TWI435403B - Lifting mechanism and conveying device - Google Patents

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TWI435403B TW095132468A TW95132468A TWI435403B TW I435403 B TWI435403 B TW I435403B TW 095132468 A TW095132468 A TW 095132468A TW 95132468 A TW95132468 A TW 95132468A TW I435403 B TWI435403 B TW I435403B
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Description

昇降機構及搬送裝置
本發明係有關昇降重物之昇降機構，以及使用該機構之搬送裝置。此種昇降機構之例有載置於平板顯示器(FPD)用大型玻璃基板之處理裝置的搬送裝置所使用之昇降機構。
在以液晶顯示器(LCD)所代表之平板顯示器(FPD)的製造過程中，係使用具備多個真空處理裝置之所謂多腔體形(multi-chamber type)的真空處理系統，於該真空處理裝置，在真空下對玻璃基板進行蝕刻去灰、成膜等之特定處理之腔體。
該真空處理系統具備：設有用於搬送基板的搬送裝置之搬送室，以及設置於其周圍之多個製程腔體(Process chamber)；而藉由搬送室內之搬送臂，將被處理基板搬入各製程腔體內，同時將處理完畢之基板由各真空處理裝置之製程腔體搬出。而且，搬送室連接有真空隔絕室，在大氣側搬進搬出基板時，可以保持製程腔體與搬送室於真空狀態下處理多片基板。此種多腔體形(Multi-chamber type)的處理系統被揭示於例如專利文獻1。
但是，最近對於LCD玻璃基板的大型化要求增強，以致出現一邊超過2公尺之巨大型，相對地裝置也大型化，其所用之各種構成零件也大型化。尤其是，使用於搬送 室之搬送裝置例如係具有：搬送單元，其具備含有進行基板的取放之基板支撐構件、亦即尖鈎(Pick)之多段臂所構成之進退機構，及使該進退機構旋動之旋動機構以及使該搬送單元昇降之昇降機構；隨著基板之大型化，昇降機構昇降之對象、亦即搬送單元之重量變為極大，而昇降機構之各構成零件為了應付負載之增大而必須增大尺寸，在零件的處理上及成本上等產生問題。另外，即使基板大型化，但是處理裝置本身反而有極力小型化之要求。因此，要求將上述昇降機構極力輕巧化。
〔專利文獻1〕特開平9-223727號公報
本發明係鍳於上述問題而完成者，其目的在提供一種可適用於重物之昇降之昇降機構，可以縮小各構成零件而輕巧化之昇降機構。
另一目的在提供一種使用該昇降機構之搬送裝置。
為解決上述課題，本發明提供一種昇降重物之昇降機構，其特徵為具備：支撐上述重物使其昇降之昇降台；昇降上述昇降台之昇降驅動部；以及抗拒上述昇降驅動部所受到之上述重物之負載，而產生朝上作用之輔助力之輔助機構。
在上述昇降機構中，上述輔助機構可以具有彈簧，以上述彈簧之彈力做為輔助力而作用於上述昇降驅動部者。此時，上述彈簧可以使用線圈(coil)彈簧，可構成為在上述昇降台來到最低位置時，上述線圈彈簧成為最緊縮的狀態而其彈力成為最大。
另外，上述昇降驅動部可以構成具有：螺合上述昇降台的滾珠螺桿，以及使滾珠螺桿旋轉的驅動機構。
本發明另提供一種搬送裝置，其具備：支撐、搬送被搬送物之搬送單元；使上述搬送單元昇降以對準上述搬送單元的高度位置之昇降機構；其特徵為上述昇降機構具備：支撐上述搬送單元使其昇降之昇降台；使上述昇降台昇降之昇降驅動部；以及抗拒上述搬送單元對上述昇降驅動部之負載而產生朝上作用之輔助力的輔助機構。
在上述搬送裝置中，也可以使用具有彈簧，而且以上述彈簧之彈力為輔助力而作用於上述昇降驅動部者做為上述輔助機構。此時，可以使用線圈彈簧做為上述彈簧，構造上，當上述昇降台在最低位置時，上述線圈彈簧成為最緊縮狀態而其彈力成為最大。
此外，上述昇降驅動部也可以為具有螺合上述昇降台之滾珠螺桿與用於旋轉滾珠螺桿之驅動機構之構造。
上述搬送單元也可以使用具備：具有將被搬送物移動於水平方向之伸縮臂的搬送機構部；及使上述搬送機構部旋轉之旋轉驅動部者。另外，上述搬送機構部也可以另具有底座，上述伸縮臂可以使用具有：在上述底座上直進運 動之臂；及在上述臂上直進運動以支撐被搬送物之尖鈎(Pick)者。此外，上述搬送單元可以為具有上下兩個上述搬送機構部之構造。再者，上述搬送單元可以構成為配置於真空室內部。另外，上述被搬送物可以使用LCD玻璃基板等之大型玻璃基板。
利用本發明，由於在昇降重物之昇降機構中，設置抗拒上述重物施加於昇降驅動部之負載而發揮朝上作用之輔助力的輔助機構，因此藉由輔助機構之輔助力，可以減輕昇降驅動部之負載，所以可以縮小昇降機構之構成零件、尤其是昇降驅動部，進而可以小型化昇降機構本身。
此外，藉由適用此種昇降機構於例如大型基板之搬送用的搬送裝置，結果可以將搬送裝置小型化。從而，藉由使用搬送裝置於大型基板之處理裝置，結果可以將處理裝置全體予以小型化。
以下參照附圖說明本發明之較佳形態。在此，說明之本發明之昇降機構，係對FPD用玻璃基板(以下簡稱為「基板」)S進行電漿處理之多腔體形之電漿處理裝置上所用之搬送裝置之例。在此，FPD之例包括：液晶顯示器(LCD)，發光二極體(LED)顯示器，電場激發(Electro Luminescence；EL)顯示器，螢光顯示管( Vacuum Fluorescent Display：VFD)，電漿顯示面板(PDP)等。
圖1為概略表示本發明之一實施形態之昇降機構被適用於搬送裝置之電漿處理裝置之斜視圖，圖2為概略表示其內部之水平剖面圖。
該電漿處理裝置1，係在中央部連設有搬送室20與真空隔絕(Load lock)室30於搬送室20之周圍配設有3個製程腔體(Process chamber)10a，10b，10c。
在連通搬送室20與真空隔絕室30之間，搬送室20與各製程腔體10a，10b，10c之間，以及真空隔絕室30與外側之大氣環境之開口部，分別介設有氣密地密封彼等之間，且構成為可開閉的閘閥22。
於真空隔絕室30外側設置2個基板盒指標器(Cassette indexer)41，其上面分別載置用於收容基板S的基板盒40。在該等基板盒40之一方可以收容例如未處理基板，另一方可以收容已處理基板。該等基板盒40可以藉由昇降機構昇降。
在該等2個基板盒40之間，支撐台44上設有搬送機構43，該搬送機構43具備：設有上下兩層之尖鈎(pick)45，46，以及將該等支撐成可以一體進出迴避與旋轉的底座47。
上述製程腔體10a，10b，10c之內部空間可以保持於特定的減壓環境，其內部可以進行電漿處理，例如蝕刻處理或去灰(Ashing)處理。因為具有3個製程腔體，所以 可以例如將其中兩個製程腔體構成為蝕刻處理室，而將剩下的一個製程腔體構成為去灰處理室；或將3個製程腔體全部構成進行相同處理之蝕刻處理室或去灰處理室。另外，製程腔體的數目不限於3個，也可以有4個以上。
搬送室20也如同真空製程腔體可以保持於減壓環境中，其中，如圖2所示，配置有搬送裝置50。而且，藉由該搬送裝置50，將基板S搬送於真空隔絕室30與3個製程腔體10a，10b，10c之間。至於搬送裝置50容後詳細敘述。
真空隔絕室30，係如同各製程腔體10與搬送室20可以保持於減壓環境中。另外，加載鎖定室30係用於在大氣環境中之基板盒40與減壓環境之製程腔體10a，10b，10c之間取放基板S者，由於重複大氣環境與減壓環境之關係，其內容積被儘量構成小型。真空隔絕室30係將基板收容部31設成上下兩層(圖2僅圖示上層)，各基板收容部31設有用於支撐基板S之多個緩衝墊(Buffer)32，在該等緩衝墊32之間形成有搬送臂之迴避溝32a。另外，在真空隔絕室30內，在與矩形的基板S相面對之角部附近設有用於進行定位之定位器(Positioner)33。
電漿處理裝置1之各構成部，在構造上被連接到控制部60而受其控制(圖1中省略圖示)。圖3表示控制部60之概略圖。控制部60具備具有CPU之處理控制器(Process controller)61，在該處理控制器61連接著工程 管理者用於管理電漿處理裝置1之進行指令之輸入操作之鍵盤，或將電漿處理裝置1之操作狀況顯示的顯示器等所構成之用戶介面(User Interface)62。
此外，控制部60具有記憶部63，記錄有利用處理控制器61之控制而實現在電漿處理裝置1上執行之各種處理之控制程式(軟體)或處理條件資料等之處理程序(Recipe)，該記憶部63係連接到處理控制器61。
然後，必要時，藉由來自用戶介面62之指示等由記憶部63叫出任意之處理程序(Recipe)於處理控制器61執行，俾在處理控制器61之控制下，在電漿處理裝置1上進行所要處理。
上述控制程式與處理條件資料等之處理程序，可以利用儲存於電腦可讀取記憶媒體，例如CD-ROM，硬碟，軟磁碟，快閃記憶體等之狀態者；或透過例如專用網路，由其他裝置隨時傳送而在線上(O-line)利用。
其次，要詳細說明具有本實施形態之昇降機構之搬送室20之搬送裝置50。
圖4為表示該搬送裝置50之垂直剖面圖，圖5為表示該搬送單元之斜視圖。該搬送裝置50具有進行搬送動作之搬送單元501以及昇降搬送單元501之昇降機構502。
搬送單元501設置有兩層滑動尖鈎(Slide pick)，為可以分別獨立進出基板之形態者，具有上層搬送機構部510與下層搬送機構部520。
上層搬送機構部510具備：底座部511；設成可滑動於底座511之滑動臂512；設成可以滑動於該滑動臂512上，做為支撐基板之支撐台之滑動鈎513。另外，在滑動臂512之側壁設有導軌515，可使滑動鈎513對滑動臂512滑動；以及導軌516，可使滑動臂512對底座部511滑動。而在鈎513，設有沿著導軌515滑動的滑動器(Slider)517，在底座511設有沿著導軌516滑動的滑動器518。
下層搬送機構部520具備：底座部521；設成可滑動於底座部521之滑動臂522；以及設成可滑動於該滑動臂522上，做為支撐基板之支撐台之滑動鈎523。另外，在滑動臂522之側壁設有：使滑動鈎523對滑動臂522滑動之導軌525，及使滑動臂522對底座部521滑動之導軌526。而在鈎523設有沿著導軌525滑動之滑動器527，在底座521設有沿著導軌526滑動之滑動器528。
底座部511與底座部521係以連結部531、532連結，而藉由底座部511、521，連結部531、532構成盒狀支撐部530，該盒狀支撐部530係設置於後面所述之支撐板551上成可以旋轉，由於盒狀支撐部530之旋轉，上部搬送機構部510與下部搬送機構部520也旋轉。由盒狀支撐部530下部朝搬送室20之底座板201下方有配置成同軸狀之3支圓筒軸540延伸，在其下端連接著驅動部541。在驅動部541內裝有：用於驅動上部搬送機構部510之滑動臂512與滑動鈎513之驅動機構；用於驅動下段搬送機 構部520之滑動臂522與滑動鈎523之驅動機構；以及用於旋轉盒狀支撐部530之旋轉驅動機構(皆未圖示)，該等驅動機構之驅動力係透過3支圓筒軸540傳達至各部。另外，驅動部541係配置於後面所述之昇降板553之正下方位置。於圓筒軸540之底座板201下面部分之周圍，設有波形管(Bellows，未圖示)做為密封機構。
在下段搬送機構部520，來自驅動機構之動力係藉由內裝於滑動臂522之多個皮帶輪以及繞掛於其上之皮帶等傳達，滑動臂522與滑動鈎523在直線上滑動。此時，藉由調整皮帶輪之直徑比，即可對滑動臂522之移動行程(Stroke)增大滑動鈎523之移動行程，容易對應大型基板。
在上部搬送機構部510中，來自驅動機構之動力係藉由底座部521，連結部531，內裝於底座部511之皮帶輪與皮帶等所構成之動力傳達機構傳達，另外再透過內裝於滑動臂512之多個皮帶輪以及繞掛於其上之皮帶等傳達，因此滑動臂512與滑動鈎513在直線上滑動。與下段搬送機構部520相同，藉由調整皮帶輪之直徑比，即可對滑動臂512之移動行程增大滑動鈎513之移動行程。
昇降機構502具備：將搬送單元501支撐成可昇降之昇降台550；設置於搬送室20之底座板201下方而透過昇降台550使搬送單元501昇降之滾珠螺桿機構560；以及藉由滾珠螺桿機構560透過昇降台550使搬送單元501上昇時產生向上之輔助力的輔助機構570。
滾珠螺桿機構560具備：由底座板201下面向下延伸之3支(圖示中僅有2支)之滾珠螺桿561；以及4支導軸566(圖示中僅有2支)。底座板201下方成為框架構造，最下段設有底座架202，滾珠螺桿561下端設成貫穿該底座架202。底座架202上設有用於旋轉滾珠螺桿561之馬達562。該馬達562的軸向下延伸，於軸的前端裝設有皮帶輪563。此外，各滾珠螺桿561下端設有皮帶輪564，在馬達562之皮帶輪563與各滾珠螺桿561之皮帶輪564繞掛著皮帶565，藉由馬達562之驅動，各滾珠螺桿561會旋轉。
昇降台550具備：支撐盒狀支撐部530之支撐板551；向支撐板551下方延伸的4支軸552；以及支撐軸552下端而螺合於上述3支滾珠螺桿561而昇降之昇降板553。而且藉由馬達562旋轉各滾珠螺桿561，昇降板553透過滑動器567被導軸566引導而昇降，伴隨於此，支撐板551上之搬送單元501也被昇降；當昇降板553位於圖4之實線位置時，搬送單元501位於最上部，昇降板553位於二點鍊線時，搬送單元501會位於最下部。此外，在底座板201與昇降板553之間的軸552之周圍設有波形管554做為密封機構。
輔助機構570具備：上端裝設於搬送室20之底座板201而垂吊於下方之4支軸571；沿著軸571設置之線圈彈簧572；將線圈彈簧572上端部固定於上述昇降板553之固定構件573；以及設置於軸571下端以卡合固定螺栓 彈簧572下端之制動器(Stopper)574。
圖6係用於說明輔助機構570之輔助力的圖。圖中左側為表示使昇降板553位於最上部之狀態，圖中右側為表示使昇降板553位於最下部之狀態者。在本實施形態中，輔助機構570之輔助力係由線圈彈簧572之彈力所產生，使左側的昇降板553位於最上部之狀態下，線圈彈簧572為延伸最長之狀態而其彈力最小，輔助力也變成最小，但是使右側的昇降板553位於最下部之狀態下，線圈彈簧572為緊縮最小之狀態，其彈力最大而輔助力也最大。
另外，在昇降機構502之軸552，滾珠螺桿561，導軸566，輔助機構570之平面的配置位置成為例如圖7之模式圖。此外，在圖中，也描繪了圓筒軸540與其周圍的波形管543，以及軸552周圍的波形管554。
其次，要就構成如上之電漿處理裝置1之操作加以說明。
首先，進退驅動搬送機構43之2只鈎45，46並由收容著未處理基板之一方的基板盒40搬送2片基S進入真空隔絕室30之上下2層之基板收容部31。
鈎45，46迴避後，關閉真空隔絕室30之大氣側的閘閥22。然後，排出真空隔絕室30內部之氣體，將內部減壓至特定之真空度。抽真空結束後，利用定位器33按壓基板以進行基板S之定位。
定位如上之後，打開搬送室20與真空隔絕室30之間的閘閥22，並利用搬送室20內之搬送裝置50，受取收容 於真空隔絕室30之基板收容部31之基板S，再搬入製程腔體10a，10b，10c之其中任一。此外，在製程腔體10a，10b，10c中被處理之基板S，係被搬送裝置50所搬出，經過真空隔絕室30而由搬送機構43收容於基板盒40。此時，也可以退回至原來的基板盒40。也可以收容於另一方之基板盒40中。
再者，要由真空隔絕室30取出基板S時，須將搬送裝置50之上段搬送機構部510的滑動鈎513及/或下段搬送機構部520之滑動鈎523插入真空隔絕室30而以滑動鈎513及/或523接受基板S。滑動鈎513及/或523將受取的基板S搬入製程腔體10a，10b，10c之任一。此時，若在擬搬入基板S之製程腔體內已經有處理完畢之基板S時，可以利用一側的滑動鈎搬出該基板S，再將載置於另一側之滑動鈎之基板S插入製程腔體內。處理完畢之基板S被滑動鈎513及/或523受取後，即交給真空隔絕室30。
利用搬送室20內之搬送裝置50進行上述之搬送時，利用旋轉驅動機構透過盒狀支撐部530使上段搬送機構部510或下段搬送機構部520旋轉以進行其定位。此外，由於有上下兩段的搬送機構部510，520的關係，藉由搬送裝置50之昇降單元520之搬送單元501之昇降動作可以對準滑動鈎的高度位置。
在如上所述之定位階段中，係藉由進出或退入滑動臂512，522，滑動鈎513,523以進行基板S之搬送。
在昇降機構502係利用馬達562透過皮帶565使滾珠螺桿561旋轉而使昇降板553昇降，並透過軸552使支撐板551上之搬送單元501昇降。
此時，因為隨著基板之大型化，搬送裝置50變得極大，重量增大，昇降機構502之昇降對象之搬送單元501也變得很重，因此在昇降機構502負荷很大。尤其是滾珠螺桿機構560，其中對於馬達562，搬送單元501之負載直接成為負荷。要承受如此負荷，先前非將昇降機構502之各構成要件，尤其是馬達562更大型化以提昇耐久力不可。
相對地，本實施形態中，藉由設置具有線圈彈簧572之輔助機構570，利用線圈彈簧572之彈力做為輔助力，以減輕對昇降機構502之負荷，尤其在滾珠螺桿機構560中對於馬達562之負荷。
具體地說，當昇降板553位於最下段時，亦即搬送單元501位於最下段時，輔助機構570之線圈彈簧572最為緊縮，線圈彈簧572之彈力朝上作用，因此，藉由輔助力，對滾珠螺桿機構560之馬達562之負荷得以減輕。
若藉由滾珠螺桿機構560，搬送單元501上昇時，線圈彈簧572緩慢伸長，其彈力緩慢降低，輔助力也緩慢減小。因而，對滾珠螺桿機構560之馬達之負荷上昇。
此時之昇降板553之高度位置(即搬送單元之高度位置)與輔助機構570之輔助力與馬達562的負荷之關係如圖8所示。如該圖所示，隨著昇降板553之高度位置增大 ，輔助機構570之輔助力直線性地減小，對馬達562之負荷直線性地增加。
此時，考慮到對馬達562之負荷等，可任意設定發揮輔助力之線圈彈簧572之彈力。例如，可以設定輔助力最大(最低位置)為9800N(1000kgf)，而最小(最高位置)為其50%之線圈彈簧572之彈簧常數。如此一來，搬送單元501在最低位置時，對馬達562之負荷可以大致上成為零，即使在最高位置也可以大大減輕其負荷。
另外，關於負荷與輔助力的平衡位置，可以設定於例如搬送單元501之昇降行程之大致一半的位置。但是，平衡位置可以依據線圈彈簧572的彈簧常數等，配合使用條件與設置空間等任意變更。
如上述，藉由輔助機構570之輔助力可以減輕對昇降機構502之負荷，尤其是馬達562之負荷，因此可以小型化昇降機構502之構成零件，尤其是馬達562，進而可以小型化昇降機構本身。另外，輔助機構570係由底座板201吊下軸571，沿著軸571設置線圈彈簧572之構造，其本身即成為構成零件較少的袖珍構造。此外，利用輔助機構570可以取得負荷與輔助力(彈力)的平衡，所以在馬達562或皮帶565等之損壞時，有防止急劇掉落之效果。
另外，本發明並不侷限於上述實施形態，而可能有各種變形。例如，在上述實施形態中，係針對設有上下兩段的直動式搬送機構部做為搬送機構之情形加以說明，但是 並不限於2段，1段或三段以上也可以，且不限於直動式，例如也可以為多關節式者。此外，在上述實施形態中，係針對在昇降機構採用滾珠螺桿機構之例說明，但是，並不限於此，也可以採用氣缸(Cylinder)等其他機構。再者，在此，也以適用線圈彈簧之例做為輔助機構之例加以說明，但是只要可以產生輔助力，即不限於線圈彈簧，也可以使用空壓缸(air cylinder)，氣壓缸(gas cylinder)等。
另外，在上述實施形態中，係在真空環境(減壓環境)中適用於被處理體在搬送裝置的昇降之例加以說明，但是並不侷限於真空中者。另外，並不侷限於搬送裝置，也可以適用於一般的重物之昇降。
1‧‧‧電漿處理裝置
10a，10b，10c‧‧‧製程腔體
20‧‧‧搬送室
22‧‧‧製程腔體
30‧‧‧真空隔絕室
31‧‧‧基板收容部
32‧‧‧緩衝墊
33‧‧‧定位器
40‧‧‧基板盒
41‧‧‧基板盒指標器
42‧‧‧昇降機構
43‧‧‧搬送機構
44‧‧‧支撐台
45‧‧‧尖鈎
46‧‧‧尖鈎
47‧‧‧底座
50‧‧‧搬送裝置
60‧‧‧控制部
61‧‧‧處理控制器
62‧‧‧用戶介面
63‧‧‧記憶部
201‧‧‧底座板
202‧‧‧底座架
501‧‧‧搬送單元
502‧‧‧昇降機構
510‧‧‧上段搬送機構
511‧‧‧底座部
512‧‧‧滑動臂
513‧‧‧滑動鈎
515‧‧‧導軌
516‧‧‧導軌
517‧‧‧滑動器
518‧‧‧滑動器
520‧‧‧下段搬送機構
521‧‧‧底座部
522‧‧‧滑動臂
523‧‧‧滑動鈎
525‧‧‧導軌
526‧‧‧導軌
527‧‧‧滑動器
528‧‧‧滑動器
530‧‧‧盒狀支撐部
531‧‧‧連結部
532‧‧‧連結部
540‧‧‧圓筒軸
541‧‧‧驅動部
550‧‧‧昇降台
551‧‧‧支撐板
552‧‧‧軸
553‧‧‧昇降板
560‧‧‧滾珠螺桿機構
561‧‧‧滾珠螺桿
562‧‧‧馬達
566‧‧‧導軸
570‧‧‧輔助機構
572‧‧‧線圈彈簧
圖1為概略地表示本發明之一實施形態之昇降機構適用於搬送裝置之電漿處理裝置之斜視圖。
圖2為圖1之電漿處理裝置的水平剖面圖。
圖3為表示控制部之概略構造之方塊圖。
圖4為表示設置於圖1之電漿處理裝置之搬送室且具有本發明之一實施形態之昇降機構之搬送裝置之垂直剖面圖。
圖5為表示圖4之搬送裝置的搬送單元之斜視圖。
圖6為用於說明本發明之一實施例之昇降機構的輔助機構之輔助力的圖。
圖7為表示本發明的一實施形態之昇降機構中之軸，滾珠螺桿，輔助機構之平面配置位置的圖。
圖8為表示本發明之一實施形態之昇降機構的昇降板的高度位置與輔助機構之輔助力以及馬達之負荷之關係的圖。
50‧‧‧搬送裝置
201‧‧‧底座板
202‧‧‧底座架
501‧‧‧搬送單元
502‧‧‧昇降機構
510‧‧‧上段搬送機構
511‧‧‧底座部
512‧‧‧滑動臂
513‧‧‧滑動鈎
515‧‧‧導軌
516‧‧‧導軌
517‧‧‧滑動器(Slider)
518‧‧‧滑動器
520‧‧‧下段搬送機構
521‧‧‧底座部
522‧‧‧滑動臂
523‧‧‧滑動鈎
525‧‧‧導軌
526‧‧‧導軌
527‧‧‧滑動器
528‧‧‧滑動器
530‧‧‧盒狀支撐部
540‧‧‧圓筒軸
541‧‧‧驅動部
550‧‧‧昇降台
551‧‧‧支撐板
552‧‧‧軸
553‧‧‧昇降板
554‧‧‧波形管
560‧‧‧滾珠螺桿機構
561‧‧‧滾珠螺桿
562‧‧‧馬達
563‧‧‧皮帶輪
564‧‧‧皮帶輪
565‧‧‧皮帶
566‧‧‧導軸
567‧‧‧滑動器
570‧‧‧輔助機構
571‧‧‧軸
572‧‧‧線圈彈簧
573‧‧‧固定構件
574‧‧‧制動器(Stopper)

Claims (11)

  1. 一種昇降機構，係用於昇降重物之昇降機構，其特徵為具備：用於支撐上述重物使其昇降之昇降台；使上述昇降台昇降之昇降驅動部；以及抗拒上述重物對上述昇降驅動部之負載而產生向上作用之輔助力的輔助機構；輔助機構，係設於上述昇降台之下部；上述輔助機構具有彈簧，係以上述彈簧之彈力做為輔助力而作用於上述昇降驅動部；輔助機構，係由上端朝下而垂吊於底座板之軸，線圈彈簧，固定構件，以及制動器構成；彈簧係具有複數個，昇降板係配置於底座板與底座架之間。
  2. 如申請專利範圍第1項之昇降機構，其中，上述彈簧是線圈彈簧，當上述昇降台在最低位置時，上述線圈彈簧成為最縮緊的狀態而其彈力成為最大。
  3. 如申請專利範圍第1或2項之昇降機構，其中，上述昇降驅動部具備：螺合上述昇降台之滾珠螺桿，以及使滾珠螺桿旋轉的驅動機構。
  4. 一種搬送裝置，具備：用於支撐、搬送被搬送物之搬送單元；以及 使上述搬送單元昇降以對準上述搬送單元的高度位置之昇降機構；其特徵為：上述昇降機構具備：支撐、昇降上述搬送單元之昇降台；使上述昇降台昇降之昇降驅動部；以及抗拒上述搬送單元對上述昇降驅動部之負載而產生向上作用之輔助力的輔助機構；輔助機構，係設於上述昇降台之下部；上述輔助機構具有彈簧，係以上述彈簧之彈力做為輔助力而作用於上述昇降驅動部；輔助機構，係由上端朝下而垂吊於底座板之軸，線圈彈簧，固定構件，以及制動器構成；彈簧係具有複數個，昇降板係配置於底座板與底座架之間。
  5. 如申請專利範圍第4項之搬送裝置，其中，上述彈簧是線圈彈簧，當上述昇降台在最低位置時，上述線圈彈簧成為最緊縮的狀態而其彈力成為最大。
  6. 如申請專利範圍第4或5項之搬送裝置，其中，上述昇降驅動部具備：螺合上述昇降台之滾珠螺桿，以及使滾珠螺桿旋轉的驅動機構。
  7. 如申請專利範圍第4或5項之搬送裝置，其中，上述搬送單元具備：具有將被搬送物移動於水平方向之伸縮臂的搬送機構部；以及 使上述搬送機構部旋轉之旋轉驅動部。
  8. 如申請專利範圍第7項之搬送裝置，其中，上述搬送機構部另具有底座(base)，上述伸縮臂具有：在上述底座上直進運動的臂；以及在上述臂上直進運動、用於支撐被搬送物的尖鈎(pick)。
  9. 如申請專利範圍第8項之搬送裝置，其中，上述搬送單元在上下具有兩個上述搬送機構部。
  10. 如申請專利範圍第4或5項之搬送裝置，其中，上述搬送單元係配置於真空室內部。
  11. 如申請專利範圍4或5項之搬送裝置，其中，上述被搬送物是玻璃基板。
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