JP3054482B2 - ビス（アミノベンゾイルオキシ）ナフタレンおよびその製造方法 - Google Patents
ビス（アミノベンゾイルオキシ）ナフタレンおよびその製造方法Info
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- JP3054482B2 JP3054482B2 JP4003875A JP387592A JP3054482B2 JP 3054482 B2 JP3054482 B2 JP 3054482B2 JP 4003875 A JP4003875 A JP 4003875A JP 387592 A JP387592 A JP 387592A JP 3054482 B2 JP3054482 B2 JP 3054482B2
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、新規なビス〔３（また
は４）−アミノベンゾイルオキシ〕ナフタレンおよびそ
の製造方法に関するものである。このビス〔３（または
４）−アミノベンゾイルオキシ〕ナフタレン（以下ＢＡ
ＢＯＮと略記する）はポリアミド、ポリイミド、ポリア
ミドイミド、ビスマレイミドおよびエポキシ樹脂の原料
として利用され、さらに、他のマレイミド化合物やエポ
キシ化合物の硬化剤として利用できる。
は４）−アミノベンゾイルオキシ〕ナフタレンおよびそ
の製造方法に関するものである。このビス〔３（または
４）−アミノベンゾイルオキシ〕ナフタレン（以下ＢＡ
ＢＯＮと略記する）はポリアミド、ポリイミド、ポリア
ミドイミド、ビスマレイミドおよびエポキシ樹脂の原料
として利用され、さらに、他のマレイミド化合物やエポ
キシ化合物の硬化剤として利用できる。
【０００２】
【従来の技術】近年、耐熱樹脂材料は、熱的、機械的性
能のほか、複合材としての使用における可とう性や成形
加工性に代表される諸性能を満足させることが要求され
ている。このような材料として、ポリイミド樹脂が注目
されているが、ポリイミド樹脂は高性能である反面、成
形加工が難しいという欠点があった。例えば、最も典型
的な４，４’−ジアミノジフェニルエーテルとピロメリ
ット酸無水物から成る芳香族ポリイミド（Ｄｕ’ｐｏｎ
ｔ社、商品名「Ｖｅｓｐｅｌ」）は不溶、不融であるた
め、粉末焼結成形という特殊な方法を用いる。このた
め、この方法では複雑な形状の加工品が得られ難く、満
足な成形品を得るには成形品をさらに切削等により仕上
げ加工をしなければならないので、加工コストが高くな
るという大きな欠点がある。
能のほか、複合材としての使用における可とう性や成形
加工性に代表される諸性能を満足させることが要求され
ている。このような材料として、ポリイミド樹脂が注目
されているが、ポリイミド樹脂は高性能である反面、成
形加工が難しいという欠点があった。例えば、最も典型
的な４，４’−ジアミノジフェニルエーテルとピロメリ
ット酸無水物から成る芳香族ポリイミド（Ｄｕ’ｐｏｎ
ｔ社、商品名「Ｖｅｓｐｅｌ」）は不溶、不融であるた
め、粉末焼結成形という特殊な方法を用いる。このた
め、この方法では複雑な形状の加工品が得られ難く、満
足な成形品を得るには成形品をさらに切削等により仕上
げ加工をしなければならないので、加工コストが高くな
るという大きな欠点がある。
【０００３】このような欠点を改良する目的で、原料の
ジアミン成分を種々改良する方法が試みられている。例
えば、モノマー単位における分子鎖の増加や折れ構造を
利用する方法、あるいは、ナフタレン骨格やエステル結
合を持つ一部のポリマーが液晶性を持つことから、この
ような性質を利用する方法等が挙げられる。しかし、現
在まで、可とう性や成形加工性等の要求性能を完全に満
足させるものは見出されていない。
ジアミン成分を種々改良する方法が試みられている。例
えば、モノマー単位における分子鎖の増加や折れ構造を
利用する方法、あるいは、ナフタレン骨格やエステル結
合を持つ一部のポリマーが液晶性を持つことから、この
ような性質を利用する方法等が挙げられる。しかし、現
在まで、可とう性や成形加工性等の要求性能を完全に満
足させるものは見出されていない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、可と
う性や成形加工性を充分満足させるような樹脂原料とし
ての新規なジアミン化合物を提供することである。
う性や成形加工性を充分満足させるような樹脂原料とし
ての新規なジアミン化合物を提供することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
を解決するために鋭意検討した結果、本発明を完成する
に到った。すなわち、本発明は式（Ｉ）（化４）で表さ
れるビス（アミノベンゾイルオキシ）ナフタレン、
を解決するために鋭意検討した結果、本発明を完成する
に到った。すなわち、本発明は式（Ｉ）（化４）で表さ
れるビス（アミノベンゾイルオキシ）ナフタレン、
【０００６】
【化４】 （式中、−ＮＨ2 基は３位または４位である）および式
（II）（化５）で表されるニトロベンゾイルハライド
（II）（化５）で表されるニトロベンゾイルハライド
【０００７】
【化５】 （式中、Ｘはハロゲン原子を示し、−ＮＯ2 基は３位ま
たは４位である）とジヒドロキシナフタレンをエステル
化反応させて式（III)（化６）で表されるビス（ニトロ
ベンゾイルオキシ）ナフタレン
たは４位である）とジヒドロキシナフタレンをエステル
化反応させて式（III)（化６）で表されるビス（ニトロ
ベンゾイルオキシ）ナフタレン
【０００８】
【化６】 （式中、−ＮＯ2 基は３位または４位である）を得、こ
れを還元することによるビス（アミノベンゾイルオキ
シ）ナフタレンの製造方法に関するものである。
れを還元することによるビス（アミノベンゾイルオキ
シ）ナフタレンの製造方法に関するものである。
【０００９】本発明のビス（アミノベンゾイルオキシ）
ナフタレン（ＢＡＢＯＮ）は、ナフタレン環に２個のベ
ンゼン環がそれぞれエステル結合によって連結されてお
り、そのカルボニル基に対して両端のアミノ基はそれぞ
れメタまたはパラ位に位置するビス〔３（または４）−
アミノベンゾイルオキシ〕ナフタレンであり、このジア
ミンから得られるポリイミド樹脂は、耐熱性、機械的特
性に優れ、かつ分子の折れ構造に由来する優れた成型加
工性を有する。このＢＡＢＯＮは、式（II）で表される
３（または４）−ニトロベンゾイルハライドとジヒドロ
キシナフタレンとの縮合反応によりビス〔３（または
４）−ニトロベンゾイルオキシ〕ナフタレンを得、これ
を還元して製造される。
ナフタレン（ＢＡＢＯＮ）は、ナフタレン環に２個のベ
ンゼン環がそれぞれエステル結合によって連結されてお
り、そのカルボニル基に対して両端のアミノ基はそれぞ
れメタまたはパラ位に位置するビス〔３（または４）−
アミノベンゾイルオキシ〕ナフタレンであり、このジア
ミンから得られるポリイミド樹脂は、耐熱性、機械的特
性に優れ、かつ分子の折れ構造に由来する優れた成型加
工性を有する。このＢＡＢＯＮは、式（II）で表される
３（または４）−ニトロベンゾイルハライドとジヒドロ
キシナフタレンとの縮合反応によりビス〔３（または
４）−ニトロベンゾイルオキシ〕ナフタレンを得、これ
を還元して製造される。
【００１０】本発明のＢＡＢＯＮを製造する方法を具体
的に説明する。まず、第一段の反応で、ジヒドロキシナ
フタレンを３（または４）−ニトロベンゾイルハライド
と縮合してビス（ニトロベンゾイルオキシ）ナフタレン
を製造する。この工程では、原料のジヒドロキシナフタ
レンとして、２，７−ジヒドロキシナフタレン、２，６
−ジヒドロキシナフタレン、１，５−ジヒドロキシナフ
タレンおよび１，６−ジヒドロキシナフタレンが使用で
きる。また、もう一方の原料のニトロベンゾイルハライ
ドとしては、具体的には、３−ニトロベンゾイルフルオ
ライド、４−ニトロベンゾイルフルオライド、３−ニト
ロベンゾイルブロマイド、４−ニトロベンゾイルブロマ
イド、３−ニトロベンゾイルヨーダイド、４−ニトロベ
ンゾイルヨーダイド、３−ニトロベンゾイルクロリド、
４−ニトロベンゾイルクロリドなどが使用され、工業的
には、３−ニトロベンゾイルクロリドおよび４−ニトロ
ベンゾイルクロリドが好ましい。ニトロベンゾイルハラ
イドはジヒドロキシナフタレン１モルに対して、２．０
〜３．０モル好ましくは２．２〜２．５モルとなるよう
に用いる。
的に説明する。まず、第一段の反応で、ジヒドロキシナ
フタレンを３（または４）−ニトロベンゾイルハライド
と縮合してビス（ニトロベンゾイルオキシ）ナフタレン
を製造する。この工程では、原料のジヒドロキシナフタ
レンとして、２，７−ジヒドロキシナフタレン、２，６
−ジヒドロキシナフタレン、１，５−ジヒドロキシナフ
タレンおよび１，６−ジヒドロキシナフタレンが使用で
きる。また、もう一方の原料のニトロベンゾイルハライ
ドとしては、具体的には、３−ニトロベンゾイルフルオ
ライド、４−ニトロベンゾイルフルオライド、３−ニト
ロベンゾイルブロマイド、４−ニトロベンゾイルブロマ
イド、３−ニトロベンゾイルヨーダイド、４−ニトロベ
ンゾイルヨーダイド、３−ニトロベンゾイルクロリド、
４−ニトロベンゾイルクロリドなどが使用され、工業的
には、３−ニトロベンゾイルクロリドおよび４−ニトロ
ベンゾイルクロリドが好ましい。ニトロベンゾイルハラ
イドはジヒドロキシナフタレン１モルに対して、２．０
〜３．０モル好ましくは２．２〜２．５モルとなるよう
に用いる。
【００１１】この第一段の反応においては、通常、脱ハ
ロゲン化水素剤を使用する。この脱ハロゲン化水素剤と
しては、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の水酸化
物、炭酸塩、重炭酸塩、アンモニアあるいは通常の有機
アミン類等である。例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カル
シウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチ
ウム、水酸化バリウム、水酸化カリウム、酸化カルシウ
ム、アンモニア、トリエチルアミン、ピリジン、ジメチ
ルピリジンおよびＮ−メチルモルホリンがあげられる。
これら脱ハロゲン化水素剤は、必要により２種以上を混
合しても良い。脱ハロゲン化水素剤の使用量は、原料の
ジヒドロキシナフタレンに対し通常２〜７倍モル、好ま
しくは２〜３倍モル使用する。
ロゲン化水素剤を使用する。この脱ハロゲン化水素剤と
しては、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の水酸化
物、炭酸塩、重炭酸塩、アンモニアあるいは通常の有機
アミン類等である。例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カル
シウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化リチ
ウム、水酸化バリウム、水酸化カリウム、酸化カルシウ
ム、アンモニア、トリエチルアミン、ピリジン、ジメチ
ルピリジンおよびＮ−メチルモルホリンがあげられる。
これら脱ハロゲン化水素剤は、必要により２種以上を混
合しても良い。脱ハロゲン化水素剤の使用量は、原料の
ジヒドロキシナフタレンに対し通常２〜７倍モル、好ま
しくは２〜３倍モル使用する。
【００１２】この第一段の反応においては、通常、反応
溶媒を使用する。反応溶媒としては反応に不活性なもの
であれば特に限定されるものでなく、例えば、エーテ
ル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコ
ールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチル
エーテル等のエーテル類、ヘキサン、シクロヘキサン等
の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等
の芳香族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエス
テル類、およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、１，３
−ジメチル−２−イミダゾリジノン等の非プロトン性極
性溶剤が使用できる。溶媒の使用量は、原料のジヒドロ
キシナフタレンおよび３（または４）−ニトロベンゾイ
ルハライドを懸濁させるかあるいは完全に溶解するに足
る量で十分であり、特に限定されないが、通常、原料に
対して０．５〜１０重量倍で十分である。
溶媒を使用する。反応溶媒としては反応に不活性なもの
であれば特に限定されるものでなく、例えば、エーテ
ル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコ
ールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチル
エーテル等のエーテル類、ヘキサン、シクロヘキサン等
の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等
の芳香族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエス
テル類、およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、１，３
−ジメチル−２−イミダゾリジノン等の非プロトン性極
性溶剤が使用できる。溶媒の使用量は、原料のジヒドロ
キシナフタレンおよび３（または４）−ニトロベンゾイ
ルハライドを懸濁させるかあるいは完全に溶解するに足
る量で十分であり、特に限定されないが、通常、原料に
対して０．５〜１０重量倍で十分である。
【００１３】反応温度は、特に限定されない。一般には
０〜１００℃、好ましくは０〜５０℃である。反応時間
は、１〜２４時間である。反応終了後、結晶が析出して
いる場合は濾過し、それ以外の場合は反応液を濃縮する
か、またはそのまま水に排出して、析出した生成物を濾
過することにより粗ビス〔３（または）−ニトロベンゾ
イルオキシ〕ナフタレンとして得ることができる。この
粗生成物は、必要に応じて通常の方法で精製することも
できる。
０〜１００℃、好ましくは０〜５０℃である。反応時間
は、１〜２４時間である。反応終了後、結晶が析出して
いる場合は濾過し、それ以外の場合は反応液を濃縮する
か、またはそのまま水に排出して、析出した生成物を濾
過することにより粗ビス〔３（または）−ニトロベンゾ
イルオキシ〕ナフタレンとして得ることができる。この
粗生成物は、必要に応じて通常の方法で精製することも
できる。
【００１４】次に、第二段の反応、即ち、得られたビス
〔３（または４）−ニトロベンゾイルオキシ〕ナフタレ
ンを還元してＢＡＢＯＮを得る反応について説明する。
この反応では、通常、接触還元が好ましい。接触還元で
使用される還元触媒としては、一般に接触還元に用いら
れている金属触媒、例えば、ニッケル、パラジウム、白
金、ロジウム、ルテニウム、コバルト、銅などを使用す
ることができる。工業的には、パラジウム触媒を使用す
るのが好ましい。これらの触媒は、金属の状態でも使用
することができるが、通常は、カーボン、硫酸バリウ
ム、シリカゲル、アルミナ、セライトなどの担体表面に
担持させて用いたり、またニッケル、コバルト、銅など
はラネー触媒としても用いられる。触媒の使用量は特に
制限はないが、原料に対して０．０１〜１０重量％の範
囲であり、通常、金属の状態で使用する場合は、２〜８
重量％、担体に担持させた場合では、０．１〜５重量％
の範囲である。
〔３（または４）−ニトロベンゾイルオキシ〕ナフタレ
ンを還元してＢＡＢＯＮを得る反応について説明する。
この反応では、通常、接触還元が好ましい。接触還元で
使用される還元触媒としては、一般に接触還元に用いら
れている金属触媒、例えば、ニッケル、パラジウム、白
金、ロジウム、ルテニウム、コバルト、銅などを使用す
ることができる。工業的には、パラジウム触媒を使用す
るのが好ましい。これらの触媒は、金属の状態でも使用
することができるが、通常は、カーボン、硫酸バリウ
ム、シリカゲル、アルミナ、セライトなどの担体表面に
担持させて用いたり、またニッケル、コバルト、銅など
はラネー触媒としても用いられる。触媒の使用量は特に
制限はないが、原料に対して０．０１〜１０重量％の範
囲であり、通常、金属の状態で使用する場合は、２〜８
重量％、担体に担持させた場合では、０．１〜５重量％
の範囲である。
【００１５】反応溶媒としては、反応に不活性なもので
あれば特に限定されるものでなく、例えば、メタノー
ル、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコー
ル類、エチレングリコール、プロピレングリコール等の
グリコール類、エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフ
ラン、エチレングリコールジメチルエーテル、メチルセ
ロソルブ、アニソール等のエーテル類、アセトン、メチ
ルエチルケトン等のケトン類、ヘキサン、シクロヘキサ
ン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン等の芳香族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等の
エステル類、およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、
１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等の非プロト
ン性極性溶剤が使用できる。溶媒の使用量は、原料を懸
濁させるかあるいは完全に溶解させるに足る量で十分で
あり、特に限定されないが、通常、原料に対して０．５
〜１０重量倍で十分である。
あれば特に限定されるものでなく、例えば、メタノー
ル、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコー
ル類、エチレングリコール、プロピレングリコール等の
グリコール類、エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフ
ラン、エチレングリコールジメチルエーテル、メチルセ
ロソルブ、アニソール等のエーテル類、アセトン、メチ
ルエチルケトン等のケトン類、ヘキサン、シクロヘキサ
ン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン等の芳香族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等の
エステル類、およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、
１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等の非プロト
ン性極性溶剤が使用できる。溶媒の使用量は、原料を懸
濁させるかあるいは完全に溶解させるに足る量で十分で
あり、特に限定されないが、通常、原料に対して０．５
〜１０重量倍で十分である。
【００１６】反応温度は特に限定はないが、一般的に
は、２０〜２００℃の範囲、特に２０〜１００℃が好ま
しい。また反応圧力は、通常、常圧〜５０ａｔｍ程度で
ある。反応は通常、原料を溶媒に溶解、もしくは懸濁さ
せた状態で触媒を加え、ついで攪拌下に所定の温度で水
素を導入して還元反応を行う。反応の終点は水素吸収量
によっても、あるいは薄層クロマトグラフィーや高速液
体クロマトグラフィーなどによっても決定できる。反応
終了後、触媒を濾過して除去する。その後、冷却する等
の方法で結晶を析出させ、濾過、洗浄、乾燥して目的物
を得る。この様にして得られた４，４’−ビス〔３（ま
たは４）−アミノベンゾイルオキシ〕ビフェニルは、必
要に応じて通常の方法で精製される。
は、２０〜２００℃の範囲、特に２０〜１００℃が好ま
しい。また反応圧力は、通常、常圧〜５０ａｔｍ程度で
ある。反応は通常、原料を溶媒に溶解、もしくは懸濁さ
せた状態で触媒を加え、ついで攪拌下に所定の温度で水
素を導入して還元反応を行う。反応の終点は水素吸収量
によっても、あるいは薄層クロマトグラフィーや高速液
体クロマトグラフィーなどによっても決定できる。反応
終了後、触媒を濾過して除去する。その後、冷却する等
の方法で結晶を析出させ、濾過、洗浄、乾燥して目的物
を得る。この様にして得られた４，４’−ビス〔３（ま
たは４）−アミノベンゾイルオキシ〕ビフェニルは、必
要に応じて通常の方法で精製される。
【００１７】
【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳細に説明
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 実施例１ 〔第一段の反応〕攪拌器、温度計および還流冷却器を備
えたガラス製反応容器に、２，７−ジヒドロキシナフタ
レン４０．０ｇ（０．２５モル）、ピリジン４１．５ｇ
（０．５３モル）およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
５００ｇを装入し、内温を２５℃に保ち攪拌した。次い
で９７．５ｇ（０．５３モル）の４−ニトロベンゾイル
クロリドを３０分間で徐々に加えた。この間内温は２５
〜４０℃であった。さらに同温度で３時間攪拌を続け
た。反応終了後、水５０ｇを加えたのちに内温を２５℃
まで冷却し、析出した結晶を濾過した。これを洗浄、乾
燥して、粗２，７−ビス（４−ニトロベンゾイルオキ
シ）ナフタレン９７．６ｇを得た。これを２４０ｇの
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドで再結晶して、精２，７
−ビス（４−ニトロベンゾイルオキシ）ナフタレン９
３．２ｇ（収率８１．３％）を得た。高速液体クロマト
グラフィーによる純度は、９９．３％であった。融点は
２３５．５〜２３６．２℃であった。 〔第二段の反応〕次に、攪拌器、温度計および還流冷却
器を備えたガラス製密閉容器に、上記の２，７−ビス
（４−ニトロベンゾイルオキシ）ナフタレン６４．２ｇ
（０．１４モル）、５％パラジウム／アルミナ触媒（エ
ヌ・イー・ケムキャット社）１．３ｇおよびＮ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミド６５０ｇを装入し、１５〜２５℃の
温度において、攪拌しながら水素を導入すると約９時間
で１８．５ｌの水素を吸収した。反応終了後、同温度で
反応溶液を濾過して触媒を除去した。次にこの溶液温度
を８０℃まで昇温し、２８０ｇの水を加えて後、２５℃
まで徐冷すると、結晶が析出した。これを濾過、洗浄、
乾燥して、粗２，７−ビス（４−アミノベンゾイルオキ
シ）ナフタレン４７．１ｇを得た。７００ｇの２−メト
キシエタノールで再結晶して、精製２，７−ビス（４−
アミノベンゾイルオキシ）ナフタレン４２．１ｇ（収率
７５．５％）を得た。高速液体クロマトグラフィーによ
る純度は９９．０％であった。融点は２６６．８〜２６
７．２℃であった。 元素分析結果 Ｃ Ｈ Ｎ 計算値（％） ７２．４ ４．６ ７．０ 測定値（％） ７３．０ ４．４ ７．１ ＭＳ ３９８（Ｍ+ ） 、 １２０ 、 ９２ ＩＲスペクトルを図１に示した。
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 実施例１ 〔第一段の反応〕攪拌器、温度計および還流冷却器を備
えたガラス製反応容器に、２，７−ジヒドロキシナフタ
レン４０．０ｇ（０．２５モル）、ピリジン４１．５ｇ
（０．５３モル）およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
５００ｇを装入し、内温を２５℃に保ち攪拌した。次い
で９７．５ｇ（０．５３モル）の４−ニトロベンゾイル
クロリドを３０分間で徐々に加えた。この間内温は２５
〜４０℃であった。さらに同温度で３時間攪拌を続け
た。反応終了後、水５０ｇを加えたのちに内温を２５℃
まで冷却し、析出した結晶を濾過した。これを洗浄、乾
燥して、粗２，７−ビス（４−ニトロベンゾイルオキ
シ）ナフタレン９７．６ｇを得た。これを２４０ｇの
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドで再結晶して、精２，７
−ビス（４−ニトロベンゾイルオキシ）ナフタレン９
３．２ｇ（収率８１．３％）を得た。高速液体クロマト
グラフィーによる純度は、９９．３％であった。融点は
２３５．５〜２３６．２℃であった。 〔第二段の反応〕次に、攪拌器、温度計および還流冷却
器を備えたガラス製密閉容器に、上記の２，７−ビス
（４−ニトロベンゾイルオキシ）ナフタレン６４．２ｇ
（０．１４モル）、５％パラジウム／アルミナ触媒（エ
ヌ・イー・ケムキャット社）１．３ｇおよびＮ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミド６５０ｇを装入し、１５〜２５℃の
温度において、攪拌しながら水素を導入すると約９時間
で１８．５ｌの水素を吸収した。反応終了後、同温度で
反応溶液を濾過して触媒を除去した。次にこの溶液温度
を８０℃まで昇温し、２８０ｇの水を加えて後、２５℃
まで徐冷すると、結晶が析出した。これを濾過、洗浄、
乾燥して、粗２，７−ビス（４−アミノベンゾイルオキ
シ）ナフタレン４７．１ｇを得た。７００ｇの２−メト
キシエタノールで再結晶して、精製２，７−ビス（４−
アミノベンゾイルオキシ）ナフタレン４２．１ｇ（収率
７５．５％）を得た。高速液体クロマトグラフィーによ
る純度は９９．０％であった。融点は２６６．８〜２６
７．２℃であった。 元素分析結果 Ｃ Ｈ Ｎ 計算値（％） ７２．４ ４．６ ７．０ 測定値（％） ７３．０ ４．４ ７．１ ＭＳ ３９８（Ｍ+ ） 、 １２０ 、 ９２ ＩＲスペクトルを図１に示した。
【００１８】実施例２〜８ 実施例１と同様にして表１（表１）に示す各種ジアミン
化合物を合成した。
化合物を合成した。
【００１９】
【表１】
【００２０】
【発明の効果】本発明によるビス〔３（または４）−ア
ミノベンゾイルオキシ〕ナフタレンは新規な物質であ
り、これを原料として可とう性や成形性に優れた高耐熱
性のポリイミド樹脂を提供することができる。
ミノベンゾイルオキシ〕ナフタレンは新規な物質であ
り、これを原料として可とう性や成形性に優れた高耐熱
性のポリイミド樹脂を提供することができる。
【図１】この図は、実施例１で得られたジアミン化合物
のＫＢｒ錠剤法のＩＲスペクトルである。
のＫＢｒ錠剤法のＩＲスペクトルである。
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07C 229/54 C07C 227/06 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (2)
- 【請求項１】 式（Ｉ）（化１）で表されるビス（アミ
ノベンゾイルオキシ）ナフタレン。 【化１】 （式中、−ＮＨ2 基は３位または４位である） - 【請求項２】 式（II）（化２）で表されるニトロベン
ゾイルハライド 【化２】 （式中、Ｘはハロゲン原子を示し、−ＮＯ2 基は３位ま
たは４位である）とジヒドロキシナフタレンをエステル
化反応させて式（III)で表されるビス（ニトロベンゾイ
ルオキシ）ナフタレン 【化３】 （式中、−ＮＯ2 基は３位または４位である）を得、こ
れを還元することを特徴とする請求項１記載のビス（ア
ミノベンゾイルオキシ）ナフタレンの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4003875A JP3054482B2 (ja) | 1992-01-13 | 1992-01-13 | ビス（アミノベンゾイルオキシ）ナフタレンおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| JP4003875A JP3054482B2 (ja) | 1992-01-13 | 1992-01-13 | ビス（アミノベンゾイルオキシ）ナフタレンおよびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05194340A JPH05194340A (ja) | 1993-08-03 |
| JP3054482B2 true JP3054482B2 (ja) | 2000-06-19 |
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ID=11569364
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4003875A Expired - Fee Related JP3054482B2 (ja) | 1992-01-13 | 1992-01-13 | ビス（アミノベンゾイルオキシ）ナフタレンおよびその製造方法 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3054482B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
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|---|---|---|---|---|
| WO2020232597A1 (zh) * | 2019-05-20 | 2020-11-26 | 广东生益科技股份有限公司 | 二胺化合物、其制备方法、热固性树脂组合物及其应用 |
| CN111960960B (zh) * | 2019-05-20 | 2022-12-30 | 广东生益科技股份有限公司 | 二胺化合物、其制备方法、热固性树脂组合物及其应用 |
-
1992
- 1992-01-13 JP JP4003875A patent/JP3054482B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05194340A (ja) | 1993-08-03 |
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