KR20090089899A - 방현성 필름과 그것을 이용한 표시 장치, 및 광 확산 필름과 그것을 이용한 면 광원 시스템 - Google Patents

Abstract

롤 형상 금속 부재의 외주면에 블래스트 처리를 실시함으로써 미세 요철 구조를 형성하여 얻어진 롤 형상 금형(7)과, 롤 형상 금형(7)의 외주면을 따라 배치되는 필름상 투광성 기재(9)와의 사이에 활성 에너지선 경화성 수지 조성물(10)을 공급하여, 활성 에너지선 경화성 수지 조성물(10)을 박막의 형태로 하고, 그 표면에 롤 형상 금형(7)의 외주면의 미세 요철 구조를 전사한다. 활성 에너지선 경화성 수지 조성물(10)을 경화시켜 투광성 박막으로 하고, 이것을 투광성 기재(9)의 표면에 접합하여 방현성 필름을 얻는다. 투광성 박막의 미세 요철 구조를 갖는 표면의 산술 평균 경사각은 0.5 내지 3.5도이다.

Description

방현성 필름과 그것을 이용한 표시 장치, 및 광 확산 필름과 그것을 이용한 면 광원 시스템{ANTIGLARE FILM, DISPLAY EMPLOYING THE SAME, LIGHT-DIFFUSING FILM, AND SURFACE LIGHT SOURCE SYSTEM EMPLOYING THE SAME}

본 발명은 표시 장치의 화상 표시부 등의 표시면의 앞에 배치되고, 상기 표시면에의 외광의 투영을 방지하여 표시면의 번쩍임을 감소시켜, 표시면에 표시되는 화상을 보기 쉽게 하는데 사용되는 방현성 필름에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 방현성 필름을 이용한 표시 장치에 관한 것이다.

또한, 본 발명은 광 확산 필름 및 그 제조 방법에 관한 것이다. 특히, 본 발명은 액정 표시 장치의 백라이트로서 사용될 수 있는 면 광원 장치를 구성하는데 있어 바람직한 광 확산 필름 및 그것을 이용한 면 광원 시스템에 관한 것이다.

종래, 방현성 필름으로는, 예컨대 일본 특허 제3515426호 공보(특허 문헌 1) 또는 일본 특허 공개 제2006-154838호 공보(특허 문헌 2)에 기재되어 있는 바와 같이, 투명 기재의 표면에 광 확산성 수지막을 형성한 것이 사용되고 있다. 특허 문헌 1에 기재된 방현성 필름에 있어서, 광 확산성 수지막은 투광성 합성 수지 중에 상기 합성 수지와 굴절률이 다른 투광성 미립자를 함유시키거나, 표면에 미세한 요 철을 형성함으로써, 광 확산성을 부여하고, 이것에 의해 방현성을 실현하도록 하고 있다. 또한, 특허 문헌 2에 기재된 방현성 필름에 있어서, 광 확산성 수지막은, 형상 전사에 의해 표면에 요철 형상을 형성함으로써, 광 확산성을 부여하고, 이것에 의해 방현성을 실현하도록 하고 있다.

또한, 백라이트용 광 확산 필름으로는, 예컨대 일본 특허 공개 제2000-193805호 공보(특허 문헌 3)에 기재된 광 확산 시트가 있다. 그러나, 이러한 광 확산 시트에는, 다음과 같은 기술적 과제가 있다:

(1) 수지 시트를 이용한 형(型) 전사에 의한 것이면, 그 생산 안정성이 부족하다.

(2) 광 편향 소자에 의한 지향성이 높은 광원을 이용하면 번쩍임 현상(스펙클; speckle)이 발생한다.

특허 문헌 1: 일본 특허 제3515426호 공보

특허 문헌 2: 일본 특허 공개 제2006-154838호 공보

특허 문헌 3: 일본 특허 공개 제2000-193805호 공보

(발명의 개시)

(발명이 해결하고자 하는 과제)

상기 특허 문헌 1 및 특허 문헌 2에 기재된 방현성 필름은 광 확산성 수지막의 표면 요철 형상의 형성에 있어, 수지막 형성 도료의 건조 시의 상기 도료의 조 성에 따른 자유 표면을 형성하거나, 또는 수지 시트의 형상 전사면을 수지층의 표면에 전사함으로써 제작된다. 따라서, 얻어지는 방현성 필름의 제조에 있어 표면 요철 형상이 안정하지 않거나, 가공 공정이 복잡하고 방현성 필름의 생산 비용의 절감이 곤란하였다.

또한, 상기 특허 문헌 1 및 특허 문헌 2에 기재된 방현성 필름은, 특히 표시 장치로부터 지향성이 높은 광이 출사되는 경우에, 번쩍임 현상이 발생하기 쉽다.

그래서, 본 발명은, 제조 면에 있어서, 제품 수율의 향상 및 생산성의 향상이 용이하고, 제조 비용의 저감이 가능한 방현성 필름을 제공하는 것을 목적으로 하는 것이다.

또한, 본 발명은, 기능면에 있어서, 표시 장치로부터 지향성이 높은 광이 출사되는 경우에도, 번쩍임 현상 발생의 저감이 가능한 방현성 필름을 제공하는 것을 목적으로 하는 것이다.

또한, 본 발명은 이상과 같은 기술적 과제를 해결하고, 수율이나 생산성이 높고, 연속적으로 저렴한 광 확산 필름을 제조하는 것을 목적으로 한다.

또한, 본 발명의 다른 목적은 광 투과성이 높고, 번쩍임이 없으며, 높은 은폐성을 갖는 광 확산 필름을 제공하는 것에 있다.

(과제를 해결하기 위한 수단)

본 발명에 따르면, 상기한 몇 개의 과제를 해결하는 것으로서,

롤 형상 금속 부재의 외주면에 블래스트 처리를 실시함으로써 상기 외주면에 미세 요철 구조를 형성하여 얻어진 롤 형상 금형과, 상기 롤 형상 금형의 외주면을 따라 배치되는 필름상 투광성 기재와의 사이에 활성 에너지선 경화성 수지 조성물을 공급하여, 상기 활성 에너지선 경화성 수지 조성물을 박막의 형태로 하고, 상기 박막의 표면에 상기 롤 형상 금형의 외주면의 미세 요철 구조를 전사하고, 상기 활성 에너지선 경화성 수지 조성물을 경화시켜 투광성 박막으로 하고, 상기 투광성 박막을 상기 투광성 기재의 표면에 접합할 수 있는 방현성 필름으로서, 상기 투광성 박막의 미세 요철 구조를 갖는 표면의 산술 평균 경사각이 0.5 내지 3.5도인 것을 특징으로 하는 방현성 필름이 제공된다.

본 발명의 하나의 형태에 있어서는, 상기 블래스트 처리에서의 블래스트 입자는 중심 입경이 5 내지 45㎛인 대략 구형의 연마재 미립자이다. 본 발명의 하나의 형태에 있어서는, 상기 블래스트 처리에 있어서의 블래스트 입자는 상한 입경이 45㎛ 이하의 대략 구형의 연마재 미립자이다. 본 발명의 하나의 형태에 있어서는, 상기 투광성 박막의 미세 요철 구조를 갖는 표면은 국부 산정의 평균 간격이 5 내지 30㎛이다. 본 발명의 하나의 형태에 있어서는, 상기 투광성 박막의 미세 요철 구조를 갖는 표면은 요철간 피치가 20 내지 60㎛이다. 본 발명의 하나의 형태에 있어서는, 상기 투광성 박막의 미세 요철 구조를 갖는 표면은 산술 평균 거칠기가 0.015 내지 0.3㎛이고, 10점 평균 거칠기가 0.1 내지 2㎛이다.

본 발명의 하나의 형태에 있어서는, 상기 방현성 필름은 전광선 투과율이 90% 이상이며, 확산 투과율이 3 내지 55%이다. 본 발명의 하나의 형태에 있어서는, 상기 방현성 필름은 전광선 투과율이 90% 이상이며, 헤이즈값이 3 내지 55이 다. 본 발명의 하나의 형태에 있어서는, 상기 방현성 필름은 법선 방향으로 피크값을 갖는 분포의 광을 입사시켰을 때의 출사광의 법선 휘도에 있어서의 휘도 저하율이 17% 이하이다.

또한, 본 발명에 따르면, 상기 어느 하나의 과제를 해결하는 것으로서,

표시부와, 그 앞에 배치되는 상기의 방현성 필름을 구비한 표시 장치에 있어서, 상기 표시부로부터 상기 방현성 필름에 입사하는 광은 그 분포에 있어서의 반치전폭(半値全幅)이 40도 이하인 것을 특징으로 하는 표시 장치가 제공된다.

본 발명의 하나의 형태에 있어서는, 상기 표시부는 투과형 표시 소자와 상기 투과형 표시 소자의 배후에 배치된 에지 라이트 방식의 면 광원 장치를 포함하여 이루어지는 것이고, 상기 면 광원 장치는 일차 광원과, 상기 일차 광원으로부터 나온 광이 도입되고 도광되어 출사하는 도광체와, 상기 도광체로부터의 출사광이 입광하도록 배치된 광 편향 소자를 구비하고 있고, 상기 광 편향 소자는 입광면에 서로 평행하게 배치된 복수의 프리즘 열을 형성하여 이루어지는 프리즘 시트이다.

본 발명에 따르면, 상기 과제의 몇 개인가를 해결하는 것으로서,

롤 형상 금형 표면을 블래스트 처리함으로써 얻어지는 불규칙한 미세 요철 구조를, 활성 에너지선 경화 수지를 이용하여 투명 기재 상에 전사 경화함으로써 얻어지는 광 확산 필름으로서, 상기 미세 요철 구조의 국부 산정(山頂)의 평균 간격 S가 5 내지 30㎛(바람직하게는 10 내지 26㎛, 더욱 바람직하게는 10 내지 20㎛)인 것을 특징으로 하는 광 확산 필름이 제공된다.

본 발명의 하나의 형태에 있어서는, 상기 광 확산 필름은 중심 입경 5 내지 45㎛(바람직하게는 10 내지 30㎛, 더욱 바람직하게는 10 내지 20㎛)의 대략 구형 연마재 미립자를 이용하여, 롤 형상 금형 표면을 블래스트 처리함으로써 얻어진다. 본 발명의 하나의 형태에 있어서는, 상기 광 확산 필름은 상한 입경이 70㎛ 이하(바람직하게는 45㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 40㎛ 이하, 특히 바람직하게는 35㎛ 이하)의 (바람직하게는 구형의) 연마재 미립자를 이용하여 얻어진다.

본 발명의 하나의 형태에 있어서는, 상기 미세 요철 구조의 산술 평균 경사각 RΔa가 1.5 내지 9.0도(바람직하게는 1.5 내지 4.6도, 더욱 바람직하게는 2.0 내지 4.6도, 더더욱 바람직하게는 2.5 내지 3.8도)이다. 본 발명의 하나의 형태에 있어서는, 상기 미세 요철 구조의 요철간 피치 Sm이 20 내지 80㎛(바람직하게는 25 내지 70㎛, 더욱 바람직하게는 30 내지 60㎛)이다. 본 발명의 하나의 형태에 있어서는, 상기 광 확산 필름의 전광선 투과율이 90% 이상이고(바람직하게는 92% 이상), 확산 투과율이 20 내지 80%(바람직하게는 25 내지 55%, 더욱 바람직하게는 30 내지 50%)이다. 본 발명의 하나의 형태에 있어서는, 상기 광 확산 필름의 전광선 투과율이 90% 이상이고(바람직하게는 92% 이상), 헤이즈값이 25 내지 85(바람직하게는 30 내지 60, 더욱 바람직하게는 35 내지 55)이다. 본 발명의 하나의 형태에 있어서는, 상기 미세 요철 구조의 산술 평균 거칠기 Ra가 0.06 내지 0.7㎛(바람직하게는 0.09 내지 0.40㎛, 더욱 바람직하게는 0.10 내지 0.25㎛), 10점 평균 거칠기가 0.5 내지 2.5㎛(바람직하게는 0.7 내지 2.0㎛, 더욱 바람직하게는 0.7 내지 1.9㎛)이다. 본 발명의 하나의 형태에 있어서는, 상기 광 확산 필름에 원하는 분포를 갖는 광을 법선 방향으로부터 입사하였을 때의 광 확산 필름으로부터의 출사 광 법선 휘도의 휘도 저하율이 35% 이하(바람직하게는 25% 이하, 더욱 바람직하게는 20% 이하)이다.

본 발명의 하나의 형태에 있어서는, 상기 확산 필름의 이면에 프리즘이 부여되어 있다. 본 발명의 하나의 형태에 있어서는, 상기 프리즘 시트가 전반사형 프리즘 시트이다.

본 발명의 하나의 형태에 있어서는, 롤 형상 금형 표면에 대략 주기적 요철 구조가 미리 부여되고, 상기 요철 구조의 사면 상에 블래스트 가공을 실시함으로써 더욱 미세한 요철 형상이 불규칙하게 부여된 롤 금형을 이용하여 제조되는 요철 구조를 갖는다.

본 발명의 하나의 형태에 있어서는, 상기 요철 구조의 사면은 5 내지 20도(바람직하게는 8 내지 18도, 더욱 바람직하게는 10 내지 15도)의 평균적인 경사각을 갖는다. 본 발명의 하나의 형태에 있어서는, 상기 대략 주기적 요철 구조의 피치가 10 내지 90㎛(바람직하게는 15 내지 60㎛, 더욱 바람직하게는 20 내지 40㎛)이다.

또한, 본 발명에 따르면, 상기의 광 확산 필름을 포함하는 표시 시스템으로서, 상기 광 확산 필름에 입사하는 광의 입광 분포의 전반치폭(全半値幅)이 40도 이하(바람직하게는 30도 이하, 더욱 바람직하게는 25도 이하)의 지향성이 높은 표시 시스템이 제공된다.

또한, 본 발명에 따르면, 일차 광원과, 상기 일차 광원의 광을 단면으로부터 입사하고 도광하여 출사면으로부터 출사하는 도광판과, 상기 도광판으로부터 출사 하는 광을 상기 출사면의 상방으로 편각하는 렌즈열을 부여한 광 확산 필름을 구비하고, 상기 광 확산 필름 상에 직접 액정 소자를 탑재하는 면 광원 시스템에 있어서,

상기 광 확산 필름은 롤 형상 금형 표면을 블래스트 처리함으로써 얻어지는 미세 요철 구조를, 활성 에너지선 경화 수지를 이용하여 투명 기재 상에 전사 경화하는 것에 의해 얻어지는 광 확산 필름으로서, 상기 미세 요철 구조의 국부 산정의 평균 간격이 10 내지 30㎛(바람직하게는 10 내지 26㎛)인 것을 특징으로 하는 면 광원 시스템 및 그것에 이용하는 광 확산 필름이 제공된다.

본 발명의 하나의 형태에 있어서는, 상기 렌즈열을 부여한 광 확산 필름의 미세 요철 구조의 산술 평균 경사각이 3.0 내지 4.6도(바람직하게는 3.5 내지 4.5도, 더욱 바람직하게는 3.5 내지 4.0도)이다.

또한, 본 발명에 따르면, 상기의 과제의 몇 개인가를 해결하는 것으로서,

중심 입경이 5 내지 45㎛(바람직하게는 10 내지 40㎛, 더욱 바람직하게는 15 내지 35㎛)이고, 또한 상한 입경이 45㎛ 이하(바람직하게는 40㎛, 더욱 바람직하게는 35㎛ 이하)인 (바람직하게는 구형) 미립자를 이용하여 금속 롤 형상 금형면을 블래스트 처리함으로써 얻어지는 미세 요철 구조를 활성 에너지선 경화 수지를 이용하여 투명 기재 상에 전사 경화하고, 산술 평균 경사각이 1.5 내지 4.6도(바람직하게는 2.0 내지 4.0도, 더욱 바람직하게는 2.5 내지 3.8도)이고, 또한 국부 산정의 평균 간격이 5 내지 30㎛(바람직하게는 10 내지 26㎛, 더욱 바람직하게는 10 내지 20㎛)의 미세 요철 구조를 부여하는 광 확산 필름의 제조 방법이 제공된다.

(발명의 효과)

이상과 같은 본 발명에 따르면, 롤 형상 금속 부재의 외주면에 블래스트 처리를 실시하는 것에 의해 상기 외주면에 미세 요철 구조가 형성된 롤 형상 금형을 이용하여, 상기 미세 요철 구조를 활성 에너지선 경화성 수지 조성물의 박막의 표면에 전사하여 미세 요철 구조를 갖는 산술 평균 경사각 0.5 내지 3.5도의 투광성 박막을 형성하므로, 제품 수율의 향상 및 생산성의 향상이 용이하고, 제조 비용의 절감이 가능하고, 또한 표시부로부터 지향성이 높은 광이 출사하는 경우에도, 번쩍임 현상 발생을 감소시킬 수 있는 방현성 필름을 제공할 수 있다.

또한, 본 발명에 따르면, 이하의 효과가 얻어진다:

(1) 롤 금형을 이용하여 수율이나 생산성이 높고, 연속적으로 저렴한 광 확산 필름을 제조할 수 있다.

(2) 광 확산 필름은 균일하고 치밀한 요철 구조가 형성되어 있기 때문에, 광 투과성이 높고, 번쩍임이 없는 높은 은폐성을 가지는 광 확산 필름을 제조할 수 있다.

(3) 매엽 생산이 아니므로, 제조 비용이 절감된다.

도 1은 본 발명에 의한 방현성 필름의 하나의 실시 형태, 및 상기 방현성을 이용한 본 발명에 따른 액정 표시 장치의 하나의 실시 형태를 나타낸 모식적 부분 단면도이다.

도 2는 롤 형상 금형의 제작 방법을 설명하기 위한 모식적 사시도이다.

도 3은 롤 형상 금형을 이용하여 방현성 필름을 제조하는 방법의 하나의 실시 형태를 나타낸 모식도이다.

도 4는 프리즘 시트에 의한 XZ면 내에서의 광 편향의 모양을 나타낸 모식도이다.

(부호의 설명)

1 : 1차 광원 2 : 광원 리플렉터

3 : 도광체 31 : 광 입사 단면

32 : 측단면 33 : 광 출사면

34 : 이면 4 : 프리즘 시트

41 : 입광면 411 : 프리즘 열

411a, 411b : 프리즘 면 42 : 출광면

5 : 광 반사 소자 7 : 틀 부재(롤 형상 금형)

9 : 투광성 기재 10 : 활성 에너지선 경화성 조성물

11 : 압력 기구 12 : 수지 탱크

13 : 노즐 14 : 활성 에너지선 조사 장치

16 : 롤 형상 금속 부재 28 : 닙 롤

100 : 방현성 필름 101 : 투광성 기재

102 : 투광성 박막

(발명을 실시하기 위한 최선의 형태)

이하, 도면을 참조하면서, 본 발명의 실시 형태를 설명한다.

도 1은 본 발명에 의한 방현성 필름의 하나의 실시 형태 및 상기 방현성을 이용한 본 발명에 따른 표시 장치로서의 액정 표시 장치의 하나의 실시 형태를 나타내는 모식적 부분 단면도이다.

액정 표시 장치는 투과형 액정 표시 소자(8)와, 그 배후에 위치된 에지 라이트 방식의 면 광원 장치와, 방현성 필름(100)으로 이루어진다. 액정 표시 소자(8)의 상면이 액정 표시 장치의 표시부의 표시면으로서 기능하고, 상기 표시면은 방현성 필름(100)을 통해 관찰자에 의해 상방으로부터 관찰된다.

방현성 필름(100)은 액정 표시 소자(8)의 상면 상에 배치된다. 방현성 필름(100)은 필름상의 투광성 기재(101)와 상기 투광성 기재의 한쪽 주면(도 1에서는 상면)에 부여된 투광성 박막(102)으로 이루어진다. 투광성 박막(102)은 제 1 주면(도 1에서는 하면)이 투광성 기재(101)의 상면에 접합되어 있고, 제 2 주면(도 1에서는 상면)이 미세 요철 구조를 구비하고 있다. 방현성 필름(100)의 입사면은 투광성 기재(101)의 다른쪽 주면(도 1에서는 하면)으로 이루어지고, 방현성 필름(100)의 출사면은 투광성 박막(102)의 제 2 주면으로 이루어진다. 방현성 필름(100)의 입사면은 액정 표시 장치의 표시부의 표시면, 즉 액정 표시 소자(8)의 상면에 대향하도록 배치된다. 따라서, 액정 표시 장치의 표시면으로부터 발생한 광은 방현성 필름(100)의 입사면에 입사하고, 투광성 기재(101) 및 투광성 박막(102) 내를 진행하고, 출사면, 즉 투광성 박막(102)의 미세 요철 구조를 갖는 면(미세 요철 구조면)으로부터 출사한다.

투광성 박막(102)의 제 2 주면의 미세 요철 구조는 블래스트 처리를 실시하는 것에 의해 얻어진 롤 형상 금형을 이용한 활성 에너지선 경화성 수지 박막의 표면에의 형상 전사를 이용하여 제작된다. 활성 에너지선으로는 자외선, 전자선 등을 들 수 있다. 투광성 박막(102)의 미세 요철 구조면은 산술 평균 경사각 RΔa가 0.5 내지 3.5도로 형성되어 있다. 이 평균 경사각 범위로 함으로써, 양호한 방현성 및 번쩍임 방지 효과가 얻어진다. 블래스트 처리에 의하면, 이러한 평균 경사각 범위의 미세 요철 구조면을 형성하기 위한 전사면을, 양호하고 또한 안정하게 대면적에 형성할 수 있다. 미세 요철 구조면의 산술 평균 경사각 RΔa는, 바람직하게는 1.0 내지 3.5도이며, 더욱 바람직하게는 1.8 내지 3.0도이며, 특히 바람직하게는 2.0 내지 2.8도이다. 미세 요철 구조면의 산술 평균 경사각 RΔa가 지나치게 작으면, 외광 이미지의 투영이 강하게 되어 충분한 방현성이 얻어지지 않는 경향이 있다. 한편, 미세 요철 구조면의 산술 평균 경사각 RΔa가 지나치게 크면, 지나친 산란이나 복귀광에 의한 투과광의 손실 및 휘도의 저하가 커지는 경향이 있고, 또한 번쩍임의 발생도 강해지는 경향이 있다. 번쩍임의 발생을 억제하기 위해서는, 균일하고 치밀한 미세 요철 구조가 필요하고, 상기 산술 평균 경사각 RΔa는 작은 편이 바람직하다. 또한, 평균 경사각이 지나치게 크면, 표시 화상이 흐려져 선명하지 않게 되는 경향이 있다.

산술 평균 경사각 RΔa는 블래스트압이 클수록 커지는 경향을 나타낸다. 산술 평균 경사각 RΔa가 0.5 내지 3.5도의 미세 요철 구조를 갖는 방현성 필름을 얻기 위해서는, 예컨대 롤 표면과 블래스트 노즐 선단과의 거리가 220㎜인 경우, 이하의 조건으로 롤 금형의 블래스트 처리를 행하는 것이 바람직하다:

(a) 롤 금형의 재질이 구리 또는 비커스 경도 200 정도인 연질 니켈의 경우: 중심 입경이 15 내지 20㎛의 세라믹 비드를 블래스트압 0.05 내지 0.1㎫로 블래스트 처리;

(b) 롤 금형의 재질이 비커스 경도 500 정도의 경질 니켈의 경우: 중심 입경이 15 내지 20㎛의 세라믹 비드를 블래스트압 0.3 내지 0.7㎫로 블래스트 처리.

투광성 박막(102)의 미세 요철 구조면은 국부 산정의 평균 간격(S)이 5 내지 30㎛인 것이 바람직하다. 국부 산정의 평균 간격은, 더욱 바람직하게는 10 내지 25㎛이며, 특히 바람직하게는 10 내지 20㎛이다. 미세 요철 구조면의 국부 산정의 평균 간격이 지나치게 작으면, 충분한 방현성을 발현할 수 없게 되는 경향이 있다. 한편, 미세 요철 구조면의 국부 산정의 평균 간격이 지나치게 크면, 지나친 산란이나 복귀광에 의한 투과광의 손실 및 휘도의 저하가 커지는 경향이 있고, 또한 번쩍임의 발생도 강해지는 경향이 있다. 번쩍임의 발생을 억제하기 위해서는 균일하고 치밀한 미세 요철 구조가 필요하고, 상기 국부 산정의 평균 간격은 작은 편이 바람직하다.

투광성 박막(102)의 미세 요철 구조면은 요철간 피치가 20 내지 60㎛인 것이 바람직하다. 요철간 피치는, 더욱 바람직하게는 25 내지 55㎛이며, 특히 바람직하게는 30 내지 50㎛이다. 미세 요철 구조면의 요철간 피치가 지나치게 작으면, 충분한 방현성을 발현할 수 없게 되는 경향이 있다. 한편, 미세 요철 구조면의 요철간 피치가 지나치게 크면, 지나친 산란이나 복귀광에 의한 투과광의 손실 및 휘도의 저하가 커지는 경향이 있고, 또한 번쩍임의 발생도 강해지는 경향이 있다. 번쩍임의 발생을 억제하기 위해서는 균일하고 치밀한 미세 요철 구조가 필요하고, 상기 요철간 피치는 작은 편이 바람직하다.

투광성 박막(102)의 미세 요철 구조면은, 산술 평균 거칠기가 0.015 내지 0.3㎛으로, 10점 평균 거칠기가 0.1 내지 2㎛인 것이 바람직하다. 산술 평균 거칠기는, 더욱 바람직하게는 0.05 내지 0.3㎛이며, 특히 바람직하게는 0.07 내지 0.25㎛이며, 가장 바람직하게는 0.09 내지 0.22㎛이다. 10점 평균 거칠기는, 더욱 바람직하게는 0.3 내지 2㎛이며, 특히 바람직하게는 0.5 내지 1.3㎛이며, 가장 바람직하게는 0.5 내지 1.1㎛이다. 미세 요철 구조면의 산술 평균 거칠기나 10점 평균 조도가 지나치게 작으면, 충분한 방현성을 발현할 수 없게 되는 경향이 있다. 한편, 미세 요철 구조면의 산술 평균 조도나 10점 평균 조도가 지나치게 크면, 지나친 산란이나 복귀광에 의한 투과광의 손실 및 휘도의 저하가 커지는 경향이 있다. 또한, 산술 평균 조도나 10점 평균 조도가 지나치게 크면, 표시 화상이 흐려져 선명하지 않게 되는 경향이 있다.

방현성 필름(100)은 전광선 투과율이 90% 이상이며, 확산 투과율이 3 내지 55%인 것이 바람직하다. 또한, 방현성 필름(100)은 헤이즈값이 3 내지 55인 것이 바람직하다. 전광선 투과율은 더욱 바람직하게는 92% 이상이다. 확산 투과율은 더욱 바람직하게는 20 내지 55%이며, 특히 바람직하게는 25 내지 47%이며, 가장 바람직하게는 30 내지 43%이다. 헤이즈값은, 더욱 바람직하게는 25 내지 55이며, 특히 바람직하게는 30 내지 50이며, 가장 바람직하게는 35 내지 47이다. 전광선 투과율이 지나치게 작으면, 휘도나 표시 품질이 저하되는 경향이 있다. 확산 투과율이나 헤이즈값이 지나치게 작으면, 충분한 방현성을 발현할 수 없게 되는 경향이 있다. 한편, 확산 투과율이나 헤이즈값이 지나치게 크면, 지나친 산란이나 복귀광에 의한 투과광의 손실 및 휘도의 저하가 커지는 경향이 있다. 또한, 확산 투과율이나 헤이즈값이 지나치게 크면, 표시 화상이 흐려져 선명하지 않게 되는 경향이 있다.

또한, 방현성 필름(100)은 법선 방향으로 피크값을 갖는 분포의 광을 입사시켰을 때의 출사광의 법선 휘도에 있어서의 휘도 저하율이 17% 이하인 것이 바람직하다. 휘도 저하율은 더욱 바람직하게는 12% 이하이며, 특히 바람직하게는 10% 이하이다.

이하, 본 발명의 광 확산 필름의 실시의 형태를 설명한다.

롤 형상 금형 표면을 블래스트 처리함으로써 얻어지는 불규칙한 미세 요철 구조를, 활성 에너지선 경화 수지를 이용하여 투명 기재 상에 전사 경화하는 것으로 광 확산 필름이 얻어진다. 미세 요철 구조의 국부 산정의 평균 간격 S가 5 내지 30㎛(바람직하게는 10 내지 26㎛, 더욱 바람직하게는 10 내지 20㎛)인 것이 바람직하다. 국부 산정의 평균 간격 S가 5㎛보다 작은 경우, 광의 확산 기능이나 은폐성의 저하를 야기하여 바람직하지 않다. 한편, 30㎛보다 큰 경우, 지나친 산란, 복귀광에 의한 투과광의 손실 및 휘도의 저하가 크고, 또한 번쩍임(스페클)의 발생도 강해지는 경향이 있어 바람직하지 않다. 번쩍임의 발생을 억제하기 위해서는 균일하고 치밀한 요철 구조가 필요하고, 상기 국부 산정의 평균 간격 S가 작은 편이 바람직하다.

국부 산정의 평균 간격 S는, 블래스트압이 일정한 경우, 블래스트 입경이 클수록 커지는 경향을 나타낸다. 또한, 국부 산정의 평균 간격 S는, 블래스트 입경이 일정한 경우, 블래스트압이 클수록 커지는 경향을 나타낸다. 국부 산정의 평균 간격 S가 5 내지 30㎛인 미세 요철 구조를 갖는 광 확산 필름을 얻기 위해서는, 예컨대 롤 표면과 블래스트 노즐 선단과의 거리가 220㎜인 경우, 이하의 조건으로 롤 금형의 블래스트 처리를 행하는 것이 바람직하다:

(a) 롤 금형의 재질이 구리 또는 비커스 경도 200 정도의 연질 니켈의 경우: 중심 입경이 15 내지 20㎛인 세라믹 비드를 블래스트압 0.05 내지 0.8㎫로 블래스트 처리;

(b) 롤 금형의 재질이 비커스 경도 500 정도의 경질 니켈의 경우: 중심 입경이 15 내지 20㎛인 세라믹 비드를 블래스트압 0.3 내지 0.8㎫로 블래스트 처리.

중심 입경 5 내지 45㎛(바람직하게는 10 내지 30㎛, 더욱 바람직하게는 10 내지 20㎛)의 대략 구형 연마재 미립자를 이용하여, 롤 형상 금형 표면을 블래스트 처리하는 것이 바람직하다. 연마재의 입경이 5㎛보다 작은 경우, 블래스트의 에너지가 약하고, 금형 표면의 가공이 곤란하며, 균일하고 충분한 은폐성과 광 확산성을 발현하기 위한 요철 구조를 얻을 수 없다. 또한, 45㎛보다 큰 입자의 연마재를 이용한 경우, 요철 구조에 의한 표면 조도가 지나치게 커져, 지나친 산란이나 복귀광에 의한 투과광의 손실 및 지나친 휘도의 저하를 야기하여 바람직하지 않다. 또한, 요철 구조가 거칠고 강한 번쩍임이 발생하는 경향이 있으므로 바람직하지 않다. 번쩍임의 발생을 억제하기 위해서는 균일하고 치밀한 요철 구조가 필요하다.

상한 입경이 70㎛ 이하(바람직하게는 45㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 40㎛ 이하, 가장 바람직하게는 35㎛ 이하)인 (바람직하게는 구형) 연마재 미립자를 이용하는 것이 바람직하다. 연마재 입자의 상한 입경이 70㎛보다 크면, 휘점(輝點)의 발생이나 국소적 번쩍임의 원인으로 되어 바람직하지 않다. 상한 입경이란, 상기 입자 직경 이상의 연마재의 혼입 비율이 1% 이하로 되는 값이다.

상기 미세 요철 구조의 산술 평균 경사각 RΔa가 1.5 내지 9.0도(바람직하게는 1.5 내지 4.6도, 더욱 바람직하게는 2.0 내지 4.6도)인 것이 바람직하다. 미세 요철 구조의 산술 평균 경사각 RΔa가 1.5도보다 작으면, 충분한 확산성이나 은폐성을 발현할 수 없다. 한편, 9.0도보다 크면, 지나친 산란, 복귀광에 의한 투과광의 손실 및 휘도의 저하가 커지는 경향이 있지만, 특히 번쩍임의 발생도 강해지는 경향이 있어 바람직하지 않다. 번쩍임의 발생을 억제하기 위해서는 균일하고 치밀한 요철 구조가 필요하고, 상기 산술 평균 경사각 RΔa는 작은 편이 바람직하다.

산술 평균 경사각 RΔa는 블래스트압이 클수록 커지는 경향을 나타낸다. 산술 평균 경사각 RΔa가 1.5 내지 4.6도의 미세 요철 구조를 갖는 광 확산 필름을 얻기 위해서는, 예컨대 롤 표면과 블래스트 노즐 선단의 거리가 220㎜의 경우, 이하의 조건으로 롤 금형의 블래스트 처리를 행하는 것이 바람직하다:

(a) 롤 금형의 재질이 구리 또는 비커스 경도 200 정도의 연질 니켈의 경우: 세라믹 비드를 블래스트압 0.05 내지 0.2㎫로 블래스트 처리;

(b) 롤 금형의 재질이 비커스 경도 500 정도의 경질 니켈의 경우: 세라믹 비드를 블래스트압 0.4 내지 0.6㎫로 블래스트 처리.

상기 미세 요철 구조의 요철간 피치 Sm이 20 내지 80㎛(바람직하게는 25 내지 70㎛, 더욱 바람직하게는 30 내지 60㎛)인 것이 바람직하다. 미세 요철 구조의 요철간 피치 Sm이 20㎛보다 작으면, 충분한 은폐성과 광 확산성을 발현할 수 없다. 한편, 80㎛보다 크면, 지나친 산란, 복귀광에 의한 투과광의 손실 및 휘도의 저하가 커지는 경향이 있어 바람직하지 않다. 번쩍임의 발생을 억제하기 위해서는 균일하고 치밀한 요철 구조가 필요하고, 상기 평균 간격은 작은 편이 바람직하다.

상기 광 확산 필름의 전광선 투과율이 90% 이상(바람직하게는 92% 이상)이며, 확산 투과율이 20 내지 80%(바람직하게는 20 내지 60%, 더욱 바람직하게는 25 내지 55%, 가장 바람직하게는 30 내지 50%)인 것이 바람직하다. 광 확산 필름의 특성으로는, 휘도나 표시 품질의 관점에서 전광선 투과율 90% 이상인 것이 바람직하지만, 은폐성과 광 확산성의 관점에서는 확산 투과율이 20 내지 80%가 바람직하다. 확산 투과율이 20%보다 작으면, 충분한 확산성이나 은폐성을 발현할 수 없다. 한편, 80%보다 크면, 지나친 산란, 복귀광에 의한 투과광의 손실 및 휘도의 저하가 커서 바람직하지 않다.

상기 광 확산 필름의 전광선 투과율이 90% 이상(바람직하게는 92% 이상)이며, 헤이즈값이 25 내지 85(바람직하게는 25 내지 65, 더욱 바람직하게는 30 내지 60, 가장 바람직하게는 35 내지 55)인 것이 바람직하다. 광 확산 필름의 특성으로는, 휘도나 표시 품질의 관점에서 전광선 투과율 90% 이상인 것이 바람직하지만, 은폐성이나 확산성의 관점에서는 헤이즈값이 25 내지 85가 바람직하다. 헤이즈값이 25보다 작으면, 충분한 상기 기능을 발현할 수 없다. 한편, 85보다 크면, 지나친 산란, 복귀광에 의한 투과광의 손실 및 휘도의 저하가 커서 바람직하지 않다.

상기 미세 요철 구조의 산술 평균 조도 Ra가 0.07 내지 0.7㎛(바람직하게는 0.07 내지 0.5㎛, 더욱 바람직하게는 0.08 내지 0.4㎛, 가장 바람직하게는 0.1 내지 0.25㎛)이며, 10점 평균 조도 Rz가 0.5 내지 2.5㎛(바람직하게는 0.7 내지 2.0㎛, 더욱 바람직하게는 0.7 내지 1.9㎛)인 것이 바람직하다. 광 확산 필름의 산술 평균 조도 Ra가 0.07㎛ 및 10점 평균 조도 Rz가 0.5㎛보다 작으면, 충분한 확산성이나 은폐성을 발현할 수 없다. 한편, 산술 평균 조도 Ra가 0.7㎛보다 크고, 10점 평균 조도 Rz가 2.50㎛보다 크면, 지나친 산란, 복귀광에 의한 투과광의 손실 및 휘도의 저하가 커서 바람직하지 않다.

상기 광 확산 필름에 원하는 분포를 갖는 광을 법선 방향으로부터 입사시켰을 때의 광 확산 필름으로부터의 출사광 법선 휘도의 휘도 저하율이 35% 이하(바람직하게는 30% 이하, 더욱 바람직하게는 25% 이하, 가장 바람직하게는 20% 이하)인 것이 바람직하다.

상기 확산 필름의 이면에 프리즘이 부여되어도 좋다. 상기 프리즘 시트가 전반사형 프리즘 시트더라도 좋다.

광 확산 필름은 롤 형상 금형 표면에 대략 주기적 요철 구조가 미리 부여되고, 상기 요철 구조의 사면 상에 블래스트 가공을 실시함으로써 더욱 불규칙한 미세 요철 형상이 부여된 롤 금형을 이용하여 제조되는 요철 구조를 갖는 것이 바람직하다.

상기 요철 구조의 사면(斜面)은 5 내지 20도(바람직하게는 8 내지 18도, 더욱 바람직하게는 10 내지 15도)의 평균적인 경사각을 갖는 것이 바람직하다. 이 종류의 매끄러운 사면의 규칙적인 구조는, 기본적으로 스페클은 유발(誘發)되기 어렵고, 상기 광 확산 필름을 투과하는 광선을 효과적으로 몇 도 정도 굴절시키는 작용을 갖는다. 그런데, 은폐성이나 랜덤인 산란성을 부여하기 위한 불규칙한 요철 미세 구조의 조도는 매우 경미하여 좋고, 그만큼 스페클의 발생을 억제하는 것이 가능해진다. 최종적으로는, 스페클의 발생을 작게 억제한, 은폐성이 우수한 광 확산 필름을 제조할 수 있다.

상기 대략 주기적 요철 구조의 피치가 10 내지 90㎛(바람직하게는 15 내지 60㎛, 더욱 바람직하게는 20 내지 40㎛)인 것이 바람직하다. 피치가 10㎛보다 작으면 금형 제조가 곤란하며, 100㎛보다 크면 다른 광학 부재와의 무아레(moire)가 시인되므로 바람직하지 않다.

이상의 광 확산 필름을 이용하여, 상기 광 확산 필름에 입사하는 광의 입광 분포의 전반치폭이 40도 이하(바람직하게는 30도 이하, 더욱 바람직하게는 25도 이하)인 지향성이 높은 표시 시스템을 구성할 수 있다. 지향성이 강한 표시 시스템에 있어서는, 번쩍임(스페클)이 강하게 발생하는 경향이 있다. 번쩍임 방지 효과의 관점에서는, 광 확산 필름에 입사하는 광의 입광 분포의 전반치폭이 40도 이하인 지향성이 높은 표시 장치에 대하여, 본 발명의 광 확산 필름의 기술을 적용하면, 개선 효과가 높다.

일차 광원과, 상기 일차 광원의 광을 단면으로부터 입사 도광하여 출사면으로부터 출사하는 도광판과, 상기 도광판으로부터 출사하는 광을 상기 출사면의 상방으로 편각(偏角)하는 렌즈열이 부여된 광 확산 필름을 구비하고, 상기 광 확산 필름 상에 직접 액정 소자를 탑재하는 면 광원 시스템에 있어서, 상기 광 확산 필름으로서, 롤 형상 금형 표면을 블래스트 처리하는 것에 의해 얻어지는 미세 요철 구조를, 활성 에너지선 경화 수지를 이용하여 투명 기재 상에 전사 경화하는 것에 의해 얻어지는 것으로, 상기 미세 요철 구조의 국부 산정의 평균 간격 S가 10 내지 30㎛(바람직하게는 10 내지 26㎛)인 광 확산 필름을 이용할 수 있다.

상기 광 확산 필름의 미세 요철 구조의 산술 평균 경사각 RΔa가 3.0 내지 9.0도(바람직하게는 3.0 내지 4.6도, 더욱 바람직하게는 3.5 내지 4.5도, 가장 바람직하게는 3.5 내지 4.0도)인 것이 바람직하다.

중심 입경이 5 내지 45㎛(바람직하게는 10 내지 40㎛, 더욱 바람직하게는 15 내지 35㎛)이고, 또한 상한 입경이 70㎛ 이하(바람직하게는 45㎛, 더욱 바람직하게는 40㎛ 이하, 가장 바람직하게는 35㎛ 이하)인 (바람직하게는 구형) 미립자를 이용하여 금속 롤 형상 금형면을 블래스트 처리함으로써 얻어지는 미세 요철 구조를 활성 에너지선 경화 수지를 이용하여 투명 기재 상에 전사 경화하고, 산술 평균 경사각 RΔa가 1.5 내지 9.0도(바람직하게는 1.5 내지 4.6도, 더욱 바람직하게는 2.0 내지 4.0도, 가장 바람직하게는 2.5 내지 3.8도)이고, 또한 국부 산정의 평균 간격 S가 5 내지 30㎛(바람직하게는 10 내지 26㎛, 더욱 바람직하게는 10 내지 20㎛)인 미세 요철 구조를 부여하는 것에 의해, 광 확산 필름이 제조된다.

도 2는 롤 형상 금형의 제작 방법을 설명하기 위한 모식적 사시도이다. 적어도 외주부(外周部)가 크로뮴, 니켈, 스테인리스(SUS), 구리, 알루미늄, 황동, 강(鋼) 등의 금속으로 이루어지는 롤 형상의 금속 부재(16)를 그 회전축(회전 중심)이 수평이 되도록 지지하고, 그 위쪽에, 롤 형상 금속 부재(16)의 회전축과 평행하게 왕복 이동 가능하도록 블래스트 장치의 노즐(블래스트 노즐)(104)을 배치한다. 상기 블래스트 노즐(104)은 롤 형상 금속 부재(16)의 회전축을 향하고 있다. 롤 형상 금속 부재(16)의 회전을 정지한 상태로, 블래스트 노즐(104)을 롤 형상 금속 부재(16)의 회전축을 따라 제 1 방향으로 이동시키면서, 블래스트 노즐(104)로부터 롤 형상 금속 부재(16)의 외주면을 향해 블래스트 입자를 토출한다. 이것에 의해, 롤 형상 금속 부재(16)의 외주면의 회전축 방향으로 연장된 필요 폭의 띠 형상 영역의 블래스트가 이루어진다. 이어서, 롤 형상 금속 부재(16)를 회전축 주위에 필요 각도 회전시킨 후에 회전을 정지하고, 마찬가지로 하여, 블래스트 노즐(104)을 롤 형상 금속 부재(16)의 회전축을 따라 제 2 방향으로 이동시키면서, 블래스트 노즐(104)로부터 롤 형상 금속 부재(16)의 외주면을 향해서 블래스트 입자를 토출한다. 이것에 의해, 롤 형상 금속 부재(16)의 외주면의 회전축 방향으로 연장된 필요 폭의 띠 형상 영역의 블래스트가 이루어진다. 이 띠 형상 영역은 전회의 블래스트 입자 토출 시의 띠 형상 영역과 일부 겹쳐도 좋다. 이하 마찬가지로 하여, 롤 형상 금속 부재(16)의 전외주면에 대한 블래스트 처리를 실시함으로써, 외주면에 미세 요철 구조를 갖는 롤 형상 금형이 얻어진다.

이상과 같은 블래스트 처리에 있어서의 블래스트 입자는, 중심 입경이 5 내지 45㎛인 대략 구형의 연마재 미립자인 것이 바람직하다. 대략 구형의 연마재 미립자로는 구형 세라믹 비드나 구형 유리 비드가 예시된다. 중심 입경은 더욱 바람직하게는 10 내지 30㎛이며, 특히 바람직하게는 10 내지 25㎛이다. 연마재 미립자의 중심 입경이 지나치게 작으면, 블래스트의 에너지가 약하고, 금속 부재 표면의 가공이 곤란하며, 균일하고 충분한 방현성을 발현하기 위한 미세 요철 구조를 얻을 수 없게 되는 경향이 있다. 또한, 연마재 미립자의 중심 입경이 지나치게 크면, 미세 요철 구조면의 표면 조도가 커져, 지나친 산란이나 복귀광에 의한 투과광의 손실 및 지나친 휘도의 저하를 야기하는 경향이 있고, 또한, 미세 요철 구조가 거칠고 강한 번쩍임이 발생하는 경향이 있다. 또한, 블래스트 처리에 있어서의 블래스트 입자는, 상한 입경이 45㎛ 이하인 연마재 미립자인 것이 바람직하다. 상한 입경은, 더욱 바람직하게는 30㎛ 이하이며, 특히 바람직하게는 25㎛ 이하이다. 연마재 미립자의 상한 입경이 지나치게 크면, 휘점(輝點)이나 국소적 번쩍임이 쉽게 발생하는 경향이 있다. 여기서 말하는 상한 입경이란, 상기 입자 직경 이상의 연마재의 혼입 비율이 1질량% 이하로 되는 값으로 정의한다.

도 3은 이상과 같은 롤 형상 금형을 이용하여 방현성 필름(100)을 제조하는 방법의 하나의 실시 형태를 나타내는 모식도이다. 또, 본 발명의 광 확산 필름도 마찬가지의 방법으로 제조할 수 있다.

도 3 중, 참조 부호 7은 방현성 필름(100)의 출광면으로서 기능하는 투광성 박막(102)의 상면(요철 구조면)을 전사 형성하는 형상 전사면을 원통 형상 외주면에 형성하여 이루어지는 틀 부재(상기의 롤 형상 금형)이다. 도 3에 나타낸 바와 같이, 롤 형상 금형(7)에는, 그 외주면 즉 형상 전사면을 따라 필름상의 투광성 기재(9(101))가 공급되어 있고, 롤 형상 금형(7)과 투광성 기재(9) 사이에 활성 에너지선 경화성 조성물(10)이 수지 탱크(12)로부터 노즐(13)을 거쳐 연속적으로 공급된다. 투광성 기재(9)의 외측에는, 공급된 활성 에너지선 경화성 조성물(10)의 두께를 균일하게 하기 위한 닙 롤(28)이 마련되어 있다. 닙 롤(28)로는, 금속제 롤, 고무제 롤 등이 사용된다. 또한, 활성 에너지선 경화성 조성물(10)의 두께를 균일하게 하기 위해서는, 닙 롤(28)의 진원도(眞圓度), 표면 조도 등에 대하여 높은 정밀도로 가공된 것이 바람직하고, 고무제 롤의 경우에는 고무 경도가 60도 이상인 높은 경도인 것이 바람직하다. 이 닙 롤(28)은 활성 에너지선 경화성 조성물(10)의 박막의 두께를 정확히 조정할 필요가 있고, 압력 기구(11)에 의해 조작되게 되어 있다. 이 압력 기구(11)로는, 유압 실린더, 공기압 실린더, 각종 나사 기구 등을 사용할 수 있지만, 기구의 간편함 등의 관점에서 공기압 실린더가 바람직하다. 공기압은 압력 조정 밸브 등에 의해 제어된다.

롤 형상 금형(7)과 투광성 기재(9) 사이에 공급되는 활성 에너지선 경화성 조성물(10)은 얻어지는 투광성 박막(102)의 두께를 일정하게 하기 위해 일정한 점도로 유지하는 것이 바람직하다. 점도 범위는, 일반적으로는, 20 내지 3,000㎫·S 범위의 점도로 하는 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 100 내지 1,000㎫·S의 범위이다. 활성 에너지선 경화성 조성물(10)의 점도를 20㎫·S 이상으로 함으로써, 투광성 박막의 두께를 일정하게 하기 위해 닙 압력을 매우 낮게 설정하거나 성형 속도를 극단적으로 빠르게 할 필요가 없어진다. 닙 압력을 매우 낮게 하면, 압력 기구(11)를 안정하게 작동시킬 수 없게 되는 경향이 있어, 투광성 박막(102)의 두께가 일정하지 않게 된다. 또한, 성형 속도를 극단적으로 빠르게 하면, 활성 에너지선의 조사량이 부족하게 되어 활성 에너지선 경화성 조성물의 경화가 불충분해지는 경향이 있다. 한편, 활성 에너지선 경화성 조성물(10)의 점도를 3,000㎫·S 이하로 함으로써, 롤 형상 금형의 형상 전사면 구조의 세부까지 충분히 경화성 조성물(10)을 골고루 퍼지게 할 수 있어, 요철 구조의 정확한 전사가 곤란해지거나 기포의 혼입에 의한 결함이 쉽게 발생하거나 성형 속도의 극단적인 저하에 의한 생산성의 악화를 야기하는 일이 없게 된다. 이 때문에, 활성 에너지선 경화성 조성물(10)의 점도를 일정하게 유지시키기 위해서는, 경화성 조성물(10)의 온도 제어가 행해지도록, 수지 탱크(12)의 외부나 내부에 시즈 히터, 온수 재킷 등의 열원 설비를 마련해 두는 것이 바람직하다.

활성 에너지선 경화성 조성물(10)을 롤 형상 금형(7)의 외주면과 투광성 기재(9) 사이에 공급한 후, 활성 에너지선 경화성 조성물(10)이 롤 형상 금형(7)과 투광성 기재(9) 사이에 끼워진 상태로, 활성 에너지선 조사 장치(14)로부터 활성 에너지선을 투광성 기재(9)를 통해 조사하여, 활성 에너지선 경화성 조성물(10)을 중합 경화하고, 롤 형상 금형(7)의 외주면에 형성된 형상 전사면의 전사를 행한다. 활성 에너지선 조사 장치(14)로는, 화학 반응용 케미컬 램프, 저압 수은 램프, 고압 수은 램프, 메탈할라이드 램프, 가시광 할로젠 램프 등이 사용된다. 활성 에너지선의 조사량으로는, 200 내지 600㎚ 파장의 적산(積算) 에너지가 0.1 내지 50J/㎠로 될 정도로 하는 것이 바람직하다. 또한, 활성 에너지선의 조사 분위기로는, 공기 중이라도 좋고, 질소나 아르곤 등의 불활성 가스 분위기 중이라도 좋다. 이어서, 투광성 기재(9(101))와 활성 에너지선 경화 수지로 형성된 투광성 박막(102)으로 이루어지는 방현성 필름(100)을 롤 형상 금형(7)으로부터 이형(離型)한다.

이상과 같은 방현성 필름(100)의 제조 방법에 의하면, 롤 형상 금형(7)을 이용하여 연속하여 방현성 필름을 얻으므로, 형 부재의 내구성이 높고, 제품 수율이 향상되고, 생산성도 향상되며, 제조 비용의 절감도 가능하다. 또한, 이 방법에서는, 롤 형상 금형(7)의 형상 전사면을 블래스트 처리에 의해 형성하므로, 번쩍임 현상 발생의 감소를 가능하게 하는 미세 요철 구조를 용이하고, 또한 정확하게 형성할 수 있다.

투광성 박막(102)의 두께는, 예컨대 10 내지 50㎛, 바람직하게는 15 내지 40㎛, 더욱 바람직하게는 20 내지 30㎛이다. 투광성 박막(102)의 두께는, 너무 얇으면 약간의 막 두께 얼룩에 의해 광학 특성이 불안정하게 되기 쉽고, 너무 두꺼우면 휨이 발생하기 쉽게 되어, 유연성이 저하되기 쉽고, 재료 비용이 상승하기 쉽게 된다.

투광성 박막(102)의 미세 요철 구조면은, 상처가 나지 않게 하기 위해서는, 연필 경도 5H 이상의 경도를 갖는 것이 바람직하다.

투광성 박막(102)은, 예컨대 활성 에너지선 경화 수지로 이루어지고, 액정 표시 장치의 표시 화상의 휘도를 향상시키는 등의 점에서, 높은 굴절률을 갖는 것이 바람직하고, 구체적으로는, 그 굴절률이 1.49 이상, 더욱 바람직하게는 1.5 이상, 더욱 바람직하게는 1.6 이상이다. 투광성 박막(102)을 형성하는 활성 에너지선 경화 수지로는, 자외선, 전자선 등의 활성 에너지선으로 경화시킨 것이면 특별히 한정되지 않지만, 예컨대 폴리에스터류, 에폭시계 수지, 폴리에스터(메트)아크릴레이트, 에폭시(메트)아크릴레이트, 우레테인(메트)아크릴레이트 등의 (메트)아크릴레이트계 수지 등을 들 수 있다. 그 중에서도, (메트)아크릴레이트계 수지가 그 광학 특성 등의 관점에서 특히 바람직하다. 이러한 경화 수지에 사용되는 활성 에너지선 경화성 조성물로는, 취급성이나 경화성 등의 점에서, 다작용 아크릴레이트 및/또는 다작용 메타크릴레이트(이하, 다작용 (메트)아크릴레이트라고도 기재), 단작용의 아크릴레이트 및/또는 메타크릴레이트(이하, 모노 (메트)아크릴레이트라고도 기재) 및 활성 에너지선에 의한 광 중합 개시제를 주성분으로 하는 것이 바람직하다. 대표적인 다작용 (메트)아크릴레이트로는, 폴리올폴리(메트)아크릴레이트, 폴리에스터폴리(메트)아크릴레이트, 에폭시폴리(메트)아크릴레이트, 우레테인폴리(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상의 혼합물로서 사용된다. 또한, 모노 (메트)아크릴레이트로는, 모노 알코올의 (메트)아크릴산에스터, 폴리올의 (메트)아크릴산에스터 등을 들 수 있다. 특히, 투광성 박막(102)은 다작용 아크릴레이트를 주성분으로 하는 합성 수지로 이루어지는 것이 바람직하다.

또한, 오염 방지성을 부여하기 위해서는, 친수성 또는 불소계의 활성 에너지선 경화성 수지를 이용하는 것이 바람직하다.

투광성 박막(102)은 내부에 광 확산재를 포함하여도 좋다. 광 확산재로는, 실리카, 알루미나, 유리 등의 무기계 미립자나, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리스타이렌, 폴리우레테인, 아크릴-스타이렌 공중합체, 벤조구아나민, 멜라민 등의 가교 유기 미립자나, 실리콘계 미립자 등을 적절히 선택하여 사용할 수 있다. 또, 2종류 이상의 광 확산재를 목적에 따라 병용하여도 좋다. 광 확산재의 평균 입경은, 예컨대 2.0 내지 10㎛, 바람직하게는 3 내지 8㎛, 더욱 바람직하게는 3 내지 6㎛이다. 입경이 2㎛보다 작으면 착색이나 방현성 저하의 원인이 될 우려가 있고, 10㎛보다 크면 번쩍임이 강해지는 경향이 있다. 그러나, 상기 입경의 범위 내에서, 두 가지의 평균 입경의 확산재를 적절히 혼합하여 사용하여도 좋다. 광 확산재의 입경 분포에 있어서의 표준 편차는, 예컨대 5㎛ 이내이다. 광 확산재와 그것이 분산되는 투광성 박막 바인더의 굴절률 차이는, 예컨대 0.03 내지 0.09이다. 또한, 투광성 박막(102)에 대한 광 확산재의 중량 비율은, 예컨대 20% 이하, 바람직하게는 10% 이하, 더욱 바람직하게는 5% 이하이다.

투광성 기재(101)의 재료는, 자외선, 전자선 등의 활성 에너지선을 투과하는 것이 바람직하고, 이러한 것으로서, 유연한 유리판 등을 사용할 수도 있지만, 특히 복굴절성이 작은 트라이아세테이트(TAC) 필름이나, 상기 필름상에 하드 코팅이나 대전 방지 코팅을 실시한 투광성 기재를 사용하는 것이 바람직하다. 그 밖의 투광성 기재로는, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 및 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN) 등의 폴리에스터계 수지, 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA) 등의 아크릴계 수지, 다이아세틸셀룰로스 및 트라이아세틸셀룰로스 등의 셀룰로스계 수지, 폴리스타이렌(PSt) 및 아크릴로나이트릴·스타이렌 공중합체(AS) 등의 스타이렌계 수지, 폴리에틸렌(PE), 폴리프로필렌(PP), 환상 내지 노보넨 구조를 갖는 폴리올레핀 및 에틸렌·프로필렌 공중합체(EP) 등의 올레핀계 수지, 나일론 및 방향족 폴리아마이드(PA) 등의 폴리아마이드계 수지, 폴리카보네이트(PC)계 수지, 염화바이닐계 수지(PVC), 폴리메타크릴아마이드(PMI)계 수지 등의 투명 수지 시트나 필름이 바람직하다. 투광성 기재(101)의 두께는 강도나 취급성 등의 작업성 등의 점에서, 예컨대 10 내지 300㎛가 바람직하고, 20 내지 200㎛가 더욱 바람직하며, 30 내지 100㎛가 특히 바람직하다. 또, 투광성 기재(101)에는, 활성 에너지선 경화 수지로 이루어지는 투광성 박막(102)과 투광성 기재(101)의 밀착성을 향상시키기 위해, 그 표면에 앵커 코팅 처리 등의 밀착성 향상 처리를 실시하는 것이 바람직하다.

그런데, 도 1에 나타내는 바와 같이, 에지 라이트 방식의 면 광원 장치는 적어도 하나의 측단면을 광 입사 단면(31)으로 하고, 이것과 대략 직교하는 하나의 주표면을 광 출사면(33)으로 하는 판 형상의 도광체(3)와, 이 도광체(3)의 광 입사 단면(31)에 대향 배치되어 광원 리플렉터(2)로 덮인 선 형상의 일차 광원(1)과, 도광체(3)의 광 출사면 상에 배치된 광 편향 소자로서의 렌즈 시트인 프리즘 시트(4)와, 도광체(3)의 광 출사면(33)과는 반대쪽의 이면(34)에 대향하여 배치된 광 반사 소자(5)를 포함하여 구성되어 있다.

도광체(3)는 XY면과 평행하게 배치되어 있고, 전체로서 직사각형의 판 형상을 이루고 있다. 도광체(3)는 4개의 측단면을 갖고 있고, 그 중 YZ면과 평행한 한 쌍의 측단면 중 적어도 하나의 측단면을 광 입사 단면(31)으로 한다. 광 입사 단면(31)은 일차 광원(1)과 대향 배치되어 있고, 일차 광원(1)으로부터 발생한 광은 광 입사 단면(31)에 입사되어 도광체(3) 내로 도입된다. 본 발명에 있어서는, 예컨대 광 입사 단면(31)과는 반대쪽의 측단면(32) 등의 다른 측단면에도 광원을 대향 배치하여도 좋다.

도광체(3)의 광 입사 단면(31)에 대략 직교한 2개의 주면은, 각각 XY면과 대략 평행하게 위치하고, 어느 한쪽의 면(도면에서는 상면)이 광 출사면(33)으로 된다. 이 광 출사면(33)에 조면(粗面)이나 렌즈열로 이루어지는 지향성 광 출사 기구를 부여함으로써, 광 입사 단면(31)으로부터 입사한 광을 도광체(3) 중을 도광시키면서 광 출사면(33)으로부터 광 입사 단면(31) 및 광 출사면(33)에 직교하는 면(XZ면) 내에서 지향성이 있는 광을 출사시킨다. 이 XZ면 내 분포에 있어서의 출사광 광도 분포의 피크의 방향(피크광)이 광 출사면(33)과 이루는 각도를 α로 한다. 각도 α는, 예컨대 10 내지 40도이며, 출사광 광도 분포의 반치전폭은, 예컨대 10 내지 40도이다.

도광체(3)의 표면에 형성하는 조면이나 렌즈열은 ISO4287/1-1984에 의한 평균 경사각 θa가 0.5 내지 15도의 범위인 것으로 하는 것이, 광 출사면(33) 내에서의 휘도의 균제도(均齊度)를 도모하는 점에서 바람직하다. 평균 경사각 θa는 더욱 바람직하게는 1 내지 12도의 범위이며, 보다 더 바람직하게는 1.5 내지 11도의 범위이다. 이 평균 경사각 θa는 도광체(3)의 두께(d)와 입사광이 전파하는 방향의 길이(L)의 비(L/d)에 의해 최적 범위가 설정되는 것이 바람직하다. 즉, 도광체(3)로서 L/d가 20 내지 200 정도인 것을 사용하는 경우는, 평균 경사각 θa를 0.5 내지 7.5도로 하는 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 1 내지 5도의 범위이며, 보다 더 바람직하게는 1.5 내지 4도의 범위이다. 또한, 도광체(3)로서 L/d가 20 이하 정도인 것을 사용하는 경우는, 평균 경사각 θa를 7 내지 12도로 하는 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 8 내지 11도의 범위이다.

도광체(3)에 형성되는 조면의 평균 경사각 θa는 JIS B0601:'82, 및 B0031:'82에 따라, 촉침식 표면 조도계를 이용하여 조면 형상을 측정하고, 측정 방향의 좌표를 x로 하여, 얻어진 단면 곡선 함수 f(x)부터 다음 수학식 1 및 수학식 2

를 이용하여 구할 수 있다. 여기서, L은 측정 길이이며, Δa는 평균 경사각 θa의 정접이다.

또한, 도광체(3)로서는, 그 광 출사율이 0.5 내지 5%의 범위에 있는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1 내지 3%의 범위이다. 광 출사율을 0.5% 이상으로 함으로써, 도광체(3)로부터 출사하는 광량이 많아져 충분한 휘도가 얻어지는 경향이 있다. 또한, 광 출사율을 5% 이하로 함으로써, 일차 광원(1)의 근방에서의 다량의 광의 출사가 방지되고, 광 출사면(33) 내에서의 X 방향으로부터의 출사광의 감쇠가 작아져, 광 출사면(33)에서의 휘도의 균제도가 향상되는 경향이 있다. 이와 같이 도광체(3)의 광 출사율을 0.5 내지 5%로 함으로써, 광 출사면로부터 출사하는 광의 출사광 광도 분포(XZ면 내)에서의 피크광의 각도가 광 출사면의 법선에 대하여 50 내지 80도의 범위에 있고, 광 입사 단면과 광 출사면의 쌍방에 수직인 XZ면에서의 출사광 광도 분포(XZ면 내)의 반치전폭이 10 내지 40도인 지향성이 높은 출사 특성의 광을 도광체(3)로부터 출사할 수 있어, 그 출사 방향을 프리즘 시트(4)에 의해 효율적으로 편향시킬 수 있어, 높은 휘도를 갖는 면 광원 장치를 제공할 수 있다.

본 발명에 있어서, 도광체(3)로부터의 광 출사율은 다음과 같이 정의된다. 광 출사면(33)의 광 입사 단면(31) 측의 단부 가장자리에서의 출사광의 광 강도(I₀)와, 광 입사 단면(31) 측의 단부 가장자리로부터 거리 L의 위치에서의 출사광 강도(I)와의 관계는 도광체(3)의 두께(Z 방향 치수)를 d라고 하면, 다음 수학식 3

과 같은 관계를 만족한다. 여기서, 정수 A가 광 출사율이며, 광 출사면(33)에서의 광 입사 단면(31)과 직교하는 X 방향에서의 단위 길이(도광체 두께 d에 상당하는 길이)당 도광체(3)로부터 광이 출사하는 비율(백분률:%)이다. 이 광 출사율 A는 세로축에 광 출사면(23)으로부터의 출사광의 광 강도의 대수(對數)를 취하고, 횡축에 (L/d)를 취하여, 이들의 관계를 플로팅함으로써, 그 기울기로부터 구할 수 있다.

또, 본 발명에서는, 상기한 바와 같이 하여 광 출사면(33)에 광 출사 기구를 형성하는 대신, 혹은 이것과 병용하여, 도광체 내부에 광 확산성 미립자를 혼입 분산함으로써 지향성 광 출사 기구를 부여할 수도 있다.

또한, 지향성 광 출사 기구가 부여되지 않은 주면인 이면(34)은 도광체(3)로부터의 출사광의 일차 광원(1)과 평행한 면(YZ면)에서의 지향성을 제어하기 위해, 광 입사 단면(31)을 가로지르는 방향으로, 보다 구체적으로는 광 입사 단면(31)에 대하여 대략 수직의 방향(X 방향)으로 연장하는 다수의 프리즘 열을 배열한 프리즘 열 형성면으로 되어 있다. 이 도광체(3)의 이면(34)의 프리즘 열은, 배열 피치를, 예컨대 10 내지 100㎛의 범위, 바람직하게는 30 내지 60㎛의 범위로 할 수 있다. 또한, 이 도광체(3)의 이면(34)의 프리즘 열은 꼭지각을, 예컨대 85 내지 110도의 범위로 할 수 있다. 이것은 꼭지각을 이 범위로 하는 것에 의해 도광체(3)로부터의 출사광을 적절히 집광시킬 수 있어, 면 광원 장치로서의 휘도 향상을 도모할 수 있기 때문이며, 꼭지각은 더욱 바람직하게는 90 내지 100도의 범위이다.

프리즘 시트(4)는 도광체(3)의 광 출사면(33) 상에 배치되어 있다. 프리즘 시트(4)는 시트 형상 투광성 부재로 이루어지고, 그 2개의 주면인 제 1 면(41) 및 제 2 면(42)은 전체로서 서로 평행하게 배열되어 있고, 각각 전체로서 XY면과 평행하게 위치한다. 한쪽 주면인 제 1 면(41)(도광체(3)의 광 출사면(33)에 대향하여 위치하는 주면)이 입광면으로 되어 있고, 다른 쪽 주면(42)이 출광면으로 되어 있다. 입광면(41)은 복수의 Y 방향으로 연장하는 프리즘 열이 서로 평행하게 배열된 프리즘 열 형성면으로 되어 있다. 출광면(42)은 평탄면으로 되어 있다.

도 4에는, 프리즘 시트(4)에 의한 XZ면 내에서의 광 편향의 모양이 모식적으로 나타내어져 있다. 이 도면에서는, XZ면 내에서의 도광체(3)로부터의 피크광(출사광 분포의 피크에 대응하는 광)의 진행 방향의 일례가 나타내어져 있다. 도광체(3)의 광 출사면(33)으로부터 각도 α로 비스듬히 출사되는 피크광의 대부분은 프리즘 열(411)의 제 1 프리즘면(411a)에 입사되고, 제 2 프리즘면(411b)에 의해 대부분 내면 전반사되어 거의 출광면(42)의 법선의 방향으로 진행하며, 출광면(42)으로부터 출광된다. 이 광의 분포에서의 반치전폭은 도광체로부터의 출사광 분포와 거의 동등하며, 40도 이하, 예컨대 10 내지 40도이다. 또한, YZ면 내에서는, 상기와 같은 도광체 이면(34)의 프리즘 열의 작용도 있어, 광범위한 영역에서 출광면(42)의 법선 방향 휘도의 충분한 향상을 도모할 수 있다.

또한, 프리즘 시트(4)의 프리즘 열(411)의 프리즘면(411a, 411b)의 형상은 단일 평면에 한정되지 않고, 예컨대 단면 볼록 다각형 형상 또는 볼록 곡면 형상으로 할 수 있고, 이것에 의해, 한층 더 고휘도화나 좁은 시야화를 도모할 수 있다.

프리즘 시트(4)에 있어서는, 원하는 프리즘 열 형상을 정확하게 제작하고, 안정한 광학 성능을 얻음과 아울러, 조립 작업 시나 광원 장치의 사용 시에서의 프리즘 열 정부(頂部)의 마모나 변형을 억제할 목적으로, 프리즘 열의 정부에 정부 평탄부 또는 정부 곡면부를 형성할 수도 있다. 이 경우, 정부 평탄부 또는 정부 곡면부의 폭은 3㎛ 이하로 하는 것이, 면 광원 장치로서의 휘도 저하나 스티킹 현상에 의한 휘도의 불균일 패턴 발생을 억제하는 관점에서 바람직하고, 더욱 바람직 하게는 정부 평탄부 또는 정부 곡면부의 폭은 2㎛ 이하이며, 더더욱 바람직하게는 1㎛ 이하이다.

일차 광원(1)은 Y 방향으로 연장하는 선 형상의 광원이며, 상기 일차 광원(1)으로는, 예컨대 형광 램프나 냉음극관을 이용할 수 있다. 이 경우, 일차 광원(1)은, 도 1에 나타낸 바와 같이, 도광체(3)의 한쪽 측단면에 대향하여 마련하는 경우뿐만 아니라, 필요에 따라 반대쪽의 측단면에도 더 마련할 수도 있다.

광원 리플렉터(2)는 일차 광원(1)의 광을 손실이 적게 도광체(3)로 안내하는 것이다. 그 재질로는, 예컨대 표면에 금속 증착 반사층을 갖는 플라스틱 필름을 이용할 수 있다. 도시되어 있는 바와 같이, 광원 리플렉터(2)는 프리즘 시트(4)를 피하여, 광 반사 소자(5)의 단부 가장자리 외면으로부터 일차 광원(1)의 외면을 거쳐 도광체(3)의 광 출사면의 단부 가장자리에 감겨져 있다. 한편, 광원 리플렉터(2)는 광 반사 소자(5)의 단부 가장자리 외면으로부터 일차 광원(1)의 외면을 거쳐 프리즘 시트(4)의 출광면 단부 가장자리로 감겨지는 것도 가능하다. 이러한 광원 리플렉터(2)와 마찬가지의 반사 부재를, 도광체(3)의 광 입사 단면(31) 이외의 측단면에 부착하는 것도 가능하다.

광 반사 소자(5)로는, 예컨대 표면에 금속 증착 반사층을 갖는 플라스틱 시트를 이용할 수 있다. 본 발명에 있어서는, 광 반사 소자(5)로서 반사 시트 대신, 도광체(3)의 이면(34)에 금속 증착 등에 의해 형성된 광 반사층 등을 이용하는 것도 가능하다.

본 실시 형태에 있어서는, 면 광원 장치로서, 프리즘 시트(4)의 입광면(41) 에 형성된 프리즘 열의 프리즘면에서의 내면 반사를 이용하는 것을 사용하고 있으므로, 상기 면 광원 장치의 발광면으로부터 발해지는 광의 지향성이 높다. 이것에 근거하여, 액정 표시 장치의 표시면으로부터 출사하는 광의 분포에서의 반치전폭도, 예컨대 40도 이하, 바람직하게는 30도 이하, 더욱 바람직하게는 25도 이하로 된다. 이러한 지향성이 강한 표시 장치에 있어서는, 번쩍임(스페클)이 강하게 발생하는 경향이 있다. 그러나, 본 실시 형태에 있어서는, 방현성 필름(100)을 사용하고 있으므로, 이와 같은 번쩍임을 효과적으로 방지할 수 있다. 즉, 본 발명의 방현성 필름은 입사하는 광의 분포의 반치전폭이 40도 이하의 지향성이 높은 표시 장치에 대하여 번쩍임 방지의 효과가 효과적으로 발휘된다.

이상의 실시 형태에서는 투광성 기재(101)의 한쪽 주면에만 투광성 박막(102)을 접합하여 방현성 필름을 형성하고 있지만, 본 발명에 있어서는, 투광성 기재(101)의 쌍방의 주면에 투광성 박막(102)을 접합하여 방현성 필름을 형성할 수도 있다.

이하, 본 발명을 실시예에 의해 더욱 구체적으로 설명한다.

[실시예 1]

직경 200㎜ 및 길이 600㎜의 롤 형상의 철(鐵) 부재의 외주면에 두께 300㎛의 구리 도금을 실시하고, 그 위에 구리의 산화 방지를 위해 니켈 도금을 실시한 롤 형상 부재를, 회전축 중심으로 10도 스텝으로 회전시켜 정지시킨다. 각 정지상태에서, 도 2에서 설명한 바와 같이 하여 블래스트 노즐(104)로부터 블래스트 입자를 토출시켜 블래스트 처리를 실시하였다. 이 블래스트 처리에서는, 롤 형상 부재의 표면으로부터 220㎜ 떨어진 위치에 토출 구경 8㎜φ의 블래스트 노즐을 배치하고, 롤 형상 부재의 회전 중심을 향하여 중심 입경 15 내지 20㎛, 상한 입경 21㎛의 구 형상의 세라믹 비드 분말을 분사하였다. 블래스트 입자의 토출압을, 각각 0.2㎫로 하였다. 이것에 의해, 외주면에 미세 요철 구조를 갖는 롤 형상 금형을 수득하였다.

이어서, 도 3에서 설명한 바와 같이 하여, 상기 롤 틀과 고무 닙 롤을 평행하게 인접 배치하고, 그들 사이에 두께 188㎛의 PET 필름(도요 방적사 제품, 상품명 A4300)으로 이루어지는 투광성 기재를 롤 형을 따라 공급하고, 고무 닙 롤에 접속한 공기압 실린더에 의해, 고무 닙 롤과 롤 형상 틀 사이에서 투광성 기재를 니핑하였다.

한편, 이하의 자외선 경화성 조성물

페녹시에틸아크릴레이트(오사카 유기 화학 공업사 제품 비스코트 #192): 50중량부

비스페놀A-다이에폭시-아크릴레이트(교에샤 유지 화학 공업사 제품 에폭시에스터 3000A): 50중량부

2-하이드록시-2-메틸-1-페닐-프로페인-1-온(치바 가이기사 제품 델로큐어 1173): 1.5중량부

를 점도 300mPa·S/25℃로 조정하였다.

이 자외선 경화성 조성물을, 고무 닙 롤에 의해 롤 형상 틀에 니핑되어 있는 투광성 기재의 한쪽 표면에 공급하였다. 롤 형상 틀을 회전시키면서, 자외선 경화성 조성물이 롤 형상 틀과 투광성 기재 사이에 껴진 상태에서, 자외선 조사 장치로부터 자외선을 조사하고, 자외선 경화성 조성물을 중합 경화시켜 롤 형상 틀의 형상 전사면의 미세 요철 구조를 전사시켰다. 그 후, 롤 형상 틀로부터 이형하고, 방현성 필름을 수득하였다.

얻어진 방현성 필름에 대하여, 하기의 방법으로 특성을 측정하고, 또한 육안 평가하였다. 그 결과를, 이하의 표 1에 나타낸다.

<특성 측정 및 육안 평가의 방법>

(1) 헤이즈값(㎐), 전광선 투과율(Tt) 및 확산 투과율(Dfs)은 헤이즈 미터 NDH2000(일본 덴세기 공업사 제품)을 이용하여, JIS K7361-1, K7105, K7136에 따라 측정하였다.

(2) 표면 요철 피치(Sm), 국부 산정의 평균 간격(S), 산술 평균 조도(Ra), 10점 평균 조도(Rz) 및 산술 평균 경사각(RΔa)은, 촉침 조도계 SURFCOM1400LCD(도쿄 정밀 제품)를 이용하여, JISB0601:'94 및 B0031:'94에 따라 측정하였다. 또, 산술 평균 경사각(RΔa)은 촉침 조도계의 측정 방향의 좌표를 x로 하여, 얻어진 조도 곡선 함수 g(x)부터 다음 수학식 4

를 이용하여 구할 수 있다. 여기서, L은 측정 길이이다.

(3) 법선 휘도 저하율 측정은, 반치전폭이 17도이고, 출사광 피크 각도가 법선(0도)±0.5도에 위치하고, 또한 단일 피크 출사광 분포 특성을 갖는, 14.1인치 크기의 고지향성 면 광원 장치를 준비하고, 그 위에 상기 제작된 방현성 필름을 탑재하고, 탑재하기 전의 법선 휘도를 기준으로서 법선 휘도의 저하율(α)을 구하였다. 상기 휘도 측정에 관해서는 수광기로서 탑콘 제품 BM7을 사용하였다.

(4) 방현 성능의 육안 평가는 150x150㎜의 평판 아크릴 수지에 상기 방현성 필름을 부착하여 고정하고, 그 위쪽 2,000㎜의 40형 원통 형상 형광등의 이동을 대략 법선 방향으로부터 관찰하는 것으로 행한, 상기 형광등의 윤곽 형상이 어느 정도 시인되는 지로써 방현 성능을 육안 판단하였다.

(5) 번쩍임에 관해서는, 상기 (3)에서 사용한 고지향성의 면 광원 장치 상에 상기 방현성 필름을 탑재하여, 암실 중에서 그 번쩍임 정도를 육안 관찰로 평가하였다.

(6) 결함 은폐성에 관해서는, 이하의 방법으로 평가하였다. 냉음극관을 측면에 배치한 15인치 크기의 아크릴 수지제 도광체의 광 출사면 상에, 투광성 박막이 부여되어 있지 않은 프리즘 시트를 프리즘 열 형성면이 하향하도록 탑재하고, 도광체의 측면 및 이면을 반사 시트로 덮어, 면 광원 장치를 수득하였다. 이 프리 즘 시트의 프리즘 열 형성면과는 반대쪽의 평탄면, 즉 투광성 기재의 주면 상에, 여러 가지의 공간 주파수를 갖는 줄무늬 모양 패턴이 형성된 차트(두께 1.5㎜)를, 줄무늬 모양이 형성되어 있는 면을 하향으로 하여 싣고, 또한 그 위에 상기의 광 확산성 광학 필름을 요철 구조를 구비한 면을 상향으로 하여 실었다. 여기서 줄무늬 모양 패턴은 백색 라인과 흑색 라인과의 조합을 1라인 쌍으로 하고, 이 라인 쌍이 1㎜ 폭 중에 몇 조 설치되어 있는지를 공간 주파수로서 나타낸다. 광 확산성 광학 필름 상에서 차트의 줄무늬 모양을 보았을 때에, 몇 라인 쌍 이상의 줄무늬 모양이 육안으로 식별할 수 없게 되는지를 조사하고, 그 라인 쌍 개수를 그 광 확산성 광학 필름의 은폐도로 정의한다. 단위로는 lp/㎜를 이용하고, 이 값이 작을수록 광학 필름의 은폐성은 높다는 것을 나타내고 있다.

[실시예 2 내지 5]

블래스트 입자를 중심 입경 10 내지 35㎛, 상한 입경 45㎛의 구 형상의 유리 비드로 하고, 블래스트 입자의 토출압을, 각각 0.3㎫, 0.4㎫, 0.5㎫ 및 0.6㎫로 한 이외는 상기 실시예 1과 마찬가지의 수법으로, 롤 금형 외주면에 미세 요철 구조를 형성하고, 자외선 경화성 조성물을 이용하여 방현성 필름을 제작하고, 평가하였다. 그 결과를, 이하의 표 1에 나타낸다.

[실시예 6]

블래스트 처리에서, 블래스트 입자로서 중심 입경 45 내지 75㎛ 및 상한 입경 106㎛인 구형 유리 비드를 이용하고, 토출압을 0.4㎫로 한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지의 방법으로 하여 방현성 필름을 제작하고, 평가하였다. 그 결과를, 이하의 표 1에 나타낸다.

[실시예 7 내지 10]

니켈 도금을 실시하지 않은 롤 금형에 대하여 블래스트 가공을 한 것, 및 블래스트 조건을 표 1과 같이 한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지의 방법으로 방현성 필름을 제작하였다. 표 1에 제작한 방현성 필름의 매트 특성과 평가 결과를 나타낸다.

[실시예 11]

직경 200㎜ 및 길이 600㎜의 롤 형상의 철 부재의 외주면에 두께 300㎛의 구리 도금을 실시하고, 그 위에 구리의 산화 방지를 위해 니켈 도금을 실시한 롤 형상 부재를, 회전축을 중심으로 1분간 20회의 회전 속도로 연속 회전시켰다. 롤 형상 부재를 회전시킨 채로, 도 2에 관하여 설명한 바와 같이 하여 블래스트 노즐(104)로부터 블래스트 입자를 토출시켜 블래스트 처리를 실시하였다. 이 블래스트 처리에서는, 롤 형상 부재의 표면으로부터 220㎜ 떨어진 위치에 토출 구경 8㎜φ의 블래스트 노즐을 배치하고, 롤 형상 부재의 회전 중심을 향해 중심 입경 15 내지 20㎛, 상한 입경 41㎛인 구 형상의 세라믹 비드 분말을 분사하였다. 블래스트 입자의 토출압을 0.1㎫로 하였다. 이것에 의해, 외주면에 미세 요철 구조를 갖는 롤 형상 금형을 수득하였다. 이러한 롤 형상 금형을 이용하여, 실시예 1과 마찬가지로 방현성 필름을 제작하고, 평가하였다. 그 결과를 표 1에 나타낸다.

[실시예 12 내지 20]

롤 형상 부재와 블래스트 노즐간 거리를 표 1과 같이 한 이외에는 상기 실시 예 11과 마찬가지의 수법으로, 롤 금형 외주면에 미세 요철 구조를 형성하고, 자외선 경화성 조성물을 이용하여 방현성 필름을 제작하고, 평가하였다. 그 결과를 이하의 표 1에 나타낸다.

[비교예 1]

블래스트 처리에 있어서, 블래스트 입자로서 중심 입경 45 내지 75㎛ 및 상한 입경 106㎛의 구형 유리 비드를 이용하고, 토출압을 0.5㎫로 한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지의 방법으로 하여 방현성 필름을 제작하고, 평가하였다. 그 결과를 이하의 표 1에 나타낸다.

[비교예 2]

표면의 미세 요철 구조를 얻기 위해, 평균 입경 5㎛의 아크릴계 확산재 미립자와 바인더 수지를 톨루엔/MEK=60/40(중량비)의 혼합 용매에 용해한 도공액을 조정(調整)하고 이것을 PET 기재 필름에 그라비아 코팅한 후, 용매를 건조 제거시켰다. 이것에 의해, 두께 6㎛로 표면에 미세 요철 구조를 갖는 방현성 필름을 수득하였다. 상기 바인더 수지로서는, 폴리에스터폴리올/아이소사이아네이트계 혼합 수지(Byron200)를 이용하고, 이것에 상기 아크릴계 확산 미립자(소켄 화학 제품)를 바인더 수지에 대하여 5:95로 혼합하고, 총 고형분으로서 이용하였다. 상기 고형분 농도는 도공액의 20%가 되도록 조정하였다.

이상의 방법에 의해 코팅 프로세스로 제작한 방현성 필름에 대하여, 실시예 1과 마찬가지의 방법으로 평가하였다. 그 결과를 이하의 표 1에 나타낸다.

이하, 본 발명의 광 확산 필름에 대하여, 실시예에 의해 더욱 구체적으로 설명한다.

[실시예 21]

<평가 방법>

(1) 헤이즈값(㎐), 전광선 투과율(Tt), 확산 투과율(Dfs): 상기와 마찬가지로 행하였다.

(2) 표면 요철 피치(Sm), 국부 산정의 평균 간격(S), 산술 평균 조도(Ra), 10점 평균 조도(Rz), 산술 평균 경사각(RΔa): 상기와 마찬가지로 행하였다.

(3) 번쩍임 평가: 냉음극관을 측면에 배치한 15인치 크기의 아크릴 수지제 도광체의 광 출사면 상에, 14.1인치 크기의 전반사형 프리즘 시트 M268YK(미쓰비시 레이온 제품)를 프리즘 열 형성면이 하향하도록 탑재하고, 도광체의 측면 및 이면을 반사 시트로 덮어, 면 광원 장치를 얻었다. 얻어진 면 광원 장치는 반치전폭이 17도이고, 출사광 피크 각도가 법선(0도)±0.5도에 위치하고, 또한 단일 피크 출사광 분포 특성을 갖고 있었다. 그 위에, 제작된 확산 필름을 탑재하여, 암실 내에서 번쩍임 정도를 육안 평가하였다. 또한, 법선 휘도 저하율(α)을 BM7(탑콘사 제품)을 이용하여 평가하였다. 단, 이면에 렌즈열을 부여한 것(실시예 53 내지 84)은 상기 14.1인치 도광판 위에 상기 M268YK 대신 본 시작(試作)의 렌즈열 부착 광 확산 필름을 탑재하여 번쩍임을 육안 평가하였다.

(4) 결함 은폐성: (3)의 면 광원 장치의 프리즘 시트의 프리즘 열 형성면과는 반대쪽의 평탄면, 즉 투광성 기재의 주면 상에, 여러 가지의 공간 주파수를 갖는 줄무늬 모양 패턴이 형성된 차트(두께 1.5㎜)를, 줄무늬 모양이 형성되어 있는 면을 하향으로 하여 싣고, 다시금 그 위에 상기한 광 확산성 광학 필름의 요철 구조를 마련하고 있는 면을 상향으로 하여 싣는다. 여기서 줄무늬 모양 패턴은 백색 라인과 흑색 라인의 조합을 1라인 쌍으로 하고, 이 라인 쌍이 1㎜의 폭 내에 몇 조 마련되어 있는가를 공간 주파수로서 나타내는 것이다. 광 확산성 광학 필름 상에서 차트의 줄무늬 모양을 보았을 때에, 몇 라인 쌍 이상의 줄무늬 모양이 육안으로 식별할 수 없게 되는지를 조사하고, 그 라인 쌍 수를 그 광 확산성 광학 필름의 은폐도로 정의한다. 단위로는 lp/㎜을 이용하고, 이 값이 작을수록 광학 필름의 은폐성은 높다는 것을 나타내고 있다.

<샘플 제작>

직경 200㎜Φ, 길이 730㎜의 철심 외주부에 300㎛의 구리 도금을 실시하고, 다시금 구리의 산화 방지를 위해 니켈 도금을 실시한 롤 금형을 제작하고, 이것을 10도 스텝으로 회전시키면서 그 때마다 블래스트 가공을 하였다. 블래스트 가공은, 표 2에 나타낸 바와 같이, 롤 표면으로부터 220㎜의 거리에 8㎜φ의 블래스트 노즐을 배치하고, 상기 롤 금형의 회전 중심을 향해 토출압 0.2㎫로 연마재를 내뿜어 가공을 하였다. 상기 연마재에는, 중심 입경이 15 내지 20㎛, 상한 입자 직경이 41㎛인 구형 세라믹 비드(#1000)를 이용하고, 이들을 상기 금형 전면에 분사하여, 미세 요철 형상을 갖는 롤 금형을 제작하였다.

이어서, 상기 롤 틀과 고무 닙 롤을 평행하게 인접 배치하고, 그들 사이에 두께 188㎛의 PET 필름(도요 방적사 제품, 상품명 A4300)으로 이루어지는 투광성 기재를 롤 틀을 따라 공급하고, 고무 롤에 접속한 공기압 실린더에 의해, 고무 롤과 롤 틀 사이에 투광성 기재를 니핑하였다.

한편, 이하의 자외선 경화성 조성물

페녹시에틸아크릴레이트(오사카 유기 화학 공업사 제품 비스코트 #192): 50중량부

비스페놀A-다이에폭시-아크릴레이트(교에샤 유지 화학 공업사 제품 에폭시에스터 3000A): 50중량부

2-하이드록시-2-메틸-1-페닐-프로페인-1-온(치바 가이기사 제품 델로큐어 1173): 1.5중량부

에, 상기 자외선 경화 수지와의 굴절률 차이가 0.08, 입경 3㎛인 실리콘 미립자(토스파 130: 도시바 실리콘사 제품)를 10중량부 더 혼합하여, 점도 300mPa·S/25℃로 조정하였다.

이 자외선 경화성 조성물을, 고무 롤에 의해 롤 틀로 니핑하는 투광성 기재의 한쪽 표면에 공급하였다. 롤 틀을 회전시키면서, 자외선 경화성 조성물이 롤 틀과 투광성 기재 사이에 껴진 상태로, 자외선 조사 장치로부터 자외선을 조사하고, 자외선 경화성 조성물을 중합 경화시켜 롤 틀의 형상 전사면의 요철 구조를 전사시켰다. 그 후, 롤 틀로부터 이형하여, 광 확산 필름을 수득하였다. 표 2에 제작한 광 확산 필름의 매트 특성과 평가 결과를 나타낸다.

[실시예 22 내지 29]

블래스트 가공 시에, 중심 입경이 10 내지 35㎛이고 상한 입경이 45㎛인 구형 유리 비드를 이용하고, 블래스트 거리 및 블래스트 토출압을 표 2와 같이 한 것 이외에는, 실시예 21과 마찬가지의 방법으로 광 확산 필름을 제작하였다. 표 2에 제작한 광 확산 필름의 매트 특성과 평가 결과를 나타낸다.

[실시예 30 내지 44]

블래스트 가공 시에, 중심 입경, 상한 입경, 블래스트 거리, 회전축 주위의 스텝 각도 및 블래스트 토출압을 표 2와 같이 한 것, 또한 롤 형상 부재에 상기 니켈 도금을 실시하지 않은 것 이외에는, 실시예 21과 마찬가지의 방법으로 광 확산 필름을 제작하였다. 표 2에 제작한 광 확산 필름의 매트 특성과 평가 결과를 나타낸다.

[실시예 45]

직경 200㎜ 및 길이 600㎜의 롤 형상의 철 부재의 외주면에 두께 300㎛의 구리 도금을 실시하고, 그 위에 구리의 산화 방지를 위해 니켈 도금을 실시한 롤 형상 부재를, 회전축을 중심으로 1분간에 20회의 회전 속도로 연속 회전시켰다. 롤 형상 부재를 회전시킨 채로, 도 1에 관해서 설명한 바와 같이 하여 블래스트 노즐(104)로부터 블래스트 입자를 토출시켜 블래스트 처리를 실시하였다. 이 블래스트 처리에서는, 롤 형상 부재의 표면으로부터 320㎜ 떨어진 위치에 토출 구경 8㎜φ의 블래스트 노즐을 배치하고, 롤 형상 부재의 회전 중심을 향하여 중심 입경 10 내지 42㎛, 상한 입경 63㎛인 구 형상의 세라믹 비드 분말을 분사하였다. 블래스트 입자의 토출압을 0.1㎫로 하였다. 이것에 의해, 외주면에 미세 요철 구조를 갖는 롤 형상 금형을 수득하였다. 이러한 롤 형상 금형을 이용하고, 실리콘 미립자를 이용하지 않은 것 이외에는 실시예 21과 마찬가지로 하여 광 확산 필름을 제작하고, 평가하였다. 그 결과를 표 2에 나타낸다.

[실시예 46 내지 52]

블래스트 가공에서, 중심 입경, 상한 입경, 블래스트 거리 및 블래스트 토출압을 표 2와 같이 한 것 이외에는, 실시예 45와 마찬가지의 방법으로 광 확산 필름을 제작하였다. 표 2에 제작한 광 확산 필름의 매트 특성과 평가 결과를 나타낸다. 또, 실시예 49의 결함 은폐성은 6.3[lp/㎜]이며, 실시예 52의 결함 은폐성은 18.0[lp/㎜]이었다.

[비교예 3]

블래스트 가공에서, 중심 입경이 10 내지 42㎛이고 상한 입경이 63㎛인 구형 유리 비드를 이용한 것 이외에는, 실시예 26과 마찬가지의 방법으로 광 확산 필름을 제작하였다. 표 2에 제작한 광 확산 필름의 매트 특성과 평가 결과를 나타낸다.

[비교예 4]

블래스트 가공에서, 중심 입경이 45 내지 75㎛이고 상한 입경이 106㎛인 구형 유리 비드를 이용한 것 이외에는, 실시예 49와 마찬가지의 방법으로 광 확산 필름을 제작하였다. 표 2에 제작한 광 확산 필름의 매트 특성과 평가 결과를 나타낸다.

[비교예 5]

평균 입경 5㎛의 아크릴계 확산재 미립자와 바인더 수지를 톨루엔/MEK= 60/40(중량비)의 혼합 용매에 용해한 도공액(塗工液)을 조정하고, 이것을 PET 기재 필름에 그라비아 코팅한 후, 용매 건조 제거 공정을 거쳐 6㎛ 두께의 미세 요철 구조를 갖는 필름을 수득하였다. 상기 바인더 수지로는, 폴리에스터폴리올/아이소사이아네이트계 혼합 수지(Byron200)를 이용하고, 이것에 상기 아크릴계 확산 미립자(소켄 화학 제품)를 바인더 수지에 대하여 87:13으로 혼합하고, 토털 고형분으로서 이용하였다. 상기 고형분 농도는 도공액의 20%가 되도록 조정하였다.

이상의 방법에 의해 코팅 프로세스로 제작한 광 확산 필름을 샘플로서 이용한 것 이외에는, 실시예 21과 마찬가지의 방법으로 평가하였다. 표 2에 제작한 광 확산 필름 특성과 평가 결과를 나타낸다.

[실시예 53 내지 84]

실시예 21 내지 52의 모든 광 확산 필름의 이면 측에 병렬 배치의 다수의 프리즘 열을 부여한 형태의 광 확산 필름을 제작하였다. 프리즘 열을 부여하는 방법으로는, 상기 광 확산 필름의 자외선 경화 수지를 이용한 형상 전사 방법과 마찬가지의 수법을 이용하였다. 그 때에 사용하는 롤 틀은 정각(頂角) 68도의 단면이 삼각 형상인 다이아몬드 바이트를 이용하여, 롤 금형의 회전축 방향에 50㎛ 피치로 다수의 프리즘 열 절삭 가공을 행하는 것에 의해 제작하였다.

제작한 광 확산 필름을 이용하여 상기 14.1인치 크기의 백라이트를 구성하고, 암실에서 번쩍임의 육안 평가를 행한 결과, 모든 샘플에서, 상기 실시예 21 내지 44의 광 확산 필름의 번쩍임 평가 결과와 거의 마찬가지의 평가 결과가 얻어져, 번쩍임이 없는 렌즈 열이 부여된 확산 필름을 제작할 수 있었다.

Claims (16)

1. 롤 형상 금속 부재의 외주면에 블래스트 처리를 실시함으로써 상기 외주면에 미세 요철 구조를 형성하여 얻어진 롤 형상 금형과, 상기 롤 형상 금형의 외주면을 따라 배치되는 필름상 투광성 기재와의 사이에 활성 에너지선 경화성 수지 조성물을 공급하여, 상기 활성 에너지선 경화성 수지 조성물을 박막의 형태로 하고, 상기 박막의 표면에 상기 롤 형상 금형의 외주면의 미세 요철 구조를 전사하고, 상기 활성 에너지선 경화성 수지 조성물을 경화시켜 투광성 박막으로 하며, 상기 투광성 박막을 상기 투광성 기재의 표면에 접합하여 얻어지는 방현성 필름으로서,

   상기 투광성 박막의 미세 요철 구조를 갖는 표면의 산술 평균 경사각이 0.5 내지 3.5도인 것을 특징으로 하는 방현성 필름.
2. 제 1 항에 있어서,

   상기 블래스트 처리에서의 블래스트 입자는, 중심 입경이 5 내지 45㎛인 대략 구형(球形)의 연마재 미립자인 것을 특징으로 하는 방현성 필름.
3. 제 1 항에 있어서,

   상기 블래스트 처리에서의 블래스트 입자는, 상한 입경이 45㎛ 이하인 대략 구형의 연마재 미립자인 것을 특징으로 하는 방현성 필름.
4. 제 1 항에 있어서,

   상기 투광성 박막의 미세 요철 구조를 갖는 표면은, 국부 산정(山頂)의 평균 간격이 5 내지 30㎛인 것을 특징으로 하는 방현성 필름.
5. 제 1 항에 있어서,

   상기 투광성 박막의 미세 요철 구조를 갖는 표면은, 요철간 피치가 20 내지 60㎛인 것을 특징으로 하는 방현성 필름.
6. 제 1 항에 있어서,

   상기 투광성 박막의 미세 요철 구조를 갖는 표면은, 산술 평균 조도가 0.015 내지 0.3㎛이고, 10점 평균 조도가 0.1 내지 2㎛인 것을 특징으로 하는 방현성 필름.
7. 표시부와, 그 앞에 배치되는 제 1 항에 따른 방현성 필름을 구비한 표시 장치로서,

   상기 표시부로부터 상기 방현성 필름에 입사되는 광은 그 분포에서의 반치전폭이 40도 이하인 것을 특징으로 하는 표시 장치.
8. 제 7 항에 있어서,

   상기 표시부는 투과형 표시 소자와 상기 투과형 표시 소자의 배후에 배치된 에지 라이트 방식의 면 광원 장치를 포함하여 이루어지는 것이고,

   상기 면 광원 장치는 일차 광원과, 상기 일차 광원으로부터 발생하는 광이 도입되고 도광되어 출사하는 도광체와, 상기 도광체로부터의 출사광이 입광하도록 배치된 광 편향 소자를 구비하고 있고,

   상기 광 편향 소자는 입광면에 서로 평행하게 배치된 복수의 프리즘 열을 형성하여 이루어지는 프리즘 시트인

   것을 특징으로 하는 표시 장치.
9. 롤 형상 금형 표면을 블래스트 처리함으로써 얻어지는 불규칙한 미세 요철 구조를, 활성 에너지선 경화 수지를 이용하여 투명 기재 상에 전사 경화함으로써 얻어지는 광 확산 필름으로서,

   상기 미세 요철 구조의 국부 산정의 평균 간격 S는 5 내지 30㎛인 것을 특징으로 하는 광 확산 필름.
10. 제 9 항에 있어서,

    중심 입경 5 내지 45㎛의 대략 구형 연마재 미립자를 이용하여, 롤 형상 금형 표면을 블래스트 처리함으로써 얻어지는 광 확산 필름.
11. 제 9 항에 있어서,

    상한 입경이 70㎛ 이하인 연마재 미립자를 이용한 광 확산 필름.
12. 제 9 항에 있어서,

    상기 미세 요철 구조의 산술 평균 경사각 RΔa가 1.5 내지 9.0도인 광 확산 필름.
13. 제 9 항에 있어서,

    상기 미세 요철 구조의 요철간 피치 Sm이 20 내지 80㎛인 광 확산 필름.
14. 제 9 항에 있어서,

    상기 미세 요철 구조의 산술 평균 조도 Ra가 0.06 내지 0.7㎛이고, 10점 평균 조도 Rz가 0.5 내지 2.5㎛인 광 확산 필름.
15. 제 9 항에 있어서,

    상기 확산 필름의 이면에 프리즘이 부여된 광 확산 필름.
16. 일차 광원과, 상기 일차 광원의 광을 단면으로부터 입사하고 도광하여 출사면으로부터 출사시키는 도광판과, 상기 도광판으로부터 출사하는 광을 상기 출사면의 상방으로 편각하는 렌즈열이 부여된 광 확산 필름을 구비하고, 상기 광 확산 필름 상에 직접 액정 소자를 탑재하는 면 광원 시스템에 있어서,

    상기 광 확산 필름은, 롤 형상 금형 표면을 블래스트 처리함으로써 얻어지는 미세 요철 구조를, 활성 에너지선 경화 수지를 이용하여 투명 기재 상에 전사 경화함으로써 얻어지는 광 확산 필름이고,

    상기 미세 요철 구조의 국부 산정의 평균 간격 S가 10 내지 30㎛인

    것을 특징으로 하는 면 광원 시스템.

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