JPH05229994A - フッ素含有芳香族ジアミン化合物、フッ素含有ビス（アミノベンゼン）化合物、ビス（アミノフェノール）化合物及びこれらの製造法 - Google Patents
フッ素含有芳香族ジアミン化合物、フッ素含有ビス（アミノベンゼン）化合物、ビス（アミノフェノール）化合物及びこれらの製造法Info
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- JPH05229994A JPH05229994A JP3828292A JP3828292A JPH05229994A JP H05229994 A JPH05229994 A JP H05229994A JP 3828292 A JP3828292 A JP 3828292A JP 3828292 A JP3828292 A JP 3828292A JP H05229994 A JPH05229994 A JP H05229994A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】フッ素含有量が多く、ポリイミド、ポリアミド
等の原料として有用な新規なジアミンを提供する。 【構成】下記化１〔一般式（Ｉ）〕で表されるフッ素含
有ジアミン化合物。 【化１】 〔ただし、一般式（Ｉ）中、Ｒｆは−ＣnＦ2n-1（ここ
でｎは６〜１２の整数を示す）を示し、これは二重結合
を１個含み、適宜分岐していてもよく、２個のＲｆは同
一でも異なっていてもよく、Ｘは２価の有機基を示し、
ベンゼンの水素は低級アルキル基、低級アルコキシ基、
フッ素、塩素または臭素で置換されていてもよい〕。
等の原料として有用な新規なジアミンを提供する。 【構成】下記化１〔一般式（Ｉ）〕で表されるフッ素含
有ジアミン化合物。 【化１】 〔ただし、一般式（Ｉ）中、Ｒｆは−ＣnＦ2n-1（ここ
でｎは６〜１２の整数を示す）を示し、これは二重結合
を１個含み、適宜分岐していてもよく、２個のＲｆは同
一でも異なっていてもよく、Ｘは２価の有機基を示し、
ベンゼンの水素は低級アルキル基、低級アルコキシ基、
フッ素、塩素または臭素で置換されていてもよい〕。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、フッ素含有芳香族ジア
ミン化合物、フッ素含有ビス（アミノベンゼン）化合
物、ビス（アミノフェノール）化合物及びこれらの製造
法に関する。
ミン化合物、フッ素含有ビス（アミノベンゼン）化合
物、ビス（アミノフェノール）化合物及びこれらの製造
法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ポリイミド，ポリアミドなどの縮合系ポ
リマーは、耐熱性に優れ、電子材料から航空宇宙材料ま
で、幅広い分野で使用されている。近年、これらの分野
では、優れた耐熱性に加えて、種々の高性能，高機能を
併せ持つた材料が必要になつてきている。例えば、電子
材料分野では、吸湿率，誘電率の低減や透明性の向上が
要求されている。しかし、これらの高性能化の要求に十
分にこたえることのできる材料は、これまでに得られて
いない。
リマーは、耐熱性に優れ、電子材料から航空宇宙材料ま
で、幅広い分野で使用されている。近年、これらの分野
では、優れた耐熱性に加えて、種々の高性能，高機能を
併せ持つた材料が必要になつてきている。例えば、電子
材料分野では、吸湿率，誘電率の低減や透明性の向上が
要求されている。しかし、これらの高性能化の要求に十
分にこたえることのできる材料は、これまでに得られて
いない。
【０００３】このような要求を満足するポリマーを得る
ためには、モノマーである芳香族ジアミンの分子構造中
に、これらの性能を発現する置換基として、多くのフツ
素原子を含む置換基を導入することが有効であると考え
られる。
ためには、モノマーである芳香族ジアミンの分子構造中
に、これらの性能を発現する置換基として、多くのフツ
素原子を含む置換基を導入することが有効であると考え
られる。
【０００４】従来、多くのフツ素原子を含むパーフルオ
ロアルキル基を導入した芳香族ジアミンの例としては、
特開平１−１９０５６２号公報に、化５
ロアルキル基を導入した芳香族ジアミンの例としては、
特開平１−１９０５６２号公報に、化５
【化５】 （ただし、化５中、Ｒf′は、パーフルオロアルキル基
を示す)で表わされる芳香族ジアミンが示されている。
を示す)で表わされる芳香族ジアミンが示されている。
【０００５】また、特開平１−１８０８６０号公報に、
化６
化６
【化６】 で表される芳香族ジアミンが示されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】前記特開平１−１９０
５６２号公報に具体的に示されているのは、パーフルオ
ロアルキル基としてトリフルオロメチル基を置換基とし
た芳香族ジアミンの製造例だけであり、これではフツ素
含量が低く、要求性能の発現は難しい。
５６２号公報に具体的に示されているのは、パーフルオ
ロアルキル基としてトリフルオロメチル基を置換基とし
た芳香族ジアミンの製造例だけであり、これではフツ素
含量が低く、要求性能の発現は難しい。
【０００７】また、特開平１−１８０８６０号公報に示
されている芳香族ジアミンは、ベンゼン環とパーフルオ
ロアルキル基との間に、結合解離エネルギーの小さいメ
チレン基が存在するため、加熱すると結合が切断しやす
く、耐熱性に劣るものであつた。
されている芳香族ジアミンは、ベンゼン環とパーフルオ
ロアルキル基との間に、結合解離エネルギーの小さいメ
チレン基が存在するため、加熱すると結合が切断しやす
く、耐熱性に劣るものであつた。
【０００８】そこで、本発明者らは、多くのフツ素原子
をもつ置換基としてパーフルオロアルケニルオキシ基を
分子構造中に導入したフッ素含有芳香族ジアミン化合
物、そのための中間体であるフッ素含有ビス（アミノベ
ンゼン）化合物及びビス（アミノフェノール）化合物並
びにこれらの製造法を提供するものである。
をもつ置換基としてパーフルオロアルケニルオキシ基を
分子構造中に導入したフッ素含有芳香族ジアミン化合
物、そのための中間体であるフッ素含有ビス（アミノベ
ンゼン）化合物及びビス（アミノフェノール）化合物並
びにこれらの製造法を提供するものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明におけるフッ素含
有芳香族ジアミン化合物は、化７〔一般式（Ｉ）〕
有芳香族ジアミン化合物は、化７〔一般式（Ｉ）〕
【化７】 〔ただし、一般式（Ｉ）中、Ｒｆは−ＣnＦ2n-1（ここ
でｎは６〜１２の整数を示す）を示し、これは二重結合
を１個含み、適宜分岐していてもよく、２個のＲｆは同
一でも異なっていてもよく、Ｘは２価の有機基を示し、
ベンゼンの水素は低級アルキル基、低級アルコキシ基、
フッ素、塩素または臭素で置換されていてもよい〕で表
される。
でｎは６〜１２の整数を示す）を示し、これは二重結合
を１個含み、適宜分岐していてもよく、２個のＲｆは同
一でも異なっていてもよく、Ｘは２価の有機基を示し、
ベンゼンの水素は低級アルキル基、低級アルコキシ基、
フッ素、塩素または臭素で置換されていてもよい〕で表
される。
【００１０】上記一般式（Ｉ）で表されるフッ素含有芳
香族ジアミン化合物としては、ビス（３−（パーフルオ
ロノネニルオキシ）−４−アミノ）ビフェニル、ビス
（３−（パーフルオロノネニルオキシ）−４−アミノフ
ェニル）エーテル、ビス（３−（パーフルオロノネニル
オキシ）−４−アミノフェニル）メタン、ビス（３−
（パーフルオロノネニルオキシ）−４−アミノフェニ
ル）ジフルオロメタン、ビス（３−（パーフルオロノネ
ニルオキシ）−４−アミノフェニル）スルホン、ビス
（３−（パーフルオロノネニルオキシ）−４−アミノフ
ェニル）スルフィド、ビス（３−（パーフルオロノネニ
ルオキシ）−４−アミノフェニル）ケトン、２，２−ビ
ス（３−（パーフルオロノネニルオキシ）−４−アミノ
フェニル）プロパン、２，２−ビス（３−（パーフルオ
ロノネニルオキシ）−４−アミノフェニル）ヘキサフル
オロプロパン、１，４−ビス（３−（パーフルオロノネ
ニルオキシ）−４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，
４−ビス（２，２−（３−（パーフルオロノネニルオキ
シ）−４−アミノフェニル）プロピル）ベンゼン、２，
２−ビス（４−（３−（パーフルオロノネニルオキシ）
−４−アミノフェノキシ）フェニル）プロパン、２，２
−ビス（４−（３−（パーフルオロノネニルオキシ）−
４−アミノフェノキシ）フェニル）ヘキサフルオロプロ
パン、ビス（４−（３−（パーフルオロノネニルオキ
シ）−４−アミノフェノキシ）フェニル）スルフィド、
ビス（４−（３−（パーフルオロノネニルオキシ）−４
−アミノフェノキシ）フェニル）スルホン、ビス（３−
アミノ−４−（パーフルオロノネニルオキシ））ビフェ
ニル、ビス（３−アミノ−４−（パーフルオロノネニル
オキシ）フェニル）エーテル、ビス（３−アミノ−４−
（パーフルオロノネニルオキシ）フェニル）メタン、ビ
ス（３−アミノ−４−（パーフルオロノネニルオキシ）
フェニル）ジフルオロメタン、ビス（３−アミノ−４−
（パーフルオロノネニルオキシ）フェニル）スルホン、
ビス（３−アミノ−４−（パーフルオロノネニルオキ
シ）フェニル）スルフィド、ビス（３−アミノ−４−
（パーフルオロノネニルオキシ）フェニル）ケトン、
２，２−ビス（３−アミノ−４−（パーフルオロノネニ
ルオキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（３−ア
ミノ−４−（パーフルオロノネニルオキシ）フェニル）
ヘキサフルオロプロパン、１，４−ビス（３−アミノ−
４−（パーフルオロノネニルオキシ）フェノキシ）ベン
ゼン、１，４−ビス（２，２−（３−アミノ−４−（パ
ーフルオロノネニルオキシ）フェニル）プロピル）ベン
ゼン、２，２−ビス（４−（３−アミノ−４−（パーフ
ルオロノネニルオキシ）フェノキシ）フェニル）プロパ
ン、２，２−ビス（４−（３−アミノ−４−（パーフル
オロノネニルオキシ）−４−アミノフェノキシ）フェニ
ル）ヘキサフルオロプロパン、ビス（４−（３−アミノ
−４−（パーフルオロノネニルオキシ）フェノキシ）フ
ェニル）スルフィド、ビス（４−（３−アミノ−４−
（パーフルオロノネニルオキシ）フェノキシ）フェニ
ル）スルホン、ビス（３−アミノ−５−（パーフルオロ
ノネニルオキシ））ビフェニル、２，２−ビス（３−ア
ミノ−５−（パーフルオロノネニルオキシ）フェニル）
ヘキサフルオロプロパン、ビス（２−（パーフルオロノ
ネニルオキシ）−４−アミノ）ビフェニル、２，２−ビ
ス（２−（パーフルオロノネニルオキシ）−４−アミノ
フェニル）ヘキサフルオロプロパン、ビス（２−（パー
フルオロノネニルオキシ）−４−アミノ−５−メチル）
ビフェニル、２，２−ビス（２−（パーフルオロノネニ
ルオキシ）−４−アミノ−５−メチルフェニル）ヘキサ
フルオロプロパン、ビス（３−（パーフルオロヘキセニ
ルオキシ）−４−アミノ）ビフェニル、ビス（３−（パ
ーフルオロヘキセニルオキシ）−４−アミノフェニル）
エーテル、ビス（３−（パーフルオロヘキセニルオキ
シ）−４−アミノフェニル）メタン、ビス（３−（パー
フルオロヘキセニルオキシ）−４−アミノフェニル）ジ
フルオロメタン、ビス（３−（パーフルオロヘキセニル
オキシ）−４−アミノフェニル）スルホン、ビス（３−
（パーフルオロヘキセニルオキシ）−４−アミノフェニ
ル）スルフィド、ビス（３−（パーフルオロヘキセニル
オキシ）−４−アミノフェニル）ケトン、２，２−ビス
（３−（パーフルオロヘキセニルオキシ）−４−アミノ
フェニル）プロパン、２，２−ビス（３−（パーフルオ
ロヘキセニルオキシ）−４−アミノフェニル）ヘキサフ
ルオロプロパン、１，４−ビス（３−（パーフルオロヘ
キセニルオキシ）−４−アミノフェノキシ）ベンゼン、
１，４−ビス（２，２−（３−（パーフルオロヘキセニ
ルオキシ）−４−アミノフェニル）プロピル）ベンゼ
ン、２，２−ビス（４−（３−（パーフルオロヘキセニ
ルオキシ）−４−アミノフェノキシ）フェニル）プロパ
ン、２，２−ビス（４−（３−（パーフルオロヘキセニ
ルオキシ）−４−アミノフェノキシ）フェニル）ヘキサ
フルオロプロパン、ビス（４−（３−（パーフルオロヘ
キセニルオキシ）−４−アミノフェノキシ）フェニル）
スルフィド、ビス（４−（３−（パーフルオロヘキセニ
ルオキシ）−４−アミノフェノキシ）フェニル）スルホ
ン、ビス（３−アミノ−４−（パーフルオロヘキセニル
オキシ））ビフェニル、ビス（３−アミノ−４−（パー
フルオロヘキセニルオキシ）フェニル）エーテル、ビス
（３−アミノ−４−（パーフルオロヘキセニルオキシ）
フェニル）メタン、ビス（３−アミノ−４−（パーフル
オロヘキセニルオキシ）フェニル）ジフルオロメタン、
ビス（３−アミノ−４−（パーフルオロヘキセニルオキ
シ）フェニル）スルホン、ビス（３−アミノ−４−（パ
ーフルオロヘキセニルオキシ）フェニル）スルフィド、
ビス（３−アミノ−４−（パーフルオロヘキセニルオキ
シ）フェニル）ケトン、２，２−ビス（３−アミノ−４
−（パーフルオロヘキセニルオキシ）フェニル）プロパ
ン、２，２−ビス（３−アミノ−４−（パーフルオロヘ
キセニルオキシ）フェニル）ヘキサフルオロプロパン、
１，４−ビス（３−アミノ−４−（パーフルオロヘキセ
ニルオキシ）フェノキシ）ベンゼン、１，４−ビス
（２，２−（３−アミノ−４−（パーフルオロヘキセニ
ルオキシ）フェニル）プロピル）ベンゼン、２，２−ビ
ス（４−（３−アミノ−４−（パーフルオロヘキセニル
オキシ）フェノキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビ
ス（４−（３−アミノ−４−（パーフルオロヘキセニル
オキシ）−４−アミノフェノキシ）フェニル）ヘキサフ
ルオロプロパン、ビス（４−（３−アミノ−４−（パー
フルオロヘキセニルオキシ）フェノキシ）フェニル）ス
ルフィド、ビス（４−（３−アミノ−４−（パーフルオ
ロヘキセニルオキシ）フェノキシ）フェニル）スルホ
ン、ビス（３−アミノ−５−（パーフルオロヘキセニル
オキシ））ビフェニル、２，２−ビス（３−アミノ−５
−（パーフルオロヘキセニルオキシ）フェニル）ヘキサ
フルオロプロパン、ビス（２−（パーフルオロヘキセニ
ルオキシ）−４−アミノ）ビフェニル、２，２−ビス
（２−（パーフルオロヘキセニルオキシ）−４−アミノ
フェニル）ヘキサフルオロプロパン、ビス（２−（パー
フルオロヘキセニルオキシ）−４−アミノ−５−メチ
ル）ビフェニル、２，２−ビス（２−（パーフルオロヘ
キセニルオキシ）−４−アミノ−５−メチルフェニル）
ヘキサフルオロプロパン等がある。
香族ジアミン化合物としては、ビス（３−（パーフルオ
ロノネニルオキシ）−４−アミノ）ビフェニル、ビス
（３−（パーフルオロノネニルオキシ）−４−アミノフ
ェニル）エーテル、ビス（３−（パーフルオロノネニル
オキシ）−４−アミノフェニル）メタン、ビス（３−
（パーフルオロノネニルオキシ）−４−アミノフェニ
ル）ジフルオロメタン、ビス（３−（パーフルオロノネ
ニルオキシ）−４−アミノフェニル）スルホン、ビス
（３−（パーフルオロノネニルオキシ）−４−アミノフ
ェニル）スルフィド、ビス（３−（パーフルオロノネニ
ルオキシ）−４−アミノフェニル）ケトン、２，２−ビ
ス（３−（パーフルオロノネニルオキシ）−４−アミノ
フェニル）プロパン、２，２−ビス（３−（パーフルオ
ロノネニルオキシ）−４−アミノフェニル）ヘキサフル
オロプロパン、１，４−ビス（３−（パーフルオロノネ
ニルオキシ）−４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，
４−ビス（２，２−（３−（パーフルオロノネニルオキ
シ）−４−アミノフェニル）プロピル）ベンゼン、２，
２−ビス（４−（３−（パーフルオロノネニルオキシ）
−４−アミノフェノキシ）フェニル）プロパン、２，２
−ビス（４−（３−（パーフルオロノネニルオキシ）−
４−アミノフェノキシ）フェニル）ヘキサフルオロプロ
パン、ビス（４−（３−（パーフルオロノネニルオキ
シ）−４−アミノフェノキシ）フェニル）スルフィド、
ビス（４−（３−（パーフルオロノネニルオキシ）−４
−アミノフェノキシ）フェニル）スルホン、ビス（３−
アミノ−４−（パーフルオロノネニルオキシ））ビフェ
ニル、ビス（３−アミノ−４−（パーフルオロノネニル
オキシ）フェニル）エーテル、ビス（３−アミノ−４−
（パーフルオロノネニルオキシ）フェニル）メタン、ビ
ス（３−アミノ−４−（パーフルオロノネニルオキシ）
フェニル）ジフルオロメタン、ビス（３−アミノ−４−
（パーフルオロノネニルオキシ）フェニル）スルホン、
ビス（３−アミノ−４−（パーフルオロノネニルオキ
シ）フェニル）スルフィド、ビス（３−アミノ−４−
（パーフルオロノネニルオキシ）フェニル）ケトン、
２，２−ビス（３−アミノ−４−（パーフルオロノネニ
ルオキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（３−ア
ミノ−４−（パーフルオロノネニルオキシ）フェニル）
ヘキサフルオロプロパン、１，４−ビス（３−アミノ−
４−（パーフルオロノネニルオキシ）フェノキシ）ベン
ゼン、１，４−ビス（２，２−（３−アミノ−４−（パ
ーフルオロノネニルオキシ）フェニル）プロピル）ベン
ゼン、２，２−ビス（４−（３−アミノ−４−（パーフ
ルオロノネニルオキシ）フェノキシ）フェニル）プロパ
ン、２，２−ビス（４−（３−アミノ−４−（パーフル
オロノネニルオキシ）−４−アミノフェノキシ）フェニ
ル）ヘキサフルオロプロパン、ビス（４−（３−アミノ
−４−（パーフルオロノネニルオキシ）フェノキシ）フ
ェニル）スルフィド、ビス（４−（３−アミノ−４−
（パーフルオロノネニルオキシ）フェノキシ）フェニ
ル）スルホン、ビス（３−アミノ−５−（パーフルオロ
ノネニルオキシ））ビフェニル、２，２−ビス（３−ア
ミノ−５−（パーフルオロノネニルオキシ）フェニル）
ヘキサフルオロプロパン、ビス（２−（パーフルオロノ
ネニルオキシ）−４−アミノ）ビフェニル、２，２−ビ
ス（２−（パーフルオロノネニルオキシ）−４−アミノ
フェニル）ヘキサフルオロプロパン、ビス（２−（パー
フルオロノネニルオキシ）−４−アミノ−５−メチル）
ビフェニル、２，２−ビス（２−（パーフルオロノネニ
ルオキシ）−４−アミノ−５−メチルフェニル）ヘキサ
フルオロプロパン、ビス（３−（パーフルオロヘキセニ
ルオキシ）−４−アミノ）ビフェニル、ビス（３−（パ
ーフルオロヘキセニルオキシ）−４−アミノフェニル）
エーテル、ビス（３−（パーフルオロヘキセニルオキ
シ）−４−アミノフェニル）メタン、ビス（３−（パー
フルオロヘキセニルオキシ）−４−アミノフェニル）ジ
フルオロメタン、ビス（３−（パーフルオロヘキセニル
オキシ）−４−アミノフェニル）スルホン、ビス（３−
（パーフルオロヘキセニルオキシ）−４−アミノフェニ
ル）スルフィド、ビス（３−（パーフルオロヘキセニル
オキシ）−４−アミノフェニル）ケトン、２，２−ビス
（３−（パーフルオロヘキセニルオキシ）−４−アミノ
フェニル）プロパン、２，２−ビス（３−（パーフルオ
ロヘキセニルオキシ）−４−アミノフェニル）ヘキサフ
ルオロプロパン、１，４−ビス（３−（パーフルオロヘ
キセニルオキシ）−４−アミノフェノキシ）ベンゼン、
１，４−ビス（２，２−（３−（パーフルオロヘキセニ
ルオキシ）−４−アミノフェニル）プロピル）ベンゼ
ン、２，２−ビス（４−（３−（パーフルオロヘキセニ
ルオキシ）−４−アミノフェノキシ）フェニル）プロパ
ン、２，２−ビス（４−（３−（パーフルオロヘキセニ
ルオキシ）−４−アミノフェノキシ）フェニル）ヘキサ
フルオロプロパン、ビス（４−（３−（パーフルオロヘ
キセニルオキシ）−４−アミノフェノキシ）フェニル）
スルフィド、ビス（４−（３−（パーフルオロヘキセニ
ルオキシ）−４−アミノフェノキシ）フェニル）スルホ
ン、ビス（３−アミノ−４−（パーフルオロヘキセニル
オキシ））ビフェニル、ビス（３−アミノ−４−（パー
フルオロヘキセニルオキシ）フェニル）エーテル、ビス
（３−アミノ−４−（パーフルオロヘキセニルオキシ）
フェニル）メタン、ビス（３−アミノ−４−（パーフル
オロヘキセニルオキシ）フェニル）ジフルオロメタン、
ビス（３−アミノ−４−（パーフルオロヘキセニルオキ
シ）フェニル）スルホン、ビス（３−アミノ−４−（パ
ーフルオロヘキセニルオキシ）フェニル）スルフィド、
ビス（３−アミノ−４−（パーフルオロヘキセニルオキ
シ）フェニル）ケトン、２，２−ビス（３−アミノ−４
−（パーフルオロヘキセニルオキシ）フェニル）プロパ
ン、２，２−ビス（３−アミノ−４−（パーフルオロヘ
キセニルオキシ）フェニル）ヘキサフルオロプロパン、
１，４−ビス（３−アミノ−４−（パーフルオロヘキセ
ニルオキシ）フェノキシ）ベンゼン、１，４−ビス
（２，２−（３−アミノ−４−（パーフルオロヘキセニ
ルオキシ）フェニル）プロピル）ベンゼン、２，２−ビ
ス（４−（３−アミノ−４−（パーフルオロヘキセニル
オキシ）フェノキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビ
ス（４−（３−アミノ−４−（パーフルオロヘキセニル
オキシ）−４−アミノフェノキシ）フェニル）ヘキサフ
ルオロプロパン、ビス（４−（３−アミノ−４−（パー
フルオロヘキセニルオキシ）フェノキシ）フェニル）ス
ルフィド、ビス（４−（３−アミノ−４−（パーフルオ
ロヘキセニルオキシ）フェノキシ）フェニル）スルホ
ン、ビス（３−アミノ−５−（パーフルオロヘキセニル
オキシ））ビフェニル、２，２−ビス（３−アミノ−５
−（パーフルオロヘキセニルオキシ）フェニル）ヘキサ
フルオロプロパン、ビス（２−（パーフルオロヘキセニ
ルオキシ）−４−アミノ）ビフェニル、２，２−ビス
（２−（パーフルオロヘキセニルオキシ）−４−アミノ
フェニル）ヘキサフルオロプロパン、ビス（２−（パー
フルオロヘキセニルオキシ）−４−アミノ−５−メチ
ル）ビフェニル、２，２−ビス（２−（パーフルオロヘ
キセニルオキシ）−４−アミノ−５−メチルフェニル）
ヘキサフルオロプロパン等がある。
【００１１】これらの化合物において、パーフルオロノ
ネニル基とは、一般式(Ｉ）におけるＲf が−Ｃ9Ｆ17の
ものであり、パーフルオロヘキセニル基とは一般式
（Ｉ）におけるＲf が−Ｃ6Ｆ11 のものであり、以下も
同様である。
ネニル基とは、一般式(Ｉ）におけるＲf が−Ｃ9Ｆ17の
ものであり、パーフルオロヘキセニル基とは一般式
（Ｉ）におけるＲf が−Ｃ6Ｆ11 のものであり、以下も
同様である。
【００１２】前記に例示した化合物において、パーフル
オロノネニル基又はパーフルオロヘキセニル基の代わり
に、−Ｃ10Ｆ19基，−Ｃ12Ｆ23基等を有する化合物も同
様に例示することができる。
オロノネニル基又はパーフルオロヘキセニル基の代わり
に、−Ｃ10Ｆ19基，−Ｃ12Ｆ23基等を有する化合物も同
様に例示することができる。
【００１３】前記一般式（Ｉ）で表されるフッ素含有芳
香族ジアミン化合物は、その中間体である下記化８〔一
般式（II）〕で表されるアミノ基が保護されたフッ素含
有ビス（アミノベンゼン）化合物を保護基の脱保護反応
に供することを特徴とする方法により製造することがで
きる。
香族ジアミン化合物は、その中間体である下記化８〔一
般式（II）〕で表されるアミノ基が保護されたフッ素含
有ビス（アミノベンゼン）化合物を保護基の脱保護反応
に供することを特徴とする方法により製造することがで
きる。
【化８】 〔ただし、一般式（II）中、Ｒｆ及びＸは一般式（Ｉ）
に同じであり、Ｒ1は１価の有機基、Ｒ2は水素又はＲ1
とＲ2を併せて２価の有機基を示し、Ｒ3は１価の有機
基、Ｒ4は水素又はＲ3とＲ4を併せて２価の有機基を示
し、ベンゼンの水素は低級アルキル基、低級アルコキシ
基、フッ素、塩素または臭素で置換されていてもよ
い〕。
に同じであり、Ｒ1は１価の有機基、Ｒ2は水素又はＲ1
とＲ2を併せて２価の有機基を示し、Ｒ3は１価の有機
基、Ｒ4は水素又はＲ3とＲ4を併せて２価の有機基を示
し、ベンゼンの水素は低級アルキル基、低級アルコキシ
基、フッ素、塩素または臭素で置換されていてもよ
い〕。
【００１４】前記一般式（II）中、Ｒ1としての１価の
有機基又はＲ1とＲ2を併せた２価の有機基及びＲ3とし
ての１価の有機基又はＲ3とＲ4を併せた２価の有機基
は、アミノ基を保護する基であり、例えば、Ｒ5ＯＣ
（＝Ｏ）−基（ここで、Ｒ5は１価の有機基を示す）が
あり、具体的には、ベンジルオキシカルボニル基、ｔ−
ブチルカルボニル基、ｐ−メトキシベンジルオキシカル
ボニル基、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル基、ｐ
−ビフェニルイソプロピルオキシカルボニル基、９−フ
ルオレニルメチルオキシカルボニル基等がある。アミノ
基を保護する基としてはさらに、Ｒ6Ｃ（＝Ｏ）−基
（ここで、Ｒ5は水素、アルキル基又はアリール基を示
す）、トリチル基、ｐ−トルエンスルホニル基、下記化
９の基等がある。
有機基又はＲ1とＲ2を併せた２価の有機基及びＲ3とし
ての１価の有機基又はＲ3とＲ4を併せた２価の有機基
は、アミノ基を保護する基であり、例えば、Ｒ5ＯＣ
（＝Ｏ）−基（ここで、Ｒ5は１価の有機基を示す）が
あり、具体的には、ベンジルオキシカルボニル基、ｔ−
ブチルカルボニル基、ｐ−メトキシベンジルオキシカル
ボニル基、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル基、ｐ
−ビフェニルイソプロピルオキシカルボニル基、９−フ
ルオレニルメチルオキシカルボニル基等がある。アミノ
基を保護する基としてはさらに、Ｒ6Ｃ（＝Ｏ）−基
（ここで、Ｒ5は水素、アルキル基又はアリール基を示
す）、トリチル基、ｐ−トルエンスルホニル基、下記化
９の基等がある。
【化９】
【００１５】上記一般式（II）で表されるアミノ基が保
護されたフッ素含有ビス（アミノベンゼン）化合物とし
ては、ビス（３−（パーフルオロノネニルオキシ）−４
−アセチルアミノ）ビフェニル、ビス（３−（パーフル
オロノネニルオキシ）−４−（ｐ−トルエンスルホニル
アミノ））ビフェニル、ビス（３−（パーフルオロノネ
ニルオキシ）−４−フタルイミド）ビフェニル、ビス
（３−（パーフルオロノネニルオキシ）−４−ベンジル
オキシカルボニルアミノ）ビフェニル、ビス（３−（パ
ーフルオロノネニルオキシ）−４−（ｔ−ブチルオキシ
カルボニルアミノ））ビフェニル、ビス（３−（パーフ
ルオロノネニルオキシ）−４−（ｐ−メトキシベンジル
オキシカルボニルアミノ））ビフェニル、ビス（３−
（パーフルオロノネニルオキシ）−４−（ｐ−ニトロベ
ンジルオキシカルボニルアミノ））ビフェニル、ビス
（３−（パーフルオロノネニルオキシ）−４−（ｐ−ビ
フェニルイソプロピルオキシカルボニルアミノ））ビフ
ェニル、ビス（３−（パーフルオロノネニルオキシ）−
４−（９−フルオレニルメチルオキシカルボニルアミ
ノ））ビフェニル、ビス（３−（パーフルオロノネニル
オキシ）−４−（アセチルアミノ））ビフェニル、ビス
（３−（パーフルオロノネニルオキシ）−４−（４−ト
ルエンスホニルアミノ））ビフェニル、ビス（３−（パ
ーフルオロノネニルオキシ）−４−（トリチルアミ
ノ））ビフェニル、２，２−ビス（３−（パーフルオロ
ノネニルオキシ）−４−アセチルアミノフェニル）ヘキ
サフルオロプロパン、２，２−ビス（３−（パーフルオ
ロノネニルオキシ）−４−（ｐ−トルエンスルホニルア
ミノ）フェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビ
ス（３−（パーフルオロノネニルオキシ）−４−（フタ
ルイミド）フェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２
−ビス（３−（パーフルオロノネニルオキシ）−４−
（ベンジルオキシカルボニルアミノ）フェニル）ヘキサ
フルオロプロパン、２，２−ビス（３−（パーフルオロ
ノネニルオキシ）−４−（ｔ−ブチルオキシカルボニル
アミノ）フェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−
ビス（３−（パーフルオロノネニルオキシ）−４−（ｐ
−メトキシベンジルオキシカルボニルアミノ）フェニ
ル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（３−（パ
ーフルオロノネニルオキシ）−４−（ｐ−ニトロベンジ
ルオキシカルボニルアミノ）フェニル）ヘキサフルオロ
プロパン、２，２−ビス（３−（パーフルオロノネニル
オキシ）−４−（ｐ−ビフェニルイソプロピルオキシカ
ルボニルアミノ）フェニル）ヘキサフルオロプロパン、
２，２−ビス（３−（パーフルオロノネニルオキシ）−
４−（９−フルオレニルメチルオキシカルボニルアミ
ノ）フェニル）ヘキサフルオロプロパン、ビス（３−ア
セチルアミノ−４−（パーフルオロノネニルオキシ））
ビフェニル、ビス（３−（ｐ−トルエンスルホニルアミ
ノ）−４−（パーフルオロノネニルオキシ））ビフェニ
ル、ビス（３−フタルイミド−４−（パーフルオロノネ
ニルオキシ））ビフェニル、ビス（３−ベンジルオキシ
カルボニルアミノ−４−（パーフルオロノネニルオキ
シ））ビフェニル、ビス（３−（ｔ−ブチルオキシカル
ボニルアミノ）−４−（パーフルオロノネニルオキ
シ））ビフェニル、ビス（３−（ｐ−メトキシベンジル
オキシカルボニルアミノ）−４−（パーフルオロノネニ
ルオキシ））ビフェニル、ビス（３−（ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニルアミノ）−４−（パーフルオロノ
ネニルオキシ））ビフェニル、ビス（３−（ｐ−ビフェ
ニルイソプロピルオキシカルボニルアミノ）−４−（パ
ーフルオロノネニルオキシ））ビフェニル、ビス（３−
（９−フルオレニルメチルオキシカルボニルアミノ）−
４−（パーフルオロノネニルオキシ））ビフェニル、
２，２−ビス（３−アセチルアミノ−４−（パーフルオ
ロノネニルオキシ）フェニル）ヘキサフルオロプロパ
ン、２，２−ビス（３−（ｐ−トルエンスルホニルアミ
ノ）−４−（パーフルオロノネニルオキシ）フェニル）
ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（３−（フタル
イミド）−４−（パーフルオロノネニルオキシ）フェニ
ル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（３−（ベ
ンジルオキシカルボニルアミノ）−４−（パーフルオロ
ノネニルオキシ）フェニル）ヘキサフルオロプロパン、
２，２−ビス（３−（ｔ−ブチルオキシカルボニルアミ
ノ）−４−（パーフルオロノネニルオキシ）フェニル）
ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（３−（ｐ−メ
トキシベンジルオキシカルボニルアミノ）−４−（パー
フルオロノネニルオキシ）フェニル）ヘキサフルオロプ
ロパン、２，２−ビス（３−（ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニルアミノ）−４−（パーフルオロノネニルオ
キシ）フェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビ
ス（３−（ｐ−ビフェニルイソプロピルオキシカルボニ
ルアミノ）−４−（パーフルオロノネニルオキシ）フェ
ニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（３−
（９−フルオレニルメチルオキシカルボニルアミノ）−
４−（パーフルオロノネニルオキシ）フェニル）ヘキサ
フルオロプロパン、２，２−ビス（３−（アセチルアミ
ノ）−４−（パーフルオロノネニルオキシ）フェニル）
ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（３−（４−ト
ルエンスルホニルアミノ）−４−（パーフルオロノネニ
ルオキシ）フェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２
−ビス（３−（トリチルアミノ）−４−（パーフルオロ
ノネニルオキシ）フェニル）ヘキサフルオロプロパン、
等がある。
護されたフッ素含有ビス（アミノベンゼン）化合物とし
ては、ビス（３−（パーフルオロノネニルオキシ）−４
−アセチルアミノ）ビフェニル、ビス（３−（パーフル
オロノネニルオキシ）−４−（ｐ−トルエンスルホニル
アミノ））ビフェニル、ビス（３−（パーフルオロノネ
ニルオキシ）−４−フタルイミド）ビフェニル、ビス
（３−（パーフルオロノネニルオキシ）−４−ベンジル
オキシカルボニルアミノ）ビフェニル、ビス（３−（パ
ーフルオロノネニルオキシ）−４−（ｔ−ブチルオキシ
カルボニルアミノ））ビフェニル、ビス（３−（パーフ
ルオロノネニルオキシ）−４−（ｐ−メトキシベンジル
オキシカルボニルアミノ））ビフェニル、ビス（３−
（パーフルオロノネニルオキシ）−４−（ｐ−ニトロベ
ンジルオキシカルボニルアミノ））ビフェニル、ビス
（３−（パーフルオロノネニルオキシ）−４−（ｐ−ビ
フェニルイソプロピルオキシカルボニルアミノ））ビフ
ェニル、ビス（３−（パーフルオロノネニルオキシ）−
４−（９−フルオレニルメチルオキシカルボニルアミ
ノ））ビフェニル、ビス（３−（パーフルオロノネニル
オキシ）−４−（アセチルアミノ））ビフェニル、ビス
（３−（パーフルオロノネニルオキシ）−４−（４−ト
ルエンスホニルアミノ））ビフェニル、ビス（３−（パ
ーフルオロノネニルオキシ）−４−（トリチルアミ
ノ））ビフェニル、２，２−ビス（３−（パーフルオロ
ノネニルオキシ）−４−アセチルアミノフェニル）ヘキ
サフルオロプロパン、２，２−ビス（３−（パーフルオ
ロノネニルオキシ）−４−（ｐ−トルエンスルホニルア
ミノ）フェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビ
ス（３−（パーフルオロノネニルオキシ）−４−（フタ
ルイミド）フェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２
−ビス（３−（パーフルオロノネニルオキシ）−４−
（ベンジルオキシカルボニルアミノ）フェニル）ヘキサ
フルオロプロパン、２，２−ビス（３−（パーフルオロ
ノネニルオキシ）−４−（ｔ−ブチルオキシカルボニル
アミノ）フェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−
ビス（３−（パーフルオロノネニルオキシ）−４−（ｐ
−メトキシベンジルオキシカルボニルアミノ）フェニ
ル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（３−（パ
ーフルオロノネニルオキシ）−４−（ｐ−ニトロベンジ
ルオキシカルボニルアミノ）フェニル）ヘキサフルオロ
プロパン、２，２−ビス（３−（パーフルオロノネニル
オキシ）−４−（ｐ−ビフェニルイソプロピルオキシカ
ルボニルアミノ）フェニル）ヘキサフルオロプロパン、
２，２−ビス（３−（パーフルオロノネニルオキシ）−
４−（９−フルオレニルメチルオキシカルボニルアミ
ノ）フェニル）ヘキサフルオロプロパン、ビス（３−ア
セチルアミノ−４−（パーフルオロノネニルオキシ））
ビフェニル、ビス（３−（ｐ−トルエンスルホニルアミ
ノ）−４−（パーフルオロノネニルオキシ））ビフェニ
ル、ビス（３−フタルイミド−４−（パーフルオロノネ
ニルオキシ））ビフェニル、ビス（３−ベンジルオキシ
カルボニルアミノ−４−（パーフルオロノネニルオキ
シ））ビフェニル、ビス（３−（ｔ−ブチルオキシカル
ボニルアミノ）−４−（パーフルオロノネニルオキ
シ））ビフェニル、ビス（３−（ｐ−メトキシベンジル
オキシカルボニルアミノ）−４−（パーフルオロノネニ
ルオキシ））ビフェニル、ビス（３−（ｐ−ニトロベン
ジルオキシカルボニルアミノ）−４−（パーフルオロノ
ネニルオキシ））ビフェニル、ビス（３−（ｐ−ビフェ
ニルイソプロピルオキシカルボニルアミノ）−４−（パ
ーフルオロノネニルオキシ））ビフェニル、ビス（３−
（９−フルオレニルメチルオキシカルボニルアミノ）−
４−（パーフルオロノネニルオキシ））ビフェニル、
２，２−ビス（３−アセチルアミノ−４−（パーフルオ
ロノネニルオキシ）フェニル）ヘキサフルオロプロパ
ン、２，２−ビス（３−（ｐ−トルエンスルホニルアミ
ノ）−４−（パーフルオロノネニルオキシ）フェニル）
ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（３−（フタル
イミド）−４−（パーフルオロノネニルオキシ）フェニ
ル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（３−（ベ
ンジルオキシカルボニルアミノ）−４−（パーフルオロ
ノネニルオキシ）フェニル）ヘキサフルオロプロパン、
２，２−ビス（３−（ｔ−ブチルオキシカルボニルアミ
ノ）−４−（パーフルオロノネニルオキシ）フェニル）
ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（３−（ｐ−メ
トキシベンジルオキシカルボニルアミノ）−４−（パー
フルオロノネニルオキシ）フェニル）ヘキサフルオロプ
ロパン、２，２−ビス（３−（ｐ−ニトロベンジルオキ
シカルボニルアミノ）−４−（パーフルオロノネニルオ
キシ）フェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビ
ス（３−（ｐ−ビフェニルイソプロピルオキシカルボニ
ルアミノ）−４−（パーフルオロノネニルオキシ）フェ
ニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（３−
（９−フルオレニルメチルオキシカルボニルアミノ）−
４−（パーフルオロノネニルオキシ）フェニル）ヘキサ
フルオロプロパン、２，２−ビス（３−（アセチルアミ
ノ）−４−（パーフルオロノネニルオキシ）フェニル）
ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（３−（４−ト
ルエンスルホニルアミノ）−４−（パーフルオロノネニ
ルオキシ）フェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２
−ビス（３−（トリチルアミノ）−４−（パーフルオロ
ノネニルオキシ）フェニル）ヘキサフルオロプロパン、
等がある。
【００１６】これらの化合物において、パーフルオロノ
ネニル基とは、一般式(II）におけるＲf が−Ｃ9Ｆ17の
ものであり、パーフルオロヘキセニル基とは一般式（I
I）におけるＲf が−Ｃ6Ｆ11 のものであり、以下も同
様である。
ネニル基とは、一般式(II）におけるＲf が−Ｃ9Ｆ17の
ものであり、パーフルオロヘキセニル基とは一般式（I
I）におけるＲf が−Ｃ6Ｆ11 のものであり、以下も同
様である。
【００１７】前記に例示した化合物において、パーフル
オロノネニル基又はパーフルオロヘキセニル基の代わり
に、−Ｃ10Ｆ19基，−Ｃ12Ｆ23基等を有する化合物も同
様に例示することができる。
オロノネニル基又はパーフルオロヘキセニル基の代わり
に、−Ｃ10Ｆ19基，−Ｃ12Ｆ23基等を有する化合物も同
様に例示することができる。
【００１８】一般式（II）で表わされるアミノ基が保護
されたフッ素含有ビス（アミノベンゼン）化合物の脱保
護反応は、例えば次のような方法で行うことができる。
されたフッ素含有ビス（アミノベンゼン）化合物の脱保
護反応は、例えば次のような方法で行うことができる。
【００１９】前記フッ素含有ビス（アミノベンゼン）化
合物を酢酸エチル，ジメチルホルムアミド，ジメチルア
セトアミド、ベンゼン，キシレン，アセトン，テトラヒ
ドロフラン等の有機溶剤に溶解した溶液にパラジウム炭
素等の触媒の存在下、水素ガスを０〜１００℃（特に好
ましくは室温付近）で通す方法（触媒の使用量は、ジア
ミノベンゼン化合物に対して１〜５０重量％が好まし
く、水素ガスを通す時間は適宜決定すればよいが、通常
１〜１０時間で充分である）、前記ジアミノベンゼン化
合物を前記したような有機溶剤に溶解し、ＨＦ，ＨＢ
ｒ，ＨＣｌ，Ｈ2ＳＯ4等の水素酸を加え、反応させる方
法（水素酸は、フッ素含有ビス（アミノベンゼン）化合
物に対して１〜５０倍当量使用するのが好ましく、ＨＦ
を使用するときは、室温以下、特に０℃以下で反応させ
るのが好ましく、その他の水素酸では０〜１００℃、特
に室温付近で反応させるのが好ましい。さらに、反応時
間は適宜決定されるが、通常、ＨＦを使用する場合、
０.１ 〜１時間、その他の水素酸を使用する場合１〜１
０時間で充分である）、前記フッ素含有ビス（アミノベ
ンゼン）化合物を炭酸水素ナトリウム，炭酸水素カリウ
ム，水酸化ナトリウム，水酸化カリウム等の塩基性化合
物及び水の存在下に反応させる方法（塩基性化合物及び
水は、それぞれフッ素含有ビス（アミノベンゼン）化合
物に対して１〜５０倍当量使用するのが好ましく、反応
は、上記したような有機溶剤の他に、水，メタノール，
エタノール等のアルコール，クレゾール等を溶媒として
用いて行なつてもよい）などがある。
合物を酢酸エチル，ジメチルホルムアミド，ジメチルア
セトアミド、ベンゼン，キシレン，アセトン，テトラヒ
ドロフラン等の有機溶剤に溶解した溶液にパラジウム炭
素等の触媒の存在下、水素ガスを０〜１００℃（特に好
ましくは室温付近）で通す方法（触媒の使用量は、ジア
ミノベンゼン化合物に対して１〜５０重量％が好まし
く、水素ガスを通す時間は適宜決定すればよいが、通常
１〜１０時間で充分である）、前記ジアミノベンゼン化
合物を前記したような有機溶剤に溶解し、ＨＦ，ＨＢ
ｒ，ＨＣｌ，Ｈ2ＳＯ4等の水素酸を加え、反応させる方
法（水素酸は、フッ素含有ビス（アミノベンゼン）化合
物に対して１〜５０倍当量使用するのが好ましく、ＨＦ
を使用するときは、室温以下、特に０℃以下で反応させ
るのが好ましく、その他の水素酸では０〜１００℃、特
に室温付近で反応させるのが好ましい。さらに、反応時
間は適宜決定されるが、通常、ＨＦを使用する場合、
０.１ 〜１時間、その他の水素酸を使用する場合１〜１
０時間で充分である）、前記フッ素含有ビス（アミノベ
ンゼン）化合物を炭酸水素ナトリウム，炭酸水素カリウ
ム，水酸化ナトリウム，水酸化カリウム等の塩基性化合
物及び水の存在下に反応させる方法（塩基性化合物及び
水は、それぞれフッ素含有ビス（アミノベンゼン）化合
物に対して１〜５０倍当量使用するのが好ましく、反応
は、上記したような有機溶剤の他に、水，メタノール，
エタノール等のアルコール，クレゾール等を溶媒として
用いて行なつてもよい）などがある。
【００２０】このようにして得られる一般式（Ｉ）で表
わされるフッ素含有芳香族ジアミン化合物は、カラム分
離、アルコールからの再結晶などにより精製することが
できる。
わされるフッ素含有芳香族ジアミン化合物は、カラム分
離、アルコールからの再結晶などにより精製することが
できる。
【００２１】前記一般式（II）で表されるアミノ基が保
護されたフッ素含有ビス（アミノベンゼン）化合物は下
記化１０〔一般式（III）〕で表されるアミノ基が保護
されたビス（アミノフェノール）化合物とＣnＦ2n（こ
こでｎは６〜１２の整数である）の分子式を有するパー
フルオロアルケンとを有機溶媒中、塩基の存在下に反応
させることを特徴とするの方法により製造することがで
きる。
護されたフッ素含有ビス（アミノベンゼン）化合物は下
記化１０〔一般式（III）〕で表されるアミノ基が保護
されたビス（アミノフェノール）化合物とＣnＦ2n（こ
こでｎは６〜１２の整数である）の分子式を有するパー
フルオロアルケンとを有機溶媒中、塩基の存在下に反応
させることを特徴とするの方法により製造することがで
きる。
【化１０】 〔ただし、一般式（III）中、Ｘは一般式（Ｉ）に同じ
であり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は一般式（II）に同じで
あり、ベンゼンの水素は低級アルキル基、低級アルコキ
シ基、フッ素、塩素または臭素で置換されていてもよ
い〕。
であり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は一般式（II）に同じで
あり、ベンゼンの水素は低級アルキル基、低級アルコキ
シ基、フッ素、塩素または臭素で置換されていてもよ
い〕。
【００２２】前記一般式（III）で表されるアミノ基が
保護されたビス（アミノフェノール）化合物としては、
ビス（３−ヒドロキシ−４−アセチルアミノ）ビフェニ
ル、ビス（３−ヒドロキシ−４−（ｐ−トルエンスルホ
ニルアミノ））ビフェニル、ビス（３−ヒドロキシ−４
−フタルイミド）ビフェニル、ビス（３−ヒドロキシ−
４−ベンジルオキシカルボニルアミノ）ビフェニル、ビ
ス（３−ヒドロキシ−４−（ｔ−ブチルオキシカルボニ
ルアミノ））ビフェニル、ビス（３−ヒドロキシ−４−
（ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニルアミノ））ビ
フェニル、ビス（３−ヒドロキシ−４−（ｐ−ニトロベ
ンジルオキシカルボニルアミノ））ビフェニル、ビス
（３−ヒドロキシ−４−（ｐ−ビフェニルイソプロピル
オキシカルボニルアミノ））ビフェニル、ビス（３−ヒ
ドロキシ−４−（９−フルオレニルメチルオキシカルボ
ニルアミノ））ビフェニル、２，２−ビス（３−ヒドロ
キシ−４−アセチルアミノフェニル）ヘキサフルオロプ
ロパン、２，２−ビス（３−ヒドロキシ−４−（ｐ−ト
ルエンスルホニルアミノ）フェニル）ヘキサフルオロプ
ロパン、２，２−ビス（３−ヒドロキシ−４−（フタル
イミド）フェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−
ビス（３−ヒドロキシ−４−（ベンジルオキシカルボニ
ルアミノ）フェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２
−ビス（３−ヒドロキシ−４−（ｔ−ブチルオキシカル
ボニルアミノ）フェニル）ヘキサフルオロプロパン、
２，２−ビス（３−ヒドロキシ−４−（ｐ−メトキシベ
ンジルオキシカルボニルアミノ）フェニル）ヘキサフル
オロプロパン、２，２−ビス（３−ヒドロキシ−４−
（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルアミノ）フェニ
ル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（３−ヒド
ロキシ−４−（ｐ−ビフェニルイソプロピルオキシカル
ボニルアミノ）フェニル）ヘキサフルオロプロパン、
２，２−ビス（３−ヒドロキシ−４−（９−フルオレニ
ルメチルオキシカルボニルアミノ）フェニル）ヘキサフ
ルオロプロパン、ビス（３−アセチルアミノ−４−ヒド
ロキシ）ビフェニル、ビス（３−（ｐ−トルエンスルホ
ニルアミノ）−４−ヒドロキシ）ビフェニル、ビス（３
−フタルイミド−４−ヒドロキシ）ビフェニル、ビス
（３−ベンジルオキシカルボニルアミノ−４−ヒドロキ
シ）ビフェニル、ビス（３−（ｔ−ブチルオキシカルボ
ニルアミノ）−４−ヒドロキシ）ビフェニル、ビス（３
−（ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニルアミノ）−
４−ヒドロキシ）ビフェニル、ビス（３−（ｐ−ニトロ
ベンジルオキシカルボニルアミノ）−４−ヒドロキシ）
ビフェニル、ビス（３−（ｐ−ビフェニルイソプロピル
オキシカルボニルアミノ）−４−ヒドロキシ）ビフェニ
ル、ビス（３−（９−フルオレニルメチルオキシカルボ
ニルアミノ）−４−ヒドロキシ）ビフェニル、２，２−
ビス（３−アセチルアミノ−４−ヒドロキシフェニル）
ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（３−（ｐ−ト
ルエンスルホニルアミノ）−４−ヒドロキシフェニル）
ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（３−（フタル
イミド）−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプ
ロパン、２，２−ビス（３−（ベンジルオキシカルボニ
ルアミノ）−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロ
プロパン、２，２−ビス（３−（ｔ−ブチルオキシカル
ボニルアミノ）−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフル
オロプロパン、２，２−ビス（３−（ｐ−メトキシベン
ジルオキシカルボニルアミノ）−４−ヒドロキシフェニ
ル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（３−（ｐ
−ニトロベンジルオキシカルボニルアミノ）−４−ヒド
ロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビ
ス（３−（ｐ−ビフェニルイソプロピルオキシカルボニ
ルアミノ）−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロ
プロパン、２，２−ビス（３−（９−フルオレニルメチ
ルオキシカルボニルアミノ）−４−ヒドロキシフェニ
ル）ヘキサフルオロプロパン、等がある。
保護されたビス（アミノフェノール）化合物としては、
ビス（３−ヒドロキシ−４−アセチルアミノ）ビフェニ
ル、ビス（３−ヒドロキシ−４−（ｐ−トルエンスルホ
ニルアミノ））ビフェニル、ビス（３−ヒドロキシ−４
−フタルイミド）ビフェニル、ビス（３−ヒドロキシ−
４−ベンジルオキシカルボニルアミノ）ビフェニル、ビ
ス（３−ヒドロキシ−４−（ｔ−ブチルオキシカルボニ
ルアミノ））ビフェニル、ビス（３−ヒドロキシ−４−
（ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニルアミノ））ビ
フェニル、ビス（３−ヒドロキシ−４−（ｐ−ニトロベ
ンジルオキシカルボニルアミノ））ビフェニル、ビス
（３−ヒドロキシ−４−（ｐ−ビフェニルイソプロピル
オキシカルボニルアミノ））ビフェニル、ビス（３−ヒ
ドロキシ−４−（９−フルオレニルメチルオキシカルボ
ニルアミノ））ビフェニル、２，２−ビス（３−ヒドロ
キシ−４−アセチルアミノフェニル）ヘキサフルオロプ
ロパン、２，２−ビス（３−ヒドロキシ−４−（ｐ−ト
ルエンスルホニルアミノ）フェニル）ヘキサフルオロプ
ロパン、２，２−ビス（３−ヒドロキシ−４−（フタル
イミド）フェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−
ビス（３−ヒドロキシ−４−（ベンジルオキシカルボニ
ルアミノ）フェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２
−ビス（３−ヒドロキシ−４−（ｔ−ブチルオキシカル
ボニルアミノ）フェニル）ヘキサフルオロプロパン、
２，２−ビス（３−ヒドロキシ−４−（ｐ−メトキシベ
ンジルオキシカルボニルアミノ）フェニル）ヘキサフル
オロプロパン、２，２−ビス（３−ヒドロキシ−４−
（ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニルアミノ）フェニ
ル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（３−ヒド
ロキシ−４−（ｐ−ビフェニルイソプロピルオキシカル
ボニルアミノ）フェニル）ヘキサフルオロプロパン、
２，２−ビス（３−ヒドロキシ−４−（９−フルオレニ
ルメチルオキシカルボニルアミノ）フェニル）ヘキサフ
ルオロプロパン、ビス（３−アセチルアミノ−４−ヒド
ロキシ）ビフェニル、ビス（３−（ｐ−トルエンスルホ
ニルアミノ）−４−ヒドロキシ）ビフェニル、ビス（３
−フタルイミド−４−ヒドロキシ）ビフェニル、ビス
（３−ベンジルオキシカルボニルアミノ−４−ヒドロキ
シ）ビフェニル、ビス（３−（ｔ−ブチルオキシカルボ
ニルアミノ）−４−ヒドロキシ）ビフェニル、ビス（３
−（ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニルアミノ）−
４−ヒドロキシ）ビフェニル、ビス（３−（ｐ−ニトロ
ベンジルオキシカルボニルアミノ）−４−ヒドロキシ）
ビフェニル、ビス（３−（ｐ−ビフェニルイソプロピル
オキシカルボニルアミノ）−４−ヒドロキシ）ビフェニ
ル、ビス（３−（９−フルオレニルメチルオキシカルボ
ニルアミノ）−４−ヒドロキシ）ビフェニル、２，２−
ビス（３−アセチルアミノ−４−ヒドロキシフェニル）
ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（３−（ｐ−ト
ルエンスルホニルアミノ）−４−ヒドロキシフェニル）
ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（３−（フタル
イミド）−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプ
ロパン、２，２−ビス（３−（ベンジルオキシカルボニ
ルアミノ）−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロ
プロパン、２，２−ビス（３−（ｔ−ブチルオキシカル
ボニルアミノ）−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフル
オロプロパン、２，２−ビス（３−（ｐ−メトキシベン
ジルオキシカルボニルアミノ）−４−ヒドロキシフェニ
ル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（３−（ｐ
−ニトロベンジルオキシカルボニルアミノ）−４−ヒド
ロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビ
ス（３−（ｐ−ビフェニルイソプロピルオキシカルボニ
ルアミノ）−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロ
プロパン、２，２−ビス（３−（９−フルオレニルメチ
ルオキシカルボニルアミノ）−４−ヒドロキシフェニ
ル）ヘキサフルオロプロパン、等がある。
【００２３】前記パーフルオロアルケンとしては、ヘキ
サフルオロプロペン、テトラフルオロエチレン等のオリ
ゴマーなどを挙げることができる。このようなオリゴマ
ーの具体例としては、下記化１１、化１２、化１３、化
１４、化１５等の化合物がある。
サフルオロプロペン、テトラフルオロエチレン等のオリ
ゴマーなどを挙げることができる。このようなオリゴマ
ーの具体例としては、下記化１１、化１２、化１３、化
１４、化１５等の化合物がある。
【００２４】
【化１１】
【化１２】
【化１３】
【化１４】
【化１５】
【００２５】前記一般式（III）で表されるアミノ基が
保護されたビス(アミノフェノール)化合物とパーフルオ
ロアルケンの反応に使用される塩基としては、トリエチ
ルアミン、トリメチルアミン、トリプロピルアミン等の
アミン類、アルカリ金属、アルカリ金属の水酸化物等が
あり、この反応に際して使用される有機溶媒としては、
アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスル
ホキシド等の非プロトン性極性溶媒が好適である。
保護されたビス(アミノフェノール)化合物とパーフルオ
ロアルケンの反応に使用される塩基としては、トリエチ
ルアミン、トリメチルアミン、トリプロピルアミン等の
アミン類、アルカリ金属、アルカリ金属の水酸化物等が
あり、この反応に際して使用される有機溶媒としては、
アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスル
ホキシド等の非プロトン性極性溶媒が好適である。
【００２６】前記パーフルオロアルケン及び前記の塩基
は、それぞれ、前記一般式（III）で表されるアミノ基
が保護されたビス(アミノフェノール)化合物１モルに対
して１〜１０モル及び１〜２０モル使用するのが好まし
い。また、前記の反応は、−２０〜１００℃の範囲内の
温度で行うのが好ましく、特に０〜４０℃の範囲内の温
度で行うのが好ましい。
は、それぞれ、前記一般式（III）で表されるアミノ基
が保護されたビス(アミノフェノール)化合物１モルに対
して１〜１０モル及び１〜２０モル使用するのが好まし
い。また、前記の反応は、−２０〜１００℃の範囲内の
温度で行うのが好ましく、特に０〜４０℃の範囲内の温
度で行うのが好ましい。
【００２７】前記の反応によって、一般式（II）で表さ
れるアミノ基が保護されたフッ素含有ビス（アミノベン
ゼン）化合物が得られるが、これは、溶媒留去、貧溶媒
と混合して沈殿させる方法等により分離して次の反応に
供してもよく、場合により反応液のまま次の反応に供し
てもよい。
れるアミノ基が保護されたフッ素含有ビス（アミノベン
ゼン）化合物が得られるが、これは、溶媒留去、貧溶媒
と混合して沈殿させる方法等により分離して次の反応に
供してもよく、場合により反応液のまま次の反応に供し
てもよい。
【００２８】前記一般式（III）で表されるアミノ基が
保護されたビス(アミノフェノール)化合物は、化１６
〔一般式（IV）〕
保護されたビス(アミノフェノール)化合物は、化１６
〔一般式（IV）〕
【化１６】 〔ただし、一般式（IV）中、Ｘは２価の有機基を示す〕
で表されるビス（アミノフェノール）化合物と保護基供
給化合物を反応させることを特徴とする方法により製造
することができる。
で表されるビス（アミノフェノール）化合物と保護基供
給化合物を反応させることを特徴とする方法により製造
することができる。
【００２９】前記一般式（IV）で表されるビス（アミノ
フェノール）化合物としては、ビス（３−ヒドロキシ−
４−アミノ）ビフェニル、２，２−ビス（３−ヒドロキ
シ−４−アミノ）ヘキサフルオロプロパン、ビス（３−
アミノ−４−ヒドロキシ）ビフェニル、２，２−ビス
（３−アミノ−４−ヒドロキシ）ヘキサフルオロプロパ
ン等がある。また、前記保護基供給化合物としては、ベ
ンジルオキシカルボニルクロライド、ｔ−ブトキシカル
ボニルクロライド、ｐ−メトキシベンジルオキシカルボ
ニルクロライド、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル
クロライド、ｐ−ビフェニルイソプロピルオキシカルボ
ニルクロライド、９−フルオレニルメチルオキシカルボ
ニルクロライド等のウレタン型保護試薬、トシルクロラ
イド、ｐ−トルエンスルホニルクロライド等のアリルス
ルホニル型保護試薬、無水酢酸等の酸無水物等がある。
フェノール）化合物としては、ビス（３−ヒドロキシ−
４−アミノ）ビフェニル、２，２−ビス（３−ヒドロキ
シ−４−アミノ）ヘキサフルオロプロパン、ビス（３−
アミノ−４−ヒドロキシ）ビフェニル、２，２−ビス
（３−アミノ−４−ヒドロキシ）ヘキサフルオロプロパ
ン等がある。また、前記保護基供給化合物としては、ベ
ンジルオキシカルボニルクロライド、ｔ−ブトキシカル
ボニルクロライド、ｐ−メトキシベンジルオキシカルボ
ニルクロライド、ｐ−ニトロベンジルオキシカルボニル
クロライド、ｐ−ビフェニルイソプロピルオキシカルボ
ニルクロライド、９−フルオレニルメチルオキシカルボ
ニルクロライド等のウレタン型保護試薬、トシルクロラ
イド、ｐ−トルエンスルホニルクロライド等のアリルス
ルホニル型保護試薬、無水酢酸等の酸無水物等がある。
【００３０】前記ビス（アミノフェノール）化合物と保
護基供給化合物との反応は、例えば次のようにして行う
ことができる。前記ビス（アミノフェノール）化合物を
ベンゼン、キシレン、テトラヒドロフラン、ジエチルエ
ーテル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド
等の有機溶剤で乾燥したものに溶解した溶液を調整す
る。この溶液にピリジン等の塩基を存在させ、ウレタン
型保護試薬又はアリルスルホニル型保護試薬を−２０〜
６０℃の範囲内の温度（特に好ましくは、０℃付近）下
に添加して反応させる。この場合、塩基の使用量はビス
（アミノフェノール）化合物に対して０．７〜３倍当量
が好ましく、ウレタン型保護試薬の使用量はビス（アミ
ノフェノール）化合物に対して１〜２倍当量が好まし
く、反応時間は適宜決定すればよいが、通常１〜２４時
間である。また、前記ビス（アミノフェノール）化合物
を前記したような有機溶剤に溶解し、酢酸等の酸の存在
下に、無水酢酸等の酸無水物を０〜１５０℃の範囲内の
温度（特に好ましくは、室温付近）下に添加して反応さ
せる。この場合、酸の使用量はビス（アミノフェノー
ル）化合物に対して１〜１０倍当量が好ましく、酸無水
物の使用量はビス（アミノフェノール）化合物に対して
１〜２倍当量が好ましく、反応時間は適宜決定すればよ
いが、通常１〜２４時間である。以上のようにして得ら
れる一般式(III)で表されるアミノ基が保護されたビス
（アミノフェノール）化合物は、カラム分離、再結晶等
により精製することができる。
護基供給化合物との反応は、例えば次のようにして行う
ことができる。前記ビス（アミノフェノール）化合物を
ベンゼン、キシレン、テトラヒドロフラン、ジエチルエ
ーテル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド
等の有機溶剤で乾燥したものに溶解した溶液を調整す
る。この溶液にピリジン等の塩基を存在させ、ウレタン
型保護試薬又はアリルスルホニル型保護試薬を−２０〜
６０℃の範囲内の温度（特に好ましくは、０℃付近）下
に添加して反応させる。この場合、塩基の使用量はビス
（アミノフェノール）化合物に対して０．７〜３倍当量
が好ましく、ウレタン型保護試薬の使用量はビス（アミ
ノフェノール）化合物に対して１〜２倍当量が好まし
く、反応時間は適宜決定すればよいが、通常１〜２４時
間である。また、前記ビス（アミノフェノール）化合物
を前記したような有機溶剤に溶解し、酢酸等の酸の存在
下に、無水酢酸等の酸無水物を０〜１５０℃の範囲内の
温度（特に好ましくは、室温付近）下に添加して反応さ
せる。この場合、酸の使用量はビス（アミノフェノー
ル）化合物に対して１〜１０倍当量が好ましく、酸無水
物の使用量はビス（アミノフェノール）化合物に対して
１〜２倍当量が好ましく、反応時間は適宜決定すればよ
いが、通常１〜２４時間である。以上のようにして得ら
れる一般式(III)で表されるアミノ基が保護されたビス
（アミノフェノール）化合物は、カラム分離、再結晶等
により精製することができる。
【００３１】
実施例１ ２，２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）
ヘキサフルオロプロパン１４．６４ｇ（４０．０ｍｍｏ
ｌ）に乾燥ＴＨＦ１６０ｍＬを加え、７０℃に加熱して
溶解させた後、酢酸９．６０ｇ（１６０．０ｍｍｏｌ）
を加えた。ここに、無水酢酸９．８０ｇ（９６．０ｍｍ
ｏｌ）を滴下した。滴下終了後７０℃で１時間加熱した
後、室温で３時間かくはんを続けた。この反応溶液を室
温で放置すると、白色沈殿が析出した。この沈殿をろ過
し、水で洗浄した後、減圧乾燥して、２，２−ビス（３
−アセチルアミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフ
ルオロプロパン１７．８２ｇを得た（収率９９％）。
ヘキサフルオロプロパン１４．６４ｇ（４０．０ｍｍｏ
ｌ）に乾燥ＴＨＦ１６０ｍＬを加え、７０℃に加熱して
溶解させた後、酢酸９．６０ｇ（１６０．０ｍｍｏｌ）
を加えた。ここに、無水酢酸９．８０ｇ（９６．０ｍｍ
ｏｌ）を滴下した。滴下終了後７０℃で１時間加熱した
後、室温で３時間かくはんを続けた。この反応溶液を室
温で放置すると、白色沈殿が析出した。この沈殿をろ過
し、水で洗浄した後、減圧乾燥して、２，２−ビス（３
−アセチルアミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフ
ルオロプロパン１７．８２ｇを得た（収率９９％）。
【００３２】上記で得た２，２−ビス（３−アセチルア
ミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパ
ンの融点、赤外線吸収スペクトル（ＩＲスペクトル）及
び核磁気共鳴スペクトル（ＮＭＲスペクトル）は次のと
おりである。 （１）融点 ３２９〜３３１℃ （２）ＩＲスペクトル〔ν（ｃｍ-1)〕 ３４２０（Ｍ−Ｈ，アミド）、３１０８（Ｏ−Ｈ）、１
６６０（Ｃ＝Ｏ，アミド）。図１にスペクトルを示す。 （３）1Ｈ−ＮＭＲスペクトル〔δ（ｐｐｍ）、ジメチ
ルスルホキシド（ＤＭＳＯ）ｄ6〕 １０．３３（ｓ，２Ｈ，ＮＨ）、９．３５（ｓ，２Ｈ，
ＮＨ）、７．９０（ｓ，２Ｈ，芳香族）、２．０５
（ｓ，２Ｈ，メチル基）。図２にスペクトルを示す。
ミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパ
ンの融点、赤外線吸収スペクトル（ＩＲスペクトル）及
び核磁気共鳴スペクトル（ＮＭＲスペクトル）は次のと
おりである。 （１）融点 ３２９〜３３１℃ （２）ＩＲスペクトル〔ν（ｃｍ-1)〕 ３４２０（Ｍ−Ｈ，アミド）、３１０８（Ｏ−Ｈ）、１
６６０（Ｃ＝Ｏ，アミド）。図１にスペクトルを示す。 （３）1Ｈ−ＮＭＲスペクトル〔δ（ｐｐｍ）、ジメチ
ルスルホキシド（ＤＭＳＯ）ｄ6〕 １０．３３（ｓ，２Ｈ，ＮＨ）、９．３５（ｓ，２Ｈ，
ＮＨ）、７．９０（ｓ，２Ｈ，芳香族）、２．０５
（ｓ，２Ｈ，メチル基）。図２にスペクトルを示す。
【００３３】上記化合物の構造は化１７のとおりであ
る。
る。
【化１７】
【００３４】２，２−ビス（３−アセチルアミノ−４−
ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン９．００
ｇ（２０．０ｍｍｏｌ）にＤＭＦ１２０ｍＬ、ヘキサフ
ルオロプロペントリマー２１．６ｇ（４８．０ｍｍｏ
ｌ）を加え、水浴上でかくはんしながら、トリエチルア
ミン４．４４ｇ（４４．０ｍｍｏｌ）のＤＭＦ溶液（４
０ｍＬ）を滴下した。室温で２４時間反応させた後、反
応溶液を３Ｌの水に注いだ。生じた黄色沈殿をろ過し、
水で洗浄後減圧乾燥して、２，２−ビス（３−アセチル
アミノ−４−（パーフルオロノネニルオキシ）フェニ
ル）ヘキサフルオロプロパン１７．０３ｇを得た（収率
６５％）。
ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン９．００
ｇ（２０．０ｍｍｏｌ）にＤＭＦ１２０ｍＬ、ヘキサフ
ルオロプロペントリマー２１．６ｇ（４８．０ｍｍｏ
ｌ）を加え、水浴上でかくはんしながら、トリエチルア
ミン４．４４ｇ（４４．０ｍｍｏｌ）のＤＭＦ溶液（４
０ｍＬ）を滴下した。室温で２４時間反応させた後、反
応溶液を３Ｌの水に注いだ。生じた黄色沈殿をろ過し、
水で洗浄後減圧乾燥して、２，２−ビス（３−アセチル
アミノ−４−（パーフルオロノネニルオキシ）フェニ
ル）ヘキサフルオロプロパン１７．０３ｇを得た（収率
６５％）。
【００３５】２，２−ビス（３−アセチルアミノ−４−
（パーフルオロノネニルオキシ）フェニル）ヘキサフル
オロプロパンｇ（１０．０ｍｍｏｌ）に３Ｎ塩酸メタノ
ール２０ｍＬを加え、還流温度で５時間加熱した。反応
溶液を４００ｍＬの水に注ぎ、１０％炭酸カリウム水溶
液をＰＨ１０になるまで加え、沈でん及び水層をエーテ
ル４００ｍＬで抽出した。エーテル層を硫酸マグネシウ
ムで乾燥した後、エーテルを減圧留去して、２，２−ビ
ス（３−アセチルアミノ−４−（パーフルオロノネニル
オキシ）フェニル）ヘキサフルオロプロパン１１．４０
ｇを得た（収率９３％）。
（パーフルオロノネニルオキシ）フェニル）ヘキサフル
オロプロパンｇ（１０．０ｍｍｏｌ）に３Ｎ塩酸メタノ
ール２０ｍＬを加え、還流温度で５時間加熱した。反応
溶液を４００ｍＬの水に注ぎ、１０％炭酸カリウム水溶
液をＰＨ１０になるまで加え、沈でん及び水層をエーテ
ル４００ｍＬで抽出した。エーテル層を硫酸マグネシウ
ムで乾燥した後、エーテルを減圧留去して、２，２−ビ
ス（３−アセチルアミノ−４−（パーフルオロノネニル
オキシ）フェニル）ヘキサフルオロプロパン１１．４０
ｇを得た（収率９３％）。
【００３６】実施例２ ２，２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）
ヘキサフルオロプロパン１４．６４ｇ（４０．０ｍｍｏ
ｌ）に乾燥ＴＨＦ３００ｍＬを加え、ピリジン７．５８
ｇ（９６．０ｍｍｏｌ）を加えた。ここに、氷浴上、窒
素気流下で、ベンジルオキシカルボニルクロライドの３
０％トルエン溶液５４．５６ｇ（９６．０ｍｍｏｌ）を
滴下した。滴下終了後０℃で５時間、室温で１６時間か
くはんした。生じた沈でんをろ過し、ろ液を２Ｌの水に
注いで沈でんさせた。白色沈でんを水で洗浄した後、減
圧乾燥して、２，２−ビス（３−ベンジルオキシカルボ
ニルルアミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオ
ロプロパン２０．５４ｇを得た（収率８１％）。
ヘキサフルオロプロパン１４．６４ｇ（４０．０ｍｍｏ
ｌ）に乾燥ＴＨＦ３００ｍＬを加え、ピリジン７．５８
ｇ（９６．０ｍｍｏｌ）を加えた。ここに、氷浴上、窒
素気流下で、ベンジルオキシカルボニルクロライドの３
０％トルエン溶液５４．５６ｇ（９６．０ｍｍｏｌ）を
滴下した。滴下終了後０℃で５時間、室温で１６時間か
くはんした。生じた沈でんをろ過し、ろ液を２Ｌの水に
注いで沈でんさせた。白色沈でんを水で洗浄した後、減
圧乾燥して、２，２−ビス（３−ベンジルオキシカルボ
ニルルアミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオ
ロプロパン２０．５４ｇを得た（収率８１％）。
【００３７】２，２−ビス（３−ベンジルオキシカルボ
ニルアミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロ
プロパン１２．６８ｇ（２０．０ｍｍｏｌ）にＤＭＦ１
２０ｍＬ、ヘキサフルオロプロペントリマー２１．６ｇ
（４８．０ｍｍｏｌ）を加え、水浴上でかくはんしなが
ら、トリエチルアミン４．４４ｇ（４４．０ｍｍｏｌ）
のＤＭＦ溶液（４０ｍＬ）を滴下した。室温で２４時間
反応させた後、反応溶液を３Ｌの水に注いだ。生じた沈
殿をろ過し、水で洗浄後減圧乾燥して、２，２−ビス
（３−ベンジルオキシカルボニルアミノ−４−（パーフ
ルオロノネニルオキシ）フェニル）ヘキサフルオロプロ
パン２５．４０ｇを得た（収率８５％）。
ニルアミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロ
プロパン１２．６８ｇ（２０．０ｍｍｏｌ）にＤＭＦ１
２０ｍＬ、ヘキサフルオロプロペントリマー２１．６ｇ
（４８．０ｍｍｏｌ）を加え、水浴上でかくはんしなが
ら、トリエチルアミン４．４４ｇ（４４．０ｍｍｏｌ）
のＤＭＦ溶液（４０ｍＬ）を滴下した。室温で２４時間
反応させた後、反応溶液を３Ｌの水に注いだ。生じた沈
殿をろ過し、水で洗浄後減圧乾燥して、２，２−ビス
（３−ベンジルオキシカルボニルアミノ−４−（パーフ
ルオロノネニルオキシ）フェニル）ヘキサフルオロプロ
パン２５．４０ｇを得た（収率８５％）。
【００３８】２，２−ビス（３−ベンジルオキシカルボ
ニルアミノ−４−（パーフルオロノネニルオキシ）フェ
ニル）ヘキサフルオロプロパン１４．９４ｇ（１０．０
ｍｍｏｌ）をＴＨＦ１００ｍＬに溶解させ、５％パラジ
ウム／カーボン７．４７ｇを加え、水素気流下、室温で
５時間かくはんした。触媒をろ別した後、ＴＨＦを減圧
留去して、２，２−ビス（３−アセチルアミノ−４−
（パーフルオロノネニルオキシ）フェニル）ヘキサフル
オロプロパン１１．０３ｇを得た（収率９０％）。
ニルアミノ−４−（パーフルオロノネニルオキシ）フェ
ニル）ヘキサフルオロプロパン１４．９４ｇ（１０．０
ｍｍｏｌ）をＴＨＦ１００ｍＬに溶解させ、５％パラジ
ウム／カーボン７．４７ｇを加え、水素気流下、室温で
５時間かくはんした。触媒をろ別した後、ＴＨＦを減圧
留去して、２，２−ビス（３−アセチルアミノ−４−
（パーフルオロノネニルオキシ）フェニル）ヘキサフル
オロプロパン１１．０３ｇを得た（収率９０％）。
【００３９】実施例３ ２，２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）
ヘキサフルオロプロパン１４．６４ｇ（４０．０ｍｍｏ
ｌ）に、乾燥ＴＨＦ１００ｍＬ、ピリジン６．９６ｇ
（８８．０ｍｍｏｌ）を加え、窒素気流下、氷浴上でか
くはんしながら、ｐ−トルエンスルホニルクロライド
（トシルクロライド）１５．２４ｇ（４０．０ｍｍｏ
ｌ）のＴＨＦ溶液（３０ｍＬ）を滴下した。滴下後、０
℃で６時間、室温で２時間反応させ、生じたピリジン塩
酸塩の白色沈殿をろ過して除き、ろ液を減圧留去した。
ここに、アセトン４０ｍＬを加えて溶解させ、１Ｌの水
に注いで再沈殿させた。これを水で洗浄した後に、減圧
乾燥して２，２−ビス（３−トシルアミノ−４−ヒドロ
キシフェニル）ヘキサフルオロプロパン２５．３４ｇを
得た（収率９４％）。
ヘキサフルオロプロパン１４．６４ｇ（４０．０ｍｍｏ
ｌ）に、乾燥ＴＨＦ１００ｍＬ、ピリジン６．９６ｇ
（８８．０ｍｍｏｌ）を加え、窒素気流下、氷浴上でか
くはんしながら、ｐ−トルエンスルホニルクロライド
（トシルクロライド）１５．２４ｇ（４０．０ｍｍｏ
ｌ）のＴＨＦ溶液（３０ｍＬ）を滴下した。滴下後、０
℃で６時間、室温で２時間反応させ、生じたピリジン塩
酸塩の白色沈殿をろ過して除き、ろ液を減圧留去した。
ここに、アセトン４０ｍＬを加えて溶解させ、１Ｌの水
に注いで再沈殿させた。これを水で洗浄した後に、減圧
乾燥して２，２−ビス（３−トシルアミノ−４−ヒドロ
キシフェニル）ヘキサフルオロプロパン２５．３４ｇを
得た（収率９４％）。
【００４０】上記で得た２，２−ビス（３−トシルアミ
ノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン
の融点、ＩＲスペクトル及び1Ｈ−ＮＭＲスペクトルは
次のとおりである。 （１）融点 ２２７〜２２９℃ （２）ＩＲスペクトル〔ν（ｃｍ-1)〕 ３４４０（Ｍ−Ｈ，アミド）、３２７２（Ｏ−Ｈ）、１
３９６、１１６４（ＳＯ2）、１２５６（Ｃ−Ｆ）。図
３にスペクトルを示す。 （３）1Ｈ−ＮＭＲスペクトル〔δ（ｐｐｍ）、ＤＭＳ
Ｏｄ6〕 ９．１８（ｓ，２Ｈ，ＮＨ）、８．１０（ｓ，２Ｈ，Ｏ
Ｈ）、７．６０（ｍ，４Ｈ，芳香族）、２．３５（ｓ，
６Ｈ，メチル基）。図４にスペクトルを示す。
ノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン
の融点、ＩＲスペクトル及び1Ｈ−ＮＭＲスペクトルは
次のとおりである。 （１）融点 ２２７〜２２９℃ （２）ＩＲスペクトル〔ν（ｃｍ-1)〕 ３４４０（Ｍ−Ｈ，アミド）、３２７２（Ｏ−Ｈ）、１
３９６、１１６４（ＳＯ2）、１２５６（Ｃ−Ｆ）。図
３にスペクトルを示す。 （３）1Ｈ−ＮＭＲスペクトル〔δ（ｐｐｍ）、ＤＭＳ
Ｏｄ6〕 ９．１８（ｓ，２Ｈ，ＮＨ）、８．１０（ｓ，２Ｈ，Ｏ
Ｈ）、７．６０（ｍ，４Ｈ，芳香族）、２．３５（ｓ，
６Ｈ，メチル基）。図４にスペクトルを示す。
【００４１】上記化合物の構造は化１８のとおりであ
る。
る。
【化１８】
【００４２】２，２−ビス（３−トシルアミノ−４−ヒ
ドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン１３．４８
ｇ（２０．０ｍｍｏｌ）にＤＭＦ１２０ｍＬ、ヘキサフ
ルオロプロペントリマー２１．６ｇ（４８．０ｍｍｏ
ｌ）を加え、水浴上でかくはんしながら、トリエチルア
ミン４．４４ｇ（４４．０ｍｍｏｌ）のＤＭＦ溶液（４
０ｍＬ）を滴下した。室温で２４時間反応させた後、反
応溶液を３Ｌの水に注いだ。生じた黄色沈殿をろ過し、
水で洗浄後減圧乾燥して、２，２−ビス（３−トシルア
ミノ−４−（パーフルオロノネニルオキシ）フェニル）
ヘキサフルオロプロパン２１．１７ｇを得た（収率６９
％）。
ドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン１３．４８
ｇ（２０．０ｍｍｏｌ）にＤＭＦ１２０ｍＬ、ヘキサフ
ルオロプロペントリマー２１．６ｇ（４８．０ｍｍｏ
ｌ）を加え、水浴上でかくはんしながら、トリエチルア
ミン４．４４ｇ（４４．０ｍｍｏｌ）のＤＭＦ溶液（４
０ｍＬ）を滴下した。室温で２４時間反応させた後、反
応溶液を３Ｌの水に注いだ。生じた黄色沈殿をろ過し、
水で洗浄後減圧乾燥して、２，２−ビス（３−トシルア
ミノ−４−（パーフルオロノネニルオキシ）フェニル）
ヘキサフルオロプロパン２１．１７ｇを得た（収率６９
％）。
【００４３】上記で得た２，２−ビス（３−トシルアミ
ノ−４−（パーフルオロノネニルオキシ）フェニル）ヘ
キサフルオロプロパンのＩＲスペクトル、1Ｈ−ＮＭＲ
スペクトル及び19Ｆ−ＮＭＲスペクトルは次のとおりで
ある。 （１）ＩＲスペクトル〔ν（ｃｍ-1)〕 ３４１６（Ｍ−Ｈ，アミド）、１４０４、１１７０（Ｓ
Ｏ2）、１２４６（Ｃ−Ｆ）。図５にスペクトルを示
す。 （２）1Ｈ−ＮＭＲスペクトル〔δ（ｐｐｍ）、アセト
ンｄ6〕 ９．１６（ｓ，２Ｈ，ＮＨ）、８．００〜６．８２
（ｍ，１４Ｈ，芳香族） 、２．３７（ｓ，６Ｈ，
メチル基）。図６にスペクトルを示す。 （３）19Ｆ−ＮＭＲスペクトル〔δ（ｐｐｍ）、アセト
ンｄ6〕 １１．６７（ｄ，６Ｆ，ＣＦ3）、３．５６（ｄ，６
Ｆ，ＣＦ3）、−２．４０（ｓ，６Ｆ，ＣＦ3）、−３．
４８（ｓ，６Ｆ，ＣＦ3）、−４．２６（ｓ，６Ｆ，Ｃ
Ｆ3）、−６．１３（ｓ，６Ｆ，ＣＦ3）、−９９．３０
（ｑ，２Ｆ，ＣＦ）、−１０１．７０（ｑ，２Ｆ，Ｃ
Ｆ）。図７にスペクトルを示す。
ノ−４−（パーフルオロノネニルオキシ）フェニル）ヘ
キサフルオロプロパンのＩＲスペクトル、1Ｈ−ＮＭＲ
スペクトル及び19Ｆ−ＮＭＲスペクトルは次のとおりで
ある。 （１）ＩＲスペクトル〔ν（ｃｍ-1)〕 ３４１６（Ｍ−Ｈ，アミド）、１４０４、１１７０（Ｓ
Ｏ2）、１２４６（Ｃ−Ｆ）。図５にスペクトルを示
す。 （２）1Ｈ−ＮＭＲスペクトル〔δ（ｐｐｍ）、アセト
ンｄ6〕 ９．１６（ｓ，２Ｈ，ＮＨ）、８．００〜６．８２
（ｍ，１４Ｈ，芳香族） 、２．３７（ｓ，６Ｈ，
メチル基）。図６にスペクトルを示す。 （３）19Ｆ−ＮＭＲスペクトル〔δ（ｐｐｍ）、アセト
ンｄ6〕 １１．６７（ｄ，６Ｆ，ＣＦ3）、３．５６（ｄ，６
Ｆ，ＣＦ3）、−２．４０（ｓ，６Ｆ，ＣＦ3）、−３．
４８（ｓ，６Ｆ，ＣＦ3）、−４．２６（ｓ，６Ｆ，Ｃ
Ｆ3）、−６．１３（ｓ，６Ｆ，ＣＦ3）、−９９．３０
（ｑ，２Ｆ，ＣＦ）、−１０１．７０（ｑ，２Ｆ，Ｃ
Ｆ）。図７にスペクトルを示す。
【００４４】上記化合物の構造は化１９のとおりであ
る。
る。
【化１９】
【００４５】２，２−ビス（３−トシルアミノ−４−
（パーフルオロノネニルオキシ）フェニル）ヘキサフル
オロプロパン１５．３５ｇ（１０．０ｍｍｏｌ）に濃硫
酸１５０ｍＬを加え、８０℃で３０分加熱、かくはんし
た。反応溶液を１．５Ｌの氷水に注ぎ、生じた沈殿をエ
ーテル１．５Ｌで抽出した。次に、このエーテル層を１
０％炭酸カリウム水溶液、飽和食塩水の順序で洗浄し、
硫酸マグネシウムを加えて一晩乾燥させた。エーテルを
減圧留去し、２，２−ビス（３−アミノ−４−（パーフ
ルオロノネニルオキシ）フェニル）ヘキサフルオロプロ
パン５．０３ｇを得た（収率４１％）。
（パーフルオロノネニルオキシ）フェニル）ヘキサフル
オロプロパン１５．３５ｇ（１０．０ｍｍｏｌ）に濃硫
酸１５０ｍＬを加え、８０℃で３０分加熱、かくはんし
た。反応溶液を１．５Ｌの氷水に注ぎ、生じた沈殿をエ
ーテル１．５Ｌで抽出した。次に、このエーテル層を１
０％炭酸カリウム水溶液、飽和食塩水の順序で洗浄し、
硫酸マグネシウムを加えて一晩乾燥させた。エーテルを
減圧留去し、２，２−ビス（３−アミノ−４−（パーフ
ルオロノネニルオキシ）フェニル）ヘキサフルオロプロ
パン５．０３ｇを得た（収率４１％）。
【００４６】実施例１〜３で得られた２，２−ビス（３
−アミノ−４−（パーフルオロノネニルオキシ）フェニ
ル）ヘキサフルオロプロパンの精製は、エーテル／ヘキ
サンを用いたカラム分離により行った。次に分析データ
を示す。 （１）融点 １７５−１８０℃ （２）ＩＲスペクトル（KBr ）ν（cm-1） ３５１６，３４３２（ＮＨ2 ），１２４２（Ｃ−Ｆ） スペクトルを第８図に示す。 （３） 1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（溶媒アセトンd6 ，Ｔ
ＭＳ標準）δ（ppm ） ６．９８−６．９０（ｍ，４Ｈ，aromatic），６．６９
−６．６６（ｍ，２Ｈ，aromatic），５．１１（ｓ，４
Ｈ，amine ） スペクトルを第９図に示す。 （４）19Ｆ−ＮＭＲスペクトル（溶媒acetoned6 ，ベン
ゾトリフルオライド標準） δ（ppm ） １０．３５（ｄ，６Ｆ，ＣＦ3 ），３．８２（ｓ，６
Ｆ，ＣＦ3 ），−２．８８（ｓ，６Ｆ，ＣＦ3 ），−
３．９１（ｄ，６Ｆ，ＣＦ3 ），−４．４０（ｓ，６
Ｆ，ＣＦ3 ），−５．７０（ｓ，６Ｆ，ＣＦ3 ），−９
９．１８（ｑ，２Ｆ，ＣＦ），−１０１．７４（ｍ，２
Ｆ，ＣＦ） スペクトルを第１０図に示す。 （５）元素分析値（％）：表１のとおり
−アミノ−４−（パーフルオロノネニルオキシ）フェニ
ル）ヘキサフルオロプロパンの精製は、エーテル／ヘキ
サンを用いたカラム分離により行った。次に分析データ
を示す。 （１）融点 １７５−１８０℃ （２）ＩＲスペクトル（KBr ）ν（cm-1） ３５１６，３４３２（ＮＨ2 ），１２４２（Ｃ−Ｆ） スペクトルを第８図に示す。 （３） 1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（溶媒アセトンd6 ，Ｔ
ＭＳ標準）δ（ppm ） ６．９８−６．９０（ｍ，４Ｈ，aromatic），６．６９
−６．６６（ｍ，２Ｈ，aromatic），５．１１（ｓ，４
Ｈ，amine ） スペクトルを第９図に示す。 （４）19Ｆ−ＮＭＲスペクトル（溶媒acetoned6 ，ベン
ゾトリフルオライド標準） δ（ppm ） １０．３５（ｄ，６Ｆ，ＣＦ3 ），３．８２（ｓ，６
Ｆ，ＣＦ3 ），−２．８８（ｓ，６Ｆ，ＣＦ3 ），−
３．９１（ｄ，６Ｆ，ＣＦ3 ），−４．４０（ｓ，６
Ｆ，ＣＦ3 ），−５．７０（ｓ，６Ｆ，ＣＦ3 ），−９
９．１８（ｑ，２Ｆ，ＣＦ），−１０１．７４（ｍ，２
Ｆ，ＣＦ） スペクトルを第１０図に示す。 （５）元素分析値（％）：表１のとおり
【表１】
【００４７】以上より、目的化合物であることを確認し
た。この化合物の構造式は下記化２０の通りである。
た。この化合物の構造式は下記化２０の通りである。
【化２０】
【００４８】
【発明の効果】請求項１における一般式（Ｉ）で表わさ
れるフッ素含有芳香族ジアミン化合物は新規であり、フ
ッ素含有量が多く、ポリイミド、ポリアミド等の原料と
して有用である。請求項２における一般式（II）で表わ
されるフッ素含有ビス（アミノベンゼン）化合物は一般
式（Ｉ）で表わされるフッ素含有芳香族ジアミン化合物
の中間体として有用である。請求項３における一般式
（III）で表わされるビス（アミノベンゼン）化合物は
一般式（II）で表わされるフッ素含有ビス（アミノベン
ゼン）化合物の中間体として有用である。請求項４にお
ける方法により、一般式（Ｉ）で表わされるフッ素含有
芳香族ジアミン化合物が容易に収率よく得られる。請求
項５における方法により、一般式（Ｉ）で表わされるフ
ッ素含有芳香族ジアミン化合物の中間体である一般式
（II）で表わされるフッ素含有ビス（アミノベンゼン）
化合物が容易に収率よく得られる。請求項６における方
法により、一般式（II）で表わされるフッ素含有ビス
（アミノベンゼン）化合物の中間体である一般式（II
I）で表わされるビス（アミノベンゼン）化合物が容易
に収率よく得られる。
れるフッ素含有芳香族ジアミン化合物は新規であり、フ
ッ素含有量が多く、ポリイミド、ポリアミド等の原料と
して有用である。請求項２における一般式（II）で表わ
されるフッ素含有ビス（アミノベンゼン）化合物は一般
式（Ｉ）で表わされるフッ素含有芳香族ジアミン化合物
の中間体として有用である。請求項３における一般式
（III）で表わされるビス（アミノベンゼン）化合物は
一般式（II）で表わされるフッ素含有ビス（アミノベン
ゼン）化合物の中間体として有用である。請求項４にお
ける方法により、一般式（Ｉ）で表わされるフッ素含有
芳香族ジアミン化合物が容易に収率よく得られる。請求
項５における方法により、一般式（Ｉ）で表わされるフ
ッ素含有芳香族ジアミン化合物の中間体である一般式
（II）で表わされるフッ素含有ビス（アミノベンゼン）
化合物が容易に収率よく得られる。請求項６における方
法により、一般式（II）で表わされるフッ素含有ビス
（アミノベンゼン）化合物の中間体である一般式（II
I）で表わされるビス（アミノベンゼン）化合物が容易
に収率よく得られる。
【図１】実施例１で得られた２，２−ビス（３−アセチ
ルアミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプ
ロパンのＩＲスペクトルである。
ルアミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプ
ロパンのＩＲスペクトルである。
【図２】実施例１で得られた２，２−ビス（３−アセチ
ルアミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプ
ロパンの 1Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。
ルアミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプ
ロパンの 1Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。
【図３】実施例３で得られた２，２−ビス（３−トシル
アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロ
パンのＩＲスペクトルである。
アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロ
パンのＩＲスペクトルである。
【図４】実施例１で得られた２，２−ビス（３−トシル
アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロ
パンの 1Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。
アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロ
パンの 1Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。
【図５】実施例１で得られた２，２−ビス（３−トシル
アミノ−４−（パーフルオロノネニルオキシ）フェニ
ル）ヘキサフルオロプロパンのＩＲスペクトルである。
アミノ−４−（パーフルオロノネニルオキシ）フェニ
ル）ヘキサフルオロプロパンのＩＲスペクトルである。
【図６】実施例１で得られた２，２−ビス（３−トシル
アミノ−４−（パーフルオロノネニルオキシ）フェニ
ル）ヘキサフルオロプロパンの 1Ｈ−ＮＭＲスペクトル
である。
アミノ−４−（パーフルオロノネニルオキシ）フェニ
ル）ヘキサフルオロプロパンの 1Ｈ−ＮＭＲスペクトル
である。
【図７】実施例１で得られた２，２−ビス（３−トシル
アミノ−４−（パーフルオロノネニルオキシ）フェニ
ル）ヘキサフルオロプロパンの19Ｆ−ＮＭＲスペクトル
である。
アミノ−４−（パーフルオロノネニルオキシ）フェニ
ル）ヘキサフルオロプロパンの19Ｆ−ＮＭＲスペクトル
である。
【図８】実施例１〜３で得られた２，２−ビス（３−ア
ミノ−４−（パーフルオロノネニルオキシ）フェニル）
ヘキサフルオロプロパンのＩＲスペクトルである。
ミノ−４−（パーフルオロノネニルオキシ）フェニル）
ヘキサフルオロプロパンのＩＲスペクトルである。
【図９】実施例１〜３で得られた２，２−ビス（３−ア
ミノ−４−（パーフルオロノネニルオキシ）フェニル）
ヘキサフルオロプロパンの 1Ｈ−ＮＭＲスペクトルであ
る。
ミノ−４−（パーフルオロノネニルオキシ）フェニル）
ヘキサフルオロプロパンの 1Ｈ−ＮＭＲスペクトルであ
る。
【図１０】実施例１〜３で得られた２，２−ビス（３−
アミノ−４−（パーフルオロノネニルオキシ）フェニ
ル）ヘキサフルオロプロパンの19Ｆ−ＮＭＲスペクトル
である。
アミノ−４−（パーフルオロノネニルオキシ）フェニ
ル）ヘキサフルオロプロパンの19Ｆ−ＮＭＲスペクトル
である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 317/36 7419−4Ｈ 323/37 7419−4Ｈ
Claims (6)
- 【請求項１】化１〔一般式（Ｉ）〕 【化１】 〔ただし、一般式（Ｉ）中、Ｒｆは−ＣnＦ2n-1（ここ
でｎは６〜１２の整数を示す）を示し、これは二重結合
を１個含み、適宜分岐していてもよく、２個のＲｆは同
一でも異なっていてもよく、Ｘは２価の有機基を示し、
ベンゼンの水素は低級アルキル基、低級アルコキシ基、
フッ素、塩素または臭素で置換されていてもよい〕で表
されるフッ素含有芳香族ジアミン化合物。 - 【請求項２】化２〔一般式（II）〕 【化２】 〔ただし、一般式（II）中、Ｒｆは−ＣnＦ2n-1（ここ
でｎは６〜１２の整数を示す）を示し、これは二重結合
を１個含み、適宜分岐していてもよく、２個のＲｆは同
一でも異なっていてもよく、Ｘは２価の有機基を示し、
Ｒ1は１価の有機基、Ｒ2は水素又はＲ1とＲ2を併せて２
価の有機基を示し、Ｒ3は１価の有機基、Ｒ4は水素又は
Ｒ3とＲ4を併せて２価の有機基を示し、ベンゼンの水素
は低級アルキル基、低級アルコキシ基、フッ素、塩素ま
たは臭素で置換されていてもよい〕で表されるアミノ基
が保護されたフッ素含有ビス（アミノベンゼン）化合
物。 - 【請求項３】化３〔一般式（III）〕 【化３】 〔ただし、一般式（III）中、Ｘは２価の有機基を示
し、Ｒ1は１価の有機基、Ｒ2は水素又はＲ1とＲ2を併せ
て２価の有機基を示し、Ｒ3は１価の有機基、Ｒ4は水素
又はＲ3とＲ4を併せて２価の有機基を示し、ベンゼンの
水素は低級アルキル基、低級アルコキシ基、フッ素、塩
素または臭素で置換されていてもよい〕で表されるアミ
ノ基が保護されたビス（アミノフェノール）化合物。 - 【請求項４】請求項２に記載の一般式（II）で表される
アミノ基が保護されたフッ素含有ビス（アミノベンゼ
ン）化合物を保護基の脱保護反応に供することを特徴と
する請求項１に記載の一般式（Ｉ）で表されるフッ素含
有芳香族ジアミン化合物の製造法。 - 【請求項５】請求項３に記載の一般式（III）で表され
るアミノ基が保護されたビス（アミノフェノール）化合
物とＣnＦ2n（ここでｎは６〜１２の整数を示す）の分
子式を有するパーフルオロアルケンとを有機溶媒中、塩
基の存在下に反応させることを特徴とする一般式（I
I）〕で表されるアミノ基が保護されたフッ素含有ビス
（アミノベンゼン）化合物の製造法。 - 【請求項６】化４〔一般式（IV）〕 【化４】 〔ただし、一般式（IV）中、Ｘは二価の有機基又は結合
を示す〕で表されるビス（アミノフェノール）化合物と
保護基供給化合物を反応させることを特徴とする請求項
３に記載の一般式（III）で表されるアミノ基が保護さ
れたビス（アミノフェノール）化合物の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03828292A JP3216199B2 (ja) | 1992-02-26 | 1992-02-26 | フッ素含有芳香族ジアミン化合物、フッ素含有ビス（アミノベンゼン）化合物、及びこれらの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03828292A JP3216199B2 (ja) | 1992-02-26 | 1992-02-26 | フッ素含有芳香族ジアミン化合物、フッ素含有ビス（アミノベンゼン）化合物、及びこれらの製造法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000398379A Division JP2001172239A (ja) | 2000-12-27 | 2000-12-27 | フッ素含有芳香族ジアミン化合物、フッ素含有ビス（アミノベンゼン）化合物、ビス（アミノフェノール）化合物及びこれらの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05229994A true JPH05229994A (ja) | 1993-09-07 |
| JP3216199B2 JP3216199B2 (ja) | 2001-10-09 |
Family
ID=12520960
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP03828292A Expired - Lifetime JP3216199B2 (ja) | 1992-02-26 | 1992-02-26 | フッ素含有芳香族ジアミン化合物、フッ素含有ビス（アミノベンゼン）化合物、及びこれらの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3216199B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001181249A (ja) * | 1999-10-14 | 2001-07-03 | Asahi Kasei Corp | アミドフェノール化合物 |
| JP2006335677A (ja) * | 2005-06-01 | 2006-12-14 | Nippon Shokubai Co Ltd | パーフルオロアルケニル誘導体 |
| JP2010064971A (ja) * | 2008-09-09 | 2010-03-25 | Canon Inc | ビス−アセチルアミノフェニル化合物の結晶の製造方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6855509B2 (en) | 2000-12-19 | 2005-02-15 | Instrumentation Laboratory Company | Protein S functional assay and kit therefor |
-
1992
- 1992-02-26 JP JP03828292A patent/JP3216199B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001181249A (ja) * | 1999-10-14 | 2001-07-03 | Asahi Kasei Corp | アミドフェノール化合物 |
| JP4623453B2 (ja) * | 1999-10-14 | 2011-02-02 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | アミドフェノール化合物 |
| JP2006335677A (ja) * | 2005-06-01 | 2006-12-14 | Nippon Shokubai Co Ltd | パーフルオロアルケニル誘導体 |
| JP2010064971A (ja) * | 2008-09-09 | 2010-03-25 | Canon Inc | ビス−アセチルアミノフェニル化合物の結晶の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3216199B2 (ja) | 2001-10-09 |
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