JP4492113B2 - 樹脂組成物および光導波路 - Google Patents
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1. コア層および/またはクラッド層を有する光導波路を形成するための樹脂組成物であって、
ポリベンゾオキサゾール前駆体と、
ビスアミノフェノール化合物もしくはジアミノジヒドロキシ化合物またはそれらの誘導体と、反応性の炭素不飽和結合を有するモノカルボン酸とを合成してなるビスベンゾオキサゾール前駆体と、を必須成分とする樹脂組成物であって、前記ビスベンゾオキサゾール前駆体の配合割合は、ポリベンゾオキサゾール前駆体100重量部に対し、5〜100重量部であることを特徴とする樹脂組成物。
本発明の樹脂組成物には、上記必須成分の他に、必要に応じて、密着助剤、酸化防止剤、消泡剤、レベリング剤などを添加することもできる。
B−AP :1,3−ジアミノ−4,6−ジヒドロキシベンゼン
6F−AP:2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン
8F−AP:4,4’−ビス(4−アミノ−3−ヒドロキシフェノキシ)オクタフルオロビフェニル
BF−AP:3,3’−ジアミノ−4,4’−ジヒドロキシビフェニル
I−CC :イソフタル酸ジクロリド
S−CC :スベリン酸ジクロリド
O−CC :4,4’−オキシビス安息香酸ジクロリド
6F−CC:2,2’−ビス(4−カルボキシフェニル)−ヘキサフルオロプロパンのジカルボン酸クロリド
A−C :塩化アクリロイル
B−C :塩化ベンゾイル
N−C :5−ノルボルネン−2−カルボン酸クロライド
4E−C :4−エチニル安息香酸クロライド
NMP :N−メチル−2−ピロリドン
8F−AP 544.4重量部(1.0mol)を、乾燥したNMP 2178重量部に溶解し、ピリジン 193.8部(2.45mol)を添加後、乾燥窒素下、−15℃で、NMP 796重量部にI−CC 198.9重量部(0.98mol)を溶解したものを、30分間かけて滴下した。滴下終了後、室温まで戻し、室温で5時間かく拌した。その後、反応溶液を大量のイオン交換水に滴下し再沈殿し、沈殿物を集め、乾燥することにより、ポリベンゾオキサゾール前駆体PBO−1 660重量部を得た。ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィ(以下GPCと略記)を用いて、得られた前駆体の分子量を測定したところ、ポリスチレン換算の重量平均分子量は39000であった。
前記ポリベンゾオキサゾール前駆体PBO−1の合成と同様の方法で、表1に示す配合にて、ポリベンゾオキサゾール前駆体PBO−2〜8の合成を行った。なお、溶媒は、全てNMPを使用し、PBO−1の場合と同様に、モノマーの濃度が20%になるような量比で溶解して合成を行った。また、ピリジンの添加量はジカルボン酸クロリドモノマーの2.5倍モルの量比となるように添加した。得られた前駆体のGPCで測定した重量平均分子量も表1に合わせて示した。
ジカルボン酸クロリドモノマーの代わりに表2に示したモノカルボン酸クロリドを用い、ピリジンの添加量がモノカルボン酸クロリドの1.25倍モルにしたこと以外は、PBO−1の場合と同様の方法により表2に示した配合でビスベンゾオキサゾール前駆体BBO−1〜5の合成を行った。どの配合においても白色固体の生成物が得られた。
前記ポリベンゾオキサゾール前駆体PBO−1 100重量部およびBBO−1 5重量部を245重量部のNMPに投入し、マグネティックスターラーを用い約5時間攪拌して淡黄色透明の樹脂組成物R−1の溶液335重量部を得た。
前記樹脂組成物R−1の調整と同様の方法で、表3および表4に示す配合にて、樹脂組成物R−2〜14の調整を行った。なお、溶媒は全てNMPを使用しR−1の場合と同様に組成物の濃度が30%となるように配合した。全ての配合で均一な溶液を得た。
ポリベンゾオキサゾール前駆体PBO−1 30重量部を70重量部のNMPに溶解した。得られた溶液を、シリコン基板上に、スピンコート法で塗布し、350℃で1時間加熱し、厚さ約3μmのフィルムを得た。このフィルムの1300nmの光における屈折率を、メトリコン社製プリズムカプラにて測定したところ、屈折率は1.605であった。次に、このサンプルを2%のフッ化水素酸水溶液に浸漬し、シリコン基板から剥離、水洗、乾燥することで、単体のフィルムを得た。得られたフィルムは、無色透明の均一なフィルムであった。この単体のフィルムについて、TG/DTA測定機を用い、昇温速度10℃/分で、窒素中の5%減量温度を測定したところ、521℃であった。
前記PBO−1の場合と同様の方法で、表5に示したポリベンゾオキサゾール前駆体を使用してフィルムを作製し同様の評価を行った結果を、表5に合わせて示した。
前記PBO−1の場合と同様の方法で、表6および表7に示した前記の樹脂組成物溶液を使用してフィルムを作製し同様の評価を行った結果を、表6および表7に合わせて示した。この中でR−13およびR−14を用いた場合においては自立性のフィルムを得ることが出来ず評価に進めなかった。ビスベンゾオキサゾール前駆体の添加量が多すぎたためと考えられる。それ以外はどの配合も屈折率、無色透明性、耐熱性においてポリベンゾオキサゾール前駆体のみの場合と遜色ない結果であった。
前記の樹脂組成物R−2の溶液をスピンコート法により、シリコン基板上に塗布し、320℃で1時間加熱してフィルム化し下部クラッド層とした。その上に前記の樹脂組成物R−1の溶液を、下部クラッド層と同様の方法でフィルム化しコア層とした。この際、下部クラッド膜とコア膜の間で、インターミキシングはまったく認められなかった。次に、前記コア層上に膜厚0.3μmのアルミニウム層を蒸着し、マスク層を形成した。さらに、前記アルミニウム層上に、ポジ型フォトレジスト(ジアゾナフトキノン−ノボラック樹脂系、東京応化製、商品名OFPR−800)を、スピンコート法により塗布した後、約95℃でプリベークを行った。次に、パターン形成用のフォトマスク(Ti)を配置し、超高圧水銀ランプを用いて紫外線を照射した後、ポジ型レジスト用現像液(TMAH:テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液、東京応化製、商品名NMD−3)を用いて現像した。その後、135℃でポストベークを行った。これにより、線幅8μmを有する直線状のレジストパターンが得られた。次に、アルミニウム層のウエットエッチングを行い、レジストパターンをアルミニウム層に転写した。更に、パターニングされたアルミニウム層をマスクとして、コア層をドライエッチングにより加工した。次に、アルミニウム層をエッチング液で除去した。更に、コア層が露出した面上に、樹脂組成物R−2の溶液を、下部クラッド層と同様の方法でフィルム化し、上部クラッド層とした。最後に、光導波路の両端を、ダイシングソーで切り落として、光の入出射端面を形成した。このようにして、シリコン基板上に埋め込み型シングルモード光導波路が得られた。
実施例1と同様の方法で、表8に示した各原料を、コア層およびクラッド層に用いて、光導波路を作成し、実施例1と同様の評価を行った結果を表8に合わせて示した。全ての系で、クラックのない、光伝搬損失の小さな優れた性能の光導波路が得られていることがわかる。
実施例1と同様の方法で、表9に示した各原料を、コア層およびクラッド層に用いて、光導波路を作成し、実施例1と同様の評価を行った結果を表9に合わせて示した。これらの系では顕微鏡観察によりクラックが観察され、光損失測定で光損失値が高いことが分った。クラック部分で光が散乱され光損失値が悪くなったものと考えられる。クラック発生の理由としては、比較例1および2においては本発明の必須成分である一般式(1)で表されるビスベンゾオキサゾール前駆体が添加されていないあるいは添加量が少ないためであり、比較例3においては添加したビスベンゾオキサゾール前駆体が芳香環の不飽和結合しか有さないものであったためと考えられる。
2 下部クラッド層
3 コア層
4 コアパターンを形成するためのマスク層
5 レジスト層
6 上部クラッド層
Claims (1)
- コア層および/またはクラッド層を有する光導波路を形成するための樹脂組成物であって、
ポリベンゾオキサゾール前駆体と、
ビスアミノフェノール化合物もしくはジアミノジヒドロキシ化合物またはそれらの誘導体と、反応性の炭素不飽和結合を有するモノカルボン酸とを合成してなるビスベンゾオキサゾール前駆体と、を必須成分とする樹脂組成物であって、前記ビスベンゾオキサゾール前駆体の配合割合は、ポリベンゾオキサゾール前駆体100重量部に対し、5〜100重量部であることを特徴とする樹脂組成物。
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