矽烷系單體等。矽烷系單體例如有：3-丙烯醯氧基丙基三乙氧矽烷、乙烯基三甲氧矽烷乙烯基三乙氧矽烷、4-乙烯基丁基三甲氧矽烷、4-乙烯基丁基三乙氧矽烷、8-乙烯基辛基三甲氧矽烷8-乙烯基辛基三乙氧矽烷、10-甲基丙烯醯氧基癸基三甲氧矽烷、10-丙烯醯氧基癸基三甲氧矽烷、10-甲基丙烯醯氧基癸基三乙氧矽烷、及10-丙烯醯氧基癸基三乙氧矽烷等。
又，共聚物單體亦可使用如：具有2個以上之(甲基)丙烯酸與多元醇之酯化物等之(甲基)丙烯醯基、及乙烯基等不飽和雙鍵之多官能性單體，或於聚酯、環氧、及胺甲酸乙酯等骨架加成2個以上作為同於單體成分之官能基之(甲基)丙烯醯基、及乙烯基等不飽和雙鍵之聚酯(甲基)丙烯酸酯、環氧(甲基)丙烯酸酯、及胺甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯等。前述(甲基)丙烯酸與多元醇之酯化物例如為：三伸丙甘醇二(甲基)丙烯酸酯、四伸乙甘醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A二縮水甘油醚二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙基三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、及己內酯改質二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯 等。
又，該等共聚物單體當中，由接著性及耐久性之觀點看來，適合使用含羥基之單體及含羧基之單體。當黏著劑含有交聯劑時，該等共聚物單體為與交聯劑之反應點。含羥基之單體、及含羧基之單體等與分子間交聯劑之間富有反應性，因而適合使用於用以提升獲得之黏著劑層之凝聚性與耐熱性。
當共聚物單體含有含羥基之單體及含羧基之單體時，該等共聚物單體係依前述共聚物單體之比率使用，宜含有含羧基之單體0.1~10重量%及含羥基之單體0.01~2重量%。含羧基之單體以0.2~8重量%較佳，更理想為0.6~6重量%。含羥基之單體以0.03~1.5重量%較佳，更理想為0.05~1重量%。
(甲基)丙烯系聚合物通常係使用重量平均分子量在30萬~300萬範圍內者。若考慮到耐久性-尤其是耐熱性-宜使用重量平均分子量在80萬~300萬者。此外，以140萬~270萬為佳，以170萬~250萬較佳，以180萬~240萬更佳。若重量平均分子量小於30萬，在耐熱性之觀點上相當不適當。又，一旦重量平均分子量大於300萬，在黏貼性、與接著力降低之觀點上亦相當不適當。而，重量平均分子量係藉由GPC(透膠層析術)測定，指以聚苯乙烯換算所算出之值。分散比(重量平均分子量/數平均分子量)在1.8~10為佳，較理想為2~7，更理想為2~5。
此種(甲基)丙烯系聚合物之製造可適當選擇溶液聚 合、塊狀聚合、乳化聚合、及各種自由基聚合等之公知製造方法。又，製得之(甲基)丙烯系聚合物可為隨機共聚物、崁段共聚物、及接枝共聚物等其中一者。
而，在溶液聚合中，可使用例如乙酸乙酯及甲苯等作為聚合溶劑。就具體的溶液聚合例而言，反應係在氮氣等惰性氣體氣流下添加聚合起始劑通常在50~70℃左右且5~30小時左右之反應條件下進行。
用於自由基聚合之聚合起始劑、鏈轉移劑、及乳化劑等並未有特別限定，可適當選擇使用。而，(甲基)丙烯系聚合物之重量平均分子量可依聚合起始劑及鏈轉移劑之使用量與反應條件加以控制，因應該等之種類調整其適當之使用量。
作為聚合起始劑，例如有：2,2’-偶氮雙異丁腈、2,2’-偶氮雙(2-脒基丙烷)二氫氯化物、2,2-偶氮雙[2-(5-甲基-2-咪唑咻-2-基)丙烷]二氫氯化物、2,2’-偶氮雙(2-甲基丙脒)二硫酸鹽、2’2”-偶氮雙(2-甲脒基丙烷)雙酸2,2’-偶氮雙[2-(2-咪唑咻-2-基)丙烷]雙酸、2,2’-偶氮雙(N,N’-二亞甲基異丁脒)、2,2’-偶氮雙[N-(2-羧乙基)-2-甲基丙脒]含水物(和光純藥社製VA-057)等偶氮系起始劑；過硫酸鉀、及過硫酸銨等過硫酸鹽；過氧二碳酸二(2-乙基己基)酯、過氧二碳酸二(4-三級丁基環己基)酯、過氧二碳酸二-二級丁酯、過氧新癸酸三級丁酯、過氧三甲基乙酸三級己酯、過氧三甲基乙酸三級丁酯、二月桂醯基過氧化物、二-正辛醯基過氧化物、1,1,3,3-四甲基丁基過氧-2-己酸乙酯、二(4-甲基苯甲醯基) 過氧化物、二苯甲醯過氧化物、過氧異丁酸三級丁酯、1,1-二(三級己基過氧基)環己烷、三級丁基氫過氧化物、及過氧化氫等過氧化物系起始劑；過硫酸鹽與亞硫酸氫鈉之組合；以及組合過氧化物與還原劑之氧化還原系起始劑等，但並非限於該等者。作為前述還原劑，可舉例顯示如：抗壞血酸、D-異抗壞血酸、酒石酸、檸檬酸、葡萄糖、甲醛次硫酸鹽等鈉鹽等之金屬鹽等還元性有機化合物、或硫代硫酸鈉、亞硫酸鈉、重亞硫酸鈉、偏二亞硫酸鈉等還元性無機化合物、以及氯化亞鐵、次硫酸甲醛鈉、與二氧化硫尿等。
前述聚合起始劑可單獨使用，又可混合2種以上使用，作為全體之含量以相對於單體100重量份，0.005~1重量份左右為宜，以0.02~0.5重量份左右較佳。
而，作為聚合起始劑，例如可使用2,2’-偶氮雙異丁腈製造前述重量平均分子量之(甲基)丙烯系聚合物，聚合起始劑之使用量以相對於單體成分之全量100重量份，0.06~0.2重量份左右為宜，又以0.08~0.175重量份左右較佳。
作為鏈轉移劑，例如有：月桂硫醇、縮水甘油基硫醇、巰乙酸、2-巰乙醇、硫二醇酸、硫二醇酸2-乙基己基、及2,3-二巰-1-丙醇等。鏈轉移劑可單獨使用，又可混合2種以上使用，作為全體之含量以相對於單體成分之全量100重量份，0.1重量份左右以下。
用於乳化聚合之界面活性劑(乳化劑)並未有特別限制，可使用通常使用於乳化聚合之各種界面活性劑。例如， 界面活性劑可使用陰離子系界面活性劑、或非離子系界面活性劑。就陰離子系界面活性劑之具體例而言，可舉例顯示如：油酸鈉等高級脂肪酸鹽類；十二烷基苯磺酸鈉等烷芳磺酸鹽類；月桂基硫酸鈉、與月桂基硫酸銨等烷基硫酸酯鹽類；聚氧乙烯月桂基醚磺酸鈉等聚氧乙烯烷醚硫酸酯鹽類；聚氧乙烯壬基苯基醚磺酸鈉等聚氧乙烯烷芳醚硫酸鹽類；單辛酯磺琥珀酸鈉、二辛酯磺琥珀酸鈉、及聚氧乙烯月桂基磺琥珀酸鈉等烷基磺琥珀酸酯鹽及其衍生物類；聚氧乙烯二苯乙烯化苯醚硫酸酯鹽類；以及萘磺酸鈉甲醛縮合物等。就非離子系界面活性劑之具體例而言，可舉例顯示如：聚氧乙烯月桂基醚、及聚氧乙烯硬脂醯醚等聚氧乙烯烷醚類；聚氧乙烯辛基苯醚、及聚氧乙烯壬基苯醚等聚氧乙烯烷基苯醚類；去水山梨醇單月桂酸酯、去水山梨醇單硬脂酸酯、及去水山梨醇三油酸酯等山梨醇高級脂肪酸酯類；聚氧乙烯去水山梨醇單月桂酸酯等聚氧乙烯去水山梨醇高級脂肪酸酯類；聚氧乙烯單月桂酸酯、及聚氧乙烯單硬脂酸酯等聚氧乙烯高級脂肪酸酯類；油酸單甘油酯、及硬脂酸單甘油酯等甘油高級脂肪酸酯類；以及聚氧乙烯‧聚氧丙烯‧崁段共聚合物、與聚氧乙烯二苯乙烯化苯醚等。
又，除上述非反應性界面活性劑以外，作為界面活性劑可使用具有乙烯性不飽和雙鍵之自由基聚合性官能基的反應性界面活性劑。作為反應性界面活性劑，例如有於前述陰離子系界面活性劑或非離子系界面活性劑導入丙烯基 或烯丙醚基等自由基聚合性官能基(自由基反應性基)之自由基聚合性界面活性劑等。該等界面活性劑適宜單獨或併用使用。該等界面活性劑之中，從水分散液之穩定性、及黏著劑層之耐久性之觀點看來，又以使用具有自由基聚合性官能基之自由基聚合性界面活性劑為宜。
就陰離子系反應性界面活性之具體例而言，例如有：烷醚系(市售品如：第一工業製藥株式會社製AQUARON KH-05、KH-10、KH-20、旭電化工業株式會社製ADEKA-REASOAP SR-10N、SR-20N、及花王株式會社製LATEMUL PD-104等)；磺琥珀酸酯系(市售品如：花王株式會社製LATEMUL S-120、S-120A、S-180P、S-180A，及三洋化成株式會社製ELEMINOL JS-2等)；烷基苯醚系或烷基苯酯系(市售品如：第一工業製藥株式會社製AQUARON H-2855A、H-3855B、H-3855C、H-3856、HS-05、HS-10、HS-20、HS-30、BC-05、BC-10、BC-20，及旭電化工業株式會社製ADEKA-REASOAP SDX-222、SDX-223、SDX-232、SDX-233、SDX-259、SE-10N、SE-20N)；(甲基)丙烯酸酯硫酸酯系(市售品如：日本乳化劑株式會社製ANTOX MS-60、MS-2N，及三洋化成工業株式會社製ELEMINOL RS-30等)；以及磷酸酯系(市售品如：第一工業製藥株式會社製H-3330PL，及旭電化工業株式會社製ADEKA-REASOAP PP-70等)。非離子系反應性界面活性劑例如有：烷醚系(市售品如：旭電化工業株式會社製ADEKA-REASOAP ER-10、ER-20、ER-30、ER-40，及花 王株式會社製LATEMUL PD-420、PD-430、PD-450等)；烷基苯醚系或烷基苯酯系(市售品如：第一工業製藥株式會社製AQUARON RN-10、RN-20、RN-30、RN-50，及旭電化工業株式會社製ADEKA-REASOAP NE-10、NE-20、NE-30、NE-40等)；以及(甲基)丙烯酸酯硫酸酯系(市售品如：日本乳化劑株式會社製RMA-564、RMA-568、RMA-1114等)。
前述界面活性劑之摻混比率相對於前述單體成分100重量份，以0.6~5重量份為宜。依照界面活性劑之摻混比率，可圖謀黏著特性，並進一步謀圖聚合穩定性、機械穩定性等之提升。前述界面活性劑之摻混比率以0.6~4重量份較佳。
此外，於形成黏著劑層之黏著劑中，還可連同上述(甲基)丙烯系聚合物等基質聚合物含有交聯劑。交聯劑可使用有機系交聯劑或多官能性金屬螫合劑。就有機系交聯劑而言，例如有：異氰酸酯系交聯劑、過氧化物系交聯劑、環氧系交聯劑、及亞胺系交聯劑等。多官能性金屬螫合劑係多價金屬與有機化合物共價鍵結或配位鍵結者。多價金屬原子例如有：Al、Cr、Zr、Co、Cu、Fe、N、V、Zn、In、Ca、Mg、Mn、Y、Ce、Sr、Ba、Mo、La、Sn、T等。共價鍵結或配位鍵結之有機化合物中之原子例如為氧原子等，有機化合物例如有：烷酯、醇化合物、羧酸化合物、醚化合物、及酮化合物等。
交聯劑以異氰酸酯系交聯劑及/或過氧化物形交聯劑為宜。異氰酸酯系交聯劑之化合物例如有：甲伸苯基二異 氰酸酯、氯伸苯基二異氰酸酯、四亞甲基二異氰酸酯、二甲苯撐基二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、經氫化之二苯基甲烷二異氰酸酯等異氰酸酯單體、及將該等異氰酸酯單體與三羥甲基丙烷等加成之異氰酸酯化合物或異三聚氰酸酯化物與縮二脲型化合物，還有聚醚多元醇或聚酯多元醇、丙烯基多元醇、聚丁二烯多元醇、及聚異戊二烯多元醇等經加成反應之胺甲酸乙酯預聚合物型之異氰酸酯等。尤其理想為聚異氰酸酯化合物，即選自於由六亞甲基二異氰酸酯、氫化二甲苯撐基二異氰酸酯及異佛酮二異氰酸酯所構成之群組中之1種或源自於其之聚異氰酸酯化合物。在此，選自於由六亞甲基二異氰酸酯、氫化二甲苯撐基二異氰酸酯、及異佛酮二異氰酸酯所構成之群組中之1種或源自於其之聚異氰酸酯化合物中含有六亞甲基二異氰酸酯、氫化二甲苯撐基二異氰酸酯、異佛酮二異氰酸酯、多元醇改質六亞甲基二異氰酸酯、多元醇改質氫化二甲苯撐基二異氰酸酯、三聚型氫化二甲苯撐基二異氰酸酯、及多元醇改質異佛酮二異氰酸酯等。經舉例顯示之聚異氰酸酯化合物與羥基之反應尤其是將含於聚合物中之酸基、與鹼基作為催化劑而迅速發展，因此尤其可貢獻交聯之快速而相當適宜。
過氧化物只要是可藉由加熱或光照射產生自由基活性種使進行黏著劑之基質聚合物之交聯者即可適當使用，有鑒於作業性或穩定性，宜使用1分鐘半週期溫度在80℃~160℃之過氧化物，較宜使用90℃~140℃之過氧化物。
可使用之過氧化物例如有：過氧二碳酸二(2-乙基己基)酯(1分鐘半週期溫度：90.6℃)、過氧二碳酸二(4-三級丁基環己基)酯(1分鐘半週期溫度：92.1℃)、過氧二碳酸二-二級丁酯(1分鐘半週期溫度：92.4℃)、過氧新癸酸三級丁基酯(1分鐘半週期溫度103.5℃)、過氧三甲基乙酸三級己酯(1分鐘半週期溫度109.1℃)、過氧三甲基乙酸三級丁酯(1分鐘半週期溫度110.3℃)、二月桂醯基過氧化物(1分鐘半週期溫度116.4℃)、二-正辛醯基過氧化物(1分鐘半週期溫度117.4℃)、1,1,3,3-四甲基丁基過氧-2-己酸乙酯(1分鐘半週期溫度124.3℃)、二(4-甲基苯甲醯基)過氧化物(1分鐘半週期溫度128.2℃)、二苯甲醯過氧化物(1分鐘半週期溫度130.0℃)、過氧異丁酸三級丁基酯(1分鐘半週期溫度136.1℃)、及1,1-二(三級己基過氧基)環己烷(1分鐘半週期溫度149.2℃)等。之中，又以尤其具有良好的交聯反應效率之觀點看來，宜使用過氧二碳酸二(4-三級丁基環己基)酯(1分鐘半週期溫度：92.1℃)、二月桂醯基過氧化物(1分鐘半週期溫度16.4℃)、及二苯甲醯過氧化物(1分鐘半週期溫度130.0℃)等。
而，過氧化物之半週期係表現過氧化物之分解速度之指標，指過氧化物之殘量剩下一半之時間。有關用於以任意時間量獲得半週期之分解溫度或任意溫度中之半週期時間，係記載在廠商目錄等中，如記載於日本油脂株式會社之「有機過氧化物目錄第9版(2003年5月)]等中。
交聯劑之使用量係以相對於(甲基)丙烯系聚合物等之基質聚合物100重量份，0.01~20重量份為宜，又以0.03~10 重量份較佳。而，若交聯劑小於0.01重量份，會有黏著劑之凝聚力不足之傾向，加熱時可能會有產生發泡之虞，另一方面，若超過20重量份，耐濕性會不夠充分而易在可靠性試驗等中產生剝落。
上述異氰酸酯系交聯劑可1種單獨使用，又可混合2種以上使用，作為全體之含量係以相對於前述(甲基)丙烯系聚合物100重量份，含有前述聚異氰酸酯化合物交聯劑0.01~2重量份而形成為宜，含有0.02~2重量份而形成較佳，含有0.05~1.5重量份而形成更佳。可在慮及阻止凝聚力與耐久性試驗中之剝離等而適當含有。
前述過氧化物可1種單獨使用，又可混合2種以上使用，作為全體之含量係以相對於前述(甲基)丙烯系聚合物100重量份，前述過氧化物為0.01~2重量份，且以含有0.04~1.5重量份而形成為宜，含有0.05~1重量份而形成較佳。用以在加工性、二次加工性、交聯穩定性、與剝離性等之調整下，可在該範圍內適當選擇。
而，反應處理後之殘存過氧化物分解量之測定方法可藉由例如HPLC(高性能液體層析)測定。
較具體而言，例如，可將反應處理後之黏著劑個別取出約0.2g浸泡於乙酸乙酯10ml中，在搖盪裝置中25℃溫度下以120rpm搖盪3小時加以抽出後，在室溫下靜置3日。再來，加上乙腈10ml，在25℃溫度下以120rpm搖盪30分鐘，將藉由膜片過濾器(0.45μm)所過濾而製得之抽出液注入HPLC中約10μl並加以分析而設為反應處理後之過氧化物 量。
此外，本發明之黏著劑中可含有矽烷偶合劑。藉由使用矽烷偶合劑可提升耐久性。具體而言，矽烷偶合劑例如有：3-縮水甘油氧丙基三甲氧矽烷、3-縮水甘油氧丙基三乙氧矽烷、3-縮水甘油氧丙基甲基二乙氧矽烷、2-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧矽烷等含環氧基之矽烷偶合劑、3-胺基丙基三甲氧基硅烷、N-2-(胺基乙基)-3-胺基丙基甲基二甲氧矽烷、3-三乙氧矽基-N-(1,3-二甲基亞丁基)丙胺、N-苯基-γ-胺基丙基三甲氧基硅烷等含胺基之矽烷偶合劑、3-丙烯醯氧基丙基三甲氧矽烷、及3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧矽烷等含(甲基)丙烯基之矽烷偶合劑，與3-異氰酸酯丙基三乙氧矽烷等含異氰酸酯基之矽烷偶合劑等。
前述矽烷偶合劑可單獨使用，又可混合2種以上使用，作為全體之含量係以相對於前述(甲基)丙烯系聚合物100重量份，前述矽烷偶合劑在0.001~5重量份為宜，又以0.01~1重量份為佳，以0.02~1重量份較佳，以0.05~0.6重量份更佳。上述重量份為使耐久性提升並適度保持對液晶胞元等光學構件之接著力之份量。
此外，本發明之黏著劑中亦可含有其他公知添加劑，可因應使用用途適宜添加如：著色劑、顏料等粉體、染料、界面活性劑、塑化劑、增黏劑、表面潤滑劑、調平劑、軟化劑、抗氧化劑、抗老化劑、光穩定劑、紫外線吸收劑、聚合禁止劑、無機或有機之填充劑、金屬粉、粒子狀物、箔狀物等。又，在可控制之範圍內，可採用添加還原劑之 氧化還原系。
藉由上述黏著劑可形成黏著劑層。黏著劑通常係依照基質聚合物之調製形態，作為有機溶劑系、水系、及水分散系(乳液體系)等各種形態之黏著劑塗裝液使用。黏著劑塗裝液可因應各形態控制固體成分濃度。例如，有機溶劑系之黏著劑塗裝液通常以固體成分濃度5~50重量%者為宜，以8~40重量%較佳，又以20~35重量%更佳。又，水系或水分散系之黏著劑塗裝液通常以固體成分濃度20~70重量%者為宜，以30~65重量%較佳。而，有關各例之黏著劑塗裝液之調製，若為有機溶劑系之黏著劑可使用各種有機溶劑，若為水系或水分散系之黏著劑可使用水進行各個黏著劑之稀釋，以調整黏著劑塗裝液之固體成分濃度與黏度。
黏著劑層之厚度並未有特別限制，例如可在1~100μm左右，理想為2~50μm，較理想為2~40μm，更理想為5~35μm。
又，前述黏著劑層之厚度(μm)係控制在使標準偏差值在0.12μm以下。藉由將標準偏差值控制在0.12μm以下，在具有清晰外觀的情況下亦可減低基於黏著型光學薄膜之可視性之不均勻問題。標準偏差值在0.08μm以下為宜，又以0.06μm以下較佳。
例如，具有滿足上述標準偏差值0.12μm以下之黏著劑層之本發明之黏著劑型光學薄膜可藉由實施下列製法(A)與製法(B)兩種方法而製造，即：製法(A)： 步驟(1A)，以塗裝厚度X(μm)將黏度Y(P)之黏著劑塗裝液塗裝於光學薄膜；及步驟(2A)，將塗裝好之黏著劑塗裝液加以乾燥形成黏著劑層。或製法(B)：步驟(1B)，以塗裝厚度X(μm)將黏度Y(P)之黏著劑塗裝液塗裝於脫模薄膜；步驟(2B)，將塗裝好之黏著劑塗裝液加以乾燥形成黏著劑層；及步驟(3)，使形成於脫模薄膜之黏著劑層黏貼至光學薄膜。
但，上述製法(A)之塗裝步驟(1A)、與上述製法(B)之塗裝步驟(1B)中，皆必須以前述黏著劑塗裝液之黏度Y與塗裝厚度X滿足0.8X-Y≦68的方式控制進行。藉由控制黏著劑塗裝液之黏度Y與塗裝厚度X以使滿足0.8X-Y≦68，可形成將黏著劑層厚度之凹凸不一致縮小且具有良好平滑性之黏著劑層。依據上述製法(A)、與製法(B)，可形成滿足標準偏差值0.12μm以下之黏著劑層。(0.8X-Y)之值若超過68，會無法減低基於黏著型光學薄膜之可視性之不均勻問題。(0.8X-Y)之值在60以下為宜，又以在50以下較佳。另一方面，從黏著劑塗裝液之塗裝性觀點看來，(0.8X-Y)之值以滿足-144以上為佳。
又，從均勻塗裝黏著劑塗裝液之觀點看來，宜將黏著劑塗裝液之黏度Y控制在2~160P之範圍內。若為有機溶劑 系黏著劑，前述黏著劑塗裝液之黏度Y宜為5~160P，以10~150P為佳，以20~140P較佳，又以40~140P更佳。若為水系或水分散系黏著劑，前述黏著劑塗裝液之黏度Y以2~100P為佳，以5~50P較佳，以10~40P更佳。黏著劑塗裝液之黏度Y若過低，會有損害已塗裝之黏著劑之外觀之虞，黏著劑塗裝液之黏度Y若過高，塗裝外觀會降低且難以送液等作業性降低，因此不勝理想。
又，從均勻塗裝黏著劑塗裝液之觀點看來，宜將前述黏著劑塗裝液之塗裝厚度X控制在20~250μm之範圍內。塗裝厚度X以30~230μm為宜，又以50~200μm較佳。而，塗裝厚度X係考慮形成之黏著劑層之厚度(乾燥後厚度)而決定。塗裝厚度X過薄或過厚都有損害塗裝外觀之虞。
於上述塗裝步驟(1A)、(1B)可使用各種方法。具體而言，例如有：輥塗、接觸輥塗、凹版塗膜、反向塗膜、輥刷、噴塗膜、浸漬輥塗、棒塗佈、刀塗佈、氣刀塗佈、簾狀塗膜、模嘴塗佈(lip coating)、及模塗佈機等之擠壓塗佈法等方法。該等中又以模塗佈機為宜，尤以使用噴射鑄模(fountain die)、或縫鑄模之模塗佈機為宜。而，在製法(A)中係於光學薄膜實施塗裝步驟(1A)，在製法(B)中係於脫模薄膜實施塗裝步驟(1B)。
再來，在製法(A)、(B)中實施黏著劑層之形成步驟(2A)、(2B)。在形成步驟(2A)、(2B)中，對於已塗裝之黏著劑塗裝液通常會實施乾燥。乾燥溫度理想為40℃~200℃，更理想為50℃~180℃，尤其理想為70℃~170℃。乾燥時間可適當 採用適宜的時間。上述乾燥時間理想為5秒鐘~20分鐘，更理想為5秒鐘~10分鐘，尤其理想為10秒鐘~5分鐘。
黏著劑含有交聯劑時，在黏著劑層之形成宜調整交聯劑全體之添加量，並且充分考慮交聯處理溫度與交聯處理時間之影響。又，該交聯處理可以黏著劑層之乾燥步驟時之溫度進行，亦可於乾燥步驟後另外設置交聯處理步驟。
在製法(A)中，藉由上述黏著劑層之形成步驟(2A)可直接於光學薄膜形成黏著劑層製得黏著型光學薄膜。另一方面，在製法(B)中，藉由上述黏著劑層之形成步驟(2B)可於脫模薄膜上形成黏著劑層，然後藉由將該黏著劑層黏貼至光學薄膜之步驟(3)將該黏著劑層轉印至光學薄膜，製得黏著型光學薄膜。而，在第2圖或第3圖中所記載之黏著型偏光板之作成，可使用偏光板A1或A2作為光學薄膜1，在製法(A)、(B)任一者中，黏著劑層2皆是設置在偏光板A1或A2中不具有第一透明保護薄膜b1之側。
作為脫模薄膜之構成材料，例如有：聚乙烯、聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚酯薄膜等之塑膠薄膜、紙、布、不織布等多孔質材料、網狀物、發泡薄片、金屬箔、及該等層合成物等適當的薄片物等，從具有良好的表面平滑性之優點看來，適合使用塑膠薄膜。
其塑膠薄膜只要為可保護前述黏著劑層之薄膜便無特別限定，例如可為：聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、聚丁烯薄膜、聚丁二烯薄膜、聚甲基戊烯薄膜、聚氯乙烯薄膜、氯乙烯共聚物薄膜、聚對苯二甲酸乙二酯薄膜、聚對苯二甲 酸丁二酯薄膜、聚胺基甲酸酯薄膜、及乙烯-乙酸乙酯共聚物薄膜等。
前述脫模薄膜之厚度通常為5~200μm，理想為5~100μm左右。視情況，可對前述脫模薄膜進行矽氧系、氟系、長鏈烷基系或脂肪酸醯胺系之脫模劑與氧化矽粉等之脫模及防污處理，或可進行塗裝型、揉合型、蒸鍍型等靜電防止處理。尤其，藉由對前述脫模薄膜之表面適當地進行矽氧處理、長鏈烷基處理、與氟處理等剝離處理，可更加提高從前述黏著劑層之剝離性。
前述黏著劑層若有露出，可以脫模薄膜保護黏著劑層直到供於實際使用。而，上述剝離薄膜可直接作為黏著型光學薄膜之隔板使用而達到步驟面之簡化。
又，為使提升與黏著劑層之間之密接性，可於光學薄膜(當光學薄膜為偏光板時係不具有第一透明保護薄膜之側)之表面形成固定層，或可於施加電暈處理與電漿處理等各種簡易接著處理之後形成黏著劑層。又，亦可於黏著劑層之表面進行簡易接著處理。
作為上述固定層之形成材料，理想可使用選自聚胺基甲酸酯、聚酯、於分子中含有胺基之聚合物類、及含有唑啉基之聚合物類之固定劑，尤其理想為於分子中含有胺基之聚合物類、與含有唑啉基之聚合物類。於分子中含有胺基之聚合物類、與含有唑啉基之聚合物類由於可顯示分子中之胺基與唑啉基與黏著劑中之羧基等反應或離子相互作用等相互作用，因此可確保良好的密接性。
於分子中含有胺基之聚合物類可如：聚乙烯亞胺、聚烯丙胺、聚乙烯胺、聚乙烯吡啶、聚乙烯吡咯啶、及二甲基胺基乙基丙烯酸酯等含胺基之單體之聚合物等。
本發明之黏著型偏光板等黏著型光學薄膜可適用於液晶顯示裝置等各種影像顯示裝置之形成等。液晶顯示裝置之形成可依循習知進行。即，液晶顯示裝置一般係將液晶胞元等顯示面板與黏著型偏光板、及視情況將照明系統等之構成零件適當組裝並裝入驅動電路等而形成。在本發明中，使用本發明之黏著型偏光板時，除使用在就液晶胞元而言之可視側之一點以外，並無特別限定，可依循習知。有關液晶胞元亦可使用例如TN型或STN型、π型、VA型、與IPS型等任意類型等之任意類型者。
可形成於液晶胞元等顯示面板之一側或兩側配置有黏著型偏光板之液晶顯示裝置，或可形成於照明系統使用背光或反射板者等適當的液晶顯示裝置。本發明之黏著型偏光板可設置在液晶胞元等顯示面板之一側或兩側。若於兩側設置本發明之黏著型偏光板，該等可為相同者，亦可為相異者。此外，液晶顯示裝置之形成之際，可將如擴散板、防眩層、抗反射膜、保護板、稜鏡列、透鏡陣列片、光擴散板、與背光等適當零件配置在適當位置1層或2層以上。
接下來，說明有機電致發光裝置(有機EL顯示裝置：OLED)。一般而言，有機EL顯示裝置係依序將透明電極、有機發光層與金屬電極積層於透明基板上而形成發光體(有機電致發光發光體)。在此，有機發光層為各種有機薄 膜之積層體，例如：公知有由三苯胺衍生物等所構成之電洞注入層與由蒽等螢光性有機固體所構成之發光層之積層體，或由此種發光層與苝衍生物等所構成之電子注入層之積層體，又或是該等電洞注入層、發光層、及電子注入層之積層體等具有各種組合之構成。
有機EL顯示裝置係以下列原理發光，即：藉由對透明電極與金屬電極施加電壓將電洞與電子注入有機發光層，再藉由該等電洞與電子之再結合而生成之能量來激發螢光物資，然後於已激發之螢光物質恢復到基態時放射光。途中之再結合之機制與一般的二極體相同，由此可推測，電流與發光強度相對於施加電壓會顯現伴隨整流性之明顯的非線形性。
在有機EL顯示裝置中，為了取出在有機發光層之發光，至少一方之電極必須為透明，通常係將以氧化銦錫(ITO)等透明導電體所形成之透明電極作為陽極使用。另一方面，為使容易進行電子注入提高發光效率，在陰極使用功函數小之物質相當重要，通常係使用Mg-Ag、或Al-Li等金屬電極。
在此種構成之有機EL顯示裝置中，有機發光層之厚度若在10nm左右，係以極薄之膜所形成。因此，有機發光層亦與透明電極同樣地可使光大致完全穿透。所以，非發光時從透明基板表面入射並穿透透明電極與有機發光層在金屬電極反射之光會再次射出透明基板表面側，因此從外部可視時，有機EL顯示裝置之顯示面看似鏡面。
在包含有機電致發光發光體之有機EL顯示裝置中，可在透明電極之表面側設置偏光板，並於該等透明電極與偏光板之間設置相位差板。該有機電致發光發光體係於藉由電壓施加而發光之有機發光層之表面側具備透明電極且於有機發光層之內面側具備金屬電極所構成。
相位差板及偏光板具有可使從外部入射在金屬電極反射進來之光偏光之作用，因而因其偏光作用具有無法從外部可視金屬電極之鏡面之效果。尤其，只要以1/4波長板構成相位差板，且將偏光板與相位差板之偏光方向所形成之角度調整為π/4，即可完全遮蔽金屬電極之鏡面。
即，入射該有機EL顯示裝置之外部光透過偏光板僅直線偏光成分可穿透。該直線偏光因相位差板一般會變成橢圓偏光，然而，尤其在相位差板為1/4波長板且偏光板與相位差板之偏光方向所形成之角度在π/4時，該直線偏光為圓偏光。
該圓偏光會穿透透明基板、透明電極與有機薄膜在金屬電極反射，並再次穿透有機薄膜、透明電極與透明基板而再度於相位差板成為直線偏光。而且，由於該直線偏光與偏光板之偏光方向呈正交，因此無法穿透偏光板。所以，可完全遮蔽金屬電極之鏡面。
如上述，在有機EL顯示裝置中，為使遮蔽鏡面反射，可於有機EL面板隔著黏著劑層使用組合相位差板及偏光板之橢圓偏光板或圓偏光板，除此之外，可將未將橢圓偏光板或圓偏光板直接黏貼於有機EL面板而隔著黏著劑層將橢 圓偏光板或圓偏光板黏貼至觸控板者適用於有機EL面板。
在本發明中適用之觸控板可採用光學方式、超音波方式、靜電容方式、與光阻膜方式等各種方式。光阻膜方式之觸控板係將具有透明導電性薄膜之觸控側之觸控板用電極板及具有透明導電性薄膜之顯示器側之觸控板用電極板，隔著隔片呈相對向配置使透明導電性薄膜彼此呈相對向所構成者。此外，靜電容方式之觸控板通常是具備有具有預定圖案形狀之透明導電性薄膜的透明導電性薄膜形成在顯示器顯示部之全面。本發明之黏著型光學薄膜可適用於觸控側、或顯示器側中任一側。
實施例
以下將藉由實施例具體說明本發明，但本發明並非受該等實施例限定者。而，各例中之份及%皆為重量基準。以下未特別規定之室溫放置條件全部為23℃且65%RH。
[(甲基)丙烯系聚合物之重量平均分子量測定]
(甲基)丙烯系聚合物之重量平均分子量及分散比(重量平均分子量/數平均分子量)係藉由GPC(透膠層析術)所測定。
‧ 分析裝置：東曹(株)製、HLC-8120GPC
‧ 管柱：東曹社製、G7000HXL +GMHXL +GMHXL
‧ 管柱大小：各7.8mmφ×30cm，計90cm
‧ 管柱溫度：40℃
‧ 流量：0.8ml/min
‧ 注入量：100μl
‧ 溶離液：四氫呋喃
‧ 檢測器：示差折射計(RI)
‧ 標準試料：聚苯乙烯
[霧度]
透明保護薄膜之霧度(%)測定係使用霧度計(HM-150型，(株)村上色彩技術研究所社製)所進行。
[黏著劑塗裝液之黏度Y]
黏著劑塗裝液之黏度Y(P)係使用東機產業(株)製之VISCOMETER model BH以下述條件所測定。
旋轉器：No.4
旋轉數：20rpm
測定溫度：30℃
[黏著劑塗裝液之厚度X]
黏著劑塗裝液之厚度X(μm)係藉由下述算式，從塗裝後以乾燥所形成之黏著劑層之厚度(μm)與黏著劑塗裝液之固體成分濃度(%)所算出之值。
黏著劑塗裝液之厚度X(μm)={(黏著劑層之厚度(μm))/(黏著劑塗裝液之固體成分濃度(%))}×100
<丙烯系黏著劑(1)之調製>
於具備冷卻管、氮導入管、溫度計及攪拌裝置之反應容器中，相對於前述單體合計(固體成分)100份，連同乙酸乙酯加入丙烯酸丁酯99份、丙烯酸4-羥丁酯1份、及2,2-偶氮雙異丁腈0.3份，並在氮氣氣流下以60℃反應4小時後，於其反應液中加入乙酸乙酯而製得含有重量平均分子量 170萬且分散比4.1之丙烯系聚合物(A)之溶液(固體成分濃度30%)。於含有前述丙烯系聚合物(A)之溶液之固體成分100份左右摻混0.15份之三羥甲基丙烷二甲苯撐基二異氰酸酯(三井武田化學(株)：TAKENATE D110N)、及0.2份之矽烷偶合劑(綜研化學(株)製：A-100、含乙醯乙醯基之矽烷偶合劑)，而製得丙烯系黏著劑(1)之溶液。
<丙烯系黏著劑(2)之調製>
於具備有冷卻管、氮導入管、溫度計及攪拌裝置之反應容器中，相對於前述單體合計(固體成分)100份，連同乙酸乙酯加入丙烯酸丁酯94.9份、丙烯酸5份、丙烯酸2-羥乙酯0.1份、及二苯甲醯基過氧化物0.3份，並在氮氣氣流下以60℃反應7小時後，於其反應液中加入乙酸乙酯而製得含有重量平均分子量220萬且分散比3.9之丙烯系聚合物(B)之溶液(固體成分濃度30%)。於含有前述丙烯系聚合物(B)之溶液之固體成分100份左右摻混0.6份之三羥甲基丙烷甲伸苯基二異氰酸酯(日本聚氨酯工業(株)製：CORONATE L)、及0.075份之γ-縮水甘油氧丙基甲氧矽烷(信越化學工業(株)製：KBM-403)，而製得丙烯系黏著劑(2)之溶液。
<丙烯系黏著劑(3)之調製>
於具備有冷卻管、氮導入管、溫度計及攪拌裝置之反應容器中，相對於前述單體合計(固體成分)100份將丙烯酸丁酯94.9份、丙烯酸5份、丙烯酸2-羥乙酯0.1份、及二苯甲醯基過氧化物0.3份加入乙酸乙酯與甲苯之重量比5：5之混合溶劑中，在氮氣氣流下以60℃反應7小時後，於其反應液 中加入乙酸乙酯，而製得含有重量平均分子量50萬且分散比5之丙烯系聚合物(C)之溶液(固體成分濃度50%)。於含有前述丙烯系聚合物(C)之溶液之固體成分100份左右摻混0.6份之三羥甲基丙烷甲伸苯基二異氰酸酯(日本聚氨酯工業(株)製：CORONATE L)、及0.075份之γ-縮水甘油氧丙基甲氧矽烷(信越化學工業(株)製：KBM-403)，而製得丙烯系黏著劑(3)之溶液。
<丙烯系黏著劑(4)之調製>
於具備有冷卻管、氮導入管、溫度計及攪拌裝置之反應容器中，相對於前述單體合計(固體成分)100份將丙烯酸丁酯94.9份、丙烯酸5份、丙烯酸2-羥乙酯0.1份、及二苯甲醯基過氧化物0.3份加入乙酸乙酯與甲苯之重量比8：2之混合溶劑中，在氮氣氣流下以60℃反應7小時後，於其反應液中加入乙酸乙酯，而製得含有重量平均分子量100萬且分散比4之丙烯系聚合物(D)之溶液(固體成分濃度50%)。於含有前述丙烯系聚合物(D)之溶液之固體成分100份左右摻混0.6份之三羥甲基丙烷甲伸苯基二異氰酸酯(日本聚氨酯工業(株)製：CORONATE L)、及0.075份之γ-縮水甘油氧丙基甲氧矽烷(信越化學工業(株)製：KBM-403)，而製得丙烯系黏著劑(4)之溶液。
<丙烯系黏著劑(5)之調製>
於具備有冷卻管、氮導入管、溫度計及攪拌裝置之反應容器中，相對於前述單體合計(固體成分)100份將丙烯酸丁酯94.9份、丙烯酸5份、丙烯酸2-羥乙酯0.1份、及二苯甲 醯基過氧化物0.3份加入乙酸乙酯與甲苯之重量比6：4之混合溶劑中，在氮氣氣流下以60℃反應7小時後，於其反應液中加入乙酸乙酯，而製得含有重量平均分子量70萬且分散比4.8之丙烯系聚合物(E)之溶液(固體成分濃度50%)。於含有前述丙烯系聚合物(E)之溶液之固體成分100份左右摻混0.6份之三羥甲基丙烷甲伸苯基二異氰酸酯(日本聚氨酯工業(株)製：CORONATE L)、及0.075份之γ-縮水甘油氧丙基甲氧矽烷(信越化學工業(株)製：KBM-403)，而製得丙烯系黏著劑(5)之溶液。
<丙烯系黏著劑(6)之調製>
於容器中加入丙烯酸丁酯980份及丙烯酸20份混合調製單體混合物。再來，相對於以上述比率所調製之單體混合物1000份，加入反應性界面活性劑之AQUARON HS-10(第一工業製藥(株)製)20份及離子交換水635份，使用均質機(特殊機化工業(株)製)以5分鐘6000(rpm)攪拌強制乳化而調製出單體乳液體。將上述所調製之單體乳液體200份及離子交換水330份饋入具備有冷卻管、氮導入管、溫度計、滴液漏斗及攪拌葉片之反應容器中，再將反應容器予以充分進行氮取代後添加過硫酸銨0.6份加以攪拌並以60℃進行聚合1小時。再來，將反應容器保持在60℃的狀態將剩餘的單體乳液體800份以3小時滴下該容器中，其後，進行聚合3小時而製得含有固體成分濃度46.2%之(甲基)丙烯系聚合物(F)之乳液體粒子之水分散液。然後，將該水分散液冷卻至室溫後，於其中添加濃度10%之氨水使pH為8，且製得調 整成固體成分45.9%之水分散液。將該分散液作為丙烯系黏著劑(6)使用。
<丙烯系黏著劑(7)之調製>
於含有在丙烯系黏著劑(1)中所調製之丙烯系聚合物(A)之溶液之固體成分100份左右摻混0.3份之二苯甲醯過氧化物(日本油脂(株)製：NYPER BMT)、0.02份之三羥甲基丙烷二甲苯撐基二異氰酸酯(三井武田化學(株)：TAKENATE D110N)、及0.2份之矽烷偶合劑(綜研化學(株)製：A-100、含乙醯乙醯基之矽烷偶合劑)，而製得丙烯系黏著劑(7)之溶液。
<丙烯系黏著劑(8)之調製>
於具備有冷卻管、氮導入管、溫度計及攪拌裝置之反應容器中，相對於前述單體合計(固體成分)100份，連同乙酸乙酯加入丙烯酸丁酯81.9份、丙烯酸苯甲酯13.0份、丙烯酸5.0份、丙烯酸4-羥丁酯0.1份、及2,2’-偶氮雙異丁腈0.1份，在氮氣氣流下以55℃反應8小時後，於其反應液中加入乙酸乙酯，而製得含有重量平均分子量200萬且分散比3之丙烯系聚合物(G)之溶液(固體成分濃度30%)。於含有前述丙烯系聚合物(G)之溶液之固體成分100份左右摻混0.09份之二苯甲醯過氧化物(日本油脂(株)製：NYPER BMT)、0.45份之三羥甲基丙烷甲伸苯基二異氰酸酯(日本聚氨酯工業(株)製：CORONATE L)、0.2份之γ-縮水甘油氧丙基甲氧矽烷(信越化學工業(株)製：KBM-403)及0.25份之聚醚化合物((株)KANEKA製：Silyl SAT10)，而製得丙烯系黏著劑(8) 之溶液。
<丙烯系黏著劑(9)之調製>
於含有在丙烯系黏著劑(1)中所調製之丙烯系聚合物(A)之溶液之固體成分100份左右摻混0.3份之二苯甲醯過氧化物(日本油脂(株)製：NYPER BMT)、0.1份之三羥甲基丙烷二甲苯撐基二異氰酸酯(三井武田化學(株)：TAKENATE D110N)、及0.2份之矽烷偶合劑(綜研化學(株)製：A-100、含乙醯乙醯基之矽烷偶合劑)，而製得丙烯系黏著劑(9)之溶液。
<偏光元件(1)之製作>
將厚度80μm之聚乙烯醇薄膜在速度比相異的捲輥間以30℃且0.3%濃度之碘溶液中染色1分鐘並延伸至3倍。其後，浸泡於60℃且包含4%濃度之硼酸與10%濃度之碘化鉀之水溶液中0.5分鐘使總和延伸倍率延伸至6倍。再來，藉由浸泡於30℃且1.5%濃度之碘化鉀之水溶液中10秒鐘加以洗淨後，以50℃進行4分鐘乾燥而製得厚度20μm之偏光元件。
<偏光元件(2)之製作>
使用在上述參考製造例1所製得之薄型高功能偏光膜(厚度5μm)。
<偏光元件(3)之製作>
使用在上述參考製造例2所製得之薄型高功能偏光膜(厚度3μm)。
<偏光元件(4)之製作>
為了製作薄型偏光膜，首先將於非晶形PET基材製膜有9μm厚之PVA層之積層體以延伸溫度130℃之空中輔助延伸藉以生成延伸積層體，接下來，將延伸積層體以染色藉以生成著色積層體，然後將著色積層體以延伸溫度65度之硼酸水中延伸以使總延伸倍率成為5.94倍，而生成包含與非晶形PET基材一體延伸之4μm厚的PVA層之光學薄膜積層體。藉由此種2段延伸，可生成構成高功能偏光膜且包含厚度4μm之PVA層之光學薄膜積層體，該高功能偏光膜係使製膜於非晶形PET基材之PVA層之PVA分子高階定向，且將藉由染色所吸附之碘作為聚碘離子錯合物往一方向高階定向者。
(透明保護薄膜)
使用下述透明保護薄膜。表1、表2中之符號表示下述內容。
40TAC：厚度40μm之三醋酸纖維素薄膜(霧度值0.3%，柯尼卡美能達社製之KC4UY)。
80TAC：厚度80μm之三醋酸纖維素薄膜(霧度值0.3%，富士薄膜社製之TD80UL)。
20丙烯：厚度20μm之丙烯酸系樹脂薄膜(霧度值0.2%)。
22 ZEONOR：厚度22μm之環狀烯烴系樹脂薄膜(霧度值0.1%，日本ZEON(株)製之ZEONORZD12)。
40 APET：厚度40μm之非晶形聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(霧度值0.2%，三菱樹脂(株)製之NOVACLEAR)。
(相位差板)
使用下述相位差板。表2中之符號表示下述內容。
50聚碳酸：厚度50μm之聚碳酸薄膜(相位差147nm，帝人(株)製之PURE-ACE WR)。
34烯烴：厚度34μm之環狀烯烴系樹脂薄膜(相位差140nm，(株)KANEKA(株)製之薄膜)。
33烯烴：厚度33μm之環狀烯烴系樹脂薄膜(相位差270nm，(株)KANEKA(株)製之薄膜)。
(光學薄膜)
使用下述光學薄膜。表3中之符號表示下述內容。
40TAC：厚度40μm之三醋酸纖維素薄膜(霧度值0.3%，柯尼卡美能達社製之KC4UY)。
60TAC：厚度80μm之三醋酸纖維素薄膜(霧度值0.3%，富士薄膜社製之TD60UL)。
80TAC：厚度80μm之三醋酸纖維素薄膜(霧度值0.3%，富士薄膜社製之TD80UL)。
30丙烯：厚度30μm之丙烯酸系樹脂薄膜(霧度值0.2%)。
而，表3中，40TAC：*1係使用藉由下述方法所作成之防眩性硬塗薄膜。40TAC：*2係使用抗反射膜(大日本印刷(株)製之商品名「DSG-03」)。
(防眩性硬塗薄膜之製作)
準備使結合無機酸化物粒子與包含聚合性不飽和基之有機化合物所構成之奈米氧化矽粒子分散之硬塗層形成材料料(JSR(株)製商品名「OPSTAR Z7540」，固體成分：56重量%，溶劑：乙酸丁酯/甲基乙基酮(MEK)=76/24(重量 比))。前述硬塗層形成材料料係以(A)成分合計(B)成分=2：3之重量比含有(A)成分：二新戊四醇及異佛酮二異氰酸酯系聚胺基甲酸酯、及(B)成分：以有機分子修飾表面之氧化矽微粒子(重量平均粒徑100nm以下)。於前述硬塗層形成材料料之樹脂固體成分100重量份左右混合丙烯與苯乙烯之交聯粒子(積水化成品工業(株)製商品名「TECHPOLYMER XX80AA」，重量平均粒徑：5.5μm，折射率1.515)5重量份作為微粒子，均染劑(大日本油墨化學工業(株)製、商品名「GRANDICPC-4100」)0.1重量份，及光聚合起始劑(Chiba Specialty Chemicals社製商品名「IRGACURE 127」)0.5重量份。將該混合物稀釋使固體成分濃度為45重量%且乙酸丁酯/MEK比率為2/1(重量比)，而調製防眩性硬塗層形成材料料。
準備三醋酸纖維素薄膜(柯尼卡美能達(株)製商品名「KC4UY」，厚度40μm)作為透明塑膠薄膜基材。使用逗點型塗布機(comma coater)將前述防眩性硬塗層形成材料料塗佈於前述透明塑膠薄膜基材之一面形成塗膜。再來，以100℃加熱1分鐘使前述塗膜乾燥。其後，於高壓水銀燈照射積算光量300mJ/cm2 之紫外線將前述塗膜予以硬化處理形成厚度9μm之防眩性硬塗層而製得防眩性硬塗薄膜。
實施例1 (偏光板之製作)
於偏光元件(1)之兩側藉由聚乙烯醇系接著劑黏貼厚度40μm之三醋酸纖維素薄膜(霧度值0.3%，柯尼卡美能達社製 之KC4UY)作為第一及第二透明保護薄膜製作偏光板。
(黏著劑塗裝液之調製)
以乙酸乙酯稀釋上述製造例1中所調製之丙烯系黏著劑(1)之溶液，以使固體成分濃度成為15%而調製出黏著劑塗裝液。該黏著劑塗裝液之黏度為65P。
(黏著型偏光板之製作)
於施加有矽氧處理之38μm之聚對苯二甲酸乙二酯(PET)薄膜(三菱化學聚酯薄膜(株)製MRF38)之一面，使用噴射鑄模塗佈機塗裝上述中所調製之黏著劑塗裝液，以使塗裝厚度成為134.0μm。再來，以155℃進行1分鐘乾燥形成厚度20μm之黏著劑層。將該黏著劑層轉印至上述中所製作之偏光板之第二透明保護薄膜之側，製作黏著型偏光板。
實施例2~29及比較例1~4
除將實施例1中黏著型偏光板之製作使用作為偏光板使用表1中顯示之偏光元件、與第一及第二透明保護薄膜所製作之偏光板，作為黏著劑塗裝液使用表1中顯示之黏著劑塗裝液，將黏著劑塗裝液之塗裝厚度改變如表1顯示，及將黏著劑層之厚度改變如表1顯示以外，設為與實施例1相同而製作黏著型偏光板。而，有關偏光元件(2)、(3)、(4)，係於所製得之積層體薄膜或光學薄膜積層體之偏光膜表面塗佈聚乙烯醇系接著劑並黏貼第一透明保護薄膜後，剝離非晶形PET基材再藉由聚乙烯醇系接著劑黏貼第二透明保護薄膜而製作偏光板。在未使用第二透明保護薄膜之偏光板中，黏著劑層係轉印於偏光膜而製作黏著型偏光板。
實施例30~37及比較例5~8
除將實施例1中黏著型偏光板之製作使用作為偏光板使用表2中顯示之偏光元件、與第一及第二透明保護薄膜所製作之偏光板，作為黏著劑塗裝液使用表2中顯示之黏著劑塗裝液，將黏著劑塗裝液之塗裝厚度改變如表2顯示，及將黏著劑層之厚度改變如表2顯示以外，設為與實施例1相同而製作黏著型偏光板。而，黏貼於偏光板之黏著劑層係對應於表2中之第一黏著劑層。
此外，以成為如第4圖至第7圖中顯示之結構的方式，以第二黏著劑層將第一相位差板、且以第三黏著劑層將第二相位差板黏貼於所製得之黏著型偏光板而製得積層黏著型偏光板。而，第二黏著劑層、與第三黏著劑層之形成係以表2中顯示之塗裝厚度使用噴射鑄模塗佈機，將表2中顯示之黏著劑塗裝液塗裝至施加有矽氧處理之38μm之聚對苯二甲酸乙二酯(PET)薄膜(三菱化學聚酯薄膜(株)製MRF38)之一面。再來，以155℃進行1分鐘乾燥形成表2中顯示之厚度之黏著劑層。將該第二黏著劑層與第三黏著劑層轉印至第一相位差板與第二相位差板而製作黏著型相位差板，並使用於前述積層黏著型偏光板之製作。
實施例38~52、比較例9~13
除實施例1之(黏著型偏光板之製作)中使用表3中顯示之光學薄膜來替代偏光板，作為黏著劑塗裝液使用表3中顯示之黏著劑塗裝液，將黏著劑塗裝液之塗裝厚度改變如表3顯示，及將黏著劑層之厚度改變如表3顯示以外，設為與實 施例1相同而製作黏著型光學薄膜。
而，各例之黏著劑塗裝液之調製在丙烯系黏著劑為溶液時係使用乙酸乙酯，丙烯系黏著劑為水分散液時係使用水進行稀釋，來調整黏著劑塗裝液之固體成分濃度與黏度。又，對於黏著劑層之偏光板之轉印，當偏光板不具有第二透明保護薄膜時，係將黏著劑層(直接)轉印至偏光板中不具有第一透明保護薄膜之側(偏光元件)。
對上述實施例及比較例中所製得之黏著型偏光板、積層黏著型偏光板及黏著型光學薄膜(試樣)進行以下評估。評估結果顯示在表1至表3。
<黏著劑層之厚度與標準偏差值>
使用大塚電子(株)製之分光光度計MCPD-3700，藉由波長700~900nm之光學干涉法將5cm四方形之黏著型偏光板、積層黏著型偏光板或黏著型光學薄膜(試樣)之各黏著劑層之厚度以1mm間隔測定2061點，然後從其值求算黏著劑層之厚度與標準偏差值。
<ISC之測定>
使用(株)I-System製之EyeScale-4W，依據該裝置規格，以3CCD感像器之ISC測定模式，算出黏著型偏光板、積層黏著型偏光板或黏著型光學薄膜之面內不均勻程度作為ISC值。
(測定條件)
將黏著型偏光板、積層黏著型偏光板及黏著型光學薄膜黏貼在無鹼玻璃板(康寧社製，1737)之狀態中所使用者作 為試樣使用。依序設置光源、試樣、與螢幕，藉由CCD攝影機測定投影在螢幕之試樣之穿透影像。將光源及CCD攝影機至試樣(黏貼於無鹼玻璃板之黏著劑層)間之距離配置為30cm。又，將光源及CCD攝影機至螢幕間之距離配置為100cm。使光源及CCD攝影機離試樣與螢幕之距離相同且分隔20cm設置。
ISC值與不均勻之評估相關，只要ISC值在100以下，即可判斷有縮小控制不均勻狀態。ISC值愈小可判斷為愈沒有不均勻，ISC值以70以下為宜，50以下較佳。
<目測評估：黏著型偏光板及積層黏著型偏光板>
將黏著型偏光板或積層黏著型偏光板(試樣)黏貼至黑色壓克力板，在螢光燈下以下述基準目測評估其外觀。有關積層黏著型偏光板，第一黏著劑層係將黏著型偏光板作為試樣，第二黏著劑層係將使用第一相位差板之黏著型相位差板作為試樣，第三黏著劑層係將使用第二相位差板之黏著型相位差板作為試樣。
○○○：完全沒觀察到不均勻。
○○：幾乎沒觀察到不均勻。
○：雖有觀察到不均勻但無礙。
×：有觀察到不均勻。
<目測評估：黏著型光學薄膜>
假設將黏著型光學薄膜(試樣)黏貼至表面平滑的透明壓克力板並將光學薄膜黏貼於前面板之可視側之構成，在螢光燈下以下述基準目測評估其外觀。評估係分別以從光 學薄膜側觀察時、及從壓克力板側觀察時所進行。
○○○：完全沒觀察到表面凹凸。
○○：幾乎沒觀察到表面凹凸。
○：雖有觀察到表面凹凸但不太影響可視性。
×：表面凹凸很大，對可視性有極大影響。
表1
1‧‧‧光學薄膜
2‧‧‧黏著劑層
A、A1、A2‧‧‧偏光板
B‧‧‧相位差板
C‧‧‧表面處理薄膜
F‧‧‧前面板
T‧‧‧觸控板
a‧‧‧偏光元件
b1‧‧‧第一透明保護薄膜
b2‧‧‧第二透明保護薄膜
10‧‧‧薄型高功能偏光膜
11‧‧‧樹脂基材
12‧‧‧PVA系樹脂層(PVA系層)
13‧‧‧積層體薄膜
14‧‧‧包含二向色物質14’之染色液
14’‧‧‧二向色物質
15‧‧‧硼酸水溶液
16‧‧‧具有圓周速率相異之多數組捲輥之捲輥延伸機
21‧‧‧第一黏著劑層
22‧‧‧第二黏著劑層
23‧‧‧第三黏著劑層
P‧‧‧偏光度
T‧‧‧單體穿透率
Tp‧‧‧平行穿透率
Tc‧‧‧正交穿透率
(A)‧‧‧包含樹脂基材與PVA樹脂層之積層體薄膜之製作步驟
(B)‧‧‧染色步驟
(C)‧‧‧交聯步驟
(D)‧‧‧延伸步驟
(E)‧‧‧染色步驟前之交聯步驟
(F)‧‧‧延伸步驟(D)前之交聯步驟
(G)‧‧‧洗淨步驟
(H)‧‧‧乾燥步驟
(I)‧‧‧轉印步驟
第1圖係顯示本發明之黏著型光學薄膜之一例之剖面圖。
第2圖係顯示本發明之黏著型光學薄膜之一例之剖面圖。
第3圖係顯示本發明之黏著型光學薄膜之一例之剖面圖。
第4圖係顯示本發明之積層黏著型光學薄膜之一例之剖面圖。
第5圖係顯示本發明之積層黏著型光學薄膜之一例之剖面圖。
第6圖係顯示本發明之積層黏著型光學薄膜之一例之剖面圖。
第7圖係顯示本發明之積層黏著型光學薄膜之一例之剖面圖。
第8圖係顯示本發明之黏著型光學薄膜之使用態樣之一例之剖面圖。
第9圖係顯示本發明之黏著型光學薄膜之使用態樣之一例之剖面圖。
第10圖係顯示本發明之黏著型光學薄膜之使用態樣之一例之剖面圖。
第11圖係薄型高功能偏光膜之製造步驟之概略圖。
第12圖係薄型高功能偏光膜之製造方法與包含乾式延伸之製造方法之製造步驟之示意圖。
第13圖係薄型高功能偏光膜之參考製造例及參考比較例之光學特性值之比較表。
第14圖係薄型高功能偏光膜之參考製造例及參考比較例之各T/P值之表。
第15圖係依據薄型高功能偏光膜之參考製造例及參考比較例之各T/P值之T-P圖表。
第16圖係薄型高功能偏光膜之T-P圖表之示意圖。
1‧‧‧光學薄膜
2‧‧‧黏著劑層

Claims (10)

  1. 一種黏著型光學薄膜，其係具有光學薄膜及設置在前述光學薄膜之黏著劑層者，其特徵在於：前述光學薄膜為僅在厚度為4μm以下之偏光元件之單側具有第一透明保護薄膜之偏光板，前述第一透明保護薄膜之霧度值在15%以下，前述黏著劑層係設置在不具有前述第一透明保護薄膜之側的偏光板，且前述黏著劑層之厚度(μm)標準偏差值在0.12μm以下。
  2. 如申請專利範圍第1項之黏著型光學薄膜，其中前述第一透明保護薄膜之厚度在60μm以下。
  3. 如申請專利範圍第1項之黏著型光學薄膜，其中前述光學薄膜之霧度值在15%以下。
  4. 如申請專利範圍第3項之黏著型光學薄膜，其中前述光學薄膜之厚度在60μm以下。
  5. 一種黏著型光學薄膜，其係至少2片光學薄膜及至少2層黏著劑層分別交互積層者，其特徵在於：前述光學薄膜之一片為僅在厚度為4μm以下之偏光元件之單側具有第一透明保護薄膜之偏光板，前述第一透明保護薄膜之霧度值在15%以下，前述黏著劑層係設置在不具有前述第一透明保護薄膜之側的偏光板，且前述黏著劑層中至少任一層之厚度(μm)標準偏差 值在0.12μm以下。
  6. 如申請專利範圍第5項之黏著型光學薄膜，其中前述至少2層黏著劑層中，所有黏著劑層之厚度(μm)標準偏差值均在0.12μm以下。
  7. 如申請專利範圍第5項之黏著型光學薄膜，其中前述第一透明保護薄膜之厚度在60μm以下。
  8. 如申請專利範圍第5項之黏著型光學薄膜，其中在前述至少2片光學薄膜中之其他光學薄膜中之至少1者為相位差板。
  9. 如申請專利範圍第8項之黏著型光學薄膜，其中前述相位差板之厚度在60μm以下。
  10. 一種影像顯示裝置，其特徵在於至少具有1片如申請專利範圍第1至4項或如申請專利範圍第5至9項中任一項之黏著型光學薄膜。
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