JP2003294967A - プラスチック光導波路の製造方法 - Google Patents
プラスチック光導波路の製造方法Info
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- JP2003294967A JP2003294967A JP2002093102A JP2002093102A JP2003294967A JP 2003294967 A JP2003294967 A JP 2003294967A JP 2002093102 A JP2002093102 A JP 2002093102A JP 2002093102 A JP2002093102 A JP 2002093102A JP 2003294967 A JP2003294967 A JP 2003294967A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 電気特性、耐熱性、及び透明性に優れ、低価
格で、大面積化を実現することができるプラスチック光
導波路用の製造方法を提供する。 【課題手段】 一般式（１）で表される繰り返し単位を
有するポリベンゾオキサゾール前駆体を閉環した構造を
有するポリベンゾオキサゾール樹脂からなるなることを
特徴とする光通信用のプラスチック光導波路の製造方
法。 （但し、式中のｍおよびｎは、ｍ＞０、ｎ≧０、２≦ｍ
＋ｎ≦１０００、および０．０５≦ｍ／（ｍ＋ｎ）≦１
を満たす整数である。また、Ｒ1〜Ｒ4は、水素原子また
は一価の有機基である。）
格で、大面積化を実現することができるプラスチック光
導波路用の製造方法を提供する。 【課題手段】 一般式（１）で表される繰り返し単位を
有するポリベンゾオキサゾール前駆体を閉環した構造を
有するポリベンゾオキサゾール樹脂からなるなることを
特徴とする光通信用のプラスチック光導波路の製造方
法。 （但し、式中のｍおよびｎは、ｍ＞０、ｎ≧０、２≦ｍ
＋ｎ≦１０００、および０．０５≦ｍ／（ｍ＋ｎ）≦１
を満たす整数である。また、Ｒ1〜Ｒ4は、水素原子また
は一価の有機基である。）
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、プラスチック光導
波路の製造方法に関するものである。更に詳しくは、耐
熱性、電気特性に、機械特性、物理特性に優れレーザー
光などを低損失で結合伝送するプラスチック光導波路を
用いたインターコネクション・光通信デバイス等に適用
することができるプラスチック光導波路の製造方法に関
するものである。。
波路の製造方法に関するものである。更に詳しくは、耐
熱性、電気特性に、機械特性、物理特性に優れレーザー
光などを低損失で結合伝送するプラスチック光導波路を
用いたインターコネクション・光通信デバイス等に適用
することができるプラスチック光導波路の製造方法に関
するものである。。
【０００２】
【従来の技術】従来、光導波路材料としては、ガラス
（石英）やプラスチックなどの材料が検討されている。
そのうち、石英で構成した光導波路は、低損失および高
耐熱性などの利点を有するため、光ファイバーや光イン
ターコネクション・光通信デバイスなどの分野に置いて
数多く検討され実際に利用されている。
（石英）やプラスチックなどの材料が検討されている。
そのうち、石英で構成した光導波路は、低損失および高
耐熱性などの利点を有するため、光ファイバーや光イン
ターコネクション・光通信デバイスなどの分野に置いて
数多く検討され実際に利用されている。
【０００３】一方、プラスチックで構成された光導波路
は、石英光導波路よりも作成および大面積化が容易であ
り、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネートおよ
び紫外線硬化型樹脂などのポリマーを用いたプラスチッ
ク光導波路が検討されている。
は、石英光導波路よりも作成および大面積化が容易であ
り、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネートおよ
び紫外線硬化型樹脂などのポリマーを用いたプラスチッ
ク光導波路が検討されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た従来の石英光導波路では、作製に長い工程を要するた
め、本質的に低価格化は困難である。また、製作プロセ
スにおいて１０００℃前後の高熱処理を要するため、電
気回路基板との融合性が悪い上、大面積化が困難である
問題があった。
た従来の石英光導波路では、作製に長い工程を要するた
め、本質的に低価格化は困難である。また、製作プロセ
スにおいて１０００℃前後の高熱処理を要するため、電
気回路基板との融合性が悪い上、大面積化が困難である
問題があった。
【０００５】また、ポリメタクリレート、ポリカーボネ
ートもしくは紫外線硬化型樹脂で構成したプラスチック
光導波路では、その構成材料の耐熱性は、１００℃前後
であるため使用環境が限定されると共に、実装回路とし
て組み込むためには数百度のハンダ工程を通過すること
が必要となり、電気回路基板との融合性が悪くなるとい
う問題があった。
ートもしくは紫外線硬化型樹脂で構成したプラスチック
光導波路では、その構成材料の耐熱性は、１００℃前後
であるため使用環境が限定されると共に、実装回路とし
て組み込むためには数百度のハンダ工程を通過すること
が必要となり、電気回路基板との融合性が悪くなるとい
う問題があった。
【０００６】また、プラスチック材料でありながら３０
０℃以上の耐熱性を有するポリイミドをプラスチック光
導波路に用いようとする試みも一部でなされているが、
現状のポリイミドでは、その特異な分子構造のため、構
造に起因する吸収による光損失がはなはだ大きく、光導
波路には適さないという問題があった。また、ポリイミ
ド樹脂において、その構造から結晶性の高い樹脂があ
り、膜厚が薄い場合は影響が少ないが、導波路に使用す
る膜厚になると、その結晶性の高さから膜が脆くなる場
合や、屈折率が変化することがある。
０℃以上の耐熱性を有するポリイミドをプラスチック光
導波路に用いようとする試みも一部でなされているが、
現状のポリイミドでは、その特異な分子構造のため、構
造に起因する吸収による光損失がはなはだ大きく、光導
波路には適さないという問題があった。また、ポリイミ
ド樹脂において、その構造から結晶性の高い樹脂があ
り、膜厚が薄い場合は影響が少ないが、導波路に使用す
る膜厚になると、その結晶性の高さから膜が脆くなる場
合や、屈折率が変化することがある。
【０００７】そこで、本発明は、電気特性、耐熱性、及
び透明性に優れ、低価格で、大面積化を実現することが
できるプラスチック光導波路の製造方法を提供すること
にある。
び透明性に優れ、低価格で、大面積化を実現することが
できるプラスチック光導波路の製造方法を提供すること
にある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記従来
の問題点を鑑み、鋭意検討を重ねた結果、一般式（１）
で表される構造を有するポリベンゾオキサゾール前駆体
をクラッド材料及びコア材料として用い、クラッド層と
コア層を形成することにより、本発明の目的を達成する
ことを見いだし、本発明を完成するに至った。
の問題点を鑑み、鋭意検討を重ねた結果、一般式（１）
で表される構造を有するポリベンゾオキサゾール前駆体
をクラッド材料及びコア材料として用い、クラッド層と
コア層を形成することにより、本発明の目的を達成する
ことを見いだし、本発明を完成するに至った。
【０００９】即ち、本発明は、
１． 一般式（１）で表される構造を有するポリベンゾ
オキサゾール前駆体をクラッド材料及びコア材料として
用い、該クラッド材料により下部クラッド層を形成し硬
化した後に、下部クラッド層上に、該コア材料によりコ
ア層を形成し硬化し、該コア層をフォトリソグラフィと
ドライエッチングにより加工してコアを形成することを
特徴とするプラスチック光導波路の製造方法、
オキサゾール前駆体をクラッド材料及びコア材料として
用い、該クラッド材料により下部クラッド層を形成し硬
化した後に、下部クラッド層上に、該コア材料によりコ
ア層を形成し硬化し、該コア層をフォトリソグラフィと
ドライエッチングにより加工してコアを形成することを
特徴とするプラスチック光導波路の製造方法、
【００１０】
【化１８】
（但し、式中のｍおよびｎは、ｍ＞０、ｎ≧０、２≦ｍ
＋ｎ≦１０００、および０．０５≦ｍ／（ｍ＋ｎ）≦１
を満たす整数である。また、Ｒ1〜Ｒ4は、水素原子また
は一価の有機基である。） ２． コア及び下部クラッド層の露出面上に、クラッド
材料により、上部クラッド層を形成し硬化して上部クラ
ッドを形成する前記第１項記載のプラスチック光導波路
の製造方法、 ３． ポリベンゾオキサゾール前駆体が、一般式（１）
中のＸとして、一般式（２）〜（７）で表される基の中
から選ばれる４価の基を有するものである、前記第１項
または第２項記載のプラスチック光導波路の製造方法、
＋ｎ≦１０００、および０．０５≦ｍ／（ｍ＋ｎ）≦１
を満たす整数である。また、Ｒ1〜Ｒ4は、水素原子また
は一価の有機基である。） ２． コア及び下部クラッド層の露出面上に、クラッド
材料により、上部クラッド層を形成し硬化して上部クラ
ッドを形成する前記第１項記載のプラスチック光導波路
の製造方法、 ３． ポリベンゾオキサゾール前駆体が、一般式（１）
中のＸとして、一般式（２）〜（７）で表される基の中
から選ばれる４価の基を有するものである、前記第１項
または第２項記載のプラスチック光導波路の製造方法、
【００１１】
【化１９】
【００１２】
【化２０】
【００１３】
【化２１】
【００１４】
【化２２】
【００１５】
【化２３】
【００１６】
【化２４】
（式（２）〜（７）で表される構造中、ベンゼン環上の
水素原子は、メチル基、フッ素原子、トリフルオロメチ
ル基および塩素原子の中から選ばれる、少なくとも１個
の基で置換されていても良い。Ｚ1は、単結合または一
般式（８）〜（１０）の中より選ばれる基を表す。）
水素原子は、メチル基、フッ素原子、トリフルオロメチ
ル基および塩素原子の中から選ばれる、少なくとも１個
の基で置換されていても良い。Ｚ1は、単結合または一
般式（８）〜（１０）の中より選ばれる基を表す。）
【００１７】
【化２５】
【００１８】
【化２６】
（式（９）中、ａは１〜５までの整数を表す。）
【００１９】
【化２７】
（式（９）、式（１０）で表される構造中、ベンゼン環
上の水素原子は、メチル基、フッ素原子、トリフルオロ
メチル基および塩素原子の中から選ばれる、少なくとも
１個の基で置換されていても良い。）
上の水素原子は、メチル基、フッ素原子、トリフルオロ
メチル基および塩素原子の中から選ばれる、少なくとも
１個の基で置換されていても良い。）
【００２０】４． ポリベンゾオキサゾール前駆体が、
一般式（１）中のＹ1、Ｙ2として、一般式（１１）〜
（１３）の中から選ばれる２価の基を有するものであ
る、前記第１項１〜第３項のいずれかに記載のプラスチ
ック光導波路用の製造方法、
一般式（１）中のＹ1、Ｙ2として、一般式（１１）〜
（１３）の中から選ばれる２価の基を有するものであ
る、前記第１項１〜第３項のいずれかに記載のプラスチ
ック光導波路用の製造方法、
【００２１】
【化２８】
【００２２】
【化２９】
【００２３】
【化３０】
（式（１３）中、ｉ，ｊ，ｋは２〜１０までの整数を表
す。）
す。）
【００２４】
【化３１】
（式（１１）、式（１２）、式（１４）で表される構造
中、ベンゼン環上の水素原子は、メチル基、、フッ素原
子、トリフルオロメチル基および塩素原子の中から選ば
れる、少なくとも１個の基で置換されていても良い。Ｚ
2は、単結合または一般式（１５）〜（１６）の中より
選ばれる基を表す。）
中、ベンゼン環上の水素原子は、メチル基、、フッ素原
子、トリフルオロメチル基および塩素原子の中から選ば
れる、少なくとも１個の基で置換されていても良い。Ｚ
2は、単結合または一般式（１５）〜（１６）の中より
選ばれる基を表す。）
【００２５】
【化３２】
【００２６】
【化３３】
（式（１６）中、ｂは１〜５までの整数を表す。）
【００２７】
【化３４】
（式（１６）、式（１７）で表される構造中、ベンゼン
環上の水素原子は、メチル基、フッ素原子、トリフルオ
ロメチル基および塩素原子の中から選ばれる、少なくと
も１個の基で置換されていても良い。）、を提供するも
のである。
環上の水素原子は、メチル基、フッ素原子、トリフルオ
ロメチル基および塩素原子の中から選ばれる、少なくと
も１個の基で置換されていても良い。）、を提供するも
のである。
【００２８】
【発明の実施の形態】本発明に用いるポリベンゾオキサ
ゾール前駆体は、ビスアミノフェノール化合物もしくは
ジアミノジヒドロキシベンゼン化合物、またはそれらの
エステル化物やエーテル化物などの誘導体とジカルボン
酸とから、酸クロリド法、活性化エステル法またはポリ
リン酸もしくはジシクロヘキシルカルボジイミド等の脱
水縮合剤の存在下での縮合反応等の方法により得ること
ができる。
ゾール前駆体は、ビスアミノフェノール化合物もしくは
ジアミノジヒドロキシベンゼン化合物、またはそれらの
エステル化物やエーテル化物などの誘導体とジカルボン
酸とから、酸クロリド法、活性化エステル法またはポリ
リン酸もしくはジシクロヘキシルカルボジイミド等の脱
水縮合剤の存在下での縮合反応等の方法により得ること
ができる。
【００２９】本発明に用いるジアミノジヒドロキシ化合
物の例で、一般式（１）中のＸとして、特に式（２）で
表される４価の基を構成するものとしては、１，３−ジ
アミノ−４，６−ジヒドロキシベンゼン、１，４−ジア
ミノ−３，６−ジヒドロキシベンゼン、３−ジアミノ−
４，６−ジヒドロキシジフルオロベンゼン、１，４−ジ
アミノ−３，６−ジヒドロキシジフルオロベンゼン、
１，４−ジアミノ−２，３−ジヒドロキシジフルオロベ
ンゼン、１，２−ジアミノ−３，６−ジヒドロキシジフ
ルオロベンゼン、１−メチル−２，４−ジアミノ−３，
５−ジヒドロキシベンゼン、１−メチル−２，５−ジア
ミノ−３，６−ジヒドロキシベンゼン、１−メチル−
２，４−ジアミノ−３，５−ジヒドロキシフルオロベン
ゼン、１−メチル−２，５−ジアミノ−３，６−ジヒド
ロキシフルオロベンゼン、１，４−ジメチル−２，５−
ジアミノ−３，６−ジヒドロキシベンゼン、１−トリフ
ルオロメチル−２，４−ジアミノ−３，５−ジヒドロキ
シベンゼン、１−トリフルオロメチル−２，５−ジアミ
ノ−３，６−ジヒドロキシベンゼン、１−トリフルオロ
メチル−２，４−ジアミノ−３，５−ジヒドロキシフル
オロベンゼン、１−トリフルオロメチル−２，５−ジア
ミノ−３，６−ジヒドロキシフルオロベンゼン、１，４
−ビス（トリフルオロメチル）−２，５−ジアミノ−
３，６−ジヒドロキシベンゼン、１，３−ジアミノ−
４，６−ジヒドロキシジクロロベンゼン、１，４−ジア
ミノ−３，６−ジヒドロキシジクロロベンゼン、１，４
−ジアミノ−２，３−ジヒドロキシジクロロベンゼン、
１，２−ジアミノ−３，６−ジヒドロキシジクロロベン
ゼン等を挙げることができ、またこれらのエステル化合
物やエーテル化合物などの誘導体を挙げることができる
るが、これらに限定されるものではない。これらのジア
ミノジヒドロキシ化合物は単独、または組み合わせて使
用することができる。
物の例で、一般式（１）中のＸとして、特に式（２）で
表される４価の基を構成するものとしては、１，３−ジ
アミノ−４，６−ジヒドロキシベンゼン、１，４−ジア
ミノ−３，６−ジヒドロキシベンゼン、３−ジアミノ−
４，６−ジヒドロキシジフルオロベンゼン、１，４−ジ
アミノ−３，６−ジヒドロキシジフルオロベンゼン、
１，４−ジアミノ−２，３−ジヒドロキシジフルオロベ
ンゼン、１，２−ジアミノ−３，６−ジヒドロキシジフ
ルオロベンゼン、１−メチル−２，４−ジアミノ−３，
５−ジヒドロキシベンゼン、１−メチル−２，５−ジア
ミノ−３，６−ジヒドロキシベンゼン、１−メチル−
２，４−ジアミノ−３，５−ジヒドロキシフルオロベン
ゼン、１−メチル−２，５−ジアミノ−３，６−ジヒド
ロキシフルオロベンゼン、１，４−ジメチル−２，５−
ジアミノ−３，６−ジヒドロキシベンゼン、１−トリフ
ルオロメチル−２，４−ジアミノ−３，５−ジヒドロキ
シベンゼン、１−トリフルオロメチル−２，５−ジアミ
ノ−３，６−ジヒドロキシベンゼン、１−トリフルオロ
メチル−２，４−ジアミノ−３，５−ジヒドロキシフル
オロベンゼン、１−トリフルオロメチル−２，５−ジア
ミノ−３，６−ジヒドロキシフルオロベンゼン、１，４
−ビス（トリフルオロメチル）−２，５−ジアミノ−
３，６−ジヒドロキシベンゼン、１，３−ジアミノ−
４，６−ジヒドロキシジクロロベンゼン、１，４−ジア
ミノ−３，６−ジヒドロキシジクロロベンゼン、１，４
−ジアミノ−２，３−ジヒドロキシジクロロベンゼン、
１，２−ジアミノ−３，６−ジヒドロキシジクロロベン
ゼン等を挙げることができ、またこれらのエステル化合
物やエーテル化合物などの誘導体を挙げることができる
るが、これらに限定されるものではない。これらのジア
ミノジヒドロキシ化合物は単独、または組み合わせて使
用することができる。
【００３０】本発明に用いるジアミノジヒドロキシ化合
物の例で、一般式（１）中のＸとして、特に式（３）で
表される４価の基を構成するものとしては、２，７−ジ
アミノ−３，６−ジヒドロキシナフタレン、２，６−ジ
アミノ−３，７−ジヒドロキシナフタレン、１，６−ジ
アミノ−２，５−ジヒドロキシナフタレン、３，６−ジ
アミノ−２，５−ジヒドロキシナフタレン、２，７−ジ
アミノ−１，８−ジヒドロキシナフタレン、１−メチル
−３，６−ジアミノ−２，７−ジヒドロキシナフタレ
ン、１，５−ジメチル−３，７−ジアミノ−２，６−ジ
ヒドロキシナフタレン、１−メチル−３，６−ジアミノ
−２，５−ジヒドロキシナフタレン、１−トリフルオロ
メチル−３，６−ジアミノ−２，７−ジヒドロキシナフ
タレン、１，５−ビス（トリフルオロメチル）−３，７
−ジアミノ−２，６−ジヒドロキシナフタレン、１−ト
リフルオロメチル−３，６−ジアミノ−２，５−ジヒド
ロキシナフタレン、２，７−ジアミノ−３，６−ジヒド
ロキシテトラフルオロナフタレン、２，６−ジアミノ−
３，７−ジヒドロキシテトラフルオロナフタレン、１，
６−ジアミノ−２，５−ジヒドロキシテトラフルオロナ
フタレン、３，６−ジアミノ−２，５−ジヒドロキシテ
トラフルオロナフタレン、２，７−ジアミノ−１，８−
ジヒドロキシテトラフルオロナフタレン、２，７−ジア
ミノ−３，６−ジヒドロキシテトラクロロナフタレン、
２，６−ジアミノ−３，７−ジヒドロキシテトラクロロ
ナフタレン、１，６−ジアミノ−２，５−ジヒドロキシ
テトラクロロナフタレン、３，６−ジアミノ−２，５−
ジヒドロキシテトラクロロナフタレン、２，７−ジアミ
ノ−１，８−ジヒドロキシテトラクロロナフタレン、−
３，６−ジアミノ−２，５−ジヒドロキシナフタレン等
を挙げることができ、またこれらのエステル化合物やエ
ーテル化合物などの誘導体を挙げることができるるが、
これらに限定されるものではない。これらのジアミノジ
ヒドロキシル化合物は単独、または組み合わせて使用す
ることができる。
物の例で、一般式（１）中のＸとして、特に式（３）で
表される４価の基を構成するものとしては、２，７−ジ
アミノ−３，６−ジヒドロキシナフタレン、２，６−ジ
アミノ−３，７−ジヒドロキシナフタレン、１，６−ジ
アミノ−２，５−ジヒドロキシナフタレン、３，６−ジ
アミノ−２，５−ジヒドロキシナフタレン、２，７−ジ
アミノ−１，８−ジヒドロキシナフタレン、１−メチル
−３，６−ジアミノ−２，７−ジヒドロキシナフタレ
ン、１，５−ジメチル−３，７−ジアミノ−２，６−ジ
ヒドロキシナフタレン、１−メチル−３，６−ジアミノ
−２，５−ジヒドロキシナフタレン、１−トリフルオロ
メチル−３，６−ジアミノ−２，７−ジヒドロキシナフ
タレン、１，５−ビス（トリフルオロメチル）−３，７
−ジアミノ−２，６−ジヒドロキシナフタレン、１−ト
リフルオロメチル−３，６−ジアミノ−２，５−ジヒド
ロキシナフタレン、２，７−ジアミノ−３，６−ジヒド
ロキシテトラフルオロナフタレン、２，６−ジアミノ−
３，７−ジヒドロキシテトラフルオロナフタレン、１，
６−ジアミノ−２，５−ジヒドロキシテトラフルオロナ
フタレン、３，６−ジアミノ−２，５−ジヒドロキシテ
トラフルオロナフタレン、２，７−ジアミノ−１，８−
ジヒドロキシテトラフルオロナフタレン、２，７−ジア
ミノ−３，６−ジヒドロキシテトラクロロナフタレン、
２，６−ジアミノ−３，７−ジヒドロキシテトラクロロ
ナフタレン、１，６−ジアミノ−２，５−ジヒドロキシ
テトラクロロナフタレン、３，６−ジアミノ−２，５−
ジヒドロキシテトラクロロナフタレン、２，７−ジアミ
ノ−１，８−ジヒドロキシテトラクロロナフタレン、−
３，６−ジアミノ−２，５−ジヒドロキシナフタレン等
を挙げることができ、またこれらのエステル化合物やエ
ーテル化合物などの誘導体を挙げることができるるが、
これらに限定されるものではない。これらのジアミノジ
ヒドロキシル化合物は単独、または組み合わせて使用す
ることができる。
【００３１】本発明に用いるビスアミノフェノール化合
物の例で、一般式（１）中のＸとして、特に、式（４）
〜（６）で表される４価の基を構成するものとしては、
９，９−ビス（４−（（４−アミノ−３−ヒドロキシ）
フェノキシ）フェニル）フルオレン、９，９−ビス（４
−（（３−アミノ−４−ヒドロキシ）フェノキシ）フェ
ニル）フルオレン、９，９−ビス−（（４−アミノ−３
−ヒドロキシ）フェニル）フルオレン、９，９−ビス−
（（３−アミノ−４−ヒドロキシ）フェニル）フルオレ
ン、９，９−ビス（４−（（４−アミノ−３−ヒドロキ
シ）フェノキシ）−３−フェニル−フェニル）−フルオ
レン、９，９−ビス（４−（（３−アミノ−４−ヒドロ
キシ）フェノキシ）−３−フェニル−フェニル）−フル
オレン、９，９−ビス−（（２−アミノ−３−ヒドロキ
シ−４−フェニル）−フェニル）−フルオレン、９，９
−ビス−（（２−ヒドロキシ−３−アミノ−４−フェニ
ル）−フェニル）−フルオレン等を挙げることができ、
またこれらのエステル化合物やエーテル化合物などの誘
導体を挙げることができるるが、これらに限定されるも
のではない。これらのジアミノジヒドロキシル化合物は
単独、または組み合わせて使用することができる。
物の例で、一般式（１）中のＸとして、特に、式（４）
〜（６）で表される４価の基を構成するものとしては、
９，９−ビス（４−（（４−アミノ−３−ヒドロキシ）
フェノキシ）フェニル）フルオレン、９，９−ビス（４
−（（３−アミノ−４−ヒドロキシ）フェノキシ）フェ
ニル）フルオレン、９，９−ビス−（（４−アミノ−３
−ヒドロキシ）フェニル）フルオレン、９，９−ビス−
（（３−アミノ−４−ヒドロキシ）フェニル）フルオレ
ン、９，９−ビス（４−（（４−アミノ−３−ヒドロキ
シ）フェノキシ）−３−フェニル−フェニル）−フルオ
レン、９，９−ビス（４−（（３−アミノ−４−ヒドロ
キシ）フェノキシ）−３−フェニル−フェニル）−フル
オレン、９，９−ビス−（（２−アミノ−３−ヒドロキ
シ−４−フェニル）−フェニル）−フルオレン、９，９
−ビス−（（２−ヒドロキシ−３−アミノ−４−フェニ
ル）−フェニル）−フルオレン等を挙げることができ、
またこれらのエステル化合物やエーテル化合物などの誘
導体を挙げることができるるが、これらに限定されるも
のではない。これらのジアミノジヒドロキシル化合物は
単独、または組み合わせて使用することができる。
【００３２】本発明に用いるビスアミノフェノール化合
物の例で、一般式（１）中のＸとして、特に、式（７）
中のＺ1が式（８）で表される２価の基を有するものと
しては、４，４’−ジアミノ−３，３’−ジヒドロキシ
ビフェニル、３，３’−ジアミノ−４，４’−ジヒドロ
キシビフェニル、３，４’−ジアミノ−４，３’−ジヒ
ドロキシビフェニル、４，４’−ジアミノ−３，３’−
ジヒドロキシ−５，５’−ジメチルビフェニル、３，
３’−ジアミノ−４，４’−ジヒドロキシ−５，５’−
ジメチルビフェニル、４，４’−ジアミノ−３，３’−
ジヒドロキシ−６，６’−ジメチルビフェニル、３，
３’−ジアミノ−４，４’−ジヒドロキシ−６，６’−
ジメチルビフェニル、３，４’−ジアミノ−４，３’−
ジヒドロキシ−５，５’−ジメチルビフェニル、３，
４’−ジアミノ−４，３’−ジヒドロキシ−６，６’−
ジメチルビフェニル、４，４’−ジアミノ−３，３’−
ジヒドロキシ−５，５’−トリフルオロメチルビフェニ
ル、３，３’−ジアミノ−４，４’−ジヒドロキシ−
５，５’−トリフルオロメチルビフェニル、４，４’−
ジアミノ−３，３’−ジヒドロキシ−６，６’−トリフ
ルオロメチルビフェニル、３，３’−ジアミノ−４，
４’−ジヒドロキシ−６，６’−トリフルオロメチルビ
フェニル、３，４’−ジアミノ−４，３’−ジヒドロキ
シ−５，５’−トリフルオロメチルビフェニル、３，
４’−ジアミノ−４，３’−ジヒドロキシ−６，６’−
トリフルオロメチルビフェニル、４，４’−ジアミノ−
３，３’−ジヒドロキシ−５，５’−ジフルオロビフェ
ニル、３，３’−ジアミノ−４，４’−ジヒドロキシ−
５，５’−ジフルオロビフェニル、４，４’−ジアミノ
−３，３’−ジヒドロキシ−６，６’−ジフルオロビフ
ェニル、３，３’−ジアミノ−４，４’−ジヒドロキシ
−６，６’−ジフルオロビフェニル、３，４’−ジアミ
ノ−４，３’−ジヒドロキシ−５，５’−ジフルオロビ
フェニル、３，４’−ジアミノ−４，３’−ジヒドロキ
シ−６，６’−ジフルオロビフェニル、４，４’−ジア
ミノ−３，３’−ジヒドロキシ−５，５’−ジクロロビ
フェニル、３，３’−ジアミノ−４，４’−ジヒドロキ
シ−５，５’−ジクロロビフェニル、４，４’−ジアミ
ノ−３，３’−ジヒドロキシ−６，６’−ジクロロビフ
ェニル、３，３’−ジアミノ−４，４’−ジヒドロキシ
−６，６’−ジクロロビフェニル、３，４’−ジアミノ
−４，３’−ジヒドロキシ−５，５’−ジクロロビフェ
ニル、３，４’−ジアミノ−４，３’−ジヒドロキシ−
６，６’−ジクロロビフェニル、ビス（４−アミノ−３
−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（３−アミノ−
４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（４−アミノ
−３−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）エーテル、ビ
ス（３−アミノ−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニ
ル）エーテル、ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシ−５
−トリフルオロメチルフェニル）エーテル、ビス（３−
アミノ−４−ヒドロキシ−５−トリフルオロメチルフェ
ニル）エーテル、ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシ−
５−フルオロフェニル）エーテル、ビス（３−アミノ−
４−ヒドロキシ−５−フルオロフェニル）エーテル、ビ
ス（４−アミノ−３−ヒドロキシ−２，５，６−トリフ
ルオロフェニル）エーテル、ビス（３−アミノ−４−ヒ
ドロキシ−２，５，６−トリフルオロフェニル）エーテ
ル、ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシ−５−クロロフ
ェニル）エーテル、ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシ
−５−クロロフェニル）エーテル、ビス（４−アミノ−
３−ヒドロキシ−２，５，６−トリクロロフェニル）エ
ーテル、ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシ−２，５，
６−トリクロロフェニル）エーテル、ビス（３−アミノ
−４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（４−ア
ミノ−３−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（３
−アミノ−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）スル
フィド、ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシ−５−メチ
ルフェニル）スルフィド、ビス（３−アミノ−４−ヒド
ロキシ−５−トリフルオロメチルフェニル）スルフィ
ド、ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシ−５−トリフル
オロメチルフェニル）スルフィド、ビス（３−アミノ−
４−ヒドロキシ−５−フルオロフェニル）スルフィド、
ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシ−５−フルオロフェ
ニル）スルフィド、ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシ
−２，５，６−トリフルオロフェニル）スルフィド、ビ
ス（４−アミノ−３−ヒドロキシ−２，５，６−トリフ
ルオロフェニル）スルフィド、ビス（３−アミノ−４−
ヒドロキシ−５−クロロフェニル）スルフィド、ビス
（４−アミノ−３−ヒドロキシ−５−クロロフェニル）
スルフィド、ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシ−２，
５，６−トリクロロフェニル）スルフィド、ビス（４−
アミノ−３−ヒドロキシ−２，５，６−トリクロロフェ
ニル）スルフィド、ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシ
フェニル）スルホン、ビス（４−アミノ−３−ヒドロキ
シフェニル）スルホン、ビス（３−アミノ−４−ヒドロ
キシ−５−メチルフェニル）スルホン、ビス（４−アミ
ノ−３−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）スルホン、
ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシ−５−トリフルオロ
メチルフェニル）スルホン、ビス（４−アミノ−３−ヒ
ドロキシ−５−トリフルオロメチルフェニル）スルホ
ン、ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシ−５−フルオロ
フェニル）スルホン、ビス（４−アミノ−３−ヒドロキ
シ−５−フルオロフェニル）スルホン、ビス（３−アミ
ノ−４−ヒドロキシ−２，５，６−トリフルオロフェニ
ル）スルホン、ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシ−
２，５，６−トリフルオロフェニル）スルホン、ビス
（３−アミノ−４−ヒドロキシ−５−クロロフェニル）
スルホン、ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシ−５−ク
ロロフェニル）スルホン、ビス（３−アミノ−４−ヒド
ロキシ−２，５，６−トリクロロフェニル）スルホン、
ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシ−２，５，６−トリ
クロロフェニル）スルホン、ビス（３−アミノ−４−ヒ
ドロキシフェニル）ケトン、ビス（４−アミノ−３−ヒ
ドロキシフェニル）ケトン、ビス（３−アミノ−４−ヒ
ドロキシ−５−メチルフェニル）ケトン、ビス（４−ア
ミノ−３−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ケトン、
ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシ−５−トリフルオロ
メチルフェニル）ケトン、ビス（４−アミノ−３−ヒド
ロキシ−５−トリフルオロメチルフェニル）ケトン、ビ
ス（３−アミノ−４−ヒドロキシ−５−フルオロフェニ
ル）ケトン、ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシ−５−
フルオロフェニル）ケトン、ビス（３−アミノ−４−ヒ
ドロキシ−２，５，６−トリフルオロフェニル）ケト
ン、ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシ−２，５，６−
トリフルオロフェニル）ケトン、ビス（３−アミノ−４
−ヒドロキシ−５−クロロフェニル）ケトン、ビス（４
−アミノ−３−ヒドロキシ−５−クロロフェニル）ケト
ン、ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシ−２，５，６−
トリクロロフェニル）ケトン、ビス（４−アミノ−３−
ヒドロキシ−２，５，６−トリクロロフェニル）ケト
ン、ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）メタ
ン、２,２−ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシフェニ
ル）メタン、ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシ−５−
メチルフェニル）メタン、ビス（４−アミノ−３−ヒド
ロキシ−５−メチルフェニル）メタン、ビス（３−アミ
ノ−４−ヒドロキシ−５−トリフルオロメチルフェニ
ル）メタン、ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシ−５−
トリフルオロメチルフェニル）メタン、ビス（３−アミ
ノ−４−ヒドロキシ−５−フルオロフェニル）メタン、
ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシ−５−フルオロフェ
ニル）メタン、ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシ−
２，５，６−トリフルオロフェニル）メタン、ビス（４
−アミノ−３−ヒドロキシ−２，５，６−トリフルオロ
フェニル）メタン、ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシ
−５−クロロフェニル）メタン、ビス（４−アミノ−３
−ヒドロキシ−５−クロロフェニル）メタン、ビス（３
−アミノ−４−ヒドロキシ−２，５，６−トリクロロフ
ェニル）メタン、ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシ−
２，５，６−トリクロロフェニル）メタン、２,２−ビ
ス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、
２,２−ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシフェニル）
プロパン、２,２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシ
−５−メチルフェニル）プロパン、２,２−ビス（４−
アミノ−３−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロパ
ン、２,２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシ−５−
トリフルオロメチルフェニル）プロパン、２,２−ビス
（４−アミノ−３−ヒドロキシ−５−トリフルオロメチ
ルフェニル）プロパン、２,２−ビス（３−アミノ−４
−ヒドロキシ−５−フルオロフェニル）プロパン、２,
２−ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシ−５−フルオロ
フェニル）プロパン、２,２−ビス（３−アミノ−４−
ヒドロキシ−２，５，６−トリフルオロフェニル）プロ
パン、２,２−ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシ−
２，５，６−トリフルオロフェニル）プロパン、２,２
−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシ−５−クロロフェ
ニル）プロパン、２,２−ビス（４−アミノ−３−ヒド
ロキシ−５−クロロフェニル）プロパン、２,２−ビス
（３−アミノ−４−ヒドロキシ−２，５，６−トリクロ
ロフェニル）プロパン、２,２−ビス（４−アミノ−３
−ヒドロキシ−２，５，６−トリクロロフェニル）プロ
パン、２，２−ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシフェ
ニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（３−ア
ミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパ
ン、２，２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシ−５−
メチルフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビ
ス（４−アミノ−３−ヒドロキシ−５−メチルフェニ
ル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（３−アミ
ノ−４−ヒドロキシ−５−トリフルオロメチルフェニ
ル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（４−アミ
ノ−３−ヒドロキシ−５−トリフルオロメチルフェニ
ル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（３−アミ
ノ−４−ヒドロキシ−５−フルオロフェニル）ヘキサフ
ルオロプロパン、ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシ−
５−フルオロフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，
２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシ−２，５，６−
トリフルオロフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，
２−ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシ−２，５，６−
トリフルオロフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，
２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシ−５−クロロフ
ェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（４−
アミノ−３−ヒドロキシ−５−クロロフェニル）ヘキサ
フルオロプロパン、２，２−ビス（３−アミノ−４−ヒ
ドロキシ−２，５，６−トリクロロフェニル）ヘキサフ
ルオロプロパン、２，２−ビス（４−アミノ−３−ヒド
ロキシ−２，５，６−トリクロロフェニル）ヘキサフル
オロプロパン等を挙げることができるがこれらに限定さ
れるものではない。またこれらのエステル化合物やエー
テル化合物などの誘導体を挙げることができるる
物の例で、一般式（１）中のＸとして、特に、式（７）
中のＺ1が式（８）で表される２価の基を有するものと
しては、４，４’−ジアミノ−３，３’−ジヒドロキシ
ビフェニル、３，３’−ジアミノ−４，４’−ジヒドロ
キシビフェニル、３，４’−ジアミノ−４，３’−ジヒ
ドロキシビフェニル、４，４’−ジアミノ−３，３’−
ジヒドロキシ−５，５’−ジメチルビフェニル、３，
３’−ジアミノ−４，４’−ジヒドロキシ−５，５’−
ジメチルビフェニル、４，４’−ジアミノ−３，３’−
ジヒドロキシ−６，６’−ジメチルビフェニル、３，
３’−ジアミノ−４，４’−ジヒドロキシ−６，６’−
ジメチルビフェニル、３，４’−ジアミノ−４，３’−
ジヒドロキシ−５，５’−ジメチルビフェニル、３，
４’−ジアミノ−４，３’−ジヒドロキシ−６，６’−
ジメチルビフェニル、４，４’−ジアミノ−３，３’−
ジヒドロキシ−５，５’−トリフルオロメチルビフェニ
ル、３，３’−ジアミノ−４，４’−ジヒドロキシ−
５，５’−トリフルオロメチルビフェニル、４，４’−
ジアミノ−３，３’−ジヒドロキシ−６，６’−トリフ
ルオロメチルビフェニル、３，３’−ジアミノ−４，
４’−ジヒドロキシ−６，６’−トリフルオロメチルビ
フェニル、３，４’−ジアミノ−４，３’−ジヒドロキ
シ−５，５’−トリフルオロメチルビフェニル、３，
４’−ジアミノ−４，３’−ジヒドロキシ−６，６’−
トリフルオロメチルビフェニル、４，４’−ジアミノ−
３，３’−ジヒドロキシ−５，５’−ジフルオロビフェ
ニル、３，３’−ジアミノ−４，４’−ジヒドロキシ−
５，５’−ジフルオロビフェニル、４，４’−ジアミノ
−３，３’−ジヒドロキシ−６，６’−ジフルオロビフ
ェニル、３，３’−ジアミノ−４，４’−ジヒドロキシ
−６，６’−ジフルオロビフェニル、３，４’−ジアミ
ノ−４，３’−ジヒドロキシ−５，５’−ジフルオロビ
フェニル、３，４’−ジアミノ−４，３’−ジヒドロキ
シ−６，６’−ジフルオロビフェニル、４，４’−ジア
ミノ−３，３’−ジヒドロキシ−５，５’−ジクロロビ
フェニル、３，３’−ジアミノ−４，４’−ジヒドロキ
シ−５，５’−ジクロロビフェニル、４，４’−ジアミ
ノ−３，３’−ジヒドロキシ−６，６’−ジクロロビフ
ェニル、３，３’−ジアミノ−４，４’−ジヒドロキシ
−６，６’−ジクロロビフェニル、３，４’−ジアミノ
−４，３’−ジヒドロキシ−５，５’−ジクロロビフェ
ニル、３，４’−ジアミノ−４，３’−ジヒドロキシ−
６，６’−ジクロロビフェニル、ビス（４−アミノ−３
−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（３−アミノ−
４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（４−アミノ
−３−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）エーテル、ビ
ス（３−アミノ−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニ
ル）エーテル、ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシ−５
−トリフルオロメチルフェニル）エーテル、ビス（３−
アミノ−４−ヒドロキシ−５−トリフルオロメチルフェ
ニル）エーテル、ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシ−
５−フルオロフェニル）エーテル、ビス（３−アミノ−
４−ヒドロキシ−５−フルオロフェニル）エーテル、ビ
ス（４−アミノ−３−ヒドロキシ−２，５，６−トリフ
ルオロフェニル）エーテル、ビス（３−アミノ−４−ヒ
ドロキシ−２，５，６−トリフルオロフェニル）エーテ
ル、ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシ−５−クロロフ
ェニル）エーテル、ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシ
−５−クロロフェニル）エーテル、ビス（４−アミノ−
３−ヒドロキシ−２，５，６−トリクロロフェニル）エ
ーテル、ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシ−２，５，
６−トリクロロフェニル）エーテル、ビス（３−アミノ
−４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（４−ア
ミノ−３−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（３
−アミノ−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）スル
フィド、ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシ−５−メチ
ルフェニル）スルフィド、ビス（３−アミノ−４−ヒド
ロキシ−５−トリフルオロメチルフェニル）スルフィ
ド、ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシ−５−トリフル
オロメチルフェニル）スルフィド、ビス（３−アミノ−
４−ヒドロキシ−５−フルオロフェニル）スルフィド、
ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシ−５−フルオロフェ
ニル）スルフィド、ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシ
−２，５，６−トリフルオロフェニル）スルフィド、ビ
ス（４−アミノ−３−ヒドロキシ−２，５，６−トリフ
ルオロフェニル）スルフィド、ビス（３−アミノ−４−
ヒドロキシ−５−クロロフェニル）スルフィド、ビス
（４−アミノ−３−ヒドロキシ−５−クロロフェニル）
スルフィド、ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシ−２，
５，６−トリクロロフェニル）スルフィド、ビス（４−
アミノ−３−ヒドロキシ−２，５，６−トリクロロフェ
ニル）スルフィド、ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシ
フェニル）スルホン、ビス（４−アミノ−３−ヒドロキ
シフェニル）スルホン、ビス（３−アミノ−４−ヒドロ
キシ−５−メチルフェニル）スルホン、ビス（４−アミ
ノ−３−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）スルホン、
ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシ−５−トリフルオロ
メチルフェニル）スルホン、ビス（４−アミノ−３−ヒ
ドロキシ−５−トリフルオロメチルフェニル）スルホ
ン、ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシ−５−フルオロ
フェニル）スルホン、ビス（４−アミノ−３−ヒドロキ
シ−５−フルオロフェニル）スルホン、ビス（３−アミ
ノ−４−ヒドロキシ−２，５，６−トリフルオロフェニ
ル）スルホン、ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシ−
２，５，６−トリフルオロフェニル）スルホン、ビス
（３−アミノ−４−ヒドロキシ−５−クロロフェニル）
スルホン、ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシ−５−ク
ロロフェニル）スルホン、ビス（３−アミノ−４−ヒド
ロキシ−２，５，６−トリクロロフェニル）スルホン、
ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシ−２，５，６−トリ
クロロフェニル）スルホン、ビス（３−アミノ−４−ヒ
ドロキシフェニル）ケトン、ビス（４−アミノ−３−ヒ
ドロキシフェニル）ケトン、ビス（３−アミノ−４−ヒ
ドロキシ−５−メチルフェニル）ケトン、ビス（４−ア
ミノ−３−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ケトン、
ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシ−５−トリフルオロ
メチルフェニル）ケトン、ビス（４−アミノ−３−ヒド
ロキシ−５−トリフルオロメチルフェニル）ケトン、ビ
ス（３−アミノ−４−ヒドロキシ−５−フルオロフェニ
ル）ケトン、ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシ−５−
フルオロフェニル）ケトン、ビス（３−アミノ−４−ヒ
ドロキシ−２，５，６−トリフルオロフェニル）ケト
ン、ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシ−２，５，６−
トリフルオロフェニル）ケトン、ビス（３−アミノ−４
−ヒドロキシ−５−クロロフェニル）ケトン、ビス（４
−アミノ−３−ヒドロキシ−５−クロロフェニル）ケト
ン、ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシ−２，５，６−
トリクロロフェニル）ケトン、ビス（４−アミノ−３−
ヒドロキシ−２，５，６−トリクロロフェニル）ケト
ン、ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）メタ
ン、２,２−ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシフェニ
ル）メタン、ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシ−５−
メチルフェニル）メタン、ビス（４−アミノ−３−ヒド
ロキシ−５−メチルフェニル）メタン、ビス（３−アミ
ノ−４−ヒドロキシ−５−トリフルオロメチルフェニ
ル）メタン、ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシ−５−
トリフルオロメチルフェニル）メタン、ビス（３−アミ
ノ−４−ヒドロキシ−５−フルオロフェニル）メタン、
ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシ−５−フルオロフェ
ニル）メタン、ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシ−
２，５，６−トリフルオロフェニル）メタン、ビス（４
−アミノ−３−ヒドロキシ−２，５，６−トリフルオロ
フェニル）メタン、ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシ
−５−クロロフェニル）メタン、ビス（４−アミノ−３
−ヒドロキシ−５−クロロフェニル）メタン、ビス（３
−アミノ−４−ヒドロキシ−２，５，６−トリクロロフ
ェニル）メタン、ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシ−
２，５，６−トリクロロフェニル）メタン、２,２−ビ
ス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、
２,２−ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシフェニル）
プロパン、２,２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシ
−５−メチルフェニル）プロパン、２,２−ビス（４−
アミノ−３−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロパ
ン、２,２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシ−５−
トリフルオロメチルフェニル）プロパン、２,２−ビス
（４−アミノ−３−ヒドロキシ−５−トリフルオロメチ
ルフェニル）プロパン、２,２−ビス（３−アミノ−４
−ヒドロキシ−５−フルオロフェニル）プロパン、２,
２−ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシ−５−フルオロ
フェニル）プロパン、２,２−ビス（３−アミノ−４−
ヒドロキシ−２，５，６−トリフルオロフェニル）プロ
パン、２,２−ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシ−
２，５，６−トリフルオロフェニル）プロパン、２,２
−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシ−５−クロロフェ
ニル）プロパン、２,２−ビス（４−アミノ−３−ヒド
ロキシ−５−クロロフェニル）プロパン、２,２−ビス
（３−アミノ−４−ヒドロキシ−２，５，６−トリクロ
ロフェニル）プロパン、２,２−ビス（４−アミノ−３
−ヒドロキシ−２，５，６−トリクロロフェニル）プロ
パン、２，２−ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシフェ
ニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（３−ア
ミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパ
ン、２，２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシ−５−
メチルフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビ
ス（４−アミノ−３−ヒドロキシ−５−メチルフェニ
ル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（３−アミ
ノ−４−ヒドロキシ−５−トリフルオロメチルフェニ
ル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（４−アミ
ノ−３−ヒドロキシ−５−トリフルオロメチルフェニ
ル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（３−アミ
ノ−４−ヒドロキシ−５−フルオロフェニル）ヘキサフ
ルオロプロパン、ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシ−
５−フルオロフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，
２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシ−２，５，６−
トリフルオロフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，
２−ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシ−２，５，６−
トリフルオロフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，
２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシ−５−クロロフ
ェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（４−
アミノ−３−ヒドロキシ−５−クロロフェニル）ヘキサ
フルオロプロパン、２，２−ビス（３−アミノ−４−ヒ
ドロキシ−２，５，６−トリクロロフェニル）ヘキサフ
ルオロプロパン、２，２−ビス（４−アミノ−３−ヒド
ロキシ−２，５，６−トリクロロフェニル）ヘキサフル
オロプロパン等を挙げることができるがこれらに限定さ
れるものではない。またこれらのエステル化合物やエー
テル化合物などの誘導体を挙げることができるる
【００３３】本発明に用いるビスアミノフェノール化合
物の例で、一般式（１）中のＸとして、特に、式（７）
中のＺ1が式（９）で表される２価の基を有するものと
しては、１，２−ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシフ
ェノキシ）ベンゼン、１，２−ビス（３−アミノ−４−
ヒドロキシフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−
アミノ−３−ヒドロキシフェノキシ）ベンゼン、１，３
−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェノキシ）ベン
ゼン、１，４−ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシフェ
ノキシ）ベンゼン、１，４−ビス（３−アミノ−４−ヒ
ドロキシフェノキシ）ベンゼン、１，２−ビス（４−ア
ミノ−３−ヒドロキシフェノキシ）テトラフルオロベン
ゼン、１，２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェ
ノキシ）テトラフルオロベンゼン、１，３−ビス（４−
アミノ−３−ヒドロキシフェノキシ）テトラフルオロベ
ンゼン、１，３−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフ
ェノキシ）テトラフルオロベンゼン、１，４−ビス（４
−アミノ−３−ヒドロキシフェノキシ）テトラフルオロ
ベンゼン、１，４−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシ
フェノキシ）テトラフルオロベンゼン、１，２−ビス
（４−アミノ−３−ヒドロキシフェノキシ）テトラフク
ロロベンゼン、１，２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロ
キシフェノキシ）テトラクロロベンゼン、１，３−ビス
（４−アミノ−３−ヒドロキシフェノキシ）テトラクロ
ロベンゼン、１，３−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキ
シフェノキシ）テトラクロロベンゼン、１，４−ビス
（４−アミノ−３−ヒドロキシフェノキシ）テトラクロ
ロベンゼン、１，４−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキ
シフェノキシ）テトラクロロベンゼン、等を挙げること
ができるがこれらに限定されるものではない。またこれ
らのエステル化合物やエーテル化合物などの誘導体を挙
げることができるる。
物の例で、一般式（１）中のＸとして、特に、式（７）
中のＺ1が式（９）で表される２価の基を有するものと
しては、１，２−ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシフ
ェノキシ）ベンゼン、１，２−ビス（３−アミノ−４−
ヒドロキシフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−
アミノ−３−ヒドロキシフェノキシ）ベンゼン、１，３
−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェノキシ）ベン
ゼン、１，４−ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシフェ
ノキシ）ベンゼン、１，４−ビス（３−アミノ−４−ヒ
ドロキシフェノキシ）ベンゼン、１，２−ビス（４−ア
ミノ−３−ヒドロキシフェノキシ）テトラフルオロベン
ゼン、１，２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェ
ノキシ）テトラフルオロベンゼン、１，３−ビス（４−
アミノ−３−ヒドロキシフェノキシ）テトラフルオロベ
ンゼン、１，３−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフ
ェノキシ）テトラフルオロベンゼン、１，４−ビス（４
−アミノ−３−ヒドロキシフェノキシ）テトラフルオロ
ベンゼン、１，４−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシ
フェノキシ）テトラフルオロベンゼン、１，２−ビス
（４−アミノ−３−ヒドロキシフェノキシ）テトラフク
ロロベンゼン、１，２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロ
キシフェノキシ）テトラクロロベンゼン、１，３−ビス
（４−アミノ−３−ヒドロキシフェノキシ）テトラクロ
ロベンゼン、１，３−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキ
シフェノキシ）テトラクロロベンゼン、１，４−ビス
（４−アミノ−３−ヒドロキシフェノキシ）テトラクロ
ロベンゼン、１，４−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキ
シフェノキシ）テトラクロロベンゼン、等を挙げること
ができるがこれらに限定されるものではない。またこれ
らのエステル化合物やエーテル化合物などの誘導体を挙
げることができるる。
【００３４】本発明に用いるビスアミノフェノール化合
物の例で、一般式（１）中のＸとして、特に、式（７）
中のＺ1が式（１０）で表される２価の基を有するもの
としては、１，２−ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシ
フェノキシ）ビフェニル、１，２−ビス（３−アミノ−
４−ヒドロキシフェノキシ）ビフェニル、１，３−ビス
（４−アミノ−３−ヒドロキシフェノキシ）ビフェニ
ル、１，３−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェノ
キシ）ビフェニル、１，４−ビス（４−アミノ−３−ヒ
ドロキシフェノキシ）ビフェニル、１，４−ビス（３−
アミノ−４−ヒドロキシフェノキシ）ビフェニル、２−
ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシフェノキシ）オクタ
フルオロビフェニル、１，２−ビス（３−アミノ−４−
ヒドロキシフェノキシ）オクタフルオロビフェニル、
１，３−ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシフェノキ
シ）オクタフルオロビフェニル、１，３−ビス（３−ア
ミノ−４−ヒドロキシフェノキシ）オクタフルオロビフ
ェニル、１，４−ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシフ
ェノキシ）オクタフルオロビフェニル、１，４−ビス
（３−アミノ−４−ヒドロキシフェノキシ）オクタフル
オロビフェニル、２−ビス（４−アミノ−３−ヒドロキ
シフェノキシ）オクタクロロビフェニル、１，２−ビス
（３−アミノ−４−ヒドロキシフェノキシ）オクタクロ
ロビフェニル、１，３−ビス（４−アミノ−３−ヒドロ
キシフェノキシ）オクタクロロビフェニル、１，３−ビ
ス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェノキシ）オクタク
ロロビフェニル、１，４−ビス（４−アミノ−３−ヒド
ロキシフェノキシ）オクタクロロビフェニル、１，４−
ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェノキシ）オクタ
クロロビフェニル等が挙げられるが、これらに限定され
るものではない。これらのビスアミノフェノール化合物
は単独、または組み合わせて使用することができる。
物の例で、一般式（１）中のＸとして、特に、式（７）
中のＺ1が式（１０）で表される２価の基を有するもの
としては、１，２−ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシ
フェノキシ）ビフェニル、１，２−ビス（３−アミノ−
４−ヒドロキシフェノキシ）ビフェニル、１，３−ビス
（４−アミノ−３−ヒドロキシフェノキシ）ビフェニ
ル、１，３−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェノ
キシ）ビフェニル、１，４−ビス（４−アミノ−３−ヒ
ドロキシフェノキシ）ビフェニル、１，４−ビス（３−
アミノ−４−ヒドロキシフェノキシ）ビフェニル、２−
ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシフェノキシ）オクタ
フルオロビフェニル、１，２−ビス（３−アミノ−４−
ヒドロキシフェノキシ）オクタフルオロビフェニル、
１，３−ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシフェノキ
シ）オクタフルオロビフェニル、１，３−ビス（３−ア
ミノ−４−ヒドロキシフェノキシ）オクタフルオロビフ
ェニル、１，４−ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシフ
ェノキシ）オクタフルオロビフェニル、１，４−ビス
（３−アミノ−４−ヒドロキシフェノキシ）オクタフル
オロビフェニル、２−ビス（４−アミノ−３−ヒドロキ
シフェノキシ）オクタクロロビフェニル、１，２−ビス
（３−アミノ−４−ヒドロキシフェノキシ）オクタクロ
ロビフェニル、１，３−ビス（４−アミノ−３−ヒドロ
キシフェノキシ）オクタクロロビフェニル、１，３−ビ
ス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェノキシ）オクタク
ロロビフェニル、１，４−ビス（４−アミノ−３−ヒド
ロキシフェノキシ）オクタクロロビフェニル、１，４−
ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェノキシ）オクタ
クロロビフェニル等が挙げられるが、これらに限定され
るものではない。これらのビスアミノフェノール化合物
は単独、または組み合わせて使用することができる。
【００３５】また、本発明に用いるポリベンゾオキサゾ
ール前駆体において、式（２）〜式（１０）で表される
構造を有するジアミノジヒドロキシ化合物又はビスアミ
ノフェノール化合物から１種、または２種、あるいは、
それぞれ１種以上混合して用いることが出来る。
ール前駆体において、式（２）〜式（１０）で表される
構造を有するジアミノジヒドロキシ化合物又はビスアミ
ノフェノール化合物から１種、または２種、あるいは、
それぞれ１種以上混合して用いることが出来る。
【００３６】（ここでも一般式で表すならば） 本発明
に用いるジカルボン酸の例で、一般式（１）中のＹ1、
Ｙ2として、特に式（１１）で表される２価の基を構成
するものとしては、フタル酸、イソフタル酸、テレフタ
ル酸、２−メチルイソフタル酸、３−メチルフタル酸、
２−メチルテレフタル酸、２，４，５，６−テトラメチ
ルイソフタル酸、３，４，５，６−テトラメチルフタル
酸、２−フルオロイソフタル酸、３−フルオロフタル
酸、２−フルオロテレフタル酸、２，４，５，６−テト
ラフルオロイソフタル酸、３，４，５，６−テトラフル
オロフタル酸、２−トリフルオロメチルイソフタル酸、
３−トリフルオロメチルフタル酸、２−トリフルオロメ
チルテレフタル酸、２，４，５，６−トリフルオロメチ
ルイソフタル酸、３，４，５，６−トリフルオロメチル
フタル酸、２−クロロイソフタル酸、３−クロロフタル
酸、２−クロロテレフタル酸、２，４，５，６−テトラ
クロロイソフタル酸、３，４，５，６−テトラクロロフ
タル酸等が挙げられるが、これらに限定されるものでは
ない。これらのジカルボン酸化合物は単独、または組み
合わせて使用することができる。
に用いるジカルボン酸の例で、一般式（１）中のＹ1、
Ｙ2として、特に式（１１）で表される２価の基を構成
するものとしては、フタル酸、イソフタル酸、テレフタ
ル酸、２−メチルイソフタル酸、３−メチルフタル酸、
２−メチルテレフタル酸、２，４，５，６−テトラメチ
ルイソフタル酸、３，４，５，６−テトラメチルフタル
酸、２−フルオロイソフタル酸、３−フルオロフタル
酸、２−フルオロテレフタル酸、２，４，５，６−テト
ラフルオロイソフタル酸、３，４，５，６−テトラフル
オロフタル酸、２−トリフルオロメチルイソフタル酸、
３−トリフルオロメチルフタル酸、２−トリフルオロメ
チルテレフタル酸、２，４，５，６−トリフルオロメチ
ルイソフタル酸、３，４，５，６−トリフルオロメチル
フタル酸、２−クロロイソフタル酸、３−クロロフタル
酸、２−クロロテレフタル酸、２，４，５，６−テトラ
クロロイソフタル酸、３，４，５，６−テトラクロロフ
タル酸等が挙げられるが、これらに限定されるものでは
ない。これらのジカルボン酸化合物は単独、または組み
合わせて使用することができる。
【００３７】（ここでも一般式で表すならば） 本発明
に用いるジカルボン酸の例で、一般式（１）中のＹ1、
Ｙ2として、特に式（１２）で表される２価の基を構成
するものとしては、１，４−ジカルボキシナフタレン、
１，５−ジカルボキシナフタレン、１，６−ジカルボキ
シナフタレン、１，７−ジカルボキシナフタレン、１，
８−ジカルボキシナフタレン、１，４−ジカルボキシヘ
キサフルオロナフタレン、１，５−ジカルボキシヘキサ
フルオロナフタレン、１，６−ジカルボキシヘキサフル
オロナフタレン、１，７−ジカルボキシヘキサフルオロ
ナフタレン、１，８−ジカルボキシヘキサフルオロナフ
タレン、１，４−ジカルボキシヘキサクロロナフタレ
ン、１，５−ジカルボキシヘキサクロロナフタレン、
１，６−ジカルボキシヘキサクロロナフタレン、１，７
−ジカルボキシヘキサクロロナフタレン、１，８−ジカ
ルボキシヘキサクロロナフタレン等が挙げられるが、こ
れらに限定されるものではない。これらのジカルボン酸
化合物は単独、または組み合わせて使用することができ
る。
に用いるジカルボン酸の例で、一般式（１）中のＹ1、
Ｙ2として、特に式（１２）で表される２価の基を構成
するものとしては、１，４−ジカルボキシナフタレン、
１，５−ジカルボキシナフタレン、１，６−ジカルボキ
シナフタレン、１，７−ジカルボキシナフタレン、１，
８−ジカルボキシナフタレン、１，４−ジカルボキシヘ
キサフルオロナフタレン、１，５−ジカルボキシヘキサ
フルオロナフタレン、１，６−ジカルボキシヘキサフル
オロナフタレン、１，７−ジカルボキシヘキサフルオロ
ナフタレン、１，８−ジカルボキシヘキサフルオロナフ
タレン、１，４−ジカルボキシヘキサクロロナフタレ
ン、１，５−ジカルボキシヘキサクロロナフタレン、
１，６−ジカルボキシヘキサクロロナフタレン、１，７
−ジカルボキシヘキサクロロナフタレン、１，８−ジカ
ルボキシヘキサクロロナフタレン等が挙げられるが、こ
れらに限定されるものではない。これらのジカルボン酸
化合物は単独、または組み合わせて使用することができ
る。
【００３８】（ここでも一般式で表すならば） 本発明
に用いるジカルボン酸の例で、一般式（１）中のＹ1、
Ｙ2として、特に式（１３）で表される２価の基を構成
するものとしては、コハク酸、グルタル酸、アジピン
酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン
酸、１，９−ノナンジカルボン酸、ドデカン二酸、トリ
デカン二酸、１，１２−ドデカンジカルボン酸、テトラ
フルオロコハク酸、ヘキサフルオログルタル酸、オクタ
フルオロアジピン酸、パーフルオロピメリン酸、パーフ
ルオロスベリン酸、パーフルオロアゼライン酸、パーフ
ルオロセバシン酸、１，９−パーフルオロノナンジカル
ボン酸、パーフルオロドデカン二酸、パーフルオロトリ
デカン二酸、１，１２−パーフルオロドデカンジカルボ
ン酸、テトラクロロコハク酸、ヘキサクロログルタル
酸、オクタクロロアジピン酸、パークロロピメリン酸、
パークロロスベリン酸、パークロロアゼライン酸、パー
クロロセバシン酸、１，９−パークロロノナンジカルボ
ン酸、パークロロドデカン二酸、パークロロトリデカン
二酸、１，１２−パークロロドデカンジカルボン酸、
１，４−パーフルオロシクロヘキサンジカルボン酸、
１，３−パーフルオロシクロヘキサンジカルボン酸、
１，２−パーフルオロシクロヘキサンジカルボン酸、
１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、１，３−シクロ
ヘキサンジカルボン酸、１，２−シクロヘキサンジカル
ボン酸、１，４−パークロロシクロヘキサンジカルボン
酸、１，３−パークロロシクロヘキサンジカルボン酸、
１，２−パークロロヘキサンジカルボン酸等が挙げられ
るが、これらに限定されるものではない。これらのジカ
ルボン酸化合物は単独、または組み合わせて使用するこ
とができる。
に用いるジカルボン酸の例で、一般式（１）中のＹ1、
Ｙ2として、特に式（１３）で表される２価の基を構成
するものとしては、コハク酸、グルタル酸、アジピン
酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン
酸、１，９−ノナンジカルボン酸、ドデカン二酸、トリ
デカン二酸、１，１２−ドデカンジカルボン酸、テトラ
フルオロコハク酸、ヘキサフルオログルタル酸、オクタ
フルオロアジピン酸、パーフルオロピメリン酸、パーフ
ルオロスベリン酸、パーフルオロアゼライン酸、パーフ
ルオロセバシン酸、１，９−パーフルオロノナンジカル
ボン酸、パーフルオロドデカン二酸、パーフルオロトリ
デカン二酸、１，１２−パーフルオロドデカンジカルボ
ン酸、テトラクロロコハク酸、ヘキサクロログルタル
酸、オクタクロロアジピン酸、パークロロピメリン酸、
パークロロスベリン酸、パークロロアゼライン酸、パー
クロロセバシン酸、１，９−パークロロノナンジカルボ
ン酸、パークロロドデカン二酸、パークロロトリデカン
二酸、１，１２−パークロロドデカンジカルボン酸、
１，４−パーフルオロシクロヘキサンジカルボン酸、
１，３−パーフルオロシクロヘキサンジカルボン酸、
１，２−パーフルオロシクロヘキサンジカルボン酸、
１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、１，３−シクロ
ヘキサンジカルボン酸、１，２−シクロヘキサンジカル
ボン酸、１，４−パークロロシクロヘキサンジカルボン
酸、１，３−パークロロシクロヘキサンジカルボン酸、
１，２−パークロロヘキサンジカルボン酸等が挙げられ
るが、これらに限定されるものではない。これらのジカ
ルボン酸化合物は単独、または組み合わせて使用するこ
とができる。
【００３９】（ここでも一般式で表すならば） 本発明
に用いるジカルボン酸の例で、一般式（１）中のＹ1、
Ｙ2として、特に式（１４）中のＺ2が式（１５）で表さ
れる２価の基を有するものとしては、４，４’−オキシ
ビス安息香酸、３，３’−オキシビス安息香酸、３，
４’−オキシビス安息香酸、２，４’−オキシビス安息
香酸、３，４’−オキシビス安息香酸、２，３’−オキ
シビス安息香酸、４，４’−オキシビスオクタフルオロ
安息香酸、３，３’−オキシビスオクタフルオロ安息香
酸、３，４’−オキシビスオクタフルオロ安息香酸、
２，４’−オキシビスオクタフルオロ安息香酸、３，
４’−オキシビスオクタフルオロ安息香酸、２，３’−
オキシビスオクタフルオロ安息香酸、４，４’−オキシ
ビスオクタクロロ安息香酸、３，３’−オキシビスオク
タクロロ安息香酸、３，４’−オキシビスオクタクロロ
安息香酸、２，４’−オキシビスオクタクロロ安息香
酸、３，４’−オキシビスオクタクロロ安息香酸、２，
３’−オキシビスオクタクロロ安息香酸、ビス（４−カ
ルボキシフェニル）−スルフィド、ビス（３−カルボキ
シフェニル）−スルフィド、ビス（２−メチル−４−カ
ルボキシフェニル）−スルフィド、ビス（２−メチル−
３−カルボキシフェニル）−スルフィド、ビス（３−メ
チル−４−カルボキシフェニル）−スルフィド、ビス
（４−メチル−３−カルボキシフェニル）−スルフィ
ド、ビス（５−メチル−４−カルボキシフェニル）−ス
ルフィド、ビス（５−メチル−３−カルボキシフェニ
ル）−スルフィド、ビス（６−メチル−４−カルボキシ
フェニル）−スルフィド、ビス（６−メチル−３−カル
ボキシフェニル）−スルフィド、ビス（２−トリフルオ
ロメチル−４−カルボキシフェニル）−スルフィド、ビ
ス（２−トリフルオロメチル−３−カルボキシフェニ
ル）−スルフィド、ビス（３−トリフルオロメチル−４
−カルボキシフェニル）−スルフィド、ビス（４−トリ
フルオロメチル−３−カルボキシフェニル）−スルフィ
ド、ビス（５−トリフルオロメチル−４−カルボキシフ
ェニル）−スルフィド、ビス（５−トリフルオロメチル
−３−カルボキシフェニル）−スルフィド、ビス（６−
トリフルオロメチル−４−カルボキシフェニル）−スル
フィド、ビス（６−トリフルオロメチル−３−カルボキ
シフェニル）−スルフィド、ビス（４−カルボキシオク
タフルオロフェニル）−スルフィド、ビス（３−カルボ
キシオクタフルオロフェニル）−スルフィド、ビス（４
−カルボキシオクタクロロフェニル）−スルフィド、ビ
ス（３−カルボキシオクタクロロフェニル）−スルフィ
ド、ビス（４−カルボキシフェニル）−スルホン、ビス
（３−カルボキシフェニル）−スルホン、ビス（２−メ
チル−４−カルボキシフェニル）−スルホン、ビス（２
−メチル−３−カルボキシフェニル）−スルホン、ビス
（３−メチル−４−カルボキシフェニル）−スルホン、
ビス（４−メチル−３−カルボキシフェニル）−スルホ
ン、ビス（５−メチル−４−カルボキシフェニル）−ス
ルホン、ビス（５−メチル−３−カルボキシフェニル）
−スルホン、ビス（６−メチル−４−カルボキシフェニ
ル）−スルホン、ビス（６−メチル−３−カルボキシフ
ェニル）−スルホン、ビス（２−トリフルオロメチル−
４−カルボキシフェニル）−スルホン、ビス（２−トリ
フルオロメチル−３−カルボキシフェニル）−スルホ
ン、ビス（３−トリフルオロメチル−４−カルボキシフ
ェニル）−スルホン、ビス（４−トリフルオロメチル−
３−カルボキシフェニル）−スルホン、ビス（５−トリ
フルオロメチル−４−カルボキシフェニル）−スルホ
ン、ビス（５−トリフルオロメチル−３−カルボキシフ
ェニル）−スルホン、ビス（６−トリフルオロメチル−
４−カルボキシフェニル）−スルホン、ビス（６−トリ
フルオロメチル−３−カルボキシフェニル）−スルホ
ン、ビス（４−カルボキシオクタフルオロフェニル）−
スルホン、ビス（３−カルボキシオクタフルオロフェニ
ル）−スルホン、ビス（４−カルボキシオクタクロロフ
ェニル）−スルホン、ビス（３−カルボキシオクタクロ
ロフェニル）−スルホン、ビス（４−カルボキシフェニ
ル）−ケトン、ビス（３−カルボキシフェニル）−ケト
ン、ビス（２−メチル−４−カルボキシフェニル）−ケ
トン、ビス（２−メチル−３−カルボキシフェニル）−
ケトン、ビス（３−メチル−４−カルボキシフェニル）
−ケトン、ビス（４−メチル−３−カルボキシフェニ
ル）−ケトン、ビス（５−メチル−４−カルボキシフェ
ニル）−ケトン、ビス（５−メチル−３−カルボキシフ
ェニル）−ケトン、ビス（６−メチル−４−カルボキシ
フェニル）−ケトン、ビス（６−メチル−３−カルボキ
シフェニル）−ケトン、ビス（２−トリフルオロメチル
−４−カルボキシフェニル）−ケトン、ビス（２−トリ
フルオロメチル−３−カルボキシフェニル）−ケトン、
ビス（３−トリフルオロメチル−４−カルボキシフェニ
ル）−ケトン、ビス（４−トリフルオロメチル−３−カ
ルボキシフェニル）−ケトン、ビス（５−トリフルオロ
メチル−４−カルボキシフェニル）−ケトン、ビス（５
−トリフルオロメチル−３−カルボキシフェニル）−ケ
トン、ビス（６−トリフルオロメチル−４−カルボキシ
フェニル）−ケトン、ビス（６−トリフルオロメチル−
３−カルボキシフェニル）−ケトン、ビス（４−カルボ
キシオクタフルオロフェニル）−ケトン、ビス（３−カ
ルボキシオクタフルオロフェニル）−ケトン、ビス（４
−カルボキシオクタクロロフェニル）−ケトン、ビス
（３−カルボキシオクタクロロフェニル）−ケトン、ビ
ス（４−カルボキシフェニル）−メタン、ビス（３−カ
ルボキシフェニル）−メタン、ビス（２−メチル−４−
カルボキシフェニル）−メタン、ビス（２−メチル−３
−カルボキシフェニル）−メタン、ビス（３−メチル−
４−カルボキシフェニル）−メタン、ビス（４−メチル
−３−カルボキシフェニル）−メタン、ビス（５−メチ
ル−４−カルボキシフェニル）−メタン、ビス（５−メ
チル−３−カルボキシフェニル）−メタン、ビス（６−
メチル−４−カルボキシフェニル）−メタン、ビス（６
−メチル−３−カルボキシフェニル）−メタン、ビス
（２−トリフルオロメチル−４−カルボキシフェニル）
−メタン、ビス（２−トリフルオロメチル−３−カルボ
キシフェニル）−メタン、ビス（３−トリフルオロメチ
ル−４−カルボキシフェニル）−メタン、ビス（４−ト
リフルオロメチル−３−カルボキシフェニル）−メタ
ン、ビス（５−トリフルオロメチル−４−カルボキシフ
ェニル）−メタン、ビス（５−トリフルオロメチル−３
−カルボキシフェニル）−メタン、ビス（６−トリフル
オロメチル−４−カルボキシフェニル）−メタン、ビス
（６−トリフルオロメチル−３−カルボキシフェニル）
−メタン、ビス（４−カルボキシオクタフルオロフェニ
ル）−メタン、ビス（３−カルボキシオクタフルオロフ
ェニル）−メタン、ビス（４−カルボキシオクタクロロ
フェニル）−メタン、ビス（３−カルボキシオクタクロ
ロフェニル）−メタン、２，２−ビス（４−カルボキシ
フェニル）−プロパン、２，２−ビス（３−カルボキシ
フェニル）−プロパン、２，２−ビス（２−メチル−４
−カルボキシフェニル）−プロパン、２，２−ビス（２
−メチル−３−カルボキシフェニル）−プロパン、２，
２−ビス（３−メチル−４−カルボキシフェニル）−プ
ロパン、２，２−ビス（４−メチル−３−カルボキシフ
ェニル）−プロパン、２，２−ビス（５−メチル−４−
カルボキシフェニル）−プロパン、２，２−ビス（５−
メチル−３−カルボキシフェニル）−プロパン、２，２
−ビス（６−メチル−４−カルボキシフェニル）−プロ
パン、２，２−ビス（６−メチル−３−カルボキシフェ
ニル）−プロパン、２，２−ビス（２−トリフルオロメ
チル−４−カルボキシフェニル）−プロパン、２，２−
ビス（２−トリフルオロメチル−３−カルボキシフェニ
ル）−プロパン、２，２−ビス（３−トリフルオロメチ
ル−４−カルボキシフェニル）−プロパン、２，２−ビ
ス（４−トリフルオロメチル−３−カルボキシフェニ
ル）−プロパン、２，２−ビス（５−トリフルオロメチ
ル−４−カルボキシフェニル）−プロパン、２，２−ビ
ス（５−トリフルオロメチル−３−カルボキシフェニ
ル）−プロパン、２，２−ビス（６−メチル−４−カル
ボキシフェニル）−プロパン、２，２−ビス（６−トリ
フルオロメチル−３−カルボキシフェニル）−プロパ
ン、２，２−ビス（４−カルボキシオクタフルオロフェ
ニル）−プロパン、２，２−ビス（３−カルボキシオク
タフルオロフェニル）−プロパン、２，２−ビス（４−
カルボキシオクタクロロフェニル）−プロパン、２，２
−ビス（３−カルボキシオクタクロロフェニル）−プロ
パン、２，２−ビス（４−カルボキシフェニル）−ヘキ
サフルオロプロパン、２，２−ビス（３−カルボキシフ
ェニル）−ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（２
−メチル−４−カルボキシフェニル）−ヘキサフルオロ
プロパン、２，２−ビス（２−メチル−３−カルボキシ
フェニル）−ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス
（３−メチル−４−カルボキシフェニル）−ヘキサフル
オロプロパン、２，２−ビス（４−メチル−３−カルボ
キシフェニル）−ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビ
ス（５−メチル−４−カルボキシフェニル）−ヘキサフ
ルオロプロパン、２，２−ビス（５−メチル−３−カル
ボキシフェニル）−ヘキサフルオロプロパン、２，２−
ビス（６−メチル−４−カルボキシフェニル）−ヘキサ
フルオロプロパン、２，２−ビス（６−メチル−３−カ
ルボキシフェニル）−ヘキサフルオロプロパン、２，２
−ビス（２−トリフルオロメチル−４−カルボキシフェ
ニル）−ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（２−
トリフルオロメチル−３−カルボキシフェニル）−ヘキ
サフルオロプロパン、２，２−ビス（３−トリフルオロ
メチル−４−カルボキシフェニル）−ヘキサフルオロプ
ロパン、２，２−ビス（４−トリフルオロメチル−３−
カルボキシフェニル）−ヘキサフルオロプロパン、２，
２−ビス（５−トリフルオロメチル−４−カルボキシフ
ェニル）−ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（５
−トリフルオロメチル−３−カルボキシフェニル）−ヘ
キサフルオロプロパン、２，２−ビス（６−トリフルオ
ロメチル−４−カルボキシフェニル）−ヘキサフルオロ
プロパン、２，２−ビス（６−トリフルオロメチル−３
−カルボキシフェニル）−ヘキサフルオロプロパン、
２，２−ビス（４−カルボキシオクタフルオロフェニ
ル）−ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（３−カ
ルボキシオクタフルオロフェニル）−ヘキサフルオロプ
ロパン、２，２−ビス（４−カルボキシオクタクロロフ
ェニル）−ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（３
−カルボキシオクタクロロフェニル）−ヘキサフルオロ
プロパン等が挙げられるが、これらに限定されるもので
はない。これらのジカルボン酸化合物は単独、または組
み合わせて使用することができる。
に用いるジカルボン酸の例で、一般式（１）中のＹ1、
Ｙ2として、特に式（１４）中のＺ2が式（１５）で表さ
れる２価の基を有するものとしては、４，４’−オキシ
ビス安息香酸、３，３’−オキシビス安息香酸、３，
４’−オキシビス安息香酸、２，４’−オキシビス安息
香酸、３，４’−オキシビス安息香酸、２，３’−オキ
シビス安息香酸、４，４’−オキシビスオクタフルオロ
安息香酸、３，３’−オキシビスオクタフルオロ安息香
酸、３，４’−オキシビスオクタフルオロ安息香酸、
２，４’−オキシビスオクタフルオロ安息香酸、３，
４’−オキシビスオクタフルオロ安息香酸、２，３’−
オキシビスオクタフルオロ安息香酸、４，４’−オキシ
ビスオクタクロロ安息香酸、３，３’−オキシビスオク
タクロロ安息香酸、３，４’−オキシビスオクタクロロ
安息香酸、２，４’−オキシビスオクタクロロ安息香
酸、３，４’−オキシビスオクタクロロ安息香酸、２，
３’−オキシビスオクタクロロ安息香酸、ビス（４−カ
ルボキシフェニル）−スルフィド、ビス（３−カルボキ
シフェニル）−スルフィド、ビス（２−メチル−４−カ
ルボキシフェニル）−スルフィド、ビス（２−メチル−
３−カルボキシフェニル）−スルフィド、ビス（３−メ
チル−４−カルボキシフェニル）−スルフィド、ビス
（４−メチル−３−カルボキシフェニル）−スルフィ
ド、ビス（５−メチル−４−カルボキシフェニル）−ス
ルフィド、ビス（５−メチル−３−カルボキシフェニ
ル）−スルフィド、ビス（６−メチル−４−カルボキシ
フェニル）−スルフィド、ビス（６−メチル−３−カル
ボキシフェニル）−スルフィド、ビス（２−トリフルオ
ロメチル−４−カルボキシフェニル）−スルフィド、ビ
ス（２−トリフルオロメチル−３−カルボキシフェニ
ル）−スルフィド、ビス（３−トリフルオロメチル−４
−カルボキシフェニル）−スルフィド、ビス（４−トリ
フルオロメチル−３−カルボキシフェニル）−スルフィ
ド、ビス（５−トリフルオロメチル−４−カルボキシフ
ェニル）−スルフィド、ビス（５−トリフルオロメチル
−３−カルボキシフェニル）−スルフィド、ビス（６−
トリフルオロメチル−４−カルボキシフェニル）−スル
フィド、ビス（６−トリフルオロメチル−３−カルボキ
シフェニル）−スルフィド、ビス（４−カルボキシオク
タフルオロフェニル）−スルフィド、ビス（３−カルボ
キシオクタフルオロフェニル）−スルフィド、ビス（４
−カルボキシオクタクロロフェニル）−スルフィド、ビ
ス（３−カルボキシオクタクロロフェニル）−スルフィ
ド、ビス（４−カルボキシフェニル）−スルホン、ビス
（３−カルボキシフェニル）−スルホン、ビス（２−メ
チル−４−カルボキシフェニル）−スルホン、ビス（２
−メチル−３−カルボキシフェニル）−スルホン、ビス
（３−メチル−４−カルボキシフェニル）−スルホン、
ビス（４−メチル−３−カルボキシフェニル）−スルホ
ン、ビス（５−メチル−４−カルボキシフェニル）−ス
ルホン、ビス（５−メチル−３−カルボキシフェニル）
−スルホン、ビス（６−メチル−４−カルボキシフェニ
ル）−スルホン、ビス（６−メチル−３−カルボキシフ
ェニル）−スルホン、ビス（２−トリフルオロメチル−
４−カルボキシフェニル）−スルホン、ビス（２−トリ
フルオロメチル−３−カルボキシフェニル）−スルホ
ン、ビス（３−トリフルオロメチル−４−カルボキシフ
ェニル）−スルホン、ビス（４−トリフルオロメチル−
３−カルボキシフェニル）−スルホン、ビス（５−トリ
フルオロメチル−４−カルボキシフェニル）−スルホ
ン、ビス（５−トリフルオロメチル−３−カルボキシフ
ェニル）−スルホン、ビス（６−トリフルオロメチル−
４−カルボキシフェニル）−スルホン、ビス（６−トリ
フルオロメチル−３−カルボキシフェニル）−スルホ
ン、ビス（４−カルボキシオクタフルオロフェニル）−
スルホン、ビス（３−カルボキシオクタフルオロフェニ
ル）−スルホン、ビス（４−カルボキシオクタクロロフ
ェニル）−スルホン、ビス（３−カルボキシオクタクロ
ロフェニル）−スルホン、ビス（４−カルボキシフェニ
ル）−ケトン、ビス（３−カルボキシフェニル）−ケト
ン、ビス（２−メチル−４−カルボキシフェニル）−ケ
トン、ビス（２−メチル−３−カルボキシフェニル）−
ケトン、ビス（３−メチル−４−カルボキシフェニル）
−ケトン、ビス（４−メチル−３−カルボキシフェニ
ル）−ケトン、ビス（５−メチル−４−カルボキシフェ
ニル）−ケトン、ビス（５−メチル−３−カルボキシフ
ェニル）−ケトン、ビス（６−メチル−４−カルボキシ
フェニル）−ケトン、ビス（６−メチル−３−カルボキ
シフェニル）−ケトン、ビス（２−トリフルオロメチル
−４−カルボキシフェニル）−ケトン、ビス（２−トリ
フルオロメチル−３−カルボキシフェニル）−ケトン、
ビス（３−トリフルオロメチル−４−カルボキシフェニ
ル）−ケトン、ビス（４−トリフルオロメチル−３−カ
ルボキシフェニル）−ケトン、ビス（５−トリフルオロ
メチル−４−カルボキシフェニル）−ケトン、ビス（５
−トリフルオロメチル−３−カルボキシフェニル）−ケ
トン、ビス（６−トリフルオロメチル−４−カルボキシ
フェニル）−ケトン、ビス（６−トリフルオロメチル−
３−カルボキシフェニル）−ケトン、ビス（４−カルボ
キシオクタフルオロフェニル）−ケトン、ビス（３−カ
ルボキシオクタフルオロフェニル）−ケトン、ビス（４
−カルボキシオクタクロロフェニル）−ケトン、ビス
（３−カルボキシオクタクロロフェニル）−ケトン、ビ
ス（４−カルボキシフェニル）−メタン、ビス（３−カ
ルボキシフェニル）−メタン、ビス（２−メチル−４−
カルボキシフェニル）−メタン、ビス（２−メチル−３
−カルボキシフェニル）−メタン、ビス（３−メチル−
４−カルボキシフェニル）−メタン、ビス（４−メチル
−３−カルボキシフェニル）−メタン、ビス（５−メチ
ル−４−カルボキシフェニル）−メタン、ビス（５−メ
チル−３−カルボキシフェニル）−メタン、ビス（６−
メチル−４−カルボキシフェニル）−メタン、ビス（６
−メチル−３−カルボキシフェニル）−メタン、ビス
（２−トリフルオロメチル−４−カルボキシフェニル）
−メタン、ビス（２−トリフルオロメチル−３−カルボ
キシフェニル）−メタン、ビス（３−トリフルオロメチ
ル−４−カルボキシフェニル）−メタン、ビス（４−ト
リフルオロメチル−３−カルボキシフェニル）−メタ
ン、ビス（５−トリフルオロメチル−４−カルボキシフ
ェニル）−メタン、ビス（５−トリフルオロメチル−３
−カルボキシフェニル）−メタン、ビス（６−トリフル
オロメチル−４−カルボキシフェニル）−メタン、ビス
（６−トリフルオロメチル−３−カルボキシフェニル）
−メタン、ビス（４−カルボキシオクタフルオロフェニ
ル）−メタン、ビス（３−カルボキシオクタフルオロフ
ェニル）−メタン、ビス（４−カルボキシオクタクロロ
フェニル）−メタン、ビス（３−カルボキシオクタクロ
ロフェニル）−メタン、２，２−ビス（４−カルボキシ
フェニル）−プロパン、２，２−ビス（３−カルボキシ
フェニル）−プロパン、２，２−ビス（２−メチル−４
−カルボキシフェニル）−プロパン、２，２−ビス（２
−メチル−３−カルボキシフェニル）−プロパン、２，
２−ビス（３−メチル−４−カルボキシフェニル）−プ
ロパン、２，２−ビス（４−メチル−３−カルボキシフ
ェニル）−プロパン、２，２−ビス（５−メチル−４−
カルボキシフェニル）−プロパン、２，２−ビス（５−
メチル−３−カルボキシフェニル）−プロパン、２，２
−ビス（６−メチル−４−カルボキシフェニル）−プロ
パン、２，２−ビス（６−メチル−３−カルボキシフェ
ニル）−プロパン、２，２−ビス（２−トリフルオロメ
チル−４−カルボキシフェニル）−プロパン、２，２−
ビス（２−トリフルオロメチル−３−カルボキシフェニ
ル）−プロパン、２，２−ビス（３−トリフルオロメチ
ル−４−カルボキシフェニル）−プロパン、２，２−ビ
ス（４−トリフルオロメチル−３−カルボキシフェニ
ル）−プロパン、２，２−ビス（５−トリフルオロメチ
ル−４−カルボキシフェニル）−プロパン、２，２−ビ
ス（５−トリフルオロメチル−３−カルボキシフェニ
ル）−プロパン、２，２−ビス（６−メチル−４−カル
ボキシフェニル）−プロパン、２，２−ビス（６−トリ
フルオロメチル−３−カルボキシフェニル）−プロパ
ン、２，２−ビス（４−カルボキシオクタフルオロフェ
ニル）−プロパン、２，２−ビス（３−カルボキシオク
タフルオロフェニル）−プロパン、２，２−ビス（４−
カルボキシオクタクロロフェニル）−プロパン、２，２
−ビス（３−カルボキシオクタクロロフェニル）−プロ
パン、２，２−ビス（４−カルボキシフェニル）−ヘキ
サフルオロプロパン、２，２−ビス（３−カルボキシフ
ェニル）−ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（２
−メチル−４−カルボキシフェニル）−ヘキサフルオロ
プロパン、２，２−ビス（２−メチル−３−カルボキシ
フェニル）−ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス
（３−メチル−４−カルボキシフェニル）−ヘキサフル
オロプロパン、２，２−ビス（４−メチル−３−カルボ
キシフェニル）−ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビ
ス（５−メチル−４−カルボキシフェニル）−ヘキサフ
ルオロプロパン、２，２−ビス（５−メチル−３−カル
ボキシフェニル）−ヘキサフルオロプロパン、２，２−
ビス（６−メチル−４−カルボキシフェニル）−ヘキサ
フルオロプロパン、２，２−ビス（６−メチル−３−カ
ルボキシフェニル）−ヘキサフルオロプロパン、２，２
−ビス（２−トリフルオロメチル−４−カルボキシフェ
ニル）−ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（２−
トリフルオロメチル−３−カルボキシフェニル）−ヘキ
サフルオロプロパン、２，２−ビス（３−トリフルオロ
メチル−４−カルボキシフェニル）−ヘキサフルオロプ
ロパン、２，２−ビス（４−トリフルオロメチル−３−
カルボキシフェニル）−ヘキサフルオロプロパン、２，
２−ビス（５−トリフルオロメチル−４−カルボキシフ
ェニル）−ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（５
−トリフルオロメチル−３−カルボキシフェニル）−ヘ
キサフルオロプロパン、２，２−ビス（６−トリフルオ
ロメチル−４−カルボキシフェニル）−ヘキサフルオロ
プロパン、２，２−ビス（６−トリフルオロメチル−３
−カルボキシフェニル）−ヘキサフルオロプロパン、
２，２−ビス（４−カルボキシオクタフルオロフェニ
ル）−ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（３−カ
ルボキシオクタフルオロフェニル）−ヘキサフルオロプ
ロパン、２，２−ビス（４−カルボキシオクタクロロフ
ェニル）−ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（３
−カルボキシオクタクロロフェニル）−ヘキサフルオロ
プロパン等が挙げられるが、これらに限定されるもので
はない。これらのジカルボン酸化合物は単独、または組
み合わせて使用することができる。
【００４０】（ここでも一般式で表すならば） 本発明
に用いるジカルボン酸として、特に式（１４）中のＺ2
が式（１６）で表されるものとしては、１，２−ビス
（４−カルボキシフェノキシ）ベンゼン、１，２−ビス
（３−カルボキシフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス
（４−カルボキシフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス
（３−カルボキシフェノキシ）ベンゼン、１，４−ビス
（４−カルボキシフェノキシ）ベンゼン、１，４−ビス
（３−カルボキシフェノキシ）ベンゼン、１，２−ビス
（４−カルボキシフェノキシ）テトラフルオロベンゼ
ン、１，２−ビス（３−カルボキシフェノキシ）テトラ
フルオロベンゼン、１，３−ビス（４−カルボキシフェ
ノキシ）テトラフルオロベンゼン、１，３−ビス（３−
カルボキシフェノキシ）テトラフルオロベンゼン、１，
４−ビス（４−カルボキシフェノキシ）テトラフルオロ
ベンゼン、１，４−ビス（３−カルボキシフェノキシ）
テトラフルオロベンゼン、１，２−ビス（４−カルボキ
シフェノキシ）テトラクロロベンゼン、１，２−ビス
（３−カルボキシフェノキシ）テトラクロロベンゼン、
１，３−ビス（４−カルボキシフェノキシ）テトラクロ
ロベンゼン、１，３−ビス（３−カルボキシフェノキ
シ）テトラクロロベンゼン、１，４−ビス（４−カルボ
キシフェノキシ）テトラクロロベンゼン、１，４−ビス
（３−カルボキシフェノキシ）テトラクロロベンゼン等
が挙げられるが、これらに限定されるものではない。こ
れらのジカルボン酸化合物は単独、または組み合わせて
使用することができる。
に用いるジカルボン酸として、特に式（１４）中のＺ2
が式（１６）で表されるものとしては、１，２−ビス
（４−カルボキシフェノキシ）ベンゼン、１，２−ビス
（３−カルボキシフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス
（４−カルボキシフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス
（３−カルボキシフェノキシ）ベンゼン、１，４−ビス
（４−カルボキシフェノキシ）ベンゼン、１，４−ビス
（３−カルボキシフェノキシ）ベンゼン、１，２−ビス
（４−カルボキシフェノキシ）テトラフルオロベンゼ
ン、１，２−ビス（３−カルボキシフェノキシ）テトラ
フルオロベンゼン、１，３−ビス（４−カルボキシフェ
ノキシ）テトラフルオロベンゼン、１，３−ビス（３−
カルボキシフェノキシ）テトラフルオロベンゼン、１，
４−ビス（４−カルボキシフェノキシ）テトラフルオロ
ベンゼン、１，４−ビス（３−カルボキシフェノキシ）
テトラフルオロベンゼン、１，２−ビス（４−カルボキ
シフェノキシ）テトラクロロベンゼン、１，２−ビス
（３−カルボキシフェノキシ）テトラクロロベンゼン、
１，３−ビス（４−カルボキシフェノキシ）テトラクロ
ロベンゼン、１，３−ビス（３−カルボキシフェノキ
シ）テトラクロロベンゼン、１，４−ビス（４−カルボ
キシフェノキシ）テトラクロロベンゼン、１，４−ビス
（３−カルボキシフェノキシ）テトラクロロベンゼン等
が挙げられるが、これらに限定されるものではない。こ
れらのジカルボン酸化合物は単独、または組み合わせて
使用することができる。
【００４１】（ここでも一般式で表すならば） 本発明
に用いるジカルボン酸の例で、一般式（１）中のＹ1、
Ｙ2として、特に式（１４）中のＺ2が式（１７）で表さ
れる２価の基を有するものとしては、１，２−ビス（４
−カルボキシフェノキシ）ビフェニル、１，２−ビス
（３−カルボキシフェノキシ）ビフェニル、１，３−ビ
ス（４−カルボキシフェノキシ）ビフェニル、１，３−
ビス（３−カルボキシフェノキシ）ビフェニル、１，４
−ビス（４−カルボキシフェノキシ）ビフェニル、１，
４−ビス（３−カルボキシフェノキシ）ビフェニル、
１，２−ビス（４−カルボキシフェノキシ）オクタフル
オロビフェニル、１，２−ビス（３−カルボキシフェノ
キシ）オクタフルオロビフェニル、１，３−ビス（４−
カルボキシフェノキシ）オクタフルオロビフェニル、
１，３−ビス（３−カルボキシフェノキシ）オクタフル
オロビフェニル、１，４−ビス（４−カルボキシフェノ
キシ）オクタフルオロビフェニル、１，４−ビス（３−
カルボキシフェノキシ）オクタフルオロビフェニル、
１，２−ビス（４−カルボキシフェノキシ）オクタクロ
ロビフェニル、１，２−ビス（３−カルボキシフェノキ
シ）オクタクロロビフェニル、１，３−ビス（４−カル
ボキシフェノキシ）オクタクロロビフェニル、１，３−
ビス（３−カルボキシフェノキシ）オクタクロロビフェ
ニル、１，４−ビス（４−カルボキシフェノキシ）オク
タクロロビフェニル、１，４−ビス（３−カルボキシフ
ェノキシ）オクタクロロビフェニル等を挙げることがで
きるが、これらに限定されるものではない。これらのジ
カルボン酸は単独、または組み合わせて使用することが
できる。
に用いるジカルボン酸の例で、一般式（１）中のＹ1、
Ｙ2として、特に式（１４）中のＺ2が式（１７）で表さ
れる２価の基を有するものとしては、１，２−ビス（４
−カルボキシフェノキシ）ビフェニル、１，２−ビス
（３−カルボキシフェノキシ）ビフェニル、１，３−ビ
ス（４−カルボキシフェノキシ）ビフェニル、１，３−
ビス（３−カルボキシフェノキシ）ビフェニル、１，４
−ビス（４−カルボキシフェノキシ）ビフェニル、１，
４−ビス（３−カルボキシフェノキシ）ビフェニル、
１，２−ビス（４−カルボキシフェノキシ）オクタフル
オロビフェニル、１，２−ビス（３−カルボキシフェノ
キシ）オクタフルオロビフェニル、１，３−ビス（４−
カルボキシフェノキシ）オクタフルオロビフェニル、
１，３−ビス（３−カルボキシフェノキシ）オクタフル
オロビフェニル、１，４−ビス（４−カルボキシフェノ
キシ）オクタフルオロビフェニル、１，４−ビス（３−
カルボキシフェノキシ）オクタフルオロビフェニル、
１，２−ビス（４−カルボキシフェノキシ）オクタクロ
ロビフェニル、１，２−ビス（３−カルボキシフェノキ
シ）オクタクロロビフェニル、１，３−ビス（４−カル
ボキシフェノキシ）オクタクロロビフェニル、１，３−
ビス（３−カルボキシフェノキシ）オクタクロロビフェ
ニル、１，４−ビス（４−カルボキシフェノキシ）オク
タクロロビフェニル、１，４−ビス（３−カルボキシフ
ェノキシ）オクタクロロビフェニル等を挙げることがで
きるが、これらに限定されるものではない。これらのジ
カルボン酸は単独、または組み合わせて使用することが
できる。
【００４２】本発明に用いるポリベンゾオキサゾール前
駆体製造方法の中で、酸クロリド法による合成の例を挙
げると、まず前記ジカルボン酸を、Ｎ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド等の触媒存在下、過剰量の塩化チオニルと、
室温から７５℃で反応させ、過剰の塩化チオニルを加熱
及び減圧により留去する。その後残査をヘキサン等の溶
媒で再結晶することにより、酸クロリドであるジカルボ
ン酸クロリドを得ることができる。次いで前記ビスアミ
ノフェノール化合物及び／またはジアミノジヒドロキシ
化合物を、通常Ｎ−メチル−２−ピロリドン等の極性溶
媒に溶解し、ピリジン等の酸受容剤存在下で、ジカルボ
ン酸クロリドと、−３０℃から室温で反応することによ
りポリベンゾオキサゾール前駆体を得ることができる。
駆体製造方法の中で、酸クロリド法による合成の例を挙
げると、まず前記ジカルボン酸を、Ｎ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド等の触媒存在下、過剰量の塩化チオニルと、
室温から７５℃で反応させ、過剰の塩化チオニルを加熱
及び減圧により留去する。その後残査をヘキサン等の溶
媒で再結晶することにより、酸クロリドであるジカルボ
ン酸クロリドを得ることができる。次いで前記ビスアミ
ノフェノール化合物及び／またはジアミノジヒドロキシ
化合物を、通常Ｎ−メチル−２−ピロリドン等の極性溶
媒に溶解し、ピリジン等の酸受容剤存在下で、ジカルボ
ン酸クロリドと、−３０℃から室温で反応することによ
りポリベンゾオキサゾール前駆体を得ることができる。
【００４３】本発明において、このようにして得られた
ポリベンゾオキサゾール前駆体を、従来法の通り、加熱
または脱水剤で処理するにより、閉環反応してポリベン
ゾオキサゾール樹脂とすることができる。このポリベン
ゾオキサゾール前駆体又は樹脂に、必要により、各種添
加剤として、界面活性剤やカップリング剤等を添加して
用いることができる。
ポリベンゾオキサゾール前駆体を、従来法の通り、加熱
または脱水剤で処理するにより、閉環反応してポリベン
ゾオキサゾール樹脂とすることができる。このポリベン
ゾオキサゾール前駆体又は樹脂に、必要により、各種添
加剤として、界面活性剤やカップリング剤等を添加して
用いることができる。
【００４４】本発明に用いるポリベンゾオキサゾール前
駆体は、光導波路のクラッド材及びコア材として用いら
れ、一般に製造されている基板上のシングルモード光導
波路と同様の構造に適用できる。例えば、スラブ型、リ
ッジ型、埋め込み型等がある。
駆体は、光導波路のクラッド材及びコア材として用いら
れ、一般に製造されている基板上のシングルモード光導
波路と同様の構造に適用できる。例えば、スラブ型、リ
ッジ型、埋め込み型等がある。
【００４５】本発明のプラスチック光導波路の製造方法
について、前記光導波路構造の内、埋め込み型シングル
モード光導波路を用いて、図１を参照しつつ説明する。
まず、シリコン等の基板１の上に下部クラッド用とし
て、前記ポリベンゾオキサゾールの前駆体溶液を、スピ
ンコート等の方法により塗布し、これを加熱等により硬
化して閉環し樹脂とした下部クラッド層２を得る。次
に、この上に下部クラッド層として用いた前記ポリベン
ゾオキサゾールより、屈折率が高いポリベンゾオキサゾ
ールの前駆体溶液をコア材として用いて、前記下部クラ
ッド層２を形成したときと同様の方法により、コア層３
を形成する。次に、この上にコアパターンを形成するた
めのマスク層４を形成する（図１（ａ））。マスク層用
材料としては、Ａｌ、Ｔｉ等の金属、ＳｉＯ2、スピン
オングラス（ＳＯＧ）、Ｓｉ含有レジスト、感光性ポリ
ベンゾオキサゾール等を用いることができる。
について、前記光導波路構造の内、埋め込み型シングル
モード光導波路を用いて、図１を参照しつつ説明する。
まず、シリコン等の基板１の上に下部クラッド用とし
て、前記ポリベンゾオキサゾールの前駆体溶液を、スピ
ンコート等の方法により塗布し、これを加熱等により硬
化して閉環し樹脂とした下部クラッド層２を得る。次
に、この上に下部クラッド層として用いた前記ポリベン
ゾオキサゾールより、屈折率が高いポリベンゾオキサゾ
ールの前駆体溶液をコア材として用いて、前記下部クラ
ッド層２を形成したときと同様の方法により、コア層３
を形成する。次に、この上にコアパターンを形成するた
めのマスク層４を形成する（図１（ａ））。マスク層用
材料としては、Ａｌ、Ｔｉ等の金属、ＳｉＯ2、スピン
オングラス（ＳＯＧ）、Ｓｉ含有レジスト、感光性ポリ
ベンゾオキサゾール等を用いることができる。
【００４６】次いで、マスク層４の上に、レジストを塗
布して、プリベーク、露光、現像、アフターベークを行
い、パターニングされたレジスト層５を得る（図１
（ｂ））。次に、レジスト層５で保護されていないマス
ク層４をエッチングで除去（図１（ｃ））した後、レジ
スト層５をエッチング液で除去し、マスク層４でコア層
３のポリベンゾオキサゾールをドライエッチングにより
除去する（図１（ｄ））。マスク層４にＳｉ含有レジス
トや感光性ポリベンゾオキサゾールを用いた場合には、
フォトレジストを使用する必要はない。
布して、プリベーク、露光、現像、アフターベークを行
い、パターニングされたレジスト層５を得る（図１
（ｂ））。次に、レジスト層５で保護されていないマス
ク層４をエッチングで除去（図１（ｃ））した後、レジ
スト層５をエッチング液で除去し、マスク層４でコア層
３のポリベンゾオキサゾールをドライエッチングにより
除去する（図１（ｄ））。マスク層４にＳｉ含有レジス
トや感光性ポリベンゾオキサゾールを用いた場合には、
フォトレジストを使用する必要はない。
【００４７】次に、残ったマスク層４を、ドライエッチ
ングやはく離液を用いることにより除去することによ
り、コアを形成する（図１（ｅ））。更に、この上に、
前記下部クラッド材に用いたのと同じポリベンゾオキサ
ゾール前駆体を、スピンコート等で塗布して、上部クラ
ッド層６を形成し、これを加熱など硬化して閉環し樹脂
とした上部クラッド層６を得る（図１（ｆ））。このよ
うにして、光損失等の光導波路特性の良好なポリベンゾ
オキサゾール樹脂からなるシングルモード光導波路を作
製できる。
ングやはく離液を用いることにより除去することによ
り、コアを形成する（図１（ｅ））。更に、この上に、
前記下部クラッド材に用いたのと同じポリベンゾオキサ
ゾール前駆体を、スピンコート等で塗布して、上部クラ
ッド層６を形成し、これを加熱など硬化して閉環し樹脂
とした上部クラッド層６を得る（図１（ｆ））。このよ
うにして、光損失等の光導波路特性の良好なポリベンゾ
オキサゾール樹脂からなるシングルモード光導波路を作
製できる。
【００４８】本発明のプラスチック光導波路用材料であ
るポリベンゾオキサゾール、ポリベンゾオキサゾール共
重合体及び混合物の前駆体溶液を閉環させたポリベンゾ
オキサゾール樹脂からなるシングルモード光導波路を作
製することにより、その光導波路における光損失等の光
導波特性の偏光波に対する相違を低減できる。
るポリベンゾオキサゾール、ポリベンゾオキサゾール共
重合体及び混合物の前駆体溶液を閉環させたポリベンゾ
オキサゾール樹脂からなるシングルモード光導波路を作
製することにより、その光導波路における光損失等の光
導波特性の偏光波に対する相違を低減できる。
【００４９】
【実施例】以下、実施例により本発明を更に詳しく説明
するが、本発明はこれらに限定されない。
するが、本発明はこれらに限定されない。
【００５０】合成例１
１，３−ジアミノ−４，６−ジヒドロキシジフルオロベ
ンゼン３５．２部（０．２ｍｏｌ）を乾燥したジメチル
アセトアミド２００部に溶解し、ピリジン３９．６部
（０．５ｍｏｌ）を添加後、乾燥窒素下、−１５℃でシ
クロヘキサン１００部に２，２’−ビス（トリフルオロ
メチル）−４，４’−ビフェニレンジカルボン酸クロリ
ド８３．０部（０．２ｍｏｌ）を溶解したものを３０分
掛けて滴下した。滴下終了後、室温まで戻し、室温で５
時間かく拌した。その後、反応溶液を蒸留水７Ｌに滴下
し、沈殿物を集め、乾燥することによりポリベンゾオキ
サゾール前駆体（Ａ）１０６．４部を得た。前駆体の分
子量をゲル・パーミエイション・クロマトグラフィ（以
下ＧＰＣと略記）を用いて測定した所、２２,０００で
あった。屈折率は１．５６０であった。
ンゼン３５．２部（０．２ｍｏｌ）を乾燥したジメチル
アセトアミド２００部に溶解し、ピリジン３９．６部
（０．５ｍｏｌ）を添加後、乾燥窒素下、−１５℃でシ
クロヘキサン１００部に２，２’−ビス（トリフルオロ
メチル）−４，４’−ビフェニレンジカルボン酸クロリ
ド８３．０部（０．２ｍｏｌ）を溶解したものを３０分
掛けて滴下した。滴下終了後、室温まで戻し、室温で５
時間かく拌した。その後、反応溶液を蒸留水７Ｌに滴下
し、沈殿物を集め、乾燥することによりポリベンゾオキ
サゾール前駆体（Ａ）１０６．４部を得た。前駆体の分
子量をゲル・パーミエイション・クロマトグラフィ（以
下ＧＰＣと略記）を用いて測定した所、２２,０００で
あった。屈折率は１．５６０であった。
【００５１】合成例２
１，３−ジアミノ−４，６−ジヒドロキシジフルオロベ
ンゼン３５．２部（０．２ｍｏｌ）を１−トリフルオロ
メチル−２，６−ジアミノ−３，５−ジヒドロキシフル
オロベンゼン４５．２部（０．２ｍｏｌ）に置き換えた
以外は合成例１と同様にして、ポリベンゾオキサゾール
前駆体（Ｂ）１１５．４部を得た。前駆体（Ｂ）の分子
量をＧＰＣを用いて測定した所、２３，０００であっ
た。屈折率は１．５４１であった。
ンゼン３５．２部（０．２ｍｏｌ）を１−トリフルオロ
メチル−２，６−ジアミノ−３，５−ジヒドロキシフル
オロベンゼン４５．２部（０．２ｍｏｌ）に置き換えた
以外は合成例１と同様にして、ポリベンゾオキサゾール
前駆体（Ｂ）１１５．４部を得た。前駆体（Ｂ）の分子
量をＧＰＣを用いて測定した所、２３，０００であっ
た。屈折率は１．５４１であった。
【００５２】合成例３
１，３−ジアミノ−４，６−ジヒドロキシジフルオロベ
ンゼン３５．２部（０．２ｍｏｌ）を２，２−ビス（３
−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプ
ロパン７３．２部（０．２ｍｏｌ）に、２，２’−ビス
（トリフルオロメチル）−４，４’−ビフェニレンジカ
ルボン酸クロリド８３．０部（０．２ｍｏｌ）を１−ト
リフルオロメチルナフタレン−２，６−ジカルボン酸ク
ロリド６４．２部（０．２ｍｏｌ）に置き換えた以外
は、合成例１と同様にして、ポリベンゾオキサゾール前
駆体（Ｃ）１２３．７部を得た。前駆体（Ｃ）の分子量
をＧＰＣを用いて測定した所、２４，０００であった。
屈折率は１．５６２であった。
ンゼン３５．２部（０．２ｍｏｌ）を２，２−ビス（３
−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプ
ロパン７３．２部（０．２ｍｏｌ）に、２，２’−ビス
（トリフルオロメチル）−４，４’−ビフェニレンジカ
ルボン酸クロリド８３．０部（０．２ｍｏｌ）を１−ト
リフルオロメチルナフタレン−２，６−ジカルボン酸ク
ロリド６４．２部（０．２ｍｏｌ）に置き換えた以外
は、合成例１と同様にして、ポリベンゾオキサゾール前
駆体（Ｃ）１２３．７部を得た。前駆体（Ｃ）の分子量
をＧＰＣを用いて測定した所、２４，０００であった。
屈折率は１．５６２であった。
【００５３】合成例４
１，３−ジアミノ−４，６−ジヒドロキシジフルオロベ
ンゼン３５．２（０．２ｍｏｌ）を２，７−ジアミノ−
３，６−ジヒドロキシテトラフルオロナフタレン５２．
４部（０．２ｍｏｌ）に置き換えた以外は合成例１と同
様にして、ポリベンゾオキサゾール前駆体（Ｄ）１２
１．９部を得た。前駆体（Ｄ）の分子量をＧＰＣを用い
て測定した所、２３，０００であった。屈折率は１．５
５９であった。
ンゼン３５．２（０．２ｍｏｌ）を２，７−ジアミノ−
３，６−ジヒドロキシテトラフルオロナフタレン５２．
４部（０．２ｍｏｌ）に置き換えた以外は合成例１と同
様にして、ポリベンゾオキサゾール前駆体（Ｄ）１２
１．９部を得た。前駆体（Ｄ）の分子量をＧＰＣを用い
て測定した所、２３，０００であった。屈折率は１．５
５９であった。
【００５４】合成例５
１，３−ジアミノ−４，６−ジヒドロキシジフルオロベ
ンゼン３５．２（０．２ｍｏｌ）を１−トリフルオロメ
チル−３，６−ジアミノ−２，７−ジヒドロキシナフタ
レン４１．６部（０．２ｍｏｌ）に置き換えた以外は合
成例１と同様にして、ポリベンゾオキサゾール前駆体
（Ｅ）１１２．１部を得た。前駆体（Ｅ）の分子量をＧ
ＰＣを用いて測定した所、２３，０００であった。屈折
率は１．５６４であった。
ンゼン３５．２（０．２ｍｏｌ）を１−トリフルオロメ
チル−３，６−ジアミノ−２，７−ジヒドロキシナフタ
レン４１．６部（０．２ｍｏｌ）に置き換えた以外は合
成例１と同様にして、ポリベンゾオキサゾール前駆体
（Ｅ）１１２．１部を得た。前駆体（Ｅ）の分子量をＧ
ＰＣを用いて測定した所、２３，０００であった。屈折
率は１．５６４であった。
【００５５】合成例６
１，３−ジアミノ−４，６−ジヒドロキシジフルオロベ
ンゼン３５．２部（０．２ｍｏｌ）をビス（３−アミノ
−４−ヒドロキシフェニル）スルフィド４９．６部
（０．２ｍｏｌ）に、２，２’−ビス（トリフルオロメ
チル）−４，４’−ビフェニレンジカルボン酸クロリド
８３．０部（０．２ｍｏｌ）を４，４’−オクタフルオ
ロビフェニレンジカルボン酸クロリド８４．６部（０．
２ｍｏｌ）に置き換えた以外は合成例１と同様にして、
ポリベンゾオキサゾール前駆体（Ｆ）１２０．８部を得
た。前駆体（Ｆ）の分子量をＧＰＣを用いて測定した
所、２３，０００であった。屈折率は１．５９１であっ
た。
ンゼン３５．２部（０．２ｍｏｌ）をビス（３−アミノ
−４−ヒドロキシフェニル）スルフィド４９．６部
（０．２ｍｏｌ）に、２，２’−ビス（トリフルオロメ
チル）−４，４’−ビフェニレンジカルボン酸クロリド
８３．０部（０．２ｍｏｌ）を４，４’−オクタフルオ
ロビフェニレンジカルボン酸クロリド８４．６部（０．
２ｍｏｌ）に置き換えた以外は合成例１と同様にして、
ポリベンゾオキサゾール前駆体（Ｆ）１２０．８部を得
た。前駆体（Ｆ）の分子量をＧＰＣを用いて測定した
所、２３，０００であった。屈折率は１．５９１であっ
た。
【００５６】合成例７
１，３−ジアミノ−４，６−ジヒドロキシジフルオロベ
ンゼン３５．２部（０．２ｍｏｌ）を４，４’−ジアミ
ノ−３，３’−ジヒドロキシ−５，５’−トリフルオロ
メチルビフェニル７０．４部（０．２ｍｏｌ）に置き換
えた以外は合成例１と同様にして、ポリベンゾオキサゾ
ール前駆体（Ｇ）１３８．１部を得た。前駆体（Ｇ）の
分子量をＧＰＣを用いて測定した所、２４，０００であ
った。屈折率は１．５４３であった。
ンゼン３５．２部（０．２ｍｏｌ）を４，４’−ジアミ
ノ−３，３’−ジヒドロキシ−５，５’−トリフルオロ
メチルビフェニル７０．４部（０．２ｍｏｌ）に置き換
えた以外は合成例１と同様にして、ポリベンゾオキサゾ
ール前駆体（Ｇ）１３８．１部を得た。前駆体（Ｇ）の
分子量をＧＰＣを用いて測定した所、２４，０００であ
った。屈折率は１．５４３であった。
【００５７】合成例８
１，３−ジアミノ−４，６−ジヒドロキシジフルオロベ
ンゼン３５．２部（０．２ｍｏｌ）を３，４’−ジアミ
ノ−４，３’−ジヒドロキシ−６，６’−トリフルオロ
メチルビフェニル７０．４部（０．２ｍｏｌ）に、２，
２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ビフェ
ニレンジカルボン酸クロリド８３．０部（０．２ｍｏ
ｌ）を１，４−シクロヘキサンジカルボン酸４１．８部
（０．２ｍｏｌ）に置き換えた以外は合成例１と同様に
して、ポリベンゾオキサゾール前駆体（Ｈ）１０１．０
部を得た。前駆体（Ｈ）の分子量をＧＰＣを用いて測定
した所、２２，０００であった。屈折率は１．５５８で
あった。
ンゼン３５．２部（０．２ｍｏｌ）を３，４’−ジアミ
ノ−４，３’−ジヒドロキシ−６，６’−トリフルオロ
メチルビフェニル７０．４部（０．２ｍｏｌ）に、２，
２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ビフェ
ニレンジカルボン酸クロリド８３．０部（０．２ｍｏ
ｌ）を１，４−シクロヘキサンジカルボン酸４１．８部
（０．２ｍｏｌ）に置き換えた以外は合成例１と同様に
して、ポリベンゾオキサゾール前駆体（Ｈ）１０１．０
部を得た。前駆体（Ｈ）の分子量をＧＰＣを用いて測定
した所、２２，０００であった。屈折率は１．５５８で
あった。
【００５８】合成例９
１，３−ジアミノ−４，６−ジヒドロキシジフルオロベ
ンゼン３５．２部（０．２ｍｏｌ）を２，２−ビス（３
−アミノ−４−ヒドロキシ−５−トリフルオロメチルフ
ェニル）ヘキサフルオロプロパン１００．４部（０．２
ｍｏｌ）に、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−
４，４’−ビフェニレンジカルボン酸クロリド８３．０
部（０．２ｍｏｌ）をオクタフルオロアジピン酸クロリ
ド６５．８部（０．２ｍｏｌ）に置き換えた以外は合成
例１と同様にして、ポリベンゾオキサゾール前駆体
（Ｉ）１４９．６部を得た。前駆体（Ｉ）の分子量をＧ
ＰＣを用いて測定した所、２４，０００であった。屈折
率は１．４６０であった。
ンゼン３５．２部（０．２ｍｏｌ）を２，２−ビス（３
−アミノ−４−ヒドロキシ−５−トリフルオロメチルフ
ェニル）ヘキサフルオロプロパン１００．４部（０．２
ｍｏｌ）に、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−
４，４’−ビフェニレンジカルボン酸クロリド８３．０
部（０．２ｍｏｌ）をオクタフルオロアジピン酸クロリ
ド６５．８部（０．２ｍｏｌ）に置き換えた以外は合成
例１と同様にして、ポリベンゾオキサゾール前駆体
（Ｉ）１４９．６部を得た。前駆体（Ｉ）の分子量をＧ
ＰＣを用いて測定した所、２４，０００であった。屈折
率は１．４６０であった。
【００５９】合成例１０
１，３−ジアミノ−４，６−ジヒドロキシジフルオロベ
ンゼン３５．２（０．２ｍｏｌ）を２,２−ビス（３−
アミノ−４−ヒドロキシ−２−トリフルオロメチルフェ
ニル）ヘキサフルオロプロパン１００．４部（０．２ｍ
ｏｌ）に、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−
４，４’−ビフェニレンジカルボン酸クロリド８３．０
部（０．２ｍｏｌ）をアジピン酸クロリド３６．６部
（０．２ｍｏｌ）に置き換えた以外は合成例１と同様に
して、ポリベンゾオキサゾール前駆体（Ｊ）１２３．３
部を得た。前駆体（Ｊ）の分子量をＧＰＣを用いて測定
した所、２４，０００であった。屈折率は１．４９９で
あった。
ンゼン３５．２（０．２ｍｏｌ）を２,２−ビス（３−
アミノ−４−ヒドロキシ−２−トリフルオロメチルフェ
ニル）ヘキサフルオロプロパン１００．４部（０．２ｍ
ｏｌ）に、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−
４，４’−ビフェニレンジカルボン酸クロリド８３．０
部（０．２ｍｏｌ）をアジピン酸クロリド３６．６部
（０．２ｍｏｌ）に置き換えた以外は合成例１と同様に
して、ポリベンゾオキサゾール前駆体（Ｊ）１２３．３
部を得た。前駆体（Ｊ）の分子量をＧＰＣを用いて測定
した所、２４，０００であった。屈折率は１．４９９で
あった。
【００６０】合成例１１
１，３−ジアミノ−４，６−ジヒドロキシジフルオロベ
ンゼン３５．２部（０．２ｍｏｌ）を２−ビス（４−ア
ミノ−３−ヒドロキシフェノキシ）オクタフルオロビフ
ェニル１０８．８部（０．２ｍｏｌ）に置き換えた以外
は合成例１と同様にして、ポリベンゾオキサゾール前駆
体（Ｋ）１７２．６部を得た。前駆体（Ｋ）の分子量を
ＧＰＣを用いて測定した所、２３，０００であった。屈
折率は１．５５６であった。
ンゼン３５．２部（０．２ｍｏｌ）を２−ビス（４−ア
ミノ−３−ヒドロキシフェノキシ）オクタフルオロビフ
ェニル１０８．８部（０．２ｍｏｌ）に置き換えた以外
は合成例１と同様にして、ポリベンゾオキサゾール前駆
体（Ｋ）１７２．６部を得た。前駆体（Ｋ）の分子量を
ＧＰＣを用いて測定した所、２３，０００であった。屈
折率は１．５５６であった。
【００６１】合成例１２
１，３−ジアミノ−４，６−ジヒドロキシジフルオロベ
ンゼン３５．２部（０．２ｍｏｌ）を９，９−ビス（４
−（（４−アミノ−３−ヒドロキシ）フェノキシ）フェ
ニル）フルオレン７６．０部（０．２ｍｏｌ）に置き換
えた以外は合成例１と同様にして、ポリベンゾオキサゾ
ール前駆体（Ｌ）１４３．１部を得た。前駆体（Ｌ）の
分子量をＧＰＣを用いて測定した所、２５，０００であ
った。屈折率は１．６１２であった。
ンゼン３５．２部（０．２ｍｏｌ）を９，９−ビス（４
−（（４−アミノ−３−ヒドロキシ）フェノキシ）フェ
ニル）フルオレン７６．０部（０．２ｍｏｌ）に置き換
えた以外は合成例１と同様にして、ポリベンゾオキサゾ
ール前駆体（Ｌ）１４３．１部を得た。前駆体（Ｌ）の
分子量をＧＰＣを用いて測定した所、２５，０００であ
った。屈折率は１．６１２であった。
【００６２】合成例１３
２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ビ
フェニレンジカルボン酸クロリド８３．０部（０．２ｍ
ｏｌ）を２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，
４’−ビフェニレンジカルボン酸クロリド７４．７部
（０．１８ｍｏｌ）と４，４’−オキシビス安息香酸部
５．９（０．０２ｍｏｌ）の混合物に置き換えた以外
は、合成例１と同様にして、ポリベンゾオキサゾール前
駆体（Ｍ）１０４．２部を得た。前駆体（Ｍ）の分子量
をＧＰＣを用いて測定した所、２４，０００であった。
屈折率は１．５６６であった。
フェニレンジカルボン酸クロリド８３．０部（０．２ｍ
ｏｌ）を２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，
４’−ビフェニレンジカルボン酸クロリド７４．７部
（０．１８ｍｏｌ）と４，４’−オキシビス安息香酸部
５．９（０．０２ｍｏｌ）の混合物に置き換えた以外
は、合成例１と同様にして、ポリベンゾオキサゾール前
駆体（Ｍ）１０４．２部を得た。前駆体（Ｍ）の分子量
をＧＰＣを用いて測定した所、２４，０００であった。
屈折率は１．５６６であった。
【００６３】合成例１４
１，３−ジアミノ−４，６−ジヒドロキシジフルオロベ
ンゼン３５．２部（０．２ｍｏｌ）を１−トリフルオロ
メチル−２，６−ジアミノ−３，５−ジヒドロキシフル
オロベンゼン４５．２部（０．２ｍｏｌ）に、２，２’
−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ビフェニレ
ンジカルボン酸クロリド８３．０部（０．２ｍｏｌ）を
２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ビ
フェニレンジカルボン酸クロリド７４．７部（０．１８
ｍｏｌ）と４，４’−オキシビス安息香酸部５．９
（０．０２ｍｏｌ）の混合物の混合物に置き換えた以外
は合成例１と同様にして、ポリベンゾオキサゾール前駆
体（Ｎ）１１３．２部を得た。前駆体（Ｎ）の分子量を
ＧＰＣを用いて測定した所、２１，０００であった。屈
折率は１．５４７であった。
ンゼン３５．２部（０．２ｍｏｌ）を１−トリフルオロ
メチル−２，６−ジアミノ−３，５−ジヒドロキシフル
オロベンゼン４５．２部（０．２ｍｏｌ）に、２，２’
−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ビフェニレ
ンジカルボン酸クロリド８３．０部（０．２ｍｏｌ）を
２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ビ
フェニレンジカルボン酸クロリド７４．７部（０．１８
ｍｏｌ）と４，４’−オキシビス安息香酸部５．９
（０．０２ｍｏｌ）の混合物の混合物に置き換えた以外
は合成例１と同様にして、ポリベンゾオキサゾール前駆
体（Ｎ）１１３．２部を得た。前駆体（Ｎ）の分子量を
ＧＰＣを用いて測定した所、２１，０００であった。屈
折率は１．５４７であった。
【００６４】合成例１５
１，３−ジアミノ−４，６−ジヒドロキシジフルオロベ
ンゼン３５．２部（０．２ｍｏｌ）を２，２−ビス（３
−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプ
ロパン７３．２部（０．２ｍｏｌ）に、２，２’−ビス
（トリフルオロメチル）−４，４’−ビフェニレンジカ
ルボン酸クロリド８３．０部（０．２ｍｏｌ）を１−ト
リフルオロメチルナフタレン−２，６−ジカルボン酸ク
ロリド５７．８部（０．１８ｍｏｌ）と４，４’−オキ
シビス安息香酸部５．９（０．０２ｍｏｌ）の混合物に
置き換えた以外は、合成例１と同様にして、ポリベンゾ
オキサゾール前駆体（Ｏ）１２３．２部を得た。前駆体
（Ｏ）の分子量をＧＰＣを用いて測定した所、２５，０
００であった。屈折率は１．５６８であった。
ンゼン３５．２部（０．２ｍｏｌ）を２，２−ビス（３
−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプ
ロパン７３．２部（０．２ｍｏｌ）に、２，２’−ビス
（トリフルオロメチル）−４，４’−ビフェニレンジカ
ルボン酸クロリド８３．０部（０．２ｍｏｌ）を１−ト
リフルオロメチルナフタレン−２，６−ジカルボン酸ク
ロリド５７．８部（０．１８ｍｏｌ）と４，４’−オキ
シビス安息香酸部５．９（０．０２ｍｏｌ）の混合物に
置き換えた以外は、合成例１と同様にして、ポリベンゾ
オキサゾール前駆体（Ｏ）１２３．２部を得た。前駆体
（Ｏ）の分子量をＧＰＣを用いて測定した所、２５，０
００であった。屈折率は１．５６８であった。
【００６５】合成例１６
１，３−ジアミノ−４，６−ジヒドロキシジフルオロベ
ンゼン３５．２（０．２ｍｏｌ）を２，７−ジアミノ−
３，６−ジヒドロキシテトラフルオロナフタレン５２．
４部（０．２ｍｏｌ）に、２，２’−ビス（トリフルオ
ロメチル）−４，４’−ビフェニレンジカルボン酸クロ
リド８３．０部（０．２ｍｏｌ）を２，２’−ビス（ト
リフルオロメチル）−４，４’−ビフェニレンジカルボ
ン酸クロリド７４．７部（０．１８ｍｏｌ）と４，４’
−オキシビス安息香酸部５．９（０．０２ｍｏｌ）の混
合物に置き換えた以外は合成例１と同様にして、ポリベ
ンゾオキサゾール前駆体（Ｐ）１１９．７部を得た。前
駆体（Ｐ）の分子量をＧＰＣを用いて測定した所、２
５，０００であった。屈折率は１．５６５であった。
ンゼン３５．２（０．２ｍｏｌ）を２，７−ジアミノ−
３，６−ジヒドロキシテトラフルオロナフタレン５２．
４部（０．２ｍｏｌ）に、２，２’−ビス（トリフルオ
ロメチル）−４，４’−ビフェニレンジカルボン酸クロ
リド８３．０部（０．２ｍｏｌ）を２，２’−ビス（ト
リフルオロメチル）−４，４’−ビフェニレンジカルボ
ン酸クロリド７４．７部（０．１８ｍｏｌ）と４，４’
−オキシビス安息香酸部５．９（０．０２ｍｏｌ）の混
合物に置き換えた以外は合成例１と同様にして、ポリベ
ンゾオキサゾール前駆体（Ｐ）１１９．７部を得た。前
駆体（Ｐ）の分子量をＧＰＣを用いて測定した所、２
５，０００であった。屈折率は１．５６５であった。
【００６６】合成例１７
１，３−ジアミノ−４，６−ジヒドロキシジフルオロベ
ンゼン３５．２（０．２ｍｏｌ）を１−トリフルオロメ
チル−３，６−ジアミノ−２，７−ジヒドロキシナフタ
レン４１．６部（０．２ｍｏｌ）に、２，２’−ビス
（トリフルオロメチル）−４，４’−ビフェニレンジカ
ルボン酸クロリド８３．０部（０．２ｍｏｌ）を２，
２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ビフェ
ニレンジカルボン酸クロリド７４．７部（０．１８ｍｏ
ｌ）と４，４’−オキシビス安息香酸部５．９（０．０
２ｍｏｌ）の混合物に置き換えた以外は合成例１と同様
にして、ポリベンゾオキサゾール前駆体（Ｑ）１１０．
０部を得た。前駆体（Ｑ）の分子量をＧＰＣを用いて測
定した所、２４，０００であった。屈折率は１．５７０
であった。
ンゼン３５．２（０．２ｍｏｌ）を１−トリフルオロメ
チル−３，６−ジアミノ−２，７−ジヒドロキシナフタ
レン４１．６部（０．２ｍｏｌ）に、２，２’−ビス
（トリフルオロメチル）−４，４’−ビフェニレンジカ
ルボン酸クロリド８３．０部（０．２ｍｏｌ）を２，
２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ビフェ
ニレンジカルボン酸クロリド７４．７部（０．１８ｍｏ
ｌ）と４，４’−オキシビス安息香酸部５．９（０．０
２ｍｏｌ）の混合物に置き換えた以外は合成例１と同様
にして、ポリベンゾオキサゾール前駆体（Ｑ）１１０．
０部を得た。前駆体（Ｑ）の分子量をＧＰＣを用いて測
定した所、２４，０００であった。屈折率は１．５７０
であった。
【００６７】合成例１８
１，３−ジアミノ−４，６−ジヒドロキシジフルオロベ
ンゼン３５．２部（０．２ｍｏｌ）をビス（３−アミノ
−４−ヒドロキシフェニル）スルフィド４９．６部
（０．２ｍｏｌ）に、２，２’−ビス（トリフルオロメ
チル）−４，４’−ビフェニレンジカルボン酸クロリド
８３．０部（０．２ｍｏｌ）を４，４’−オクタフルオ
ロビフェニレンジカルボン酸クロリド７６．１部（０．
１８ｍｏｌ）に置き換えた以外は合成例１と同様にし
て、ポリベンゾオキサゾール前駆体（Ｒ）１１８．５部
を得た。前駆体（Ｒ）の分子量をＧＰＣを用いて測定し
た所、２５，０００であった。屈折率は１．５９７であ
った。
ンゼン３５．２部（０．２ｍｏｌ）をビス（３−アミノ
−４−ヒドロキシフェニル）スルフィド４９．６部
（０．２ｍｏｌ）に、２，２’−ビス（トリフルオロメ
チル）−４，４’−ビフェニレンジカルボン酸クロリド
８３．０部（０．２ｍｏｌ）を４，４’−オクタフルオ
ロビフェニレンジカルボン酸クロリド７６．１部（０．
１８ｍｏｌ）に置き換えた以外は合成例１と同様にし
て、ポリベンゾオキサゾール前駆体（Ｒ）１１８．５部
を得た。前駆体（Ｒ）の分子量をＧＰＣを用いて測定し
た所、２５，０００であった。屈折率は１．５９７であ
った。
【００６８】合成例１９
１，３−ジアミノ−４，６−ジヒドロキシジフルオロベ
ンゼン３５．２部（０．２ｍｏｌ）を４，４’−ジアミ
ノ−３，３’−ジヒドロキシ−５，５’−トリフルオロ
メチルビフェニル７０．４部（０．２ｍｏｌ）に、２，
２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ビフェ
ニレンジカルボン酸クロリド８３．０部（０．２ｍｏ
ｌ）を２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，
４’−ビフェニレンジカルボン酸クロリド７４．７部
（０．１８ｍｏｌ）と４，４’−オキシビス安息香酸部
５．９（０．０２ｍｏｌ）の混合物に置き換えた以外は
合成例１と同様にして、ポリベンゾオキサゾール前駆体
（Ｓ）１３５．９部を得た。前駆体（Ｓ）の分子量をＧ
ＰＣを用いて測定した所、２６，０００であった。屈折
率は１．５４９であった。
ンゼン３５．２部（０．２ｍｏｌ）を４，４’−ジアミ
ノ−３，３’−ジヒドロキシ−５，５’−トリフルオロ
メチルビフェニル７０．４部（０．２ｍｏｌ）に、２，
２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ビフェ
ニレンジカルボン酸クロリド８３．０部（０．２ｍｏ
ｌ）を２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，
４’−ビフェニレンジカルボン酸クロリド７４．７部
（０．１８ｍｏｌ）と４，４’−オキシビス安息香酸部
５．９（０．０２ｍｏｌ）の混合物に置き換えた以外は
合成例１と同様にして、ポリベンゾオキサゾール前駆体
（Ｓ）１３５．９部を得た。前駆体（Ｓ）の分子量をＧ
ＰＣを用いて測定した所、２６，０００であった。屈折
率は１．５４９であった。
【００６９】合成例２０
１，３−ジアミノ−４，６−ジヒドロキシジフルオロベ
ンゼン３５．２部（０．２ｍｏｌ）を３，４’−ジアミ
ノ−４，３’−ジヒドロキシ−６，６’−トリフルオロ
メチルビフェニル７０．４部（０．２ｍｏｌ）に、２，
２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ビフェ
ニレンジカルボン酸クロリド８３．０部（０．２ｍｏ
ｌ）を１，４−シクロヘキサンジカルボン酸３７．６部
（０．１８ｍｏｌ）と４，４’−オキシビス安息香酸部
５．９（０．０２ｍｏｌ）の混合物に置き換えた以外は
合成例１と同様にして、ポリベンゾオキサゾール前駆体
（Ｔ）１０２．５部を得た。前駆体（Ｔ）の分子量をＧ
ＰＣを用いて測定した所、２３，０００であった。屈折
率は１．５６４であった。
ンゼン３５．２部（０．２ｍｏｌ）を３，４’−ジアミ
ノ−４，３’−ジヒドロキシ−６，６’−トリフルオロ
メチルビフェニル７０．４部（０．２ｍｏｌ）に、２，
２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ビフェ
ニレンジカルボン酸クロリド８３．０部（０．２ｍｏ
ｌ）を１，４−シクロヘキサンジカルボン酸３７．６部
（０．１８ｍｏｌ）と４，４’−オキシビス安息香酸部
５．９（０．０２ｍｏｌ）の混合物に置き換えた以外は
合成例１と同様にして、ポリベンゾオキサゾール前駆体
（Ｔ）１０２．５部を得た。前駆体（Ｔ）の分子量をＧ
ＰＣを用いて測定した所、２３，０００であった。屈折
率は１．５６４であった。
【００７０】合成例２１
１，３−ジアミノ−４，６−ジヒドロキシジフルオロベ
ンゼン３５．２部（０．２ｍｏｌ）を２，２−ビス（３
−アミノ−４−ヒドロキシ−５−トリフルオロメチルフ
ェニル）ヘキサフルオロプロパン１００．４部（０．２
ｍｏｌ）に、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−
４，４’−ビフェニレンジカルボン酸クロリド８３．０
部（０．２ｍｏｌ）をオクタフルオロアジピン酸クロリ
ド５９．２部（０．１８ｍｏｌ）と４，４’−オキシビ
ス安息香酸部５．９（０．０２ｍｏｌ）の混合物に置き
換えた以外は合成例１と同様にして、ポリベンゾオキサ
ゾール前駆体（Ｕ）１４９．０部を得た。前駆体（Ｕ）
の分子量をＧＰＣを用いて測定した所、２４，０００で
あった。屈折率は１．４６６であった。
ンゼン３５．２部（０．２ｍｏｌ）を２，２−ビス（３
−アミノ−４−ヒドロキシ−５−トリフルオロメチルフ
ェニル）ヘキサフルオロプロパン１００．４部（０．２
ｍｏｌ）に、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−
４，４’−ビフェニレンジカルボン酸クロリド８３．０
部（０．２ｍｏｌ）をオクタフルオロアジピン酸クロリ
ド５９．２部（０．１８ｍｏｌ）と４，４’−オキシビ
ス安息香酸部５．９（０．０２ｍｏｌ）の混合物に置き
換えた以外は合成例１と同様にして、ポリベンゾオキサ
ゾール前駆体（Ｕ）１４９．０部を得た。前駆体（Ｕ）
の分子量をＧＰＣを用いて測定した所、２４，０００で
あった。屈折率は１．４６６であった。
【００７１】合成例２２
１，３−ジアミノ−４，６−ジヒドロキシジフルオロベ
ンゼン３５．２（０．２ｍｏｌ）を２,２−ビス（３−
アミノ−４−ヒドロキシ−２−トリフルオロメチルフェ
ニル）ヘキサフルオロプロパン１００．４部（０．２ｍ
ｏｌ）に、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−
４，４’−ビフェニレンジカルボン酸クロリド８３．０
部（０．２ｍｏｌ）をアジピン酸クロリド３２．９部
（０．１８ｍｏｌ）と４，４’−オキシビス安息香酸部
５．９（０．０２ｍｏｌ）の混合物に置き換えた以外は
合成例１と同様にして、ポリベンゾオキサゾール前駆体
（Ｖ）１２５．３部を得た。前駆体（Ｖ）の分子量をＧ
ＰＣを用いて測定した所、２５，０００であった。屈折
率は１．５０５であった。
ンゼン３５．２（０．２ｍｏｌ）を２,２−ビス（３−
アミノ−４−ヒドロキシ−２−トリフルオロメチルフェ
ニル）ヘキサフルオロプロパン１００．４部（０．２ｍ
ｏｌ）に、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−
４，４’−ビフェニレンジカルボン酸クロリド８３．０
部（０．２ｍｏｌ）をアジピン酸クロリド３２．９部
（０．１８ｍｏｌ）と４，４’−オキシビス安息香酸部
５．９（０．０２ｍｏｌ）の混合物に置き換えた以外は
合成例１と同様にして、ポリベンゾオキサゾール前駆体
（Ｖ）１２５．３部を得た。前駆体（Ｖ）の分子量をＧ
ＰＣを用いて測定した所、２５，０００であった。屈折
率は１．５０５であった。
【００７２】合成例２３
１，３−ジアミノ−４，６−ジヒドロキシジフルオロベ
ンゼン３５．２部（０．２ｍｏｌ）を２−ビス（４−ア
ミノ−３−ヒドロキシフェノキシ）オクタフルオロビフ
ェニル１０８．８部（０．２ｍｏｌ）に、２，２’−ビ
ス（トリフルオロメチル）−４，４’−ビフェニレンジ
カルボン酸クロリド８３．０部（０．２ｍｏｌ）を２，
２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ビフェ
ニレンジカルボン酸クロリド７４．７部（０．１８ｍｏ
ｌ）と４，４’−オキシビス安息香酸部５．９（０．０
２ｍｏｌ）の混合物に置き換えた以外は合成例１と同様
にして、ポリベンゾオキサゾール前駆体（Ｗ）１７０．
５部を得た。前駆体（Ｗ）の分子量をＧＰＣを用いて測
定した所、２４，０００であった。屈折率は１．５６２
であった。
ンゼン３５．２部（０．２ｍｏｌ）を２−ビス（４−ア
ミノ−３−ヒドロキシフェノキシ）オクタフルオロビフ
ェニル１０８．８部（０．２ｍｏｌ）に、２，２’−ビ
ス（トリフルオロメチル）−４，４’−ビフェニレンジ
カルボン酸クロリド８３．０部（０．２ｍｏｌ）を２，
２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ビフェ
ニレンジカルボン酸クロリド７４．７部（０．１８ｍｏ
ｌ）と４，４’−オキシビス安息香酸部５．９（０．０
２ｍｏｌ）の混合物に置き換えた以外は合成例１と同様
にして、ポリベンゾオキサゾール前駆体（Ｗ）１７０．
５部を得た。前駆体（Ｗ）の分子量をＧＰＣを用いて測
定した所、２４，０００であった。屈折率は１．５６２
であった。
【００７３】合成例２４
１，３−ジアミノ−４，６−ジヒドロキシジフルオロベ
ンゼン３５．２部（０．２ｍｏｌ）を９，９−ビス（４
−（（４−アミノ−３−ヒドロキシ）フェノキシ）フェ
ニル）フルオレン７６．０部（０．２ｍｏｌ）に、２，
２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ビフェ
ニレンジカルボン酸クロリド８３．０部（０．２ｍｏ
ｌ）を２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，
４’−ビフェニレンジカルボン酸クロリド７４．７部
（０．１８ｍｏｌ）と４，４’−オキシビス安息香酸部
５．９（０．０２ｍｏｌ）の混合物に置き換えた以外は
合成例１と同様にして、ポリベンゾオキサゾール前駆体
（Ｘ）１４０．９部を得た。前駆体（Ｘ）の分子量をＧ
ＰＣを用いて測定した所、２５，０００であった。屈折
率は１．６１８であった。
ンゼン３５．２部（０．２ｍｏｌ）を９，９−ビス（４
−（（４−アミノ−３−ヒドロキシ）フェノキシ）フェ
ニル）フルオレン７６．０部（０．２ｍｏｌ）に、２，
２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ビフェ
ニレンジカルボン酸クロリド８３．０部（０．２ｍｏ
ｌ）を２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，
４’−ビフェニレンジカルボン酸クロリド７４．７部
（０．１８ｍｏｌ）と４，４’−オキシビス安息香酸部
５．９（０．０２ｍｏｌ）の混合物に置き換えた以外は
合成例１と同様にして、ポリベンゾオキサゾール前駆体
（Ｘ）１４０．９部を得た。前駆体（Ｘ）の分子量をＧ
ＰＣを用いて測定した所、２５，０００であった。屈折
率は１．６１８であった。
【００７４】実施例１
光導波路の製造；合成例１で合成したポリベンゾオキサ
ゾールの前駆体（Ａ）をスピンコート法により、シリコ
ン基板上に塗布して成膜した。形成した薄膜は、３２０
℃で１時間加熱することにより硬化し、下部クラッド層
とした。次いで、この上に合成例６で合成したポリベン
ゾオキサゾールの前駆体（Ｍ）を用いて、コア層をスピ
ンコート法により形成した。下部クラッド膜とコア膜の
間でインターミキシングはまったく認められなかった。
形成したコア層は３２０℃で１時間加熱することにより
硬化した。
ゾールの前駆体（Ａ）をスピンコート法により、シリコ
ン基板上に塗布して成膜した。形成した薄膜は、３２０
℃で１時間加熱することにより硬化し、下部クラッド層
とした。次いで、この上に合成例６で合成したポリベン
ゾオキサゾールの前駆体（Ｍ）を用いて、コア層をスピ
ンコート法により形成した。下部クラッド膜とコア膜の
間でインターミキシングはまったく認められなかった。
形成したコア層は３２０℃で１時間加熱することにより
硬化した。
【００７５】次に、このコア層上に膜厚０．３μｍのア
ルミニウム層を蒸着し、マスク層を形成した。次にこの
アルミニウム層上にポジ型フォトレジスト(ジアゾナフ
トキノン−ノボラック樹脂系、東京応化製、商品名ＯＦ
ＰＲ−８００)をスピンコート法により塗布した後約９
５℃でプリベークを行った。次に、パターン形成用のフ
ォトマスク(Ｔｉ)を、超高圧水銀ランプを用いて紫外線
を照射した後、ポジ型レジスト用現像液(ＴＭＡＨ２．
３８％：テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶
液、東京応化製、商品名ＮＭＤ−３)を用いて現像し
た。その後、１３５℃でポストベークを行った。これに
より線幅７μｍを有する直線状のレジストパターンが得
られた。次に、アルミニウムのウエットエッチングを行
い、レジストパターンをアルミニウム層に転写した。更
にパターニングされたアルミニウムをマスクとして、コ
ア層のポリベンゾオキサゾールをドライエッチングによ
り加工した。次に、ポリベンゾオキサゾールの上層にあ
るアルミニウムをエッチング液で除去した。更に、この
上に下部クラッド層と同じポリベンゾオキサゾールの前
駆体（Ａ）をスピンコートにより塗布した。この塗膜を
３２０℃で１時間熱処理して、上部クラッドを形成し
た。最後に、光導波路の両端をダイシングソーで切り落
として、光の入出射端面を形成した。このようにして、
シリコン基板上に、埋め込み型シングルモード光導波路
が得られた。
ルミニウム層を蒸着し、マスク層を形成した。次にこの
アルミニウム層上にポジ型フォトレジスト(ジアゾナフ
トキノン−ノボラック樹脂系、東京応化製、商品名ＯＦ
ＰＲ−８００)をスピンコート法により塗布した後約９
５℃でプリベークを行った。次に、パターン形成用のフ
ォトマスク(Ｔｉ)を、超高圧水銀ランプを用いて紫外線
を照射した後、ポジ型レジスト用現像液(ＴＭＡＨ２．
３８％：テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶
液、東京応化製、商品名ＮＭＤ−３)を用いて現像し
た。その後、１３５℃でポストベークを行った。これに
より線幅７μｍを有する直線状のレジストパターンが得
られた。次に、アルミニウムのウエットエッチングを行
い、レジストパターンをアルミニウム層に転写した。更
にパターニングされたアルミニウムをマスクとして、コ
ア層のポリベンゾオキサゾールをドライエッチングによ
り加工した。次に、ポリベンゾオキサゾールの上層にあ
るアルミニウムをエッチング液で除去した。更に、この
上に下部クラッド層と同じポリベンゾオキサゾールの前
駆体（Ａ）をスピンコートにより塗布した。この塗膜を
３２０℃で１時間熱処理して、上部クラッドを形成し
た。最後に、光導波路の両端をダイシングソーで切り落
として、光の入出射端面を形成した。このようにして、
シリコン基板上に、埋め込み型シングルモード光導波路
が得られた。
【００７６】上記で得られた埋め込み型シングルモード
光導波路の伝播損失をカットバック法で測定したとこ
ろ、波長１．３μmで０．３ｄＢ／ｃｍ、１．５５μmで
０．３ｄＢ／ｃｍであった。この光導波路の伝播損失は
７５℃／相対湿度９０％の条件以下においても１ヶ月以
上変動しなかった。
光導波路の伝播損失をカットバック法で測定したとこ
ろ、波長１．３μmで０．３ｄＢ／ｃｍ、１．５５μmで
０．３ｄＢ／ｃｍであった。この光導波路の伝播損失は
７５℃／相対湿度９０％の条件以下においても１ヶ月以
上変動しなかった。
【００７７】実施例２〜１２は表−１の組み合わせで実
施例１と同様にして行った。また、評価結果を表−１に
示す。
施例１と同様にして行った。また、評価結果を表−１に
示す。
【００７８】比較例１
２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ジ
アミノビフェニル６４．０部（０．２ｍｏｌ）とピロメ
リット酸二無水物４３．６部（０．２ｍｏｌ）、及びジ
メチルアセトアミド３５８．７部に溶解させ窒素雰囲気
下、室温で１日間撹拌し反応させ、ポリアミド酸（Ｙ）
を得た。このポリアミド酸の分子量を、ＧＰＣを用いて
測定した所、５４,０００であった。屈折率は１．５２
３であった。次いで、２、２’−ビス（トリフルオロメ
チル）−４，４’−ジアミノビフェニル６４．０部
（０．２ｍｏｌ）とピロメリット酸二無水物３９．２部
（０．１８ｍｏｌ）と４，４’−ジアミノフェニルエー
テル４．０部（０．０２ｍｏｌ）及びジメチルアセトア
ミド３５７．３部に溶解させ窒素雰囲気下、室温で１日
間撹拌し反応させ、ポリアミド酸（Ｚ）を得た。このポ
リアミド酸の分子量をＧＰＣを用いて測定した所、５
１,０００であった。屈折率は１．５２９であった。上
記で得られたポリアミド酸（Ｚ）をコア層に、ポリアミ
ド酸（Ｙ）を上部及び下部クラッド層に用いて、これら
以外は、実施例１と同様にして、埋め込み型シングルモ
ード光導波路を作製し、評価した。結果を表−１に示
す。
アミノビフェニル６４．０部（０．２ｍｏｌ）とピロメ
リット酸二無水物４３．６部（０．２ｍｏｌ）、及びジ
メチルアセトアミド３５８．７部に溶解させ窒素雰囲気
下、室温で１日間撹拌し反応させ、ポリアミド酸（Ｙ）
を得た。このポリアミド酸の分子量を、ＧＰＣを用いて
測定した所、５４,０００であった。屈折率は１．５２
３であった。次いで、２、２’−ビス（トリフルオロメ
チル）−４，４’−ジアミノビフェニル６４．０部
（０．２ｍｏｌ）とピロメリット酸二無水物３９．２部
（０．１８ｍｏｌ）と４，４’−ジアミノフェニルエー
テル４．０部（０．０２ｍｏｌ）及びジメチルアセトア
ミド３５７．３部に溶解させ窒素雰囲気下、室温で１日
間撹拌し反応させ、ポリアミド酸（Ｚ）を得た。このポ
リアミド酸の分子量をＧＰＣを用いて測定した所、５
１,０００であった。屈折率は１．５２９であった。上
記で得られたポリアミド酸（Ｚ）をコア層に、ポリアミ
ド酸（Ｙ）を上部及び下部クラッド層に用いて、これら
以外は、実施例１と同様にして、埋め込み型シングルモ
ード光導波路を作製し、評価した。結果を表−１に示
す。
【００７９】
【表１】
【００８０】
【発明の効果】本発明によれば、電気特性、耐熱性、及
び透明性に優れ、低価格で、大面積化を実現することが
でき、特に、光通信に利用される近赤外波長領域で透明
度が高く、光損失の小さい光導波路の製造方法を提供で
きる。
び透明性に優れ、低価格で、大面積化を実現することが
でき、特に、光通信に利用される近赤外波長領域で透明
度が高く、光損失の小さい光導波路の製造方法を提供で
きる。
【図１】本発明による埋め込み型光導波路の作成方法の
一例を示す工程図である。
一例を示す工程図である。
１ 基板
２ 下部クラッド層
３ コア層
４ コアパターンを形成するためのマスク層
５ レジスト層
６ 上部クラッド層
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Ｆターム(参考） 2H047 KA04 PA02 PA15 PA24 PA28
QA05 TA11 TA41
4J043 PA02 PA04 PA19 PC145
PC146 QB15 QB34 RA52
SA06 SA42 SA44 SA46 SA47
SA52 SA54 SA71 SB01 SB02
TA12 TA42 TA47 TA66 TA68
TA71 TB01 TB02 UA042
UA121 UA122 UA131 UA132
UA142 UA151 UA152 UA161
UA162 UA171 UA181 UA182
UA761 UA762 UA771 UA772
UB021 UB022 UB061 UB062
UB122 UB131 UB132 UB141
UB142 UB151 UB152 UB281
UB282 UB301 UB302 VA011
VA012 VA021 VA022 VA041
VA042 VA051 VA052 VA061
VA062 VA081 VA082 VA091
VA092 VA101 VA102 XA08
XA14 YA02 YA06 YA22 YA23
ZA12 ZA41 ZA52 ZB21
Claims (4)
- 【請求項１】 一般式（１）で表される構造を有するポ
リベンゾオキサゾール前駆体をクラッド材料及びコア材
料として用い、該クラッド材料により下部クラッド層を
形成し硬化した後に、下部クラッド層上に、該コア材料
によりコア層を形成し硬化し、該コア層をフォトリソグ
ラフィとドライエッチングにより加工してコアを形成す
ることを特徴とするプラスチック光導波路の製造方法。 【化１】 （但し、式中のｍおよびｎは、ｍ＞０、ｎ≧０、２≦ｍ
＋ｎ≦１０００、および０．０５≦ｍ／（ｍ＋ｎ）≦１
を満たす整数である。また、Ｒ1〜Ｒ4は、水素原子また
は一価の有機基である。） - 【請求項２】 コア及び下部クラッド層の露出面上に、
クラッド材料により、上部クラッド層を形成し硬化して
上部クラッドを形成する請求項１記載のプラスチック光
導波路の製造方法。 - 【請求項３】 ポリベンゾオキサゾール前駆体が、一般
式（１）中のＸとして、一般式（２）〜（７）で表され
る基の中から選ばれる４価の基を有するものである、請
求項１または請求項２記載のプラスチック光導波路の製
造方法。 【化２】 【化３】 【化４】 【化５】 【化６】 【化７】 （式（２）〜（７）で表される構造中、ベンゼン環上の
水素原子は、メチル基、フッ素原子、トリフルオロメチ
ル基および塩素原子の中から選ばれる、少なくとも１個
の基で置換されていても良い。Ｚ1は、単結合または一
般式（８）〜（１０）の中より選ばれる基を表す。） 【化８】 【化９】 （式（９）中、ａは１〜５までの整数を表す。） 【化１０】 （式（９）、式（１０）で表される構造中、ベンゼン環
上の水素原子は、メチル基、フッ素原子、トリフルオロ
メチル基および塩素原子の中から選ばれる、少なくとも
１個の基で置換されていても良い。） - 【請求項４】 ポリベンゾオキサゾール前駆体が、一般
式（１）中のＹ1、Ｙ2として、一般式（１１）〜（１
３）の中から選ばれる２価の基を有するものである、請
求項１〜３のいずれかに記載のプラスチック光導波路用
の製造方法。 【化１１】 【化１２】 【化１３】 （式（１３）中、ｉ，ｊ，ｋは２〜１０までの整数を表
す。） 【化１４】 （式（１１）、式（１２）、式（１４）で表される構造
中、ベンゼン環上の水素原子は、メチル基、、フッ素原
子、トリフルオロメチル基および塩素原子の中から選ば
れる、少なくとも１個の基で置換されていても良い。Ｚ
2は、単結合または一般式（１５）〜（１６）の中より
選ばれる基を表す。） 【化１５】 【化１６】 （式（１６）中、ｂは１〜５までの整数を表す。） 【化１７】 （式（１６）、式（１７）で表される構造中、ベンゼン
環上の水素原子は、メチル基、フッ素原子、トリフルオ
ロメチル基および塩素原子の中から選ばれる、少なくと
も１個の基で置換されていても良い。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002093102A JP2003294967A (ja) | 2002-03-28 | 2002-03-28 | プラスチック光導波路の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002093102A JP2003294967A (ja) | 2002-03-28 | 2002-03-28 | プラスチック光導波路の製造方法 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003294967A true JP2003294967A (ja) | 2003-10-15 |
Family
ID=29237724
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002093102A Withdrawn JP2003294967A (ja) | 2002-03-28 | 2002-03-28 | プラスチック光導波路の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003294967A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005336135A (ja) * | 2004-05-28 | 2005-12-08 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | ビスアミノフェノール化合物 |
| JPWO2014168054A1 (ja) * | 2013-04-08 | 2017-02-16 | 住友ベークライト株式会社 | ポリマー溶液、ポリマーフィルム、積層複合材、ディスプレイ用、光学用又は照明用の素子、及びこれらの製造 |
| WO2017111299A1 (ko) * | 2015-12-24 | 2017-06-29 | 주식회사 두산 | 접착력이 향상된 폴리아믹산 조성물 및 이를 포함하는 폴리이미드 필름 |
-
2002
- 2002-03-28 JP JP2002093102A patent/JP2003294967A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP4569173B2 (ja) * | 2004-05-28 | 2010-10-27 | 住友ベークライト株式会社 | ビスアミノフェノール化合物 |
| JPWO2014168054A1 (ja) * | 2013-04-08 | 2017-02-16 | 住友ベークライト株式会社 | ポリマー溶液、ポリマーフィルム、積層複合材、ディスプレイ用、光学用又は照明用の素子、及びこれらの製造 |
| WO2017111299A1 (ko) * | 2015-12-24 | 2017-06-29 | 주식회사 두산 | 접착력이 향상된 폴리아믹산 조성물 및 이를 포함하는 폴리이미드 필름 |
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