CN101599449B - 搬送装置以及处理装置 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种能够使被搬送体的大型化与搬送精度和搬送速度维持提高并存的搬送装置，包括：具有滑动部且在上下至少被配设成两层的下部滑动基座(51a)和上部滑动基座(51b)；在下部滑动基座(51a)的滑动部(54a)上滑动，相对于下部滑动基座(51a)进出退避来搬送被搬送体的下部拾取器(52a)；配设在下部拾取器(52a)和上部滑动基座(51b)之间的，在上部滑动基座(51b)的滑动部(54b)上滑动，相对于上部滑动基座(51b)进出退避来搬送与被搬送体不同的另外的被搬送体的上部拾取器(52b)；和多个相互连接下部滑动基座(51a)和上部滑动基座(51b)的框架(53a)至(53b)。

Description

搬送装置以及处理装置

技术领域

本发明涉及一种搬送FPD等大型的被搬送体的搬送装置，以及具有该搬送装置的对被搬送体进行处理的处理装置。

背景技术

在以液晶显示器(LCD)为代表的平板显示器(FPD)的制造过程中，使用所谓的多腔室型的处理装置，该处理装置具有多个在真空下对FPD用基板实施蚀刻、灰化、成膜等规定处理的处理腔室。

这种处理装置包括：设置有搬送FPD用基板(被搬送体)的搬送装置的搬送室；和在其周围设置的多个处理腔室。利用搬送装置将FPD用基板从搬送室搬入到各处理腔室，并且将处理完的基板从处理腔室搬出到搬送室。而且，负载锁定室与搬送室连接，在进行大气侧的基板的搬入搬出时，能够维持处理腔室和搬送室的真空状态来处理多个基板。这种多腔室型的处理装置记载在例如专利文献1和专利文献2中。此外，作为专利文献2中的搬送装置，记载有在滑动臂上进一步具有滑动的拾取器(pick)的搬送装置。

在这种处理装置中，在将FPD用基板搬入处理腔室时，将FPD用基板装载到搬送装置的例如滑动臂上的拾取器上，使滑动臂以及拾取器在处理腔室内的装载台的上方进出。然后，使升降销从装载台突出，将FPD用基板从拾取器装载交接到升降销上，使拾取器以及滑动臂从处理腔室向搬送室内退避。接着，使升降销下降，将FPD用基板装载到装载台上。

与此相反，在将FPD用基板从处理腔室搬出时，利用升降销使装载台上的FPD用基板上升，使滑动臂和拾取器从搬送室进入到处理腔室内。然后，使升降销下降，将FPD用基板从升降销装载交接到拾取器上。接着，使拾取器及滑动臂退避到搬送室内。

专利文献1：日本特开平9-223727号公报

专利文献2：日本特开2007-73540号公报

近年来，随着FPD用基板的大型化的日益发展，处理装置中的各腔室也逐渐大型化，搬送装置的基板搬送行程(腔室之间的搬送距离)也有变长的倾向。现阶段，基板搬送行程为5米左右，但是今后会超过5米。

如果基板搬送行程变长，则必须使滑动臂和拾取器的进出退避的行程相应地变长。仅仅是进出退避的行程变长的部分，也会使搬送装置大型化。

即使搬送装置大型化，通常也要求搬送精度和搬送速度的维持提高。在进出退避动作或者升降操作或者旋转操作中，需要对搬送装置的滑动臂或装载该滑动臂的基座施加力矩。如果滑动臂或基座大型化，则力矩也变大。由此，滑动臂或基座自身会弯曲或扭曲或翘曲，影响了搬送精度。为了抑制这些弯曲、扭曲、翘曲，如果降低进出退避速度或者升降速度或者旋转速度，则对搬送速度有影响。

对于这种现有技术的搬送装置，难以使FPD用基板即被搬送体的大型化和搬送精度以及搬送速度得到维持提高这两者同时成立。

发明内容

本发明的目的在于提供一种能够使被搬送体的大型化和搬送精度以及搬送速度得到维持提高这两者同时成立的搬送装置以及使用该搬送装置的处理装置。

为了解决上述问题，本发明的第一方面涉及的搬送装置包括：具有滑动部，并且在上下被配设成至少两层的下部滑动基座以及上部滑动基座；在上述下部滑动基座的滑动部上滑动，相对于上述下部滑动基座进出退避来搬送被搬送体的下部拾取器；配设在上述下部拾取器和上述上部滑动基座之间，在上述上部滑动基座的滑动部上滑动，相对于上述上部滑动基座进出退避来搬送被搬送体的上部拾取器；以及多个相互连接上述下部滑动基座和上述上部滑动基座的框架。

本发明第二方面涉及的处理装置是对被处理体实施处理的处理装置，其在搬送被处理体的搬送装置中使用上述第一方面所涉及的搬送装置。

根据本发明，能够提供一种使被搬送体的大型化和搬送精度以及搬送速度得到维持提高这两者同时成立的搬送装置以及使用该搬送装置的处理装置。

附图说明

图1是简要表示使用本发明的一个实施方式所涉及的搬送装置的处理装置的立体图。

图2是简要表示图1所示的处理装置的内部的水平截面图。

图3是表示处理腔室的一个例子的截面图。

图4是简要表示一个实施方式所涉及的搬送装置的立体图。

图5A是从图4中的箭头5A侧观察的正视图，图5B是从图4中的箭头5B侧观察的侧视图。

图6A是表示下部拾取器(pick)进出状态的图，图6B是表示下部滑动拾取器进出状态的图。

图7A是表示上部拾取器进出状态的图，图7B是表示上部滑动拾取器进出状态的图。

图8A和图8B是表示搬送被搬送体的状态的图。

图9A和图9B是简要表示驱动机构的一个例子的截面图。

图10是简要表示能够联动驱动拾取器和滑动拾取器的驱动机构的一个例子的立体图。

图11是简要表示能够联动驱动拾取器和滑动拾取器的驱动机构的另一例子的立体图。

标号说明：

10处理腔室          20搬送室           30负载锁定室

50搬送装置          51a下部滑动基座    51b上部滑动基座

52a下部拾取器       52b上部拾取器

53a～53c矩形框架    54a、54b滑动部     55a、55b基部

56a、56b支撑部件    57a、57b水平部件   57c、57d垂直部件

58驱动机构          59搬送控制部       60a、60b滑动部

61a下部滑动拾取器   61b上部滑动拾取器  62a基部

62b基部             63a、63b支撑部件   70a下部驱动机构

70b上部驱动机构         71a、71b主驱动部

72a、72b副驱动部        80马达                  81第一滑轮

82第一驱动力传递部件    83第二滑轮

84第一夹紧部件          85导向部件              90基盘

91第三滑轮              92第二驱动力传递部件    93第四滑轮

95导向部件              96空转轮                97减速机

G FPD用基板

具体实施方式

下面，参照附图说明本发明的一个实施方式。对于全部的参照附图而言，对相同的部分标注相同的参考标号。

在本说明中，参照使用具有对FPD用基板进行等离子体蚀刻的等离子体蚀刻装置的多腔室型处理装置的搬送装置的例子来说明本发明的一个实施方式所涉及的搬送装置。

此外，作为FPD，例示有液晶显示器(LCD)、电致发光(EL)显示器、等离子体显示面板(PDP)等。

图1是简要表示使用本发明的一个实施方式所涉及的搬送装置的处理装置的立体图。图2是简要表示图1所示的处理装置的内部的水平截面图。

如图1和图2所示，处理装置1包括：多个处理腔室10；与这些处理腔室10连接的搬送室20；和与搬送室20连接的负载锁定室30。在本例子中，搬送室20呈矩形，矩形的搬送室20的四个边分别与三个处理腔室10和一个负载锁定室30连接。

在各处理腔室10与搬送室20之间、搬送室20与负载锁定室30之间、以及连通负载锁定室30与外侧的大气的开口部上，分别插入安装有构成为将它们之间气密(气体密封)地密封，并且能够开闭的门阀22。

在负载锁定室30的外侧，设置有两个盒式分度器41，在其上载置有分别收容FPD用基板G的盒40。盒40通过升降机构42能够进行升降。对于该盒40而言，例如，其中一个用于收容未处理的基板G，另一个用于收容处理完的基板G。

在两个盒式分度器41之间配置有支撑台44，在支撑台44上配置有搬送机构43。搬送机构43具有被设置成上下两层的拾取器45、46，以及能够与该拾取器45、46一体地进出退避并能够旋转地支撑该拾取器45、46的基座47。搬送机构43在盒40与负载锁定室30之间搬送FPD用基板G。

搬送室20为真空腔室，能够保持规定的减压状态。在搬送室20中，如图2所示，配置有搬送装置50。搬送装置50用于在负载锁定室30与三个处理腔室10之间搬送FPD用基板。关于搬送装置50的详细说明将在后面进行描述。

负载锁定室30也是真空腔室，其能够保持在与搬送室20相同的规定的减压状态。负载锁定室30在处于大气环境下的盒40和减压环境下的搬送室20之间进行FPD用基板G的交接。由此，其需要反复进行大气压与减压状态的切换。此外，负载锁定室30将基板收容部31设置成上下两层(图2只图示了上层)，在各基板收容部31内设置有用于支撑FPD用基板G的缓冲器32和对FPD用基板G进行定位的校准器33。

处理腔室10也是真空腔室。在图3中示出处理腔室10的一个例子。

图3是表示处理腔室的一个例子的截面图。图3所示的处理腔室10表示等离子体蚀刻装置的一个例子。

如图3所示，处理腔室10例如由表面经铝氧化膜处理(阳极氧化处理)的铝构成并形成为角筒状，在该处理腔室10内的底部设置有用于装载FPD用基板G的基座(基板装载台)101。用于进行FPD用基板G的装载以及卸载的升降销130可升降地插入到基座101内。升降销130在搬送FPD用基板G时，上升至基座101的上方的搬送位置，在其它情况时，为没入到基座101内的状态。基座101通过绝缘部件104被支撑在腔室10的底部，其具有金属制基材102和设置在基材102周围的绝缘部件103。

基座101的基材102与用于供给高频电力的供电线123连接，该供给电线123与匹配器124以及高频电源125连接。从高频电源125向基座101供给例如13.56MHz的高频电力。

在基座101的上方，设置有与基座101平行相对的具有作为上部电极的功能的喷淋头111。喷淋头111被支撑在处理腔室10的上部，在其内部具有内部空间112，并且在与基座101相对的面上形成有多个喷出处理气体的喷出孔113。喷淋头111与地连接，与基座101构成一对平行平板电极。

在喷淋头111的上面，设置有气体导入口114。气体导入口114与处理气体供给管115连接，处理气体供给管115通过阀116以及质量流量控制器117与处理气体供给源118连接。从处理气体供给源118供给用于蚀刻的处理气体。作为处理气体，能够使用卤素气体、O₂气体、Ar气体等本领域通常使用的气体。

在处理腔室10的底部形成有排气管119，该排气管119与排气装置120连接。排气装置120具有涡轮分子泵等的真空泵，构成为能够将处理腔室10内抽真空至规定的减压状态。此外，在处理腔室10的侧壁上设置有基板搬入搬出口121，该基板搬入搬出口121能够通过上述的门阀22打开关闭。而且，在打开该门阀22的状态下，能够通过搬送室20内的搬送装置50搬入搬出FPD用基板G。

处理装置1的各构成部，由图2所示的具有微处理器的工艺程序控制器170所控制。工艺程序控制器170与由操作者进行管理处理装置1用的指令输入操作等的键盘和可视化并显示处理装置1的工作状况的显示器等组成的用户界面171连接。工艺程序控制器170与存储部172连接，在存储部172中存储有用于通过工艺程序控制器170的控制而实现在处理装置1中执行的各种处理的控制程序、和用于根据处理条件在处理装置1中执行规定的处理的控制程序即方案，以及各种数据库等。存储部172具有存储介质，将方案等存储在该存储介质中。存储介质可以是硬盘或者半导体存储器，也可以是CD-ROM、DVD、闪存等可移动的存储介质。对于方案等而言，根据需要通过来自于用户界面171的指示等，从存储部172被读取，并由工艺程序控制器170执行，通过这样，在工艺程序控制器170的控制下，在处理装置1中进行期望的处理。

下面，对如上所述构成的处理装置1的处理操作进行说明。

首先，使搬送机构43的拾取器45、46驱动进退，从收容有未处理的FPD用基板G的一侧的盒40向负载锁定室30的两层基板收容室31搬入两片FPD用基板G。

使拾取器45、46退避后，关闭负载锁定室30的大气侧的门阀22。之后，对负载锁定室30内进行排气，将其内部减压至规定的真空度。在进行完抽真空之后，利用校准器33压住基板G，对FPD用基板G进行定位。

在如上所述进行完定位后，打开搬送室20和负载锁定室30之间的门阀22，使用搬送室20内的搬送装置50，接受负载锁定室30的基板收容部31中所收容的FPD用基板，并将其搬入到处理腔室10，将FPD用基板G装载到基座101上。

之后，关闭门阀22，利用排气装置120，将处理腔室10内抽真空至规定的真空度。接着，打开阀116，利用质量流量控制器117对来自处理气体供给源118的处理气体进行流量的调节，并通过处理气体供给管115、气体导入口114将其导入到喷淋头111的内部空间112，进一步，通过喷出孔113对着FPD用基板G均匀地喷出，调节排气量，将处理腔室10内控制在规定的压力。

在这种状态下，从处理气体供给源118将规定的处理气体导入到腔室10内，并且从高频电源125向基座101施加高频电力，使在作为下部电极的基座101和作为上部电极的喷淋头111之间产生高频电场，生成处理气体的等离子体，利用该等离子体，对FPD用基板G实施蚀刻处理。

如此，在实施蚀刻处理之后，停止从高频电源125施加高频电力，停止处理气体的导入。然后，将处理腔室10内残余的处理气体排出，通过升降销130使FPD用基板G上升至搬送位置。在该状态下，打开门阀22，利用搬送装置50将FPD用基板G从处理腔室10内向搬送室20搬出。

从处理腔室10搬出的FPD用基板G被搬送到负载锁定室30，通过搬送机构43被收容在盒40中。此时，既可以收容在原来的盒40中，也可以收容在另一侧的盒40中。

重复进行与收容在盒40中的FPD用基板G的个数相对应次数的上述一系列操作，完成处理。

下面，对配设在搬送室20中的搬送装置50进行详细说明。

图4是简要表示一个实施方式的搬送装置的立体图，图5A是从图4中的箭头5A侧观察的正视图，图5B是从图4中的箭头5B侧观察的侧视图。

如图4至图5B所示，一个实施方式所涉及的搬送装置50包括：在上下至少被配设成两层的下部滑动基座51a和上部滑动基座51b；相对于下部滑动基座51a进出退避的下部拾取器52a；相对于上部滑动基座51b进出退避的上部拾取器52b；和多个与下部滑动基座51a以及上部滑动基座51b相互连接的框架，在本例子中为三个框架53a至53c。在本例子中，框架的形状为矩形。下面，在本说明书中称框架为矩形框架。

下部滑动基座51a以及上部滑动基座51b为长条状，分别具有滑动部54a和54b。

下部拾取器52a在下部滑动基座51a的滑动部54a上滑动，使图中未示出的被搬送体(例如FPD用基板)进出退避来对其进行搬送。同样，上部拾取器52b在上部滑动基座51b的滑动部54b上滑动，使图中未示出的被搬送体进出退避来对其进行搬送。上部拾取器52b被配设在下部拾取器52a与上部滑动基座51b之间。下部拾取器52a以及上部拾取器52b分别具有基部55a、55b，具有多个从基部55a、55b水平地、成叉状地延伸的长条状的支撑部件，在本例子中有5个支撑部件56a、56b。下部拾取器52a相对于下部滑动基座51a进出的状态示于图6A中，上部拾取器52b相对于上部滑动基座51b进出的状态示于图7A中。

下部滑动基座51a、上部滑动基座51b、和矩形框架53a至53c相互连接构成箱形构造体。在本例子中，矩形框架53a至53c由固定在下部滑动基座51a上的水平部件57a、固定在上部滑动基座51b上的水平部件57b、相互固定水平部件57a的两个端部和水平部件57b的两个端部的垂直部件57c，57d组合而构成。当然，矩形框架53a至53c也可以由框状一体部件构成。

此外，在本例子中，下部滑动基座51a和上部滑动基座51b被设置成上下相对，下部滑动基座51a和上部滑动基座51b的、与下部拾取器52a以及上部拾取器52b的进出方向相反一侧的端部通过连接部件53d连接，从而相互固定。

此外，在本例子中，下部滑动基座51a与下部拾取器52a的上下关系，与上部滑动基座51b和上部拾取器52b的上下关系相反。具体而言，在本例子中，下部拾取器52a构成为装载在下部滑动基座51a上，与此相反，上部拾取器52b构成为吊装在上部滑动基座51b上。

此外，作为箱形构造体的例子，例如优选为通过利用至少三个以上的矩形框架53a至53c连接固定下部滑动基座51a以及上部滑动基座51b的前端部A、中央部B和后端部C的至少三点而构成的箱形刚性构造体，以抑制下部滑动基座51a和上部滑动基座51b中发生的弯曲、扭曲、翘曲等。此外，优选上部滑动基座51b与矩形框架53a至53c的内侧连接。

如5B所示，箱形构造体与驱动机构58连接。驱动机构58使箱形构造体旋转(θ)和升降(z)。这样，搬送装置50能够进行旋转操作和升降操作。驱动机构58由搬送控制部59所控制。搬送控制部59由上述的工艺程序控制器170所控制。

此外，在搬送装置50中，在下部拾取器52a的支撑部件56a和上部拾取器52b的支撑部件56b上形成有各自的滑动部60a和60b。在支撑部件56a上，设置有相对于下部拾取器52a进出退避的下部滑动拾取器61a。同样地，也在支撑部件56b上，设置有相对于上部拾取器52b进出退避的上部滑动拾取器61b。下部滑动拾取器61a在支撑部件56a的滑动部60a上滑动。同样地，上部滑动拾取器61b在支撑部件56b的滑动部60b上滑动。下部滑动拾取器61a和上部滑动拾取器61b各自具有基部62a、62b(具体参照图5A)，具有多个从基部62a和62b水平地、成叉状地延伸的长条状的支撑部件，在本例子中，具有5个支撑部件63a、63b。图中未示出的被搬送体被支撑在支撑部件63a、63b上。下部滑动拾取器61a相对于下部拾取器52a进出的状态示于图6B中，上部滑动拾取器61b相对于上部拾取器52b进出的状态示于图7B中。

由此，在搬送装置50中，下部滑动拾取器61a被设置在装载于下部滑动基座51a上的下部拾取器52a的支撑部件56a上部，上部滑动拾取器61b被设置在从上部滑动基座51b的下面吊装的上部拾取器52b的支撑部件56b上，下部拾取器52a和下部滑动拾取器61a，或者上部拾取器52b和上部滑动拾取器61b以两段滑动方式进行进出。这样，进出搬送在支撑部件63a或63b上支撑的被搬送体例如FPD用基板G。

此处，如图8A以及图8B所示，搬送装置50在图1所示的处理装置1中使用，在被搬送体例如是如FPD用基板G那种的大型被搬送体时，搬送行程L变得非常长。因此，在下部滑动拾取器61a或者上部滑动拾取器61b滑动并最大限度地进出时，搬送装置50变为非常长的悬臂梁(单边支撑梁)的状态。在该状态下，会在下部滑动基座51a或者上部滑动基座51b上产生较大的力矩，成为容易产生弯曲、扭曲或翘曲的变形的状态。特别地，被搬送体具有矩形的平面形状，在矩形的最短边的边长为2800mm这样的大型的FPD用基板G时，搬送行程L为5米以上。因此，容易引起下部滑动基座51a和上部滑动基座51b产生变形。

然而，对于搬送装置50而言，在下部滑动基座51a和上部滑动基座51b上连接有矩形框架53a至53c，由下部滑动基座51a、上部滑动基座51b和矩形框架53a至53c构成箱形构造体。由此，即使在搬送行程L变长的情况下，也能够抑制下部滑动基座51a和上部滑动基座51b发生变形。

此外，随着搬送行程L的加长或者被搬送体的大型化进一步发展，不得不使下部滑动基座51a、上部滑动基座51b的自身也大型化。当下部滑动基座51a、上部滑动基座51b大型化时，例如，在进出退避动作中，或者在升降操作中或者在旋转操作中，容易产生较大的力矩，因此容易发生变形。此外，也存在由下部滑动基座51a、上部滑动基座51b的自重而产生变形的可能性。

对于这种情况下，在搬送装置50中，下部滑动基座51a和上部滑动基座51b以及矩形框架53a至53c共同构成箱形构造体。因此，即使下部滑动基座51a、上部滑动基座51b大型化，也能够抑制其变形。

由此，根据搬送装置50，因为下部滑动基座51a以及上部滑动基座51b不容易发生变形，因此，能够抑制因搬送行程L的加长或者被搬送体的大型化而引起的搬送精度的恶化。

此外，因为下部滑动基座51a以及上部滑动基座51b不容易发生变形，因此，能够使进出退避速度、或者升降速度、或者旋转速度等搬送速度得到维持提高。

上面，根据一个实施方式的搬送装置50，能够得到被搬送体的大型化和搬送精度以及搬送速度得到维持提高这两者并存的搬送装置。

而且，一个实施方式所涉及的搬送装置50包括支撑滑动的滑动拾取器的多层滑动式拾取器作为拾取器。在本例子中，例示出在下部拾取器52a以及上部拾取器52b上支撑进一步滑动的下部滑动拾取器61a和上部滑动拾取器61b的两层滑动式拾取器。

多层滑动式拾取器的情况下的搬送行程L，例如，如图8A和图8B所示，下层的拾取器52a，或上层的拾取器52b的移动距离为Lm时，下层的滑动拾取器61a，或上层的滑动拾取器61b增加了进一步滑动的距离Ls。因此，在拾取器的进出状态下，从搬送装置50的前端到拾取器的前端的距离，即进出时的拾取器长度大约为Lm+Ls。进出时的拾取器长度Lm+Ls为搬送行程L。

相反，在拾取器的退避状态下，滑动拾取器61a、或61b与拾取器52a、或52b重叠。因此，滑动拾取器61a、或61b滑动的距离Ls与拾取器52a、或52b移动的距离Lm重叠。由此，退避时的拾取器的长度约为Lm，能够比进出时的拾取器的长度，即搬送行程L短距离Ls。

这样，在搬送装置50中，假设拾取器为多层式拾取器，由于退避时滑动拾取器61a、或61b与拾取器52a、或52b重叠，因此，能够使退避时拾取器的长度比搬送行程L短，能够避免因为被搬送体的大型化而引起的搬送装置50的大型化。

此外，在拾取器为多层滑动式拾取器的情况下，最好越是位于前端的拾取器，其进出退避的距离越短。在进出时，越是向前端行进，对拾取器施加的力矩越大。因此，前端的拾取器处于容易变形的状态。

通过缩短越是位于前端的拾取器的进出退避的距离而能够抑制这种情况。

在搬送装置50中，例如，如图8A和图8B所示，下部滑动拾取器61a的进出退避的距离Ls比下部拾取器52a的进出退避的距离Lm短。同样地，上部滑动拾取器61b的进出退避的距离Ls比上部拾取器52b的进出退避的距离Lm短。

此外，对于搬送行程L比退避时拾取器的长度长而言，也可以使滑动基座51a，或51b都移动。然而，在这种情况下，门开口121的尺寸Sg变大，例如需要大型的门阀22。

相反，根据搬送装置50，滑动基座51a和51b不从搬送室20沿水平方向移动，而是使垂直方向的厚度比滑动基座51a和51b更薄的拾取器52a和52b，以及滑动拾取器61a和61b在水平方向移动。由此，与滑动基座51a或51b都移动的搬送装置相比，能够使门开口121的尺寸Sg减小。因此，能够得到下述优点，即，不需要大型的门阀22，能够抑制因被搬送体的大型化而带来的搬送装置的自身的制造成本。

下面，说明驱动拾取器和滑动拾取器的驱动机构的一个例子。

例如，如图5B所示，搬送装置50包括下部驱动机构70a和上部驱动机构70b。下部驱动机构70a驱动下部拾取器52a和下部滑动拾取器61a。相同地，上部驱动机构70b驱动上部拾取器52b和上部滑动拾取器61b。

图9A和图9B是简要表示驱动机构的一个例子的截面图。此外，图9A表示拾取器和滑动拾取器退避的状态，图9B表示拾取器和滑动拾取器进出的状态。

如图9A和图9B所示，在本例子所涉及的搬送装置50中，下部驱动机构70a包括第一主驱动部71a和第一副驱动部72a，上部驱动机构70b包括第二主驱动部71b和第二副驱动部72b。第一、第二主驱动部71a、71b各自使下部拾取器52a和上部拾取器52b进出退避，第一、第二副驱动部72a，72b各自使下部滑动拾取器61a和上部滑动拾取器61b进出退避。

此外，在本例子中，第一副驱动部72a被安装在例如基部55a上，第一副驱动部72a构成为与下部拾取器52a同时移动。相同地，第二副驱动部72b被安装在例如基部55b上，第二副驱动部72b构成为与上部拾取器52b同时移动。

第一、第二副驱动部72a和72b也可以构成为与由第一、第二主驱动部71a和71b驱动的拾取器52a和52b的进出退避动作无关联，分别独立地使滑动拾取器61a和61b进出退避。

此外，第一、第二副驱动部72a和72b也可以构成为与由第一、第二主驱动部71a和71b驱动的拾取器52a和52b的进出退避动作联动，使滑动拾取器61a和61b进出退避。如果与拾取器52a和52b的进出退避动作联动来使滑动拾取器61a和61b进出退避，则因为拾取器52a和52b与滑动拾取器61a和61b同时运动，因此，能够得到下述优点，即，例如能够提高搬送速度。

下面，对能够与拾取器52a和52b的进出退避动作联动来使滑动拾取器61a和61b进出退避的驱动机构的一个例子进行说明。

图10和图11是简要表示能够联动地驱动拾取器和滑动拾取器的驱动机构的一个例子的立体图。此外，图10表示拾取器和滑动拾取器退避的状态，图11表示拾取器和滑动拾取器进出的状态。

在下面的说明中，着眼于驱动下部拾取器52a和下部滑动拾取器61a的下部驱动机构70a。

此外，上部驱动机构70b没有具体地图示，但是，其具有与下面说明的下部驱动机构70a相同的结构，例如仅仅是与相对于第二副驱动部72b的上部拾取器52b以及上部滑动拾取器61b的安装位置相反。因此，省略其说明。

如图10所示，第一主驱动部71a被设置在下部滑动基座51a上。第一主驱动部71a包括：由属于驱动机构58(参照图5B)的马达80驱动而旋转的第一滑轮(驱动侧滑轮)81；随着该第一滑轮81的旋转通过第一驱动力传递部件82(例如，齿形带(toothed belt(带有齿的带))，具体的一个例子是同步带)旋转的第二滑轮(从动侧滑轮)83；和连接第一驱动力传递部件82和下部拾取器52a，随着该第一驱动力传递部件82的移动而移动从而使下部拾取器52a进出退避的第一夹紧部件84。在本例子中，第一夹紧部件84与下部拾取器52a的基部55a连接而固定。

第一副驱动部72a被设置在基盘90上。在本例子中，基盘90与下部拾取器52a的基部55a连接而固定。第一副驱动部72a包括：旋转的第三滑轮(驱动侧滑轮)91；随着该第三滑轮91的旋转通过第二驱动力传递部件92(例如，齿形带(带有齿的带)，具体的一个例子是同步带)旋转的第四滑轮(从动侧滑轮)93；和连接第二驱动力传递部件92和下部滑动拾取器61a，随着第二驱动力传递部件92的移动而移动从而使下部滑动拾取器61a进出退避的第二夹紧部件94。在本例子中，第三滑轮91随着下部拾取器52a的移动而旋转，第二夹紧部件94与下部滑动拾取器61a的基部62a连接而固定。

而且，在本例子中，还包括随着第一驱动力传递部件82的移动而旋转的一对空转轮(空转滑轮)96。一对空转轮96随着第一驱动力传递部件82的移动而旋转，并且在第一驱动力传递部件82移动，即下部拾取器52a移动的同时移动(参照图11)。在本例子中，构成一对空转轮96的一个滑轮与第一驱动力传递部件82，例如齿形带(toothedbelt)啮合。一个滑轮与齿形带啮合的空转轮96随着齿形带的移动而旋转，并且在与齿形带的行进方向相反的方向上移动。

此外，在本例子中，上述第三滑轮91随着空转轮96的旋转而旋转。而且，因为第一副驱动部72a被设置在安装于下部拾取器52a上的基盘90上，因此，上述第三滑轮91随着空转轮96的移动而共同移动。

此外，在本例子中，在一对空转轮96和第三滑轮91之间，安装有减速机97。通过安装减速机97，下部滑动拾取器61a移动相对于下部拾取器52a的移动量减速的部分。通过这样的结构，例如在使下部滑动拾取器61a的进出退避的距离比下部拾取器52a的进出退避的距离短的情况下有效。

下面，说明操作。

如果马达80以图11中所示的箭头D的方向旋转，则第一滑轮81以箭头E所示的方向旋转，第一驱动力传递部件82以箭头F所示的方向移动。

如果第一驱动力传递部件82移动，则连接第一驱动力传递部件82和下部拾取器52a的第一夹紧部件84移动，下部拾取器52a以箭头G所示的方向进出。在下部滑动基座51a的上面两侧与下部拾取器52a的基部55a的下面之间安装有导向部件85。由此，下部拾取器52a进出的方向被规定为导向部件85行进的方向。第一副驱动部72a与下部拾取器52a连接，设置在被固定的基盘90上。因此，第一副驱动部72a与下部拾取器52a同时移动。

此外，如果第一驱动力传递部件82移动，则空转轮96在以箭头H所示的方向旋转的同时，以箭头I所示的方向移动。

通过移动和旋转空转轮96，随着空转轮96的旋转，直接旋转的或通过减速机97旋转的第三滑轮91与基盘90一起移动，并且以箭头J所示的方向旋转。如果第三滑轮91以箭头J所示的方向旋转，则第二驱动力传递部件92以箭头K所示的方向移动。

如果第二驱动力传递部件92移动，则连接第二驱动力传递部件92和下部滑动拾取器61a的第二夹紧部件94移动，使下部滑动拾取器61a以箭头L所示的方向进出。在基盘90的上面的两侧与下部滑动拾取器61a的基部62a的下面之间安装有导向部件95a，而且，在下部拾取器52a的支撑部件56a的上面与下部滑动拾取器61a的支撑部件63a的下面之间分别安装有薄型的导向部件95b…。下部滑动拾取器61a进出的方向被规定为导向部件95a、95b行进的方向。

此外，如果使马达80以与箭头D所示的方向相反的方向旋转，则进行与上述动作相反的动作，能够使下部拾取器52a和下部滑动拾取器61a退避。

这样，根据如图10和图11所示的驱动机构，能够联动拾取器以及滑动拾取器进行驱动。

上面，对本发明的一个实施方式进行了说明，但是，本发明不局限于上述的实施方式，能够进行各种变形。此外，本发明的实施方式也不止上述实施方式的唯一形式。

例如，在上述实施方式中，支撑基板的拾取器使用具有滑动移动的滑动拾取器的搬送机构，但是，也可以使用具有关节的标量型搬送机构的拾取器等其它的搬送机构。

此外，在上述实施方式中，对在真空中进行搬送的情况进行了说明，但是，并不局限于此，也可以适用于在大气中进行搬送的搬送装置。

而且，在上述实施方式中，本发明适用于蚀刻装置，但是，并不局限于蚀刻处理，当然也可以适用于成膜等其它的处理。

此外，在上述实施方式中，以多腔室型的装置为例进行了说明，但是，也可以适用于处理腔室只有一个的单腔室型的装置。

此外，在上述实施方式中，例示出使用FPD用基板作为被搬送体的例子，但是，被搬送体并不局限于FPD用基板，也可以是半导体晶片等其它的基板。

Claims (13)

1.一种搬送装置，其特征在于，包括：

具有滑动部，并且在上下至少以两层配设的下部滑动基座和上部滑动基座；

下部拾取器，在所述下部滑动基座的滑动部上滑动，相对于所述下部滑动基座进出退避来搬送被搬送体；

上部拾取器，配设在所述下部拾取器和所述上部滑动基座之间，在所述上部滑动基座的滑动部上滑动，相对于所述上部滑动基座进出退避来搬送被搬送体；和

多个框架，相互连接所述下部滑动基座和所述上部滑动基座。

2.根据权利要求1所述的搬送装置，其特征在于：

所述下部滑动基座、所述上部滑动基座和所述多个框架构成箱形的构造体。

3.根据权利要求2所述的搬送装置，其特征在于：

所述箱形的构造体用至少三个以上的框架连接所述下部滑动基座和所述上部滑动基座的前端部、中央部和后端部的至少三点而构成。

4.根据权利要求2或者3所述的搬送装置，其特征在于：

所述上部滑动基座与所述多个框架的内侧连接。

5.根据权利要求1～3中任一项所述的搬送装置，其特征在于：

所述上部拾取器为吊装在所述上部滑动基座上的结构。

6.根据权利要求1～3中任一项所述的搬送装置，其特征在于：

所述下部拾取器和所述上部拾取器彼此搬送不同的被搬送体。

7.根据权利要求1～3中任一项所述的搬送装置，其特征在于：

所述下部拾取器和所述上部拾取器具有滑动部，并且该搬送装置还包括：

下部滑动拾取器，支撑由所述下部拾取器搬送的被搬送体，在所述下部拾取器的滑动部上滑动，相对于所述下部拾取器进出退避；和

上部滑动拾取器，支撑与由所述下部滑动拾取器支撑的被搬送体不同的另外的由所述上部拾取器搬送的被搬送体，在所述上部拾取器的滑动部上滑动，相对于所述上部拾取器进出退避。

8.根据权利要求7所述的搬送装置，其特征在于：

所述下部滑动拾取器的进出退避的距离比所述下部拾取器的进出退避的距离短，

所述上部滑动拾取器的进出退避的距离比所述上部拾取器的进出退避的距离短。

9.根据权利要求7所述的搬送装置，其特征在于，包括：

驱动所述下部拾取器和所述下部滑动拾取器的下部驱动机构；和

驱动所述上部拾取器和所述上部滑动拾取器的上部驱动机构，

所述下部驱动机构包括使所述下部拾取器进出退避的第一主驱动部和使所述下部滑动拾取器进出退避的第一副驱动部，

所述上部驱动机构包括使所述上部拾取器进出退避的第二主驱动部和使所述上部滑动拾取器进出退避的第二副驱动部。

10.根据权利要求9所述的搬送装置，其特征在于：

所述第一副驱动部构成为与所述下部拾取器同时移动，

所述第二副驱动部构成为与所述上部拾取器同时移动。

11.根据权利要求10所述的搬送装置，其特征在于：

所述第一副驱动部构成为与利用所述第一主驱动部进行的所述下部拾取器的进出退避动作联动来使所述下部滑动拾取器进出退避，

所述第二副驱动部构成为与利用所述第二主驱动部进行的所述上部拾取器的进出退避动作联动来使所述上部滑动拾取器进出退避。

12.根据权利要求1～3中任一项所述的搬送装置，其特征在于：

所述被搬送体的平面形状为矩形，所述矩形的最短边的边长为2800mm以上。

13.一种对被处理体实施处理的处理装置，其特征在于：

将权利要求1～3中任一项所述的搬送装置使用于搬送被处理体的搬送装置中。

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