TWI378325B - Salt suitable for an acid generator and a chemically amplified resist composition containing the same - Google Patents
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Description
1378325 Λ .九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關一種適用於半導體精密加工用之化學放 大型阻劑組成物之酸產生劑之鹽’及含該鹽之化學放大型 阻劑組成物。 【先前技術】 採用钱刻術之半導體微製造業所使用之化學放大型阻 劑組成物包含一種酸產生劑,其包含藉由照光而產生酸之 I匕合物。 半導體微製造業需要形成具有改良之圖案圖形且具有 回解析度之圖案,因此期望有一種可產生此等圖案之化學 放大型阻劑組成物。 近來,已提出包含三笨基毓^金剛烷甲氧羰基二氟甲 鹽、對甲苯基二苯基毓全氟辛烷磺酸鹽等之化學放大 型阻劑組成物(例如:JP2〇〇4_456丨·Α),及一種可提供產生 #佳圖案圖形與較高解析度之圖案之化學放大型阻劑組成 【發明内容】 成二=的Γ供一種適於形成化學放大型阻劑組 Ρ圖幸_ 其可提供具有較轉析度且具有改 良圖案圖形之圖案,並提供一種製造該鹽之方法。 本發明另一個目的為提供合成該鹽之 製造該合成中間物或鹽之方法。 並&供 本發明另一個目的為提供含該鹽之化學放大型阻劑組 318075 5 1378325
(肛a) 1 . <5>如第〈卜至<4>項中任一項之鹽,其中γ (Illb)或(IIIc)所示之化合物之單價殘基: 式(Ilia)
式中,X】、X2與f分別獨立地代表⑷伸院基或⑻無鍵結, 且兩邊各有-個氫原子Μ為整數i至4,k為整數。至2, •且式(Ilia)、(mb)或(me)中至少—個氫原子可視f要經具 有1至6個碳原子之院基、具有!至6個碳原子之烧氧基、 具有1至4個碳原子之全氟烧基、具有^至6個碳原子之 羥炫基、羥基或氰基取代。 <6>如第<1>至<5>項中任一項之鹽,其中該鹽為式(IVa)或 (IVb)之一者:
318075 9
-、中p 、p與卩24具有如上述之相同定義。 —種式(V)g旨化合物
(V) Q2與η具有 式中,Μ代表Li、Na、K或Ag,γ環、Q1、 如上述之相同定義。 .<8>如第<7>項之酯化合物 '三氟甲基。 其中Q1與Q2分别為氟原子或 <9> 一種製造式(V)酯化合物之方法,其包括由將式(VI)醇 318075 10 1378325
Ο (VI) 式中’ Υί衣與η具有如上述之相同定義 以式(VII)羧酸酯化 Μ· 91 "〇3SpCO〇H CVff) Q2 中’Μ環、Q與Q2具有如上述之相同定義。 <10>—種製造鹽(I)之方法,其包括將式(v)酯化合物盥— (VIII)化合物反應: (M) A" Z* 式中,z 代表 f、α、βγ、I、Bf4、AsF6、SbF6 或 , 以及A+具有如上述之相同定義。 4 —種化學放大型阻劑組成物,其包含 鹽(I),與 樹脂,其所包含之結構單位具有對酸不安定之基團且其本 身不可溶或難溶於鹼性水溶液,但藉由酸之作用而二 鹼性水溶液中。 錢 <12>如第<ιι>項之組成物,其中屮與Q2分別為氟原子 三氟曱基。 μ 取 <13>如第<11>或<12>項之組成物,其中該樹脂所包含之結 構單位係衍生自具有龐大且對酸不安定之基團之單體。 318075 11 1378325 * · — <14>如第<13>項之組成物,其中該龐大且對酸不安定之基 團為2-烧基-2-金剛烧基或1-(1-金剛烧基)_1_燒基院基。 <15>如第<13>項之組成物,其中該具有龐大且對酸不安定 之基團之單體為(甲基)丙烯酸2-烷基-2-金剛烷基酯、(甲基) 丙烯酸1-(1-金剛烷基)-1-烷基烷基酯、5-降冰片烯_2·羧酸 2-烧基-2-金剛烧基g旨、5-降冰片烯-2-幾酸1_(1_金剛院 基)-1-烷基炫基酯、α-氯丙烯酸2-烷Ϊ-2-金剛烷基酯或α_ 氯丙烯酸1-(1-金剛烷基)-1_烷基烷基酯。 Ίΐ6>如第<11>至<15>項中任一項之組成物,其中該組成物 進一步包含驗性化合物。 <17>如第<11>至<16>項中任一項之組成物,其中Α+為選 自下列各物所組成群中至少一種陽離子:式(Ila)、式(111))、 式(lie)與式(lid)。 <18>如第<11>至<17>項中任一項之組成物,其中A+為式 (lie)之相對離子。 <19>如第<11>至<18>項中任一項之組成物,其中γ環為式 (ilia)、(Illb)或(IIIc)所示之化合物之單價殘基。 .<2〇>如第<11>至<19>項中任一項之組成物,其中該鹽為式 (IVa)或(IVb)中之一者。 【實施方式】 鹽(I)中’ Y環代表單環或多環烴基’其中一個 基團經-COO·基團取代’且γ環具有3至30個碳原子。單 環或多環烴基中至少一個氫原子可視需要經具有丨至6個 碳原子之烷基、具有1至6個碳原子之烷氧基、具有 12 318075 U78325 =子之王氣貌基、具有1至6個碳原子之減基' 經基或氰基取代。 Q與Q分别獨立地代表氟原子或具有1至6個碳原 :之全氣燒基」如:三氟Μ、五氟乙基、七氟丙基、九 丁基、十一氟戊基、十三氟己基,等等。 * Υ壤之實例包括如式(nia)、(mb)或(11吨匕合物之單 價殘基。
OEa)
,式_)、_)與(me)中,Χι、χ2與χ3分別獨立地 代表(a)伸烷基或(b)無鍵結,且兩邊各有一個氫原子,1為 整數1至4,k為整數〇至2。式(1叫、(mb)或(nic)中至 少一個氫原子可視需要經具有丨至6個碳原子之烷基、具 # 1至 6個碳原子之烷氧基、具有丨至4個碳原子之全氟 烷基、1具有1至6個碳原子之羥烷基、羥基或氰基取代。 X、X與X3中之伸烧基實例包括伸曱基、伸乙基等。 無鍵結及兩邊各一個氫原子係指橋連基_χ1_、_乂2_或_乂3、 不存在及氫原子分別鍵結在-X1-、或-Χ3_位置兩邊。 式(Ilia)、(mb)或(mc)化合物之單價殘基之明確實例 包括下列: 318075 13 1378325
上式中,開放末端之直線代表自相鄰基團延伸出來之 鍵結。 14 318075
1378325 , 鹽(i)之陰離子部份之明確實例包括下列: -〇J>^ -〇3β>γ^
'〇3>Ϋχ^° '〇3Sfx^xV
ΟΗ 15 318075 ⑩ 1378325
式(lib)之明確實例包括下列: 18 318075 1378325 --Ο^^Ο^0- C6H13-^J^I—^~^--〇6^13 C0H17—^-<^^)—〇8Η17 式(lie)之明確實例包括下列: Λ .·义义义加 上〇上c〇上cc 19 318075 (§/ 1378325
20 318075 1378325
21 318075 1378325
22 318075 1378325
23 318075 作為鹽(I)時, 案圖形。 ' (iVa)與(iVb)之鹽具有極佳解析度與圖
OV^a)
式(iVa)與(IVb)中,p25、P26 盥 P27 分 s 刀別獨立地代表氫 '、子或具有1至4個碳原子之烷基。 製備鹽(I)之方法包括將式(v)鹽與式(¥111)化合物反 -’例如:於惰性溶劑中,如:乙腈、水、甲醇、二氣T 烧等’於約G至15GC,較佳為〇至溫度下授掉。 式(vm)化合物之用量通常為每1莫耳式⑺鹽使用 0.5至2莫耳。依上述方法製得之鹽⑴可利用再結晶法單 離,且可以水洗滌純化。 用於製備鹽(I)之式(V)鹽之製法包括例如:.將式(VI) 醇以式(VII)幾酸酯化。 進行該酯化反應時,通常由混合原料於非質子性溶劑 328075 24 1378325 .中,如:二氯乙烷、甲苯、乙基苯、單氯苯、乙腈、n,n_ 二甲基甲醯胺等,於20至2〇〇〇c,較佳為5〇至15〇。〇下進 仃。該酯化反應中,通常添加酸觸媒或脫水劑,該酸觸媒 之實例包括:有機酸類,如:對曱苯續酸;無機酸類如: 硫酸等。脫水劑之實例包括羰基二咪唑、N,N,_二環己 基碳二亞胺等。 使用酸觸媒進行之酯化反應最好在脫水下進行,例 如·採角迪恩-史塔克法(Dean and Stark meth〇d),因為可 零缩短反應時間。 式(VII)羧酸之用量通常為每i莫耳式(VI)醇使用〇2 至3莫耳,較佳為05至2莫耳。酸觸媒之用量可為催化 量或等於溶劑之用量,通常為每!莫耳式(VI)醇使用〇 〇〇1 至5莫耳。脫水劑之用量通常為每j莫耳式(νι)醇使用ο.〕 至5莫耳,較佳為0.5至3莫耳。 本發明化學放大型阻劑組成物包含鹽⑴與樹脂,該樹 钃p所包含之結構單位具有對酸不安定之基團’且其本身不 可溶或難溶於鹼性水溶液,但卻可藉由酸之作用溶於鹼性 水溶液中。 鹽⑴通常作為酸產生劑使用,對鹽⑴照光後所產生之 酸催化性地作用對抗樹脂中對酸不安定之基團,裂解對酸 不文疋之基團,使樹脂可溶於驗性水溶液中。此等組成物 即適用為化學放大型正向阻劑組成物。 本發明組成物所使用之樹脂所包含之結構單位具有對 酸不安定之基團,且其本身不可溶或難溶於鹼性水溶液 318075 25 1378325 •中’但可利用酸裂解對酸不安定之基團。裂解後之樹脂包 含羧酸殘基,因此使得該樹脂可溶於鹼性水溶液中。 本說明書中’ ”-C00R"可說明為"具有緩酸醋之結構 ”,亦可縮寫為”醋基"。明確言之,"_c〇〇c(CH3)3"可說明 為"具有羧酸之第三丁酯之結構"或縮寫為"第三丁酯基。 對酸不安定之基團之實例包括具有羧酸酯之結構, .如.烷基酯,其中鄰接氧原子之碳原子為四級碳原子;及 脂裱系酯基,其中鄰接氧原子之碳原子為四級碳原子等· ~酯環基其中鄰接氧原子之碳原子為四級碳原子等。, ”四級碳原子,,指”連接四個除了氫原子以外之取代基 之碳原子”。對酸不安定之基團為具有連接3個碳原子與 OR1之四級碳原子之基團,其中R,代表烷基。 、 對酸不安定之基團之實例包括烷基酯,其中鄰接氧原 子之碳原子為四級碳原子,如:第三丁酯基團;縮醛型酯 基,如:曱氧基曱基酯基、乙氧基甲基酯基、j-乙氧基乙 肇P基、1-異丁氧基乙基酯基、i•異丙氧基乙基酯基、丨_乙 氧基丙氧酯基、1-(2-甲氧基乙氧基)乙酯、丨兴孓乙醯氧基 乙氧基)乙酯基、1-[2-(1-金剛烧基氧基)乙氧基]乙酯基、 ' 1-[2-(1_金剛烷羰基氧基)乙氧基]乙酯基、四氫-2-呋喃基醋 與四氫-2-吡喃基酯基;脂環系酯基,其中鄰接氧原子之碳 原子為四級碳原子,如:異冰片基酯基、丨_烷基環烷基酯 基、2-烷基_2_金剛烷基酯基、〗_(〗_金剛烷基分^烷基烷基 酯基等。 包括酯基之結構之實例包括(甲基)丙烯酸之酯結構、 26 318075 1378325 。上述金剛烷 早體中,最好使用彼等具有龐大基團者,如:脂環系 、基團(例如:2-院基_2金剛烧基與叫金剛燒基)小烧基烧 作為可因酸的作用而解離之基團,因為當其用於本組成 ^7時,可得到極佳解析度。 此等含龐大基團之單體之實例包括(甲基)丙婦酸2_烧 基-2-金岡m基醋、(甲基)丙稀酸Μ}剛烧基)小烧基烧 基酯、5-降冰片烯·2_竣酸2_烧基七金剛烷基酯、5降冰片 烯-2-羧酸1-(1-金剛烷基)_;[_烷基烷基酯、.氯丙烯酸2_ 烷基-2-金剛烷基酯、α_氯丙烯酸丨气^金剛烷基)_卜烷基烷 基酯等。 • 特定言之,當使用(甲基)丙烯酸2-烷基-2-金剛烷基酯 或α-氯丙烯酸2-烷基-2-金剛烷基酯作為本組成物中樹脂 成伤之單體時,可得到具有極佳解析度之阻劑組成物。此 -等(曱基)丙烯酸2-烷基-2-金剛烷基酯與α-氣丙烯酸2-烷基 •2-金剛烷基酯之典型實例包括丙烯酸2_曱基_2_金剛烷基 酯、甲基丙烯酸2-甲基_2·金剛烷基酯、丙烯酸2-乙基-2-金剛烧基S曰、曱基丙稀酸2-乙基-2-金剛燒基醋.、丙稀酸 2-正丁基-2-金剛烧基醋、α_氣丙稀酸2_曱基-2-金剛烧基 酯、α-氣丙烯酸2-乙基-2-金剛烷基酯等。特定言之,當本 27 318075
1378325 組成物使用(曱基)丙烯酸2-乙基-2-金剛烷基酯或(甲基)丙 晞酸2-異丙基-2-金剛烧基酯時,可得到具有極佳感應性及 耐熱性之組成物。本發明中,若必要時,可共同使用二種 或更多種具有可因酸作用而解離之基團之單體。 (甲基)丙稀酸2 -院基-2 -金剛烧基g旨之一般製法為將2_ 烷基-2-金剛烷醇或其金屬鹽與丙烯酸系齒化物或甲基丙 烯酸系函化物反應。 用於本組成物之樹脂中除了如上述具有對酸不安定之 泰基團之結構單位外,亦可包含其他衍生自對酸安定之單體 之結構單位。本文中,”衍生自對酸安定之單體之結構單位 "指"不會被鹽(I)所產生酸解離之結構單位,,。 此等可包含在内之其他結構單位包括衍生自具有游離 羧基之單體之結構單位(如〈丙烯酸與甲基丙烯酸)、衍生 自脂系不鮮H社結鮮位(如:馬來_與衣康酸 酐(itaconic anhydride))、衍生自2_降冰片烯之物結構單 春位、衍生自(甲基)丙婦腈之結構單位、衍生自(甲基)丙婦酸 院基醋之結構單位(其中鄰接氧原子之碳原子為二級或三 級碳原子)、衍生自(甲基)丙婦酸1-金剛燒基酯之結構單 2、何生自苯乙烯之結構單位(如,:對-或間·經基苯乙稀)、 in甲烯醯基氧基个丁醢内醋之結構單位(其具 有而要减基取代之内醋環)等。本文中 基中雖然其鄰接氧原子之碳原子為 = 曰 對酸安定之基圓,幻姆基醋基,至 經羥基取代。 似虱原子可 28 318075 (1/ 1378325 衍生自對酸安定之單體之結構單位之明確實例包括# 生自(甲基)丙烯酸3-羥基-1-金剛烷基酯之結構單位、衍生 自(甲基)丙烯酸3,5-二羥基-1-金剛烷基酯之結構單位、衍 生自α-(甲基)丙烯醯基氧基-γ-丁醯内酯之結構單位、街生 自β-(甲基)丙烯醯基氧基-γ-丁醯内酯之結構單位、如下式 (a)之結構單位、衍生自下式(b)之結構單位、.衍生自具有烯 蛵雙鍵之脂環系化合物之結構單位(如:如下式(c)之結構 ^位)、衍生自脂系不飽和二羧酸酐之結構單位(如··式(d) _^結構單位、式(e)之結構單位)等。 特定言之,以阻劑對基板之黏著性及阻劑之解析度觀 點而言,本組成物中之樹脂除了包含具有對酸不安定之基 3之構單位外,最好尚包含至少_個選自下列各物所組 〜群中之結構單位:衍生物自對經基苯乙稀之結構單位、 間麵基笨乙蝉之結構單位、衍生自(甲基)丙稀酸3_ 二二A金剛絲酯之結構單位、衍生自(甲基)丙烯酸3,5· t下5 :^ ,酿之結構單位、如下式⑷之結構單位及
(b) 318075
29 1378325 式(a)與(b)中,R1與R2分別獨立地代表氫原子甲美 或三氟曱基’ R3肖r4分別獨立地代表甲基、三氟甲基二 函原子,p與q分別獨立地代表整數〇至3。當p代 或* 3時,* R3可相同或相異’且當q代表2 : 3時广各 R可相同或相異。 製造(甲基)丙烯酸3-羥基-i_金剛烷基酯與(甲基)丙烯 酸3,5-二羥基]•金剛烧基g旨時,可藉由例如:將相應羥基 金剛烷與(甲基)丙烯酸或其酸_化物反應,其亦可二 此外,具有視需要經烷基取代之内酯環( 酿基氧基个丁酿⑽之製法可藉由將α.或㈣(τγ.基丁)= 酉曰與丙烯酸或f基丙婦酸反應,或藉由將相應…或卜幾基 -厂丁醯内酯與丙烯酸系函化物或甲基丙烯酸系齒化物反 作為產生式(a)與(b)結構單位之單體之明確實例為例 #如:如下述之具有羥基之脂環系内酯之(甲基)丙烯酸酯, 及其混合物等。此等酯類製法可例如:藉由將具有羥基之 相應脂環系内酉旨與(甲基)丙烯酸反應,其製法說明於例 如:JP2000-26446-A 。
318075 30 1378325 具有視需要經烷基取代之内酯環之(曱基)丙烯醯基氧 基-γ-丁醯内酯之實例包括α_丙烯醯基氧基_γ_丁醯内酯、α· 甲基丙稀酿基氡基-γ-丁醯内酯、oc-丙稀酿基氧基_β,β_二甲 基-γ-丁醯内酯、α_甲基丙烯醢基氧基_β,β·二甲基丁醯内 醋、α-丙烯醯基氧基_α_曱基丁醢内酯、α_曱基丙稀醯基 氧基-α-甲基-γ_丁醜内酯、β_丙稀酿基氧基_γ_丁醢内醋、卜 曱基丙烯醯基氧基_γ_ 丁醯内酯、β_曱基丙烯醯基氧基_α_ 甲基-γ-丁酿内酯等。 魯 KrF蝕刻術中’即使使用衍生自羥基苯乙烯之結構單 位(如對-與間-沒基本乙稀)作為樹脂成份之一,.仍可得到 具有充份透明度之阻劑組成物。為了得到此等共聚合樹 脂,.可將相應(曱基)丙烯酸酯單體與乙醯氧基苯乙烯及笨 乙烯進行自由基聚合反應,然後使用酸脫除衍生自乙醯氧 基苯乙烯之結構單位中乙醯氧基之乙醯基。 包含衍生自2·降冰片烯之結構單位之樹脂展現強力之 孀^構,因為脂環系基團直接出現在其主鏈上,且其具有極 佳之乾蝕刻阻性。衍生自2-降冰片烯之結構單位可利用自 由基聚合反應,其中除了相應2_降冰片烯外,尚可使用例 如:脂系不飽和二幾酸酐(如:共同使用馬來酸肝與衣康酸 =)’而引進主鏈中。騎生自2·降冰片烯之結構單位係經 打開其雙鍵而形成’並可由式⑷代表。衍生自脂系不飽 …一緩彻之結構單位’即衍生自馬㈣酐之結構單位與 生自衣康酸肝之結構單位係經由經由㈣其雙鍵而形 戚’並分別可由式(d)與式(e)代表。 318075
31
itt Bf 3個…·與R分別獨立地代表氫、具有】至 =之燒基、具有1至3個碳肩子之娜、幾基、 亂基或基團,其中u代表醇殘基,或r、r6# 同鍵㈣彡成由·(:(喝沉(,.代表之羧酸酐殘基。’、 广R6+,烷基之實例包括甲基、乙基、丙基與異 丙基,产燒基之明確實例包括經基甲基、2·經基乙基等。 R與R中,-COOU基團為由羧基形成之酯且相當 於口之醇殘基者例如:視需要經取代之具有1至8個碳: 子之貌基、2-侧氧基氧雜環戊環_3_或_4基等,i院基上之 取代基為例如:羥基、脂環系烴殘基等。
用於製造如式(c)所代表結構單位之單體之明確實例 •可包括下列; ^ J 2-降冰片婦, 2-羥基-5-降冰片烯, 5-降冰片烯-2-羧酸, 5-降冰片烯-2-羧酸曱基酯, 5-降冰片烯_2_羧酸2_羥基乙基酯, 5-降冰片烯_2_甲醇, 5-降冰片烯-2,3-二羧酸酐等。 田-COOU中之u為對酸不安定之基團時,式…)結構 318075 32 1378325 •單位即使具⑽冰片料構,仍為具 之結構單位。具有對酸不安定基團:不…基團 包括5-降冰月烯_2·羧酸第 W立之早體實例 1-環己基小甲基乙基醋、5第;=5:咖 醋、5 m株降水片席竣酸1_甲基環己基 5-降冰片席_2·羧酸2_甲基_2·金剛烷基輯 -2-羧酸2-乙基-2-金剛烷基酯、5_ 、,冰片烯 基環己基)-1-甲基乙基酯、5 嫌’錢酸Η4·甲 降冰片稀-2-緩酸1 姿τ<其ί» 己基)小甲基乙基醋、5_降冰片烯…二1 (4經聽 f基乙基㈣。^片^錢叫金剛坑基以 本組成物所使用之樹脂中具有對酸不安定之 之含篁比例通常佔樹脂中所有結構單位之i帆莫 比較佳’但該比例可隨圖案曝光所採用照光種類、對酸不 安定之基團種類等而異。 敗不 當結構單位特別使用衍生自(T基)丙婦酸2_燒基_ 基醋或(甲基)丙烯酸叫金剛炫基)小貌基烧基醋作 為對酸不安定之基團時,該結構單位之比例宜佔樹脂 有結構單位之15%莫耳比或更多。 當除了具有對酸不安定之基團之結構單位外,尚包含 其他具有對酸安定之結構單位時,此等結構單位之總量= 好佔樹脂中所有結構單位之2〇至9〇%莫耳比之範圍内。 田使用具有稀經雙鍵與脂系不飽和二叛酸酐之脂環系 化合物作為共聚合單體時,由於其不容易聚合之傾向,因 此最好過量使用。 318075 33 1378325 本組成物十,因曝光後延遲所造成酸去活性引起之效 能破壞可藉由添加驗性化合物(蚊言之,含氮驗性有= 合物,例如:胺類)作為中止反應劑而消除。 之一者:
此等含氮鹼性有機化合物之明確實例包括下式所代表 式中,Τ12與Τ13分別獨立地代表氫原子、烷基、環烷 基或芳基。院基較佳為具有約丨至6個碳原子,環烷基較 佳為具有約5至10個碳原子,芳基較佳為具有約6至ι〇 個碳原子。此外,烷基、環烷基或芳基上至少一個氫原子 可分別獨立地_基、胺基或具有! i 6個碳原子之燒氧 基取代。胺基上至少一個氫原子可分別獨立地經具有i至 4個碳原子之炫基取代。 318075 34 1378325
• τ 、τ與丁16分別獨立地代表I ^ ^ ^ „ 吧代衣虱原子、烷基、環烷 :方土或坑氧基。烧基較佳為具有約卜至6個碳原子, 環院基較佳為具有約5至1Q個碳原子,芳基較佳為具有約 6至10個碳原子,及絲基較佳為具有約^ 6個碳原子。 •此外,烧基、環烧基、芳基或燒氧基上至少—個氫原子可 分別獨立地經經基、胺基或具有】至6個碳原子之烧氧基 ,取代。胺基上至少-個氫原子可分別獨立經具有個 碳原子之院基取代。 Φ T17代表烧基或環烧基。烧基較佳為具有約丄至6個碳 原子,環烷基較佳為具有約5至1〇個碳原子。此外,烷基 或環烷基上至少一個氫原子可分別獨立地.經羥基、胺基或 具有1至6個碳原子之烷氧基取代。胺基上至少一個氫原 子可經具有1至4個碳原子之烷基取代。 式中,τ代表烧基、環院基或芳基。焼基較佳為具有 約1至6個碳原子,環烷基較佳為具有約5至1 〇個碳原子, 馨(瓦^基較佳為具有約6至1 〇個碳原子。此外,烧基、環烧 基或芳基上至少一個氫原子可分別獨立地經羥基、胺基或 '具有1至6個碳原子之烷氧基取代。胺基上至少一個氫原 子可分別為獨立地經具有1至4個碳原子之烷基取代。 然而’由上式[3]所示之化合物中,τ12與Τ13均不為氫 原子。 Α代表伸烧基、幾基、亞胺基、硫醚基(sulfide group) 或二硫峻基(disulfide group)。伸烷基較佳為具有約2至6 個碳原子。 35 318075 (1/ 1378325 此外,τ12至τ】8可交社* 士 直鏈或分支鏈。 個碳原子之狀、/古獨立地代表氫原子、具有1至6 1至6個#廣:、1至6個碳原子之胺基烷基、具有 …-It 燒基或具有6至2〇個碳原子之經取代 取代之^Τ、τ2。鍵結形成核基,其與相 鄰之-CO-N-共同形成内醯胺環。 此等化合物之實例包括己基胺、庚基胺、辛基胺、壬 基胺、癸基胺、苯胺、2_、3·或㈠基苯胺、乙二胺、四 知甲基二胺、六伸甲基二胺、4,4,二胺基4二苯基乙烧、 4,4 -一胺基_3,31_二f基二苯基甲烧、4,4,_二胺基二乙 基二苯基甲燒、二丁基胺、二戊基胺、二己基胺、二庚基 胺、二辛基胺、二壬基胺'二癸基胺、冰甲基苯胺、哌啶、 二苯基胺、三乙基胺、三甲基胺、三丙基胺、三丁基胺、 三戊基胺、三己基胺、三庚基胺、三辛基胺、三壬基胺、 三癸基胺、甲基二丁基胺、甲基二戊基胺、甲基二己基胺、 一基二環己基胺、甲基二庚基胺、甲基二辛基胺、曱基二 壬基胺、甲基一癸基胺、乙基二丁基胺、乙基二戊基胺、 乙基二己基胺、乙基二庚基胺、乙基二辛基胺、乙基二壬 基胺、乙基二癸基胺、二環己基甲基胺、參[2-(2-甲氧基乙 氧基)乙基]胺、三異丙醇胺、N,N-二曱基笨胺、2,6-異丙基 苯胺、σ比咬、4-曱基°比咬、聯°比咬、2,2'-二”比咬基胺、二 -2-°比咬基酮、1,2-二(2-°比咬基)乙烧,1,2-二(4-η比π定基)乙院 1,3-二(4-°比咬基)丙炫、1,2-雙(2-°比咬基)乙烯、ι,2_雙(4_ °比°定基)乙稀、4,, 41 -二吼°定基硫謎、4,4'-二η比π定基二硫驗、 318075 36 ^78325 1,2-雙(4-吡啶基)乙烯、2 基胺、氳氧化四f基銨、°、3’3’-二卜比啶 基鍵、氫氧化四-正己其録Λ四異丙驗、氨氧化四丁 (=:基:氨氧化3_三氣甲基苯基三刚氯氧化 等。工土 尹基錄(所謂之”膽驗”)、N-f基㈣咬綱 料’亦可採用JP_A_H㈣575中所說明具有派咬主 ί又阻胺(hmdered amine)化合物作為中业反應劑。 始番^、且成物t ^樹脂成份含量最好佔樹脂成份與鹽(I) 總重量約8〇至99.9%重量比,且鹽(1)含量佔〇」至鳩 量比。 當使用驗性化合物作為中止反應劑時,該驗性化合物 最好佔每100重量份之樹脂成份與鹽⑴總重量的約 0.01至1重量份。 本組成物若必要時,可包含少量之各種不同添加劑’ 響t:敏化劑、壓制溶解劑、其他聚合物、界面活性劑、安 定劑、染料等’只要不阻礙本發明效果即可。 本組成物通常呈阻劑液體組成物,其中由上述成份溶 β溶劑中’然後利用習知方式,如:旋轉塗覆法塗覆阻劑 液體組成物至基板(如::矽晶片)上。此時所採用之溶劑係 足以溶解如上述成份,具有適當之乾燥速度,且蒸發溶劑 後產生均勻且光滑之塗層,因此通常採用相關技藝已知之 溶劑。本發明中,總固體含量係指溶劑以外之總含量。 其實例包括二醇謎S旨類’如:乙酸2·乙氧乙醋、乙酸 318075 37 1378325 尹氧乙酉曰與丙一醇單f基駿乙酸醋;二醇驗類,· t醇單f基驗、二(乙二醇)二甲基m,如:乳酸= 酉曰、礼酸丁酯、乳酸戊酯與丙酮酸乙酯等;酮類,如. 嗣、甲基異丁基酮、2_庚銅與環己酮;環狀醋類,如·兩 丁内酉曰等。此等溶劑可單獨使用或組合兩種或更多種使用二 將塗覆至基板上然後乾燥之阻劑膜層進行曝光以供圖 案化,然後加熱處理以促進脫除封阻反應’之後以驗性 影劑顯影。此時所採用之驗性顯影劑可為相關技藝已知二 ,㈣之何驗性水溶液,—般而言,通常使用氫氧化四甲 基錢或氫氧化(2-經基乙基)三甲基錄(俗稱”膽驗”)之水冰 液。 〆合 咸了解,本文所揭示.之具體例為所有態樣之範例,但 並未加以限制。本發明範圍不由上述說明決定,而由附錄 之申請專利範圍決定,並包括所有與申請專利範圍同等之 定義及範圍。 #本發明將利用實例更詳細說明,但此等實例並不限制 本發明之範圍。”%”與,,份"係用於代表任何成份之含量,且 下列實例及比較例所使用任何材料之用量係以重量計,除 非本文中另有說明。下列實例所採用任何材料之重量平均 分子量均為由凝膠滲透層析法[HLC_812〇Gpc型,管柱(三 支管柱):tSK凝膠多;LHXL_M,溶劑:四夫喃,由T〇s的 CORPORATE公司製造]採用苯乙稀作為標準參考物所 得到的值。化合物結構係由NMR(GX-270型或EX-270型, JEOL LTD製造)及質譜儀(液相層析法:11〇〇型,agilent 318075 38 1378325 -.TECHNOLOGIES LTD.製造,質譜儀:LC/MSD 型或 LC/MSD TOF 型,AGILENT TECHNOLOGIES LTD.製造) 予以測定。 合成實例1 (三苯基毓4-側氧基-1-(六氫-2-側氧基-3,5-亞曱基-2H-環 戊并[b]呋喃_6_基氧基羰基)二氟曱磺酸鹽合成法) (1) 添加230份30%氫氧化鈉水溶液至冰浴中,含100份二 氟(氟磺醯基)乙酸甲酯與250份離子交換水之混合物中。 ’ 添加後之混合物加熱,於l〇〇°C下回流3小時。冷卻後, 將冷卻之混合物以88份濃鹽酸中和,濃縮,得到164.8份 二氟磺酸基乙酸鈉(含無機鹽,純度:62.6%)。 (2) 將30.0份二氟磺酸基乙酸鈉(純度:62.8%)、14.7份六 氫-6-羥基-3,5-亞甲基-2H-環戊并[b]呋喃-2-酮與300份甲 苯裝填至容器中,添加18.1份對曱苯磺酸(可縮寫為 p-TsOH),使混合物回流12小時。冷卻後,將所得混合物 #濾,得到固體,在固體中添加100份乙腈,然後過濾, 得到溶液。將溶液濃縮,得到26.7份六氫-2-側氧基-3,5-• 亞曱基-2H-環戊并[b]呋喃-6-基二氟磺酸基乙酸之鈉鹽。
^-NMR(二曱亞砜-d6,内標準:四甲基矽烷): d(ppm)1.57-1.67(m, 2H) ; 1.91-2.06(m, 2H) ; 2.53(dd, 1H); 39 318075 3.21(td, lH);4.51(d, lH);4.62(s 1H) ⑺將得自⑺之26.7份六氫·2•側氧基_3,5_亞甲基I環成 开[b]咬啥·6-基二氟續酸基乙酸之納鹽裝填至加份乙猜 卜並溶解得到溶液。在該溶液中添加藉由混合23‘9份三 苯基毓氯化物與239份離子交換水製成之溶液中。授摔15 小時後,將·之混合物濃縮,以200份氯仿萃取2次。 合併有機層,將合併之有機層以離子交換水洗務。將所得 之有機層濃縮。濃縮物以2GG份第三丁基甲絲洗務,傾 和溶劑,得到37.7份三苯基毓4_侧氧基小(六氫_2_側氧基 -3,5-亞甲基-2H-環戊并[b]呋喃·6_基氧基羰基)二氟甲磺酸 鹽,稱為酸產生劑B1。
孀;H-NMR(二甲亞砜乂,内標準:四甲基矽烷): d(ppm)1.57-1.67(m, 2H) ; 1.91-2.〇6(m, 2H) ; 2.53(dd, 1H); 3.21(td, 1H) , 4.51(d, 1H) ; 4.62(s, 1H) ; 7.91-7.76(m, 15H) MS(ESI(+)^^) : M+ 263.2(C18H15S+ =263.09) MS(ESI(-)^H) : M- 311.〇(Ci〇H9F207S- =311.00) 矣考合成實例1 (三苯基毓1-金剛烷基曱氧羰基二氟曱磺酸鹽合成法) (1)添加230伤30%氫氧化鈉水溶液至冰浴中含1〇〇份二氟 (I項醯基)乙酸甲g旨與25G份離子交換水之混合物之冰浴 318075 40 1378325 中。將添加後之混合物加熱,於.1 〇〇°C下回流3小時。冷 卻後,將冷卻之混合物以88份濃鹽酸中和,濃縮,得到 164.8份二氟磺酸基乙酸鈉(含無機鹽,純度:62.6%)。 (2)將39.4份二氟磺酸基乙酸鈉(純度:63.5%)、21.0份1-金剛烷曱醇與200份二氯乙烷裝填至容器中,添加24.0份 對曱苯磺酸,使混合物回流7小時。濃縮混合物以排除二 氣乙烷後後,添加250份第三丁基甲基醚,並攪拌添加後 之混合物。將攪拌之混合物過濾,得到固體。添加250份 •6腈至固體中。攪拌混合物與過濾。將濾液濃縮,得到32.8 份1-金剛烷基甲基二氟磺酸基乙酸之鈉鹽。
(3)將(2)所得之32.8份1-金剛烷基甲基二氟磺酸基乙酸之 #鹽溶於100份離子交換水中。添加28.3份三苯基毓氯化 物與140份甲醇至溶液中。攪拌15小時後,將攪拌之混合 - 物濃縮,以200份氯仿萃取2次。混合有機層,以離子交 . 換水洗滌。將所得有機層濃縮。添加300份第三丁基曱基 醚至濃縮物中,攪拌混合物並過濾,得到固體。將固體減 壓乾燥,得到39.7份三苯基毓1-金剛烷基曱氧羰基二氟甲 磺酸鹽之白色晶體,稱為酸產生劑C1。 41 318075 I3?8325
W-NMR(二甲亞碗-d6,内標準:四甲基石夕烧):d(ppm) 1.52(d, 6H) ; 1.63(dd, 6H) ; 1.93(s, 3H) ; 3.81(s, 2H); 7.76-7.90(m, 15H) MS(ESI(+)光譜):m+ 263.2(C】8H15S+=263.09) %4S(ESI(·)光譜):M-323.0(C13H17F2〇5S_=323.08) 逛.脂合成生實例1 (榭脂A1合成法、 依莫耳比例5 : 2.5 : 2.5(20.0份:9.5份:7.3份)裝填 甲基丙烯酸2-乙基-2-金剛烷基酯、甲基丙烯酸3_羥基 ,剛院基酷與α·曱基丙稀醯基氧基个丁内g|,及添加所有 單體兩倍重量之甲基異丁基酉同,以製借溶液。在溶液中添 加偶氮雙異丁腈作為起始劑,其比例為所有單體總莫耳量 f庙莫耳% ’並將混合物於80。。下加熱約8小時。然後將 供液倒入大量庚烧中而產生沉题,重覆此操作3次以 為樹脂2果得到重量平均分子量約9,200之共聚物。稱
42 318075 (1/ 1378325 實例1至2與比較例1至2 混合並溶解下列成份,然後經由氟樹脂過濾器(孔直徑 0.2微米)過濾,以製備阻劑液體。 〈樹脂> 樹脂A1 : 10份 <酸產生劑> 酸產生劑B1 : 0.26份
酸產生劑C1 : 0.26份
酸產生劑C2 :三苯基锍全氟丁磺酸鹽0.25份 實例中所使用種類說明於表1中。 <中止反應劑> 中止反應劑Q1 : 2,6-二異丙基苯胺0.0325份 <溶劑> 51.5 份 35.0 份 3.5份 溶劑Y1 :丙二醇單曱基醚乙酸酯 2-庚酮 γ-丁内酯 43 318075 1378325 在各矽晶片上塗覆"ARC-29A-8,·,其係來自Brewer公 司之有機抗反射塗層組成物,然後於下列條件下燒固:2 j 5 C ’ 60秒,以形成厚78〇埃之有機抗反射塗層。將如上述 製備之各阻劑液體旋轉塗覆在抗反射塗層上,使所得膜層 之厚度在乾燥後為〇 25微米。將塗覆有各別阻劑液體之矽 晶片分別於直接加熱板上,於13〇。〇下預燒固6〇秒。採用 ArF準分子步進機(,,NSR ArF”,Nik〇n公司製造,呐55, ^3 %狀)’將所形成具有各別阻劑膜之各晶片接受線性與 二間圖案曝光,曝光量則逐步變化。 ,曝光後,各晶片於溫度uot下在加熱板上進行曝光 後燒固60秒,然後使用2.38重量%氣氧化四甲基錄水溶 液於攪拌下顯影60秒。 顯影後’將於有機抗反射塗層基板上顯現之各深色區 $案利用掃猫式電子顯微鏡觀察,其結果示於表i。術語” 木色區圖案用於本文中指透過光罩曝光及顯影後得到之 馨^案,其包含鉻底面(遮光部份)與於鉻表面上形成之線性 玻璃層(透光部份),且彼此相互排 , ^ s 史 祈^因此’經曝光與顯 衫後所付深色區之圖案使得線性與空間圖案圖像周圍之阻 劑層仍留在基板上。 解析度: 出的感光度之曝光量下所得線性圖案所分隔 透心二 最小空間圖案尺寸。此時,有效感光度以 i二線性及空間圖案遮光罩曝光及顯影後,㈣ 線隹圖案(遮光層)與空間圖像(透光層)成為1: 318075 44 1378325
置表示。 圖形T/B ,、係以於〇. 13微米線性盎允 邊長度(稱為τ)與底邊長心:圖案之線性部份中,頂 近1表干為)之比例表示。比例愈接 砹1表不其阻劑圖案之圖形愈佳。 表1
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Claims (1)
- 137麵 '十、申請專利範圍: ^ 1. 一種式(I)之鹽: A+ '〇3SpC02-(CH2)n-^Y 式中’Y環代表具有3至30個碳原子之單環或多環煙 基,其中一個-CH2·基團經_C00-基團取代,且該單環或 多環烴基中至少一個氫原子可視需要經具有丨至6個碳 原子之烷基、具有1至6個碳原子之烷氧基、具有}至 4個碳原子之全氟烧基、具有丨至6個碳原子之經燒基、 經基或氰基取代;Q1與Q2分㈣立地代表i原子或且 有1至6個碳原子之全氟烷基;A+代表選自式(11叻、^ (lib)、式㈣與切Id)所組成群中之至少一種陽離子: 以及η為整數〇至12; 式(Ila)陽離子 P1 P2ρ3 (Da) 式中,P1 有1至12 氧基; 、p與p3分別獨立地代表氫原子、羥基、具 個碳原子之烷基或具有丨至12個碳原子之炫 式(lib)陽離子 318075修正本 46 1378325 第95110647號專利申請案 101年9月19日修正替換頁 式中p與p分別獨立地代表氫原子、經基、具有1 至12個碳原子之烷基或具有丨至12個碳原子之烷氧基; 式(lie)陽離子(He) 式中,Ρ0與P?分別獨立地代表具有1至12個碳原子之 烷基或具有3至12個碳原子之環烷基,或护與p7鍵結 形成具有3至12個碳原子之二價非環狀烴基,其與相 鄰之S+共同形成環,且該二價非環狀烴基中至少一個 -CH2_視需要經_c〇-、-〇·或取代,p8代表氫,p9代 表具有1至12個碳原子之烷基、具有3至12個碳原子 之環烷基或視需要經取代之芳香環基,或P8與p9鍵結 形成二價非環狀烴基,其與相鄰之_CHC〇_*同形成2_ 側氧基環烧基,且該二價非環狀烴基中至少一個 視需要經-CO-、-〇-或-S-取代; 式(lid)陽離子318075修正本 47 第 9511064 、ρ11、〜13、ρ14、ι-、1^ p 式中 Ρ19 , ρ20 . 2 、Ρ 、|>16、ρ!7、ρ18、 /、Ρ分別獨立地代表氫原子〜 至12個碳原子之絲或具有基、具有1 2. 如申子,m代表0或卜 甲吻專利槌圍第1項之鹽,其中 子或三氟甲基。 、Q分別為氟原 3. 如申請專利範圍第i項之鹽, 子: 、T A為式(He)相對離 p 22 p23ό24 Ρ24 Ό^γ (He) 〜3與Ρ24分別獨立地代表氫原子或具 至4個碳原子之烷基。 4· ^申請專利範圍第1項之鹽,其中丫環為式阐、(IIIb) 或(IIIc)所示化合物之單價殘基:(UTa) (Mb) (He) 式中’X42與Χ3分別獨立地代表⑷伸⑨基或㈨無鍵 結,且兩邊各有一個氫原子,丨為整數1至4, k為整數 〇至2,且式(IIIa)、(IIIb)或(IIIc)中至少一個氫原子可 318075修正本 48 1378325 _ • 第95110647號專利申請案 _ 101年9月19日修正替換頁 -. 視需要經具有1至6個碳原子之烷基、具有1至6個碳 -· 原子之烷氧基、具有1至4個碳原子之全氟烷基、具有 1至6個碳原子之羥烷基、羥基或氰基取代。 5.如申請專利範圍第1項之鹽,其中該鹽為式(IVa)或(IVb) 之一者:p23 OA (IVb) 式中,P22、P23與P24具有如上述之相同定義。 6· —種式(V)酯化合物 M+ ~〇3S9C02-(CH2)n-/T^ (v) Q2 Vc^° 6 式中,Y環代表具有3至30個碳原子之單環或多環烴 基,其中一個-CH2·基團經-COO-基團取代,且該單環或 多環烴基中至少一個氫原子可視需要經具有丨至6個碳 原子之烷基、具有1至6個碳原子之烷氧基、具有J至 4個碳原子之全氟烷基、具有丨至6個碳原子之羥烷基、 318075修正本 49 1378325 乐乃丨10647號專利申請案 、〜甘 > 知衧 | 101年9月19日修正替換百 經基或祕取代;Ql與Q2分職立地 有1至6個碳原子之全氟烧基;Μ代表Li、Na、^ Ag ’·以及η為整數〇至12。 Q1與Q2分別 7·如申請專利範圍第6項之酯化合物,其中 為氟原子或三氟甲基。 8. —種製造式(V)酯化合物之方法, M+ ~03S9C02-(CH2)n-f γ 式中’Υ環代表具有3至3G個碳原子之單環或多環煙 基,其中-個-CH2-基團經_C00_基團取代,且該單環或 多環烴基中至少-個氫原子可視需要經具有^6個碳 原子之烧基、具有丨至6個碳原子之絲基、且有丄至 4個碳原子之域絲、具有1至6個碳原子之純基、 絲或氰基取代;Q1與Q2分_立地絲氟原子或且 有i至6個碳原子之全氟院基;M代表以、n戈 Ag ;以及η為整數〇至12 ; 該方法包括將式(VI)醇 HO-iCH^ Y ) Vc-〇 (v〇 b 式中’Y壤與η具有如上述之相同定義, 以式(VII)羧酸酯化 318075修正本 50 1378325 _ ' 第95110647號專利申請案 . 1〇1年9月19日修正替換頁 + _ 91 M+ ~03S(pC00H (VH) Q2 式中’Q1與Q2具有如上述之相同定義,以及M.代表 Li、Na、Κ 或 Ag。 9. 一種製造式(I)鹽之方法,式中,Y環代表具有3至30個碳原子之單環或多環烴 基,其中一個-CH2·基團經_c〇〇-基團取代,且該單環或 多環烴基中至少一個氫原子可視需要經具有丨至6個碳 原子之烷基、具有1至6個碳原子之烷氧基、具有1至 4個碳原子之全氟烷基、具有丨至6個碳原子之羥烷基、 羥基或氰基取代;Q1與Q2分別獨立地代表氟原子或具 有1至6個碳原子之全氟烷基;A+代表選自式⑴句、式 (lib)、式(lie)與式(IId)所組成群中之至少一種陽離子; 以及η為整數0至12; 式(Ila)陽離子式中,Ρι、P2與P3分別獨立地代表氫原子、羥基、具 318075修正本 51 ^/8325 第95110647號專利申請案 101年9月19日修正替換頁 至12個碳原子之烷 • 有1至12個碳原子之烷基或具有 ’ 氧基; 式(lib)陽離子 ρ5 (Hb) 式中’ P4與p5分別獨立地代表氫原子、經基、具有1 至12個妷原子之烷基或具有丨至12個碳原子之烷氧基; 式(lie)陽離子(He) 式中,P與p7分別獨立地代表具有1至12個碳原子之 烧基或具有3至12個碳原子之環烧基,或p6與p7鍵结 形成具有3至12個碳原子之二價非環狀烴基,其與相 鄰之S+共同形成環’且該二價非環狀烴基中至少一個 -ch2-視需要經_co_、_0_或各取代,p8代表氫,p9代 表具有1至12個碳原子之烷基、具有3至12個碳原子 之環烧基或視需要經取代之芳香環基,或P8與P9鍵結 形成二價非環狀烴基,其與相鄰之_CHCO·共同形成2_ 侧氧基環烷基,且該二價非環狀烴基中至少一個_CH2_ 視需要經-CO-、-〇-或_S-取代; 式(lid)陽離子 318075修正本 52 1378325 第95110647號專利申請案 101年9月19日修正替換百1/(m+1) 式中,Ρ〜γ、ρ12、ρ13、ρ14 ρΐ5 p P與p21分別獨立地代表ϋ用$ (lid) P P 至個碳原子 ,原子、經基、具有1 其…心:有1至12個碳原子之烷氧 基B代表硫原子或氧原子,m代表〇或1; 5亥方法包括將式(V)酯化合物 °2-(CH2)n(V) M+ 〇3spc Q2 式中Y Q、Q2|%n具有如上述之相同定義,以及Μ 代表 Li、Na、Κ 或 Ag, 與式(VIII)化合物反應 A+ Z 一 (M) 式中,Z 代表 F、α、Br、j、Bf4、AsF6、SbF6 或 cl〇4, 以及A具有如上述之相同定義。 10.—種化學放大型阻劑組成物,其包含: 式(I)鹽: 318075修正本 53 1378325 • 第9511〇647號專利申請案 - 101年9月19曰修正替換頁 91 A+ 'OaSQCOs-iCH^n-f γ ) ⑴ Q2 Vr^〇 '〇 式中,Y環代表具有3至30個碳原子之單環或多環烴 基,其中一個-CHr基團經<00_基團取代,且該單環或 多環烴基中至少一個氫原子可視需要經具有丨至6個碳 原子之烷基、具有1至6個碳原子之烷氧基、具有1至 4個奴原子之全氟烧基、具有丨至6個碳原子之羥烧基、 羥基或氰基取代;Q1與Q2分別獨立地代表氟原子或具 有1至6個叙原子之全氟烧基;a+代表選自式(na)、式 (lib)、式(lie)與式(nd)所組成群中之至少一種陽離子; 及η為整數〇至12; 式(Ila)陽離子(Da) 式中’ P1、P2與P3分別獨立地代表氩原子、羥基、具 有1至12個碳原子之烧基或具有1至12個破原子之烧 氧基; 式(lib)陽離子 P5 (Hb) 318075修正本 54 1378325 第95110647號專利申請案 101年9月19日修正替換頁 式中,p與p5分別獨立地代表氫原子、羥基、具有1 至12個碳原子之烷基或具有1至12個碳原子之烷氧基; 式(lie)陽離子 0 +- CH-C—P9 (He) P7〆〆 式中p與p分別獨立地代表具有4 12個碳原子之 烷基或具有3至12個碳原子之環烷基,或p6與 紝 形成具有3至12個# @工> ^ '''° 個反原子之二價非環狀烴基,其與相 /、同形成環,且該二價非環狀烴基令至少一 -CH=見需要經·咖、_〇_或_8_取代,p8代表氣,代 、具1至12個碳原子之燒基、具有3至12個碳原子 之祕基魏f要絲代◎香環基,或?8與pa鍵社 形成二價非環狀烴美 鍵、、、口 側氧基環烷基,且^Γ _ _ & p 視需要經-CO-、_〇·或_s_取代; 個-ch2- 式(lid)陽離子P 18 318075修正本 55 t^S25 5 1 , 1—修正朁換 個衩原子之烷基或具有1至12個碳原子之烷氧 f,B代表硫原子或氧原子,m代表0或i,·以及 樹脂,其所包含之結構單位具有對酸不安定之基團且其 本身不可溶或難溶於鹼性水溶液,但藉由酸之作用而可 溶於驗性水溶液中。 U·如申請專利範圍第1〇項之組成物,其中…與y分別 為氟原子或三氟甲基。 12·如申請專利範圍第10項之組成物,其中該樹脂所包含 之結構單位係衍生自具有龐大且對酸不安定之基團之 單體。 13 ·如申凊專利範圍第12項之組成物,其中該龐大且對酸 不女疋之基團為2-烧基-2-金剛烧基或1-(1_金剛燒 基H-烷基烷基。 14·如申請專利範圍第12項之組成物,其中該具有龐大且 對酸不安定之基團之單體為(甲基)丙烯酸2_烷基_2_金 剛燒基酯、(甲基)丙烯酸1_(1_金剛烷基卜^烷基烷基 酿、5-降冰片烯-2-羧酸2-烷基-2-金剛烷基酯、5_降冰 片婦-2-缓酸ΐ-(ι_金剛烧基)_ι_燒基烧基醋、α•氣丙烯酸 2-燒基-2-金剛烷基酯或α-氯丙烯酸ι·(ι_金剛烷基) 烷基烷基醋。 15 ·如申請專利範圍第1 〇項之組成物,其中該組成物進一 步包含驗性化合物。 16.如申請專利範圍第10項之組成物,其中A+為式(lie)相 對離子: 318075修正本 56 1378325 第95110647號專利申請案 101年9月19日修正替換頁 p22式中’ p22、p23食p24分 别獨立地代表氫原子或具有1 至4個碳原子之烧基。 17·如申請專利範圍第10項之組成物,其中γ環為式 (Ilia)、(Illb)或(IIIc)所示化合物之單價殘基:0 (Ha) OUb) (He) 式中,X、X2與X3分別獨立地代表伸烷基或無鍵 結’且兩邊各有一個氫原子,1為整數1至4, k為整數 〇至2,且式(Ilia)、(Illb)或(nic)中至少一個氫原子可 視需要經具有1至6個碳原子之烧基、具有1至6個碳 原子之烷氧基、具有1至4個碳原子之全氟烷基、具有 1至6個碳原子之羥烷基、羥基或氰基取代。 18.如申請專利範圍第1〇項之組成物,其中該鹽為式(IVa) 或(IVb)中之一者: 318075修正本 57 1378325第95110647號專利申請案 101年9月19日修正替換頁 (IVb) 式 ,P22、P23與P24具有如上述之相同定義。 318075修正本 58
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