JP4569173B2 - ビスアミノフェノール化合物 - Google Patents
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Description
1. 一般式(1)で表されるビスアミノフェノール化合物、
2. 前記ビスアミノフェノール化合物が、一般式(1)におけるR1として、メチルメチレン基、フェニルメチレン基またはアダマンチルメチレン基を有するものである第1項に記載のビスアミノフェノール化合物、
3. 前記ビスアミノフェノール化合物が、一般式(1)におけるR2として、メチレン基、ジメチルシリレン基またはアダマンチルメチレン基を有するものである第1項または第2項に記載のビスアミノフェノール化合物、
4. 前記ビスアミノフェノール化合物が、一般式(1)におけるX1〜X4として、これらの少なくとも1つが、炭素−炭素三重結合を有する基である、第1項〜第3項のいずれかに記載のビスアミノフェノール化合物、
5. 前記ビスアミノフェノール化合物が、一般式(1)におけるX1〜X4として、これらの少なくとも1つが、一般式(2)で表される基を有するものである、第1項〜第4項のいずれかに記載のビスアミノフェノール化合物、
である。
2がアダマンチルメチレン基である例として、3,17−ビス−(4−アミノ−3−ヒドロキシフェノキシ)−6,10,14,20,22,24,25−ヘプタアダマンチル−2,18−メタノ−20H,22H,24H−ベンゾ[d,d’][1,3]ジオキソシノ[5,4−i:7,8−i]ビス[1,3]−ベンゾジオキソシン、3,17−ビス−(4−アミノ−3−ヒドロキシフェノキシ)−4,8,12,16−テトラブロモ−6,10,14,20,22,24,25−ヘプタアダマンチル−2,18−メタノ−20H,22H,24H−ベンゾ[d,d’][1,3]ジオキソシノ[5,4−i:7,8−i]ビス[1,3]−ベンゾジオキソシン、3,17−ビス−(4−アミノ−3−ヒドロキシフェノキシ)−4,8,12,16−テトラメチル−6,10,14,20,22,24,25−ヘプタアダマンチル−2,18−メタノ−20H,22H,24H−ベンゾ[d,d’][1,3]ジオキソシノ[5,4−i:7,8−i]ビス[1,3]−ベンゾジオキソシン、および3,17−ビス−(4−アミノ−3−ヒドロキシフェノキシ)−4,8,12,16−テトラフェニル−6,10,14,20,22,24,25−ヘプタアダマンチル−2,18−メタノ−20H,22H,24H−ベンゾ[d,d’][1,3]ジオキソシノ[5,4−i:7,8−i]ビス[1,3]−ベンゾジオキソシンなどが挙げられ、R1がアダマンチルメチレン基であり、R2がジメチルシリレン基である例として、3,17−ビス−(4−アミノ−3−ヒドロキシフェノキシ)−6,6,10,10,14,14−ヘキサメチル−20,22,24,25−テトラアダマンチル−2,18−メタノ−20H,22H,24H−ベンゾ[d,d’][1,3,2]ジオキサシロシノ[5,4−i:7,8−i]ビス[1,3,2]−ベンゾジオキソシロシン、3,17−ビス−(4−アミノ−3−ヒドロキシフェノキシ)−6,6,10,10,14,14−ヘキサメチル−4,8,12,16−テトラブロモ−20,22,24,25−テトラアダマンチル−2,18−メタノ−20H,22H,24H−ベンゾ[d,d’][1,3,2]ジオキサシロシノ[5,4−i:7,8−i]ビス[1,3,2]−ベンゾジオキソシロシン、3,17−ビス−(4−アミノ−3−ヒドロキシフェノキシ)−4,6,6,8,10,10,12,14,14,16−デカメチル−20,22,24,25−テトラアダマンチル−2,18−メタノ−20H,22H,24H−ベンゾ[d,d’][1,3,2]ジオキサシロシノ[5,4−i:7,8−i]ビス[1,3,2]−ベンゾジオキソシロシン、および3,17−ビス−(4−アミノ−3−ヒドロキシフェノキシ)−6,6,10,10,14,14−ヘキサメチル−4,8,12,16−テトラフェニル−20,22,24,25−テトラアダマンチル−2,18−メタノ−20H,22H,24H−ベンゾ[d,d’][1,3,2]ジオキサシロシノ[5,4−i:7,8−i]ビス[1,3,2]−ベンゾジオキソシロシンなどが挙げられ、R2がメチレン基であり、R1が上記以外である例として、3,17−ビス−(4−アミノ−3−ヒドロキシフェノキシ)−20,22,24,25−テトラエチル−2,18−メタノ−20H,22H,24H−ベンゾ[d,d’][1,3]ジオキソシノ[5,4−i:7,8−i]ビス[1,3]−ベンゾジオキソシン、3,17−ビス−(4−アミノ−3−ヒドロキシフェノキシ)−4,8,12,16−テトラブロモ−20,20,22,22,24,24,25,25−オクタメチル−2,18−メタノ−20H,22H,24H−ベンゾ[d,d’][1,3]ジオキソシノ[5,4−i:7,8−i]ビス[1,3]−ベンゾジオキソシン、および3,17−ビス−(4−アミノ−3−ヒドロキシフェノキシ)−4,8,12,16−テトラプロピル−20,20,22,22,24,24,25,25−オクタフェニル−2,18−メタノ−20H,22H,24H−ベンゾ[d,d’][1,3]ジオキソシノ[5,4−i:7,8−i]ビス[1,3]−ベンゾジオキソシン等が挙げられるが、これらに限られるものではない。
次に、この化合物(式(5))のニトロ基を、ハイドロサルファイトなどの還元剤を用いて還元することにより、一般式(1)で表されるビスアミノフェノール化合物を得ることができる。
−テトラアダマンチル−2,18−メタノ−20H,22H,24H−ベンゾ[d,d’][1,3,2]ジオキサシロシノ[5,4−i:7,8−i]ビス[1,3,2]−ベンゾジオキソシロシン−3,17−ジオール、6,6,10,10,14,14−ヘキサメチル−4,8,12,16−テトラブロモ−20,22,24,25−テトラアダマンチル−2,18−メタノ−20H,22H,24H−ベンゾ[d,d’][1,3,2]ジオキサシロシノ[5,4−i:7,8−i]ビス[1,3,2]−ベンゾジオキソシロシン−3,17−ジオール、4,6,6,8,10,10,12,14,14,16−デカメチル−20,22,24,25−テトラアダマンチル−2,18−メタノ−20H,22H,24H−ベンゾ[d,d’][1,3,2]ジオキサシロシノ[5,4−i:7,8−i]ビス[1,3,2]−ベンゾジオキソシロシン−3,17−ジオール、および6,6,10,10,14,14−ヘキサメチル−4,8,12,16−テトラフェニル−20,22,24,25−テトラアダマンチル−2,18−メタノ−20H,22H,24H−ベンゾ[d,d’][1,3,2]ジオキサシロシノ[5,4−i:7,8−i]ビス[1,3,2]−ベンゾジオキソシロシン−3,17−ジオールなどが挙げられ、R1が上記以外でR2がメチレン基である他の例として、20,22,24,25−テトラエチル−2,18−メタノ−20H,22H,24H−ベンゾ[d,d’][1,3]ジオキソシノ[5,4−i:7,8−i]ビス[1,3]−ベンゾジオキソシン−3,17−ジオール、4,8,12,16−テトラブロモ−20,20,22,22,24,24,25,25−オクタメチル−2,18−メタノ−20H,22H,24H−ベンゾ[d,d’][1,3]ジオキソシノ[5,4−i:7,8−i]ビス[1,3]−ベンゾジオキソシン−3,17−ジオール、4,8,12,16−テトラプロピル−20,20,22,22,24,24,25,25−オクタフェニル−2,18−メタノ−20H,22H,24H−ベンゾ[d,d’][1,3]ジオキソシノ[5,4−i:7,8−i]ビス[1,3]−ベンゾジオキソシン−3,17−ジオール、および4,8,12,16−テトラブロモフェニル−20,22,24,25−テトラクロロメチル−2,18−メタノ−20H,22H,24H−ベンゾ[d,d’][1,3]ジオキソシノ[5,4−i:7,8−i]ビス[1,3]−ベンゾジオキソシン−3,17−ジオールなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
上記合成例において、一般式(4)で表される化合物は、ジメチルホルムアミド(DMF)などの反応溶媒中、2−ベンジロキシ−4−フルオロニトロベンゼンと一般式(3)で表される化合物とを、炭酸カリウム存在下で反応させることにより得られる。前記2−ベンジロキシ−4−フルオロニトロベンゼンの添加量としては、一般式(3)で表される化合物中の水酸基の数に対して1〜10当量倍が好ましいが、反応溶媒の量としては、特に制限されない。反応条件において、反応時間は特に制限されないが、反応温度は100℃〜180℃の範囲が好ましい。
本発明において、前記一般式(2)におけるYとしての有機基としては、芳香族基またはアルキル基が挙げられ、前記芳香族基としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、キノリル基、キノキサリル基等が、前記アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、アダマンチル基などが挙げられる。
前記一般式(2)で表される基の具体例としては、エチニル基、プロピニル基、アダマンチルエチニル、フェニルエチニル基、ナフチルエチニル基、アントリルエチニル基、キノリルエチニル基およびキノキサリルエチニル基などが挙げられ、これらの基はビニル基、エチニル基などの官能基を有していてもよい。
24,25−テトラアダマンチル−2,18−メタノ−20H,22H,24H−ベンゾ[d,d’][1,3]ジオキソシノ[5,4−i:7,8−i]ビス[1,3]−ベンゾジオキソシン、3,17−ビス−(4−アミノ−3−ヒドロキシフェノキシ)−4,8,12,16−テトラアダマンチルエチニル−20,22,24,25−テトラアダマンチル−2,18−メタノ−20H,22H,24H−ベンゾ[d,d’][1,3]ジオキソシノ[5,4−i:7,8−i]ビス[1,3]−ベンゾジオキソシン、および3,17−ビス−(4−アミノ−3−ヒドロキシフェノキシ)−4,8,12,16−テトラプロピニル−20,22,24,25−テトラアダマンチル−2,18−メタノ−20H,22H,24H−ベンゾ[d,d’][1,3]ジオキソシノ[5,4−i:7,8−i]ビス[1,3]−ベンゾジオキソシンなどが挙げられ、R1およびR2がアダマンチルメチレン基である例として、3,17−ビス−(4−アミノ−3−ヒドロキシフェノキシ)−4,8,12,16−テトラエチニル−6,10,14,20,22,24,25−ヘプタアダマンチル−2,18−メタノ−20H,22H,24H−ベンゾ[d,d’][1,3]ジオキソシノ[5,4−i:7,8−i]ビス[1,3]−ベンゾジオキソシン、3,17−ビス−(4−アミノ−3−ヒドロキシフェノキシ)−4,8,12,16−テトラフェニルエチニル−6,10,14,20,22,24,25−ヘプタアダマンチル−2,18−メタノ−20H,22H,24H−ベンゾ[d,d’][1,3]ジオキソシノ[5,4−i:7,8−i]ビス[1,3]−ベンゾジオキソシン、3,17−ビス−(4−アミノ−3−ヒドロキシフェノキシ)−4,8,12,16−テトラアダマンチルエチニル−6,10,14,20,22,24,25−ヘプタアダマンチル−2,18−メタノ−20H,22H,24H−ベンゾ[d,d’][1,3]ジオキソシノ[5,4−i:7,8−i]ビス[1,3]−ベンゾジオキソシン、および3,17−ビス−(4−アミノ−3−ヒドロキシフェノキシ)−4,8,16−トリエチニル−12−フェニルエチニル−6,10,14,20,22,24,25−ヘプタアダマンチル−2,18−メタノ−20H,22H,24H−ベンゾ[d,d’][1,3]ジオキソシノ[5,4−i:7,8−i]ビス[1,3]−ベンゾジオキソシンなどが挙げられ、R1がアダマンチルメチレン基であり、R2がジメチルシリレン基である例として、3,17−ビス−(4−アミノ−3−ヒドロキシフェノキシ)−6,6,10,10,14,14−ヘキサメチル−4,8,12,16−テトラエチニル−20,22,24,25−テトラアダマンチル−2,18−メタノ−20H,22H,24H−ベンゾ[d,d’][1,3,2]ジオキサシロシノ[5,4−i:7,8−i]ビス[1,3,2]−ベンゾジオキソシロシン、3,17−ビス−(4−アミノ−3−ヒドロキシフェノキシ)−6,6,10,10,14,14−ヘキサメチル−4,8,12,16−テトラフェニルエチニル−20,22,24,25−テトラアダマンチル−2,18−メタノ−20H,22H,24H−ベンゾ[d,d’][1,3,2]ジオキサシロシノ[5,4−i:7,8−i]ビス[1,3,2]−ベンゾジオキソシロシン、3,17−ビス−(4−アミノ−3−ヒドロキシフェノキシ)−6,6,10,10,14,14−ヘキサメチル−4,8,12,16−テトラアダマンチルエチニル−20,22,24,25−テトラアダマンチル−2,18−メタノ−20H,22H,24H−ベンゾ[d,d’][1,3,2]ジオキサシロシノ[5,4−i:7,8−i]ビス[1,3,2]−ベンゾジオキソシロシン、および3,17−ビス−(4−アミノ−3−ヒドロキシフェノキシ)−6,6,10,10,14,14−ヘキサメチル−4,8−ジアダマンチルエチニル−12,16−ジフェニルエチニル−20,22,24,25−テトラアダマンチル−2,18−メタノ−20H,22H,24H−ベンゾ[d,d’][1,3,2]ジオキサシロシノ[5,4−i:7,8−i]ビス[1,3,2]−ベンゾジオキソシロシンなどが挙げられ、R2がメチレン基であり、R1が上記以外である他の例として、3,17−ビス−(4−アミノ−3−ヒドロキシフェノキシ)−4,8,12,16−テトラエチニル−20,20,22,22,24,24,25,25−オクタメチル−2,18−メタノ−20H,22H,24H−ベンゾ[d,d’][1,3]ジオキソシノ[5,4−i:7,8−i]ビス[1,3]−ベンゾジオキソシン、3,17−ビス−(4−アミノ−3−ヒドロキシフェノキシ)−4,8,12,16−テトラフェニルエチニル−20,20,22,22,24,24,25,25−オクタメチル−2,18−メタノ−20H,22H,24H−ベンゾ[d,d’][1,3]ジオキソシノ[5,4−i:7,8−i]ビス[1,3]−ベンゾジオキソシン、3,17−ビス−(4−アミノ−3−ヒドロキシフェノキシ)−4,8,12,16−テトラアダマンチルエチニル−20,20,22,22,24,24,25,25−オクタメチル−2,18−メタノ−20H,22H,24H−ベンゾ[d,d’][1,3]ジオキソシノ[5,4−i:7,8−i]ビス[1,3]−ベンゾジオキソシン、および3,17−ビス−(4−アミノ−3−ヒドロキシフェノキシ)−4,16−ジブロモ−8,12−ジエチニル−20,20,22,22,24,24,25,25−オクタメチル−2,18−メタノ−20H,22H,24H−ベンゾ[d,d’][1,3]ジオキソシノ[5,4−i:7,8−i]ビス[1,3]−ベンゾジオキソシンなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
(1)核磁気共鳴スペクトル分析(1H−NMR、13C(1H)−NMR):日本電子製JNM−GSX400型を用いて測定した。1H−NMRは共鳴周波数400MHz、13C(1H )−NMRは共鳴周波数100MHzで、それぞれ測定した。測定溶媒は、重水素化溶媒である重水素化ジメチルスルホキシドDMSO−d6を用いた。
(2)赤外分光分析(IR):PERKIN ELMER社製1640型を用いて、KBr錠剤法により測定した。
(3)質量分析(MS):日本電子(株)製JMS−700型を用いてフィールド脱着(FD)法で測定した。
(1)[3,17−ビス−(3−ベンジロキシ−4−ニトロフェノキシ)−4,8,12,16−テトラブロモ−20,22,24,25−テトラメチル−2,18−メタノ−20H,22H,24H−ベンゾ[d,d’][1,3]ジオキソシノ[5,4−i:7,8−i]ビス[1,3]−ベンゾジオキソシンの合成]
温度計、攪拌機、還流管および窒素導入管を備えた4つ口の1000mlフラスコに、4,8,12,16−テトラブロモ−20,22,24,25−テトラメチル−2,18−メタノ−20H,22H,24H−ベンゾ[d,d’][1,3]ジオキソシノ[5,4−i:7,8−i]ビス[1,3]−ベンゾジオキソシン−3,17−ジオール179g(0.20mol)、2−ベンジロキシ−4−フルオロニトロベンゼン109g(0.44mol)およびジメチルホルムアミド(DMF)700mlを入れ、窒素気流下、室温で攪拌した。完全に溶解した後に、炭酸カリウム152g(1.10mol)を加え、170℃まで加熱し、その温度で攪拌を続けた。その後、冷水約4000ml中に注いで、組成生物を濾別し、純水で洗い、乾燥した。さらに、組成生物を、熱エタノールにより再結晶した。得られた固体を減圧乾燥することにより、生成物150gを得た。得られた生成物は、IR分析により、ニトロ基の吸収が1500cm-1付近及び1370cm-1付近にあること、質量分析により、分子量が1351であることより、目的物であることを示していた。
温度計、攪拌機および窒素導入管を備えた4つ口の500mlフラスコに、上記で得た3,17−ビス−(3−ベンジロキシ−4−ニトロフェノキシ)−4,8,12,16−テトラブロモ−20,22,24,25−テトラメチル−2,18−メタノ−20H,22H,24H−ベンゾ[d,d’][1,3]ジオキソシノ[5,4−i:7,8−i]ビス[1,3]−ベンゾジオキソシン135g(0.10mol)およびジクロロメタン300mlを入れ、窒素気流下、室温で攪拌した。そこに、シリンジを使用して、ヨードトリメチルシラン48g(0.24mol)を、少しずつ加えていった。添加終了後、2時間反応を続けた。その後、冷水約2000mlに注いで、組成生物を濾別し、純水で洗い、乾燥した。粗生成物を、熱エタノールにより再結晶した。得られた固体を、減圧乾燥することにより、生成物81gを得た。得られた生成物は、NMR分析により、OH基のプロトンの吸収が10.8−11.2ppmにあること、分子量が1156であることより、目的物であることを示していた。
温度計、ジムロート冷却管および窒素導入管を備えた4つ口の200mLフラスコに、上記で得た3,17−ビス−(3−ヒドロキシ−4−ニトロフェノキシ)−4,8,12,16−テトラブロモ−20,22,24,25−テトラメチル−2,18−メタノ−20H,22H,24H−ベンゾ[d,d’][1,3]ジオキソシノ[5,4−i:7,8−i]ビス[1,3]−ベンゾジオキソシン11.56g(0.01mol)およびジクロロメタン100mlを入れ、室温下で完全に溶解するまで攪拌し、その後、純水20mlを加えて、そのまま窒素気流下、室温で攪拌を続けた。そこに、ハイドロサルファイト13.92g(0.08mol)、1,1'−ジオクチル−4,4'−ビピリジウム0.54g(0.001mol)、炭酸カリウム8.29g(0.06mol)を水40mlに溶解させた水溶液を、滴下漏斗を用いて、徐々に滴下した。35℃で6時間反応させた後、分液漏斗を用いて有機溶媒層を抽出した。カラム操作により、精製を行い、生成物5.14gを得た。得られた化合物は、IR分析により、エチニル基の吸収が2260〜2190cm-1付近にあること、NMR分析により、OH基のプロトンの吸収が8.8−9.5ppmに、NH2基のプロトンの吸収が4〜4.5ppmにあること、また、質量分析により、分子量が1096であることより、目的物であることを示していた。
温度計、ジムロート冷却管および窒素導入管を備えた4つ口の500mLフラスコに、上記と同様の操作を繰り返して得た3,17−ビス−(4−アミノ−3−ヒドロキシフェノキシ)−4,8,12,16−テトラブロモ−20,22,24,25−テトラメチル−2,18−メタノ−20H,22H,24H−ベンゾ[d,d’][1,3]ジオキソシノ[5,4−i:7,8−i]ビス[1,3]−ベンゾジオキソシン66g(0.06mol)、トリフェニルホスフィン0.79g(0.003mol)、ヨウ化銅0.23g(0.0012mol)、エチニルベンゼン13.48g(0.132mol)、脱水トリエチルアミン72mlおよび脱水ピリジン38ml、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム0.25g(0.00036mol)を仕込み、窒素を流しながら、105℃で1時間、加熱還流した。その後、トリエチルアミンおよびピリジンを減圧留去し、粘稠な褐色溶液を得た。これに、水200mL、塩酸5mLを注ぎ、析出した固形物を濾取し、さらに、水500mlで洗浄した。この固形物を、50℃で1日間、減圧乾燥することにより、生成物42.1gを得た。得られた生成物は、IR分析により、エチニル基の吸収が2260〜2190cm-1付近にあること、質量分析により、分子量が1181であることより、目的物であることを示していた。
(1)[3,17−ビス−(4−アミノ−3−ヒドロキシフェノキシ)−4,8,12,16−テトラアダマンチルエチニル−20,22,24,25−テトラメチル−2,18−メタノ−20H,22H,24H−ベンゾ[d,d’][1,3]ジオキソシノ[5,4−i:7,8−i]ビス[1,3]−ベンゾジオキソシンの合成]
温度計、ジムロート冷却管および窒素導入管を備えた4つ口の500mLフラスコに、実施例1の(1)〜(3)の操作を繰り返して得た3,17−ビス−(4−アミノ−3−ヒドロキシフェノキシ)−4,8,12,16−テトラブロモ−20,22,24,25−テトラメチル−2,18−メタノ−20H,22H,24H−ベンゾ[d,d’][1,3]ジオキソシノ[5,4−i:7,8−i]ビス[1,3]−ベンゾジオキソシン66g(0.06mol)、トリフェニルホスフィン0.79g(0.003mol)、ヨウ化銅0.23g(0.0012mol)、エチニルアダマンタン21.15g(0.132mol)、脱水トリエチルアミン108mlおよび脱水ピリジン57ml、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム0.25g(0.00036mol)を仕込み、窒素を流しながら、105℃で1時間、加熱還流した。その後、トリエチルアミンおよびピリジンを減圧留去し、粘稠な褐色溶液を得た。これに、水300mL、塩酸5mLを注ぎ、析出した固形物を濾取し、さらに、水500mlで洗浄した。この固形物を、50℃で1日間、減圧乾燥することにより、生成物31.9gを得た。得られた生成物は、IR分析により、エチニル基の吸収が2260〜2180cm-1付近にあること、質量分析により、分子量が1414であることより、目的物であることを示していた。
(1)[3,17−ビス−(3−ベンジロキシ−4−ニトロフェノキシ)−6,6,10,10,14,14−ヘキサメチル−20,22,24,25−テトラフェニル−2,18−メタノ−20H,22H,24H−ベンゾ[d,d’][1,3,2]ジオキサシロシノ[5,4−i:7,8−i]ビス[1,3,2]−ベンゾジオキソシロシンの合成]
温度計、攪拌機、還流管および窒素導入管を備えた4つ口の3000mlフラスコに、6,6,10,10,14,14−ヘキサメチル−20,22,24,25−テトラフェニル−2,18−メタノ−20H,22H,24H−ベンゾ[d,d’][1,3,2]ジオキサシロシノ[5,4−i:7,8−i]ビス[1,3,2]−ベンゾジオキソシロシン−3,17−ジオール199g(0.20mol)、2−ベンジロキシ−4−フルオロニトロベンゼン109g(0.44mol)およびDMF1000mlを入れ、窒素気流下、室温で攪拌した。完全に溶解した後に、炭酸カリウム152g(1.10mol)を加え、170℃まで加熱し、その温度で攪拌を続けた。その後、冷水約5000ml中に注いで、組成生物を濾別し、純水で洗い、乾燥した。さらに、組成生物を、熱エタノールにより再結晶した。得られた固体を減圧乾燥することにより、生成物109gを得た。得られた生成物は、IR分析により、ニトロ基の吸収が1500cm-1付近及び1370cm-1付近にあること、質量分析により、分子量が1452であることより、目的物であることを示していた。
温度計、攪拌機および窒素導入管を備えた4つ口の1000mlフラスコに、上記の操作を繰り返して得た3,17−ビス−(3−ベンジロキシ−4−ニトロフェノキシ)−6,6,10,10,14,14−ヘキサメチル−20,22,24,25−テトラフェニル−2,18−メタノ−20H,22H,24H−ベンゾ[d,d’][1,3,2]ジオキサシロシノ[5,4−i:7,8−i]ビス[1,3,2]−ベンゾジオキソシロシン145g(0.10mol)およびジクロロメタン600mlを入れ、窒素気流下、室温で攪拌した。そこに、シリンジを使用して、ヨードトリメチルシラン48g(0.24mol)を、少しずつ加えていった。添加終了後、5時間反応を続けた。その後、冷水約5000mlに注いで、組成生物を濾別し、純水で洗い、乾燥した。粗生成物を、熱エタノールにより再結晶した。得られた固体を、減圧乾燥することにより、生成物98gを得た。得られた生成物は、NMR分析により、OH基のプロトンの吸収が10.8−11.2ppmにあること、分子量が1257であることより、目的物であることを示していた。
温度計、ジムロート冷却管および窒素導入管を備えた4つ口の500mLフラスコに、上記で得た3,17−ビス−(3−ヒドロキシ−4−ニトロフェノキシ)−6,6,10,10,14,14−ヘキサメチル−20,22,24,25−テトラフェニル−2,18−メタノ−20H,22H,24H−ベンゾ[d,d’][1,3,2]ジオキサシロシノ[5,4−i:7,8−i]ビス[1,3,2]−ベンゾジオキソシロシン12.57g(0.01mol)およびジクロロメタン150mlを入れ、室温下で完全に溶解するまで攪拌し、その後、純水30mlを加えて、そのまま窒素気流下、室温で攪拌を続けた。そこに、ハイドロサルファイト13.92g(0.08mol)、1,1'−ジオクチル−4,4'−ビピリジウム0.54g(0.001mol)、炭酸カリウム8.29g(0.06mol)を水150mlに溶解させた水溶液を、滴下漏斗を用いて、徐々に滴下した。35℃で6時間反応させた後、分液漏斗を用いて有機溶媒層を抽出した。カラム操作により、精製を行い、生成物4.28gを得た。得られた化合物は、IR分析により、エチニル基の吸収が2260〜2190cm-1付近にあること、NMR分析により、OH基のプロトンの吸収が8.8−9.5ppmに、NH2基のプロトンの吸収が4〜4.5ppmにあること、また、質量分析により、分子量が1197であることより、目的物であることを示していた。
(1)[3,17−ビス−(3−ベンジロキシ−4−ニトロフェノキシ)−4,8,12,16−テトラメチル−6,10,14,20,22,24,25−ヘプタアダマンチル−2,18−メタノ−20H,22H,24H−ベンゾ[d,d’][1,3]ジオキソシノ[5,4−i:7,8−i]ビス[1,3]−ベンゾジオキソシンの合成]
温度計、攪拌機、還流管および窒素導入管を備えた4つ口の500mlフラスコに、4,8,12,16−テトラメチル−6,10,14,20,22,24,25−ヘプタアダマンチル−2,18−メタノ−20H,22H,24H−ベンゾ[d,d’][1,3]ジオキソシノ[5,4−i:7,8−i]ビス[1,3]−ベンゾジオキソシン−3,17−ジオール30.4g(0.020mol)、2−ベンジロキシ−4−フルオロニトロベンゼン10.9g(0.044mol)およびDMF300mlを入れ、窒素気流下、室温で攪拌した。完全に溶解した後に、炭酸カリウム15.2g(0.11mol)を加え、170℃まで加熱し、その温度で攪拌を続けた。その後、冷水約2000ml中に注いで、組成生物を濾別し、純水で洗い、乾燥した。さらに、組成生物を、熱エタノールにより再結晶した。得られた固体を減圧乾燥することにより、生成物23gを得た。得られた生成物は、IR分析により、ニトロ基の吸収が1500cm-1付近及び1370cm-1付近にあること、質量分析により、分子量が1974であることより、目的物であることを示していた。
温度計、攪拌機および窒素導入管を備えた4つ口の500mlフラスコに、上記で得た3,17−ビス−(3−ベンジロキシ−4−ニトロフェノキシ)−4,8,12,16−テトラメチル−6,10,14,20,22,24,25−ヘプタアダマンチル−2,18−メタノ−20H,22H,24H−ベンゾ[d,d’][1,3]ジオキソシノ[5,4−i:7,8−i]ビス[1,3]−ベンゾジオキソシン19.7g(0.10mol)およびジクロロメタン300mlを入れ、窒素気流下、室温で攪拌した。そこに、シリンジを使用して、ヨードトリメチルシラン4.8g(0.024mol)を、少しずつ加えていった。添加終了後、2時間反応を続けた。その後、冷水約2000mlに注いで、組成生物を濾別し、純水で洗い、乾燥した。粗生成物を、熱エタノールにより再結晶した。得られた固体を、減圧乾燥することにより、生成物7gを得た。得られた生成物は、NMR分析により、OH基のプロトンの吸収が10.8−11.2ppmにあること、分子量が1780であることより、目的物であることを示していた。
温度計、ジムロート冷却管および窒素導入管を備えた4つ口の200mLフラスコに、上記で得た3,17−ビス−(3−ヒドロキシ−4−ニトロフェノキシ)−4,8,12,16−テトラメチル−6,10,14,20,22,24,25−ヘプタアダマンチル−2,18−メタノ−20H,22H,24H−ベンゾ[d,d’][1,3]ジオキソシノ[5,4−i:7,8−i]ビス[1,3]−ベンゾジオキソシン1.78g(0.001mol)およびジクロロメタン50mlを入れ、室温下で完全に溶解するまで攪拌し、その後、純水10mlを加えて、そのまま窒素気流下、室温で攪拌を続けた。そこに、ハイドロサルファイト1.392g(0.008mol)、1,1'−ジオクチル−4,4'−ビピリジウム0.054g(0.0001mol)、炭酸カリウム0.829g(0.006mol)を水40mlに溶解させた水溶液を、滴下漏斗を用いて、徐々に滴下した。35℃で6時間反応させた後、分液漏斗を用いて有機溶媒層を抽出した。カラム操作により、精製を行い、生成物0.64gを得た。得られた化合物は、IR分析により、エチニル基の吸収が2260〜2190cm-1付近にあること、NMR分析により、OH基のプロトンの吸収が8.8−9.5ppmに、NH2基のプロトンの吸収が4〜4.5ppmにあること、また、質量分析により、分子量が1720であることより、目的物であることを示していた。
Claims (4)
- 一般式(1)で表されるビスアミノフェノール化合物。
- 前記ビスアミノフェノール化合物が、一般式(1)におけるR1として、メチルメチレン基、フェニルメチレン基またはアダマンチルメチレン基を有するものである請求項1記載のビスアミノフェノール化合物。
- 前記ビスアミノフェノール化合物が、一般式(1)におけるR2として、メチレン基、ジメチルシリレン基またはアダマンチルメチレン基を有するものである請求項1または2に記載のビスアミノフェノール化合物。
- 前記ビスアミノフェノール化合物が、一般式(1)におけるX1〜X4として、これらの少なくとも1つが、一般式(2)で表される基を有するものである、請求項1〜3のいずれかに記載のビスアミノフェノール化合物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004160181A JP4569173B2 (ja) | 2004-05-28 | 2004-05-28 | ビスアミノフェノール化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004160181A JP4569173B2 (ja) | 2004-05-28 | 2004-05-28 | ビスアミノフェノール化合物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005336135A JP2005336135A (ja) | 2005-12-08 |
JP4569173B2 true JP4569173B2 (ja) | 2010-10-27 |
Family
ID=35490087
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004160181A Expired - Fee Related JP4569173B2 (ja) | 2004-05-28 | 2004-05-28 | ビスアミノフェノール化合物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4569173B2 (ja) |
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---|---|
JP2005336135A (ja) | 2005-12-08 |
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