TWI397495B - A substrate transfer device and a substrate support - Google Patents

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Kenji Amano
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Description

基板搬送裝置及基板支撐體
本發明係關於基板搬送裝置及基板支撐體，詳細而言，係關於例如平面顯示器(FPD：Flat Panel Display)用的大型玻璃基板等之搬送中所使用之基板搬送裝置及基板支撐體。
於以液晶顯示器(LCD：Liquid Crystal Display)為代表之平面顯示器(FPD)的製程中，係使用有具備多數個於真空下對玻璃基板進行蝕刻、灰化、成膜等特定處理之真空處理裝置之所謂的多反應室形式的真空處理系統。
如此的真空處理系統，係具備設置有用以搬送被處理基板的玻璃基板之搬送裝置之搬送室；及設置於其周圍之多數個處理室，並藉由搬送室內的搬送臂，將被處理基板搬送至各個處理室內，並且從各個真空處理裝置的處理室當中搬出處理完畢的基板。此外，於搬送室中連接有承載室，於大氣側的基板之搬出入時，可在維持處理室與搬送室於真空狀態下，對多數片基板進行處理。
最近，對LCD玻璃基板之大型化的要求逐漸增強，甚至出現某一邊超過2m之巨大的玻璃基板，為了對應於此，裝置本身亦往大型化發展，因此裝置中所使用之各項構成元件亦變得更大型。尤其是，於搬送基板之基板搬送裝置中，用以進行基板的接收及傳送之搬送臂，及配置於搬送臂之具有多數根拾取器之基板支撐體，均變得更長，於使搬送臂延伸出之狀態下，從其基端部開始至上述拾取器的前端為止之長度，甚至到達數公尺之長度。
如上述般，一旦搬送臂及基板支撐體變長，則因其本身重量，即使於未載置基板之狀態下，亦會從搬送臂的基端部至拾取器的前端部，產生弓狀的撓曲。並且於將大型基板載置於基板支撐體上之狀態下，由於加上基板的荷重，使得此撓曲程度更為增加，不易將基板支撐體上所載置的基板維持於水平，導致基板傳送上的障礙或是基板的載置位置之偏移等，因而產生無法進行高精準的處理之問題。
為了解決隨著基板的大型化所產生之基板支撐體的撓曲問題，有人提出一種基板搬送裝置，係將用以支撐基板之基板支撐體的支撐柄，從其基端部沿著前端部加以分割，並隔著連結軸，以可自由轉動般依序連結多數個分割體，並且於各個連結部中，設置用以校正支撐柄的撓曲之多數個撓曲校正機構(例如參照專利文獻1)。
此外，有人提出一種基板搬送裝置，係考量到支撐柄的撓曲，預先對支撐柄進行加熱成形，或是形成為以熱膨脹率不同的2種材料加以貼合而成之構造，而使支撐柄具有可往上方翹曲之構造(例如參照專利文獻2)。
〔專利文獻1〕日本特開2005－286097號公報〔專利文獻2〕日本實用新案登錄第3080143號公報
上述專利文獻1的基板搬送裝置，係以將支撐柄全體維持為大致呈水平狀態之目的，而採用多關節構造，因此支撐柄的構造較複雜，構件數目變多，且製程數亦變得較多。此外，由於構造上較複雜，因此容易故障，而增加維護上的精神及心力。此外，由於將直接接觸於基板之支撐柄形成為多關節構造，因此亦具有因可動部(關節部分)的摩擦產生粒子，而可能污染基板之危險性。此外，上述專利文獻2的基板搬送裝置，雖然構造較為簡單，但由於預先施加於支撐柄的翹曲量為固定，因此係具有於實際的基板搬送時，無法對翹曲量進行微調之問題。
如上述般，為了對應於基板的大型化，係提出有對基板支撐體的構造進行探討，以將基板保持於水平並進行搬送之種種方式，但仍未研究出可令人滿足之方式。
本發明係鑑於上述情形而創作出之發明，目的在於提供一種，即使於搬送大型基板時，亦可將基板保持於大致呈水平狀態之基板搬送裝置。
為了解決上述課題，本發明之第1觀點係提供一種基板搬送裝置，係用以搬送基板之基板搬送裝置，其特徵為：係具備：具有連結於共通的拾取器主體之多數根拾取器以支撐基板之基板支撐體；及以可滑動之方式支撐上述基板支撐體，且本身可於水平方向進退之搬送臂；及驅動上述搬送臂之驅動部；以上述拾取器的前端部位於超過其基端部之高度的方式，使上述拾取器傾斜。
於上述第1觀點中，較理想為以各自獨立的角度使多數個上述拾取器傾斜。此外，較理想為於將基板載置於上述拾取器且使上述搬送臂成為最延伸出之狀態下，以使基板大致呈水平之角度使上述拾取器傾斜。
本發明之第2觀點係提供一種基板搬送裝置，係用以搬送基板之基板搬送裝置，其特徵為：係具備：具有連結於共通的拾取器主體之多數根拾取器以支撐基板之基板支撐體；及以可滑動之方式支撐上述基板支撐體，且本身可於水平方向進退之搬送臂；及驅動上述搬送臂之驅動部；以上述拾取器的前端部位於超過其基端部之高度的方式，使上述拾取器於其基端部附近彎折。
於上述第2觀點中，較理想為以各自獨立的角度使多數個上述拾取器彎折。此外，較理想為於將基板載置於上述拾取器且使上述搬送臂成為最延伸出之狀態下，以使基板大致呈水平之角度使上述拾取器彎折。
此外，於上述第1觀點及第2觀點中，較理想為上述拾取器係使用可調節上述拾取器對水平方向所形成的角度之固定手段，而連結於上述拾取器主體。此外，上述固定手段較理想為卡合於上述拾取器的基端部，並對上述拾取器施加反向力而調節固定角度。此時，上述固定手段可卡合於上述拾取器的基端部，並以於垂直方向拉引之螺釘及於垂直方向壓抵之螺釘，形成上述拾取器。
此外，上述基板支撐體的上述拾取器主體，較理想為將上述搬送臂裝設於可移動的滑動構件上，且具備可任意調節其裝設角度之裝設角度調節機構。
此外，於上述拾取器中，可設置有往其寬度方向突出而形成之支撐軸，並以該支撐軸為支點使上述拾取器轉動，藉此調節其裝設角度。此時，較理想為更具備可滑動嵌合上述支撐軸且具有可調節其內徑之貫通孔之角度調節用構件，並於將上述支撐軸插入於上述貫通孔之狀態下縮小該貫通孔的內徑，藉此對上述拾取器的裝設角度進行微調。
此外，較理想為上述搬送臂收納於真空處理室內；上述驅動部至少使其下部顯露於上述真空處理室的外部而配備，且於該下部中固定於用以載置上述真空處理室之支撐架上。此時，較理想為於上述真空處理室的底板上形成有開口部；上述驅動部係使其上部插入於該開口部內，並且於與該開口部之間，於具有裕度之狀態下以密封構件加以密封。此外，上述基板較理想為大型玻璃基板。
本發明之第3觀點係提供一種基板支撐體，係於基板搬送裝置中用以支撐基板之基板支撐體，其特徵為：係具備連結於共通的拾取器主體之多數根拾取器，且以上述拾取器的前端部位於超過其基端部之高度的方式，使上述拾取器傾斜。
於上述第3觀點中，較理想為以各自獨立的角度使多數個上述拾取器傾斜。
此外，本發明之第4觀點係提供一種基板支撐體，係於基板搬送裝置中用以支撐基板之基板支撐體，其特徵為：係具備連結於共通的拾取器主體之多數根拾取器，且以上述拾取器的前端部位於超過其基端部之高度的方式，使上述拾取器的基端部附近彎折。
於上述第4觀點中，較理想為以各自獨立的角度使多數個上述拾取器彎折。
根據本發明，於具備連結於共通的拾取器主體之多數根拾取器之基板支撐體中，係以拾取器的前端部位於超過其基端部之高度的方式，使拾取器傾斜或是於其基端部附近彎折，因此，即使於將基板支撐於拾取器之狀態下，亦可防止基板傾斜，於將基板維持於大致呈水平之狀態下進行搬送。尤其是於搬送大型基板之基板搬送裝置中，即使因搬送臂本身的重量與基板的荷重而產生傾斜時，亦可將基板保持於水平。
此外，由於形成為使拾取器傾斜而固定，或是使拾取器彎折之簡單的構造，因而不需具備複雜的構造，且可任意調節傾斜角度或彎折角度，因此具有可於設置基板支撐體之後進行微調之優點。
以下係參照附加圖式，說明本發明之較佳的型態。在此，係說明用以將本發明之搬送裝置，適用於對FPD用基板(以下僅記載為「基板」)S進行電漿處理之多反應室形式的真空處理系統之例子。在此，FPD係以液晶顯示器(LCD：Liquid Crystal Display)、有機電激發光(EL：Electro Luminescence)顯示器、電漿顯示面板(PDP：Plasma Display Panel)為例而表示。
第1圖係概略性顯示本發明的一項實施型態之具備搬送裝置的真空處理系統之立體圖，第2圖係概略性顯示其內部之水平剖面圖。
於此真空處理系統1中，於其中央部上連接設置有搬送室20及承載室30。於搬送室20的周圍中，配設有3個處理室10a、10b、10c。
於搬送室20與承載室30之間，搬送室20與各個處理室10a、10b、10c之間，以及連通承載室30與外側的大氣環境之開口部中，係各自介設有可以氣密方式密封這些之間，且構成為可開閉之閘閥22。
於承載室30的外側，設置有2個基板匣放置架41，於其上方係各自載置有用以收納基板S之基板匣40。於這些基板匣40的一邊，例如可收納未處理基板，於另一邊可收納處理完畢的基板。這些基板匣40可藉由升降機構42進行升降。
於此2個基板匣40之間，係於支撐台44上設置搬送機構43，此搬送機構43係具備，設置於上下2段之拾取器45、46，及以可延伸退回及旋轉的方式一體地支撐這些拾取器45、46之主體47。
上述處理室10a、10b、10c，可將其內部空間保持於特定的減壓環境，並於其內部進行電漿處理，例如蝕刻處理或灰化處理。如此，由於具備3個處理室，因此例如可將當中的2個處理室構成為蝕刻處理室，剩下的1個處理室構成為灰化處理室，或者是將3個處理室的全部均構成為進行同一處理之蝕刻處理室或灰化處理室。此外，處理室的數目並不限定於3個，亦可為4個以上。
與真空處理室之處理室10a、10b、10c相同，搬送室20亦可將其內部空間保持於特定的減壓環境，於此內部空間中，如第2圖所示般，係配設有搬送裝置50。此外，藉由此搬送裝置50，可於承載室30及3個處理室10a、10b、10c之間搬送基板S。關於搬送裝置50，將於之後詳細敘述。
與各個處理室10及搬送室20相同，承載室30亦可將其內部空間保持於特定的減壓環境。此外，承載室30為用以於大氣環境下的基板匣40與減壓環境下的處理室10a、10b、10c之間進行基板S的接收傳送，由於重覆進行大氣環境與減壓環境之切換，因此係極力縮小其內部容積而構成。承載室30係設置有上下2段的基板收納部31(於第2圖中僅顯示上部)，於各個基板收納部31中，設置有用以支撐基板S之多數個緩衝區32，於這些緩衝區32之間，形成有滑動拾取器513、523(後述)的退避溝32a。此外，於承載室30內，設置有於矩形狀的基板S之互為對向的角部附近中用以進行對位之對位器33。
真空處理系統1的各個構成部，係構成為連接於控制部60並由控制部60所控制(於第1圖中省略圖式)。第3圖係顯示控制部60的概略構成。控制部60係具備具有CPU之處理控制器61，於此處理控制器61中，係連接有由工程管理者為了管理真空處理系統1而進行指令操作等之鍵盤，或是可觀察真空處理系統1的運轉狀況而顯示之顯示器等所組成之使用者介面62。
此外，控制部60係具備儲存有製程操作參數之記憶部63，此製程操作參數係記錄有用以於處理控制器61的控制下，實現真空處理系統1所執行的各種處理之控制程式(軟體)或處理條件資料等，此記憶部63係連接於處理控制器61。
此外，可因應必要，以來自於使用者介面62的指示等，從記憶部63中讀出任意的製程操作參數並於處理控制器61中執行，藉此可於處理控制器61的控制下，於真空處理系統1中執行期望的處理。
上述控制程式或處理條件資料等之製程操作參數，可利用儲存於例如CD－ROM、硬碟、軟碟、快閃記憶體等之電腦可讀取記錄媒體中之狀態者，或是可利用從其他裝置中透過例如為專用線路而隨時傳送者。
接下來詳細說明本實施型態之搬送裝置。
第4圖係顯示用以說明具備搬送裝置50之搬送室20及其支撐構造的垂直剖面圖。此搬送裝置50係具備，進行搬送動作之搬送單元501，及驅動搬送單元501之驅動單元502。此外，第5圖係顯示搬送裝置50的搬送單元501之立體圖。
搬送單元501係設置有2段滑動拾取器，且為可互相獨立進行基板的送入移出之形式，並具有上段搬送機構部510及下段搬送機構部520。
上段搬送機構部510係具備，主體部511；以可於主體部511滑動之方式而設置之滑動臂512；及以可於滑動臂512上滑動之方式而設置之作為支撐基板的支撐台之滑動拾取器513。滑動拾取器513係具備拾取器主體201，及連結於該拾取器主體201之多數根(例如為4根)拾取器202。
此外，於滑動臂512的側壁上，設置有用以讓滑動拾取器513於滑動臂512上滑動之導軌515，以及用以讓滑動臂512於主體部511滑動之導軌516。此外，於滑動拾取器513上，設置有沿著導軌515滑動之滑動器517，於主體部511上，設置有沿著導軌516滑動之滑動器518。
下段搬送機構部520係具備，主體部521；以可於主體部521滑動之方式而設置之滑動臂522；及以可於滑動臂522上滑動之方式而設置之作為支撐基板的支撐台之滑動拾取器523。滑動拾取器523係具備拾取器主體201，及連結於該拾取器主體201之多數根(例如為4根)拾取器202。
此外，於滑動臂522的側壁上，設置有用以讓滑動拾取器523於滑動臂522上滑動之導軌525，以及用以讓滑動臂522於主體部521滑動之導軌526。此外，於滑動拾取器523上，設置有沿著導軌525滑動之滑動器527，於主體部521上，設置有沿著導軌526滑動之滑動器528。
主體部511及主體部521係以連結部531及532而連結，並以主體部511、521、連結部531、532構成盒狀支撐部530，此盒狀支撐部530係以可旋轉之方式設置於支撐板551上，藉由盒狀支撐部530的旋轉，可使上段搬送機構部510及下段搬送機構部520旋轉。
此外，於支撐板551的下方，配備有搬送裝置50的驅動單元502。於驅動單元502中，係內藏有進行上述滑動臂512及522的滑動動作、上述盒狀支撐部530的旋轉動作、及搬送單元501的升降動作之各個驅動單元(圖中未顯示)。
如第4圖所示般，搬送室20係載置於底面F上所設置之支撐架101上。此外，於搬送室20的底面20a上形成有開口部20b，藉由將形成於驅動單元502之凸緣502a接合於該開口部20b上，而成為驅動單元502的上部插入至搬送室20內，其下部顯露於搬送室20外之狀態。於開口部20b與驅動單元502的凸緣502a之間，配備有上下雙重的O型環等之密封構件102、103，藉此可一邊確保兩個構件之接合面的氣密性，並於具有裕度的狀態加以接合。
亦即，驅動單元502係成為以密封構件102、103而滑動嵌合於搬送室20之底面20a的開口部20b之狀態。另一方面，驅動單元502係於顯露於搬送室20外(下方)之該下部中，隔著連結架104而連結於支撐架101並固定。
於以往的搬送裝置中，係採用下列構造，亦即以搬送室的底板，支撐連結於搬送室的底板並包含驅動單元之搬送裝置的荷重。然而，於如此的支撐構造時，一旦搬送室內成為真空狀態，則由於搬送室內外的壓力差，使搬送室的底板朝向內側撓曲，導致連結於底板之搬送裝置全體亦以被拉往搬送室內之方式往上方產生些許移動，結果使得搬送單元的高度位置改變，成為導致基板S的接收傳送位置產生誤差之原因，而損及搬送精準度。
因此，於本實施型態中，並非以搬送室20的底面20a，而是隔著連結架104以支撐架101支撐搬送裝置50的荷重，藉此，於搬送室20內部進行減壓排氣而成為真空之狀態下，可防止搬送裝置50因與外部之間的壓力差而被拉往上方，亦即被拉往搬送室20內之情況。由於驅動單元502的凸緣502a與搬送室20的底面20a，可藉由密封構件102、103一邊確保氣密性，並於具有裕度的狀態下接合，因此如第4圖中的虛線所示般，即使底面20a被拉引至搬送室20內而產生撓曲，亦不會使搬送裝置50之上下方向的位置改變。
藉由採用上述般之搬送裝置50的支撐構造，即使搬送室20內的壓力改變，搬送裝置50之搬送單元501的高度亦不會改變而能夠保持為一定，因此可確保基板S的接收傳送精準度。
於下段搬送機構部520中，來自於驅動單元502的動力，係隔著滑動臂522中所內藏之多數個滑輪及捲繞於此之皮帶等而傳達，藉此使滑動臂522及滑動拾取器523直線滑動。此時，可藉由調整滑輪的直徑比例，使滑動拾取器523的移動行程成為較滑動臂522的移動行程更大，而更容易對應於大型基板。
於上段搬送機構部510中，來自於驅動單元502的動力，係藉由主體部521、連結部531、及由主體部511中所內藏之滑輪及皮帶等所構成之動力傳達機構所傳達，此外並隔著滑動臂512中所內藏之多數個滑輪及捲繞於此之皮帶等而傳達，藉此使滑動臂512及滑動拾取器513直線滑動。與下段搬送機構部520相同，可藉由調整滑輪的直徑比例，使滑動拾取器513的移動行程成為較滑動臂512的移動行程更大。
接下來參照第6圖~第9圖，說明基板支撐體之滑動拾取器513的構造。由於滑動拾取器523的構造與滑動拾取器513的構造相同，因此省略其說明。
第6圖係顯示滑動拾取器513之第1實施型態之側面圖。如上述般，本實施型態之滑動拾取器513係具備拾取器主體201及拾取器202。拾取器主體201係固定於滑動器517。拾取器主體201係以彎折為剖面觀看呈字形之平板所構成，於所彎折之上下的平板之間，插入有多數根拾取器202(於本實施型態為4根；參照第5圖)的各個基端部，並以可獨立調節各根拾取器202的裝設角度之圖中未顯示的固定手段，例如以螺釘等加以固定。此外，拾取器主體201亦可採用連結上下2片平板者，並構成為於這些平板之間夾持有拾取器202的基端部。
各個拾取器202係於其基端部中，斜向裝設於拾取器主體201。因此，拾取器202係從該基端部側朝向前端部側，對水平軸h呈特定角度θ1 往斜向的上方向延伸，即使減去因拾取器202本身重量所造成之撓曲量，拾取器202之前端部的高度位置P，亦位於較其基端部(拾取器主體201所形成之支撐端)還上方。於第6圖中，係較實際上更為強調傾斜角度θ1 而描繪。
第7圖係顯示拾取器202裝設於拾取器主體201之裝設構造以及拾取器主體201裝設於滑動器517之裝設構造。
首先，拾取器202係使用2種螺釘而連結於拾取器主體201。亦即，拾取器202係使用將該拾取器202往垂直方向拉引之多數個拉引螺釘210，以及將拾取器202往垂直方向壓抵之多數個壓抵螺釘211，而固定於拾取器主體201。之後，藉由達成依據拉引螺釘210所進行的拉引與依據壓抵螺釘211所進行的壓抵之間的平衡，可任意調節拾取器主體201上所固定之拾取器202的傾斜角度θ1 。
此外，係以從滑動器517的內側貫通滑動器517並按壓拾取器主體201的下面之方式，配備有多數個拾取器主體角度調節螺釘212。藉由這些拾取器主體角度調節螺釘212，可對拾取器主體201本身的裝設角度進行微調。第7圖中，符號213為用以將拾取器202裝設於滑動器517之固定用螺釘。
由於使拾取器202傾斜而裝設於拾取器主體201，並使拾取器202之前端部的高度位置P位於較其基端部(拾取器主體201所形成之支撐端)的高度還上方，因此，例如為第8圖所示般，於將基板S載置於滑動拾取器513，並使滑動臂512以最大限度延伸出之狀態下，即使滑動臂512因本身的重量產生撓曲，並對水平軸h以角度θ2 往下方傾斜時，亦可與拾取器202的傾斜角度θ1 (參照第6圖)抵銷。因此可使基板S全體大致呈水平般而支撐。
於本實施型態之滑動拾取器513中，由於可在以上所述般之簡單構造下使拾取器202傾斜，因此可減少構件數目並更容易進行製造。此外，亦不需花費太多心思於故障維修及平時維護，此外，亦不需擔心起因於構件之間的摩擦等所造成之粒子的產生。再者，由於更能夠容易變更拾取器202的傾斜角度θ1 ，因此可於現場進行微調。
由於拾取器202的傾斜角度θ1 可依每個拾取器加以設定，因此，例如於基板S上，因其本身重量而於與搬送方向(第5圖中的X軸方向)直交之左右方向(第5圖中的Y軸方向)上產生撓曲時，亦能夠容易對應。例如，於滑動拾取器513的4根拾取器202當中，將兩端的拾取器202、202的傾斜角度設定較大，中間的拾取器202、202的傾斜角度設定較小，藉此可對基板S往左右方向之撓曲或傾斜進行矯正。
第9圖係顯示滑動拾取器513之第2實施型態之側面圖。與第1實施型態為相同構成者，係附加相同符號並省略該說明。
拾取器203係於其基端部附近的彎折部203a中彎折。因此，拾取器203係從該彎折部203a朝向前端部側，對水平軸h呈特定角度θ1 往斜向的上方向延伸，因此，即使減去因拾取器203本身重量所造成之撓曲量，拾取器203之前端部的高度位置P，亦位於較其基端部(拾取器主體201所形成之支撐端)還上方。於第9圖中，係較實際上更為強調彎折角度而描繪。
如此，係使拾取器203彎折，並使其前端部的高度位置P位於較其基端部(拾取器主體201所形成之支撐端)的高度還上方，藉此可獲得與第1實施型態(第6圖)為相同的作用效果，於將基板S載置於滑動拾取器513，並使滑動臂512以最大限度延伸出之狀態下，亦可使基板S全體大致呈水平般而支撐。第2實施型態的滑動拾取器513之拾取器203裝設於拾取器主體201之裝設構造，以及拾取器主體201裝設於滑動器517之裝設構造，係採用與第1實施型態為相同構成，因此省略該說明。此外，與第1實施型態的滑動拾取器513相同，亦可使第2實施型態中所使用之具有彎折部203a之拾取器203，於其基端部中對拾取器主體201具有特定的傾斜角度θ1 而連結。
此外，由於拾取器203的彎折角度可依每個拾取器加以設定，因此，例如於基板S上，因其本身重量而於與搬送方向(第5圖中的X軸方向)直交之左右方向(第5圖中的Y軸方向)上產生撓曲時，亦能夠容易對應。亦即，於滑動拾取器513的4根拾取器203當中，將兩側部的拾取器203、203的彎折角度設定較大，中間的拾取器203、203的彎折角度設定較小，藉此可對基板S往左右方向之撓曲或傾斜進行矯正。
第10圖(a)係顯示本發明的第3實施型態之滑動拾取器513的概略構成之立體圖。第10圖(b)係顯示，於第10圖(a)中以虛線所示之A部當中，將拾取器204加以擴大後之狀態。此滑動拾取器513係具備平板狀的拾取器主體201，以及其基端部支撐固定於此拾取器主體201之拾取器204。此外，此拾取器204係具有於其寬度方向突出之軸構件(支撐軸204a)。此支撐軸204a係貫通拾取器204主體，並突出而形成於與用以支撐基板S之基板支撐面204b為平行之方向上。
第11圖係顯示將第10圖(a)中以虛線所示之B部加以擴大後之主要部分俯視圖。此外，第12圖係顯示第11圖的XII－XII線之箭頭方向剖面圖，第13圖係顯示第11圖的XIII－XIII線之箭頭方向剖面圖。
拾取器204的基端部，係藉由固定構件220，以特定角度固定於拾取器主體201。此外，於拾取器主體201中，係設置有用以將拾取器204的支撐軸204a，以可轉動之方式支撐於距離其基端部稍遠的位置上之支撐部230。此外，係使拾取器204的支撐軸204a卡合於支撐部230，藉此以支撐軸204a為支點，使拾取器204全體僅產生些許轉動。
如第11圖所示般，固定構件220係具有，將拾取器204的基端部朝向拾取器主體201而螺合固定於壓抵方向之左右一對的壓抵螺釘221；及配備於這些壓抵螺釘221的兩側之3個固定螺釘222。
支撐部230係具有，用以固定支撐軸204a之左右一對的角度調節塊231；及設置於這些角度調節塊231的外側並保持拾取器204之左右一對的軸承構件232。
角度調節塊231具有如第12圖所示之貫通孔233，支撐軸204a係插通於此貫通孔233。此角度調節塊231係使用螺釘234、235，隔著軸承構件232固定於拾取器主體201。此外，於角度調節塊231的側部上，形成有缺口部236。
如第13圖所示般，於軸承構件232上形成有，可使拾取器204的支撐軸204a滑動而嵌入，並呈弧狀陷入之陷入凹部237。此陷入凹部237，係於將拾取器204安裝於拾取器主體201時用以進行初步定位者，並以於嵌入有支撐軸204a之狀態下具有若干的裕度之方式地形成為較支撐軸204a稍大。
固定構件220的壓抵螺釘221，可藉由將其鎖緊而將拾取器204的基端部朝向拾取器主體201按壓。因此，拾取器204係以下列方式傾斜，亦即，拾取器204的基端部以與支撐部230卡合之支撐軸204a為支點而下降，且拾取器204的前端部上升並位於較基端部還上方。此外，與上述相反，可藉由鬆緩壓抵螺釘221，使拾取器204的基端部以支撐軸204a為支點而上升，且拾取器204的前端部下降並例如使拾取器204全體保持為水平狀態。
如此，可藉由調節壓抵螺釘221的鎖緊程度，而使拾取器204傾斜為特定角度。之後，於使用一對的壓抵螺釘221使拾取器204的基端部位於較基端部稍微上方而傾斜之狀態下，鎖緊3個固定螺釘222，藉此可固定拾取器204的傾斜角度。如此，藉由壓抵螺釘221及固定螺釘222，可保持為將拾取器204固定於特定角度之狀態。
此外，由於角度調節塊231具有缺口部236，因此，貫通孔233的內徑係較支撐軸204a的直徑稍大，且於插入有支撐軸204a之狀態下具有裕度。此外，於以螺釘234、235將拾取器204的支撐軸204a固定於軸承構件232時，係藉由調節缺口部236側之螺釘235的鎖緊程度以縮小貫通孔233的內徑，可一邊對拾取器204的支撐軸204a之高度位置進行微調，一邊固定支撐軸204a。亦即，藉由缺口部236以具有裕度，藉此於以螺釘235進行螺合固定時，可使角度調節塊231之插入於貫通孔233之支撐軸204a的固定位置產生上下的若干位移。因此，可以拾取器204的基端部為支點，以極為微小的量調整到達拾取器204的前端為止之傾斜角度。
藉由採用此第3實施型態的滑動拾取器513以支撐基板S，與上述第1實施型態及第2實施型態相同，即使於滑動臂512的延伸狀態下因本身重量使滑動臂512撓曲時，亦可藉由拾取器204的傾斜角度將此撓曲所造成之往下方的傾斜加以抵銷。因此，可將基板S全體支撐為大致呈水平。
此外，於本實施型態之滑動拾取器513中，由於構成為於各個拾取器204中設置支撐軸204a，並以角度調節塊231及軸承構件232將此固定，因此可容易進行拾取器204之傾斜角度的調整，並能夠進行微調。
亦即，係於將拾取器204的傾斜角度插入於軸承構件232的陷入凹部237而形成暫時定位之安定的狀態下，調節固定構件220的壓抵螺釘221及固定螺釘222，藉此可決定拾取器204的傾斜角度，因此不易產生位置偏移，且極為容易進行傾斜角度的設定操作，因此可縮短設定時間。
此外，藉由調整具有缺口部236之角度調節塊231的螺釘235的鎖緊程度，可對拾取器204的長邊方向之傾斜角度進行微調，因此可於高精密度的方式下進行角度設定。
此外，藉由突出於拾取器204的左右兩側之支撐軸204a以及角度調節塊231，可對每個拾取器204進行寬度方向的校正，因此可將各個拾取器204於寬度方向上保持為水平狀態，而安定地支撐基板S。
如以上的實施型態所示般，於滑動拾取器513中，如拾取器202或拾取器204般可任意調節該裝設角度，或是如拾取器203般可設置彎折部203a而彎折為任意角度，藉此可在不會使搬送時的基板S產生傾斜或是位置偏移下，正確的保持該高度位置。此外，如第14圖所示般，由於一邊將基板S保持於大致呈水平狀態，一邊使基板S通過閘閥22的開口部22a而搬送，因此可確實於承載室30與各個處理室10a~10c之間，確實進行基板S的接收傳送。此外，於搬送基板S時，由於可避免於滑動拾取器513上的位置偏移，因此亦可防止基板S的破損等，此外並可將基板S搬送至處理室10a~10c內的正確位置，而實施精密度極高之處理(例如蝕刻等)。
接下來說明上述構成之真空處理系統1的動作。
首先，使搬送機構43的2片拾取器45、46延伸驅動，從收納有未處理基板之一邊的基板匣40中，將2片基板S搬入至承載室30之上下2段的基板收納部31。
於使拾取器45、46退避後，關閉承載室30之大氣側的閘閥22。之後對承載室3內進行排氣，使內部減壓至特定的真空度為止。於真空吸引結束後，以對位器33按壓基板S，藉此進行基板S的對位。
如上述般進行對位之後，開啟搬送室20與承載室30之間的閘閥22，藉由搬送室20內的搬送裝置50，接收承載室30與基板收納部31中所收納之基板S，而搬入至處理室10a、10b、10c當中任一處。此外，於處理室10a、10b、10c中經處理後的基板S，係藉由搬送裝置50加以搬出，並藉由搬送機構43，經由承載室30而收納至基板匣40。此時，可送回原先的基板匣40或收納至其他的基板匣40。
此外，於從承載室30取出基板S時，將搬送裝置50之上段搬送機構部510的滑動拾取器513及/或下段搬送機構部520的滑動拾取器523插入至承載室30，並藉由滑動拾取器513及/或滑動拾取器523接收基板S。滑動拾取器513及/或滑動拾取器523係將所接收之基板S搬入至處理室10a、10b、10c當中任一處。此時，於欲搬入基板S之處理室內已存在處理完畢的基板S時，可藉由一邊的滑動拾取器將該基板S搬出，並將載置於另一邊的滑動拾取器之基板S插入至處理室內。處理完畢的基板S，於以滑動拾取器513及/或滑動拾取器523接收後，被傳送至承載室30。
於以搬送室20內的搬送裝置50進行以上的搬送時，係藉由旋轉驅動裝置，透過盒狀支撐部530使上段搬送機構部510或下段搬送機構部520旋轉，以進行這些機構的對位。此外，由於具有上下2段的搬送機構部510、520，因此係藉由圖中未顯示之升降單元，使搬送單元501進行升降動作，而調整滑動拾取器的高度位置。
如上述般，於對位階段中，可藉由使滑動臂512、522、滑動拾取器513、523延伸或退避，而進行基板S的搬送。之後如上述般，藉由採用以對拾取器主體201呈傾斜的狀態而安裝之拾取器202或拾取器204，或是以彎折部203a而彎折之拾取器203，以作為滑動拾取器513、523，藉此，可在將基板S支撐於大致呈水平狀態下進行搬送，而確實進行基板S的接收傳送，並防止起因於搬送之基板S的設置誤差等。
本發明並不限定於上述實施型態，可進行種種變形。例如，於上述實施型態中，係表示於上下2段設置直動式的搬送機構部作為搬送機構之情況，但是並不限定於2段，亦可為1段或是3段以上，此外，並不限定於直動式，例如亦可為多關節形式。
此外，滑動拾取器513、523之裝設於拾取器主體201的拾取器202、203、204的裝設構造，並不限定於螺釘，只要為可任意調節拾取器202、203、204的裝設角度之固定手段即可。
1．．．真空處理系統
10a、10b、10c．．．處理室
20．．．搬送室
30．．．承載室
50．．．搬送裝置
60．．．控制部
201．．．拾取器主體
202、203、204．．．拾取器
210．．．拉引螺釘
211．．．壓抵螺釘
501．．．搬送單元
502．．．驅動單元
510．．．上段搬送機構部
513．．．滑動拾取器
520．．．下段搬送機構部
523．．．滑動拾取器
530．．．盒狀支撐部
第1圖係概略性顯示本發明的一項實施型態之具備搬送裝置的真空處理系統之立體圖。
第2圖係顯示第1圖的真空處理系統之水平剖面圖。
第3圖係顯示控制部的概略構成之方塊圖。
第4圖係顯示用以說明第1圖的真空處理系統之搬送室的垂直剖面構造與該支撐架構造之圖式。
第5圖係顯示第4圖之搬送裝置的搬送單元之立體圖。
第6圖係顯示本發明的第1實施型態之滑動拾取器之側面圖。
第7圖係顯示拾取器及拾取器主體的裝設構造之主要部分剖面圖。
第8圖係顯示將基板載置於滑動拾取器之狀態之圖式。
第9圖係顯示本發明的第2實施型態之滑動拾取器之側面圖。
第10圖係顯示本發明的第3實施型態之滑動拾取器，(a)為外觀立體圖，(b)為拾取器部分之主要部分立體圖。
第11圖係顯示第10圖的滑動拾取器之主要部分俯視圖。
第12圖係顯示第11圖的XII－XII線之箭頭方向剖面圖。
第13圖係顯示第11圖的XIII－XIII線之箭頭方向剖面圖。
第14圖係顯示將基板載置於滑動拾取器而搬送之狀態之圖式。
201．．．拾取器主體
202．．．拾取器
210．．．拉引螺釘
211．．．壓抵螺釘
212．．．拾取器主體角度調節螺釘
213．．．固定用螺釘
512．．．滑動臂
513．．．滑動拾取器
517．．．滑動器
h．．．水平軸
θ1 ．．．傾斜角度

Claims (15)

  1. 一種基板搬送裝置，係用以搬送基板之基板搬送裝置，其特徵為：係具備：具有連結於共通的拾取器主體之多數個拾取器以支撐基板之基板支撐體；及支撐上述基板支撐體之搬送臂；及驅動上述搬送臂之驅動部；上述拾取器，係使用可調節上述拾取器對水平方向所形成的角度之固定手段，而連結於上述拾取器主體，以上述拾取器的前端部位於超過其基端部之高度的方式，使上述拾取器傾斜，以各自獨立的角度使多數個上述拾取器傾斜。
  2. 如申請專利範圍第1項所記載之基板搬送裝置，其中，於將基板載置於上述拾取器且使上述搬送臂成為最延伸出之狀態下，以使基板大致呈水平之角度使上述拾取器傾斜。
  3. 一種基板搬送裝置，係用以搬送基板之基板搬送裝置，其特徵為：係具備：具有連結於共通的拾取器主體之多數個拾取器以支撐基板之基板支撐體；及支撐上述基板支撐體之搬送臂；及驅動上述搬送臂之驅動部； 上述拾取器，係使用可調節上述拾取器對水平方向所形成的角度之固定手段，而連結於上述拾取器主體，以上述拾取器的前端部位於超過其基端部之高度的方式，使上述拾取器於其基端部附近彎折。
  4. 如申請專利範圍第3項所記載之基板搬送裝置，其中，係以各自獨立的角度使多數個上述拾取器彎折。
  5. 如申請專利範圍第3項或第4項所記載之基板搬送裝置，其中，於將基板載置於上述拾取器且使上述搬送臂成為最延伸出之狀態下，以使基板大致呈水平之角度使上述拾取器彎折。
  6. 如申請專利範圍第1項或第3項所記載之基板搬送裝置，其中，上述固定手段係卡合於上述拾取器的基端部，並對上述拾取器施加反向力而調節固定角度。
  7. 如申請專利範圍第1項或第3項所記載之基板搬送裝置，其中，上述固定手段係卡合於上述拾取器的基端部，由將上述拾取器以垂直方向拉引之螺釘及以垂直方向壓抵之螺釘所形成。
  8. 如申請專利範圍第1項或第3項所記載之基板搬送裝置，其中，上述基板支撐體的上述拾取器主體，係裝設於可移動上述搬送臂的滑動構件上，且具備可任意調節其裝設角度之裝設角度調節機構。
  9. 如申請專利範圍第1項或第3項所記載之基板搬送裝置，其中，於上述拾取器中，係設置有往其寬度方向突出而形成之支撐軸，並以該支撐軸為支點使上述拾取器 轉動，藉此調節其裝設角度。
  10. 如申請專利範圍第9項所記載之基板搬送裝置，其中，更具備可滑動嵌合上述支撐軸且具有可調節其內徑之貫通孔之角度調節用構件，並於將上述支撐軸插入於上述貫通孔之狀態下縮小該貫通孔的內徑，藉此對上述拾取器的裝設角度進行微調。
  11. 如申請專利範圍第1項或第3項所記載之基板搬送裝置，其中，上述搬送臂係收納於真空處理室內；上述驅動部係至少使其下部顯露於上述真空處理室的外部而配備，且於該下部中固定於用以載置上述真空處理室之支撐架上。
  12. 如申請專利範圍第11項所記載之基板搬送裝置，其中，於上述真空處理室的底板上形成有開口部；上述驅動部係使其上部插入於該開口部內，並且於與該開口部之間，於具有裕度之狀態下以密封構件加以密封。
  13. 如申請專利範圍第1項或第3項所記載之基板搬送裝置，其中，上述基板為大型玻璃基板。
  14. 一種基板支撐體，係於基板搬送裝置中用以支撐基板之基板支撐體，其特徵為：係具備連結於共通的拾取器主體之多數個拾取器，且以上述拾取器的前端部位於超過其基端部之高度的方式，以各自獨立的角度使多數個上述拾取器傾斜。
  15. 一種基板支撐體，係於基板搬送裝置中用以支撐 基板之基板支撐體，其特徵為：係具備連結於共通的拾取器主體之多數個拾取器，且以上述拾取器的前端部位於超過其基端部之高度的方式，以各自獨立的角度使上述拾取器彎折。
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