TWI432403B - Preparation method of optically active cyanohydrin compounds - Google Patents

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TWI432403B
TWI432403B TW098111397A TW98111397A TWI432403B TW I432403 B TWI432403 B TW I432403B TW 098111397 A TW098111397 A TW 098111397A TW 98111397 A TW98111397 A TW 98111397A TW I432403 B TWI432403 B TW I432403B
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Description

光學活性氰醇化合物之製造方法
本發明係關於一種光學活性氰醇化合物之製造方法。
於美國專利第4,503,071號公報中揭示有，光學活性間苯氧基苯乙醇腈用作農業用殺菌劑之製造中間體。
光學活性間苯氧基苯乙醇腈係光學活性氰醇化合物之一，作為光學活性氰醇化合物之製造方法，已知於光學活性氧釩觸媒之存在下使醛與氰化氫反應之方法(參照日本專利特表2004-533490號公報)。另一方面，亦已知如下方法(參照Tetrahedron：Asymmetry；Vol.8,p.1279(1997))：使氯化鋁與光學活性雙噁唑基吡啶化合物作用而獲得不對稱錯合物，於該不對稱錯合物之存在下使醛化合物與氰化三甲基矽烷反應而製造光學活性氰醇化合物之O-矽烷基醚。
本發明提供：
<1>一種光學活性氰醇化合物之製造方法，該光學活性氰醇化合物係以式(3)表示： (式中，Q1 及Q2 獨立表示氫原子、可經取代之碳數1~6之烷基、可經取代之碳數1~4之烷氧基、碳數2~8之醯氧基、可經取代之碳數1~4之烷磺醯氧基、可經取代之苯磺醯氧基、碳數1~10之三烷基矽烷氧基或者可經取代之碳數6~10之芳氧基，*表示該碳原子為光學活性中心)，該製造方法之特徵在於：於使以式(1) (式中，R1 及R2 獨立表示氫原子、碳數1~6之烷基、碳數6~10之芳基或者碳數7~11之芳烷基；其中，R1 與R2 並不相同)所表示之光學活性吡啶化合物與鹵化鋁反應而獲得之不對稱錯合物、以及矽烷基化合物之存在下，使以式(2) (式中，Q1 及Q2 表示與上述相同之意義)所表示之醛化合物與氰化氫進行反應；
<2>如<1>之光學活性氰醇化合物之製造方法，其中矽烷基化合物為氰化三烷基矽烷基化合物；
<3>如<1>之光學活性氰醇化合物之製造方法，其中矽烷基化合物為氰化三甲基矽烷；
<4>如<1>~<3>中任一項之光學活性氰醇化合物之製造方法，其中鹵化鋁為氯化鋁；
<5>如<1>~<4>中任一項之光學活性氰醇化合物之製造方法，其中R1 及R2 中之任一者為氫原子，另一者為碳數1~6之烷基、碳數6~10之芳基或者碳數7~11之芳烷基；
<6>如<1>~<4>中任一項之光學活性氰醇化合物之製造方法，其中R1 及R2 中之任一者為氫原子，另一者為碳數1~6之烷基或者碳數6~10之芳基；
<7>如<1>~<6>中任一項之光學活性氰醇化合物之製造方法，其中Q1 為氫原子，Q2 為可經取代之碳數1~6之烷基、可經取代之碳數1~4之烷氧基、碳數2~8之醯氧基、可經取代之碳數1~4之烷磺醯氧基、可經取代之苯磺醯氧基、碳數1~10之三烷基矽烷氧基或者可經取代之碳數6~10之芳氧基；
<8>如<1>~<6>中任一項之光學活性氰醇化合物之製造方法，其中Q1 為氫原子，Q2 為可經取代之碳數1~6之烷基或者可經取代之碳數6~10之芳氧基；
<9>如<1>~<8>中任一項之光學活性氰醇化合物之製造方法，其中相對於以式(2)所表示之醛化合物1莫耳，不對稱錯合物之使用量以鋁原子換算為0.005~1莫耳；
<10>如<1>~<9>中任一項之光學活性氰醇化合物之製造方法，其中相對於以式(2)所表示之醛化合物1莫耳，矽烷基化合物之使用量為0.01~0.5莫耳；
<11>如<1>~<10>中任一項之光學活性氰醇化合物之製造方法，其中相對於以式(2)所表示之醛化合物1莫耳，氰化氫之使用量為1.1~3莫耳。
作為鹵化鋁，可列舉氯化鋁、溴化鋁等，較好的是氯化鋁。可使用市售之鹵化鋁，亦可使用根據公知方法而製造之鹵化鋁。
以式(1)
所表示之光學活性吡啶化合物(以下，簡稱為光學活性吡啶化合物(1))之式中，R1 及R2 獨立表示氫原子、碳數1~6之烷基、碳數6~10之芳基或者碳數7~11之芳烷基。其中，R1 與R2 並不相同。
作為碳數1~6之烷基，可列舉甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、異丙基、異丁基、第二丁基、第三丁基等，較好的是碳數1~4之烷基。
作為碳數6~10之芳基，可列舉苯基、萘基等，較好的是苯基。
作為碳數7~11之芳烷基，可列舉苄基、萘基甲基等。
較好的是R1 及R2 中之任一者氫原子，且另一者為碳數1~6之烷基、碳數6~10之芳基或者碳數7~11之芳烷基的光學活性吡啶化合物(1)；更好的是R1 及R2 中之任一者為氫原子，另一者為碳數1~6之烷基或者碳數6~10之芳基的光學活性吡啶化合物(1)。
作為光學活性吡啶化合物(1)，可列舉：光學活性之2,6-雙(4-甲基噁唑-2-基)吡啶、光學活性之2,6-雙(4-乙基噁唑-2-基)吡啶、光學活性之2,6-雙(4-異丙基噁唑-2-基)吡啶、光學活性之2,6-雙(4-第三丁基噁唑-2-基)吡啶、光學活性之2,6-雙(4-第二丁基噁唑-2-基)吡啶、光學活性之2,6-雙(4-異丁基噁唑-2-基)吡啶、光學活性之2,6-雙(4-苯基噁唑-2-基)吡啶、光學活性之2,6-雙(4-萘基噁唑-2-基)吡啶、光學活性之2,6-雙(4-苄基噁唑-2-基)吡啶、光學活性之2,6-雙[4-(萘基甲基)噁唑-2-基]吡啶等。
該光學活性吡啶化合物(1)可為S體，亦可為R體。又，亦可使用S體與R體之混合物，且該混合中S體及R體中之任一者的含量多於另一者。
光學活性吡啶化合物(1)可使用市售者，亦可使用根據日本專利特開平2-36181號公報等中記載之公知方法而製造者。
光學活性吡啶化合物(1)之使用量相對於鹵化鋁1莫耳，通常為0.8~5莫耳，較好的是1~2莫耳。
藉由使鹵化鋁與光學活性吡啶化合物(1)反應而獲得不對稱錯合物。該反應通常係於溶劑之存在下實施。
作為溶劑，可列舉：二氯甲烷、1,2-二氯甲烷、氯仿等鹵化烴溶劑；苯、甲苯、二甲苯、氯苯、二氯苯等芳香族烴溶劑等。溶劑之使用量並未限定，相對於鹵化鋁1重量份，通常為10~500重量份。
該反應較好的是於水不存在之條件下實施。又，較好的是於氬或氮等惰性氣體之環境下實施反應。
反應溫度通常為-20℃以上，較好的是-5~50℃。於將芳香族烴用作溶劑之情形時，就抑制副反應之進行的方面而言，較好的是於50℃以下實施反應。
反應時間通常為1分鐘~5小時。
如此而獲得含有不對稱錯合物之混合物，可將所獲得之混合物直接用於後述以式(2)所表示之醛化合物與氰化氫之反應中，亦可利用濃縮等單離方法，自該混合物中將不對稱錯合物取出而使用。通常，所獲得之含有不對稱錯合物之混合物係直接用於以式(2)所表示之醛化合物與氰化氫之反應中。
以式(2)
所表示之醛化合物(以下，簡稱為醛化合物(2))之式中，Q1 及Q2 獨立表示氫原子、可經取代之碳數1~6之烷基、可經取代之碳數1~4之烷氧基、可經取代之碳數2~8之醯氧基、可經取代之碳數1~4之烷磺醯氧基、可經取代之苯磺醯氧基、碳數1~10之三烷基矽烷氧基或者可經取代之碳數6~10之芳氧基。
作為碳數1~6之烷基，可列舉甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、第三丁基、戊基、己基等。
該烷基可經至少一個取代基取代，作為該取代基，可列舉：甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基等碳數1~4之烷氧基；甲硫基、乙硫基、丙硫基、丁硫基等碳數1~4之烷硫基；苯氧基、2,5-二甲基苯氧基等碳數6~12之芳氧基；苯硫基、2,5-二甲基苯硫基等碳數6~12之芳硫基；甲磺醯基、三氟甲磺醯基、氯甲磺醯基等可經鹵素原子取代之碳數1~4之烷基磺醯基；苯磺醯基、對甲苯磺醯基、鄰硝基苯磺醯基等可經硝基或者碳數1~4之烷基取代之苯磺醯基等。
作為經該取代基取代之烷基，可列舉：甲氧基甲基、乙氧基甲基、甲硫基甲基、苯硫基甲基、2,5-二甲基苯氧基甲基、甲磺醯基甲基、氯甲磺醯基甲基、三氟甲磺醯基甲基、苯磺醯基甲基、4-甲基苯磺醯基甲基、4-硝基苯磺醯基甲基、2-甲氧基乙基、2-乙氧基乙基、2-(甲硫基)乙基、2-(苯硫基)乙基、2-甲磺醯基乙基、2-三氟甲磺醯基乙基、2-苯磺醯基乙基、2-(4-硝基苯磺醯基)乙基等。
作為碳數1~4之烷氧基，可列舉與上述者相同者。該烷氧基可經至少一個取代基取代，作為取代基，可列舉氟原子等鹵素原子。
作為經該取代基取代之烷氧基，可列舉：二氟甲氧基、三氟甲氧基、五氟乙氧基、1,1,1,3,3,3-六氟-2-丙氧基等。
作為碳數2~8之醯氧基，可列舉：乙醯氧基、丙醯氧基、丁醯氧基、三甲基乙醯氧基、新戊烷羰氧基、苯甲醯氧基、苯基乙醯氧基、萘基乙醯氧基等。
作為碳數1~4之烷磺醯氧基，可列舉甲磺醯氧基等。該烷磺醯氧基可經至少一個取代基取代，作為取代基，可列舉氟原子等鹵素原子。作為經該取代基取代之烷磺醯氧基，可列舉三氟甲磺醯氧基等。
作為可經取代之苯磺醯氧基，可列舉：苯磺醯氧基、對甲苯磺醯氧基等經碳數1~4之烷基取代之苯磺醯氧基、鄰硝基苯磺醯氧基、對硝基苯磺醯氧基等經硝基取代之苯磺醯氧基等。
作為碳數1~10之三烷基矽烷氧基，可列舉：三甲基矽烷氧基、三乙基矽烷氧基、三丙基矽烷氧基、第三丁基二甲基矽烷氧基等。
作為碳數6~10之芳氧基，可列舉苯氧基、萘氧基等。該芳氧基可經至少一個取代基取代，作為取代基，可例示碳數1~4之烷基、碳數1~4之烷氧基、鹵素原子等。作為經該取代基取代之芳氧基，可列舉：4-甲基苯氧基、2-甲基苯氧基、2,4-二甲基苯氧基、2,4-二第三丁基苯氧基、4-甲氧基苯氧基、4-乙氧基苯氧基、2-氟苯氧基、4-氟苯氧基、五氟苯氧基等。
較好的是Q1 為氫原子，且Q2 為可經取代之碳數1~6之烷基、可經取代之碳數1~4之烷氧基、碳數2~8之醯氧基、可經取代之碳數1~4之烷磺醯氧基、可經取代之苯磺醯氧基、碳數1~10之三烷基矽烷氧基或者可經取代之碳數6~10之芳氧基的醛化合物(2)；更好的是Q1 為氫原子，且Q2 為可經取代之碳數1~6之烷基或者可經取代之碳數6~10之芳氧基的醛化合物(2)。
作為醛化合物(2)，可列舉：苯甲醛、鄰甲基苯甲醛、對甲基苯甲醛、鄰乙基苯甲醛、鄰異丙基苯甲醛、對第三丁基苯甲醛、鄰甲氧基甲基苯甲醛、鄰(2-甲氧基乙基)苯甲醛、鄰(乙氧基甲基)苯甲醛、鄰(甲硫基甲基)苯甲醛、鄰(2-甲硫基乙基)苯甲醛、鄰(乙硫基甲基)苯甲醛、鄰(苯氧基甲基)苯甲醛、鄰(2,5-二甲基苯氧基甲基)苯甲醛、對(2,5-二甲基苯氧基甲基)苯甲醛、鄰(苯硫基甲基)苯甲醛、鄰(2,5-二甲基苯硫基甲基)苯甲醛、鄰甲磺醯基甲基苯甲醛、鄰三氟甲磺醯基甲基苯甲醛、鄰苯磺醯基甲基苯甲醛、鄰(對甲苯磺醯基甲基)苯甲醛、鄰(鄰硝基苯磺醯基甲基)苯甲醛、鄰甲氧基苯甲醛、間甲氧基苯甲醛、對甲氧基苯甲醛、鄰乙氧基苯甲醛、鄰異丙氧基苯甲醛、鄰二氟甲氧基苯甲醛、鄰三氟甲氧基苯甲醛、鄰五氟乙氧基苯甲醛、鄰(1,1,1,3,3,3-六氟-2-丙氧基)苯甲醛、鄰乙醯氧基苯甲醛、對乙醯氧基苯甲醛、鄰丙醯氧基苯甲醛、鄰丁醯氧基苯甲醛、鄰三甲基乙醯氧基苯甲醛、鄰苯基乙醯氧基苯甲醛、對苯基乙醯氧基苯甲醛、鄰萘基乙醯氧基苯甲醛、鄰甲磺醯氧基苯甲醛、鄰三氟甲磺醯氧基苯甲醛、鄰(對甲苯磺醯氧基)苯甲醛、鄰(鄰硝基苯磺醯氧基)苯甲醛、鄰(對硝基苯磺醯氧基)苯甲醛、鄰三甲基矽烷氧基苯甲醛、鄰三乙基矽烷氧基苯甲醛、鄰三丙基矽烷氧基苯甲醛、鄰第三丁基二甲基矽烷氧基苯甲醛、鄰苯氧基苯甲醛、間苯氧基苯甲醛、鄰萘氧基苯甲醛、鄰(4-甲基苯氧基)苯甲醛、鄰(2-甲基苯氧基)苯甲醛、鄰(2,4-二甲基苯氧基)苯甲醛、鄰(2,4-二第三丁基苯氧基)苯甲醛、鄰(4-甲氧基苯氧基)苯甲醛、鄰(4-乙氧基苯氧基)苯甲醛、鄰(2-氟苯氧基)苯甲醛、鄰(4-氟苯氧基)苯甲醛、鄰五氟苯氧基苯甲醛、鄰(2,6-二甲基苯氧基甲基)-對(甲氧基甲基)苯甲醛、鄰(2,6-二甲基苯氧基甲基)-對(甲硫基甲基)苯甲醛、鄰(2,6-二甲基苯氧基甲基)-對(苯硫基甲基)苯甲醛、鄰(2,6-二甲基苯氧基甲基)-對三氟甲氧基苯甲醛、鄰(2,6-二甲基苯氧基甲基)-對五氟乙氧基苯甲醛、鄰(2,6-二甲基苯氧基甲基)-對乙醯氧基苯甲醛、鄰(2,6-二甲基苯氧基甲基)-對苯甲醯氧基苯甲醛、鄰(2,6-二甲基苯氧基甲基)-對三甲基矽烷氧基苯甲醛、鄰(2,6-二甲基苯氧基甲基)-對三乙基矽烷氧基苯甲醛、鄰(2,6-二甲基苯氧基甲基)-對(第三丁基二甲基矽烷氧基)苯甲醛、鄰(2,6-二甲基苯氧基甲基)-對苯氧基苯甲醛、鄰(2,6-二甲基苯氧基甲基)-對五氟苯氧基苯甲醛等。
該醛化合物(2)可使用市售者，亦可使用根據公知方法而製造者。
氰化氫可使用市售者，亦可使用根據公知方法而製造者。
可使用氣體之氰化氫，亦可使用液體之氰化氫。又，亦可使用使氰化氫溶解於溶劑中而獲得的氰化氫溶液。作為使氰化氫溶解之溶劑，可列舉：二氯甲烷、1,2-二氯甲烷、氯仿等鹵化烴；苯、甲苯、二甲苯、氯苯、二氯苯等芳香族烴；第三丁基甲醚、二乙醚、四氫呋喃等醚溶劑等。溶劑之使用量相對於氰化氫1重量份，若為1重量份以上即可。
氰化氫之使用量相對於醛化合物(2)1莫耳，若為1莫耳以上即可，較好的是1.1~3莫耳。
不對稱錯合物之使用量以鋁原子換算，相對於醛化合物(2)1莫耳，通常為0.001莫耳以上，較好的是0.005~1莫耳，更好的是0.01~1莫耳。
作為矽烷基化合物，可列舉：氯化三甲基矽烷、氯化三乙基矽烷等鹵化三烷基矽烷，氰化三甲基矽烷等氰化三烷基矽烷，六甲基二矽氮烷、三(三甲基矽烷基)胺等矽烷基胺等，較好的是氰化三烷基矽烷，更好的是氰化三甲基矽烷。
矽烷基化合物之使用量相對於醛化合物(2)1莫耳，通常為0.01~0.5莫耳，較好的是0.05~0.2莫耳。
醛化合物(2)與氰化氫之反應通常於溶劑之存在下實施。作為溶劑，可列舉：二甲苯、甲苯、氯苯、鄰二氯苯、苯等芳香族烴溶劑；戊烷、己烷、庚烷、環己烷等脂肪族烴溶劑；四氫呋喃、二乙醚、第三丁基甲醚、環戊基甲醚等醚溶劑；二氯甲烷、1,2-二氯乙烷、氯仿等鹵化烴溶劑等。該等可單獨使用，亦可將2種以上混合使用。其中，較好的是鹵化烴溶劑，更好的是二氯甲烷。
溶劑之使用量並未限定，自經濟性觀點考慮，相對於醛化合物(2)1重量份，較好的是100重量份以下。
該反應通常係藉由將不對稱錯合物、矽烷基化合物、醛化合物(2)與氰化氫混合而實施，其等之混合順序並未限定。例如，可於經調整為特定反應溫度的含有不對稱錯合物之混合物中添加醛化合物(2)與矽烷基化合物，進而添加氰化氫；亦可將使不對稱錯合物、醛化合物(2)與矽烷基化合物混合而獲得之混合物調整為特定反應溫度，將氰化氫添加於該混合物中。可於經調整為特定反應溫度的含有不對稱錯合物之混合物中添加矽烷基化合物，進而將醛化合物(2)與氰化氫同時添加；亦可於經調整為特定反應溫度的含有不對稱錯合物之混合物中添加氰化氫與矽烷基化合物，進而添加醛化合物(2)。可將使不對稱錯合物與氰化氫混合而獲得之混合物調整為特定反應溫度，將醛化合物(2)添加於該混合物中，亦可於經調整為特定反應溫度的醛化合物(2)中添加不對稱錯合物與矽烷基化合物，進而添加氰化氫。可將使醛化合物(2)、不對稱錯合物與矽烷基化合物混合而獲得之混合物調整為特定反應溫度，將氰化氫添加於該混合物中；亦可於經調整為特定反應溫度的醛化合物(2)中添加氰化氫與矽烷基化合物，進而添加不對稱錯合物。可將使醛化合物(2)、氰化氫與矽烷基化合物混合而獲得之混合物調整為特定反應溫度，將不對稱錯合物添加於該混合物中；亦可將使醛化合物(2)與矽烷基化合物混合而獲得之混合物調整為特定反應溫度，將氰化氫與不對稱錯合物同時添加於該混合物中。其中，較好的是於經調整為特定反應溫度的含有不對稱錯合物之混合物中添加醛化合物(2)與矽烷基化合物，進而添加氰化氫。
醛化合物(2)與氰化氫之反應的反應溫度通常為-80~50℃，自作為目標之以式(3)
(式中，Q1 及Q2 表示與上述相同之意義，*表示該碳原子為光學活性中心)所表示之光學活性氰醇化合物(以下，簡稱為光學活性氰醇化合物(3))之產率及鏡像異構物過剩率的觀點考慮，較好的是0~35℃。
該反應可於常壓下進行，亦可於加壓下進行。
反應之進行可利用氣相層析法、高效液相層析法、NMR(nuclear magnetic resonance，核磁共振)等通常之分析方法來確認。
如此而獲得含有光學活性氰醇化合物(3)之反應混合物，例如，將該反應混合物以水或者鹽酸等酸之水溶液加以清洗，將所獲得之有機層濃縮，藉此可取出光學活性氰醇化合物(3)。所取出之光學活性氰醇化合物(3)可利用再結晶、蒸餾、管柱層析法等通常之精製方法，進一步加以精製。
作為如此而獲得之光學活性氰醇化合物(3)，可列舉：光學活性之苯乙醇腈、光學活性之鄰甲基苯乙醇腈、光學活性之對甲基苯乙醇腈、光學活性之鄰乙基苯乙醇腈、光學活性之鄰異丙基苯乙醇腈、光學活性之對第三丁基苯乙醇腈、光學活性之鄰(甲氧基甲基)苯乙醇腈、光學活性之鄰(2-甲氧基乙基)苯乙醇腈、光學活性之鄰(乙氧基甲基)苯乙醇腈、光學活性之鄰(甲硫基甲基)苯乙醇腈、光學活性之鄰(2-甲硫基乙基)苯乙醇腈、光學活性之鄰(乙硫基甲基)苯乙醇腈、光學活性之鄰(苯氧基甲基)苯乙醇腈、光學活性之鄰(2,5-二甲基苯氧基甲基)苯乙醇腈、光學活性之對(2,5-二甲基苯氧基甲基)苯乙醇腈、光學活性之鄰(苯硫基甲基)苯乙醇腈、光學活性之鄰(2,5-二甲基苯硫基甲基)苯乙醇腈、光學活性之鄰(甲磺醯基甲基)苯乙醇腈、光學活性之鄰(三氟甲磺醯基甲基)苯乙醇腈、光學活性之鄰(苯磺醯基甲基)苯乙醇腈、光學活性之鄰(對甲苯磺醯基甲基)苯乙醇腈、光學活性之鄰(鄰硝基苯磺醯基甲基)苯乙醇腈、光學活性之鄰甲氧基苯乙醇腈、光學活性之間甲氧基苯乙醇腈、光學活性之對甲氧基苯乙醇腈、光學活性之鄰乙氧基苯乙醇腈、光學活性之鄰異丙氧基苯乙醇腈、光學活性之鄰(二氟甲氧基)苯乙醇腈、光學活性之鄰三氟甲氧基苯乙醇腈、光學活性之鄰五氟乙氧基苯乙醇腈、光學活性之鄰(1,1,1,3,3,3-六氟-2-丙氧基)苯乙醇腈、光學活性之鄰乙醯氧基苯乙醇腈、光學活性之對乙醯氧基苯乙醇腈、光學活性之鄰丙醯氧基苯乙醇腈、光學活性之鄰丁醯氧基苯乙醇腈、光學活性之鄰三甲基乙醯氧基苯乙醇腈、光學活性之鄰(苯基乙醯氧基)苯乙醇腈、光學活性之對(苯基乙醯氧基)苯乙醇腈、光學活性之鄰(萘基乙醯氧基)苯乙醇腈、光學活性之鄰甲磺醯氧基苯乙醇腈、光學活性之鄰三氟甲磺醯氧基苯乙醇腈、光學活性之鄰(對甲苯磺醯氧基)苯乙醇腈、光學活性之鄰(鄰硝基苯磺醯氧基)苯乙醇腈、光學活性之鄰(鄰硝基苯磺醯氧基)苯乙醇腈、光學活性之鄰三甲基矽烷氧基苯乙醇腈、光學活性之鄰三乙基矽烷氧基苯乙醇腈、光學活性之鄰三丙基矽烷氧基苯乙醇腈、光學活性之鄰(第三丁基二甲基矽烷氧基)苯乙醇腈、光學活性之鄰萘氧基苯乙醇腈、光學活性之鄰(4-甲基苯氧基)苯乙醇腈、光學活性之鄰(2-甲基苯氧基)苯乙醇腈、光學活性之鄰(2,4-二甲基苯氧基)苯乙醇腈、光學活性之鄰(2,4-二第三丁基苯氧基)苯乙醇腈、光學活性之鄰(4-甲氧基苯氧基)苯乙醇腈、光學活性之鄰(4-乙氧基苯氧基)苯乙醇腈、光學活性之鄰(2-氟苯氧基)苯乙醇腈、光學活性之鄰(4-氟苯氧基)苯乙醇腈、光學活性之鄰五氟苯氧基苯乙醇腈、光學活性之鄰(2,6-二甲基苯氧基甲基)-對(甲氧基甲基)苯乙醇腈、光學活性之鄰(2,6-二甲基苯氧基甲基)-對(甲硫基甲基)苯乙醇腈、光學活性之鄰(2,6-二甲基苯氧基甲基)-對(苯硫基甲基)苯乙醇腈、光學活性之鄰(2,6-二甲基苯氧基甲基)-對三氟甲氧基苯乙醇腈、光學活性之鄰(2,6-二甲基苯氧基甲基)-對五氟乙氧基苯乙醇腈、光學活性之鄰(2,6-二甲基苯氧基甲基)-對乙醯氧基苯乙醇腈、光學活性之鄰(2,6-二甲基苯氧基甲基)-對苯甲醯氧基苯乙醇腈、光學活性之鄰(2,6-二甲基苯氧基甲基)-對三甲基矽烷氧基苯乙醇腈、光學活性之鄰(2,6-二甲基苯氧基甲基)-對三乙基矽烷氧基苯乙醇腈、光學活性之鄰(2,6-二甲基苯氧基甲基)-對(第三丁基二甲基矽烷氧基)苯乙醇腈、光學活性之鄰(2,6-二甲基苯氧基甲基)-對苯氧基苯乙醇腈、光學活性之鄰(2,6-二甲基苯氧基甲基)-對五氟苯氧基苯乙醇腈等。
實施例
以下，利用實施例來進一步詳細說明本發明，但本發明並不限定於該等實施例。含量係基於高效液相層析法內部標準法之結果而算出。鏡像異構物過剩率係利用高效液相層析法(管柱：住化分析中心股份有限公司製造之SUMICHIRAL(註冊商標)OA-4900，溶析液：己烷/乙醇)來測定。
實施例1
於30 mL之三口燒瓶中，添加氯化鋁27 mg、2,6-雙(4-(S)-苯基噁唑-2-基)吡啶90 mg及二氯甲烷1 mL。將所獲得之混合物一面攪拌一面調整為內溫0℃，獲得含有不對稱錯合物之混合物。於該混合物中添加2-(2,5-二甲基苯氧基甲基)苯甲醛1 g、氰化三甲基矽烷41 mg及二氯甲烷3 mL。將所獲得之混合物於內溫0℃下攪拌1小時後，以3小時滴加氰化氫170 mg。將所獲得之混合物於0℃下攪拌2小時，從而獲得含有光學活性之鄰(2,5-二甲基苯氧基甲基)苯乙醇腈之反應混合物。
2-(2,5-二甲基苯氧基甲基)苯甲醛之轉化率：95%
光學活性之鄰(2,5-二甲基苯氧基甲基)苯乙醇腈之鏡像異構物過剩率：88%ee(R體)
實施例2
於100 mL之三口燒瓶中，添加氯化鋁27 mg、2,6-雙(4-(S)-苯基噁唑-2-基)吡啶90 mg及二氯甲烷5 mL。將所獲得之混合物一面攪拌一面調整為內溫0℃，獲得含有不對稱錯合物之混合物。於該混合物中添加2-(2,5-二甲基苯氧基甲基)苯甲醛5 g、氰化三甲基矽烷0.2 g及二氯甲烷15 mL。將所獲得之混合物於內溫0℃下攪拌1小時後，以3小時滴加氰化氫0.83 g。將所獲得之混合物於0℃下攪拌14小時，從而獲得含有光學活性之鄰(2,5-二甲基苯氧基甲基)苯乙醇腈之反應混合物。
2-(2,5-二甲基苯氧基甲基)苯甲醛之轉化率：51%
光學活性之鄰(2,5-二甲基苯氧基甲基)苯乙醇腈之鏡像異構物過剩率：85%ee(R體)
實施例3
除了於實施例1中，使用氯化三甲基矽烷45 mg來代替氰化三甲基矽烷41 mg以外，以與實施例1相同之方式進行反應，獲得含有光學活性之鄰(2,5-二甲基苯氧基甲基)苯乙醇腈之反應混合物。
2-(2,5-二甲基苯氧基甲基)苯甲醛之轉化率：31%
光學活性之鄰(2,5-二甲基苯氧基甲基)苯乙醇腈之鏡像異構物過剩率：50%ee(R體)
實施例4
除了於實施例1中，使用六甲基二矽氮烷67 mg來代替氰化三甲基矽烷41 mg以外，以與實施例1相同之方式進行反應，獲得含有光學活性之鄰(2,5-二甲基苯氧基甲基)苯乙醇腈之反應混合物。
2-(2,5-二甲基苯氧基甲基)苯甲醛之轉化率：15%
光學活性之鄰(2,5-二甲基苯氧基甲基)苯乙醇腈之鏡像異構物過剩率：68%ee(R體)
實施例5
除了於實施例1中，使用甲苯來代替二氯甲烷以外，以與實施例1相同之方式進行反應，獲得含有光學活性之鄰(2,5-二甲基苯氧基甲基)苯乙醇腈之反應混合物。
2-(2,5-二甲基苯氧基甲基)苯甲醛之轉化率：95%
光學活性之鄰(2,5-二甲基苯氧基甲基)苯乙醇腈之鏡像異構物過剩率：76%ee(R體)
實施例6
除了於實施例1中，使用2,6-雙(4-(S)-異丙基噁唑-2-基)吡啶72 mg來代替2,6-雙(4-(S)-苯基噁唑-2-基)吡啶90 mg以外，以與實施例1相同之方式進行反應，獲得含有光學活性之鄰(2,5-二甲基苯氧基甲基)苯乙醇腈之反應混合物。
2-(2,5-二甲基苯氧基甲基)苯甲醛之轉化率：95%
光學活性之鄰(2,5-二甲基苯氧基甲基)苯乙醇腈之鏡像異構物過剩率：82%ee(R體)
實施例7
除了於實施例1中，使用2,6-雙(4-(R)-苯基噁唑-2-基)吡啶來代替2,6-雙(4-(S)-苯基噁唑-2-基)吡啶以外，以與實施例1相同之方式進行反應，獲得含有光學活性之鄰(2,5-二甲基苯氧基甲基)苯乙醇腈之反應混合物。
2-(2,5-二甲基苯氧基甲基)苯甲醛之轉化率：95%
光學活性之鄰(2,5-二甲基苯氧基甲基)苯乙醇腈之鏡像異構物過剩率：84%ee(S體)
實施例8
於100 mL之三口燒瓶中，添加氯化鋁137 mg、2,6-雙(4-(S)-苯基噁唑-2-基)吡啶457 mg及二氯甲烷10 mL。將所獲得之混合物一面攪拌一面調整為內溫0℃，獲得含有不對稱錯合物之混合物。於該混合物中添加2-(2,5-二甲基苯氧基甲基)苯甲醛5 g、氰化三甲基矽烷0.21 g及二氯甲烷15 mL。將所獲得之混合物於內溫0℃下攪拌1小時後，以3小時滴加氰化氫0.84 g。將所獲得之混合物於0℃下攪拌3小時，獲得含有鄰(2,5-二甲基苯氧基甲基)苯乙醇腈之反應混合物。將反應混合物與3重量%鹽酸5 g混合，靜置後，分離出有機層。將所獲得之有機層以3重量%鹽酸10 g，繼而以水10 g加以清洗，從而獲得含有光學活性之鄰(2,5-二甲基苯氧基甲基)苯乙醇腈之有機層42.1 g。
光學活性之鄰(2,5-二甲基苯氧基甲基)苯乙醇腈之含量：17.5重量%
光學活性之鄰(2,5-二甲基苯氧基甲基)苯乙醇腈之產率：90.1%
光學活性之鄰(2,5-二甲基苯氧基甲基)苯乙醇腈之光學異構物過剩率：88%ee(R體)
實施例9
於50 mL之三口燒瓶中，添加氯化鋁96 mg、2,6-雙(4-(S)-苯基噁唑-2-基)吡啶0.32 g及二氯甲烷3 mL。將所獲得之混合物一面攪拌一面調整為內溫0℃，獲得含有不對稱錯合物之混合物。於所獲得之混合物中添加間苯氧基苯甲醛3 g、氰化三甲基矽烷0.14 g及二氯甲烷10 mL。將所獲得之混合物於內溫0℃下攪拌1小時後，以3小時滴加氰化氫0.57 g。滴加結束後，將所獲得之混合物於內溫0℃下進一步攪拌3小時，獲得含有間苯氧基苯乙醇腈之反應混合物。將該反應混合物與3重量%鹽酸5 g混合，靜置後，分離出有機層。將所獲得之有機層以3重量%鹽酸10 g，繼而以水10 g加以清洗，從而獲得含有間苯氧基苯乙醇腈之有機層22.5 g。
光學活性之間苯氧基苯乙醇腈之含量：16.6重量%
光學活性之間苯氧基苯乙醇腈之產率：89.3%
光學活性之間苯氧基苯乙醇腈之鏡像異構物過剩率：65%ee(R體)
比較例1
除了於實施例1中不使用氰化三甲基矽烷以外，以與實施例1相同之方式進行反應，但反應未進行，無法確認光學活性之鄰(2,5-二甲基苯氧基甲基)苯乙醇腈之生成。
產業上之可利用性
依據本發明，可藉由使用由廉價之鹵化鋁所獲得之不對稱錯合物而獲得光學活性氰醇化合物，因此在工業上有利。

Claims (9)

  1. 一種光學活性氰醇化合物之製造方法，該光學活性氰醇化合物係以式(3)表示： (式中，Q1 表示氫原子，Q2 表示經2,5-二甲基苯氧基取代之碳數1~6之烷基，＊表示該碳原子為光學活性中心)，該製造方法之特徵在於：於使以式(1) (式中，R1 及R2 獨立表示氫原子、碳數1~6之烷基、碳數6~10之芳基或碳數7~11之芳烷基；其中，R1 與R2 並不相同)所表示之光學活性吡啶化合物與鹵化鋁反應所得之不對稱錯合物以及矽烷基化合物之存在下，使以式(2) (式中，Q1 及Q2 表示與上述相同之意義)所表示之醛化合物與氰化氫進行反應。
  2. 如請求項1之製造方法，其中矽烷基化合物為氰化三烷 基矽烷基化合物。
  3. 如請求項1之製造方法，其中矽烷基化合物為氰化三甲基矽烷。
  4. 如請求項1之製造方法，其中鹵化鋁為氯化鋁。
  5. 如請求項1之製造方法，其中R1 及R2 之任一者為氫原子，另一者為碳數1~6之烷基、碳數6~10之芳基或碳數7~11之芳烷基。
  6. 如請求項1之製造方法，其中R1 及R2 之任一者為氫原子，另一者為碳數1~6之烷基或者碳數6~10之芳基。
  7. 如請求項1之製造方法，其中相對於以式(2)所表示之醛化合物1莫耳，不對稱錯合物之使用量以鋁原子換算為0.005~1莫耳。
  8. 如請求項1之製造方法，其中相對於以式(2)所表示之醛化合物1莫耳，矽烷基化合物之使用量為0.01~0.5莫耳。
  9. 如請求項1之製造方法，其中相對於以式(2)所表示之醛化合物1莫耳，氰化氫之使用量為1.1~3莫耳。
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