TWI309247B

TWI309247B -

Info

Publication number: TWI309247B
Application number: TW091116539A
Authority: TW
Inventors: Takasaki Toshihiko; Urano Hikaru; Hiromasa Kawai
Original assignee: Hitachi Chemical Co Ltd
Priority date: 2001-07-27
Filing date: 2002-07-25
Publication date: 2009-05-01
Also published as: JPWO2003010223A1; KR20040020970A; CN1282689C; CN1537127A; US20040152862A1; WO2003010223A1

Description

1309247 修正案號91116539 $年分月！? 五、發明說明（1) [發明所屬之技術領域] 尤其是光導波本發明係有關光學用樹脂及其用途器、光學過濾板、光學透鏡。 [先前技術] 含1之聚酿亞胺是周知的光通信用高耐熱聚合物光學材料’關於此構造及其製造方法等在特許第26 5 770 0號公報、特許第28 1 3 7 1 3號公報等都有記載，此材料係一種不僅能維持高耐熱性，同時具有低折射率、及對近紅外線區之光通信用波長具有透明性之含氟聚醯亞胺。另一方面，如聚苯并噁唑或聚苯并噻°坐等之聚苯并吐類聚合物自古即被研究做為具有高耐熱性 '且1^強度 ' 南彈性率之材料。關於此基本骨幹及製造方^ f特a 013 , Α , <知藉由使聚苯弁噁 4 2 - 1 9 7 2 1號公報等都有記載。其中’己參方几七"2 . 必胳率化之例子。在唑中含有氟可達成低介電率化、低熱膨7 β夕Α翁取贫子重之3氣5^本特開平U - 1 8 1 0 9 4號公報中揭示有關尚及,^ a M ^ 々麕配線用層間絕緣并。惡。坐之製造方法及其做為半導體之多# 有關具有膜之用途。又’特開2 0 0 0 - 2 9 0 374號公雜^ u_322 929號公特定分子構造之含氣聚苯并嗔唾，特j唑，藉由導入高報中揭示有關做為提光學特性之t ♦ a地 7透明T王。容積構造可提高聚苯并嗤在可視光區^ 聚醯亞胺單體上述含氟聚醯亞胺係在限定使用将。另一方面，聚苯種類時才具優異透明性及複折射之樹^無做為光通信^長并噁唑或聚苯并噻唑等之聚苯并唑類妹構造之特開平用之光學材料的例子，又，導入高容積W光區透明性 1 1 - 3 2 2 9 2 9號公報中所揭示之聚苯并咬#

313894.ptc 第8頁 1309247 修正案號 91116539 五、發明說明（2) 良好，但用在光通信方面近紅外線中透明性則很差。 [發明内容] 本發明之目的是提供在近紅外線區透明性優異，及在近紅外區波長中之折射率及複折射率之變化很小、在光學特性中重要之複折射率值很低，且耐熱性高，適於做為用在光通信波長區之光學零組件用樹脂。本發明之其它目的是提供使用上述光學用樹脂之光學零組件，特別是光導波器、光學過濾板、光學透鏡。本發明是提供下述之光學用樹脂、及使用該樹脂之光導波器、光學過濾板、光學透鏡。 (1)含有下述一般式（1 )所示重覆單位之聚苯并唑 (polybenzoazole)做為構成要素之光學用樹脂。

(式中，R表示含有芳香環之4價有機基，2組之N與X分別係以N及X鍵結在R <芳香環中彼此相鄰之位置，俾可形成 5員環，又式中R為2價之有機基，X表示氧原子或硫原子。） (2 )在上述1所述的光學樹脂中，一般式（1 )所示重覆單位之構成要素係X示氧原子之聚苯并噁唑者。 (3 )在上述2所述的光學樹脂中，聚苯并噁唑係含有氟之聚苯并°惡β坐者。

313894.ptc 第9頁

1309247 修正案號 91116539 五、發明說明（4) 本發明含有一般式（1)所示重覆單位之聚苯并唑的具體例子可列舉如聚苯并噁唑、聚苯并噻唑等。此等聚合物之數平均分子量以1萬至2 0萬為宜，一般式（1 )所示重覆單位之數以1至5 0 0為宜，以1 0至4 0 0更佳，以2 0至3 0 0最佳，超過5 0 0時，對溶劑之溶解性有變差之傾向，又，粘度變高操作性有變差之傾向。聚苯并噁唑是由聚合雙（胺基酚）衍生物與二羧酸衍生物反應得到前驅體的聚羥醯胺後，再經由脫水閉環而製得。或是由雙（胺基酚）衍生物與二羧酸衍生物同時進行聚合與脫水閉環而直接得到聚苯并噁唑。此等衍生物可以分別使用1種以上。具體而言，在1 0 0°C以下，於溶劑中，使雙（胺基酚）衍生物與二羧酸衍生物反應可得到前驅體之聚羥基醯胺。此時，將氯化鋰或氯化鈣等無機鹽類，或吡啶、三乙基胺等鹼類添加到反應系中，可以提高聚合反應性。又，雙 (胺基酚）衍生物與二羧酸衍生物在1 5 0°C以上無溶劑下，以熔融反應法，或是在1 5 0°C以上在有機溶劑中或聚磷酸中進行反應，可以得到閉環之聚苯并噁唑。本發明之聚苯并噁唑以含有氟為宜，本發明之聚苯并噁唑中之含氟量以0至5 0質量％為宜，以1 0至4 5質量％更佳，最好為1 5至40質量°/〇。含有氟之聚苯并°惡。坐是藉由使用最少一種含氟雙（胺基酚）衍生物與二羧酸衍生物而製得，此含氟衍生物之具體例子可例舉如含有三氟甲基之雙（胺基酚）衍生物、及含有三氟甲基之二羧酸衍生物。本發明之含氟聚苯并噁唑，

313894.ptc 第11頁 1309247 修正案號 91116539 五、發明說明（5) 雖是由至少1種之雙（胺基酚）衍生物、及至少1種之二羧酸衍生物反應而得，但從接著性、溶解性、機械特性等之立場來看，上述至少1種之雙（胺基酚）衍生物與上述至少1種之二羧酸衍生物中，以至少1種是含有氟之衍生物、及至少1種是不含氟之衍生物為宜。將上述雙（胺基酚）衍生物改用雙（胺基苯硫酚）衍生物，依照與苯并噁唑相同之製法可製得聚苯并噻唑。製造聚苯并噁唑所使用之雙（胺基酚）衍生物的例子可列舉如2, 4-二胺基-1，5-二羥基苯、3, 3’ -二胺基-4, 4’ -二羥基二苯、4，4 ’ -二胺基-3, 3 ’ -二羥基二苯、2，2 ’ -二胺基_ 3，3 ’ -二經基二苯、3，3 ’ _二胺基-2，2 ’ -二經基二苯、雙（3 -胺基-4 -羥基苯基）酮、雙（3 -胺基-2 -羥基苯基）酮、雙（4 -胺基-3 -羥基苯基）酮、雙（2 -胺基-3 -羥基苯基）酮、雙（3 -胺基-4 -經基苯基）硫、雙（3 -胺基-2 -經基苯基）硫、雙（4-胺基-3-羥基苯基）硫、雙（2-胺基-3-羥基苯基）硫、雙（3-胺基-4-羥基苯基）楓、雙（3-胺基-2-羥基苯基）楓、雙（4-胺基-3-羥基苯基）楓、雙（2-胺基-3-羥基苯基）楓、雙（3 -胺基-4 -羥基苯基）醚、雙（3 -胺基-2 -羥基苯基）醚、雙（4-胺基-3-羥基苯基）醚、雙（2-胺基-3-羥基苯基）醚、雙（3-胺基-4-羥基苯基）曱烷、雙（3-胺基-2-羥基苯基）曱 .坑、雙（4-胺基-3-經基苯基）曱烧、雙（2-胺基-3-經基苯基）曱烷、雙（3-胺基-4-羥基苯基）二氟曱烷、雙（3-胺基 -2 -經基苯基）二氟甲炫、雙（4 -胺基-3 -經基苯基）二氟曱烷、雙（2-胺基-3-羥基苯基）二氟曱烷、2, 2-雙（3-胺基 -4 -羥基苯基）丙烷、2，2 -雙（3 -胺基-2 -羥基苯基）丙烷、

313894.pic 第12頁 1309247 修正案號 91116539 五、發明說明（6) 2 , 2 -雙（4 -胺基-3 -羥基苯基）丙烷、2，2 -雙（2 -胺基-3 -羥基苯基）丙烷、2 , 2 -雙（3 -胺基-4 -經基苯基）六氟丙烷、2, 2 -雙（3 胺基-2 -經基苯基）六氟丙烧、2，2 -雙（4 -胺基-3 -羥基苯基）六氟丙烷、2, 2-雙（2-胺基-3-羥基苯基）六氟丙烷、及上述化合物中芳香環的氫原子係部分或全部被氟、氣、溴、及/或三氟曱基所取代之化合物。製造聚苯并噻唑所使用之雙（胺基苯硫酚）衍生物的例子可以列舉如2, 4-二胺基-1，5-二巯基苯、3, 3’ -二胺基 - 4，4 ’ -二疏基二苯、4，4 -二胺基-3，3 ’ -二疏基二苯、 2 , 2 ’ _二胺基 _ 3，3 -二疏基二苯、3，3 ’ _二胺基-2, 2 ’ -二酿基二苯、雙（3 -胺基-4 -巯基苯基）酮、雙（3 -胺基-2 -酼基苯基）酮、雙（4 -胺基-3 -毓基苯基）酮、雙（2 -胺基-3 -巯基苯基）酮、雙（3 -胺基-4 -毓基苯基）硫、雙（3 -胺基-2 -巯基苯基）硫、雙（4 -胺基-3 -魏基苯基）硫、雙（2 -胺基-3 -疏基苯基）硫、雙（3 -胺基-4 -魏基苯基）楓、雙（3 -胺基-2 -疏基苯基）楓、雙（4-胺基-3-毓基苯基）楓、雙（2-胺基-3-酼基苯基）楓、雙（3 -胺基_ 4 -魏基苯基）驗、雙（3 -胺基-2 -疏基苯基）鍵、雙（4 -胺基-3 -疏基苯基）醚、雙（2 -胺基_ 3 -¾¾基苯基）醚、雙（3-胺基-4-巯基苯基）甲烷、雙（3-胺基-2-巯基苯基）曱烷、雙（4-胺基-3-M基苯基）曱烷、雙（2-胺基 - 3 -魏基苯基）甲烧、雙（3 -胺基_ 4 -疏基苯基）二氟甲烧、雙（3-胺基-2-毓基苯基）二氟曱烷、雙（4-胺基-3-巯基苯基）二氟甲烷、雙（2 -胺基-3 -酼基苯基）二氟曱烷、2, 2 -雙 (3 -胺基-4 -魏基苯基）丙烧、2,2 -雙（3 -胺基-2 基苯基）丙烧、2, 2 -雙（4 -胺基-3 _威基苯基）丙烧、2,2 -雙（2 -胺基

313894.ptc 第13頁 1309247 , ς _案號91116539 年X月汐日修正_ 五、發明說明（7) - 3 -疏基苯基）丙烧、2，2 -雙（3 -胺基-4 -疏基苯基）六氟丙烷、2, 2-雙（3-胺基-2-巯基苯基）六氟丙烷、2, 2-雙（4-胺基-3 -疏基苯基）六氟丙烧、2,2 -雙（2 -胺基-3 -疏基苯基）六氟丙烷、及上述化合物中芳香環的氫原子係部分或全部被氟、氯、演、及/或三氟曱基所取代之化合物。製造本發明含有一般式（1 )所示重覆單位之聚苯并唑所使用之二羧酸衍生物可以列舉如乙二酸、丙二酸、丁二酸、戊二酸、己二酸等脂肪族二羧酸、鄰苯二曱酸、間苯二甲，酸、對苯二甲酸、4，4 二羧基二苯、2, 2 ’-二羧基二苯、2, 3’-二羧基二苯、3, 3’-二羧基二苯、3,4’-二羧基二苯、4,4’ -二羧基二苯基醚、2, 2’-二羧基二苯基醚、 2, 3’-二羧基二苯基醚、3, 3’-二羧基二苯基醚、3, 4’-二羧基二苯基醚、4, 4’-二羧基二苯基酮、2, 2’-二羧基二苯基嗣、2，3 ’ _二叛基二苯基晒、3，3’ _二缓基二苯基嗣、3, 4 ’ -二羧基二苯基酮、4，4 ’ -二羧基二苯基硫、2，2 ’ -二羧基二苯基硫、2, 3’-二羧基二苯基硫、3, 3’-二羧基二苯基硫、3, 4’-二羧基二苯基硫、4, 4’-二羧基二苯基楓、2, 2 ’ -二叛基二苯基楓、2,3’ -二魏基二苯基楓、3,3’ -二叛基二苯基楓、3, 4’-二羧基二苯基楓、4, 4’-二羧基二苯基甲烷、2, 2’-二羧基二苯基甲烷、2,3’-二羧基二苯基甲烷、3, 3’-二羧基二苯基曱烷、3, 4’-二羧基二苯基甲烷、 4, 4’-二羧基二苯基二氟曱烷、2, 2’-二羧基二苯基二氟曱烷、2, 3’-二羧基二苯基二氟甲烷、3, 3’-二羧基二苯基二氟曱烷、3, 4’-二羧基二苯基二氟曱烷、4, 4’-二羧基二苯基醚、2, 2’-二羧基二苯基醚、2, 3’-二羧基二苯基醚、3,

313894.ptc 第14頁 1309247 修正案號 91116539 五、發明說明（8) 3’-二羧基二苯基醚、3, 4’-二羧基二苯基醚等之芳香族二羧酸。再者，也可以使用二羧酸之二氯化物、二溴化物等酸化物，二羧酸之二曱基酯或二乙基酯等二烷基酯等。在本發明中，雙（胺基酚）衍生物、雙（胺基苯硫酚）衍生物及二羧酸衍生物並非分別限定使用單一者，亦可2種類以上混合後使用，此時，有關聚苯并噁唑者，使合計單一或2種類以上之雙（胺基苯）衍生物的莫爾數，與合計單一或2種類以上之二羧酸衍生物的莫爾數是相等或是幾乎相等。有關聚苯并噻唑者，使合計單一或2種類以上之雙 (胺基苯硫酚）衍生物的莫爾數，與合計單一或2種類以上之二羧酸衍生物的莫爾數是相等或是幾乎相等。聚合反應中使用之溶劑較好是可以溶解各衍生物者，例如可列舉如N，N -二甲基乙醯胺、N，N -二甲基曱醯胺、二曱基亞楓、N-甲基-2-吡咯烷酮、環己酮、丙酮、甲乙基酮、曱苯、聚磷酸等。由聚羥基醯胺或聚巯基醯胺等前驅物脫水閉環產生聚苯并唑之反應，通常是在加熱中進行。加熱條件是隨前驅物構造之不同而異，一般加熱溫度為6 0至4 0 0°C，加熱時間為1 0分鐘至5小時，最終之加熱溫度較好提高至聚苯并唑之玻璃轉移溫度以上。所得聚苯并唑之光導波損失以在波長1 3 0 0 nm及1 5 5 0nm 之光線透過率在80%以上為宜，85%以上更佳，最好在90% 以上。光線透過率不滿8 0 %時，光導波損失變大，達不到滿足做為光學材料之性能。聚苯并唑之折射率是以1. 4 5至1. 7 5為宜，在此範圍之

313894.pic 第15頁 1309247 修正案號 91116539 五、發明說明（9) 外時，與光纖或光路封止接著材之折射率會有很大之距離，反射損失等變大，因而達不到滿足做為光學材料之性能。聚苯并唑之複折射率以在0 . 0 0 8以下為宜，更好是在 0 . 0 0 7以下，尤以在0 . 0 0 6以下最好，複折射率超過0 . 0 0 8 時，光波速度之異方性變大，達不到滿足做為光學材料之性能。在聚苯并唑中，亦可添加可塑劑、安定劑、折射調整劑等。又，在提高各種力學特性、光學特性目的中，亦可配入0 . 0 1至5 0質量％的平均粒徑為0 . 0 0 5至2 0// m之填充劑，或添加紫外線吸收劑。光導波路之製造方法是在矽等基板上將聚羥基醯胺或聚毓基醯胺等前驅物以旋轉器等塗佈至所定厚度（例如，乾燥膜厚2至50# m)，在60至4 0 0°C加熱1至6小時，而獲得聚苯并唑之下部覆蓋層。其次使用比下部覆蓋層之折射率大的聚羥基醯胺或聚巯基醯胺等前驅物塗佈至所定厚度 (例如，乾燥膜厚2至50/z m)，在60至4 0 0°C、加熱1至6小時，而獲得聚苯并哇之核心層。其次使藉由蒸著法將金屬層之付著上去，進行光阻劑塗佈、經預烘烤、曝光、顯像、後烘乾，而得到有圖型之光阻層。金屬在光導波路之核心形狀中，藉由濕蝕刻除去之後，將聚苯并唑以乾蝕刻除去，如是，做為光罩使用之最後殘留金屬層以濕触刻除去後，可以得到脊棱型聚苯并唑光導波路。在脊棱型光導波路上面，使用比核心層折射率低之聚苯并唑的前驅物聚羥基醯胺或聚毓基醯胺等塗佈至所定厚

313894.ptc 第16頁 1309247 銳 91_ π 年 M a 修正五、發明說明（10) 度（例如，乾燥膜厚2至50// m)，藉由在60至40 0°C加熱1至 6小時，而獲得以聚苯并唑為上部覆蓋層之掩埋型聚苯并峻光導波路。上部覆蓋層較好是使用與下部覆蓋層相同的樹脂。光學過濾板之製造方法係，例如，在矽等基板上將聚羥基醯胺或聚敦基醯胺等前驅物塗佈至所定厚度（例如，乾燥膜厚0 . 1至1 〇// m)，在6 0至4 0 0°C加熱1至6小時，而得到聚苯并唑薄膜，然後在所得聚苯并唑薄膜上形成作為光學薄膜材料之介電體、半導體、金屬等而製得光學過濾板。光學透鏡之製造方法係，例如，將聚羥基醯胺或聚巯基醯胺等前驅物，封入有透鏡形狀之凹模鑄造模型中，藉由在60至4 0 0°C加熱1至6小時將前驅物閉環，然後由鑄造模型脫離模型而製得聚苯并唑光學透鏡。 (實施例）以下，藉由實施例具體說明本發明，但本發明之範圍並不限定於此等實施例。 (實施例1 ) 在附有攪拌裝置之4口玻璃燒瓶中，加入 3. 6 6g(0. Olmol )之2, 2-雙（3-胺基-4-羥基苯基）六氟丙烧，0.93g(0.022mol )之氯化链，1 6g之N-曱基口比.11各烧酮，一面攢:掉’一面冷卻到_ 3°C，在此溶液中加入 2. 95g(0. Olmol )之4, 4’ -雙（苯曱醯氣）醚，攪拌數分鐘後，回復至室溫（2 5°C )，再攪拌2 4小時將反應液滴入過量之水中，將所得之聚合物沉澱，過濾、乾燥，而得聚羥基 m

I _ m

I \ΒΛ i

313894.pic 第17頁 1309247 案號 91116539

B 修正五、發明說明（11) 醯胺。以G P C法測定所得聚.合物之分子量，其數平均分子量為 43, 0 0 0。又’將所得聚羥基醯胺溶解於N，N-二甲基乙醯胺中，調製成濃度為3 0重量％之溶液，將溶液用旋轉器塗佈到石夕晶片上’於6 0°C 3 0分鐘，1 0 0°C 3 0分鐘，1 5 Ot： 3 0分鐘， 2 0 0°C 3 0分鐘 ’ 2 5 0°C 3 0分鐘 ’ 3 0 0°C 3 0分鐘，3 5 (TC . 3 0分鐘進行處理’所得薄膜之厚度為5/z m，熱分解溫度為4 0 〇°C 以上。又，所得薄膜之折射率為1. 5 9 3 0 ( 1 3 0 0nm)、1. 5910 (1550nm)，複折射率為 0.006(1300nm)、〇.〇〇6(ΐ550ηπ〇。測定導波損失時，光線透過率為92%(130〇nm)、91%(1550 nm)，又，硬化後之聚苯并唑中之含氟量（計算值）為2 1質量％。 (實施例2) 以2 . 0 3 g之間苯二曱醯氣取代實施例1之4，4，_雙（苯甲醯氯）醚做為酸氯化物，其餘依實施例1之相同方法，而製得聚合物’此聚合物之分子量之數平均分子量為42,〇〇〇。依實施例1之相同方法製作厚度5# m之薄膜，測定其折射率為 1. 5662(1300nm)、1. 5608(1550nm)’ 複折射率為〇.〇〇7(130〇·)、0.〇〇 7 ( 1 550nm)。導波損失為光線透過率 91%(1300nm)、90%(i550nm)。又，薄膜之熱分解溫度為 4 0 0°C以上，硬化後之聚苯并唑中之含氟量（計算值）為2 5 質量％。 (比較例1 ) 以下述構造式所示聚醯亞胺製造高耐熱性聚合物之薄膜（厚度5// m) ’測定其折射率為1. 5 72 0 ( 1 3 〇〇nm)、1. 5 6 65

3]3894.ptc 第18頁 1309247 案號五、發明說明（12) 月$曰修正 (1 5 5 0 n m)，複折射導波損失為光線、率為 0_ 0 0 9 ( 1 3 0 0 nm)、0_ 0 0 9 ( 1 5 5 0nm)，硬化後之^醯亞，過率78%(1300nm)、75%(1550nm)。又’ " # +之含氟量（計算值）為1 9質量％。

以下述構造彳 (M ^ 、％所示聚喹啉製造高耐熱性聚合物之薄膜 W沒b" m) ’測定 n &其折射率為 1. 77 1 1 ( 1 300nm)、1. 7528 曾。ηπ〇’ 複折射率為〇. 〇85(13〇〇nm)、〇. 〇71(155〇nm)，導波損失為光線透過率65%( 1 3 0 0nm)、61%( 1 550nm)。又，硬化後之聚喹啉中之含氟量（計算值）為〇質量％。

上述實施例、比較例之測定結果整理如表1所示。

313894.pic 第19頁 1309247 [)ι 〇 ^ ~~~~-__索號.91116539 年五、發明說明（13) 表 1 項目實施例1 實施例2 比較例1 (聚醯亞胺）比較例2 (聚喹啉）折射率 1300nm 1.5930 1.5662 1.5720 1.7711 1550nm 1.5910 1.5608 1.5665 1.7528 複折射率 1300nm 0.006 0.007 1 0.009 0.085 1550nm 0.006 0.007 0.009 0.071 光線透過率。/〇 1300nm 92 91 78 65 1550nm 91 90 75 61 由表1可知：使用本發明之聚苯并°坐光學用樹脂，折射率在近紅外線區之測定值的變化比聚醯亞胺或聚喹啉小，又，複折射率測定值之變化比聚喹啉還優異，與聚醯亞胺相同，並且此值低則光學特性優異，再者，近紅外區之光線透過率比聚醯亞胺或聚唼啉高，光學特性優。 (實施例3 ) 在表面附著S i 0媒（厚度約2/z m )之直徑5吋的矽晶片上’以實施例2之聚合物N, N，-二甲基乙醯胺的20質量％溶液藉由旋轉塗膜法塗布，將塗膜在6 (TC 3 0分鐘、1 〇 Ot 3 0

分鐘、1 5 (TC 3 0分鐘 ' 2 0 0°C 3 0分鐘、2 5 0°C 3 0分鐘、3 0 (TC 3 0分鐘、3 5 0°C 3 0分鐘之條件下分段熱處理後，形成膜厚 2 0# m之底部覆蓋層。在其上面，以實施例1之聚合物 N, N 二甲基乙醯胺之2 0質量％溶液藉由旋轉塗膜法塗布，在與底部覆蓋層相同條件下熱處理，形成膜厚6μ m之核心

313S94.ptc 第20 1 1309247 案號91116539 ί月ί曰修正五、發明說明（14) 藉由形成線寬6" m之圖形用之光罩’以超高壓水銀燈照射紫外線後’使用顯像液顯像。之後，使用乾蝕刻裝置進行聚合物之R I E加工，除去最後殘留之光阻膜，而得脊棱型光導波路，在此光導波路中通過波長1. m之光，以切背 (Cut back)法測定光傳輸損失之結果為〇. 3dB/cm。 (實施例4) 以4. 2 9g之4, 4 -(六氟亞異丙基）雙（苯曱醯氯）取代實施例1之4, 4’ -雙（苯甲醯氣）醚做為酸氯化物，其餘依實施例1相同方法實施而得聚合物，此聚合物之數平均分子量為4 3，0 0 0。依實施例1之相同方法製作薄膜，測定折射其率為 l_5201(1300nm)、1.5180(1550nm)，複折射率為 0.006(1300nm)、0.006(1550nm)。導波損失為光線透過率 93%(1300nm)、93%(1550nm)。又，薄膜之熱分解溫度為 4 0 0°C以上。又’硬化後之聚苯并唑中之含氟量（計算值）為33質量 %。 (實施例5) 使用2 · 1 6 g之3，3 ’ -二胺基-4，4 ’ -二經基聯笨代替實施例1之2，2 -雙（3 -胺基-4 -羥基苯基）六氟丙烷做為胺基紛；另外以4. 29g之4，4 -(六氣亞異丙基）雙（笨曱醯氯）取代實施例1之4，4 雙（苯甲醯氣）醚做為酸氣化物，其餘依實施例1之相同方法實施而製得聚合物。此聚合物之數平均分子量為5 6，0 0 0。依實施例1之相同方法製作薄膜，測定其折射率為 1.6 1 0 2 ( 1 3 0 0nm)、1.6 070 ( 1 5 5 0nm)，複折射率為 0. 002(1300 nm)、0.002(1550 nm)。導波損失為光線透過率

313894.ptc 第 21 頁 1309247 案號91116539 "^年^月$日條正__ 五、發明說明（15) 91%(1300nm)、90%(1550nm)。又，薄膜之熱分解溫度在 4 0 0°C以上，硬化後之聚苯并唑中之含氟量（計算值）為2 1 質量％。 (實施例6 ) 使用2 . 3 2 g之羥基雙（3 -胺基-4 -羥基苯）取代實施例1 之2, 2-雙（3-胺基-4-羥基苯基）六氟丙烷做為胺基酚；另外，以4. 29g之4, 4’ -(六氟亞異丙基）雙（苯甲醯氣）取代實施例1之4, 4’ -雙（苯曱醯氣）醚做為酸氣化物，依實施例1 之相同方法實施而製得聚合物。此聚合物之數平均分子量為4 2，0 0 0。依實施例1之相同方法製作薄膜，測定其折射率為 1.5932(1300nm)、1.5921(1550nm)，複折射率為 0.006(1300 nm)、0.006(1550 nm)。導波損失為光線透過率 93%(1300nm)、93%(1550nm)。又，薄膜之熱分解溫度在 4 0 0°C以上’硬化後之聚苯并唑中之含氟量（計算值）為2 1 質量％。 (實施例7 ) 使用2_ 32g之雙（3-胺基-4-羥基苯）醚取代實施例1之 2，2 -雙（3 -胺基-4 -經基苯基）六氟丙院做為胺基盼；依實施例1之相同方法實施而製得聚合物，此聚合物之數平均分子量為4 6，0 0 0。依實施例1之相同之方法製作薄膜，測定其折射率為 1.650 0 ( 1 30 0nm)、1.6476 ( 1 55 0nm)，複折射率為 0.0 0 1 5 ( 1 30 0nm)、0.00 1 5 ( 1 55 0nm)。導波損失為光線透過率92%( 1 3 0 0nm)、92%( 1 5 50nm)。又，薄膜之熱分解溫度在4 0 0°C以上，硬化後之聚苯并唑中之含氟量（計算值）為0質量％

313894.ptc 第22頁 1309247 案號 91116539 曰修正五、發明說明（16) (發明之效果）本發明之光學用樹脂於光通信中所使用的近紅外線區中顯示有高的透明性、在近紅外線區的測定波長折射率及複折射率變化很少，複折射率值低，並且耐熱性高。本發明之光學用樹脂可以使用在脊棱型或掩埋型光導波路中，此外也可以使用於光學過濾板或透鏡等。

313894.ptc 第23頁 1309247 修正案號 91116539 圖式簡單說明本案無圖式說明。

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Claims

號 91Π 6539 1309247 案六、申請專利範圍 1. 一種以含有一般式（1 )所示之重覆單位之聚苯并唑 (ρ ο 1 y b e n z q a ζ ο 1 e )做為構成要素之樹脂之用途

(1) (式中，R !表示含有芳香環之4價有機基，2組之N與X分別係以N及X鍵結在R】之芳香環中彼此相鄰之位置，俾可形成5員環，又式中R 2為2價之有機基，X表示氧原子或硫原子）’ 該樹脂係用於製造於波長1 3 0 0 nm及1 5 5 0 nm之光線透過率為8 0 %以上之光學零組件。 2. 如申請專利範圍第1項之樹脂之用途，其中該樹脂係以一般式（1)所示之重覆單位之X表示氧原子之聚苯并噁峻做為構成要素者。 3. 如申請專利範圍第2項之樹脂之用途，其中聚苯并噁唑係含有氟之聚苯并。惡°坐者。 4. 如申請專利範圍第3項之樹脂之用途，其中含氟之聚苯并噁唑係由至少1種雙（胺基酚）衍生物與至少1種二羧酸衍生物反應而得，且上述至少1種雙（胺基紛）衍生物與上述至少1種二缓酸衍生物中，至少1種為含氣衍生物且至少1種為不含氟衍生物者。 5. 如申請專利範圍第4項之樹脂之用途，其中含氟雙（胺

313894.pic 第25頁案號 91116539 1309247 六、申請專利範圍基酚）衍生物係含有三氟曱基之雙（胺基酚）衍生物，含氟二羧酸衍生物係含有三氟甲基之二羧酸衍生物者。 6. 如申請專利範圍第1項之樹脂之用途，其中該樹脂係以一般式（1)所示之重覆單位之X表示硫原子之聚苯并噻。坐做為構成要素者。 7. 如申請專利範圍第1項之樹脂之用途，其中一般式（1) 所示之重覆單位數為1至50 0者。 8. 如申請專利範圍第1項之樹脂之用途，其中該光學零組件於波長1 3 0 0 n m及1 5 5 0 n m之折射率係1. 4 5至1. 7 5 者。 9. 如申請專利範圍第1項之樹脂之用途，其中該光學零組件於波長1300n m及1 5 5 0 n m之複折射率係0 . 0 0 8以下者。 1 0 .如申請專利範圍第1至9項中任一項之樹脂之用途，其中該光學零組件係光導波路。 11.如申請專利範圍第1至9項中任一項之樹脂之用途，其中該光學零組件係濾光片。 1 2.如申請專利範圍第1至9項中任一項之樹脂之用途，其中該光學零組件係光學透鏡。

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