JPH01165552A - ４，４，’−ビス〔２−（４−ヒドロキシフエニル）ヘキサフルオロイソプロピル〕ジフエニルエーテルを基本とするフッ素含有化合物、その製造方法及びその使用方法 - Google Patents

４，４，’−ビス〔２−（４−ヒドロキシフエニル）ヘキサフルオロイソプロピル〕ジフエニルエーテルを基本とするフッ素含有化合物、その製造方法及びその使用方法

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JPH01165552A
JPH01165552A JP63293756A JP29375688A JPH01165552A JP H01165552 A JPH01165552 A JP H01165552A JP 63293756 A JP63293756 A JP 63293756A JP 29375688 A JP29375688 A JP 29375688A JP H01165552 A JPH01165552 A JP H01165552A
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ユルゲン・ラウ
Guenter Siegemund
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は４，４゛−ビスＣ２−＜４−ヒドロキシフェニ
ル）一へキサフルオロイソブロビル〕ジフエニルエーテ
ルを基体とする新規フッ素含有化合物、その製造方法及
びその使用法に関し、その際この化合物は２個のへキサ
フルオロイソプロピリデン基を有する。
フッ素含有化合物、すなわち２．２−ビス〔３一又は４
−アミノフェノキシ）フェニル〕へキサフルオロプロパ
ンを基体とする特別のフン素含有ジアミノ化合物は公知
である（米国特許第４，１１１，９０６号明細書又はヨ
ーロソバ特許公開筒０．１９２，４８Ｑ号公報）。
同様にフエノキシ核の２一位にハロゲン原子を有する化
合物も知られている（米国特許第４，５２１，６２３号
明細書）。２〜３個のへキサフルオロイソプロピリデン
基を有するこの化合物は有利な性質、たとえば熱安定性
、耐照射性及び機械堅牢性を有するポリイミド及びポリ
アミドの製造に使用される。
したがって分子中に２個のへキサフルオロイソプロピリ
デン基を有する化合物から、改良された性質を有する重
合体を製造することができることは驚くべきことであっ
た。
本発明の対象は式（１） 〔式中Ａは残基 Ｒ’ （式中Ｒ１及びＲ２は相異り、水素原子、−ＮＯ□又は
−ＮＨ，を示し、Ｒ３は水素原子又はハロゲン原子であ
り、Ｘは−ＮＯ２又は−ＮＨ，である。但しＲ２が−Ｎ
Ｏｔ又は−ＮＨ２である場合Ｒ１は水素原子であり、Ｒ
１が−ＮＯ□又は−ＮＨ２である場合、Ｒ２は水素原子
である。） である。〕 なる４、４゛−ビス（２−（４−ヒドロキシフェニル）
へキサフルオロイソプロピルツージフェニルエーテルを
基体とする新規化合物である。
本発明の対象はまた式（１）なる化合物の製造方法及び
これから得られたジアミノ化合物の使用法である。
新規の式（１）なるフッ素含有化合物に対する出発化合
物として４．４′−ビス（２−（４−ヒドロキシフェニ
ル）−へキサフルオロイソプロピルツージフェニルエー
テルを使用し、これを芳香族、場合によりハロゲン含有
ニトロ化合物と反応させる又はニトロ化して対応するジ
ニトロ化合物となす。ハロゲン原子としてクロロ原子が
好ましい。芳香族ニトロ化合物として４−クロロニトロ
ペンゾール、３＋４−ジニトロペンゾール及び１．３−
ジニトロペンゾールを使用するのが好ましい。ジフェニ
ルエーテルと芳香族ニトロ化合物との割合は一般にモル
量あたりｌ：（２〜３）、好ましくは１：（２，１〜２
．４）である。
使用される４−ヒドロキシフェニル化合物は、同日に出
願されたドイツ特許出願第３７３９７９５．８号明細書
、“一部フッ素化されたジフェニルエーテル、その製造
方法及びその使用法”に記載された方法に従って得られ
る。
ハロゲン含有ニトロ化合物との反応を有機溶剤中で、す
なわち双極性の非プロトン性溶剤、たとえばジメチルホ
ルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキ
シド、ジメチルスルホン、スルホラン、Ｎ−メチル−ピ
ロリドン−（２）中で実施する。
塩基性化合物、たとえば水酸化アルカリ、たとえば水酸
化−ナトリウム又は−カリウム、水酸化アンモニウム、
水素化アルカリ、アルカリ−又はアルカリ土類金属の炭
酸塩、たとえば炭酸−ナトリウム又はカリウムあるいは
アルカリ−又はアルカリ土類金属の炭酸水素塩並びにア
ルカリアルコラード、あるいは混合物の少なくとも化学
量論量を反応に於て使用する。モル割合は一般にジフェ
ニルエーテルに対して１：（２〜４）、好ましくは１：
（２，１ないし３）である。
反応を一般に５０〜２００℃、好ましくは１００〜１８
０℃の温度で実施する。
４．４１−ビス（２−（４−ヒドロキシフェニル）−へ
キサフルオロイソプロピルツージフェニルエーテルのニ
トロ化を常法に従って実施する。この場合ニトロ基を選
択的にヒドロキシ基に関してオルト位に導入する。
ニトロ化反応の実施にあたり、通常のニトロ化酸混合物
、たとえば硝酸と硫酸、硝酸と氷酢酸、硝酸と無水酢酸
又は硝酸と水を使用す不。一般に高濃度の無水の酸混合
物を使用する。しかし好ましくは９８％硝酸がニトロ化
反応に適する。反応を、出発生成物を有機溶剤、たとえ
ばテトラヒドロフラン、ジオキサン、氷酢酸、エタノー
ル又はその混合物、好ましくはジエチルエーテル中で熔
解し、−１０〜５０℃、好ましくは５〜１５℃の温度で
徐々にニトロ化酸−混合物を加える様にして実施する。
後処理は常法に従って行われる。
新規の、第一段階で得られたジニトロ化合物を通常の接
触法に従って水素添加触媒を用いて又は化学量論的方法
に従ってたとえば塩化亜鉛（■）−氷酢酸を用いて第二
段階で還元し、対応するジアミノ化合物となすことがで
きる。一般に単離されたニトロ化合物を水素添加する。
しかし化学量論的方法によれば水素添加を化合物の単離
なしに実施することもできる。
接触還元に対する触媒として、たとえば白金金属、銅、
鉄、コバルト、ニッケル、それから成る混合物又は金属
酸化物を大気圧又は高められた圧力で使用することがで
きる。この場合パラジウムが好ましい。触媒を金属のま
まで又は微分散された形で表面、たとえば炭素、硫酸バ
リウム、シリカゲル、アルミニウム及びゼオライト上で
使用することができる。ラネーニッケルを使用すること
もできる。還元を有機溶剤、たとえばアルコール、たと
えばメタノール、エタノール及びイソプロピルアルコー
ル、グリコール、たとえばエチレングリコール及びプロ
ピレングリコール、エーテル、たとえばジエチルエーテ
ル、ジオキサン、テトラヒドロフラン及びエチレングリ
コールモノ−メチ化−又は−エチルエーテル、脂肪族炭
化水素、たとえばヘキサン及びシクロヘキサン、芳香族
炭化水素、たとえばペンゾール、ドルオール及びキジロ
ール、エステル、たとえば酢酸エチル及び酢酸ブチル、
ハロゲン化された炭化水素並びにジメチルホルムアミド
及びジメチルスルホキシド中で行う。この反応の温度は
一般に１０〜１３０℃、好ましくは２０〜８０’Ｃ，特
に２０〜６０℃である。
第二段階で得られたジアミノ化合物は、高温度に安定な
重縮合物の製造に適する。テトラカルボン酸又はその誘
導体との反応によってたとえば低い誘電率を有するポリ
イミドが得られる。他方ジカルボン酸クロライドとの反
応はポリアミドを生じる。更に新規モノマー及びオリゴ
マーが、たとえば二無水物との反応によって得られる。
得られたイミドモノマー及びオリゴマーを付加反応によ
って硬化することができる。更に本発明によるジアミド
はポリマー前駆物質、エポキシド樹脂硬化剤、マトリッ
クス樹脂、ラミネート、フィルム、繊維、接着剤被覆剤
、ホトレジスト及び成形体の製造に適する。
極めて物理的及び化学的性質を有するポリアミドを有機
ジアミンから製造することは公知である。
このジアミンは芳香族４価の基であり、これ中で各々の
アミノ基が直接芳香族環の炭素原子に結合し、その際こ
の炭素原子に対するオルト−又はパラ−位にＯＨ−基を
有することができ、そしてこれはハロゲン置換されたジ
カルボン酸、このカルボン酸の無水物、低級アルキルエ
ステル又はビニルエステルと反応する（米国特許筒３，
４４９．２９６号明細書）。生じるポリマーヒドロキシ
アミドから常法で成形体を製造することができる。しか
しこれを水の離脱下に加熱処理して対応するポリベンゾ
オキサゾールに変えることができる。本発明による４、
４゛−ビス（２−（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニ
ル）へキサフルオロイソプロピル〕ジフェニルエーテル
は同様にこの様なポリアミド及びポリベンズオキサゾー
ルに対するモノマーとして使用することができる。
例１ ４．４゛−ビス〔２〜（４−（４−ニトロフェノキシ）
フェニル）ヘキサフルオロイソプロピル〕−ジフェニル
エーテル ４．４゛−ビス（２−（４−ヒドロキシフェニル）へキ
サフルオロイソプロピルツージフェニルエーテル１３．
１ｇ　、ジメチルアセトアミド５０ｍβ、ドルオール２
Ｏ−１ＮａＯＨ１，８ｇ及び水３ｍｌを水分離器でもは
や水が分離されなくなるまで還流加熱する。次いでドル
オールを留去し、反応混合物を４−クロロニトロペンゾ
ール７．１ｇの添加後２４時間還流加熱する。
反応混合物を２５℃に放冷後、固体部分を濾去し、廃棄
する。濾液からジメチルアセトアミドを減圧下に蒸留分
離し、残留物をアセトニトリルから再結晶する。呈色し
た固体１２．５ｇ（理論値の７１％）が残存し、これは
１６０℃で融解する。
核磁気共鳴スペクトル分析は次の値を生じる：’ＩＩ−
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２）　　δ（ｐｐｍ）：８，２−８．
３　ｍ　旧１．　７．１５−７．５ｍ８Ｈ，７，０−７
，１ｍ　１２８； ”Ｆ−ＮＭＲ（ＣＤＣＩ＋）δ（ｐｐｍ）ニー６４．４
５ＣＺ４＋１２４Ｆｌ□Ｎ２０．に対する分析：計算値
：　Ｃ５６，２６，＋１２．７０．　Ｆ２５．４３．　
Ｎ３，１３．０１２，４９測定値：　Ｃ５５，７０，Ｈ
２，６０，Ｆ２５．３０．　Ｎ２．９０．０１２，４０
２）４，４°−ビス［２−（４−（４−（４−アミノフ
ェニル）フェニル）へキサフルオロイソプロピルゴージ
フェニルエーテル ４．４゛−ビス（２−（４−（４−ニトロフェノキシ）
フェニル）へキサフルオロイソプロピルフジフェニルエ
ーテル１９ｇを酢酸エチルエステル２５０ｍ１中に溶解
し、パラジウムと炭素１ｇ（５％Ｐｄ−割合）の添加下
１１オートクレーブ中で水素（１００バール）で２５−
３０℃で還元する。還元後、触媒を濾去し、溶剤を留去
する。粗生成物（１８，１ｇ）を加熱しながらオクタン
／ドルオール（１９／１）から成る溶液中に溶解し、活
性炭３ｇで処理する。淡黄色溶液を再度完全に蒸発し、
残留物をトリオールから酸結晶する。
収量：淡黄色固体１５．４ｇ（理論値の８５％）、融点
：９１−９３℃。
核磁気共鳴スペクトル： ’　Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＩ　３）δ（ｐｐｍ）ニア、４
−６．６１ｍ　２４Ｈ，３，５巾広いｓ　４Ｈ ”Ｆ−ＮＭＲ（ＣＤＣｈ）δ（ｐｐｍ）ニー６４．６５
ＣａｚＨｔｓＰｌｚＮｚＯ，、に対する分析：計算値：
　Ｃ６０，２９，８３，３７，Ｆ２７，２５．　Ｎ３，
３５．０５．７４分析値：　Ｃ６０，２０，Ｈ３，’２
０．　Ｆ２６，８０．　Ｎ３，５０．０５，８０３）４
．４’−ビス（２−（４−（３−ニトロフェノキシ）フ
ェニル）へキサフルオロイソプロピルツージフェニルエ
ーテル ４．４゛−ビス（２−（４−ヒドロキシフェニル）−へ
キサフルオロイソプロピルフジフェニルエーテル１９６
ｇをジメチルホルムアミド１０１００Ｏ中に溶解し、１
．３−ジニトロペンゾール１２０ｇ及び炭酸カリウム１
１４ｇの添加後８時間還流加熱する。放冷された反応混
合物を水１ＯＮ中に加え、濃塩酸１０−の添加後濾過す
る。分離された固体を激しく水洗する。
収量：淡褐色固体２１７ｇ　（理論値の８１％）、融点
：　１０５−１０７℃ 核磁気共鳴スペクトル： 蔦Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｈ）　　δ　（ＰＩ）ＩＩ＋）ニ
ア、０−７．１　　ｍ　　８Ｈ，７，３−７，５ｍ１２
Ｈ，７，９−８，Ｏｍ　４ｔｌ ”　Ｆ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１３）δ（ｐｐｍ）ニー６４．
４７５４）４，４”−ビス（２−（４−（３−アミノフ
ェノキシ）フェニル）へキサフルオロイソプロピルツー
ジフェニルエーテル ４．４°−ビス（２−（４−（３−ニトロフェノキシ）
フェニル）へキサフルオロイソプロピルフジフェニルエ
ーテル８９ｇをエタノール３００〇−中に溶解し、鋼製
オートクレーブ中でパラジウム炭素（５％）２ｇの添加
後５０℃で水素（１００バール）で還元する。触媒の濾
去後、溶剤を完全に留去する。粗生成物をメタノール中
に溶解し、沸胱温度で数回活性炭で処理する。
収量：淡黄色固体５４ｇ（理論値の６４％）、融点：１
４−１１℃ 核磁気共鳴スペクトル： ’＋１−ＮＭＲ（ＣＤＣＩ３）δ（ｐｐｍ）：３，５巾
広いｓ　４Ｂ、　６．４−６．５　ｍ６１１、６．９−
７．１　ｍ　１２１１゜７．２−７．４　ｍ　６１１ １９Ｆ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１３）δ（ｐｐｍ）ニー６４．
５　ｓＣ４□ｔｌｚｓＦ＋ｚＮｚｃｈに対する分析：計
算値：　Ｃ６０，２９，Ｈ３，２７，Ｆ２７，２５．　
Ｎ３，３５．　Ｏ５，７４測定値：　Ｃ６０，７０，ｌ
（３，３０，Ｆ２６．８０．　Ｎ３，６０．０６，２０
５）４．４°−ビス（２−（４−（２−クロロ−４−ニ
トロフェノキシ）フェニル）−へキサフルオロイソプロ
ピルフジフェニルエーテル ４．４′−ビス（２−（４−ヒドロキシフェニル）−へ
キサフルオロイソプロピルフジフェニルエーテル３９　
、２ｇをジメチルホルムアミド２５０ｄ中に溶解し、３
．４−ジクロロニトロペンゾール２５ｇ及び炭酸カリウ
ム２２ｇの添加後４時間還流加熱する。放冷された反応
混合物を水１０００＋＋＋ｆ中に滴下し、濃塩酸の添加
後濾過する。分離された固体を水洗し、乾燥後アセトニ
トリルから再結晶する。
収量：３７ｇ（理論値の６４％）、融点：　１５４−１
５６℃核磁気共鳴スペクトル： ’　＋１−ＮＭＲ（ＣＤＣ１３）　　δ（ｐｐｍ）ニア
、０−７．１　ｍ　ＩＯＨ，７，４−７，５ｍ　８Ｈ，
８，１−８，２２ｄ　２１１゜８．４　ｄ　２）１゜ １９Ｆ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１３）δ（＋）ｐｍ）ニー６４
．５５６）４，４°−ビス（２−（４−（４−アミノ−
２−クロロフェノキシ）フェニル）へキサフルオロイソ
プロピル〕ジフェニルエーテル ４．４″−ビス（２−（４−（２−クロロ−４−ニトロ
フェノキシ）−フェニル）へキサフルオロイソプロピル
〕ジフェニルエーテル２９ｇを酢酸エステル（酢酸エチ
ルエステル）３０〇−中に溶解し、パラジウム炭素（５
％）Ｉｇを加えた後鋼製オートクレーブ中で水素（１０
０バール）で５０℃で還元する。触媒の分離後、酢酸エ
ステルを回転蒸発器で完全に分離する。粗生成物を希塩
酸３〇−中に加え、エタノールから再結晶する。この場
合溶液を沸騰温度で活性炭で処理する。反応混合物を＋
１０℃に冷却後、沈澱した白色沈澱物を濾取し、水洗し
、水４００ｍ１中に懸濁する。懸濁液を希アンモニア−
溶液で中和し、次いで固体を濾取し、水洗する。
収量：白色固体２１ｇ（理論値の７２％）、融点：９３
−９５℃ 核磁気共鳴スペクトル： ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１３）　　δ（ｐｐｍ）：３，５
巾広いｓ　４Ｈ，６，５−６，６２ｄ　２Ｈ，６，８−
７，４ｍ　２０Ｈ”　Ｆ−ＮＭＲ（ＣＤＣｈ）δ（＋’
Ｐｍ）　ニー６４＋５５７）４．４’−ビス（２−（４
−ヒドロキシ−３−ニトロフェニル）へキサフルオロイ
ソプロピルツージフェニルエーテル ４．４゛−ビス（２−（４−ヒドロキシフェニル）へキ
サフルオロイソプロピル〕ジフェニルエーテル１３１ｇ
をジエチルエーテル７０〇−中に溶解し、１０℃で濃硝
酸７５　ｍｌを滴下する。反応混合物を１時間攪拌し、
次いで水−水混合物３００ｍｆｆ１上に注ぐ。有機相を
分離し、冷飽和炭酸水素ナトリウム−溶液で中性になる
まで洗滌し、１回水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥する
。溶剤の分離後、淡黄色固体１２３ｇ（理論値の８３％
）が残存する。融点：６７−７０℃。
核磁気共鳴スペクトルは次の値を生じる：’ｔｌ−ＮＭ
Ｒ（ＣＤＣｈ）　　δ（ｐｐｍ）ニア−７，７５ｍ　１
２１１．８，２５　ｄＨ １９Ｆ−ＮＭＲ（ＣＤＣｈ）δ（ｐｐｍ）ニー６４．６
５８）４．４’−ビス〔３−アミノ−（４−ヒドロキシ
フェニル）へキサフルオロイソプロピル〕ジフェニルエ
ーテル ４．４”−ビス（２−（４−ヒドロキシ−３−ニトロフ
ェニル）へキサフルオロイソプロピル〕ジフェニルエー
テル１５０ｇをエタノール１０００−中に溶解し、パラ
ジウム炭素（Ｐｄ１０％）４ｇを添加後２Ｉｌオートク
レーブ中で水素（１００バール）で２５℃で還元する。
還元後、触媒を濾去し、溶剤を回転蒸発器で留去する。
粗生成物を精製のために２回ドルオールで再結晶する。
収量：白灰色固体８２ｇ（理論値の６０％）、ガスクロ
マトグラフィーによる純度＞９９．５％。
融点７２０８−２０９°Ｃ Ｃ３゜Ｈ２゜Ｆ１□Ｎ２Ｏ３に対する分析：計算値：　
Ｃ５２，６４，Ｈ２，９５，Ｎ４，０９．０７，０１．
　Ｆ１ａ、３１測定値：　Ｃ５２，９０，１１３，００
，Ｎ４，１０．０　？、２２．　Ｆ１ａ、５０核磁気共
鳴スペクトル： ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｈ）　　δ（ｐｐｍ）　：９．３
−１０．０巾広い５２１１゜７、Ｌ−７，５ｍ　８１１
．６．３−６．８ｍ　６８．４．８巾広いｓ　４１１゜

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １）式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 〔式中Ａは残基 ▲数式、化学式、表等があります▼又は▲数式、化学式
    、表等があります▼ （式中Ｒ＾１及びＲ＾２は相異り、水素原子、−ＮＯ＿
    ２又は−ＮＨ＿２を示し、Ｒ＾３は水素原子又はハロゲ
    ン原子であり、Ｘは−ＮＯ＿２又は−ＮＨ＿２である。 但しＲ＾２が−ＮＯ＿２又は−ＮＨ＿２である場合Ｒ＾
    １は水素原子であり、Ｒ＾１が−ＮＯ＿２又は−ＮＨ＿
    ２である場合、Ｒ＾２は水素原子である。） である。〕 なる化合物。 ２）ハロゲン原子はクロロ原子である請求項１記載の化
    合物。 ３）式 ▲数式、化学式、表等があります▼ である請求項１記載の化合物。 ４）式 ▲数式、化学式、表等があります▼ である請求項１記載の化合物。 ５）式 ▲数式、化学式、表等があります▼ である請求項１記載の化合物。 ６）４，４’−ビス〔２−（４−ヒドロキシ−３−ニト
    ロフェニル）ヘキサフルオロイソプロピル〕−ジフェニ
    ルエーテルである請求項１記載の化合物。 ７）４，４’−ビス〔２−（３−アミノ−４−ヒドロキ
    シフェニル）ヘキサフルオロイソプロピル〕−ジフェニ
    ルエーテルである請求項１記載の化合物。 ８）ａ）芳香族ニトロ化合物と適当なジヒドロキシ化合
    物との反応によって又はｂ）適当なジヒドロキシ化合物
    のニトロ化、ｃ）場合により引き続いて還元して請求項
    １記載の化合物を製造するにあたり、４，４’−ビス〔
    ２−（４−ヒドロキシフェニル）−ヘキサフルオロプロ
    ピル〕−ジフェニルエーテルをａ）双極性非プロトン性
    溶剤中で溶解し、少なくとも化学量論量の塩基性化合物
    の存在下にハロゲンニトロベンゾール、ジハロゲンニト
    ロベンゾール又はニトロベンゾールと５０〜２００℃の
    温度で反応させる又はｂ）有機溶剤中で溶解し、ニトロ
    化酸混合物で−１０℃〜＋５０℃でニトロ化し、ｃ）反
    応生成物をそのまま単離する又は第二段階で I ）単離
    せずに化学量論的に水素添加する又はII）単離後接触的
    に又は化学量論的に水素添加することを特徴とする上記
    請求項１記載の化合物の製造方法。 ９）ニトロベンゾールとして４−クロロニトロベンゾー
    ル、３，４−ジクロロニトロベンゾール又は１，３−ジ
    ニトロベンゾールを、非プロトン性溶剤として好ましく
    はジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメ
    チルスルホオキシド、ジメチルスルホン、スルホラン又
    はＮ−メチル−ピロリドン−（２）を単独で又は混合物
    の形で使用する請求項８記載の方法。 １０）塩基性化合物として水酸化アルカリ、水酸化アン
    モニウム、水素化アルカリ、アルカリ−又はアルカリ土
    類金属の炭酸塩又は炭酸水素塩又はアルカリアルコラー
    ドを、ニトロ化酸混合物として有利には硝酸と硫酸、氷
    酢酸、無水酢酸又は水との混合物、好ましくは９８％硝
    酸を使用する請求項８又は９記載の方法。 １１）有機溶剤としてテトラヒドロフラン、ジオキサン
    、氷酢酸、エタノール、好ましくはジエチルエーテルを
    使用する請求項８又は１０記載の方法。 １２）ニトロ化での温度は５〜１５℃である請求項８、
    １０又は１１記載の方法。 １３）接触水素添加に対して白金金属、銅、鉄、コバル
    ト、ニッケル、これから成る混合物又は金属酸化物より
    成る群から選ばれた金属触媒を１０〜１３０℃の温度で
    使用する請求項８ないし１２のいずれかに記載した方法
    。 １４）高温度に安定な重縮合物の製造に請求項１記載の
    化合物を使用する方法。 １５）ポリイミド及びポリアミド又はポリベンズオキサ
    ゾールの製造に使用する請求項１４記載の使用方法。
JP63293756A 1987-11-24 1988-11-22 ４，４，’−ビス〔２−（４−ヒドロキシフエニル）ヘキサフルオロイソプロピル〕ジフエニルエーテルを基本とするフッ素含有化合物、その製造方法及びその使用方法 Pending JPH01165552A (ja)

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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4963647A (en) * 1989-02-27 1990-10-16 Hoechst Celanese Corp. Polyamide-imide polymers having 12-F fluorine-containing linking groups
DE3909881A1 (de) * 1989-03-25 1990-10-11 Hoechst Ag Hexafluorisopropylgruppenhaltige monomere, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3489815A (en) * 1966-04-11 1970-01-13 Wilhelm Kraus Jr Nitro-phenoxy compounds
US4111906A (en) * 1976-07-19 1978-09-05 Trw Inc. Polyimides prepared from perfluoroisopropylidene diamine
US4521623A (en) * 1983-04-07 1985-06-04 Trw Inc. 2,2-Bis[(2-halo-4-aminophenoxy)phenyl]-hexafluoropropane
US4579885A (en) * 1983-09-22 1986-04-01 Union Carbide Corporation Epoxy compositions containing substituted diamine hardeners
EP0192480B1 (en) * 1985-02-22 1994-11-23 MITSUI TOATSU CHEMICALS, Inc. Bis(3-aminophenoxy) aromatics and method of preparing the same
US4925915A (en) * 1987-11-24 1990-05-15 Hoechst Celanese Corp. Polymers prepared from 4,4'-bis(2-(amino(halo) phenoxyphenyl) hexafluoroisopropyl) diphenyl ether
US4845183A (en) * 1987-11-24 1989-07-04 Hoechst Celanese Corporation Heat resistant polyamide and polybenzoxazole from bis-((amino-hydroxyphenyl)hexafluoroisopropyl)diphenyl ethers

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01301653A (ja) * 1988-05-31 1989-12-05 Central Glass Co Ltd ２，２−ビス（３−ニトロ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンの製造法

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