JP3216199B2 - フッ素含有芳香族ジアミン化合物、フッ素含有ビス(アミノベンゼン)化合物、及びこれらの製造法 - Google Patents
フッ素含有芳香族ジアミン化合物、フッ素含有ビス(アミノベンゼン)化合物、及びこれらの製造法Info
- Publication number
- JP3216199B2 JP3216199B2 JP03828292A JP3828292A JP3216199B2 JP 3216199 B2 JP3216199 B2 JP 3216199B2 JP 03828292 A JP03828292 A JP 03828292A JP 3828292 A JP3828292 A JP 3828292A JP 3216199 B2 JP3216199 B2 JP 3216199B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- bis
- general formula
- fluorine
- perfluorononenyloxy
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
ミン化合物、フッ素含有ビス(アミノベンゼン)化合物
及びこれらの製造法に関する。
リマーは、耐熱性に優れ、電子材料から航空宇宙材料ま
で、幅広い分野で使用されている。近年、これらの分野
では、優れた耐熱性に加えて、種々の高性能,高機能を
併せ持つた材料が必要になつてきている。例えば、電子
材料分野では、吸湿率,誘電率の低減や透明性の向上が
要求されている。しかし、これらの高性能化の要求に十
分にこたえることのできる材料は、これまでに得られて
いない。
ためには、モノマーである芳香族ジアミンの分子構造中
に、これらの性能を発現する置換基として、多くのフツ
素原子を含む置換基を導入することが有効であると考え
られる。
ロアルキル基を導入した芳香族ジアミンの例としては、
特開平1−190562号公報に、化5
を示す)で表わされる芳香族ジアミンが示されている。
化6
562号公報に具体的に示されているのは、パーフルオ
ロアルキル基としてトリフルオロメチル基を置換基とし
た芳香族ジアミンの製造例だけであり、これではフツ素
含量が低く、要求性能の発現は難しい。
されている芳香族ジアミンは、ベンゼン環とパーフルオ
ロアルキル基との間に、結合解離エネルギーの小さいメ
チレン基が存在するため、加熱すると結合が切断しやす
く、耐熱性に劣るものであつた。
をもつ置換基としてパーフルオロアルケニルオキシ基を
分子構造中に導入したフッ素含有芳香族ジアミン化合
物、そのための中間体であるフッ素含有ビス(アミノベ
ンゼン)化合物並びにこれらの製造法を提供するもので
ある。
有芳香族ジアミン化合物は、化7〔一般式(I)〕
でnは6〜12の整数を示す)を示し、これは二重結合
を1個含み、適宜分岐していてもよく、2個のRfは同
一でも異なっていてもよく、Xは、2つのベンゼン環が
直接炭素と炭素で結合した基または一般式(I-1)で示
される2価の有機基を示し、ベンゼンの水素は低級アル
キル基、低級アルコキシ基、フッ素、塩素または臭素で
置換されていてもよい〕で表される。
香族ジアミン化合物としては、ビス(3−(パーフルオ
ロノネニルオキシ)−4−アミノ)ビフェニル、ビス
(3−(パーフルオロノネニルオキシ)−4−アミノフ
ェニル)エーテル、ビス(3−(パーフルオロノネニル
オキシ)−4−アミノフェニル)メタン、ビス(3−
(パーフルオロノネニルオキシ)−4−アミノフェニ
ル)ジフルオロメタン、ビス(3−(パーフルオロノネ
ニルオキシ)−4−アミノフェニル)スルホン、ビス
(3−(パーフルオロノネニルオキシ)−4−アミノフ
ェニル)スルフィド、ビス(3−(パーフルオロノネニ
ルオキシ)−4−アミノフェニル)ケトン、2,2−ビ
ス(3−(パーフルオロノネニルオキシ)−4−アミノ
フェニル)プロパン、2,2−ビス(3−(パーフルオ
ロノネニルオキシ)−4−アミノフェニル)ヘキサフル
オロプロパン、1,4−ビス(3−(パーフルオロノネ
ニルオキシ)−4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,
4−ビス(2,2−(3−(パーフルオロノネニルオキ
シ)−4−アミノフェニル)プロピル)ベンゼン、2,
2−ビス(4−(3−(パーフルオロノネニルオキシ)
−4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパン、2,2
−ビス(4−(3−(パーフルオロノネニルオキシ)−
4−アミノフェノキシ)フェニル)ヘキサフルオロプロ
パン、ビス(4−(3−(パーフルオロノネニルオキ
シ)−4−アミノフェノキシ)フェニル)スルフィド、
ビス(4−(3−(パーフルオロノネニルオキシ)−4
−アミノフェノキシ)フェニル)スルホン、ビス(3−
アミノ−4−(パーフルオロノネニルオキシ))ビフェ
ニル、ビス(3−アミノ−4−(パーフルオロノネニル
オキシ)フェニル)エーテル、ビス(3−アミノ−4−
(パーフルオロノネニルオキシ)フェニル)メタン、ビ
ス(3−アミノ−4−(パーフルオロノネニルオキシ)
フェニル)ジフルオロメタン、ビス(3−アミノ−4−
(パーフルオロノネニルオキシ)フェニル)スルホン、
ビス(3−アミノ−4−(パーフルオロノネニルオキ
シ)フェニル)スルフィド、ビス(3−アミノ−4−
(パーフルオロノネニルオキシ)フェニル)ケトン、
2,2−ビス(3−アミノ−4−(パーフルオロノネニ
ルオキシ)フェニル)プロパン、2,2−ビス(3−ア
ミノ−4−(パーフルオロノネニルオキシ)フェニル)
ヘキサフルオロプロパン、1,4−ビス(3−アミノ−
4−(パーフルオロノネニルオキシ)フェノキシ)ベン
ゼン、1,4−ビス(2,2−(3−アミノ−4−(パ
ーフルオロノネニルオキシ)フェニル)プロピル)ベン
ゼン、2,2−ビス(4−(3−アミノ−4−(パーフ
ルオロノネニルオキシ)フェノキシ)フェニル)プロパ
ン、2,2−ビス(4−(3−アミノ−4−(パーフル
オロノネニルオキシ)−4−アミノフェノキシ)フェニ
ル)ヘキサフルオロプロパン、ビス(4−(3−アミノ
−4−(パーフルオロノネニルオキシ)フェノキシ)フ
ェニル)スルフィド、ビス(4−(3−アミノ−4−
(パーフルオロノネニルオキシ)フェノキシ)フェニ
ル)スルホン、ビス(3−アミノ−5−(パーフルオロ
ノネニルオキシ))ビフェニル、2,2−ビス(3−ア
ミノ−5−(パーフルオロノネニルオキシ)フェニル)
ヘキサフルオロプロパン、ビス(2−(パーフルオロノ
ネニルオキシ)−4−アミノ)ビフェニル、2,2−ビ
ス(2−(パーフルオロノネニルオキシ)−4−アミノ
フェニル)ヘキサフルオロプロパン、ビス(2−(パー
フルオロノネニルオキシ)−4−アミノ−5−メチル)
ビフェニル、2,2−ビス(2−(パーフルオロノネニ
ルオキシ)−4−アミノ−5−メチルフェニル)ヘキサ
フルオロプロパン、ビス(3−(パーフルオロヘキセニ
ルオキシ)−4−アミノ)ビフェニル、ビス(3−(パ
ーフルオロヘキセニルオキシ)−4−アミノフェニル)
エーテル、ビス(3−(パーフルオロヘキセニルオキ
シ)−4−アミノフェニル)メタン、ビス(3−(パー
フルオロヘキセニルオキシ)−4−アミノフェニル)ジ
フルオロメタン、ビス(3−(パーフルオロヘキセニル
オキシ)−4−アミノフェニル)スルホン、ビス(3−
(パーフルオロヘキセニルオキシ)−4−アミノフェニ
ル)スルフィド、ビス(3−(パーフルオロヘキセニル
オキシ)−4−アミノフェニル)ケトン、2,2−ビス
(3−(パーフルオロヘキセニルオキシ)−4−アミノ
フェニル)プロパン、2,2−ビス(3−(パーフルオ
ロヘキセニルオキシ)−4−アミノフェニル)ヘキサフ
ルオロプロパン、1,4−ビス(3−(パーフルオロヘ
キセニルオキシ)−4−アミノフェノキシ)ベンゼン、
1,4−ビス(2,2−(3−(パーフルオロヘキセニ
ルオキシ)−4−アミノフェニル)プロピル)ベンゼ
ン、2,2−ビス(4−(3−(パーフルオロヘキセニ
ルオキシ)−4−アミノフェノキシ)フェニル)プロパ
ン、2,2−ビス(4−(3−(パーフルオロヘキセニ
ルオキシ)−4−アミノフェノキシ)フェニル)ヘキサ
フルオロプロパン、ビス(4−(3−(パーフルオロヘ
キセニルオキシ)−4−アミノフェノキシ)フェニル)
スルフィド、ビス(4−(3−(パーフルオロヘキセニ
ルオキシ)−4−アミノフェノキシ)フェニル)スルホ
ン、ビス(3−アミノ−4−(パーフルオロヘキセニル
オキシ))ビフェニル、ビス(3−アミノ−4−(パー
フルオロヘキセニルオキシ)フェニル)エーテル、ビス
(3−アミノ−4−(パーフルオロヘキセニルオキシ)
フェニル)メタン、ビス(3−アミノ−4−(パーフル
オロヘキセニルオキシ)フェニル)ジフルオロメタン、
ビス(3−アミノ−4−(パーフルオロヘキセニルオキ
シ)フェニル)スルホン、ビス(3−アミノ−4−(パ
ーフルオロヘキセニルオキシ)フェニル)スルフィド、
ビス(3−アミノ−4−(パーフルオロヘキセニルオキ
シ)フェニル)ケトン、2,2−ビス(3−アミノ−4
−(パーフルオロヘキセニルオキシ)フェニル)プロパ
ン、2,2−ビス(3−アミノ−4−(パーフルオロヘ
キセニルオキシ)フェニル)ヘキサフルオロプロパン、
1,4−ビス(3−アミノ−4−(パーフルオロヘキセ
ニルオキシ)フェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス
(2,2−(3−アミノ−4−(パーフルオロヘキセニ
ルオキシ)フェニル)プロピル)ベンゼン、2,2−ビ
ス(4−(3−アミノ−4−(パーフルオロヘキセニル
オキシ)フェノキシ)フェニル)プロパン、2,2−ビ
ス(4−(3−アミノ−4−(パーフルオロヘキセニル
オキシ)−4−アミノフェノキシ)フェニル)ヘキサフ
ルオロプロパン、ビス(4−(3−アミノ−4−(パー
フルオロヘキセニルオキシ)フェノキシ)フェニル)ス
ルフィド、ビス(4−(3−アミノ−4−(パーフルオ
ロヘキセニルオキシ)フェノキシ)フェニル)スルホ
ン、ビス(3−アミノ−5−(パーフルオロヘキセニル
オキシ))ビフェニル、2,2−ビス(3−アミノ−5
−(パーフルオロヘキセニルオキシ)フェニル)ヘキサ
フルオロプロパン、ビス(2−(パーフルオロヘキセニ
ルオキシ)−4−アミノ)ビフェニル、2,2−ビス
(2−(パーフルオロヘキセニルオキシ)−4−アミノ
フェニル)ヘキサフルオロプロパン、ビス(2−(パー
フルオロヘキセニルオキシ)−4−アミノ−5−メチ
ル)ビフェニル、2,2−ビス(2−(パーフルオロヘ
キセニルオキシ)−4−アミノ−5−メチルフェニル)
ヘキサフルオロプロパン等がある。
ネニル基とは、一般式(I)におけるRf が−C9F17の
ものであり、パーフルオロヘキセニル基とは一般式
(I)におけるRf が−C6F11 のものであり、以下も
同様である。
オロノネニル基又はパーフルオロヘキセニル基の代わり
に、−C10F19基,−C12F23基等を有する化合物も同
様に例示することができる。
香族ジアミン化合物は、その中間体である下記化9〔一
般式(II)〕で表されるアミノ基が保護されたフッ素
含有ビス(アミノベンゼン)化合物を保護基の脱保護反
応に供することを特徴とする方法により製造することが
できる。
に同じであり、R1は1価の有機基、R2は水素又はR1
とR2を併せて2価の有機基を示し、R3は1価の有機
基、R4は水素又はR3とR4を併せて2価の有機基を示
し1価の有機基は、アミノ基を保護する基であり、R5
OC(=O)−基(ここでR5は1価の有機基を示し、
ベンジル基、t-ブチル基、p-メトキシベンジル基、p-ニ
トロベンジル基、p-ビフェニルイソプロピル基、9−フ
ルオレニルメチル基を示す)、R6C(=O)−基(こ
こでR6は水素、アルキル基又はアリール基を示す)、
トリチル基、p−トルエンスルホニル基を示し、また、
R1とR2を併せた2価の有機基またはR3とR4を併せた
2価の有機基は、−C(=O)−C6H4−C(=O)−
基を示し、ベンゼンの水素は低級アルキル基、低級アル
コキシ基、フッ素、塩素または臭素で置換されていても
よい〕。
有機基又はR1とR2を併せた2価の有機基及びR3とし
ての1価の有機基又はR3とR4を併せた2価の有機基
は、アミノ基を保護する基であり、例えば、R5OC
(=O)−基(ここで、R5は1価の有機基を示す)が
あり、具体的には、ベンジルオキシカルボニル基、t−
ブチルオキシカルボニル基、p−メトキシベンジルオキ
シカルボニル基、p−ニトロベンジルオキシカルボニル
基、p−ビフェニルイソプロピルオキシカルボニル基、
9−フルオレニルメチルオキシカルボニル基等がある。
アミノ基を保護する基としてはさらに、R6C(=O)
−基(ここで、R5は水素、アルキル基又はアリール基
を示す)、トリチル基、p−トルエンスルホニル基、下
記化10の基等がある。
護されたフッ素含有ビス(アミノベンゼン)化合物とし
ては、ビス(3−(パーフルオロノネニルオキシ)−4
−アセチルアミノ)ビフェニル、ビス(3−(パーフル
オロノネニルオキシ)−4−(p−トルエンスルホニル
アミノ))ビフェニル、ビス(3−(パーフルオロノネ
ニルオキシ)−4−フタルイミド)ビフェニル、ビス
(3−(パーフルオロノネニルオキシ)−4−ベンジル
オキシカルボニルアミノ)ビフェニル、ビス(3−(パ
ーフルオロノネニルオキシ)−4−(t−ブチルオキシ
カルボニルアミノ))ビフェニル、ビス(3−(パーフ
ルオロノネニルオキシ)−4−(p−メトキシベンジル
オキシカルボニルアミノ))ビフェニル、ビス(3−
(パーフルオロノネニルオキシ)−4−(p−ニトロベ
ンジルオキシカルボニルアミノ))ビフェニル、ビス
(3−(パーフルオロノネニルオキシ)−4−(p−ビ
フェニルイソプロピルオキシカルボニルアミノ))ビフ
ェニル、ビス(3−(パーフルオロノネニルオキシ)−
4−(9−フルオレニルメチルオキシカルボニルアミ
ノ))ビフェニル、ビス(3−(パーフルオロノネニル
オキシ)−4−(アセチルアミノ))ビフェニル、ビス
(3−(パーフルオロノネニルオキシ)−4−(4−ト
ルエンスホニルアミノ))ビフェニル、ビス(3−(パ
ーフルオロノネニルオキシ)−4−(トリチルアミ
ノ))ビフェニル、2,2−ビス(3−(パーフルオロ
ノネニルオキシ)−4−アセチルアミノフェニル)ヘキ
サフルオロプロパン、2,2−ビス(3−(パーフルオ
ロノネニルオキシ)−4−(p−トルエンスルホニルア
ミノ)フェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビ
ス(3−(パーフルオロノネニルオキシ)−4−(フタ
ルイミド)フェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2
−ビス(3−(パーフルオロノネニルオキシ)−4−
(ベンジルオキシカルボニルアミノ)フェニル)ヘキサ
フルオロプロパン、2,2−ビス(3−(パーフルオロ
ノネニルオキシ)−4−(t−ブチルオキシカルボニル
アミノ)フェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−
ビス(3−(パーフルオロノネニルオキシ)−4−(p
−メトキシベンジルオキシカルボニルアミノ)フェニ
ル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(3−(パ
ーフルオロノネニルオキシ)−4−(p−ニトロベンジ
ルオキシカルボニルアミノ)フェニル)ヘキサフルオロ
プロパン、2,2−ビス(3−(パーフルオロノネニル
オキシ)−4−(p−ビフェニルイソプロピルオキシカ
ルボニルアミノ)フェニル)ヘキサフルオロプロパン、
2,2−ビス(3−(パーフルオロノネニルオキシ)−
4−(9−フルオレニルメチルオキシカルボニルアミ
ノ)フェニル)ヘキサフルオロプロパン、ビス(3−ア
セチルアミノ−4−(パーフルオロノネニルオキシ))
ビフェニル、ビス(3−(p−トルエンスルホニルアミ
ノ)−4−(パーフルオロノネニルオキシ))ビフェニ
ル、ビス(3−フタルイミド−4−(パーフルオロノネ
ニルオキシ))ビフェニル、ビス(3−ベンジルオキシ
カルボニルアミノ−4−(パーフルオロノネニルオキ
シ))ビフェニル、ビス(3−(t−ブチルオキシカル
ボニルアミノ)−4−(パーフルオロノネニルオキ
シ))ビフェニル、ビス(3−(p−メトキシベンジル
オキシカルボニルアミノ)−4−(パーフルオロノネニ
ルオキシ))ビフェニル、ビス(3−(p−ニトロベン
ジルオキシカルボニルアミノ)−4−(パーフルオロノ
ネニルオキシ))ビフェニル、ビス(3−(p−ビフェ
ニルイソプロピルオキシカルボニルアミノ)−4−(パ
ーフルオロノネニルオキシ))ビフェニル、ビス(3−
(9−フルオレニルメチルオキシカルボニルアミノ)−
4−(パーフルオロノネニルオキシ))ビフェニル、
2,2−ビス(3−アセチルアミノ−4−(パーフルオ
ロノネニルオキシ)フェニル)ヘキサフルオロプロパ
ン、2,2−ビス(3−(p−トルエンスルホニルアミ
ノ)−4−(パーフルオロノネニルオキシ)フェニル)
ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(3−(フタル
イミド)−4−(パーフルオロノネニルオキシ)フェニ
ル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(3−(ベ
ンジルオキシカルボニルアミノ)−4−(パーフルオロ
ノネニルオキシ)フェニル)ヘキサフルオロプロパン、
2,2−ビス(3−(t−ブチルオキシカルボニルアミ
ノ)−4−(パーフルオロノネニルオキシ)フェニル)
ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(3−(p−メ
トキシベンジルオキシカルボニルアミノ)−4−(パー
フルオロノネニルオキシ)フェニル)ヘキサフルオロプ
ロパン、2,2−ビス(3−(p−ニトロベンジルオキ
シカルボニルアミノ)−4−(パーフルオロノネニルオ
キシ)フェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビ
ス(3−(p−ビフェニルイソプロピルオキシカルボニ
ルアミノ)−4−(パーフルオロノネニルオキシ)フェ
ニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(3−
(9−フルオレニルメチルオキシカルボニルアミノ)−
4−(パーフルオロノネニルオキシ)フェニル)ヘキサ
フルオロプロパン、2,2−ビス(3−(アセチルアミ
ノ)−4−(パーフルオロノネニルオキシ)フェニル)
ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(3−(4−ト
ルエンスルホニルアミノ)−4−(パーフルオロノネニ
ルオキシ)フェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2
−ビス(3−(トリチルアミノ)−4−(パーフルオロ
ノネニルオキシ)フェニル)ヘキサフルオロプロパン、
等がある。
ネニル基とは、一般式(II)におけるRf が−C9F17
のものであり、パーフルオロヘキセニル基とは一般式
(II)におけるRf が−C6F11 のものであり、以下
も同様である。
オロノネニル基又はパーフルオロヘキセニル基の代わり
に、−C10F19基,−C12F23基等を有する化合物も同
様に例示することができる。
護されたフッ素含有ビス(アミノベンゼン)化合物の脱
保護反応は、例えば次のような方法で行うことができ
る。
合物を酢酸エチル,ジメチルホルムアミド,ジメチルア
セトアミド、ベンゼン,キシレン,アセトン,テトラヒ
ドロフラン等の有機溶剤に溶解した溶液にパラジウム炭
素等の触媒の存在下、水素ガスを0〜100℃(特に好
ましくは室温付近)で通す方法(触媒の使用量は、ジア
ミノベンゼン化合物に対して1〜50重量%が好まし
く、水素ガスを通す時間は適宜決定すればよいが、通常
1〜10時間で充分である)、前記ジアミノベンゼン化
合物を前記したような有機溶剤に溶解し、HF,HB
r,HCl,H2SO4等の水素酸を加え、反応させる方
法(水素酸は、フッ素含有ビス(アミノベンゼン)化合
物に対して1〜50倍当量使用するのが好ましく、HF
を使用するときは、室温以下、特に0℃以下で反応させ
るのが好ましく、その他の水素酸では0〜100℃、特
に室温付近で反応させるのが好ましい。さらに、反応時
間は適宜決定されるが、通常、HFを使用する場合、
0.1 〜1時間、その他の水素酸を使用する場合1〜1
0時間で充分である)、前記フッ素含有ビス(アミノベ
ンゼン)化合物を炭酸水素ナトリウム,炭酸水素カリウ
ム,水酸化ナトリウム,水酸化カリウム等の塩基性化合
物及び水の存在下に反応させる方法(塩基性化合物及び
水は、それぞれフッ素含有ビス(アミノベンゼン)化合
物に対して1〜50倍当量使用するのが好ましく、反応
は、上記したような有機溶剤の他に、水,メタノール,
エタノール等のアルコール,クレゾール等を溶媒として
用いて行なつてもよい)などがある。
わされるフッ素含有芳香族ジアミン化合物は、カラム分
離、アルコールからの再結晶などにより精製することが
できる。
保護されたフッ素含有ビス(アミノベンゼン)化合物は
下記化11〔一般式(III)〕で表されるアミノ基が保
護されたビス(アミノフェノール)化合物とCnF
2n(ここでnは6〜12の整数である)の分子式を有す
るパーフルオロアルケンとを有機溶媒中、塩基の存在下
に反応させることを特徴とするの方法により製造するこ
とができる。
であり、R1、R2、R3及びR4は一般式(II)に同じ
であり、ベンゼンの水素は低級アルキル基、低級アルコ
キシ基、フッ素、塩素または臭素で置換されていてもよ
い〕。
保護されたビス(アミノフェノール)化合物としては、
ビス(3−ヒドロキシ−4−アセチルアミノ)ビフェニ
ル、ビス(3−ヒドロキシ−4−(p−トルエンスルホ
ニルアミノ))ビフェニル、ビス(3−ヒドロキシ−4
−フタルイミド)ビフェニル、ビス(3−ヒドロキシ−
4−ベンジルオキシカルボニルアミノ)ビフェニル、ビ
ス(3−ヒドロキシ−4−(t−ブチルオキシカルボニ
ルアミノ))ビフェニル、ビス(3−ヒドロキシ−4−
(p−メトキシベンジルオキシカルボニルアミノ))ビ
フェニル、ビス(3−ヒドロキシ−4−(p−ニトロベ
ンジルオキシカルボニルアミノ))ビフェニル、ビス
(3−ヒドロキシ−4−(p−ビフェニルイソプロピル
オキシカルボニルアミノ))ビフェニル、ビス(3−ヒ
ドロキシ−4−(9−フルオレニルメチルオキシカルボ
ニルアミノ))ビフェニル、2,2−ビス(3−ヒドロ
キシ−4−アセチルアミノフェニル)ヘキサフルオロプ
ロパン、2,2−ビス(3−ヒドロキシ−4−(p−ト
ルエンスルホニルアミノ)フェニル)ヘキサフルオロプ
ロパン、2,2−ビス(3−ヒドロキシ−4−(フタル
イミド)フェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−
ビス(3−ヒドロキシ−4−(ベンジルオキシカルボニ
ルアミノ)フェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2
−ビス(3−ヒドロキシ−4−(t−ブチルオキシカル
ボニルアミノ)フェニル)ヘキサフルオロプロパン、
2,2−ビス(3−ヒドロキシ−4−(p−メトキシベ
ンジルオキシカルボニルアミノ)フェニル)ヘキサフル
オロプロパン、2,2−ビス(3−ヒドロキシ−4−
(p−ニトロベンジルオキシカルボニルアミノ)フェニ
ル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(3−ヒド
ロキシ−4−(p−ビフェニルイソプロピルオキシカル
ボニルアミノ)フェニル)ヘキサフルオロプロパン、
2,2−ビス(3−ヒドロキシ−4−(9−フルオレニ
ルメチルオキシカルボニルアミノ)フェニル)ヘキサフ
ルオロプロパン、ビス(3−アセチルアミノ−4−ヒド
ロキシ)ビフェニル、ビス(3−(p−トルエンスルホ
ニルアミノ)−4−ヒドロキシ)ビフェニル、ビス(3
−フタルイミド−4−ヒドロキシ)ビフェニル、ビス
(3−ベンジルオキシカルボニルアミノ−4−ヒドロキ
シ)ビフェニル、ビス(3−(t−ブチルオキシカルボ
ニルアミノ)−4−ヒドロキシ)ビフェニル、ビス(3
−(p−メトキシベンジルオキシカルボニルアミノ)−
4−ヒドロキシ)ビフェニル、ビス(3−(p−ニトロ
ベンジルオキシカルボニルアミノ)−4−ヒドロキシ)
ビフェニル、ビス(3−(p−ビフェニルイソプロピル
オキシカルボニルアミノ)−4−ヒドロキシ)ビフェニ
ル、ビス(3−(9−フルオレニルメチルオキシカルボ
ニルアミノ)−4−ヒドロキシ)ビフェニル、2,2−
ビス(3−アセチルアミノ−4−ヒドロキシフェニル)
ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(3−(p−ト
ルエンスルホニルアミノ)−4−ヒドロキシフェニル)
ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(3−(フタル
イミド)−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプ
ロパン、2,2−ビス(3−(ベンジルオキシカルボニ
ルアミノ)−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロ
プロパン、2,2−ビス(3−(t−ブチルオキシカル
ボニルアミノ)−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフル
オロプロパン、2,2−ビス(3−(p−メトキシベン
ジルオキシカルボニルアミノ)−4−ヒドロキシフェニ
ル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(3−(p
−ニトロベンジルオキシカルボニルアミノ)−4−ヒド
ロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビ
ス(3−(p−ビフェニルイソプロピルオキシカルボニ
ルアミノ)−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロ
プロパン、2,2−ビス(3−(9−フルオレニルメチ
ルオキシカルボニルアミノ)−4−ヒドロキシフェニ
ル)ヘキサフルオロプロパン、等がある。
サフルオロプロペン、テトラフルオロエチレン等のオリ
ゴマーなどを挙げることができる。このようなオリゴマ
ーの具体例としては、下記化12、化13、化14、化
15、化16等の化合物がある。
保護されたビス(アミノフェノール)化合物とパーフルオ
ロアルケンの反応に使用される塩基としては、トリエチ
ルアミン、トリメチルアミン、トリプロピルアミン等の
アミン類、アルカリ金属、アルカリ金属の水酸化物等が
あり、この反応に際して使用される有機溶媒としては、
アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスル
ホキシド等の非プロトン性極性溶媒が好適である。
は、それぞれ、前記一般式(III)で表されるアミノ基
が保護されたビス(アミノフェノール)化合物1モルに対
して1〜10モル及び1〜20モル使用するのが好まし
い。また、前記の反応は、−20〜100℃の範囲内の
温度で行うのが好ましく、特に0〜40℃の範囲内の温
度で行うのが好ましい。
されるアミノ基が保護されたフッ素含有ビス(アミノベ
ンゼン)化合物が得られるが、これは、溶媒留去、貧溶
媒と混合して沈殿させる方法等により分離して次の反応
に供してもよく、場合により反応液のまま次の反応に供
してもよい。
保護されたビス(アミノフェノール)化合物は、化17
〔一般式(IV)〕
す〕で表されるビス(アミノフェノール)化合物と保護
基供給化合物を反応させることを特徴とする方法により
製造することができる。
ノフェノール)化合物としては、ビス(3−ヒドロキシ
−4−アミノ)ビフェニル、2,2−ビス(3−ヒドロ
キシ−4−アミノ)ヘキサフルオロプロパン、ビス(3
−アミノ−4−ヒドロキシ)ビフェニル、2,2−ビス
(3−アミノ−4−ヒドロキシ)ヘキサフルオロプロパ
ン等がある。また、前記保護基供給化合物としては、ベ
ンジルオキシカルボニルクロライド、t−ブトキシカル
ボニルクロライド、p−メトキシベンジルオキシカルボ
ニルクロライド、p−ニトロベンジルオキシカルボニル
クロライド、p−ビフェニルイソプロピルオキシカルボ
ニルクロライド、9−フルオレニルメチルオキシカルボ
ニルクロライド等のウレタン型保護試薬、トシルクロラ
イド、p−トルエンスルホニルクロライド等のアリルス
ルホニル型保護試薬、無水酢酸等の酸無水物等がある。
護基供給化合物との反応は、例えば次のようにして行う
ことができる。前記ビス(アミノフェノール)化合物を
ベンゼン、キシレン、テトラヒドロフラン、ジエチルエ
ーテル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド
等の有機溶剤で乾燥したものに溶解した溶液を調整す
る。この溶液にピリジン等の塩基を存在させ、ウレタン
型保護試薬又はアリルスルホニル型保護試薬を−20〜
60℃の範囲内の温度(特に好ましくは、0℃付近)下
に添加して反応させる。この場合、塩基の使用量はビス
(アミノフェノール)化合物に対して0.7〜3倍当量
が好ましく、ウレタン型保護試薬の使用量はビス(アミ
ノフェノール)化合物に対して1〜2倍当量が好まし
く、反応時間は適宜決定すればよいが、通常1〜24時
間である。また、前記ビス(アミノフェノール)化合物
を前記したような有機溶剤に溶解し、酢酸等の酸の存在
下に、無水酢酸等の酸無水物を0〜150℃の範囲内の
温度(特に好ましくは、室温付近)下に添加して反応さ
せる。この場合、酸の使用量はビス(アミノフェノー
ル)化合物に対して1〜10倍当量が好ましく、酸無水
物の使用量はビス(アミノフェノール)化合物に対して
1〜2倍当量が好ましく、反応時間は適宜決定すればよ
いが、通常1〜24時間である。以上のようにして得ら
れる一般式(III)で表されるアミノ基が保護されたビス
(アミノフェノール)化合物は、カラム分離、再結晶等
により精製することができる。
ヘキサフルオロプロパン14.64g(40.0mmo
l)に乾燥THF160mLを加え、70℃に加熱して
溶解させた後、酢酸9.60g(160.0mmol)
を加えた。ここに、無水酢酸9.80g(96.0mm
ol)を滴下した。滴下終了後70℃で1時間加熱した
後、室温で3時間かくはんを続けた。この反応溶液を室
温で放置すると、白色沈殿が析出した。この沈殿をろ過
し、水で洗浄した後、減圧乾燥して、2,2−ビス(3
−アセチルアミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフ
ルオロプロパン17.82gを得た(収率99%)。
ミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパ
ンの融点、赤外線吸収スペクトル(IRスペクトル)及
び核磁気共鳴スペクトル(NMRスペクトル)は次のと
おりである。 (1)融点 329〜331℃ (2)IRスペクトル〔ν(cm-1)〕 3420(M−H,アミド)、3108(O−H)、1
660(C=O,アミド)。図1にスペクトルを示す。 (3)1H−NMRスペクトル〔δ(ppm)、ジメチ
ルスルホキシド(DMSO)d6〕 10.33(s,2H,NH)、9.35(s,2H,
NH)、7.90(s,2H,芳香族)、2.05
(s,2H,メチル基)。図2にスペクトルを示す。
る。
ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン9.00
g(20.0mmol)にDMF120mL、ヘキサフ
ルオロプロペントリマー21.6g(48.0mmo
l)を加え、水浴上でかくはんしながら、トリエチルア
ミン4.44g(44.0mmol)のDMF溶液(4
0mL)を滴下した。室温で24時間反応させた後、反
応溶液を3Lの水に注いだ。生じた黄色沈殿をろ過し、
水で洗浄後減圧乾燥して、2,2−ビス(3−アセチル
アミノ−4−(パーフルオロノネニルオキシ)フェニ
ル)ヘキサフルオロプロパン17.03gを得た(収率
65%)。
(パーフルオロノネニルオキシ)フェニル)ヘキサフル
オロプロパンg(10.0mmol)に3N塩酸メタノ
ール20mLを加え、還流温度で5時間加熱した。反応
溶液を400mLの水に注ぎ、10%炭酸カリウム水溶
液をPH10になるまで加え、沈でん及び水層をエーテ
ル400mLで抽出した。エーテル層を硫酸マグネシウ
ムで乾燥した後、エーテルを減圧留去して、2,2−ビ
ス(3−アセチルアミノ−4−(パーフルオロノネニル
オキシ)フェニル)ヘキサフルオロプロパン11.40
gを得た(収率93%)。
ヘキサフルオロプロパン14.64g(40.0mmo
l)に乾燥THF300mLを加え、ピリジン7.58
g(96.0mmol)を加えた。ここに、氷浴上、窒
素気流下で、ベンジルオキシカルボニルクロライドの3
0%トルエン溶液54.56g(96.0mmol)を
滴下した。滴下終了後0℃で5時間、室温で16時間か
くはんした。生じた沈でんをろ過し、ろ液を2Lの水に
注いで沈でんさせた。白色沈でんを水で洗浄した後、減
圧乾燥して、2,2−ビス(3−ベンジルオキシカルボ
ニルルアミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオ
ロプロパン20.54gを得た(収率81%)。
ニルアミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロ
プロパン12.68g(20.0mmol)にDMF1
20mL、ヘキサフルオロプロペントリマー21.6g
(48.0mmol)を加え、水浴上でかくはんしなが
ら、トリエチルアミン4.44g(44.0mmol)
のDMF溶液(40mL)を滴下した。室温で24時間
反応させた後、反応溶液を3Lの水に注いだ。生じた沈
殿をろ過し、水で洗浄後減圧乾燥して、2,2−ビス
(3−ベンジルオキシカルボニルアミノ−4−(パーフ
ルオロノネニルオキシ)フェニル)ヘキサフルオロプロ
パン25.40gを得た(収率85%)。
ニルアミノ−4−(パーフルオロノネニルオキシ)フェ
ニル)ヘキサフルオロプロパン14.94g(10.0
mmol)をTHF100mLに溶解させ、5%パラジ
ウム/カーボン7.47gを加え、水素気流下、室温で
5時間かくはんした。触媒をろ別した後、THFを減圧
留去して、2,2−ビス(3−アセチルアミノ−4−
(パーフルオロノネニルオキシ)フェニル)ヘキサフル
オロプロパン11.03gを得た(収率90%)。
ヘキサフルオロプロパン14.64g(40.0mmo
l)に、乾燥THF100mL、ピリジン6.96g
(88.0mmol)を加え、窒素気流下、氷浴上でか
くはんしながら、p−トルエンスルホニルクロライド
(トシルクロライド)15.24g(40.0mmo
l)のTHF溶液(30mL)を滴下した。滴下後、0
℃で6時間、室温で2時間反応させ、生じたピリジン塩
酸塩の白色沈殿をろ過して除き、ろ液を減圧留去した。
ここに、アセトン40mLを加えて溶解させ、1Lの水
に注いで再沈殿させた。これを水で洗浄した後に、減圧
乾燥して2,2−ビス(3−トシルアミノ−4−ヒドロ
キシフェニル)ヘキサフルオロプロパン25.34gを
得た(収率94%)。
ノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン
の融点、IRスペクトル及び1H−NMRスペクトルは
次のとおりである。 (1)融点 227〜229℃ (2)IRスペクトル〔ν(cm-1)〕 3440(M−H,アミド)、3272(O−H)、1
396、1164(SO2)、1256(C−F)。図
3にスペクトルを示す。 (3)1H−NMRスペクトル〔δ(ppm)、DMS
Od6〕 9.18(s,2H,NH)、8.10(s,2H,O
H)、7.60(m,4H,芳香族)、2.35(s,
6H,メチル基)。図4にスペクトルを示す。
る。
ドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン13.48
g(20.0mmol)にDMF120mL、ヘキサフ
ルオロプロペントリマー21.6g(48.0mmo
l)を加え、水浴上でかくはんしながら、トリエチルア
ミン4.44g(44.0mmol)のDMF溶液(4
0mL)を滴下した。室温で24時間反応させた後、反
応溶液を3Lの水に注いだ。生じた黄色沈殿をろ過し、
水で洗浄後減圧乾燥して、2,2−ビス(3−トシルア
ミノ−4−(パーフルオロノネニルオキシ)フェニル)
ヘキサフルオロプロパン21.17gを得た(収率69
%)。
ノ−4−(パーフルオロノネニルオキシ)フェニル)ヘ
キサフルオロプロパンのIRスペクトル、1H−NMR
スペクトル及び19F−NMRスペクトルは次のとおりで
ある。 (1)IRスペクトル〔ν(cm-1)〕 3416(M−H,アミド)、1404、1170(S
O2)、1246(C−F)。図5にスペクトルを示
す。 (2)1H−NMRスペクトル〔δ(ppm)、アセト
ンd6〕 9.16(s,2H,NH)、8.00〜6.82
(m,14H,芳香族) 、2.37(s,6H,
メチル基)。図6にスペクトルを示す。 (3)19F−NMRスペクトル〔δ(ppm)、アセト
ンd6〕 11.67(d,6F,CF3)、3.56(d,6
F,CF3)、−2.40(s,6F,CF3)、−3.
48(s,6F,CF3)、−4.26(s,6F,C
F3)、−6.13(s,6F,CF3)、−99.30
(q,2F,CF)、−101.70(q,2F,C
F)。図7にスペクトルを示す。
る。
(パーフルオロノネニルオキシ)フェニル)ヘキサフル
オロプロパン15.35g(10.0mmol)に濃硫
酸150mLを加え、80℃で30分加熱、かくはんし
た。反応溶液を1.5Lの氷水に注ぎ、生じた沈殿をエ
ーテル1.5Lで抽出した。次に、このエーテル層を1
0%炭酸カリウム水溶液、飽和食塩水の順序で洗浄し、
硫酸マグネシウムを加えて一晩乾燥させた。エーテルを
減圧留去し、2,2−ビス(3−アミノ−4−(パーフ
ルオロノネニルオキシ)フェニル)ヘキサフルオロプロ
パン5.03gを得た(収率41%)。
−アミノ−4−(パーフルオロノネニルオキシ)フェニ
ル)ヘキサフルオロプロパンの精製は、エーテル/ヘキ
サンを用いたカラム分離により行った。次に分析データ
を示す。 (1)融点 175−180℃ (2)IRスペクトル(KBr )ν(cm-1) 3516,3432(NH2 ),1242(C−F) スペクトルを第8図に示す。 (3) 1H−NMRスペクトル(溶媒アセトンd6 ,T
MS標準)δ(ppm ) 6.98−6.90(m,4H,aromatic),6.69
−6.66(m,2H,aromatic),5.11(s,4
H,amine ) スペクトルを第9図に示す。 (4)19F−NMRスペクトル(溶媒acetoned6 ,ベン
ゾトリフルオライド標準) δ(ppm ) 10.35(d,6F,CF3 ),3.82(s,6
F,CF3 ),−2.88(s,6F,CF3 ),−
3.91(d,6F,CF3 ),−4.40(s,6
F,CF3 ),−5.70(s,6F,CF3 ),−9
9.18(q,2F,CF),−101.74(m,2
F,CF) スペクトルを第10図に示す。 (5)元素分析値(%):表1のとおり
た。この化合物の構造式は下記化21の通りである。
れるフッ素含有芳香族ジアミン化合物は新規であり、フ
ッ素含有量が多く、ポリイミド、ポリアミド等の原料と
して有用である。請求項2における一般式(II)で表
わされるフッ素含有ビス(アミノベンゼン)化合物は一
般式(I)で表わされるフッ素含有芳香族ジアミン化合
物の中間体として有用である。一般式(III)で表わさ
れるビス(アミノベンゼン)化合物は一般式(II)で
表わされるフッ素含有ビス(アミノベンゼン)化合物の
中間体として有用である。請求項3における方法によ
り、一般式(I)で表わされるフッ素含有芳香族ジアミ
ン化合物が容易に収率よく得られる。請求項4における
方法により、一般式(I)で表わされるフッ素含有芳香
族ジアミン化合物の中間体である一般式(II)で表わ
されるフッ素含有ビス(アミノベンゼン)化合物が容易
に収率よく得られる。
ルアミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプ
ロパンのIRスペクトルである。
ルアミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプ
ロパンの 1H−NMRスペクトルである。
アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロ
パンのIRスペクトルである。
アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロ
パンの 1H−NMRスペクトルである。
アミノ−4−(パーフルオロノネニルオキシ)フェニ
ル)ヘキサフルオロプロパンのIRスペクトルである。
アミノ−4−(パーフルオロノネニルオキシ)フェニ
ル)ヘキサフルオロプロパンの 1H−NMRスペクトル
である。
アミノ−4−(パーフルオロノネニルオキシ)フェニ
ル)ヘキサフルオロプロパンの19F−NMRスペクトル
である。
ミノ−4−(パーフルオロノネニルオキシ)フェニル)
ヘキサフルオロプロパンのIRスペクトルである。
ミノ−4−(パーフルオロノネニルオキシ)フェニル)
ヘキサフルオロプロパンの 1H−NMRスペクトルであ
る。
アミノ−4−(パーフルオロノネニルオキシ)フェニ
ル)ヘキサフルオロプロパンの19F−NMRスペクトル
である。
Claims (4)
- 【請求項1】化1〔一般式(I)〕 【化1】 〔ただし、一般式(I)中、Rfは−CnF2n-1(ここ
でnは6〜12の整数を示す)を示し、これは二重結合
を1個含み、適宜分岐していてもよく、2個のRfは同
一でも異なっていてもよく、Xは、2つのベンゼン環が
直接炭素と炭素で結合した基または一般式(I-1)で示
される2価の有機基を示し、ベンゼンの水素は低級アル
キル基、低級アルコキシ基、フッ素、塩素または臭素で
置換されていてもよい〕で表されるフッ素含有芳香族ジ
アミン化合物。 【化2】 - 【請求項2】化3〔一般式(II)〕 【化3】 〔ただし、一般式(II)中、Rfは−CnF2n-1(こ
こでnは6〜12の整数を示す)を示し、これは二重結
合を1個含み、適宜分岐していてもよく、2個のRfは
同一でも異なっていてもよく、Xは、2つのベンゼン環
が直接炭素と炭素で結合した基または一般式(I-1)で
示される2価の有機基を示し、R1は1価の有機基、R2
は水素又はR1とR2を併せて2価の有機基を示し、R3
は1価の有機基、R4は水素又はR3とR4を併せて2価
の有機基を示し、1価の有機基は、アミノ基を保護する
基であり、R5OC(=O)−基(ここでR5は1価の有
機基を示し、ベンジル基、t-ブチル基、p-メトキシベン
ジル基、p-ニトロベンジル基、p-ビフェニルイソプロピ
ル基、9−フルオレニルメチル基を示す)、R6C(=
O)−基(ここでR6は水素、アルキル基又はアリール
基を示す)、トリチル基、p−トルエンスルホニル基を
示し、また、R1とR2を併せた2価の有機基またはR3
とR4を併せた2価の有機基は、−C(=O)−C6H4
−C(=O)−基を示し、ベンゼンの水素は低級アルキ
ル基、低級アルコキシ基、フッ素、塩素または臭素で置
換されていてもよい〕で表されるアミノ基が保護された
フッ素含有ビス(アミノベンゼン)化合物。 - 【請求項3】請求項2に記載の一般式(II)で表され
るアミノ基が保護されたフッ素含有ビス(アミノベンゼ
ン)化合物を保護基の脱保護反応に供することを特徴と
する請求項1に記載の一般式(I)で表されるフッ素含
有芳香族ジアミン化合物の製造法。 - 【請求項4】一般式(III)で表されるアミノ基が保護
されたビス(アミノフェノール)化合物とCnF2n(こ
こでnは6〜12の整数を示す)の分子式を有するパー
フルオロアルケンとを有機溶媒中、塩基の存在下に反応
させることを特徴とする一般式(II)で表されるアミ
ノ基が保護されたフッ素含有ビス(アミノベンゼン)化
合物の製造法。 【化4】 〔ただし、一般式(III)、一般式(II)中、Rfは
−CnF2n-1(ここでnは6〜12の整数を示す)を示
し、これは二重結合を1個含み、適宜分岐していてもよ
く、2個のRfは同一でも異なっていてもよく、Xは、
2つのベンゼン環が直接炭素と炭素で結合した基または
一般式(I-1)で示される2価の有機基を示し、R1は
1価の有機基、R2は水素又はR1とR2を併せて2価の
有機基を示し、R3は1価の有機基、R4は水素又はR3
とR4を併せて2価の有機基を示し、1価の有機基は、
アミノ基を保護する基であり、R5OC(=O)−基
(ここでR5は1価の有機基を示し、ベンジル基、t-ブ
チル基、p-メトキシベンジル基、p-ニトロベンジル基、
p-ビフェニルイソプロピル基、9−フルオレニルメチル
基を示す)、R6C(=O)−基(ここでR6は水素、ア
ルキル基又はアリール基を示す)、トリチル基、p−ト
ルエンスルホニル基を示し、また、R1とR2を併せた2
価の有機基またはR3とR4を併せた2価の有機基は、−
C(=O)−C6H4−C(=O)−基を示し、ベンゼン
の水素は低級アルキル基、低級アルコキシ基、フッ素、
塩素または臭素で置換されていてもよい〕。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP03828292A JP3216199B2 (ja) | 1992-02-26 | 1992-02-26 | フッ素含有芳香族ジアミン化合物、フッ素含有ビス(アミノベンゼン)化合物、及びこれらの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP03828292A JP3216199B2 (ja) | 1992-02-26 | 1992-02-26 | フッ素含有芳香族ジアミン化合物、フッ素含有ビス(アミノベンゼン)化合物、及びこれらの製造法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000398379A Division JP2001172239A (ja) | 2000-12-27 | 2000-12-27 | フッ素含有芳香族ジアミン化合物、フッ素含有ビス(アミノベンゼン)化合物、ビス(アミノフェノール)化合物及びこれらの製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05229994A JPH05229994A (ja) | 1993-09-07 |
JP3216199B2 true JP3216199B2 (ja) | 2001-10-09 |
Family
ID=12520960
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP03828292A Expired - Lifetime JP3216199B2 (ja) | 1992-02-26 | 1992-02-26 | フッ素含有芳香族ジアミン化合物、フッ素含有ビス(アミノベンゼン)化合物、及びこれらの製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3216199B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8334108B2 (en) | 2000-12-19 | 2012-12-18 | Instrumentation Laboratory Company | Kit for protein S functional assay |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4623453B2 (ja) * | 1999-10-14 | 2011-02-02 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | アミドフェノール化合物 |
JP2006335677A (ja) * | 2005-06-01 | 2006-12-14 | Nippon Shokubai Co Ltd | パーフルオロアルケニル誘導体 |
JP5164755B2 (ja) * | 2008-09-09 | 2013-03-21 | キヤノン株式会社 | ビス−アセチルアミノフェニル化合物の結晶の製造方法 |
-
1992
- 1992-02-26 JP JP03828292A patent/JP3216199B2/ja not_active Expired - Lifetime
Non-Patent Citations (4)
Title |
---|
"Chem.−Biol.Interact.,"Vol..64,No.3,pages 251−266(1988) |
"Drug Metab.Dispos.,"Vol.11,No.4,pages 293−300(1983) |
"Drug Metab.Rev.,"Vol.20,No.2−4,pages 341−358(1989) |
日本化学会編 新実験化学講座14 有機化合物の合成と反応[▲V▼」,第2555〜2569頁(発行所 丸善株式会社)昭和53年7月20日発行 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8334108B2 (en) | 2000-12-19 | 2012-12-18 | Instrumentation Laboratory Company | Kit for protein S functional assay |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH05229994A (ja) | 1993-09-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5446205A (en) | Functionalized fluoropolyethers | |
JPH04500374A (ja) | ペルフルオロビニル基を含む反応性化合物 | |
JP2009256327A (ja) | シクロアルカンジカルボン酸モノエステルの製造方法 | |
JP3216199B2 (ja) | フッ素含有芳香族ジアミン化合物、フッ素含有ビス(アミノベンゼン)化合物、及びこれらの製造法 | |
JP2001089426A (ja) | 新規アセチレン化合物 | |
JP3031036B2 (ja) | 含フッ素芳香族ジアミン化合物、アミノ基が保護された含フッ素ジアミン化合物及びそれらの製造法 | |
US6437178B2 (en) | O-aminophenolcarboxylic acid and o-aminothiophenolcarboxylic acid | |
JP3018643B2 (ja) | フッ素含有ジアミノベンゼン化合物及びフッ素含有芳香族ジアミン化合物の製造法 | |
JP2001172239A (ja) | フッ素含有芳香族ジアミン化合物、フッ素含有ビス(アミノベンゼン)化合物、ビス(アミノフェノール)化合物及びこれらの製造法 | |
US5233058A (en) | Partially fluorinated compounds and polymers | |
JP4635162B2 (ja) | 芳香族ジアミンの製造方法及び芳香族ジアミン化合物 | |
TWI691485B (zh) | 二胺化合物其及中間體之製造方法 | |
JP3042137B2 (ja) | 含フッ素ビスアミド酸化合物、その製造法及び含フッ素熱硬化性ビスイミド化合物の製造法 | |
JPH0853399A (ja) | 芳香族フツ素化化合物の製造方法および新規なジアミド | |
US4978790A (en) | 4,4'-bis[2-(4-hydroxy-amino-phenyl)hexafluoroisopropyl]-diphenylethers and their use | |
JPH0225441A (ja) | 弗素化ビスアリールオキシ置換アルケン及びその製造法 | |
JP4016301B2 (ja) | 新規なアゾ基含有芳香族化合物及びその製造法 | |
JP2002265422A (ja) | 1,1ービス(4ーヒドロキシー3−ニトロフェニル)シクロアルカン類の製造方法 | |
US6156902A (en) | Bis-o-amino (thio) phenols, and their preparation | |
JPH02164854A (ja) | 5―(パーフルオロノネニルオキシ)イソフタル酸ビス(ニトロフエニルエステル)及びその製造法 | |
JP6853709B2 (ja) | 芳香族化合物およびその製造方法 | |
JP2665254B2 (ja) | 含フッ素芳香族ジアミン及びその製造方法 | |
JP3132784B2 (ja) | 3,3’−ジニトロ−5,5’−ビス(トリフルオロメチル)ジフェニルエーテルの製造方法 | |
JP3899556B2 (ja) | ビス置換フェノキシフェニレンジアミン誘導体及びその製造法 | |
JP2900617B2 (ja) | 熱硬化性樹脂組成物及び熱硬化性イミド樹脂組成物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070803 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080803 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090803 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090803 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100803 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110803 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110803 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120803 Year of fee payment: 11 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120803 Year of fee payment: 11 |