TWI411811B - 抗眩膜與影像顯示器 - Google Patents
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Description
本明係有關具有低濁度及優異抗眩性質的抗眩膜，及具有此抗眩膜的影像顯示器。
當外來光線從影像顯示器(例如液晶顯示器、電漿顯示器、布勞恩(Braun)管(陰極射線管：CRT)顯示器及有機電致發光(EL)顯示器的)表面反射出來時，將會使顯示器的可見性顯著變差。為了降低此外來光線的反射，在影像品質重要之例如電視機及個人電腦的傳統影像顯示器、外來光線強烈之戶外用的錄影機和數位攝影機及使用反射光來顯示的手機表面上層疊用於降低外來光線反射的層。該層大體上可分成兩種，例如一種為在彼上使用光學多層膜的干擾來進行抗反射者及另一種為藉由在表面上產生微觀不平坦來進行用於散射入射光的抗眩程序使反射影像消失者。在這些當中，必須在前一種抗反射膜中形成具有均勻光學膜厚的多層膜，因此，成本將提高。對照之下，後一種抗眩膜可在較低成本下製造，因此，係廣泛地用於例如大型個人電腦及監視器等的應用中。
如上所述之抗眩膜是依一種用於藉由將內部分散有填料的樹脂溶液施於基底片上使該填料透過調整所施加膜的厚度而從該施加膜表面暴露出來而在該片上產生不規則不平坦的傳統方法所製造。然而，經由分散此填料所製造的
抗眩膜上的不平坦排列及形式會受到該樹脂溶液中的填料分布狀況或施加的狀況所影響，因此，可能無法充分執行所要的不平坦，且可能無法得到充分的抗眩效能。再者，在將此傳統抗眩膜置於影像顯示器表面上的情況中，整個顯示面將由於光散射而變得發白，造成表面變成混濁的色彩，也就是說，所謂的褪成白色易於發生。此外，在具有高精密度的影像顯示器最外表面上提供抗眩不平坦表面的情況中，在該抗眩表面上的像素及不平坦有時候會干擾，引起所謂的「眩光」，而且影像的清晰度可能降低。此「眩光」將降低所顯示的影像之可見性。
同時，嘗試僅利用在該透明樹脂層表面上產生的微觀不平坦來提供抗眩性質，而不需填料。舉例來說，JP2002-189106A(申請專利範圍第1至6項，0043至0046段)(專利文件1)揭示呈下列形式的抗眩膜，其在浮雕模子與透明樹脂膜之間夾著離子化輻射固化樹脂的情況下經由固化該離子化輻射固化樹脂而在透明樹脂膜上提供離子化輻射固化樹脂層，使得微觀不平坦產生，其中三維的10點平均粗糙度及三維粗糙度參考面上的相鄰凸出之間的平均距離分別都具有預定值。
此外，JP H6(1994)-34961A(申請專利範圍第1至3項，第0024段)(專利文件2)、JP2004-45471A(申請專利範圍第4項，具體例1)(專利文件3)及JP2004-45472A(申請專利範圍第4項，具體例1)(專利文件4)，舉例來說，揭示使用在充當置於液晶顯示器背側上的
光擴散層之表面上產生微觀不平坦的膜來代替置於顯示器顯示面上的抗眩膜。
作為用於在膜表面上產生不平坦的技術，上述專利文件3及4揭示的方法中，將具有凸出與凹陷顛倒的形式之浮雕輥填充離子化輻射固化性樹脂液，使與雕刻輥轉動方向一致的透明基底與該填充樹脂接觸，當該透明基底與該雕刻輥接觸時使該雕刻輥與透明基底之間的樹脂固化，使固化的樹脂與該透明基底在固化時彼此附著，之後，從該雕刻輥剝離該固化後的樹脂層狀體及透明基底。
在此技術中，可使用的離子化輻射固化性樹脂溶液的組成有限制，且預期整平(例如經由施加以溶劑蒸餾的液體)可能不足，因此該膜厚的均勻度可能不足。再者，必須直接利用樹脂液來填充該雕刻用浮雕輥，因此該雕刻用浮雕輥需要高物理精密度以確保不平坦表面上的均勻度，因此，要製造浮雕輥係困難的。
接下來，例如上述專利文件2揭示依照一種充當用於製造表面上具有不平坦的膜所用的輥的製造方法之例如電雕刻、蝕刻或噴砂等的技術使用金屬等來製備圓柱體並在該圓柱體表面上產生不平坦的方法。此外，JP2004-90187A(申請專利範圍第1及2項)(專利文件5)揭示用於製造浮雕輥的方法，其包括在浮雕輥表面上形成金屬鍍層、將該金屬鍍層表面拋光成鏡面，在已經被拋光成鏡面的金屬鍍層表面上使用陶瓷珠來進行噴砂，及必要的話進行鎚擊處理(peening process)的步驟。
在如上所述的浮雕輥表面上已經進行噴砂處理的情況下，不平坦的直徑分布對應於噴砂粒子的粒徑分布，且難以控制經由噴砂獲得的凹陷深度，因此，可能難以獲得具有高再現性之抗眩效能優異的形式之不平坦。
此外，上述專利文件1說明依照噴砂方法或珠粒射擊法來產生具有不平坦的表面，較佳為使用鐵表面上鍍鉻的輥。再者，該文件說明為提高使用時的持久性，較佳為在表面上鍍鉻之後使用以此方式在表面上產生不平坦的模子，藉以可達到膜硬化及防止腐蝕的目的。此時，上述專利文件3及4分別說明鐵表面鍍鉻，進行#250的液態噴砂處理，及在那之後，再進行鍍鉻處理，藉以在該表面上產生微觀不平坦的具體例。
在此用於製造浮雕輥的方法中，在具有高硬度的鍍鉻上進行噴砂或射擊，因此，難以產生不平坦，且難以精確控制所產生不平坦的形式。再者，該鍍鉻表面一般傾向變粗糙，且微細的不平坦係透過在噴砂所產生的不平坦上鍍鉻而產生，因此，難以設計產生不平坦的方式。再者，最後獲得的抗眩膜中的散射性質由於透過鍍鉻產生微細不平坦而以負面的方式改變。
再者，本發明人的JP2005-140890A(申請專利範圍第1項，0056段)(專利文件6)揭示一種抗眩膜，當高於該不平坦平均高度的區域係凸出且低於這些的區域係凹陷時峰位置及其半值寬度滿足預定條件，由個別凸出或凹陷的投影區見到明顯區的頻率係示於直方圖中。在此專利文
件中，當濁度高的時候，經由結合抗眩膜與液晶面板所形成的液晶顯示器前方的對比將降低，因此，該濁度較佳為不大於15%。
本發明在於提供即使在低反射膜不存在最外層表面上的情況下仍具有優異抗眩效能的抗眩膜，其將充分防止因褪成白色或眩光造成可見性降低，再者，本發明在於提供施加此抗眩膜的影像顯示器。
本發明人發現經由噴吹微觀粒子而在金屬表面上產生不平坦，透過無電鍍鎳在此不平坦表面上形成模子且將此模子的不平坦表面轉移至透明樹脂膜所獲得之具有不平坦表面的抗眩膜具有夠小的濁度，且可提供下列反射變化形廓，其中以30°入射角進入該膜的光在30°反射角下的反射率不大於2%，而在40°反射角下的反射率不大於0.003%，因此，該反射變化形廓顯示在直接反射方向的小反射率範圍，且在不小於60°反射角下的反射率將變得夠小。再者，發明人發現與傳統產品相比可進一步提高此抗眩膜的抗眩效能，且可充分抑制因發生褪成白色及眩光所引起的可見性降低，再者，以各種方式再進行進一步檢查，因此完成本發明。
也就是說，根據本發明在抗眩膜表面上產生不平坦，其中在30°入射角下進入的入射光在30°反射角下的反射率R(30)不大於2%，而在40°反射角下的反射率R(40
)不大於0.003%，且有關該結構的因素滿足下列必備條件(1)至(5)中之任一者：(1)在200μmx200μm的區域內提供50至150個凸出；(2)當該膜的不平坦表面上各點的高度係示於直方圖中時，該直方圖中的峰在以最高點(高度：100%)與最低點(高度：0%)之間的中點(高度：50%)為中心+20%與-20%之間的範圍內；(3)在任意橫斷面中該膜不平坦表面曲線中的算術平均高度Pa為0.08μm至0.15μm；(4)在任意橫斷面中該膜不平坦表面曲線中的橫斷面最大高度Pt為0.4μm至0.9μm；及(5)以不平坦中的凸出峰作為產生點，在膜表面上進行Voronoi分割時所形成的多邊形平均面積為300μm2
至1000μm2
。
就該抗眩膜而言更有效為滿足這些結構因素中之二或更多項，再者，滿足這些結構因素之全部係有效的。
在此抗眩膜中，對於垂直入射光的表面濁度可為不大於5%。
此抗眩膜可依照以下方法有利地製造，係將微觀粒子噴吹在經拋光金屬表面上以形成不平坦，在該不平坦表面上進行無電鍍鎳以形成模子，將此模子的不平坦表面轉移至透明樹脂膜，接著從該模子剝離已經轉移了不平坦表面的透明樹脂膜。此時，滿足上述結構因素的抗眩膜可在該
金屬表面上噴吹平均粒徑在15微米至35微米的微觀粒子，特別是球狀粒子。在此方法中，有利的是使用已依原樣進行無電鍍鎳的模子表面，而在該無電鍍鎳之後不需再拋光該表面。經轉移模子不平坦表面之透明樹脂膜係經由在透明基底膜表面上形成光固化樹脂層獲得，且此光固化樹脂層在壓靠著該模子的不平坦表面時固化，藉此可將該模子的不平坦表面轉移至該光固化樹脂層。
本發明的抗眩膜可結合影像顯示元件(例如液晶顯示元件)而用於影像顯示器。因此，根據本發明的影像顯示器具有上述的抗眩膜及影像顯示元件，其中該抗眩膜係置於該影像顯示元件的可見側上。
在後文中，將詳細說明本發明的較佳具體例。在本發明的抗眩膜表面上產生不平坦，以30°入射角進入的光在30°反射角下的反射率R(30)為不大於2%，且在40°反射角下的反射率R(40)為不大於0.003%，此外，包括至少一個上述的結構因素。
首先，將說明可適當評估抗眩效能的指標。第1圖為示意顯示抗眩膜中光入射及反射的方向之透視圖。根據本發明，當R(30)為以相對於抗眩膜11的法線12為30°角進入的入射光13在30°反射角方向(也就是直接反射15(也就是正反射)的方向)的反射率時，使R(30)不大於2%。較佳為此正反射率R(30)不大於1.5%，特別
是不大於0.7%。在正反射率R(30)超過2%的情況中，可能無法得到充分的抗眩效能且可見度將變低。同時，在該正反射率R(30)太小的情況中，會有褪成白色發生的趨勢，因此，正反射率較佳為不小於0.1%。在第1圖中，以參考編號16表示在任意反射角度θ反射的光，且當測量反射率時，該反射光的方向15及16是在包括入射光方向13及法線12的平面18範圍內。
第2圖顯示繪製第1圖中相對於與該抗眩膜11的法線12呈30°角進入的入射光13之反射光16的反射角度與反射率(對數刻度的反射率)的圖形之例子。顯示此反射角度與反射率之間的關係或可由此讀出之各反射角的反射率之圖形可稱為反射變化形廓。如此圖形所示，該正反射率R(30)為以30°進入的入射光13之反射率的峰，且該反射率會有隨著從直接反射的方向角度變寬而降低的趨勢。
此外，根據本發明，當R(40)為相對於第1圖的抗眩膜11的法線12以30°角進入的入射光13在40°反射角的反射率時，使R(40)為不大於0.003%。當R(40)超過0.003%時，褪成白色將輕易發生，因此，R(40)較佳為不要太高。另一方面，當R(40)太小時，將無法顯示充分的抗眩效能，因此，一般而言，R(40)較佳為不低於0.00005%。在此，難以精確定義R(40)的較佳範圍。這是因為反射及褪成白色係透過目視檢查主觀評估，且是最終必須反映消費者偏好的性質。
再者，當R(不小於60)為相對於第1圖的抗眩膜11的法線12以30°角進入的入射光13的不小於60°反射角之任意方向的反射率時，R(不小於60)/R(30)的值較佳為不大於0.001。此R(不小於60)/R(30)更佳為不大於0.0005，且最佳為不大於0.0001。在此，具體而言，不小於60°反射角的任意方向為介於60°與90°之間的反射角的方向，且在許多情況中，利用依照下述方法製造的抗眩膜時，直接反射方向的反射率為峰，且如第2圖所示的典型反射變化形廓，當該反射角度變得更大時反射率將逐漸降低，且在此情況中，當R(60)為60°反射角的反射率時，該R(不小於60)/R(30)的值可藉由R(60)/R(30)來表示。當R(不小於60)/R(30)的值超過0.001時，該抗眩膜中將會發生褪成白色且可見度傾向於降低。在抗眩膜設在顯示器最前表面上的狀態下該顯示表面顯示黑色的情況中，該顯示表面上傾向於發生褪成白色，使整體由於周遭匯集的光而發白。
在第2圖所示的反射變化形廓例子中，正反射率R(30)為約0.7%，R(40)為約0.0009%，且R(60)為約0.00004%。
根據發明人的研究，現在市場上普遍可購得的大部分抗眩膜為分散填料的類型，且在許多情況中，此等類型的表面濁度超過5%且有時候達到10%至20%。在此等抗眩膜中，以上述方式測量時R(40)不小於0.003%，且儘管顯示充分的抗眩效能，但是褪成白色仍易於發生。另一方
面，該表面濁度有時候低於5%，且儘管此等抗眩膜中並未發生褪成白色，但是抗眩效能並不夠或會發生眩光。相對於此，如本發明定義之濁度小且R(30)不大於2%且R(40)不大於0.003%的抗眩膜係獨特的，且可瞭解的是此等抗眩膜兼具有充分的抗眩效能及保持低度褪成白色及眩光現象的功能。
測量抗眩膜的反射率時必須以高精密度測出反射率不大於0.001%。因此，使用具有寬廣動態範圍的偵測器係有效的。舉例來說，可以市場可購得的光功率計作為此偵測器，且可使用在此光功率計之偵測器前面設有孔之多角度光度計且觀看該抗眩膜的角度為2°來測量。有關該入射光，可使用具有380奈米至780奈米的波長之可見光光束；而有關測量用光源，可使用將例如鹵素燈等光源發出的光加以視準所得到的光，或來自單色光源的高度平行光，例如雷射。此外，在後表面平滑的透明抗眩膜的情況中，來自該抗眩膜後表面的反射可能影響測量值，因此，較佳為使用黏著劑或例如水或甘油等的液體將黑色丙烯酸系樹脂板以光學方式連至抗眩膜的平滑表面，使得可以僅測量該抗眩膜最前表面上的反射率。
除了上述的反射變化形廓之外，有關結構的因素本發明的抗眩膜包括下列因素(1)至(5)中之至少一者：(1)在200μmx200μm的區域內提供50至150個凸出；(2)當該膜的不平坦表面上個別點的高度係示於直
方圖中時，該直方圖中的峰在以最高點(高度：100%)與最低點(高度：0%)的中點(高度：50%)為中心+20%與-20%之間的範圍內；(3)在任意橫斷面中該膜不平坦表面曲線中的算術平均高度Pa為0.08μm至0.15μm；(4)在任意橫斷面中該膜不平坦表面曲線中的橫斷面最大高度Pt為0.4μm至0.9μm；及(5)以不平坦中的凸出峰作為產生點，在膜表面上進行Voronoi分割時所形成的多邊形平均面積為300μm2
至1000μm2
。
首先，說明必備條件(1)：在200μmx200μm的區域內提供50至150個凸出。在該不平坦表面上的凸出數目少且此抗眩膜與具有高清晰度的影像顯示器結合使用的情況中，由於干擾到像素而發生眩光，使影像難以見到，那並不適宜。此外，在凸出數目太多的情況中，該表面上所得不平坦形式之傾斜角將變得陡峭，使褪成白色易於發生。在200μmx200μm的區域內的凸出數目較佳為不大於120且較佳為不小於80。
為了得知抗眩膜不平坦表面上的凸出數目，使用例如共焦顯微鏡、干擾顯微鏡或原子力顯微鏡(AFM)等裝置來觀察表面形狀使得能得知該抗眩膜表面上各點的三維座標，接著，遵循下文所示的演算法來辨識凸出，並數出其數目。也就是說，當專注在該抗眩膜表面上的任意點時，在此點周圍並沒有高度比此專注點高之點的情況下及在該
不平坦表面上之此點高度大於該不平坦表面上最高點與最低點之間的中間高度之情況下將該任意點界定為頂點，且將以此方式找到的頂點數目算作是凸出的數目。具體而言，如第3圖所示，將焦點放在該抗眩膜表面上的任意點21，且以此點21為中心平行該抗眩膜參考面23畫出半徑為2微米至5微米的圓。此時，在此圓的投影表面24範圍內包括的抗眩膜表面22之點當中沒有高度大於對焦的點21之點的情況中，將此點21定義成頂點且找出頂點的數目且在該不平坦表面上此點的高度係大於該不平坦表面上的最高點與最低點之間的中點高度。此時，上述的圓24的半徑必需具有無法算出該樣品表面上的微細不平坦且不包括大量凸出之尺寸，因此，較佳為約3微米。在測量時，為了降低誤差率，較佳為在200μmx200μm的區域內測量3或更多個點，使平均值可以當作測量值。
在使用共焦顯微鏡的情況中，接物鏡的放大倍率為約50，且較佳為利用降低的解析度來測量。這是因為利用高解析度來測量時，將測量到該樣品表面上的微細不平坦且妨礙凸出的計數。在此，當接物鏡的放大倍率低時，在高度方向的解析度變低，因此，有時候變得難以測量具有小不平坦的樣品表面形狀。在此情況中，使用具有高放大倍率的接物鏡來測量，之後，經由使所得到的數據通過低通濾波器而去除空間頻率的高頻部分，使觀察時不會在該不平坦表面上見到微細粗糙之處，然後，可計算凸出的數目。
接下來，說明必備條件(2)：當該膜的不平坦表面上個別點的高度係示於直方圖中時，該直方圖中的峰在以最高點(高度：100%)與最低點(高度：0%)之間的中點(高度：50%)為中心+20%與-20%之間的範圍內。此必備條件意指直方圖中的峰在最高點與最低點之間的差距(最大高度)的30%至70%的範圍內。在該峰不存在於該中心點+20%與-20%之間的範圍內的情況中，換句話說，在該峰出現在大於最大高度的70%的位置或小於30%的位置的情況中，所得的表面形狀係粗糙的，使得眩光易於發生，那並不適宜。此外，傾向降低觸感，也就是外觀的品質。
為了得出高度的直方圖，使用例如共焦顯微鏡、干擾顯微鏡或原子力顯微鏡(AFM)等裝置來觀察表面形狀，以便能得到該抗眩膜表面上各點的三維座標，然後依照下文所示的演算法來辨識。也就是說，找到該抗眩膜表面上高度的最高點與最低點，之後，以測量點的高度與最低點的高度之間的差值(此點的高度)除以最高點與最低點之間的差值(最大高度)，藉以得出各點的相對高度。在最高點為100%且最低點為0%的直方圖中表示所得到的相對高度，因此，得到該直方圖中該峰的位置。該直方圖必須予以分割使得數據中的誤差不會影響該峰的位置，因此，為了顯示，較佳為將其分割成約10至30個。在此，測量時，為了降低誤差率，較佳為在200μmx200μm或更大的區域內測量3或更多個點，使平均值可以當作測量值。
第4圖顯示高度的直方圖例子。在此圖式中，該側軸表示測量點的高度對上述最高點與最低點之間的差距(最大高度)的比例(單位：%)，且分成5%的間隔。左邊縱向棒顯示高度比例在0%至5%範圍內的組合中的分布，且接著，高度比例以每個棒增加5%排到右邊。在此圖式中，沿著側軸顯示每三區段的刻度。縱軸顯示高度分布，將其值積分時變成1。在此例中，峰出現在最大高度的45%與50%之間的位置。在此，顯示下述實施例及比較實施例的直方圖之第11、13、15、17、19及21圖以第4圖的相同方式顯示。
接下來，說明必備條件(3)：在任意橫斷面中該膜不平坦表面曲線中的算術平均高度Pa為0.08μm至0.15μm，及(4)：在任意橫斷面中該膜不平坦表面曲線中的橫斷面最大高度Pt為0.4μm至0.9μm。算術平均高度Pa及橫斷面最大高度Pt定義於JIS B 0601(ISO 4287)，且該算術平均高度Pa與稱為沿著中心線的平均粗糙度的值相同。在橫斷面不平坦表面的曲線中的算術平均高度Pa低於0.08μm的情況中，該抗眩膜的表面將變成近乎平坦，且未顯示足夠的抗眩膜效能，那並不適宜。此外，在橫斷面曲線中的算術平均高度Pa高於0.15μm的情況中，表面形狀變成粗糙，且引致褪成白色及眩光，那也不適宜。另一方面，在橫斷面不平坦表面的曲線中的橫斷面最大高度Pt低於0.4μm的情況中，該抗眩膜的表面亦將變成近乎平坦，且未顯示足夠的抗眩膜效能，那並不適宜。此
外，在橫斷面曲線中的橫斷面最大高度Pt高於0.9μm的情況中，表面形狀變成粗糙，且引致褪成白色及眩光，那並不適宜。
在橫斷面不平坦表面的曲線中的算術平均高度Pa及橫斷面最大高度Pt可使用依照JIS B 0601之市販可得的通用接觸型表面粗糙度測量儀來測量。此外，也可使用例如共焦顯微鏡、干擾顯微鏡或原子力顯微鏡(AFM)等的裝置來測量該表面形狀並根據該表面形狀的三維資料來計算而得到這些。在此，在由該三維資料算出算術平均高度Pa及橫斷面最大高度Pt的情況中，較佳為在200μmx200μm或更大的區域內測量3或更多點，且以平均值當作測量值以確保足夠的參考長度。
接下來，說明必備條件(5)：以不平坦中的凸出的峰作為產生點，在膜表面上進行Voronoi分割時所形成的多邊形平均面積為300μm2
至1000μm2
。首先，說明Voronoi分割。將數個點(稱為產生點)置於平面中時，此平面係以在此平面中的任意點最接近的產生點為基礎作分割，由此，將所產生的圖形稱為Voronoi圖形，並將此分割稱為Voronoi分割。第5圖顯示以該抗眩膜表面上的凸出的峰作為產生點，在膜表面上進行Voronoi分割的例子。方形點26,26為產生點；包括一個產生點的個別多邊形27,27為經由Voronoi分割所形成的區域，且被稱為Voronoi區域或Voronoi多邊形，後文中，將這些稱為Voronoi多邊形。周圍部分28,28在此圖形中稍暗，將在
後文中作說明。產生點的數目及Voronoi區域數目在Voronoi圖形中係一致的。
在經由利用凸出的峰作為產生點進行Voronoi分割所形成的Voronoi多邊形平均面積小於300μm2
的情況中，在該抗眩膜表面上的傾斜角度將變得陡峭，結果，易發生褪成白色，那並不適宜。此外，在Voronoi多邊形的平均面積大於1000μm2
的情況中，該不平坦表面形狀將變得粗糙且發生眩光，那並不適宜。
為了得到以抗眩膜表面上的凸出的峰作為產生點進行Voronoi分割所得到的Voronoi多邊形平均面積，使用例如共焦顯微鏡、干擾顯微鏡或原子力顯微鏡(AFM)等的裝置來觀察表面形狀，以便得到該抗眩膜表面上各點的三維座標，接著依照下列所示的演算法來進行Voronoi分割，並求得該Voronoi多邊形的平均面積。依照上述演算法找到該抗眩膜表面上的凸出之峰，接下來，將這些凸出之峰投影在該抗眩膜的參考面上。之後，將經由表面形狀的測量所得到的所有三維座標投影在此參考表面上，並經由將這些投影點全部都分配至最接近的產生點而進行Voronoi分割，以便求得透過分割得到的多邊形之面積，藉以求得該等Voronoi多邊形的平均面積。在此測量中，計數與測量視野邊緣接觸的Voronoi多邊形之上述凸出的數目，以降低誤差率，但是在求取平均面積時不將彼等算在內。此外，較佳為觀察200μmx200μm或更大的面積中的3或更多個點以降低誤差率，並將這些的平均值當作測
量值。
部分如上所述，第5圖為顯示利用抗眩膜上的凸出峰作為產生點來進行Voronoi分割之一例的Voronoi圖形。許多產生點26,26為該抗眩膜上的凸出之峰，且透過Voronoi分割將一個Voronoi多邊形27指定給每一個產生點26。在此圖形中，如上所述，就平均面積的計算而言不計入與視野邊緣接觸且微暗的Voronoi多邊形28,28。在此，儘管在此圖形中，僅部分產生點及Voronoi多邊形有附加曲線及參考編號，但是從以上所述及此圖形可輕易了解存在大量產生點及Voronoi多邊形。
在此，本發明的抗眩膜較佳為具有5%或更低之垂直入射光的表面濁度。如上所述，專利文件6揭示當濁度高時，若應用於液晶面板，則該抗眩膜的前方對比將變低，因此，該濁度較佳為15%或更低，且進一步檢查的結果，發現當抗眩膜依照預定方法製造時抗眩膜的濁度可能會進一步降低。該抗眩膜的表面濁度可依照JIS K 7136所示的方法來測量。在必須分成表面濁度及內部濁度的情況中，測量整體抗眩膜的濁度，之後，使用甘油將濁度約0的透明膜貼到抗眩膜的不平坦表面，然後測量內部濁度，以致表面濁度可從下式得到。
表面濁度=整體濁度-內部濁度
將濁度約0的透明膜貼到抗眩膜的不平坦表面的狀態
下測得的濁度值事實上可被視為表示內部濁度，因為原始不平坦造成的表面濁度幾乎都被消除了。濁度約0的透明膜並沒有特別的限定，只要濁度小即可，且可使用，舉例來說，三乙醯基纖維素膜。
此外，在本發明的抗眩膜中，使用陰暗部分及明亮部分的寬度為0.5毫米、1.0毫米及2.0毫米3種類型光梳在45。光入射角下測到的反射清晰度總和較佳為不大於50%。反射清晰度依照JIS K 7105規定的方法來測量。在此標準中，定義用於測量影像清晰度的4種類型光梳，其中陰暗部分對明亮部分的寬度比為1：1且寬度為0.125毫米、0.5毫米、1.0毫米及2.0毫米。在這些光梳中，若使用寬度0.125毫米的光梳，則在此測量值下的誤差在本發明所定義的抗眩膜中將會變大，因此，在光梳具有0.125毫米的寬度之情況中的測量值並未加至總和，且將使用具有0.5毫米、1.0毫米及2.0毫米的寬度的3種類型光梳測得的影像清晰度總和稱為反射清晰度。在遵循此定義的情況中之反射清晰度最大值為300%。在依照此定義的反射清晰度超過50%的情況中，將清楚反射光源等的影像，使該抗眩性質變差，那並不適宜。
然而，在反射清晰度不大於50%的情況中，將變得難以僅從反射清晰度測定該抗眩性質是否優異或不良。這是因為在依照上述定義的反射清晰度不大於50%的情況中，使用具有0.5毫米、1.0毫米及2.0毫米的寬度的各個光梳的反射清晰度最好為約10%至20%，且不可忽略測量誤差
造成的反射清晰度偏差。因此，發明人透過目視檢查來比較該抗眩性質，以查看反射清晰度不大於50%且依照下述製造方法獲得的抗眩膜是優異或不良。把透過目視檢查的抗眩性質評估結果及上述的反射變化形廓加以比較與檢視，由此獲得適用於評估本發明抗眩膜之抗眩效能的指標。
本發明的抗眩膜較佳為一起使用之具有高清晰度的影像顯示元件中的像素密度變成90 ppi(每吋之像素)之前都不具有眩光。在像素密度不大於此時若發覺炫光，則該抗眩膜無法與具有高清晰度的影像顯示元件結合使用，那並不適宜。
眩光可依照以下方法來評估。首先，製備如第6圖的平面圖所示之具有單胞圖案的光罩。在此圖形中，在透明基材上形成具有10微米線寬的鉤形鉻遮光圖案31，且未形成鉻遮光圖案31的部分則形成單胞30中的開口32。在下述的例子中，該單胞的尺寸為282微米x 94微米(圖形中的縱向x側向)，因此，使用開口部分的尺寸為272微米x 84微米(圖形中的縱向x側向)的光罩。對齊大量各自與圖形所示者相同的單胞，形成光罩。
此外，如第7圖的示意橫斷面圖所示，將該光罩33置於燈箱35上，該鉻遮光圖案31位於上側，且以黏著劑將抗眩膜貼至玻璃板37的樣品置於該光罩33上。將光源36置於該燈箱35中。在此狀態下，藉由從距離該樣品約30公分的點39目視檢查來觀察該樣品而進行眩光的功能評估。
接下來，說明可據以製造本發明適當抗眩膜之方法，及可用以獲得此抗眩膜且在彼表面上產生不平坦的金屬模子之製造方法。根據本發明的抗眩膜可有利地依照以下方法製造而成，其使用上面形成有不平坦以用於將此不平坦表面轉移至透明膜之預定形狀的金屬模子，接著移除已經從該模子轉移不平坦表面的透明樹脂膜。此外，為了得到具有不平坦的金屬模子，經由噴吹微觀粒子而在金屬表面上產生不平坦，之後，進行無電鍍鎳，由此提供一模子。
第8A至8C圖為概略顯示獲得金屬模子的步驟之橫斷面圖，並例示使用金屬板的情況。第8A圖顯示金屬基材41在拋光成鏡面之後的橫斷面，且在該表面上形成拋光表面42。拋光成鏡面之後經由將微觀粒子噴吹至此金屬表面上而在該表面上產生不平坦。第8B圖為顯示噴吹微觀粒子且經由微觀粒子的噴吹產生局部球形的微觀凹面43之後的金屬基材41橫斷面圖。再者，該金屬表面上的不平坦形狀尖銳點係藉由在以此方式使用微觀粒子產生不平坦的表面上進行無電鍍鎳而變圓。第8C圖為顯示進行無電鍍鎳之後該金屬面的概略橫斷面圖，其中與第8B圖的凹面43相比，在該金屬基材41上所形成的微觀凹面上形成鎳鍍層44且此表面46係處於尖銳點己經由無電鍍鎳變圓的狀態下；換句話說，處於該不平坦形狀變柔和的狀態下。如上所述的，無電鍍鎳是在經由將微觀粒子噴吹至金屬表面上所形成的局部球形微觀凹面43上進行，藉以可得到基本上沒有平坦部分之金屬模子，其中已經產生適用得
到顯現較佳光學性質的抗眩膜之不平坦。
適用於本發明的金屬可提及者為鋁、鐵、銅及不銹鋼等。在這些當中，表面透過微觀粒子的噴吹而輕易變形的金屬包括硬度不是很高的金屬，且較佳為使用鋁、鐵或銅等。從成本的觀點來看，更佳為鋁及軟質鐵。有關該金屬模子的形狀，可使用平的金屬板或可使用圓柱狀的金屬輥。在使用金屬輥製造模子的情況中，可以連續輥的形式製造抗眩膜。
將微觀粒子噴吹至表面拋光過的狀態下的這些金屬上，特別是，該表面較佳為拋光至接近鏡面的狀態。這是因為為了獲得具有所欲精密度的形狀，在許多情況中已在金屬板或金屬輥上進行機械加工，舉例來說切削及拋光，結果，加工痕跡留在金屬表面上。當處於具有深加工痕跡的狀態之金屬表面由於微觀粒子的噴吹而造成形狀改變時，有時候加工痕跡比使用微觀粒子所形成的不平坦更深，因此，加工痕跡仍有影響力，以致該等光學性質可能會受到非預期方式的影響。
用於拋光該金屬表面的方法並沒有特別的限定，且可使用機械拋光法、電解拋光法及化學拋光法之任何者。該機械拋光法包括超精細(ultra-finishing)法、精研、流體拋光法及擦光輪拋光法等。有關拋光之後的表面粗糙度，Ra較佳為不大於1微米，當Ra為沿中心線的平均粗糙度時，Ra更佳為不大於0.5微米，且Ra最佳為不大於0.1微米。在Ra太大的情況中，有可能即使是在金屬表面
由於微觀粒子的噴吹而改變形狀之後，改變形狀之前的表面粗糙度仍可能有重大影響力，那並不適宜，此外，Ra並沒有特別的下限，因為考量加工時間及加工成本時自然會受到限制，因此，並不需要特別賦予任何限制。
有關將微觀粒子噴吹至金屬表面上的方法，宜使用噴吹處理法。有關該噴吹處理法，有噴砂法、噴珠法及液體搪磨法。有關用於這些方法中的粒子，較佳為接近球形的形狀而非具有銳角的形狀之粒子，且較佳為硬質材料製的粒子，使得在加工的期間粒子的壓碎並不會產生銳角。有關滿足這些條件的粒子，以陶瓷為底的粒子當中，較佳為使用由氧化鋯製造的球形珠粒及氧化鋁製造的珠粒。此外，以金屬為底的粒子當中，較佳為使用由鋼或不銹鋼製造的珠粒。再者，可使用樹脂接合劑中帶有陶瓷或金屬粒子的粒子。
在此，以微觀粒子，明確地說具有15微米至35微米的平均粒徑之球形微觀粒子，當作用於噴吹金屬表面的微觀粒子，可藉以獲得具有包括如本發明規定的在200μmx200μm的區域內提供250或更多個凸出的必備條件之結構因素的抗眩膜。這些微觀粒子特佳為具有大約相同的粒徑，也就是說，單分散。在該微觀粒子的平均粒徑小於15微米的情況中，將變得難以在金屬表面上形成充分的不平坦，此外，表面的傾斜角將變陡峭，使褪成白色容易發生。另一方面，在該微觀粒子的平均粒徑大於35微米的情況中，表面上的不平坦將變粗糙，發生眩光且觸感
，也就是外觀品質，傾向變差。
在一方面中，本發明的特徵為在以上述方式產生不平坦的金屬表面上進行無電鍍鎳，藉以使該不平坦表面上的尖銳點變圓，因而製成金屬板。儘管就該不平坦表面上有多少尖銳點變圓而言並無法歸納，因為根據基底金屬的類型、依照例如噴吹等技術獲得的不平坦尺寸和深度及鍍覆的類型和厚度而有所不同，但是在控制有多少尖銳點變圓時最重要的因素為鍍層厚度。當無電鍍鎳厚度小時，依照例如噴吹之技術獲得的不平坦狀表面上的尖銳點變圓的效果不充分，且將此不平坦狀轉移至透明膜所獲得的抗眩膜光學性質並不是很好。另一方面，在鍍層厚度太大的情況中，生產力將變差。根據本發明的無電鍍鎳厚度較佳為3微米至70微米，且更佳為該厚度不小於5微米且不大於50微米。
根據本發明，採取巨觀上可提供均勻厚度鍍層的金屬板或金屬輥表面上無電鍍覆，特別是鍍層硬度高的無電鍍鎳。有關較佳的無電鍍鎳，可列舉的例子如使用包括例如硫之光澤劑的鍍浴之所謂的光澤鎳鍍覆、鎳-磷合金鍍覆(低磷型、中磷型或高磷型)及鎳-硼鍍覆等。
在【先前技術】段落所引用的專利文件1、專利文件4及專利文件5中採用的硬質鍍鉻，特別是電解鍍鉻使電場集中於金屬板或金屬輥的末端部分，因而使中心部分與末端部分之間的鍍層厚度不同。因此，即使如上所述在依照例如噴吹等技術產生不平坦以便使整個板子表面具有均
勻深度的情況中，鍍覆之後該不平坦表面上有多少尖銳點變圓也會由於在該板子上的位置而不同，因此，所得不平坦的深度由於位置而不同，因此，使用電解電鍍並非較佳。
此外，上述的硬質鍍鉻並不適用於製造抗眩膜的金屬模子，因為其可能在鍍覆面上產生凹凸不平。這是因為硬質鍍鉻之後一般都要拋光鍍覆面以消除凹凸不平，且在本發明中，如下所述，鍍覆之後在表面上拋光並不適宜。
然而，在本發明中，為了提高在不平坦金屬表面上進行無電鍍鎳之後的表面硬度，不排除在最外表面上形成非常薄的鍍鉻，所謂薄鉻鍍覆(flush chromium plating)。在進行薄鉻鍍覆的情況中，必須使該薄鉻鍍層薄到基底上的無電鍍鎳形狀不會喪失的程度，且厚度較佳為不大於3微米且更佳為不大於1微米。
此外，不像上述專利文件5中揭示的金屬板或輥，在本發明中較佳為鍍覆之後不要拋光該金屬板或輥。這是因為透過拋光會在最外表面上產生平的部分，因此，會有光學性質可能變差的可能性，且用於控制形狀的因素數目增加，使其難以高再現性的方式控制形狀。第9圖為顯示在經由噴吹微觀粒子所得不平坦表面上透過無電鍍鎳使尖銳點變圓的情況下具有平坦表面的金屬板被拋光時的橫斷面，具體而言，顯示在第8C圖狀態下的鎳鍍層44表面被拋光的狀態。有些凸出經由在該金屬41表面上產生的鎳鍍層44上的表面不平坦46範圍內拋光被修掉，因此，產生
平坦表面48。
接下來，說明使用由此獲得的金屬模子來製造抗眩膜的方法。將依照上述方法所獲得的金屬模子形狀轉移至透明樹脂膜，藉以獲得抗眩膜。較佳為透過浮雕將該模子的形狀轉移至膜。有關浮雕，可引用使用光固化性樹脂的UV浮雕法及使用熱塑性樹脂的熱浮雕法作為例子。
依照UV浮雕法，在透明基底膜表面上形成光固化性樹脂層，且使此光固化性樹脂層硬化同時壓靠在模子的不平坦表面，藉以將該模子的不平坦表面轉移至該光固化性樹脂層。舉例來說，將紫外線固化性樹脂施加至透明基底膜，且在所施加紫外線固化性樹脂與該金屬模子接觸的狀態下利用紫外線照射該透明基底膜，由此使該紫外線固化性樹脂硬化，之後，從該金屬模子剝離上面已形成有該硬化的紫外線固化性樹脂層的透明基底膜，藉以將該金屬模子的形狀轉移至該紫外線固化性樹脂。紫外線固化性樹脂的類型並沒有特別的限定。此外，儘管說是使用紫外線固化性樹脂，但是藉由選擇適當的光固化起始劑將可提供可利用波長比紫外線波長長的可見光來固化之樹脂。如上所述，本發明的紫外線固化性樹脂係包括可見光固化性樹脂的總括性用語。另一方面，依照熱浮雕法，將透明熱塑性樹脂膜壓靠在加熱狀態下的金屬模子，因此該模子表面的形狀被轉移至熱塑性樹脂膜。這些浮雕方法當中，從生產力的觀點來看，較佳為UV浮雕法。
基本上光學透明的任何膜都可當作抗眩膜製造中的透
明基底膜，且包括樹脂膜，例如三乙醯基纖維素膜及聚對苯二甲酸乙二酯膜。
市面上可購得的紫外線固化性樹脂可用作該紫外線固化性樹脂。舉例來說，多官能基丙烯酸酯，例如三(羥甲基)丙烷三丙烯酸酯及新戊四醇四丙烯酸酯，可單獨使用或以這些之二或多類型的混合物使用，且這些可混合光聚合起始劑，例如「Irgacure 907」、「Irgacure 184」(由Ciba特用化學品股份有限公司製造)或「Lucirin TPO」(由BASF Japan有限公司製造)用作該紫外線固化性樹脂。
基本上透明的任何膜都可作為該熱浮雕法中的熱塑性透明樹脂膜，且可使用，舉例來說，熱塑性樹脂(例如非晶形環狀聚烯烴，其具有聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、聚對苯二甲酸乙二酯、三乙醯基纖維素或降烯為底的化合物作為單體)的溶劑澆注膜或押出膜。這些透明樹脂膜也可在使用上述UV浮雕法的情況中作為透明基底膜。
本發明的抗眩膜即使在該不平坦表面最外表面上沒有低反射膜的情況中都具有充分的抗眩效能，且可用於最外表面貼附低反射膜的情況中。該低反射膜可經由在該抗眩膜頂面上提供具有比抗眩層的反射率低之低反射率材料層而形成。有關該低反射率材料，可引用丙烯醯基為底的樹脂或環氧為底的樹脂中含有例如氟化鋰(LiF)、氟化鎂(MgF2
)、氟化鋁(AlF3
)或冰晶石(3NaF‧AlF3
或Na3
AlF6
)等無機材料的無機低反射材料，及例如氟為底
或聚矽氧為底的有機化合物、熱塑性樹脂、熱固性樹脂及紫外線固化性樹脂等的有機低反射材料當作例子。
如上所述所形成之本發明的抗眩膜具有優異的抗眩效果，且可有效抑制褪成白色，因此，當該抗眩膜置於影像顯示器上時具有優異的可見度。在該影像顯示器為液晶顯示器的情況中，可在偏光膜上層壓此抗眩膜。也就是說，許多偏光膜一般都具有將保護膜層壓在由吸收且定向了碘或二色性染料之聚乙烯醇為底的樹脂膜所製成的偏光板至少一側上的形式，且抗眩偏光膜係經由將依上述方式產生不平坦的抗眩膜黏貼於此偏光膜之一表面。此外，依上述方式產生抗眩不平坦的膜可同時作為保護膜及抗眩層，且可黏貼於該偏光板之一面使其不平坦表面面向外，藉以可獲得抗眩偏光膜。再者，依上述方式在已經層壓保護膜的偏光膜之一側保護膜表面上提供抗眩不平坦，藉以可獲得抗眩偏光膜。
在根據本發明之影像顯示器中，將具有特定反射變化形廓及如上所述的表面形狀之抗眩膜與影像顯示元件結合在一起。在此，以液晶面板來代表該影像顯示元件，此面板設有將液晶密封在上基板與下基板之間的液晶晶胞，且經由電壓的施加來改變液晶的取向狀態，藉以顯示影像，此外，可將本發明的抗眩膜施加於例如電漿顯示面板、布勞恩管(陰極射線管：CRT)顯示器及有機電致發光(EL)顯示器等各種眾所周知的顯示器之任一者。因此，將上述抗眩膜置於該影像顯示元件的可見側上，藉以形成影像
顯示器。此時，放置該抗眩膜以使該抗眩膜的不平坦表面面向外(在可見側上)。該抗眩膜可直接黏貼至影像顯示元件的表面，或在以液晶面板當作影像顯示元件的情況中，可透過上述例子所述的偏光膜將該抗眩膜黏貼至該液晶面板的表面。如上所述，在設有本發明抗眩膜之影像顯示器中，藉由該抗眩膜表面上的不平坦來散射入射光使反射的影像減弱且可提供優異的可見度。
在下文中，例舉實施例且進一步詳細說明本發明，但是本發明並不限於這些實施例。評估抗眩膜的方法依循下列實施例的方式。
表面濁度的測量
使用依照JIS K 7136由Murakami Color Research Laboratory Co.,Ltd.所製成的「HM-150」型濁度計，並測量抗眩膜的整體濁度及內部濁度。使用光學透明黏著劑以使該不平坦表面變成表面的方式將樣品黏貼至玻璃基板以防測量之前變形。將直接測量樣品濁度所獲得的值稱為整體濁度，且當使用甘油將濁度約0的透明膜(在此，使用三乙醯基纖維素膜)光學黏貼至樣品的不平坦表面時測得之值稱為內部濁度，且依以下方程式算出表面濁度。
表面濁度=整體濁度-內部濁度
透射清晰度的測量
使用Suga Test Instruments Co.,Ltd.所製成之依照JIS K 7105的製圖測量儀「ICM-1DP」來進行測量。使用光學透明黏著劑將樣品黏貼至玻璃基板使該不平坦表面變成表面以防止樣品變形之後，測量樣品。藉著使光進入此狀態下的樣品(抗眩膜)側而進行測量。在此，測量值為使用陰暗及明亮部分的寬度分別為0.125毫米、0.5毫米、1.0毫米及2.0毫米4種類型的光梳測到的值的加總值。
反射清晰度的測量
使用如上述相同的製圖測量儀「ICM-1DP」來進行測量。使用光學透明黏著劑將樣品黏貼至玻璃基板使該不平坦表面變成表面以防止樣品變形之後，進行測量。此外，以水將具有2毫米厚度的黑色丙烯酸系樹脂板黏貼至已經黏貼抗眩膜之玻璃板的玻璃面以防從玻璃後表面反射，使光進入此狀態下的樣品(抗眩膜)側而進行測量。在此，測量值為使用陰暗及明亮部分的寬度分別為0.5毫米、1.0毫米及2.0毫米3種類型的光梳以上述相同方式測到的值的加總值。
反射率的測量
將抗眩膜的不平坦表面以與該膜法線傾斜30°方向來自氦-氖雷射的平行光照射，且在各種角度下測量在包括
該膜的法線及照射方向之平面內的反射率。為測量所有情況中的反射率，使用由Yokogawa Electric Corporation所製成的「光學功率感應器329203」及「光學功率計3292」。
凸出數目的計數
使用由Sensofar Japan Ltd.所製造的共焦顯微鏡「PLμ2300」來觀察抗眩膜表面的形狀。使用光學透明黏著劑將樣品黏貼至玻璃基板使該不平坦表面變成表面以防止樣品變形之後，觀察樣品。接物鏡的放大倍率為50，且以低解析度來進行計數。如此進行的原因為在以高解析度觀察樣品的情況中，連該樣品表面上的微觀凸出都會算到，因此妨礙該等凸出的計數。
高度直方圖的測量
使用如上述的共焦顯微鏡「PLμ2300」來觀察抗眩膜表面的形狀。使用光學透明黏著劑將樣品黏貼至玻璃基板使該不平坦表面變成表面以防止樣品變形之後，觀察樣品。接物鏡的放大倍率為50。
在橫斷面曲線中算術平均高度Pa及橫斷面最大高度Pt的測量
使用如上述的共焦顯微鏡「PLμ2300」來觀察抗眩膜表面的形狀。使用光學透明黏著劑將樣品黏貼至玻璃基板
使該不平坦表面變成表面以防止樣品變形之後，觀察樣品。接物鏡的放大倍率為50。該算術平均高度Pa及橫斷面最大高度Pt係根據觀察到的數據透過依照JIS B 0601方法的計算求得。
進行Voronoi分割時Voronoi多邊形平均面積的測量
使用如上述的共焦顯微鏡「PLμ2300」來觀察抗眩膜表面的形狀。使用光學透明黏著劑將樣品黏貼至玻璃基板使該不平坦表面變成表面以防止樣品變形之後，觀察樣品。接物鏡的放大倍率為50。Voronoi多邊形的平均面積係根據觀察到的數據透過依照上述演算法的計算求得。
眩光的評估
參照第6及7圖依照上述的方法來評估眩光。也就是說，製造具有第5圖所示的單胞圖案之光罩，並將此置於燈箱35上使該光罩33的鉻遮光圖案31如第7圖所示面向上，並將使用具有20微米厚度的黏著劑將抗眩膜11黏貼至具有1.1毫米厚度的玻璃板37之樣品置於該光罩33上，並從距離該樣品約30公分的地方39透過目視檢查而觀察該樣品，藉以使用七個等級以機能上評估眩光的程度。1級相當於完全未見到眩光的狀態，7級相當於眩光係極端的狀態，且3級相當於僅稍微看到眩光的狀態。
經由目視檢查反射及褪成白色進行評估
在點亮螢光的亮房內透過目視檢查來觀察抗眩膜，且檢查螢光反射存在的情況及褪成白色的程度。
將具有300毫米直徑的鋁箔(根據JIS之A5056)表面拋光成鏡面。使用噴吹裝置(自Fuji Manufacturing Co.Ltd.取得)，在0.1百萬帕(表壓，下文中都相同)的噴吹壓力下將Tosoh Corporation所製造的氧化鋯珠粒「TZ-SX-17」(註冊商標，具有20毫米的平均細粒直徑)噴吹在所得經拋光成鏡面的鋁箔外表面上使該表面上產生不平坦。在所獲得的不平坦鋁箔上進行無電光澤鍍鎳程序，因此製成金屬模子。鍍層厚度設在15微米，且在鍍覆之後使用β射線膜厚測量儀(註冊商標：「Fisher Scope MMS」，取自Fischer Instruments K.K.)來測量鍍層厚度，發現厚度為17.2微米。
單獨地，將Dainippon Ink and Chemicals Incorporated所製造的光固化性樹脂複合物「GRANDIC 806T」(註冊商標)溶入醋酸乙酯以獲得具有50重量%濃度的溶液，再者，將5重量份的光聚合起始劑「Lucirin TPO」(由BASF JapanLtd.製造，化學名稱：氧化2,4,6-三甲基苯甲醯二苯基膦)加至含有100重量份固化性樹脂成分的溶液，由此，製備施塗液。將此施塗液施加至具有80微米厚度的三乙醯基纖維素(TAC)膜使乾燥之後的施加厚度變成5微米，接著在溫度設在60℃的乾燥器中乾燥
3分鐘。以橡膠輥使乾燥後的膜接觸並壓在前文中製造的金屬模子不平坦表面，以便將該光固化性樹脂複合物層置於該鎳鍍層側。在此狀態下，以經計算當光轉換成h射線時光量為200毫焦耳/平方公分之強度20毫瓦/平方公分的高壓水銀燈的光來照射該TAC膜側，由此將該光固化性樹脂複合物層固化。之後，從該模子將TAC膜連同固化的樹脂移出，因此製造出透明抗眩膜，是一由表面具有不平坦的固化樹脂及TAC膜製成的多層體。
依照上述的技術來評估所得到的抗眩膜之光學性質，且結果示於表1中。在此，有關透射清晰度，當使用具有0.125毫米寬度的光梳時該值為約25%，當使用具有0.5毫米寬度的光梳時該值為約21%，當使用具有1.0毫米寬度的光梳時該值為約23%，且當使用具有2.0毫米寬度的光梳時該值為約41%，且如表1所述這些值的總和為110.0%。此外，有關反射清晰度，當使用具有0.125毫米寬度的光梳時該值為約4%，當使用具有0.5毫米寬度的光梳時該值為約3%，當使用具有1.0毫米寬度的光梳時該值為約6%，當使用具有2.0毫米寬度的光梳時該值為約12%，且如表1所述在上述值當中使用具有0.5毫米、1.0毫米及2.0毫米寬度的光梳時該等值的總和為21.1%。此外，所得抗眩膜的不平坦表面形狀及抗眩效能的評估結果係示於表2中，測量反射率時得到的反射光之散射性質(反射變化形廓圖形)係示於第10圖中，且高度的直方圖係分別示於第11圖中。
製造具有如表1所示表面上具有不平坦之各種鍍層厚度及其他與實施例1相同因素的金屬模子。使用個別模子，以實施例1的相同方式製造透明抗眩膜，這些抗眩膜是由表面具有不平坦的固化的樹脂及TAC膜所製成的多層體。所得到的抗眩膜之光學性質係示於表1中，且不平坦表面形狀及抗眩效能的評估結果係分別示於表2中。此外，有關實施例2，反射變化形廓圖形與實施例1的結果一起示於第10圖，且高度的直方圖與實施例1的結果一起分別示於第11圖。有關實施例3及4，個別反射變化形廓圖形係示於第12圖，且高度的直方圖係分別示於第13圖，此外，有關實施例5及6，個別反射變化形廓圖形係示於第14圖，且高度的直方圖係分別示於第15圖。
如表1及2所示，反射變化形廓及表面形狀滿足本發明定義的樣品顯示優異的抗眩效能(無反射)。此外，眩光及褪成白色的程度亦低。
以在Sumitomo Chemical Co.,Ltd.所販售偏光板「Sumikaran」中作為抗眩膜且有填料分散於紫外線固化性樹脂中之抗眩膜「AG1」、「AG3」、「AG5」、「AG6」、「AG8」及「GL6」(其分別稱為比較實施例1至6)的光學性質係示於表3中，且不平坦表面的形狀及抗眩效能的評估結果係示於表4中。有關比較實施例1及2，個別反射變化形廓圖形係示於第16圖，且高度的直方圖係分別示於第17圖。此外，有關比較實施例3及4，個別反射變化形廓圖形係示於第18圖，且高度的直方圖係分別示於第19圖。再者，有關實施例5及6，個別反射變化形廓圖形係示於第20圖，且高度的直方圖係分別示於第21圖
。
如表3及4所示，在比較實施例1及2中，R(30)為不大於2%，且R(40)為不大於0.003%，因此，沒見到褪成白色。然而，在200μmx200μm的區域內的凸出數目為小於50個，直方圖中的峰位置在20%至30%的位置，該算術平均高度Pa超過0.15μm，該橫斷面最大高度Pt超過0.9μm，且Voronoi多邊形的平均面積超過1000μm2
。結果，無法達到充分的抗眩效能(無反射)，或會發生眩光。另一方面，在比較實施例3至6中，R(40)超過0.003%，因此，與本發明的實施例相比，這些比較實施例見到褪成白色。此外，表面濁度係高的，因此將會有前方對比降低的趨勢。除此之外，高度直方圖的峰位置有偏移，有些比較實施例中算術平均高度Pa超過0.15μm且橫斷面最大高度Pt超過0.9μm，因此，就眩光的觀點來看，其效能等於或低於本發明的實施例。
將50毫米的鋁板(根據JIS之A6061)表面拋光成鏡面，之後，在0.4百萬帕的噴吹壓力下將TosohCorporation所製造的氧化鋯珠粒「TZ-B53」(註冊商標，具有53微米的平均細粒直徑)噴吹在此經拋光成鏡面的鋁板之一表面上，並在所獲得的不平坦鋁板上進行無電光澤鍍鎳過程，因此製成金屬模子。單獨地，將包括光固化性樹脂複合物及光聚合起始劑且以實施例1之相同方式製備的施塗液施加至具有80微米厚度的三乙醯基纖維素(TAC)膜使乾燥之後的厚度變成5微米，接著在溫度設在60℃的乾燥器中乾燥3分鐘。以橡膠輥使乾燥後的膜接觸並壓在上述金屬模子的不平坦表面，以便將該光固化性樹脂複合物層置於該鎳鍍層側，在此狀態下，以經計算當光轉換成h射線時光量為200毫焦耳/平方公分之強度20毫瓦/平方公分的高壓水銀燈的光來照射該TAC膜側
，由此將該光固化性樹脂複合物層固化。之後，從該模子將TAC膜連同固化的樹脂移出，因此製造出透明抗眩膜，是一由表面具有不平坦的固化樹脂及TAC膜製成的多層體。儘管由此得到的抗眩膜具有低濁度及優異的抗眩效能，但是眩光程度為5級，且與實施例相比該眩光由於每單位面積有少數凸出而變得很明顯。
將本發明的抗眩膜置於例如液晶面板、電漿顯示面板、布勞恩管(陰極射線管：CRT)顯示器或有機電致發光(EL)顯示器等各種顯示器中之任一者上，使此抗眩膜相對於該影像顯示元件係在可見側上，藉以可防止褪成白色及眩光發生，反射的影像可被減弱且可提供優異的可見度。
本發明的抗眩膜具有優異的抗眩效能，所以濁度低，可抑制眩光及反射，且可使褪成白色現象保持於低的同時維持該顯示影像的亮度。此外，就亮度、抗眩效能及可見度而言，放置本發明抗眩膜之影像顯示器係優異的。
θ‧‧‧任意反射角度
R(30)‧‧‧在30°反射角下的反射率
R(40)‧‧‧在40°反射角下的反射率
R(60)‧‧‧在60°反射角下的反射率
11‧‧‧抗眩膜
12‧‧‧法線
13‧‧‧入射光
15‧‧‧直接反射
16‧‧‧在任意反射角度下反射的光
18‧‧‧包括入射光方向及法線的平面
21‧‧‧任意點
22‧‧‧抗眩膜表面
23‧‧‧抗眩膜參考面
24‧‧‧圓的投影表面
26‧‧‧方形點
27‧‧‧多邊形
28‧‧‧周圍部分
30‧‧‧單胞
31‧‧‧鉻遮光圖案
32‧‧‧開口
33‧‧‧光罩
35‧‧‧燈箱
36‧‧‧光源
37‧‧‧玻璃板
39‧‧‧點
41‧‧‧金屬基材
42‧‧‧拋光表面
43‧‧‧微觀凹面
44‧‧‧鎳鍍層
46‧‧‧表面不平坦
48‧‧‧平坦表面
第1圖為概略顯示光進入抗眩膜及光反射的方向之透視圖；第2圖為繪製以相對於該抗眩膜的法線為30°角進入的反射光之反射角度及反射率(對數刻度的反射率)的圖形之例子；第3圖為概略顯示用於測定抗眩膜上的凸出的演算法
之透視圖；第4圖為顯示抗眩膜高度的直方圖的圖形之例子；第5圖為顯示利用凸出峰作為產生點來進行Voronoi分割的抗眩膜例子之Voronoi圖形；第6圖為顯示用於評估眩光的圖案單胞之平面圖；第7圖為顯示用於評估眩光的狀態的概略橫斷面圖形；第8A至8C圖為顯示金屬模子的製造方法步驟之概略橫斷面圖形；第9圖為顯示無電鍍鎳之後經拋光的表面的狀態之概略橫斷面圖形；第10圖為顯示實施例1及2中獲得的抗眩膜反射變化形廓之圖形；第11圖為實施例1及2中獲得的抗眩膜高度之直方圖；第12圖為顯示實施例3及4中獲得的抗眩膜反射變化形廓之圖形；第13圖為實施例3及4中獲得的抗眩膜高度之直方圖；第14圖為顯示實施例5及6中獲得的抗眩膜反射變化形廓之圖形；第15圖為實施例5及6中獲得的抗眩膜高度之直方圖；第16圖為顯示比較實施例1及2的抗眩膜反射變化
形廓之圖形；第17圖為比較實施例1及2的抗眩膜高度之直方圖；第18圖為顯示比較實施例3及4的抗眩膜反射變化形廓之圖形；第19圖為比較實施例3及4的抗眩膜高度之直方圖；第20圖為顯示比較實施例5及6的抗眩膜反射變化形廓之圖形；及第21圖為比較實施例5及6的抗眩膜高度之直方圖。
41‧‧‧金屬基材
42‧‧‧拋光表面
43‧‧‧微觀凹面
44‧‧‧鎳鍍層
46‧‧‧表面不平坦
Claims (12)
- 一種抗眩膜，其具有表面上產生的微觀不平坦，其中以30°入射角進入的光在30°反射角的反射率R(30)不大於2%，在40°反射角的反射率R(40)不大於0.003%，且在200μmx200μm的區域內提供50至150個凸出；當專注在該抗眩膜表面上的任意點時，若此點周圍沒有高度比此專注點為高之點存在且此點在該不平坦表面上之高度大於該不平坦表面上最高點與最低點之間的中間高度，則將此點界定為頂點，並將以此方式找到的頂點計數，作為凸出的數目。
- 一種抗眩膜，其具有表面上產生的微觀不平坦，其中以30°入射角進入的光在30°反射角的反射率R(30)不大於2%，在40°反射角的反射率R(40)不大於0.003%，且當該膜的不平坦表面上各點的高度係示於直方圖中時，該直方圖中的峰在以最高點(高度：100%)與最低點(高度：0%)之間的中點(高度：50%)為中心+20%與-20%之間的範圍內。
- 一種抗眩膜，其具有表面上產生的微觀不平坦，其中以30°入射角進入的光在30°反射角的反射率R(30) 不大於2%，在40°反射角的反射率R(40)不大於0.003%，且在任意橫斷面中，該膜的不平坦表面曲線的算術平均高度Pa為0.08μm至0.15μm。
- 一種抗眩膜，其具有表面上產生的微觀不平坦，其中以30°入射角進入的光在30°反射角的反射率R(30)不大於2%，在40°反射角的反射率R(40)不大於0.003%，且在任意橫斷面中，該膜的不平坦表面曲線的橫斷面最大高度Pt為0.4μm至0.9μm。
- 一種抗眩膜，其具有表面上產生的微觀不平坦，其中以30°入射角進入的光在30°反射角的反射率R(30)不大於2%，在40°反射角的反射率R(40)不大於0.003%，且以不平坦中凸出的峰作為產生點，在該膜表面上進行Voronoi分割時形成的多邊形的平均面積為300μm2 至1000μm2 。
- 如申請專利範圍第1至5項中任一項之抗眩膜，其中當以30°入射角進入的光在不小於60°反射角的任意方向的反射率定義為R(60或更大)時，R(60或更大)/R(30)的值不大於0.001。
- 如申請專利範圍第1至5項中任一項之抗眩膜， 其中對於垂直入射光的表面濁度不大於5%。
- 如申請專利範圍第1至5項中任一項之抗眩膜，其中使用陰暗部分與明亮部分的寬度為0.5mm、1.0mm及2.0mm的三種光梳在45°的光入射角測得的反射清晰度總和不大於50%。
- 如申請專利範圍第1至5項中任一項之抗眩膜，其中該抗眩膜的最外表面並無具有低反射的膜。
- 如申請專利範圍第1至5項中任一項之抗眩膜，其中有具有低反射的膜在該抗眩膜的最外表面上。
- 一種影像顯示器，其包含申請專利範圍第1至5項中任一項之抗眩膜及影像顯示元件，其中該抗眩膜係置於該影像顯示元件的可見側。
- 一種製造抗眩膜之方法，其包含噴吹平均粒徑在15μm至35μm範圍內的微觀粒子至拋光金屬表面上以形成不平坦，將鎳無電鍍覆至該不平坦表面上以形成模子，將該模子的不平坦表面轉移至透明樹脂膜，及從該模子剝離已轉移了不平坦表面的透明樹脂膜。
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|---|---|---|---|---|
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| EP1962110A1 (en) | 2007-02-14 | 2008-08-27 | Sony Corporation | Anti-glare film, method for manufacturing the same, and display device using the same |
| JP5299270B2 (ja) * | 2007-03-20 | 2013-09-25 | コニカミノルタ株式会社 | 位相差フィルム、偏光板、液晶表示装置および位相差フィルムの製造方法 |
| JPWO2009001911A1 (ja) | 2007-06-28 | 2010-08-26 | ソニー株式会社 | 光学フィルムおよびその製造方法、並びにそれを用いた防眩性偏光子および表示装置 |
| JP2009116109A (ja) * | 2007-11-07 | 2009-05-28 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 液晶表示装置 |
| JP2009150998A (ja) * | 2007-12-19 | 2009-07-09 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 防眩フィルム、防眩性偏光板および画像表示装置 |
| JP2009156938A (ja) * | 2007-12-25 | 2009-07-16 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 防眩フィルム、防眩性偏光板および画像表示装置 |
| JP2009156939A (ja) * | 2007-12-25 | 2009-07-16 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 防眩フィルム、防眩性偏光板および画像表示装置 |
| JP2009211055A (ja) * | 2008-02-06 | 2009-09-17 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 光拡散性積層樹脂フィルムおよびその製造方法、ならびに防眩フィルム、防眩性偏光板および画像表示装置 |
| CN102083617A (zh) * | 2008-07-02 | 2011-06-01 | 帝人杜邦薄膜日本有限公司 | 防眩性层压体 |
| US20100079870A1 (en) * | 2008-09-26 | 2010-04-01 | Canon Kabushiki Kaisha | Glare reduction film for display screens |
| JP4513921B2 (ja) * | 2008-12-09 | 2010-07-28 | ソニー株式会社 | 光学体およびその製造方法、窓材、ブラインド、ロールカーテン、ならびに障子 |
| JP4678437B2 (ja) * | 2008-12-29 | 2011-04-27 | ソニー株式会社 | 光学素子およびその製造方法、ならびに表示装置 |
| CN102439490B (zh) * | 2009-03-30 | 2016-03-16 | 日本制纸化学株式会社 | 防眩硬涂膜 |
| JP5525886B2 (ja) * | 2009-03-30 | 2014-06-18 | 富士フイルム株式会社 | 防眩フィルムの製造方法、防眩フィルム、偏光板、画像表示装置及び透過型／半透過型液晶表示装置 |
| DE102010001286A1 (de) * | 2010-01-27 | 2011-07-28 | Rolls-Royce Deutschland Ltd & Co KG, 15827 | Verfahren zum Erfassen der Flächenbedeckung beim Kugelstrahlen |
| JP5508946B2 (ja) * | 2010-06-16 | 2014-06-04 | デクセリアルズ株式会社 | 光学体、窓材、建具、日射遮蔽装置、および建築物 |
| JP2012014051A (ja) * | 2010-07-02 | 2012-01-19 | Fuji Seisakusho:Kk | 光透過性部材 |
| CN102401915B (zh) | 2010-09-16 | 2016-04-06 | 住友化学株式会社 | 防眩薄膜及液晶显示装置 |
| JP2012212119A (ja) * | 2011-03-18 | 2012-11-01 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 偏光子保護フィルム |
| KR101541583B1 (ko) * | 2011-11-25 | 2015-08-06 | 주식회사 엘지화학 | 초발수 기판 및 그 제조방법 |
| CN103176637B (zh) * | 2011-12-26 | 2016-06-08 | 群康科技(深圳)有限公司 | 显示面板及其装饰框的制造方法与应用的触控显示系统 |
| EP2870505B1 (en) | 2012-07-09 | 2020-07-29 | Corning Incorporated | Anti-glare and anti-sparkle transparent structures |
| JP5488667B2 (ja) * | 2012-09-28 | 2014-05-14 | 大日本印刷株式会社 | 反射防止物品 |
| JP2014119552A (ja) * | 2012-12-14 | 2014-06-30 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 防眩フィルムおよびそのための金型の製造方法、防眩フィルムの製造方法 |
| JP6039397B2 (ja) * | 2012-12-14 | 2016-12-07 | 住友化学株式会社 | 防眩フィルム製造用金型の製造方法および防眩フィルムの製造方法 |
| KR102161958B1 (ko) * | 2013-02-19 | 2020-10-06 | 에이지씨 가부시키가이샤 | 투명 기체의 광학 특성을 평가하는 방법 |
| JP5867649B2 (ja) | 2013-02-19 | 2016-02-24 | 旭硝子株式会社 | 光学装置 |
| JP2015072411A (ja) * | 2013-10-04 | 2015-04-16 | 住友化学株式会社 | 防眩フィルム |
| JP2015106038A (ja) * | 2013-11-29 | 2015-06-08 | 住友化学株式会社 | 防眩フィルム |
| JP2015106039A (ja) * | 2013-11-29 | 2015-06-08 | 住友化学株式会社 | 防眩フィルム |
| JP2015106040A (ja) * | 2013-11-29 | 2015-06-08 | 住友化学株式会社 | 防眩フィルム |
| JP2015152658A (ja) * | 2014-02-12 | 2015-08-24 | 住友化学株式会社 | 防眩フィルム |
| JPWO2016030738A1 (ja) * | 2014-08-26 | 2017-07-20 | 王子ホールディングス株式会社 | 防眩性積層体 |
| US10475943B2 (en) * | 2015-03-20 | 2019-11-12 | Toyobo Co., Ltd. | White polyester film for a solar cell, sealing sheet for back surface of solar cell using same, and solar cell module |
| JP6736381B2 (ja) * | 2016-06-27 | 2020-08-05 | 株式会社トッパンＴｏｍｏｅｇａｗａオプティカルフィルム | 光学積層体、偏光板及び表示装置 |
| JP6674371B2 (ja) * | 2016-12-14 | 2020-04-01 | 株式会社トッパンＴｏｍｏｅｇａｗａオプティカルフィルム | 光学積層体、偏光板及び表示装置 |
| WO2018116598A1 (ja) * | 2016-12-22 | 2018-06-28 | 富士フイルム株式会社 | 光学フィルム及び光学フィルムの製造方法 |
| US11650357B2 (en) * | 2017-08-04 | 2023-05-16 | Daicel Corporation | Anti-glare film |
| DE102017124744A1 (de) * | 2017-10-23 | 2019-04-25 | Technische Hochschule Nürnberg Georg Simon Ohm | Restflächenoptimierung |
| JP7119417B2 (ja) * | 2018-02-22 | 2022-08-17 | Ａｇｃ株式会社 | 透光性構造体 |
| CN110887019A (zh) * | 2019-12-13 | 2020-03-17 | 凯鑫森(上海)功能性薄膜产业有限公司 | 一种防眩光灯具膜片的加工工艺及其防眩光灯具膜片 |
| EP4074489A4 (en) * | 2019-12-13 | 2024-01-10 | Toyobo Co., Ltd. | BIAXIALLY STRETCHED POLYESTER FILM AND PRODUCTION METHOD THEREOF |
| TWI721767B (zh) * | 2020-01-31 | 2021-03-11 | 友達光電股份有限公司 | 光學膜片及使用此光學膜片的顯示模組 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005092197A (ja) * | 2003-08-13 | 2005-04-07 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 防眩性光学フィルム |
| JP2005140890A (ja) * | 2003-11-05 | 2005-06-02 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 防眩フィルム及び画像表示装置 |
| JP2005227407A (ja) * | 2004-02-10 | 2005-08-25 | Daicel Chem Ind Ltd | 防眩シート |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0634961A (ja) | 1992-07-20 | 1994-02-10 | Dainippon Printing Co Ltd | 液晶表示装置及びそれに用いる偏光フィルム |
| JP2002189106A (ja) * | 2000-12-20 | 2002-07-05 | Dainippon Printing Co Ltd | 防眩性フィルムおよびその製造方法、ならびに防眩性フィルムを用いた表示装置 |
| JP4592972B2 (ja) * | 2001-02-08 | 2010-12-08 | 大日本印刷株式会社 | 光拡散フィルム、光拡散フィルムを用いた面光源装置及び表示装置 |
| JP4592244B2 (ja) | 2002-01-24 | 2010-12-01 | 三菱レイヨン株式会社 | 光学シート製造用金型 |
| JP2004004176A (ja) | 2002-05-30 | 2004-01-08 | Nitto Denko Corp | 反射防止樹脂シート、画像表示装置用基板、画像表示装置 |
| JP2004045471A (ja) | 2002-07-09 | 2004-02-12 | Dainippon Printing Co Ltd | 光拡散フィルム及びその製造方法、面光源装置、並びに液晶表示装置 |
| JP2004045472A (ja) | 2002-07-09 | 2004-02-12 | Dainippon Printing Co Ltd | 光拡散フィルム及びその製造方法、面光源装置、並びに液晶表示装置 |
| JP4287109B2 (ja) | 2002-09-02 | 2009-07-01 | 大日本印刷株式会社 | エンボスロールの製造方法、及びエンボスロール |
| KR101088329B1 (ko) * | 2003-01-16 | 2011-11-30 | 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 | 방현필름, 그 제조방법 및 방현필름을 구비한 표시장치 |
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| TWI354120B (en) * | 2003-11-05 | 2011-12-11 | Sumitomo Chemical Co | Antiglare film and image display device |
| JP2006053371A (ja) | 2004-08-12 | 2006-02-23 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 防眩フィルム、その製造方法、そのための金型の製造方法、及び表示装置 |
-
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Patent Citations (3)
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|---|---|---|---|---|
| JP2005092197A (ja) * | 2003-08-13 | 2005-04-07 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 防眩性光学フィルム |
| JP2005140890A (ja) * | 2003-11-05 | 2005-06-02 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 防眩フィルム及び画像表示装置 |
| JP2005227407A (ja) * | 2004-02-10 | 2005-08-25 | Daicel Chem Ind Ltd | 防眩シート |
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