JP4287109B2

JP4287109B2 - エンボスロールの製造方法、及びエンボスロール

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Publication number: JP4287109B2
Application number: JP2002257000A
Authority: JP
Inventors: 弘小島; 泰治菅; 文裕荒川
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 2002-09-02
Filing date: 2002-09-02
Publication date: 2009-07-01
Anticipated expiration: 2022-09-02
Also published as: JP2004090187A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、エンボスロールに関し、さらに詳しくは、表面に微細な凹凸を形成するエンボスロールの製造方法、及びエンボスロールに関するものである。
【０００２】
【従来技術】
（技術の概要）パソコン、ワープロ、液晶テレビなどの液晶表示装置は、液晶自体が発光しないので、面光源装置（バックライトともいう）で裏側から照明する。該バックライトは、通常、液晶画面の全体を均一に照射させるため、線状光源からの光を、光散乱パターンが設けられた導光板の側端面より入射させて、面状に光らせるエッジライト方式である。
このような面光源装置は、例えば、裏面側に反射板を有する導光板の側面から、入射した光源からの光を、光出射面から出射させ、さらに、光を散乱、拡散させ、照射面の輝度を均一にするために、光拡散フィルム、偏光分離フィルム、レンズフィルム、保護光拡散フィルムなどの光学機能を有する光学フィルムが設けられ、さらに表面側には外光の写り込みを防止する防眩フィルムを有している。このような光学フィルムは、光散乱性及び拡散性、光線透過率、並びに演色性がよく、導光板の光散乱パターンを隠せる等が要求され、また、他の偏光分離フィルムやレンズフィルムと組み合されて使用する際には、接触しても干渉縞が発生しないことが要求される。
また、カラー液晶表示装置で要求される充分な明るさは、なお一層の光透過性と、正面方向への出射光が要求される。このため、光拡散フィルム、保護光拡散フィルム、防眩フィルムなどの光学フィルムの１種として、透明な基材フィルムへ表面に微細な凹凸を有する光学機能層を形成したものがある。
この微細な凹凸を形成する方法として、微細凹凸形状を形成したエンボスロールを回転させ、該エンボスロールの凹部に電離放射線硬化性樹脂液を充填し、エンボスロールの回転方向に同期して走行する透明基材を接触させて、接触している間に電離放射線を照射して硬化させ、該硬化と同時に電離放射線硬化樹脂と透明基材とを密着させ、エンボスロールから剥離する方法がある。該エンボスロールの凹凸は、必要面積内で均一で、所望の光学機能を有する凹凸形状を有することが、重要である。
【０００３】
（先行技術）従来、エンボスロールは、ロール芯材（単にロールという）、板材、フィルムの表面へ微細な凹凸形状を形成し、その方法としては、彫刻、電鋳、サンドブラスト処理、放電加工処理、エッチング処理が、知られている。しかしながら、必要面積の全域にわたって、ムラなく均一な凹凸形状を形成することは極めて難しいという欠点がある。
また、レジストを用いるブラスト法が知られている（例えば、特許文献１参照。）。さらに、ロール芯材（エンボスロールに相当する）などの表面凹凸形状を転写する光拡散部材の製造法において、凹凸形状をサンドブラスト処理工程後、エッチング工程及び／又は薄膜の積層工程で作成することが知られている（例えば、特許文献２参照。）。しかしながら、廃液処理を伴うエッチング工程、高価な真空装置を使用する薄膜積層工程を行うために、工程が増え、高コストになるという欠点がある。また、凹凸形状の面内のムラをなくしたり、さらに、サンドブラスト処理前に金属メッキ層を設けることは記載も示唆もされていない。
【０００４】
【特許文献１】
特開平７−１４４３６４号公報（第１頁）
【特許文献２】
特開２０００−２８４１０６号公報（第１頁）
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
そこで、本発明はこのような問題点を解消するためになされたものである。その目的は、安定した光学特性を賦型することのできる均一で微細な凹凸を有し、反射防止フィルム、防眩フィルムなどの光学機能を有する部材を連続で製造でき、かつ、凹凸形状の耐久性が高く多くの数量を賦型できるエンボスロールの製造方法、及びエンボスロールを提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するために、請求項１の発明に係わるエンボスロールの製造方法は、表面に微細な凹凸を形成したエンボスロールの製造方法において、（ａ）ロール芯材の表面にニッケル又はクロムからなる厚さが５０μｍ以上の金属メッキ層を形成する工程、（ｂ）前記金属メッキ層の表面を鏡面研磨する工程、（ｃ）前記鏡面研磨を施した金属メッキ層面へ、セラミックビーズを用いて前記金属メッキ層の表面粗さＲｚが０．０５μｍ以下となるようにブラスト処理する工程からなるようにしたものである。
本発明によれば、前記金属メッキ層がニッケル又はクロムであり、その厚さが５０μｍ以上であり、その表面粗さＲｚが０．０５μｍ以下であるようにしたものである。本発明によれば、ブラスト前にメッキ層を設けることで、傷がなく平滑で、セラミックビーズのブラストに負けない下地が形成され、また、従来ブラスト処理後に行っていたクロムメッキが不要となり、このことでメッキによる凹凸形状の変化がなく、耐久性が高く、安定した光学特性を賦型することのできる微細な凹凸を有するエンボスロールの製造方法が提供される。
請求項２の発明に係わるエンボスロールは、表面に微細な凹凸を形成したエンボスロールであって、（ａ）ロール芯材の表面にニッケル又はクロムから成る厚さが５０μｍ以上の金属メッキ層を形成する工程、（ｂ）前記金属メッキ層の表面を鏡面研磨する工程、（ｃ）前記鏡面研磨を施した金属メッキ層面へ、セラミックビーズを用いて前記金属メッキ層の表面粗さＲｚが０．０５μｍ以下となる様にブラスト処理する工程からなる表面に微細な凹凸を形成するエンボスロールの製造方法で、製造されてなるようにしたものである。
本発明によれば、安定した光学特性を賦型することのできる微細な凹凸を有し、反射防止フィルム、防眩フィルムなどの光学機能を有する部材を連続で製造でき、かつ、凹凸形状の耐久性が高く多くの数量を賦型できるエンボスロールが提供される。
【０００７】
【発明の実施の形態】
本発明について、図面を参照して詳細に説明する。
図１は、本発明の１実施例を示すエンボスロールの断面図である。
（基本の構成）エンボスロール１は、円筒ロールの中心を貫くように軸を有するロール芯材２１で、円筒ロールの表面は金属メッキ層２３からなり、該金属メッキ層２３には微細な凹凸（エンボス版）を形成したものである。
円筒状のロールの材料としては、亜鉛、銅、真鍮、鉄、アルミニウム等の金属が使用できるが、機械的な強度や硬さから鉄が好ましい。円筒ロールの表面は金属メッキ層２３としては、ニッケル、クロム、又はニッケルとクロムの積層であってもよい。該金属メッキ層２３面に、微細な凹凸２５を形成する。エンボスロールの微細な凹凸２５は、賦型された製品の凹凸のネガ状であるが、本明細書では外観的には同様なので、両方とも微細な凹凸と呼ぶ。なお、微細な凹凸２５を、図１では作図の都合上、不規則な点線で示している。
また、エンボスロール１の形状は、一般的には円筒状のエンボスロール（エンボス版）として使用され、円筒状で示しているが、平板状であっても同様の効果を発揮する。
【０００８】
（発明のポイント１）予め金属メッキ層を設けた後に、セラミックビーズでブラスト処理をすることで、表面に微細な凹凸を形成したエンボスロールを作成する本発明のエンボスロールの製造方法で、製造した本発明のエンボスロールは、安定した光学特性を賦型することのできる微細な凹凸を有し、反射防止フィルム、防眩フィルムなどの光学機能を有する部材を連続で製造でき、かつ、凹凸形状の耐久性が高く多くの数量を賦型することができる。該エンボスロールを用いて賦型した光学機能を有するフィルムは、微細な凹凸が適正に賦型されており、安定した光学特性を発揮する。
微細な凹凸が適正に賦型されていないと、例えば、防眩フィルムや反射防止フィルムとして、ディスプレイの前面へ配置した場合、ディスプレイへ入射する外光の散乱がムラとなって、外光が部分的に映り込んだり、また、ヘイズの不均一性から反射防止機能が特定部分の輝度が高くなる不自然な「ぎらつき」を緩和させることができない。従って、微細な凹凸が適正に賦型されていれば、ヘイズが低く、ディスプレイの表示画像の視認性がゆく、実用性に優れる。
また、本発明者らは、鉄のロール芯材をガラスビーズでブラスト処理した後に、クロムメッキして微細な凹凸を形成したエンボスロールを製造した。しかしながら、該凹凸形状は、クロムメッキの微妙な厚さの差が影響して、凹凸形状が大きく変化してしまった。ムラやギラツキなどのない安定した光学機能を発現する微細な凹凸は得られなかった。さらに、クロムメッキには微細なクラックが発生しやすく、このクラックによる外観不良も発生した。
そこで、さらに研究を進めて、金属メッキしてからセラミックビーズでブラスト処理をする本発明に至ったものである。
【０００９】
図２は、本発明の１実施例を示す製造方法の工程図である。
（発明のポイント２）本発明の製造方法は、図２に示すような、（ａ）ロール芯材の表面に金属メッキ層を形成する工程１０１、（ｂ）前記金属メッキ層の表面を鏡面研磨する工程１０３、（ｃ）前記鏡面研磨を施した金属メッキ層面へセラミックビーズを用いてブラスト処理する工程１０５、さらに必要に応じて（ｄ）金属及び／又はセラミックビーズを用いてピーニング処理をする工程１０７からなっている。
従来と全く異なるのは、ブラスト処理する前に、金属メッキを行い、さらに、ブラスト処理をセラミックビーズで行うことで、均一な凹凸形状が得られることである。
【００１０】
（製造工程）製造工程毎に、その方法、材料、作用について説明する。
（ａ）ロール芯材の表面に金属メッキ層を形成する工程、
金属メッキ層２３としては、表面硬度、ブラストに対する耐磨耗性、賦型樹脂や保存中の耐蝕性などからニッケル、クロム、ニッケルとクロムの積層が好ましい。また、その厚さは５０μｍ以上が好ましく、これ以下ではセラミックビーズによるブラスト処理に負けて、中の鉄心が露出したり、微細な凹凸２７にムラが発生しやすい。メッキ法としては公知のメッキ法が適用できる。
【００１１】
（ｂ）前記金属メッキ層の表面を鏡面研磨する工程、
次に、ブラスト処理で形成する微細な凹凸２７にムラが発生しにくいように、金属メッキ層２３の表面を鏡面研磨し、表面粗さＲｚを０．０５μｍ以下とする。これ以上の表面粗さでは、ブラスト処理で形成する微細な凹凸２７にも下地の粗さの影響がでてしまう。
研磨方法としては、バーチカル研磨法、又はバフ研磨法が適用できる。
該表面粗さは、ＪＩＳ−Ｂ０６０１に準拠し、表面粗さＲａは中心線平均粗さで、Ｒｍａｘは凹凸の断面形状の中心線に対しての最高値と最低値の差で、Ｒｚは１０点平均法による値で最高上位５点平均値と最低上位５点平均値の差である。このように、ブラスト前にメッキ層を設け、鏡面研磨することで、傷がなく平滑な層が得られ、セラミックビーズのブラストに負けない下地が形成される。
【００１２】
（ｃ）前記鏡面研磨を施した金属メッキ層面へセラミックビーズを用いてブラスト処理する工程、
金属メッキ層２３へ、セラミックビーズでブラスト処理する。該ブラスト処理に用いる粒子としては、平均粒子径１〜１００μｍ程度の炭化珪素、アルミナ、酸化クロム、酸化ジルコニウム等の粒子を用いられるが、本発明では、粒子としてセラミックビーズを用い、少なくとも、白色溶融アルミナ、緑色炭化珪素、白色ジルコンの１つを含むようにする。このようにすることで、ニッケル又はクロムからなる金属メッキ層へ効率よくブラストすることができる。また、鉄などの不純物を含まないので凹凸表面を汚染させないように、白色、緑色などの淡色系のセラミックビーズが好適である。
【００１３】
ここで、エンボスロールのブラスト処理について、説明する。
図３は、本発明のブラスト処理を模式的に説明する断面図である。
図３のように、エンボスロール１はエンボスロール軸２７によって、コンベア３１上の台座３３上に、左右の軸受け部３５によって、回転自在に固定される。エンボスロール１は、既に金属メッキ層を設け、鏡面研磨されている。該エンボスロール１は、図示しない駆動源でエンボスロール軸２７を経て回転され、また、コンベア３１に左右揺動される。該回転と揺動により、エンボスロール１の表面の全面にわたって、圧搾空気等の力で噴射ノズル３７の先端から、セラミックビーズが吹き付けられる。該ブラスト処理により、エンボスロール１の金属メッキ層２３の表面の全面に、微細な凹凸２５が砂目状に形成される。ロールの回転と揺動の量、セラミックビーズが吹き付け量、吹き付け時間は、所望の凹凸形状に合わせて適宜選択すればよい。
【００１４】
また、従来、ブラスト処理後に行っていたクロムメッキは行わなくてもよい。即ち、ピーニング処理でエンボス処理と表面強化を兼用できるので、耐久性のために凹凸を形成後に行っていたクロムメッキが不要となる。このため、該メッキによって凹凸形状が変化を受けていたが、受けることもなくなる。
【００１５】
（ｄ）金属及び／又はセラミックビーズを用いてピーニング処理をする工程
ブラスト処理後に、さらに必要に応じて、ピーニング処理を行う。該ピーニング処理に用いる粒子としては、球形白色ジルコン、又は球形スチールビーズが好ましい。該ピーニング処理により、鋭く尖った部分が緩和されるため、離型性が向上する。また、凹凸形状の耐久性も向上し、多くの数量を賦型することでできるエンボスロール１が得られる。
【００１６】
【実施例】
（実施例１）鉄材ロール（面長１６００ｍｍ、直径３００ｍｍ）の表面を公知の研磨法で傷やピット欠陥のない状態とし、該表面に公知のメッキ法で厚さ１００μｍのクロムをメッキした。該クロム表面をバーチカル研磨法でＲｚが０．０２μｍになるように研磨して鏡面を得た。該鏡面へ図３の装置でロールを回転及び揺動しながら、平均粒径１００μｍの白色溶融アルミナで３０分間ブラスト処理して微細な凹凸を形成した後に、該ブラスト面に球形ジルコンをブラストしてピーニング処理して、光拡散機能を持つ微細な凹凸を有するエンボスロールを得た。
該エンボスロールの凹部へ、ウレタンアクリレートのプレポリマーを主成分とする紫外線硬化性樹脂を充填すると共に、エンボスロールの速度と同期させながら、帯状の厚さ１２５μｍのエステルフィルムＡ４３００（東洋紡社製、ＰＥＴフィルム商品名）を接触させた。接触している間にＰＥＴフィルム側から、紫外線ランプＤバルブ（フージョン社製、紫外線装置商品名）２４０Ｗ／ｃｍを２灯用いて、走行速度１０ｍ／ｍｉｎで紫外線を照射し、エンボスロールとＰＥＴフィルムの間にある紫外線硬化性樹脂を硬化させることで、紫外線硬化性樹脂とＰＥＴフィルムとを接着させ、同時に紫外線硬化樹脂へエンボスロールの表面の凹凸を賦型させた。その後エンボスロールから剥離して、ＰＥＴフィルム／紫外線硬化樹脂（厚さ５μｍ、表面に凹凸が賦型され光拡散機能を有する）の光拡散フィルムを得た。
【００１７】
（比較例１）平均粒径７５μｍのスチールビーズを用いて１．５時間ブラスト処理して微細な凹凸を形成する以外は、実施例１と同様にして、微細な凹凸を有するエンボスロールを得た。該エンボスロールを用いて、実施例１と同様にして、光拡散フィルムを得た。
【００１８】
（比較例２）平均粒径５０μｍのスチールビーズを用いて２．３時間ブラスト処理して微細な凹凸を形成する以外は、実施例１と同様にして、微細な凹凸を有するエンボスロールを得た。該エンボスロールを用いて、実施例１と同様にして、光拡散フィルムを得た。
【００１９】
（比較例３）平均粒径１００μｍのガラスビーズを用いて４．５時間ブラスト処理して微細な凹凸を形成する以外は、実施例１と同様にして、微細な凹凸を有するエンボスロールを得た。該エンボスロールを用いて、実施例１と同様にして、光拡散フィルムを得た。
【００２０】
（比較例４）厚さ１２５μｍのエステルフィルムＡ４３００（東洋紡社製、ＰＥＴフィルム商品名）の一方の面へ、乾燥後の厚さが１０μｍになるように、下記インキをスリットリバースコーティング法で塗布し乾燥させて、光拡散フィルムを得た。
インキは、ポリエステル樹脂（屈折率１．５５）１００質量部、透光性ビーズ（屈折率１．４９の架橋アクリル樹脂製、平均粒径５μｍ）８質量部を、溶剤（ＭＥＫ：トルエン＝１：１）でザーンカップ粘度計で２７秒になるように稀釈調整したものである。
【００２１】
評価は、実施例及び比較例のエンボスロールを用いて得られた光拡散フィルムのヘイズ、全光線透過率、傷付き性で評価した。
ヘイズ及び全光線透過率（以降、Ｔｔという）は、ＪＩＳ−Ｋ７１０５に準拠して、ヘイズメーターＨＭ１５０（村上色彩社製、商品名）を用いて測定した。傷付き性は、実施例又は比較例の光拡散フィルムの光拡散面と、プリズムシート（ピッチ５０μｍ、単位プリズム形状の断面が頂角９０°の二等辺三角形、住友スリーエム社製）のプリズム面とを重ねて、５００ｇ／ｃｍ²の荷重をかけながら引きずった後に、目視で観察した。その結果を表１に示す。
【００２２】
【表１】

【００２３】
表１に示すように、比較例１〜３では接触する他の部材を傷付けることはないが、ヘイズが低く全光線透過率とのバランスも悪く、また、比較例４では接触する他の部材を傷付けてしまう。実施例１は接触する他の部材を傷付けることなく、ヘイズ及び全光線透過率のバランスがよい光拡散フィルムのが得られた。
【００２４】
（実施例２）鉄材ロール（面長１６００ｍｍ、直径３００ｍｍ）の表面を公知の研磨法で傷やピット欠陥のない状態とし、該表面に公知のメッキ法で厚さ１００μｍのニッケルをメッキ（ビッカース硬度１７０〜１８０）した。該ニッケル表面をバーチカル研磨法でＲｚが０．０５μｍになるように研磨して鏡面を得た。該鏡面へ図３の装置でロールを回転及び揺動しながら、ジルコンビーズＢ１２０（ジルコニア６７％とシリカ３０％とその他３％からなり、粒径７０〜１２５μｍ）で、下記の噴射条件でブラスト処理して微細な凹凸を形成して、光防眩機能を持つ微細な凹凸を有するエンボスロールを得た。
噴射条件は、噴射ノズル６本から噴射圧力３Ｎ／ｃｍ²（０．３ｋｇ／ｃｍ²）で１回、噴射ノズル３本から噴射圧力３Ｎ／ｃｍ²で１回、噴射ノズル３本から噴射圧力２Ｎ／ｃｍ²で３回の、合計５回通した。
該エンボスロールの凹部へ、ユニディックＲＣ２０−０４９（大日本インキ化学工業社製、、紫外線硬化性樹脂商品名）を充填すると共に、エンボスロールの速度と同期させながら、帯状の厚さ１８８μｍのエステルフィルムＡ４３００（東洋紡社製、ＰＥＴフィルム商品名）を接触させた。なお、該ＰＥＴフィルムには、予め下記プライマ組成物インキを用いて、乾燥後の厚さが１μｍのプライマ層を設けておいた。
プライマ組成物インキは、ケミカルマットニス用メジウム（ザインクテック社製、商品名）１００質量部と、ＸＥＬ硬化剤（ザインクテック社製、商品名）１０質量部と、溶剤（ＭＥＫ：トルエン＝１：１）３３質量部とからなる。
ＰＥＴフィルムと紫外線硬化性樹脂が接触している間に、ＰＥＴフィルム側から紫外線ランプＤバルブ（フージョン社製、紫外線装置商品名）２４０Ｗ／ｃｍを２灯用いて、走行速度１０ｍ／ｍｉｎで紫外線を照射し、エンボスロールとＰＥＴフィルムの間にある紫外線硬化性樹脂を硬化させることで、紫外線硬化性樹脂とＰＥＴフィルムとを接着させ、同時に紫外線硬化樹脂へエンボスロールの表面の凹凸を賦型させた。その後エンボスロールから剥離して、ＰＥＴフィルム／紫外線硬化樹脂（厚さ５μｍ、表面に凹凸が賦型され防眩機能を有する）の防眩フィルムを得た。
【００２５】
（比較例５）平均粒径６０〜６５μｍのスチールビーズを用いてブラスト処理して微細な凹凸を形成する以外は、実施例２と同様にして、微細な凹凸を有するエンボスロールを得た。該エンボスロールを用いて、実施例２と同様にして、防眩フィルムを得た。
【００２６】
（比較例６）平均粒径３５〜４０μｍのスチールビーズを用いてブラスト処理して微細な凹凸を形成する以外は、実施例２と同様にして、微細な凹凸を有するエンボスロールを得た。該エンボスロールを用いて、実施例２と同様にして、防眩フィルムを得た。
【００２７】
（比較例７）鉄材ロール（面長１６００ｍｍ、直径３００ｍｍ）の表面を公知の研磨法で傷やピット欠陥のない状態とし、平均粒径１０５μｍのガラスビーズ＃１２０を用いてブラスト後、厚さが５μｍのクロムメッキを施して、表面に微細な凹凸を形成して、微細な凹凸を有するエンボスロールを得た。該エンボスロールを用いて、実施例２と同様にして、防眩フィルムを得た。
【００２８】
評価は、実施例及び比較例のエンボスロールを用いて得られた防眩フィルムのヘイズ、全光線透過率、グロス、透過鮮明性評価、写り込み防止性評価、ギラツキ防止性評価、で評価した。
ヘイズ及び、全光線透過率の測定法は前述と同じである。
グロスは、ＪＩＳ−Ｋ７１０５に準拠して、ヘイズメーターＨＭ１５０（村上色彩社製、商品名）を用いて測定した。
ヘイズ、全光線透過率、グロスのバラツキは、面積１ｍ²内のランダム２５箇所を測定した、最大値最少値から求めた。
透過鮮明性評価は、ＪＩＳ−Ｋ７１０５に準拠して、ＩＣＭ−１ＰＤ（スガ試験機社製、商品名）を用いて、光学くし４種類（０．２５、０．５、１、２ｍｍ）で測定した数値の合計を透過鮮明度とし、数値が大きいほどよい。
写り込み防止性評価は、１０×１０ｃｍの大きさに切断して、黒台紙の上に置き、外光の写り込みを目視で観察し、写り込みのないものを６点、鮮明に写り込むものを０点とした。
ギラツキ防止性評価は、ＺａｕｒｕｓＩＣＲＵＩＳＥ（シャープ社製、モバイルパソコン商品名）の表示部上に置き、ギラツキを目視で観察し、ギラツキのないものを６点、ギラツキの著しいものを０点とした。
表面粗さＲｚ（１０点平均粗さ）は、ＪＩＳ−Ｂ−０６０１に準拠して、測定機として表面粗さ計サーフコーダＳＥ−３０Ｋ（小坂研究所社製、商品名）を用いて測定を行った。
その結果を表２に示す。
【００２９】
【表２】

【００３０】
比較例５の防眩フィルムは、ヘイズが高く、Ｒｚも大きく、ギラツキ防止性が悪い。比較例６の防眩フィルムは、Ｒｚが小さく、写り込み防止性が悪い。比較例７の防眩フィルムは、比較的ヘイズが低く、写り込み防止性及びギラツキ防止性はよいが、ヘイズのバラツキが大きい。また、クロムメッキの微細なクラックで外観不良が発生した。
実施例２の防眩フィルムは、ヘイズが比較例５、６より比較的低く、特にギラツキ防止性がよい。また、透過鮮明、写り込み防止性もよく、液晶表示装置に表示された画面の視認性が良好で、防眩フィルムとして十分な機能を有していた。
【００３１】
【発明の効果】
本発明のエンボスロールは、安定した光学特性を賦型することのできる、均一でムラのない微細な凹凸を有している。このため、反射防止フィルム、防眩フィルムなどの光学機能を有する部材を連続で製造することができ、かつ、凹凸形状の耐久性が高いので、多くの数量の光学機能フィルムを賦型することができる。また、本発明の光学機能フィルムは、他の偏光分離フィルムやレンズフィルムと組み合されて使用する際には、接触しても干渉縞が発生しないし、傷付けることも少ない。
本発明の製造方法によれば、微細な凹凸を形成した後に、クロムメッキを行わないので、凹凸形状がクロムメッキの微妙な厚さの差で大きく変化することがない。さらに、クロムメッキには微細なクラックが発生しやすいが、最終工程にメッキ工程がないので、このクラックによる外観不良も発生しない。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の１実施例を示すエンボスロールの断面図である。
【図２】本発明の１実施例を示す製造方法の工程図である。
【図３】本発明のブラスト処理を模式的に説明する断面図である。
【符号の説明】
１エンボスロール
２１ロール芯材
２３金属メッキ層
２５微細な凹凸
２７エンボスロール軸
３１コンベア
３３台座
３５軸受け部
３７噴射ノズル

Claims

表面に微細な凹凸を形成したエンボスロールの製造方法において、（ａ）ロール芯材の表面にニッケル又はクロムからなる厚さが５０μｍ以上の金属メッキ層を形成する工程、（ｂ）前記金属メッキ層の表面を鏡面研磨する工程、（ｃ）前記鏡面研磨を施した金属メッキ層面へ、セラミックビーズを用いて前記金属メッキ層の表面粗さＲｚが０．０５μｍ以下となるようにブラスト処理する工程からなることを特徴とするエンボスロールの製造方法。
表面に微細な凹凸を形成したエンボスロールであって、（ａ）ロール芯材の表面にニッケル又はクロムから成る厚さが５０μｍ以上の金属メッキ層を形成する工程、（ｂ）前記金属メッキ層の表面を鏡面研磨する工程、（ｃ）前記鏡面研磨を施した金属メッキ層面へ、セラミックビーズを用いて前記金属メッキ層の表面粗さＲｚが０．０５μｍ以下となる様にブラスト処理する工程からなる表面に微細な凹凸を形成するエンボスロールの製造方法で、製造されてなることを特徴とするエンボスロール。