JP2003012611A - 新規なビスアミノフェノール類及びその製造方法 - Google Patents
新規なビスアミノフェノール類及びその製造方法Info
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- JP2003012611A JP2003012611A JP2001201715A JP2001201715A JP2003012611A JP 2003012611 A JP2003012611 A JP 2003012611A JP 2001201715 A JP2001201715 A JP 2001201715A JP 2001201715 A JP2001201715 A JP 2001201715A JP 2003012611 A JP2003012611 A JP 2003012611A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】新規なビスアミノフェノール類及びその製造方
法を提供する 【解決手段】一般式（Ｉ）で示されるビスアミノフェノ
ール類。 （式中、Ｒ１〜Ｒ１０は同一又は相異なり水素原子、炭
化水素基を表す）
法を提供する 【解決手段】一般式（Ｉ）で示されるビスアミノフェノ
ール類。 （式中、Ｒ１〜Ｒ１０は同一又は相異なり水素原子、炭
化水素基を表す）
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は樹脂原料、樹脂添加
剤、感光性樹脂原料、特にポリベンズオキサゾール樹脂
（ＰＢＯ樹脂）の原料として有用な新規なビスアミノフ
ェノール類及びその製造方法に関する。
剤、感光性樹脂原料、特にポリベンズオキサゾール樹脂
（ＰＢＯ樹脂）の原料として有用な新規なビスアミノフ
ェノール類及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】これまで一般式（Ｉ）（化５）で示され
るビスアミノフェノール類及び一般式（II）（化６）で
示されるビスニトロフェノール類は報告例がなかった。
るビスアミノフェノール類及び一般式（II）（化６）で
示されるビスニトロフェノール類は報告例がなかった。
【０００３】
【化５】
【０００４】
【化６】
（両式中、Ｒ１〜Ｒ１０は同一又は相異なり水素原子、
炭化水素基を表す）
炭化水素基を表す）
【０００５】また、特にウレタンやポリイミド向けの樹
脂原料・添加剤、感光性樹脂原料、またはポリベンズオ
キサゾール樹脂（ＰＢＯ樹脂）の原料として一般式
（Ｉ）で示されるビスアミノフェノール類を用いた場
合、特徴的な物性、特に加工容易性が期待されるものの
合成例は報告されていなかった。一般的にＰＢＯ樹脂は
極めて高い強度を有し、種々の用途への展開が図られて
いるが、加工性の困難さが問題とされている。
脂原料・添加剤、感光性樹脂原料、またはポリベンズオ
キサゾール樹脂（ＰＢＯ樹脂）の原料として一般式
（Ｉ）で示されるビスアミノフェノール類を用いた場
合、特徴的な物性、特に加工容易性が期待されるものの
合成例は報告されていなかった。一般的にＰＢＯ樹脂は
極めて高い強度を有し、種々の用途への展開が図られて
いるが、加工性の困難さが問題とされている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、樹脂
原料・樹脂添加剤、感光性樹脂原料、特にＰＢＯ樹脂原
料として用いるアミン成分として、従来のアミン類に比
べ得られるポリマーが特徴的な物性を示す新規なビスア
ミノフェノール類を提供することにある。更に、その新
規化合物を工業的に製造する方法を提供することにあ
る。
原料・樹脂添加剤、感光性樹脂原料、特にＰＢＯ樹脂原
料として用いるアミン成分として、従来のアミン類に比
べ得られるポリマーが特徴的な物性を示す新規なビスア
ミノフェノール類を提供することにある。更に、その新
規化合物を工業的に製造する方法を提供することにあ
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、ポリイミ
ド原料として使用されている１，３−ビス（３−アミノ
フェノキシ）ベンゼン（ＡＰＢと略す）に、それを原料
としたポリイミド樹脂のＴｇを低下させる作用が有るこ
とに着目し、ＡＰＢを基に新規なビスアミノフェノール
類を種々合成した。その結果、ある種の新規なビスアミ
ノフェノール類を原料としたＰＢＯ樹脂が、容易な加工
性等、特徴的な物性を示しうることを見出し、この発明
を完成した。
ド原料として使用されている１，３−ビス（３−アミノ
フェノキシ）ベンゼン（ＡＰＢと略す）に、それを原料
としたポリイミド樹脂のＴｇを低下させる作用が有るこ
とに着目し、ＡＰＢを基に新規なビスアミノフェノール
類を種々合成した。その結果、ある種の新規なビスアミ
ノフェノール類を原料としたＰＢＯ樹脂が、容易な加工
性等、特徴的な物性を示しうることを見出し、この発明
を完成した。
【０００８】即ち本発明は、以下の（１）〜（３）によ
り特定される。 （１）一般式（Ｉ）（化７）で示されるビスアミノフェ
ノール類。
り特定される。 （１）一般式（Ｉ）（化７）で示されるビスアミノフェ
ノール類。
【０００９】
【化７】
（式中、Ｒ１〜Ｒ１０は同一又は相異なり水素原子、炭
化水素基を表す） （２）一般式（II）（化８）で示されるビスニトロフェ
ノール類。
化水素基を表す） （２）一般式（II）（化８）で示されるビスニトロフェ
ノール類。
【００１０】
【化８】
（式中Ｒ１〜Ｒ１０は前記のとおりである）
【００１１】（３）一般式（II）で示されるビスニトロ
フェノール類を還元することを特徴とする一般式（Ｉ）
で示されるビスアミノフェノール類の製造方法。
フェノール類を還元することを特徴とする一般式（Ｉ）
で示されるビスアミノフェノール類の製造方法。
【００１２】
【発明の実施の形態】本発明を以下に具体的に説明す
る。一般式（Ｉ）〜（II）においてＲ１〜Ｒ１０で表さ
れる炭化水素基としては、低級アルキル基、低級アルケ
ニル基、アラルキル基、アリール基を表す。上述の低級
アルキル基としては直鎖、分岐又は環状の炭素数１〜８
のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、n-
プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル
基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、ネ
オペンチル基、シクロペンチル基、n-へキシル基、シク
ロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等
が挙げられる。低級アルケニル基としては、直鎖または
分岐の炭素数２〜６のアルケニル基であり、例えば、ビ
ニル基、アリル基、イソプロペニル基、４−ペンテニル
基、５−ヘキセニル基等が挙げられる。アラルキル基と
しては、炭素数７〜１５のアラルキル基であり、例え
ば、ベンジル基、フェネチル基、ベンズヒドリル基、フ
ェニルプロピル基等が挙げられる。また、アリール基と
しては、炭素数６〜１５のアリール基、例えば、フェニ
ル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等が挙げられ
る。
る。一般式（Ｉ）〜（II）においてＲ１〜Ｒ１０で表さ
れる炭化水素基としては、低級アルキル基、低級アルケ
ニル基、アラルキル基、アリール基を表す。上述の低級
アルキル基としては直鎖、分岐又は環状の炭素数１〜８
のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、n-
プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル
基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、ネ
オペンチル基、シクロペンチル基、n-へキシル基、シク
ロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等
が挙げられる。低級アルケニル基としては、直鎖または
分岐の炭素数２〜６のアルケニル基であり、例えば、ビ
ニル基、アリル基、イソプロペニル基、４−ペンテニル
基、５−ヘキセニル基等が挙げられる。アラルキル基と
しては、炭素数７〜１５のアラルキル基であり、例え
ば、ベンジル基、フェネチル基、ベンズヒドリル基、フ
ェニルプロピル基等が挙げられる。また、アリール基と
しては、炭素数６〜１５のアリール基、例えば、フェニ
ル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等が挙げられ
る。
【００１３】一般式（Ｉ）で示されるビスアミノフェノ
ール類の具体的な例としては、１，３−ビス（３−アミ
ノ−４−ヒドロキシフェノキシ）ベンゼン、１，４−ビ
ス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェノキシ）ベンゼ
ン、１，２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェノ
キシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノ−３−ヒド
ロキシフェノキシ）ベンゼン、１，４−ビス（４−アミ
ノ−３−ヒドロキシフェノキシ）ベンゼン、１，２−ビ
ス（４−アミノ−３−ヒドロキシフェノキシ）ベンゼ
ン、１，３−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェノ
キシ）−２−メチルベンゼン、１，４−ビス（３−アミ
ノ−４−ヒドロキシフェノキシ）−２−メチルベンゼ
ン、１，２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェノ
キシ）−３−メチルベンゼン、１，３−ビス（４−アミ
ノ−３−ヒドロキシフェノキシ）−４−ヘキシルベンゼ
ン、１，４−ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシフェノ
キシ）−２−ヘキシルベンゼン、１，２−ビス（４−ア
ミノ−３−ヒドロキシフェノキシ）−４−ヘキシルベン
ゼン、１，３−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシ−５
−メチルフェノキシ）−２−メチルベンゼン、１，４−
ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシ−５−メチルフェノ
キシ）−２−メチルベンゼン、１，２−ビス（３−アミ
ノ−４−ヒドロキシ−５−メチルフェノキシ）−３−メ
チルベンゼン、１，３−ビス（４−アミノ−３−ヒドロ
キシ−５−tert−ブチルフェノキシ）−４−ヘキシルベ
ンゼン、１，４−ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシ−
５−tert−ブチルフェノキシ）−２−ヘキシルベンゼ
ン、１，２−ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシ−５−
tert−ブチルフェノキシ）−４−ヘキシルベンゼン、
１，３−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェノキ
シ）−４−クミルベンゼン、１，４−ビス（３−アミノ
−４−ヒドロキシフェノキシ）ナフタレン、１，２−ビ
ス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェノキシ）−４−ヘ
キシルベンゼン、１，３−ビス（４−アミノ−３−ヒド
ロキシフェノキシ）−２，５−ジメチルベンゼン、１，
４−ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシフェノキシ）−
２−クミルベンゼン、１，２−ビス（４−アミノ−３−
ヒドロキシフェノキシ）ナフタレン、１，４−ビス（３
−アミノ−４−ヒドロキシフェノキシ）−２，３，５−
トリメチルベンゼン、１，３−ビス（４−アミノ−３−
ヒドロキシ−２，５−ジ−tert−ブチルフェノキシ）ベ
ンゼン、１，４−ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシ−
２，５−ジ−tert−ブチルフェノキシ）ベンゼン、１，
２−ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシ−２，５−ジ−
tert−ブチルフェノキシ）ベンゼン等を挙げることがで
きるがこれらに限定されるものではない。
ール類の具体的な例としては、１，３−ビス（３−アミ
ノ−４−ヒドロキシフェノキシ）ベンゼン、１，４−ビ
ス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェノキシ）ベンゼ
ン、１，２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェノ
キシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノ−３−ヒド
ロキシフェノキシ）ベンゼン、１，４−ビス（４−アミ
ノ−３−ヒドロキシフェノキシ）ベンゼン、１，２−ビ
ス（４−アミノ−３−ヒドロキシフェノキシ）ベンゼ
ン、１，３−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェノ
キシ）−２−メチルベンゼン、１，４−ビス（３−アミ
ノ−４−ヒドロキシフェノキシ）−２−メチルベンゼ
ン、１，２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェノ
キシ）−３−メチルベンゼン、１，３−ビス（４−アミ
ノ−３−ヒドロキシフェノキシ）−４−ヘキシルベンゼ
ン、１，４−ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシフェノ
キシ）−２−ヘキシルベンゼン、１，２−ビス（４−ア
ミノ−３−ヒドロキシフェノキシ）−４−ヘキシルベン
ゼン、１，３−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシ−５
−メチルフェノキシ）−２−メチルベンゼン、１，４−
ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシ−５−メチルフェノ
キシ）−２−メチルベンゼン、１，２−ビス（３−アミ
ノ−４−ヒドロキシ−５−メチルフェノキシ）−３−メ
チルベンゼン、１，３−ビス（４−アミノ−３−ヒドロ
キシ−５−tert−ブチルフェノキシ）−４−ヘキシルベ
ンゼン、１，４−ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシ−
５−tert−ブチルフェノキシ）−２−ヘキシルベンゼ
ン、１，２−ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシ−５−
tert−ブチルフェノキシ）−４−ヘキシルベンゼン、
１，３−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェノキ
シ）−４−クミルベンゼン、１，４−ビス（３−アミノ
−４−ヒドロキシフェノキシ）ナフタレン、１，２−ビ
ス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェノキシ）−４−ヘ
キシルベンゼン、１，３−ビス（４−アミノ−３−ヒド
ロキシフェノキシ）−２，５−ジメチルベンゼン、１，
４−ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシフェノキシ）−
２−クミルベンゼン、１，２−ビス（４−アミノ−３−
ヒドロキシフェノキシ）ナフタレン、１，４−ビス（３
−アミノ−４−ヒドロキシフェノキシ）−２，３，５−
トリメチルベンゼン、１，３−ビス（４−アミノ−３−
ヒドロキシ−２，５−ジ−tert−ブチルフェノキシ）ベ
ンゼン、１，４−ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシ−
２，５−ジ−tert−ブチルフェノキシ）ベンゼン、１，
２−ビス（４−アミノ−３−ヒドロキシ−２，５−ジ−
tert−ブチルフェノキシ）ベンゼン等を挙げることがで
きるがこれらに限定されるものではない。
【００１４】一般式（II）で示されるビスニトロフェノ
ール類の具体的な例としては、１，３−ビス（３−ニト
ロ−４−ヒドロキシフェノキシ）ベンゼン、１，４−ビ
ス（３−ニトロ−４−ヒドロキシフェノキシ）ベンゼ
ン、１，２−ビス（３−ニトロ−４−ヒドロキシフェノ
キシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−ニトロ−３−ヒド
ロキシフェノキシ）ベンゼン、１，４−ビス（４−ニト
ロ−３−ヒドロキシフェノキシ）ベンゼン、１，２−ビ
ス（４−ニトロ−３−ヒドロキシフェノキシ）ベンゼ
ン、１，３−ビス（３−ニトロ−４−ヒドロキシフェノ
キシ）−２−メチルベンゼン、１，４−ビス（３−ニト
ロ−４−ヒドロキシフェノキシ）−２−メチルベンゼ
ン、１，２−ビス（３−ニトロ−４−ヒドロキシフェノ
キシ）−３−メチルベンゼン、１，３−ビス（４−ニト
ロ−３−ヒドロキシフェノキシ）−４−ヘキシルベンゼ
ン、１，４−ビス（４−ニトロ−３−ヒドロキシフェノ
キシ）−２−ヘキシルベンゼン、１，２−ビス（４−ニ
トロ−３−ヒドロキシフェノキシ）−４−ヘキシルベン
ゼン、１，３−ビス（３−ニトロ−４−ヒドロキシ−５
−メチルフェノキシ）−２−メチルベンゼン、１，４−
ビス（３−ニトロ−４−ヒドロキシ−５−メチルフェノ
キシ）−２−メチルベンゼン、１，２−ビス（３−ニト
ロ−４−ヒドロキシ−５−メチルフェノキシ）−３−メ
チルベンゼン、１，３−ビス（４−ニトロ−３−ヒドロ
キシ−５−tert−ブチルフェノキシ）−４−ヘキシルベ
ンゼン、１，４−ビス（４−ニトロ−３−ヒドロキシ−
５−tert−ブチルフェノキシ）−２−ヘキシルベンゼ
ン、１，２−ビス（４−ニトロ−３−ヒドロキシ−５−
tert−ブチルフェノキシ）−４−ヘキシルベンゼン、
１，３−ビス（３−ニトロ−４−ヒドロキシフェノキ
シ）−４−クミルベンゼン、１，４−ビス（３−ニトロ
−４−ヒドロキシフェノキシ）ナフタレン、１，２−ビ
ス（３−ニトロ−４−ヒドロキシフェノキシ）−４−ヘ
キシルベンゼン、１，３−ビス（４−ニトロ−３−ヒド
ロキシフェノキシ）−２，５−ジメチルベンゼン、１，
４−ビス（４−ニトロ−３−ヒドロキシフェノキシ）−
２−クミルベンゼン、１，２−ビス（４−ニトロ−３−
ヒドロキシフェノキシ）ナフタレン、１，４−ビス（３
−ニトロ−４−ヒドロキシフェノキシ）−２，３，５−
トリメチルベンゼン、１，３−ビス（４−ニトロ−３−
ヒドロキシ−２，５−ジ−tert−ブチルフェノキシ）ベ
ンゼン、１，４−ビス（４−ニトロ−３−ヒドロキシ−
２，５−ジ−tert−ブチルフェノキシ）ベンゼン、１，
２−ビス（４−ニトロ−３−ヒドロキシ−２，５−ジ−
tert−ブチルフェノキシ）ベンゼン等を挙げることがで
きるがこれらに限定されるものではない。
ール類の具体的な例としては、１，３−ビス（３−ニト
ロ−４−ヒドロキシフェノキシ）ベンゼン、１，４−ビ
ス（３−ニトロ−４−ヒドロキシフェノキシ）ベンゼ
ン、１，２−ビス（３−ニトロ−４−ヒドロキシフェノ
キシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−ニトロ−３−ヒド
ロキシフェノキシ）ベンゼン、１，４−ビス（４−ニト
ロ−３−ヒドロキシフェノキシ）ベンゼン、１，２−ビ
ス（４−ニトロ−３−ヒドロキシフェノキシ）ベンゼ
ン、１，３−ビス（３−ニトロ−４−ヒドロキシフェノ
キシ）−２−メチルベンゼン、１，４−ビス（３−ニト
ロ−４−ヒドロキシフェノキシ）−２−メチルベンゼ
ン、１，２−ビス（３−ニトロ−４−ヒドロキシフェノ
キシ）−３−メチルベンゼン、１，３−ビス（４−ニト
ロ−３−ヒドロキシフェノキシ）−４−ヘキシルベンゼ
ン、１，４−ビス（４−ニトロ−３−ヒドロキシフェノ
キシ）−２−ヘキシルベンゼン、１，２−ビス（４−ニ
トロ−３−ヒドロキシフェノキシ）−４−ヘキシルベン
ゼン、１，３−ビス（３−ニトロ−４−ヒドロキシ−５
−メチルフェノキシ）−２−メチルベンゼン、１，４−
ビス（３−ニトロ−４−ヒドロキシ−５−メチルフェノ
キシ）−２−メチルベンゼン、１，２−ビス（３−ニト
ロ−４−ヒドロキシ−５−メチルフェノキシ）−３−メ
チルベンゼン、１，３−ビス（４−ニトロ−３−ヒドロ
キシ−５−tert−ブチルフェノキシ）−４−ヘキシルベ
ンゼン、１，４−ビス（４−ニトロ−３−ヒドロキシ−
５−tert−ブチルフェノキシ）−２−ヘキシルベンゼ
ン、１，２−ビス（４−ニトロ−３−ヒドロキシ−５−
tert−ブチルフェノキシ）−４−ヘキシルベンゼン、
１，３−ビス（３−ニトロ−４−ヒドロキシフェノキ
シ）−４−クミルベンゼン、１，４−ビス（３−ニトロ
−４−ヒドロキシフェノキシ）ナフタレン、１，２−ビ
ス（３−ニトロ−４−ヒドロキシフェノキシ）−４−ヘ
キシルベンゼン、１，３−ビス（４−ニトロ−３−ヒド
ロキシフェノキシ）−２，５−ジメチルベンゼン、１，
４−ビス（４−ニトロ−３−ヒドロキシフェノキシ）−
２−クミルベンゼン、１，２−ビス（４−ニトロ−３−
ヒドロキシフェノキシ）ナフタレン、１，４−ビス（３
−ニトロ−４−ヒドロキシフェノキシ）−２，３，５−
トリメチルベンゼン、１，３−ビス（４−ニトロ−３−
ヒドロキシ−２，５−ジ−tert−ブチルフェノキシ）ベ
ンゼン、１，４−ビス（４−ニトロ−３−ヒドロキシ−
２，５−ジ−tert−ブチルフェノキシ）ベンゼン、１，
２−ビス（４−ニトロ−３−ヒドロキシ−２，５−ジ−
tert−ブチルフェノキシ）ベンゼン等を挙げることがで
きるがこれらに限定されるものではない。
【００１５】一般式（Ｉ）で示されるビスアミノフェノ
ール類は一般式（II）で示される対応するビスニトロフ
ェノール類を還元することにより容易に製造することが
できる。還元方法はニトロ基をアミノ基に還元する方法
ならばどのようなものでもかまわないが、例えば、ラネ
ーニッケル触媒、パラジウム、白金、ルテニウム、ロジ
ウム等の重金属触媒又はそれらの金属を炭素やアルミナ
等に担持した金属触媒の存在下での接触水素添加反応、
酸性条件下、亜鉛、鉄、塩化スズ等の金属存在下で還元
する方法、硫化ナトリウム、ナトリウムヒドロスルフィ
ド、亜二チオン酸ナトリウム、硫化アンモニウム等の硫
化物を用いる方法が挙げられる。後処理の容易さから接
触水素添加反応が好ましい。反応の条件は特に限定はな
く、従来公知の方法に準じて実施することができる。
ール類は一般式（II）で示される対応するビスニトロフ
ェノール類を還元することにより容易に製造することが
できる。還元方法はニトロ基をアミノ基に還元する方法
ならばどのようなものでもかまわないが、例えば、ラネ
ーニッケル触媒、パラジウム、白金、ルテニウム、ロジ
ウム等の重金属触媒又はそれらの金属を炭素やアルミナ
等に担持した金属触媒の存在下での接触水素添加反応、
酸性条件下、亜鉛、鉄、塩化スズ等の金属存在下で還元
する方法、硫化ナトリウム、ナトリウムヒドロスルフィ
ド、亜二チオン酸ナトリウム、硫化アンモニウム等の硫
化物を用いる方法が挙げられる。後処理の容易さから接
触水素添加反応が好ましい。反応の条件は特に限定はな
く、従来公知の方法に準じて実施することができる。
【００１６】接触水素添加反応を例にとれば、該反応に
おいては、上述の重金属触媒存在下、水素ガス雰囲気下
で反応を行う。触媒の使用量には特に限定はないが、通
常原料に対し０．０１モル％〜１０当量、好ましくは
０．１モル％〜１当量、更に好ましくは１モル％〜５０
モル％である。必要に応じて溶媒を使用することができ
る。反応に使用する溶媒としては特に限定はないが、水
や、ペンタン、ヘキサン又はヘプタン等の炭化水素類、
トルエン、キシレン又はエチルベンゼン等の芳香族炭化
水素類、メタノール、エタノール、プロパノール又はブ
タノール等のアルコール類、酢酸エステル等のエステル
類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−
ジオキサン等のエーテル類が挙げられる。これらの溶媒
は単独または混合して用いてもよい。反応温度は−５０
〜１００℃、好ましくは−３０〜７０℃、さらに好まし
くは０〜５０℃であり、反応時間は０．０１〜１０時
間、好ましくは０．０５〜５時間、さらに好ましくは
０．１〜３時間である。
おいては、上述の重金属触媒存在下、水素ガス雰囲気下
で反応を行う。触媒の使用量には特に限定はないが、通
常原料に対し０．０１モル％〜１０当量、好ましくは
０．１モル％〜１当量、更に好ましくは１モル％〜５０
モル％である。必要に応じて溶媒を使用することができ
る。反応に使用する溶媒としては特に限定はないが、水
や、ペンタン、ヘキサン又はヘプタン等の炭化水素類、
トルエン、キシレン又はエチルベンゼン等の芳香族炭化
水素類、メタノール、エタノール、プロパノール又はブ
タノール等のアルコール類、酢酸エステル等のエステル
類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−
ジオキサン等のエーテル類が挙げられる。これらの溶媒
は単独または混合して用いてもよい。反応温度は−５０
〜１００℃、好ましくは−３０〜７０℃、さらに好まし
くは０〜５０℃であり、反応時間は０．０１〜１０時
間、好ましくは０．０５〜５時間、さらに好ましくは
０．１〜３時間である。
【００１７】反応後は反応溶液を水に加えて析出する結
晶をろ別するか、或いは有機溶媒で抽出した後、溶媒を
留去することにより目的物の粗結晶を得ることができ
る。さらに精製を必要とする場合は、再結晶等を行い、
より純度を上げることができる。再結晶に用いる溶媒と
しては特に限定はないが、水や、ペンタン、ヘキサン又
はヘプタン等の炭化水素類、トルエン、キシレン又はエ
チルベンゼン等の芳香族炭化水素類、メタノール、エタ
ノール、プロパノール又はブタノール等のアルコール
類、酢酸エステル等のエステル類、ジエチルエーテル、
テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル
類が挙げられる。これらの溶媒は単独または混合して用
いてもよい。
晶をろ別するか、或いは有機溶媒で抽出した後、溶媒を
留去することにより目的物の粗結晶を得ることができ
る。さらに精製を必要とする場合は、再結晶等を行い、
より純度を上げることができる。再結晶に用いる溶媒と
しては特に限定はないが、水や、ペンタン、ヘキサン又
はヘプタン等の炭化水素類、トルエン、キシレン又はエ
チルベンゼン等の芳香族炭化水素類、メタノール、エタ
ノール、プロパノール又はブタノール等のアルコール
類、酢酸エステル等のエステル類、ジエチルエーテル、
テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル
類が挙げられる。これらの溶媒は単独または混合して用
いてもよい。
【００１８】一般式（II）で示されるビスニトロフェノ
ール類は対応するビスフェノール類をジニトロ化して得
ることができる。原料のビスフェノール類としては、
１，３−ビス（４−ヒドロキシフェノキシ）ベンゼン、
１，４−ビス（４−ヒドロキシフェノキシ）ベンゼン、
１，２−ビス（４−ヒドロキシフェノキシ）ベンゼン、
１，３−ビス（３−ヒドロキシフェノキシ）ベンゼン、
１，４−ビス（３−ヒドロキシフェノキシ）ベンゼン、
１，２−ビス（３−ヒドロキシフェノキシ）ベンゼン、
１，３−ビス（４−ヒドロキシフェノキシ）−２−メチ
ルベンゼン、１，４−ビス（４−ヒドロキシフェノキ
シ）−２−メチルベンゼン、１，２−ビス（４−ヒドロ
キシフェノキシ）−３−メチルベンゼン、１，３−ビス
（３−ヒドロキシフェノキシ）−４−ヘキシルベンゼ
ン、１，４−ビス（３−ヒドロキシフェノキシ）−２−
ヘキシルベンゼン、１，２−ビス（３−ヒドロキシフェ
ノキシ）−４−ヘキシルベンゼン、１，３−ビス（４−
ヒドロキシ−５−メチルフェノキシ）−２−メチルベン
ゼン、１，４−ビス（４−ヒドロキシ−５−メチルフェ
ノキシ）−２−メチルベンゼン、１，２−ビス（４−ヒ
ドロキシ−５−メチルフェノキシ）−３−メチルベンゼ
ン、１，３−ビス（３−ヒドロキシ−５−tert−ブチル
フェノキシ）−４−ヘキシルベンゼン、１，４−ビス
（３−ヒドロキシ−５−tert−ブチルフェノキシ）−２
−ヘキシルベンゼン、１，２−ビス（３−ヒドロキシ−
５−tert−ブチルフェノキシ）−４−ヘキシルベンゼ
ン、１，３−ビス（４−ヒドロキシフェノキシ）−４−
クミルベンゼン、１，４−ビス（４−ヒドロキシフェノ
キシ）ナフタレン、１，２−ビス（４−ヒドロキシフェ
ノキシ）−４−ヘキシルベンゼン、１，３−ビス（３−
ヒドロキシフェノキシ）−２，５−ジメチルベンゼン、
１，４−ビス（３−ヒドロキシフェノキシ）−２−クミ
ルベンゼン、１，２−ビス（３−ヒドロキシフェノキ
シ）ナフタレン、１，４−ビス（４−ヒドロキシフェノ
キシ）−２，３，５−トリメチルベンゼン、１，３−ビ
ス（３−ヒドロキシ−２，５−ジ−tert−ブチルフェノ
キシ）ベンゼン、１，４−ビス（３−ヒドロキシ−２，
５−ジ−tert−ブチルフェノキシ）ベンゼン、１，２−
ビス（３−ヒドロキシ−２，５−ジ−tert−ブチルフェ
ノキシ）ベンゼン等を挙げることができるがこれらに限
定されるものではない。
ール類は対応するビスフェノール類をジニトロ化して得
ることができる。原料のビスフェノール類としては、
１，３−ビス（４−ヒドロキシフェノキシ）ベンゼン、
１，４−ビス（４−ヒドロキシフェノキシ）ベンゼン、
１，２−ビス（４−ヒドロキシフェノキシ）ベンゼン、
１，３−ビス（３−ヒドロキシフェノキシ）ベンゼン、
１，４−ビス（３−ヒドロキシフェノキシ）ベンゼン、
１，２−ビス（３−ヒドロキシフェノキシ）ベンゼン、
１，３−ビス（４−ヒドロキシフェノキシ）−２−メチ
ルベンゼン、１，４−ビス（４−ヒドロキシフェノキ
シ）−２−メチルベンゼン、１，２−ビス（４−ヒドロ
キシフェノキシ）−３−メチルベンゼン、１，３−ビス
（３−ヒドロキシフェノキシ）−４−ヘキシルベンゼ
ン、１，４−ビス（３−ヒドロキシフェノキシ）−２−
ヘキシルベンゼン、１，２−ビス（３−ヒドロキシフェ
ノキシ）−４−ヘキシルベンゼン、１，３−ビス（４−
ヒドロキシ−５−メチルフェノキシ）−２−メチルベン
ゼン、１，４−ビス（４−ヒドロキシ−５−メチルフェ
ノキシ）−２−メチルベンゼン、１，２−ビス（４−ヒ
ドロキシ−５−メチルフェノキシ）−３−メチルベンゼ
ン、１，３−ビス（３−ヒドロキシ−５−tert−ブチル
フェノキシ）−４−ヘキシルベンゼン、１，４−ビス
（３−ヒドロキシ−５−tert−ブチルフェノキシ）−２
−ヘキシルベンゼン、１，２−ビス（３−ヒドロキシ−
５−tert−ブチルフェノキシ）−４−ヘキシルベンゼ
ン、１，３−ビス（４−ヒドロキシフェノキシ）−４−
クミルベンゼン、１，４−ビス（４−ヒドロキシフェノ
キシ）ナフタレン、１，２−ビス（４−ヒドロキシフェ
ノキシ）−４−ヘキシルベンゼン、１，３−ビス（３−
ヒドロキシフェノキシ）−２，５−ジメチルベンゼン、
１，４−ビス（３−ヒドロキシフェノキシ）−２−クミ
ルベンゼン、１，２−ビス（３−ヒドロキシフェノキ
シ）ナフタレン、１，４−ビス（４−ヒドロキシフェノ
キシ）−２，３，５−トリメチルベンゼン、１，３−ビ
ス（３−ヒドロキシ−２，５−ジ−tert−ブチルフェノ
キシ）ベンゼン、１，４−ビス（３−ヒドロキシ−２，
５−ジ−tert−ブチルフェノキシ）ベンゼン、１，２−
ビス（３−ヒドロキシ−２，５−ジ−tert−ブチルフェ
ノキシ）ベンゼン等を挙げることができるがこれらに限
定されるものではない。
【００１９】ニトロ化方法は通常のベンゼン環をニトロ
化する方法ならばどのようなものでもかまわないが、例
えば、硝酸−硫酸、硝酸等を用いる方法、硝酸塩と酸を
用いる方法、硝酸−無水酢酸を用いる方法、Ｎ２Ｏ４等
の窒素酸化物を用いる方法、ニトロソ化した後酸化する
方法等が挙げられる。経済性から硝酸を用いる方法が好
ましい。反応の条件は特に限定はなく、従来公知の方法
に準じて実施することができるが、通常は窒素あるいは
アルゴン等の不活性ガス雰囲気下で行う。用いるニトロ
化試剤の量は原料に対し２当量以上あれば十分である
が、２〜２０当量、好ましくは２．２〜１０当量であ
る。反応温度は−５０〜１００℃、好ましくは−３０〜
７０℃、さらに好ましくは０〜５０℃、反応時間は０．
０１〜１０時間、好ましくは０．０５〜５時間、さらに
好ましくは０．１〜３時間である。
化する方法ならばどのようなものでもかまわないが、例
えば、硝酸−硫酸、硝酸等を用いる方法、硝酸塩と酸を
用いる方法、硝酸−無水酢酸を用いる方法、Ｎ２Ｏ４等
の窒素酸化物を用いる方法、ニトロソ化した後酸化する
方法等が挙げられる。経済性から硝酸を用いる方法が好
ましい。反応の条件は特に限定はなく、従来公知の方法
に準じて実施することができるが、通常は窒素あるいは
アルゴン等の不活性ガス雰囲気下で行う。用いるニトロ
化試剤の量は原料に対し２当量以上あれば十分である
が、２〜２０当量、好ましくは２．２〜１０当量であ
る。反応温度は−５０〜１００℃、好ましくは−３０〜
７０℃、さらに好ましくは０〜５０℃、反応時間は０．
０１〜１０時間、好ましくは０．０５〜５時間、さらに
好ましくは０．１〜３時間である。
【００２０】反応後は反応溶液を水に加え析出する結晶
をろ別するか、あるいは有機溶媒で抽出した後、溶媒を
留去することにより目的物の粗結晶を得ることができ
る。さらに精製を必要とする場合は再結晶等を行い純度
を上げることができる。再結晶に用いる溶媒としては特
に限定はないが、水や、ペンタン、ヘキサン又はヘプタ
ン等の炭化水素類、トルエン、キシレン又はエチルベン
ゼン等の芳香族炭化水素類、メタノール、エタノール、
プロパノール又はブタノール等のアルコール類、酢酸エ
ステル等のエステル類が挙げられる。これらの溶媒は単
独または混合して用いてもよい。
をろ別するか、あるいは有機溶媒で抽出した後、溶媒を
留去することにより目的物の粗結晶を得ることができ
る。さらに精製を必要とする場合は再結晶等を行い純度
を上げることができる。再結晶に用いる溶媒としては特
に限定はないが、水や、ペンタン、ヘキサン又はヘプタ
ン等の炭化水素類、トルエン、キシレン又はエチルベン
ゼン等の芳香族炭化水素類、メタノール、エタノール、
プロパノール又はブタノール等のアルコール類、酢酸エ
ステル等のエステル類が挙げられる。これらの溶媒は単
独または混合して用いてもよい。
【００２１】本発明の新規なビスアミノフェノール類は
ポリベンズオキサゾール（ＰＢＯ）樹脂組成物、感光性
樹脂組成物の製造に使用することに適している。ＰＢＯ
樹脂はＰＢＯ樹脂前駆体であるビスアミノフェノール類
を含有するポリアミド類を加熱することにより得られる
ものである。本発明で提供されるビスアミノフェノール
類を含むポリアミド類としては例えば一般式（V）（化
９）
ポリベンズオキサゾール（ＰＢＯ）樹脂組成物、感光性
樹脂組成物の製造に使用することに適している。ＰＢＯ
樹脂はＰＢＯ樹脂前駆体であるビスアミノフェノール類
を含有するポリアミド類を加熱することにより得られる
ものである。本発明で提供されるビスアミノフェノール
類を含むポリアミド類としては例えば一般式（V）（化
９）
【００２２】
【化９】
（式中Ｒ１〜Ｒ１０は前記のとおりであり、Ｙは２価の
環式化合物基、ｋは２〜５００を表す）を挙げることが
できる。当該ポリアミド類から製造されるＰＢＯ樹脂と
しては例えば一般式（VI）（化１０）
環式化合物基、ｋは２〜５００を表す）を挙げることが
できる。当該ポリアミド類から製造されるＰＢＯ樹脂と
しては例えば一般式（VI）（化１０）
【００２３】
【化１０】
（式中Ｒ１〜Ｒ１０は前記のとおりである）を挙げるこ
とができる。
とができる。
【００２４】一般式（Ｖ）、（VI）において、Ｙは、例
えば、ｐ−フェニレン基、ｍ−フェニレン基、ｏ−フェ
ニレン基、又は下記基（化１１）等であるがこれらに限
定されるものではない。得られたこれらのＰＢＯ樹脂は
超高強度繊維等に利用することができる。
えば、ｐ−フェニレン基、ｍ−フェニレン基、ｏ−フェ
ニレン基、又は下記基（化１１）等であるがこれらに限
定されるものではない。得られたこれらのＰＢＯ樹脂は
超高強度繊維等に利用することができる。
【００２５】
【化１１】
（式中、Ａ：-ＣＨ２-，-Ｃ(ＣＨ３)２-，-Ｏ-，-Ｓ-，
-ＳＯ２-，-ＣＯ-，-ＮＨＣＯ-，-Ｃ(ＣＦ３)２-）
-ＳＯ２-，-ＣＯ-，-ＮＨＣＯ-，-Ｃ(ＣＦ３)２-）
【００２６】本発明で提供されるビスアミノフェノール
類は、更に感光性樹脂原料としても有用である。感光性
樹脂組成物としては本発明で提供されるビスアミノフェ
ノール類を含有するポリアミド、例えば一般式（Ｖ）と
感光性ジアゾキノン化合物を含むものが一般的である
が、溶解促進剤としてビスフェノール類を添加しても良
い。また、例えば、シリコンウェハーのような基板に対
して、特に優れた密着性が必要な場合には、シリコーン
変性ポリアミド酸を導入しても良い。シリコーン変性ポ
リアミド酸としては、例えば一般式（VII）（化１２）
類は、更に感光性樹脂原料としても有用である。感光性
樹脂組成物としては本発明で提供されるビスアミノフェ
ノール類を含有するポリアミド、例えば一般式（Ｖ）と
感光性ジアゾキノン化合物を含むものが一般的である
が、溶解促進剤としてビスフェノール類を添加しても良
い。また、例えば、シリコンウェハーのような基板に対
して、特に優れた密着性が必要な場合には、シリコーン
変性ポリアミド酸を導入しても良い。シリコーン変性ポ
リアミド酸としては、例えば一般式（VII）（化１２）
【００２７】
【化１２】
（式中Ｙは前記のとおりであり、ｈは２〜５００を表
し、Ｚは下記構造（化１３）を示す）
し、Ｚは下記構造（化１３）を示す）
【００２８】
【化１３】
（式中、Ｒ１１とＲ１２は２価の有機基、Ｒ１３とＲ
１４は１価の有機基を示す）を挙げることができる。
１４は１価の有機基を示す）を挙げることができる。
【００２９】一般式（VII）のＺは、具体的には、例え
ば、下記式（化１４）等であるが、これらに限定される
ものではない。
ば、下記式（化１４）等であるが、これらに限定される
ものではない。
【化１４】
【００３０】上記説明による感光性樹脂組成物は、半導
体用途のみならず、多層回路の層間絶縁やフレキシブル
銅張板のカバーコート、ソルダーレジスト膜や液晶配向
膜等としても有用である。
体用途のみならず、多層回路の層間絶縁やフレキシブル
銅張板のカバーコート、ソルダーレジスト膜や液晶配向
膜等としても有用である。
【００３１】
【実施例】実施例１（１，３−ビス（３−アミノ−４−
ヒドロキシフェノキシ）ベンゼンの合成） ５０ｍｌ三ツ口フラスコに１，３−ビス（４−ヒドロキ
シフェノキシ）ベンゼン２．９４ｇ（１０ｍｍｏｌ）、
酢酸 ５４ｇを加え、窒素雰囲気、撹拌しながら６０％
硝酸４．２ｇ（２０ｍｍｏｌ）を１０分かけて滴下し
た。室温で１時間撹拌した後、反応液を水に加え、酢酸
エチルを用い目的物を抽出した。有機相を水と飽和食塩
水で洗浄した後、溶媒を濃縮した。得られた残渣にヘキ
サンを加え結晶を析出させた。結晶をろ別後、減圧下室
温で乾燥することにより１，３−ビス（３−ニトロ−４
−ヒドロキシフェノキシ）ベンゼンの白色結晶が３．１
６ｇ(８．０ｍｍｏｌ)、収率８０％、純度９７％)得ら
れた。物性は以下の通りである。 融点：１２８．５−１３０．０℃1 H-NMR (CD3SOCD3)：δ：6.65 (t,1H,J=2.4Hz),6.74(d
d,2H,J=8.4,2.4Hz),7.15(d,2H,J = 9.2 Hz),7.31(dd,2
H,J= 9.2,3.0Hz),7.35(t,1H,J=8.4Hz),7.56(d,2H,J=3.0
Hz),10.88(br,2H) ＦＤ−ｍａｓｓ：３８４（Ｍ＋）
ヒドロキシフェノキシ）ベンゼンの合成） ５０ｍｌ三ツ口フラスコに１，３−ビス（４−ヒドロキ
シフェノキシ）ベンゼン２．９４ｇ（１０ｍｍｏｌ）、
酢酸 ５４ｇを加え、窒素雰囲気、撹拌しながら６０％
硝酸４．２ｇ（２０ｍｍｏｌ）を１０分かけて滴下し
た。室温で１時間撹拌した後、反応液を水に加え、酢酸
エチルを用い目的物を抽出した。有機相を水と飽和食塩
水で洗浄した後、溶媒を濃縮した。得られた残渣にヘキ
サンを加え結晶を析出させた。結晶をろ別後、減圧下室
温で乾燥することにより１，３−ビス（３−ニトロ−４
−ヒドロキシフェノキシ）ベンゼンの白色結晶が３．１
６ｇ(８．０ｍｍｏｌ)、収率８０％、純度９７％)得ら
れた。物性は以下の通りである。 融点：１２８．５−１３０．０℃1 H-NMR (CD3SOCD3)：δ：6.65 (t,1H,J=2.4Hz),6.74(d
d,2H,J=8.4,2.4Hz),7.15(d,2H,J = 9.2 Hz),7.31(dd,2
H,J= 9.2,3.0Hz),7.35(t,1H,J=8.4Hz),7.56(d,2H,J=3.0
Hz),10.88(br,2H) ＦＤ−ｍａｓｓ：３８４（Ｍ＋）
【００３２】窒素雰囲気下で１，３−ビス（３−ニトロ
−４−ヒドロキシフェノキシ）ベンゼン６．３ｇ（１
５．９ｍｍｏｌ）に１，４−ジオキサン３０ｍｌ、５％
パラジウム-炭素０．３ｇを加えた。常圧、９０℃で水
素雰囲気下撹拌した。所定量の水素を吸収した後（３時
間かかった）、反応溶液を高速液体クロマトグラフィー
（ＨＰＬＣ）で分析したところ、原料が全て転化してい
た。触媒をろ過後、溶媒を留去した。残渣に酢酸エチル
とヘキサンを加え撹拌したところ結晶が析出した。得ら
れた結晶をろ別後、減圧下、室温で乾燥することにより
１，３−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェノキ
シ）ベンゼンの白色結晶が４．８９ｇ（１４．６ｍｍｏ
ｌ）、収率９２％、純度９７％)得られた。物性は以下
の通りである。 融点：１７８−１８０．５℃1 H-NMR (CD3SOCD3),δ:4.67(br,4H),6.06(dd,2H,J=8.6,
2.4Hz),6.29(d,2H,J=2.4Hz),6.38(t,1H,J=2.4Hz),6.49
(dd,2H,J= 8.1,2.4Hz),6.60(d,2H,J=8.6Hz),7.18(t,1H,
J=8.1Hz),9.00(br,2H) ＦＤ−ｍａｓｓ：３２４（Ｍ＋）
−４−ヒドロキシフェノキシ）ベンゼン６．３ｇ（１
５．９ｍｍｏｌ）に１，４−ジオキサン３０ｍｌ、５％
パラジウム-炭素０．３ｇを加えた。常圧、９０℃で水
素雰囲気下撹拌した。所定量の水素を吸収した後（３時
間かかった）、反応溶液を高速液体クロマトグラフィー
（ＨＰＬＣ）で分析したところ、原料が全て転化してい
た。触媒をろ過後、溶媒を留去した。残渣に酢酸エチル
とヘキサンを加え撹拌したところ結晶が析出した。得ら
れた結晶をろ別後、減圧下、室温で乾燥することにより
１，３−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェノキ
シ）ベンゼンの白色結晶が４．８９ｇ（１４．６ｍｍｏ
ｌ）、収率９２％、純度９７％)得られた。物性は以下
の通りである。 融点：１７８−１８０．５℃1 H-NMR (CD3SOCD3),δ:4.67(br,4H),6.06(dd,2H,J=8.6,
2.4Hz),6.29(d,2H,J=2.4Hz),6.38(t,1H,J=2.4Hz),6.49
(dd,2H,J= 8.1,2.4Hz),6.60(d,2H,J=8.6Hz),7.18(t,1H,
J=8.1Hz),9.00(br,2H) ＦＤ−ｍａｓｓ：３２４（Ｍ＋）
【００３３】
【発明の効果】本発明により、樹脂原料・樹脂添加剤、
感光性樹脂原料、又はポリベンズオキサゾール樹脂（Ｐ
ＢＯ樹脂）原料として用いる際に、特徴的な物性、特に
加工容易性が期待される新規なビスアミノフェノール類
が提供でき、その新規化合物を工業的に製造できる方法
も同時に提供できた。
感光性樹脂原料、又はポリベンズオキサゾール樹脂（Ｐ
ＢＯ樹脂）原料として用いる際に、特徴的な物性、特に
加工容易性が期待される新規なビスアミノフェノール類
が提供でき、その新規化合物を工業的に製造できる方法
も同時に提供できた。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
Ｆターム(参考） 4H006 AA01 AA02 AB46 BA25 BA55
BB23 BC10 BC19 BE20 BJ50
BN30 BP60 BU46
4H039 CA71 CB30
Claims (5)
- 【請求項１】一般式（Ｉ）（化１）で示されるビスアミ
ノフェノール類。 【化１】 （式中、Ｒ１〜Ｒ１０は同一又は相異なり水素原子、炭
化水素基を表す） - 【請求項２】 一般式（II）（化２）で示されるビスニ
トロフェノール類。 【化２】 （式中、Ｒ１〜Ｒ１０は同一又は相異なり水素原子、炭
化水素基を表す） - 【請求項３】一般式（Ｉ）で示されるビスアミノフェノ
ール類が一般式（III）（化３）で示されるビスアミノ
フェノール類である、請求項１記載のビスアミノフェノ
ール類。 【化３】 - 【請求項４】一般式（II）で示されるビスニトロフェノ
ール類が一般式（IV）（化４）で示されるビスニトロフ
ェノール類である、請求項２記載のビスニトロフェノー
ル類。 【化４】 - 【請求項５】一般式（II）で示されるビスニトロフェノ
ール類を還元することを特徴とする一般式（Ｉ）で示さ
れるビスアミノフェノール類の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001201715A JP2003012611A (ja) | 2001-07-03 | 2001-07-03 | 新規なビスアミノフェノール類及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001201715A JP2003012611A (ja) | 2001-07-03 | 2001-07-03 | 新規なビスアミノフェノール類及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003012611A true JP2003012611A (ja) | 2003-01-15 |
Family
ID=19038626
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001201715A Pending JP2003012611A (ja) | 2001-07-03 | 2001-07-03 | 新規なビスアミノフェノール類及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003012611A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005336135A (ja) * | 2004-05-28 | 2005-12-08 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | ビスアミノフェノール化合物 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SU1205518A1 (ru) * | 1983-10-24 | 1986-09-30 | Отделение Нефтехимии Института Физико-Органической Химии И Углехимии Ан Усср | Бис(3-амино-4-оксифенокси)перфторарилены в качестве мономеров дл получени полибензоксазолов с повышенной термической и гидролитической устойчивостью |
| JPH01222990A (ja) * | 1988-03-02 | 1989-09-06 | Kanzaki Paper Mfg Co Ltd | 感熱記録体 |
| JPH02188573A (ja) * | 1988-10-20 | 1990-07-24 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | アルキル置換２，２’―（１，４―ナフタレンジイル）ジベンゾオキサゾール及びこれを含有してなる写真用支持体 |
| JPH03209478A (ja) * | 1989-10-27 | 1991-09-12 | Nissan Chem Ind Ltd | ポジ型感光性ポリイミド樹脂組成物 |
| JPH11189573A (ja) * | 1997-09-24 | 1999-07-13 | Siemens Ag | ビスーｏ−アミノ（チオ）フェノールおよびその製造方法 |
-
2001
- 2001-07-03 JP JP2001201715A patent/JP2003012611A/ja active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SU1205518A1 (ru) * | 1983-10-24 | 1986-09-30 | Отделение Нефтехимии Института Физико-Органической Химии И Углехимии Ан Усср | Бис(3-амино-4-оксифенокси)перфторарилены в качестве мономеров дл получени полибензоксазолов с повышенной термической и гидролитической устойчивостью |
| JPH01222990A (ja) * | 1988-03-02 | 1989-09-06 | Kanzaki Paper Mfg Co Ltd | 感熱記録体 |
| JPH02188573A (ja) * | 1988-10-20 | 1990-07-24 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | アルキル置換２，２’―（１，４―ナフタレンジイル）ジベンゾオキサゾール及びこれを含有してなる写真用支持体 |
| JPH03209478A (ja) * | 1989-10-27 | 1991-09-12 | Nissan Chem Ind Ltd | ポジ型感光性ポリイミド樹脂組成物 |
| JPH11189573A (ja) * | 1997-09-24 | 1999-07-13 | Siemens Ag | ビスーｏ−アミノ（チオ）フェノールおよびその製造方法 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005336135A (ja) * | 2004-05-28 | 2005-12-08 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | ビスアミノフェノール化合物 |
| JP4569173B2 (ja) * | 2004-05-28 | 2010-10-27 | 住友ベークライト株式会社 | ビスアミノフェノール化合物 |
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