JP6120111B2 - ポリマー溶液、ポリマーフィルム、積層複合材、ディスプレイ用、光学用又は照明用の素子、及びこれらの製造 - Google Patents

Description

本開示は、ポリマー溶液、該ポリマー溶液で作成されるポリマーフィルム、該ポリマーフィルムを含む積層複合材、該ポリマーフィルムを含むディスプレイ用素子、光学用素子及び照明用素子、並びに、これらの製造に関する。

ディスプレイ用素子には透明性が必要とされるため、その基板としてガラス板を用いたガラス基板が使用されていた（特許文献１：JP10311987(A)）。しかし、ガラス基板を用いたディスプレイ用素子は、重量が重い、割れる、曲がらない等の問題点が指摘されることがあった。そこで、ガラス基板に換えて透明樹脂フィルムを使用する試みが提案された。

光学用途の透明樹脂としては、透明度が高いポリカーボネート等が知られるが、ディスプレイ用素子の製造に用いる場合には耐熱性や機械強度が問題となる。一方、耐熱性の樹脂としてポリイミドが挙げられるが、一般的なポリイミドは茶褐色に着色しているため光学用途には問題があり、また、透明性を有するポリイミドとしては、環状構造を有するポリイミドが知られているが、これは耐熱性が低下するという問題がある。

WO 2004/039863（特許文献２）及びJP2008260266(A)（特許文献３）は、光学用のポリアミドフィルムとして、高剛性及び耐熱性を両立する、トリフルオロ基を含むジアミンを有する芳香族ポリアミドを開示する。

特開平１０−３１１９８７号公報 ＷＯ２００４／０３９８６３明細書 特開２００８−２６０２６６号公報

本開示は、一態様において、機械特性が向上したポリマーフィルムを提供する。

本開示は、一態様において、ベンゾオキサゾール前駆体構造を有する構造単位又はベンゾオキサゾール構造を有する構造単位を含むポリマーと溶媒とを含むポリマー溶液に関する。

本開示は、一態様において、本開示に係るポリマー溶液から形成されるポリマーフィルムに関する。また、本開示は、その他の態様において、ガラスプレート、ポリマーフィルム層を含み、ガラスプレートの一方の面上にポリマーフィルムが積層されており、ガラスプレート上に本開示に係るポリマー溶液を塗布することで得られた又は得られうる積層複合材に関する。

本開示は、一態様において、本開示に係る積層複合材のポリマー層のガラスプレートと対向する面と反対の面上にディスプレイ用素子、光学用素子、又は、照明用素子を形成する工程を含むディスプレイ用素子、光学用素子、又は、照明用素子の製造方法に関し、また、該方法で製造されたディスプレイ用素子、光学用素子、又は、照明用素子に関する。

本開示に係るポリマー溶液は、一又は複数の実施形態において、機械特性が向上したポリマーフィルムを形成できる。

図１は、一実施形態にかかる有機ＥＬ素子１の構成を示す概略断面図である。 図２は、一実施形態にかかるＯＬＥＤ素子の製造方法を説明するフロー図である。

例えば、有機エレクトロクミネセンス（ＯＥＬ）や有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）などのディスプレイ用素子、光学用素子又は照明用素子は、しばしば図２のフロー図で示される製造方法で製造される。すなわち、まず、ポリマー溶液（ワニス）がガラス支持材又はシリコンウエハー上に塗布又はキャストされる（工程Ａ）。つぎに、塗布又はキャストされたポリマー溶液が乾燥又は硬化されることでフィルムが形成される（工程Ｂ）。そのフィルム上に例えばＯＬＥＤ等の素子が形成され（工程Ｃ）、その後、必要に応じて、ＯＬＥＤ等の素子（製品）は支持材から剥離される（工程Ｄ）。

図２に示されるディスプレイ用素子、光学用素子又は照明用素子の製造において、ポリマー溶液として芳香族ポリアミドのワニスを用いる場合、芳香族ポリアミドフィルムの機械特性が問題になる場合がある。すなわち、芳香族ポリアミドフィルムはヤング率が高いが伸び率が低いため、脆い材料となっている。したがって、ポリアミドフィルムの伸び率を向上させることで、成形したフィルムの取扱性が向上し、フィルム破損が抑制できる。

本開示は、ポリマー溶液中のポリマーにオキサゾール前駆体構造又はベンゾオキサゾール構造が存在すれば、該ポリマー溶液をフィルムにしたときに、該フィルムに機械特性、とりわけ靭性を付与できるという知見に基づく。なお、本開示では、靭性を破断エネルギーとして定量的に表わすこととする。破断エネルギーは、引張り試験時にサンプルが破断するまでの応力（Ｐａ＝Ｎ／ｍ²）を変位（無次元）で積分した値であり、単位はＪ／ｍ³である。破断エネルギーは、具体的には、実施例に記載の方法で測定できる。

よって、本開示は、一態様において、ベンゾオキサゾール前駆体構造を有する構造単位又はベンゾオキサゾール構造を有する構造単位を含むポリマーと溶媒とを含むポリマー溶液（以下、「本開示に係るポリマー溶液」ともいう。）に関する。

［ポリマー溶液におけるポリマー］
本開示に係るポリマー溶液におけるポリマーは、一又は複数の実施形態において、形成されるポリマーフィルムの靭性向上の観点から、前記ポリマーを構成する全構造単位に対するベンゾオキサゾール前駆体構造を有する構造単位及びベンゾオキサゾール構造を有する構造単位の合計が、０を超え、０．１モル％以上、１．０モル％以上、３．０モル％以上、５．０モル％以上、６．０モル％以上、７．０モル％以上、８．０モル％以上、９．０モル％以上、又は、１０．０モル％以上である。
また、本開示に係るポリマー溶液におけるポリマーは、一又は複数の実施形態において、形成されるポリマーフィルムの透明性向上の観点から、前記ポリマーを構成する全構造単位に対するベンゾオキサゾール前駆体構造を有する構造単位及びベンゾオキサゾール構造を有する構造単位の合計が、１００モル％以下、５０モル％以下、５０モル％未満、４５モル％以下、４０モル％以下、３５モル％以下、３０モル％以下、２５モル％以下、又は、２０モル％以下である。
そして、本開示に係るポリマー溶液におけるポリマーは、一又は複数の実施形態において、形成されるポリマーフィルムの靭性向上の観点及び形成されるポリマーフィルムの透明性向上の観点から、前記ポリマーを構成する全構造単位に対するベンゾオキサゾール前駆体構造を有する構造単位及びベンゾオキサゾール構造を有する構造単位の合計が、０を超え１００モル％以下、０を超え５０モル％以下、０．１モル％以上５０モル％未満、１．０〜４５モル％、３．０〜４０モル％、５．０〜４０モル％、５．０〜３５モル％、６．０〜３０モル％、７．０〜３０モル％、８．０〜２５モル％、９．０〜２５モル％、又は、１０．０〜２０モル％である。

本開示に係るポリマー溶液におけるポリマーは、一又は複数の実施形態において、透明樹脂又は透明フィルムを形成できるものがあげられ、具体的には、ポリオレフィン（ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリノルボルネン等）、アモルファスポリオレフィン、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトン、ポリケトンスルフィド、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリフェニレンスルフィド、ポリフェニレンオキサイド、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリメタクリレート、ポリアクリレート、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリノルボルネン、セルロース系ポリマー（トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等）、及びこれらの混合物が挙げられる。本開示に係るポリマー溶液におけるポリマーは、一又は複数の実施形態において、ベンゾオキサゾール前駆体構造を有する上述のポリマーがベンゾオキサゾール構造を形成したポリマーを含む。

本開示に係るポリマー溶液におけるポリマーは、一又は複数の実施形態において、ポリアミドである。一又は複数の実施形態において、該ポリマーは、ベンゾオキサゾール前駆体構造を有するポリアミドがベンゾオキサゾール構造を形成したポリマーを含んでもよい。

［ベンゾオキサゾール前駆体構造を有する構造単位］
本開示に係るポリマー溶液におけるポリマーにおいて、ベンゾオキサゾール前駆体構造を有する構造単位は、一又は複数の実施形態において、下記化学式：

で示される基を有する構造単位が挙げられる。上記式において、Ｒ₂は、任意の置換基である。３つのＲ₂はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。

本開示に係るポリマー溶液におけるポリマーにおいて、ベンゾオキサゾール前駆体構造を有する構造単位は、一又は複数の実施形態において、下記化学式：

で示される構造単位からなる群から選択される少なくとも１つが挙げられる。上記式において、Ｒ₁は、芳香環又は脂環式構造を有する基であり、Ｒ₂は、任意の置換基である。３つ又は４つのＲ₂はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。Ｘは、二価の原子又は二価の有機基である。

上記式で示されるベンゾオキサゾール前駆体構造を有する構造単位において、Ｒ₁は、芳香環又は脂環式構造を有する二価の基である。芳香環を有する二価の基として、一又は複数の実施形態において、下記化学式：

［ここで、ＹはＳｉを含む基、Ｐを含む基、Ｓを含む基、ハロゲン化炭化水素基、又は、Ｏを含む基等が挙げられ、限定されない一実施形態において、−Ｓ−、−ＳＯ₂−、−（ＣＦ₃）₂Ｃ−が挙げられる。］
で示される基、又は、これらの基が１若しくは２以上の置換基で置換された基が挙げられる。前記置換基として、一又は複数の実施形態において、水素原子、重水素、ハロゲン、炭素数１〜５の炭化水素基、ハロゲン置換された炭素数１〜５の炭化水素基、−ＣＦ₃、−ＣＣｌ₃、−ＣＩ₃、−ＣＢｒ₃、−Ｉ、−ＮＯ₂、−ＣＮ、−ＣＯＣＨ₃、−ＣＯ₂Ｃ₂Ｈ₅、−ＯＨ、−ＣＯＯＨ及び−ＯＣＨ₃からなる群から選択される１又は２以上の置換基等が挙げられる。また、脂環式構造を有する二価の基としては、前記芳香環を有する二価の基のベンゼン環構造を水添化したもの等が挙げられる。

本開示において、「置換された」又は「置換されてもよい」とは、特に説明がない場合、一又は複数の実施形態において、水素原子、重水素、ハロゲン、炭素数１〜５の炭化水素基、ハロゲン置換された炭素数１〜５の炭化水素基、−ＣＦ₃、−ＣＣｌ₃、−ＣＩ₃、−ＣＢｒ₃、−Ｉ、−ＮＯ₂、−ＣＮ、−ＣＯＣＨ₃、−ＣＯ₂Ｃ₂Ｈ₅、−ＯＨ、−ＣＯＯＨ及び−ＯＣＨ₃からなる群から選択される１又は２以上の置換基で置換されることが挙げられる。本開示において、ハロゲン原子は、フッ素原子（Ｆ）、塩素原子（Ｃｌ）、及び臭素原子（Ｂｒ）を含む。

上記式で示されるベンゾオキサゾール前駆体構造を有する構造単位において、Ｒ₂は任意の置換基であって、一又は複数の実施形態において、水素原子、重水素、ハロゲン、炭素数１〜５の炭化水素基、ハロゲン置換された炭素数１〜５の炭化水素基、−ＣＦ₃、−ＣＣｌ₃、−ＣＩ₃、−ＣＢｒ₃、−Ｉ、−ＮＯ₂、−ＣＮ、−ＣＯＣＨ₃、−ＣＯ₂Ｃ₂Ｈ₅、−ＯＨ、−ＣＯＯＨ又は−ＯＣＨ₃等が挙げられる。

上記式で示されるベンゾオキサゾール前駆体構造を有する構造単位において、Ｘは、二価の原子又は二価の有機基である。二価の原子としては、一又は複数の実施形態において、酸素原子、硫黄原子等が挙げられる。二価の有機基は、一又は複数の実施形態において、アルキレン基、ハロゲン化炭化水素基、エーテル結合を含む基、二価の環状構造含有有機基が挙げられる。前記アルキレン基としては、一又は複数の実施形態において、炭素数１〜６のアルキレン基、−ＣＨ₂−、−Ｃ(ＣＨ₃)₂−、−(ＣＨ₂)₃−、−(ＣＨ₂)₅−等が挙げられる。ハロゲン化炭化水素基、エーテル結合を含む基としては、一又は複数の実施形態において、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ(ＣＦ₃)₂−、−Ｃ(ＣＣｌ₃)₂−、−Ｃ(ＣＢｒ₃)₂−、−ＣＦ₂−、−ＣＣｌ₂−、−ＣＢｒ₂−等が挙げられ、二価の環状構造含有有機基としては

又は、１若しくは２以上の置換基で置換されたこれらの基が挙げられる。

［ベンゾオキサゾール構造を有する構造単位］
本開示に係るポリマー溶液におけるポリマーにおいて、ベンゾオキサゾール構造を有する構造単位は、一又は複数の実施形態において、下記化学式：

で示される基を有する構造単位が挙げられる。上記式において、Ｒ₂は、任意の置換基である。３つのＲ₂はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。Ｒ₂については、上述した一又は複数の実施形態が挙げられる。

本開示に係るポリマー溶液におけるポリマーにおいて、ベンゾオキサゾール構造を有する構造単位は、一又は複数の実施形態において、ベンゾオキサゾール前駆体構造を有するポリアミドがベンゾオキサゾール構造を形成した構成単位であって、下記化学式：

で示される構造単位からなる群から選択される少なくとも１つが挙げられる。上記式において、Ｒ₁は、芳香環又は脂環式構造を有する基であり、Ｒ₂は、任意の置換基である。３つ又は４つのＲ₂はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。Ｘは、二価の原子又は二価の有機基である。Ｒ₁、Ｒ₂及びＸについては、上述した一又は複数の実施形態が挙げられる。

よって、本開示に係るポリマー溶液は、一又は複数の実施形態において、下記化学式：

で示される構造単位からなる群から選択される少なくとも１つの構造単位を複数有し、Ｘ及びＲ₁が、それぞれ、同一又は異なるポリマー溶液である。なお、Ｒ₁、Ｒ₂及びＸについては、上述した一又は複数の実施形態が挙げられる。

本開示に係るポリマー溶液におけるポリマーは、一又は複数の実施形態において、カルボン酸ジクロライド成分モノマーとジアミン成分モノマーと重合反応で得られた又は得られうるものである。本開示に係るポリマー溶液におけるポリマーが、カルボン酸ジクロライド成分モノマーとジアミン成分モノマーと重合反応で得られた又は得られうるものである場合、一又は複数の実施形態において、形成されるポリマーフィルムの靭性向上の観点から、ポリアミドの合成に使用されるジアミン成分モノマー全量に対するベンゾオキサゾール前駆体構造を有するジアミン成分モノマー量は、０を超え、０．１モル％以上、１．０モル％以上、３．０モル％以上、５．０モル％以上、６．０モル％以上、７．０モル％以上、８．０モル％以上、９．０モル％以上、又は、１０．０モル％以上である。
また、本開示に係るポリマー溶液におけるポリマーが、カルボン酸ジクロライド成分モノマーとジアミン成分モノマーと重合反応で得られた又は得られうるものである場合、一又は複数の実施形態において、ポリアミドの合成に使用されるジアミン成分モノマー全量に対するベンゾオキサゾール前駆体構造を有するジアミン成分モノマー量は、１００モル％以下、５０モル％以下、５０モル％未満、４５モル％以下、４０モル％以下、３５モル％以下、３０モル％以下、２５モル％以下、又は、２０モル％以下である。
そして、本開示に係るポリマー溶液におけるポリマーが、カルボン酸ジクロライド成分モノマーとジアミン成分モノマーと重合反応で得られた又は得られうるものである場合、一又は複数の実施形態において、形成されるポリマーフィルムの靭性向上の観点及び形成されるポリマーフィルムの透明性向上の観点から、ポリアミドの合成に使用されるジアミン成分モノマー全量に対するベンゾオキサゾール前駆体構造を有するジアミン成分モノマー量は、０を超え１００モル％以下、０を超え５０モル％以下、０．１モル％以上５０モル％未満、１．０〜４５モル％、３．０〜４０モル％、５．０〜４０モル％、５．０〜３５モル％、６．０〜３０モル％、７．０〜３０モル％、８．０〜２５モル％、９．０〜２５モル％、１０．０〜２０モル％である。

［ベンゾオキサゾール前駆体構造を有するジアミン成分モノマー］
ベンゾオキサゾール前駆体構造を有するジアミン成分モノマーとしては、一又は複数の実施形態において、
２，４−ジアミノ−レゾルシノール、２，５−ジアミノ−１，４−ジヒドロキシルベンゼン等のジヒドロキシルベンゼンを有する化合物：、
３，３’−ジアミノ−４，４’−ジヒドロキシ−ビフェニル、３，３’−ジヒドロキシ−４，４’−ジアミノ−ビフェニル等のジヒドロキシ−ビフェニルを有するビスアミノフェノール化合物：、
３，３’−ジアミノ−４，４’−ジヒドロキシ−ジフェニルエーテル等のジヒドロキシ−ジフェニルエーテルを有するビスアミノフェノール化合物：、
９，９−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシ−フェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（４−アミノ−３−ヒドロキシ）−フェノキシ−フェニル）フルオレン等のフルオレン骨格を有する化合物：、
２，２’−ビス−（４−アミノ−３−ヒドロキシ−フェノキシ）−１，１’−ビナフタレン等のビナフタレン骨格を有する化合物：、
３，３’−ジアミノ−４，４’−ジヒドロキシ−ジフェニルスルホン、ビス（４−（４−アミノ−３−ヒドロキシ）−フェノキシ−フェニル）スルホン、ビス（４−（４−ヒドロキシ−３−アミノ）フェノキシ−フェニル）スルホン等のスルホン基を有する化合物：、
２，２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン等のフッ素又はフッ素化アルキル基を有する化合物が挙げられる。
ベンゾオキサゾール前駆体構造を有するジアミン成分モノマーとして、これらを単独又は２種類以上を組み合わせて使用してもよい。

また、ベンゾオキサゾール前駆体構造を有するジアミン成分モノマーは、一又は複数の実施形態において、下記化学式：

で示されるモノマーからなる群から選択される少なくとも１つが挙げられる。上記式において、Ｒ₂は、任意の置換基である。３つ又は４つのＲ₂はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。Ｘは、二価の原子又は二価の有機基である。Ｒ₂及びＸについては、上述した一又は複数の実施形態が挙げられる。

［その他の構成単位］
本開示に係るポリマー溶液におけるポリマーのベンゾオキサゾール前駆体構造を有する構造単位及びベンゾオキサゾール構造を有する構造単位以外の構造単位としては、特に限定されず、一又は複数の実施形態において、ＷＯ２００４／０３９８６３に開示されるものが挙げられる。

よって、本開示に係るポリマー溶液は、一又は複数の実施形態において、下記化学式（Ｉ）、（ＩＩ）若しくは（ＩＩＩ）又は（ＩＶ）、（Ｖ）若しくは（ＶＩ）で示される構造単位及び下記化学式（ＶＩＩ）、（ＶＩＩＩ）、（ＩＸ）又は（Ｘ）で示される構造単位を含み、化学式（Ｉ）〜（Ｘ）で示される構造単位の前記ポリアミドにおけるモル分率（モル％）を、それぞれ、ｌ、ｍ、ｎ、ｏ、ｐ、ｑ、ｒ、ｓ、ｔ、ｕとしたとき、下記式（１）〜（２）を満たすポリマーを含むポリマー溶液である。
０＜ｌ＋ｍ＋ｎ＋ｏ＋ｐ＋ｑ≦５０ ・・・（１）
５０≦ｒ＋ｓ＋ｔ＋ｕ＜１００ ・・・（２）

［式（Ｉ）〜（ＶＩ）において、Ｒ₁は芳香環又は脂環式構造を有する基であり、Ｒ₂は任意の置換基である。３つ又は４つのＲ₂はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。Ｘは、二価の原子又は二価の有機基である。］

［式（ＶＩＩ）において、Ｒ₃は芳香環又は脂環式構造を有する基、Ｒ₄は芳香環又は脂環式構造を有する基、Ｒ₅は任意の置換基、Ｒ₆は任意の置換基である。４つのＲ₅及びＲ₆はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。但し、式（ＶＩＩ）で示される構造単位は、式（Ｉ）及び（ＩＩ）で示される構造単位を含まない。］

［式（ＶＩＩＩ）において、Ｒ₇は電子吸引基、Ｒ₈は電子吸引基、Ｒ₉は任意の置換基、Ｒ₁₀は任意の置換基、Ｒ₁₁は芳香環又は脂環式構造を有する基である。３つのＲ₉及びＲ₁₀はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。但し、式（ＶＩＩＩ）で示される構造単位は、式（Ｉ）及び（ＩＩ）で示される構造単位を含まない。］

［式（ＩＸ）において、Ｒ₁₂はＳｉを含む基、Ｐを含む基、Ｓを含む基、ハロゲン化炭化水素基、又は、エーテル結合を含む基（ただし、分子内においてこれらの基を有する構造単位が混在していてもよい。）である。Ｒ₁₃は任意の置換基、Ｒ₁₄は任意の置換基である。Ｒ₁₅は直結されているか又はフェニル基を必須成分とする炭素数６〜１２の任意の基、Ｒ₁₆は直結されているか又はフェニル基を必須成分とする炭素数６〜１２の任意の基、Ｒ₁₇は芳香環又は脂環式構造を有する基である。４つのＲ₁₃及びＲ₁₄はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。但し、式（ＩＸ）で示される構造単位は、式（Ｉ）及び（ＩＩ）で示される構造単位を含まない。］

［式（Ｘ）において、Ｒ₁₈は芳香環又は脂環式構造を有する基、Ｒ₁₉は芳香環又は脂環式構造を有する基である。但し、式（Ｘ）で示される構造単位は、式（ＩＩＩ）で示される構造単位を含まない。］

前記式（１）につき、式（Ｉ）〜（ＶＩ）で示される構造単位が少なくとも１つ存在すればよく、それらのモル分率（モル％）であるｌ、ｍ、ｎ、ｏ、ｐ、ｑは、式（１）を満たす範囲で０を取り得る。ｌ＋ｍ＋ｎ＋ｏ＋ｐ＋ｑの値としては、一又は複数の実施形態において、０を超え１００以下、０．１以上５０以下、１．０〜４５、３．０〜４０、５．０〜４０、５．０〜３５、６．０〜３０、７．０〜３０、８．０〜２５、９．０〜２５、又は１０．０〜２０である。

前記式（２）につき、式（ＶＩＩ）〜（Ｘ）で示される構造単位が少なくとも１つ存在すればよく、それらのモル分率（モル％）であるｒ、ｓ、ｔ、ｕは、式（２）を満たす範囲で０を取り得る。ｌ＋ｍ＋ｎ＋ｏ＋ｐ＋ｑ＋ｒ＋ｓ＋ｔ＋ｕの値としては、一又は複数の実施形態において、５０を超え１００以下、６０〜１００、７０〜１００、８０〜１００、又は９０〜１００が挙げられる。

前記式（Ｉ）〜（ＶＩ）におけるＲ₁、Ｒ₂及びＸについては、上述した一又は複数の実施形態が挙げられる。

前記式（ＶＩＩ）において、Ｒ₃は芳香環又は脂環式構造を有する基であって、一又は複数の実施形態において、複素環を有する基である。環の形状は、一又は複数の実施形態において、単環、縮合環、スピロ環が挙げられる。Ｒ₃の芳香環又は脂環式構造を有する基は、一又は複数の実施形態において、下記式：

が挙げられる。Ｒ₄は芳香環又は脂環式構造を有する基であって、前述の式（Ｉ）〜（ＶＩ）におけるＲ₁と同様の一又は複数の実施形態が挙げられる。また、Ｒ₅及びＲ₆は特に制限はなく、任意の基であって、一又は複数の実施形態において、−Ｈ、炭素数１〜５の脂肪族基、−ＣＦ₃、−ＣＣｌ₃、−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−ＯＣＨ₃、シリル基、又は、芳香族基が挙げられる。前記式（ＶＩＩ）で示される構造単位は、ベンゾオキサゾール前駆体構造を有する構造単位及びベンゾオキサゾール構造を有する構造単位を含まない。よって、一又は複数の実施形態において、前記式（ＶＩＩ）で示される構造単位は、前記式（Ｉ）〜（ＶＩ）で示される構造単位を含まず、又は、前記式（Ｉ）〜（ＩＩ）で示される構造単位を含まない。

前記式（ＶＩＩＩ）において、Ｒ₇及びＲ₈は、それぞれ独立して電子吸引基であって、同じであってもよく、異なってもよい。電子吸引基は、一又は複数の実施形態において、Ｈａｍｍｅｔｔの置換基常数において正の値を示す基であり、−ＣＦ₃、−ＣＣｌ₃、−ＣＩ₃、−ＣＢｒ₃、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ、−ＮＯ₂、−ＣＮ、−ＣＯＣＨ₃、又は−ＣＯ₂Ｃ₂Ｈ₅が挙げられる。また、Ｒ₉及びＲ₁₀は特に制限はなく、任意の基であって、一又は複数の実施形態において、−Ｈ、炭素数１〜５の脂肪族基、−ＣＦ₃、−ＣＣｌ₃、−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−ＯＣＨ₃、シリル基、又は、芳香族基が挙げられる。Ｒ₁₁は芳香環又は脂環式構造を有する基であって、前述の式（Ｉ）〜（ＶＩ）におけるＲ₁と同様の一又は複数の実施形態が挙げられる。前記式（ＶＩＩＩ）で示される構造単位は、ベンゾオキサゾール前駆体構造を有する構造単位及びベンゾオキサゾール構造を有する構造単位を含まない。よって、一又は複数の実施形態において、前記式（ＶＩＩＩ）で示される構造単位は、前記式（Ｉ）〜（ＶＩ）で示される構造単位を含まず、又は、前記式（Ｉ）〜（ＩＩ）で示される構造単位を含まない。

前記式（ＩＸ）において、Ｒ₁₂はＳｉを含む基、Ｐを含む基、Ｓを含む基、ハロゲン化炭化水素基、又は、エーテル結合を含む基（ただし、分子内においてこれらの基を有する構造単位が混在していてもよい。）である。Ｒ₁₂は、一又は複数の実施形態において、−ＳＯ₂−、−Ｏ−、−Ｃ（ＣＦ₃）₂−、−（ＣＣｌ₃）₂−、−（ＣＢｒ₃）₂−、−ＣＦ₂−、−ＣＣｌ₂−、−ＣＢｒ₂−である。Ｒ₁₃及びＲ₁₄は特に制限はなく、それぞれ独立して任意の基であって、一又は複数の実施形態において、−Ｈ、炭素数１〜５の脂肪族基、−ＣＦ₃、−ＣＣｌ₃、−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−ＯＣＨ₃、シリル基、又は、芳香族基が挙げられる。Ｒ₁₅及びＲ₁₆は、それぞれ独立して直結されているか又はフェニル基を必須成分とする炭素数６〜１２の任意の基であって、一又は複数の実施形態において、−Ｐｈ−、−Ｏ−Ｐｈ−、−Ｃ（ＣＦ₃）₂−Ｐｈ−が挙げられる。Ｒ₁₇は芳香環又は脂環式構造を有する基であって、前述の式（Ｉ）〜（ＶＩ）におけるＲ₁と同様の一又は複数の実施形態が挙げられる。前記式（ＩＸ）で示される構造単位は、ベンゾオキサゾール前駆体構造を有する構造単位及びベンゾオキサゾール構造を有する構造単位を含まない。よって、一又は複数の実施形態において、前記式（ＩＸ）で示される構造単位は、前記式（Ｉ）〜（ＶＩ）で示される構造単位を含まず、又は、前記式（Ｉ）〜（ＩＩ）で示される構造単位を含まない。

前記式（Ｘ）において、Ｒ₁₈及びＲ₁₉は、それぞれ独立して芳香環又は脂環式構造を有する基であって、前述の式（Ｉ）〜（ＶＩ）におけるＲ₁と同様の一又は複数の実施形態が挙げられる。前記式（Ｘ）で示される構造単位は、ベンゾオキサゾール前駆体構造を有する構造単位及びベンゾオキサゾール構造を有する構造単位を含まない。よって、一又は複数の実施形態において、前記式（Ｘ）で示される構造単位は、前記式（Ｉ）〜（ＶＩ）で示される構造単位を含まず、又は、前記式（ＩＩＩ）で示される構造単位を含まない。

［溶媒］
本開示に係るポリマー溶液の溶媒は、特に制限されない。溶媒は、一又は複数の実施形態において、後述するポリマーの調製に用いる溶媒であってよい。ポリマーがポリアミドである場合、溶媒は、一又は複数の実施形態において、非プロトン性極性溶媒挙げられ、ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシドなどのスルホキシド系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミドなどのホルムアミド系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミドなどのアセトアミド系溶媒、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−ビニル−２−ピロリドンなどのピロリドン系溶媒、フェノール、ｏ−、ｍ−又はｐ−クレゾール、キシレノール、ハロゲン化フェノール、カテコールなどのフェノール系溶媒、ブチルセロソルブ、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のエーテル系溶媒、エチレングリコール、ジエチレングリコール等のグリコール系溶媒、エチレングリコールモノブチルエーテル、ポリピレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のグリコールエステル系溶媒、或いはヘキサメチルホスホルアミド、γ−ブチロラクトン、３−メトキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルプロピオンアミド、３−ブトキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルプロパンアミド、Ｎ−エチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルプロピオンアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルブタンアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルプロピオンアミド、１−メチル−２−ピペリジノン、プロピレンカーボネート、及び、これらの混合物が挙げられる。さらにはキシレン、トルエンのような芳香族炭化水素の使用も可能である。さらにはポリマーの溶解を促進する目的で溶媒には５０重量％以下のアルカリ金属、又はアルカリ土類金属の塩を添加することができる。

［フィラー］
本開示に係るポリマー溶液は、該ポリマー溶液から形成されるポリマーフィルムの弾性率を向上させるためフィラーを添加してもよい。前記フィラーは、一又は複数の実施形態において、球状、繊維状、平板状、又はこれらの組み合わせが挙げられる。

本開示に係るポリマー溶液中のポリマーは、一又は複数の実施形態において、ポリマーの熱耐性特性の観点から、ポリマーの少なくとも一端がエンドキャップされたものである。ポリマーがポリアミドである場合、末端の−ＣＯＯＨ基及び−ＮＨ₂基の一端又は両端がキャップされる。ポリアミドのエンドキャップは、一又は複数の実施形態において、重合されたポリアミドの−ＮＨ₂末端と塩化ベンゾイルとの反応、又は、重合されたポリアミドの−ＣＯＯＨ末端とアニリンとの反応で行うことができる。しかし、エンドキャップの方法はこの方法に限定されない。

本開示に係るポリマー溶液で形成した換算厚み１０μｍでのフィルムの波長４００ｎｍの光透過率は、一又は複数の実施形態において、該フィルムがディスプレイ用素子、光学用素子又は照明用素子の製造に好適に用いられる観点から、一又は複数の実施形態において、６０％以上、６５％以上、７０％以上、７５％以上、又は８０％以上であることが挙げられる。光透過率は、実施例で記載の方法で測定できる。

本開示に係るポリマー溶液で形成したフィルムの破断エネルギーは、ディスプレイ用素子、光学用素子又は照明用素子の製造における該フィルムの取扱性向上の点から、一又は複数の実施形態において、２．０ＭＪ／ｍ³以上、２．５ＭＪ／ｍ³以上、３．０ＭＪ／ｍ³以上、３．５ＭＪ／ｍ³以上、４．０ＭＪ／ｍ³以上、４．５ＭＪ／ｍ³以上、５．０ＭＪ／ｍ³以上、５．５ＭＪ／ｍ³以上、６．０ＭＪ／ｍ³以上、６．５ＭＪ／ｍ³以上、７．０ＭＪ／ｍ³以上、７．５ＭＪ／ｍ³以上、８．０ＭＪ／ｍ³以上、８．５ＭＪ／ｍ³以上又は９．０ＭＪ／ｍ³以上であることが挙げられる。

なお、光透過率及び破断エネルギーを測定するフィルムとしては、本開示に係るポリマー溶液をガラスプレート上にキャストして作製したフィルムを用いる。該フィルムは、本開示に係るポリマー溶液を平坦なガラス基材上に塗布して乾燥及び必要に応じて硬化させたフィルムであって、具体的には実施例で開示されるフィルム形成方法で作製されたフィルムである。

［ポリマーの調製方法］
本開示に係るポリマー溶液におけるポリマーを得る方法は、種々の方法が利用可能であり、限定されない一又は複数の実施形態において、低温溶液重合法、界面重合法、溶融重合法、固相重合法などを用いることができる。また、溶媒を用いない重合方法、例えば蒸着重合法でも構わない。一又は複数の実施形態において、ポリアミドを低温溶液重合法、すなわち、カルボン酸ジクロライドとジアミンとから得る場合には、非プロトン性有機極性溶媒中で合成される。以下に、本開示に係るポリマー溶液を調製する方法を説明する。

カルボン酸ジクロライドとしては、上述した構造単位に適したモノマーを適宜選択できる。限定されない一又は複数の実施形態として、テレフタル酸ジクロライド、２クロロ−テレフタル酸ジクロライド、イソフタル酸ジクロライド、ナフタレンジカルボニルクロライド、ビフェニルジカルボニルクロライド、４，４’−ビフェニルジカルボニルクロライド、ターフェニルジカルボニルクロライド、２フロロ−テレフタル酸ジクロライド、１，４−シクロヘキサンカルボン酸ジクロライド、２，２’−ビス（４−カルボキシフェニル）プロパンジクロライド、２，２’−ビス（４−カルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンジクロライドなどが挙げられるが、好ましくはテレフタル酸ジクロライド、２クロロ−テレフタル酸ジクロライド、４，４’−ビフェニルジカルボニルクロライド、イソフタル酸ジクロライドが用いられる。

ジアミンは、上述した構造単位に適したモノマーを適宜選択できる。ベンゾオキサゾール前駆体構造を有するジアミン成分モノマーは、上述のとおりである。ベンゾオキサゾール前駆体構造を有するジアミン成分以外のジアミン成分モノマーとしては、限定されない一又は複数の実施形態として、ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、２，２’−ジトリフルオロメチル−４，４’−ジアミノビフェニル、９，９−ビス（４−アミノフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−アミノ−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−アミノ−３−フロロフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−アミノ−３−クロロフェニル）フルオレン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）ヘキサフルオロプロパンなどが挙げられる。

２種類以上のジアミンを用いて重合を行う場合、ジアミンは１種類ずつ添加し、該ジアミンに対し１０〜９９モル％の酸ジクロライドを添加して反応させ、この後に他のジアミンを添加して、さらに酸ジクロライドを添加して反応させる段階的な反応方法、及びすべてのジアミンを混合して添加し、この後に酸ジクロライドを添加して反応させる方法などが利用可能である。また、２種類以上の酸ジクロライドを利用する場合も同様に段階的な方法、同時に添加する方法などが利用できる。いずれの場合においても全ジアミンと全酸ジクロライドのモル比は９５〜１０５：１０５〜９５が好ましい。

ポリアミドの製造において、使用する非プロトン性極性溶媒としては、例えば、ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシドなどのスルホキシド系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミドなどのホルムアミド系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミドなどのアセトアミド系溶媒、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−ビニル−２−ピロリドンなどのピロリドン系溶媒、フェノール、ｏ−、ｍ−又はｐ−クレゾール、キシレノール、ハロゲン化フェノール、カテコールなどのフェノール系溶媒、ブチルセロソルブ、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のエーテル系溶媒、エチレングリコール、ジエチレングリコール等のグリコール系溶媒、エチレングリコールモノブチルエーテル、ポリピレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のグリコールエステル系溶媒、或いはヘキサメチルホスホルアミド、γ−ブチロラクトン、３−メトキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルプロピオンアミド、３−ブトキシ−Ｎ，Ｎ−ジメチルプロパンアミド、Ｎ−エチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルプロピオンアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルブタンアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルプロピオンアミド、１−メチル−２−ピペリジノン、プロピレンカーボネート、などを挙げることができ、これらを単独又は混合物として用いるのが望ましいが、さらにはキシレン、トルエンのような芳香族炭化水素の使用も可能である。さらにはポリマーの溶解を促進する目的で溶媒には５０重量％以下のアルカリ金属、又はアルカリ土類金属の塩を添加することができる。

ポリアミド溶液は、単量体として酸ジクロライドとジアミンを使用すると塩化水素が副生するが、これを中和する場合には水酸化カルシウム、炭酸カルシウム、炭酸リチウムなどの無機の中和剤、またエチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、アンモニア、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、ジエタノールアミンなどの有機の中和剤が使用される。

［ポリマーの平均分子量］
本開示に係るポリマー溶液におけるポリマーは、フィルムをディスプレイ用素子、光学用素子、又は、照明用素子に用いる観点から、一又は複数の実施形態において、重量平均分子量（Ｍｎ）は、６．０×１０⁴以上、６．５×１０⁴以上、７．０×１０⁴以上、７．５×１０⁴以上、又は、８．０×１０⁴以上が好ましい。また、同様の観点から、一又は複数の実施形態において、重量平均分子量は、５．０×１０⁶以下、３．０×１０⁶以下、１．０×１０⁶以下である。また、好ましい分子量分布（重量平均分子量（Ｍｗ） ／ 数平均分子量（Ｍｎ））は、５．０以下、４．０以下、３．０以下である。

［ポリマーの含有量］
本開示に係るポリマー溶液における芳香族ポリアミドは、フィルムをディスプレイ用素子、光学用素子、又は、照明用素子に用いる観点から、一又は複数の実施形態において、２重量％以上、３重量％以上、又は、５重量％以上が挙げられ、同様の観点から、３０重量％以下、２０重量％以下が挙げられる。

［ポリマー溶液の用途］
本開示にかかるポリマー溶液は、一又は複数の実施形態において、下記工程ａ）〜ｃ）を含むディスプレイ用素子、光学用素子、又は、照明用素子の製造方法に使用するためのポリアミド溶液である。
ａ）ポリマー溶液を支持材上に塗布する。
ｂ）工程ａ）の後、支持体上でポリマーフィルムを形成する。
ｃ）前記ポリマーフィルム上にディスプレイ用素子、光学用素子、又は、照明用素子を形成する。
ここで、前記支持材の表面は、ガラス又はシリコンウエハーである。

本開示はさらに以下の一又は複数の実施形態に関する。

＜Ａ１＞ ベンゾオキサゾール前駆体構造を有する構造単位又はベンゾオキサゾール構造を有する構造単位を含むポリマーと溶媒とを含む、ポリマー溶液。
＜Ａ２＞ 前記ポリマーを構成する全構造単位に対するベンゾオキサゾール前駆体構造を有する構造単位及びベンゾオキサゾール構造を有する構造単位の合計が、０を超え５０モル％以下である、＜Ａ１＞記載のポリマー溶液。
＜Ａ３＞ 前記ベンゾオキサゾール前駆体構造を有する構造単位又はベンゾオキサゾール構造を有する構造単位が、下記化学式：

［Ｒ₁は、芳香環又は脂環式構造を有する基であり、Ｒ₂は、任意の置換基である。３つ又は４つのＲ₂はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。Ｘは、二価の原子又は二価の有機基である。］
で示される構造単位からなる群から選択される少なくとも１つである、＜Ａ１＞又は＜Ａ２＞に記載のポリマー溶液。
＜Ａ４＞ 前記ポリマーの合成に使用されるジアミン成分モノマー全量に対するベンゾオキサゾール前駆体構造を有するジアミン成分モノマーが、０を超え５０モル％以下である、＜Ａ１＞から＜Ａ３＞のいずれかに記載のポリマー溶液。
＜Ａ５＞ 前記ポリマーの合成に使用されるベンゾオキサゾール前駆体構造を有するジアミン成分モノマーが、下記化学式：

［Ｒ₂は、任意の置換基である。３つ又は４つのＲ₂はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。Ｘは、二価の原子又は二価の有機基である。］
で示されるモノマーからなる群から選択される少なくとも１つである、＜Ａ１＞から＜Ａ４＞のいずれかに記載のポリマー溶液。
＜Ａ６＞ 前記ポリマー溶液で形成した換算厚み１０μｍでのフィルムの波長４００ｎｍの光透過率が、６０％以上となりうる、＜Ａ１＞から＜Ａ５＞のいずれかに記載のポリマー溶液。
＜Ａ７＞ 前記ポリマー溶液で形成したフィルムの破断エネルギーが２．０ＭＪ／ｍ³以上となりうる、＜Ａ１＞から＜Ａ６＞のいずれかに記載のポリマー溶液。
＜Ａ８＞ 化学式（Ｉ）、（ＩＩ）若しくは（ＩＩＩ）又は（ＩＶ）、（Ｖ）若しくは（ＶＩ）で示される構造単位及び化学式（ＶＩＩ）、（ＶＩＩＩ）、（ＩＸ）又は（Ｘ）で示される構造単位を含み、化学式（Ｉ）〜（Ｘ）で示される構造単位の前記ポリアミドにおけるモル分率を、それぞれ、ｌ、ｍ、ｎ、ｏ、ｐ、ｑ、ｒ、ｓ、ｔ、ｕとしたとき、下記式（１）〜（２）を満たすポリマーを含む、＜Ａ１＞から＜Ａ７＞のいずれかに記載のポリマー溶液。
０＜ｌ＋ｍ＋ｎ＋ｏ＋ｐ＋ｑ≦５０ ・・・（１）
５０≦ｒ＋ｓ＋ｔ＋ｕ＜１００ ・・・（２）

［式（Ｉ）〜（ＶＩ）において、Ｒ₁は芳香環又は脂環式構造を有する基であり、Ｒ₂は任意の置換基である。３つ又は４つのＲ₂はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。Ｘは、二価の原子又は二価の有機基である。］

［式（ＶＩＩ）において、Ｒ₃は芳香環又は脂環式構造を有する基、Ｒ₄は芳香環又は脂環式構造を有する基、Ｒ₅は任意の置換基、Ｒ₆は任意の置換基である。４つのＲ₅及びＲ₆はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。但し、式（ＶＩＩ）で示される構造単位は、式（Ｉ）及び（ＩＩ）で示される構造単位を含まない。］

［式（ＶＩＩＩ）において、Ｒ₇は電子吸引基、Ｒ₈は電子吸引基、Ｒ₉は任意の置換基、Ｒ₁₀は任意の置換基、Ｒ₁₁は芳香環又は脂環式構造を有する基である。３つのＲ₉及びＲ₁₀はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。但し、式（ＶＩＩＩ）で示される構造単位は、式（Ｉ）及び（ＩＩ）で示される構造単位を含まない。］

［式（ＩＸ）において、Ｒ₁₂はＳｉを含む基、Ｐを含む基、Ｓを含む基、ハロゲン化炭化水素基、又は、エーテル結合を含む基（ただし、分子内においてこれらの基を有する構造単位が混在していてもよい。）である。Ｒ₁₃は任意の置換基、Ｒ₁₄は任意の置換基である。Ｒ₁₅は直結されているか又はフェニル基を必須成分とする炭素数６〜１２の任意の基、Ｒ₁₆は直結されているか又はフェニル基を必須成分とする炭素数６〜１２の任意の基、Ｒ₁₇は芳香環又は脂環式構造を有する基である。４つのＲ₁₃及びＲ₁₄はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。但し、式（ＩＸ）で示される構造単位は、式（Ｉ）及び（ＩＩ）で示される構造単位を含まない。］

［式（Ｘ）において、Ｒ₁₈は芳香環又は脂環式構造を有する基、Ｒ₁₉は芳香環又は脂環式構造を有する基である。但し、式（Ｘ）で示される構造単位は、式（ＩＩＩ）で示される構造単位を含まない。］
＜Ａ９＞ 前記ポリマーの少なくとも一端がエンドキャップされたものである、＜Ａ１＞から＜Ａ８＞のいずれかに記載のポリマー溶液。
＜Ａ１０＞ 前記ポリマーが、下記化学式：

［Ｒ₁は芳香環又は脂環式構造を有する基であり、Ｒ₂は任意の置換基である。３つ又は４つのＲ₂はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。Ｘは、二価の原子又は二価の有機基である。］
で示される構造単位からなる群から選択される少なくとも１つの構造単位を複数有し、Ｘ及びＲ₁が、それぞれ、同一又は異なる、＜Ａ１＞から＜Ａ１０＞のいずれかに記載のポリマー溶液。

［ポリマーフィルム］
本開示は、その他の態様において、本開示に係るポリマー溶液から形成されるポリマーフィルム（以下、「本開示に係るポリマーフィルム」ともいう。）に関する。

本開示に係るポリマーフィルムの換算厚み１０μｍでの波長４００ｎｍの光透過率は、一又は複数の実施形態において、該フィルムがディスプレイ用素子、光学用素子又は照明用素子の製造に好適に用いられる観点から、一又は複数の実施形態において、６０％以上、６５％以上、７０％以上、７５％以上、又は８０％以上であることが挙げられる。また、本開示に係るポリマーフィルムの破断エネルギーは、ディスプレイ用素子、光学用素子又は照明用素子の製造における該フィルムの取扱性向上の点から、一又は複数の実施形態において、２．０ＭＪ／ｍ³以上、２．５ＭＪ／ｍ³以上、３．０ＭＪ／ｍ³以上、３．５ＭＪ／ｍ³以上、又は、４．０ＭＪ／ｍ³以上であることが挙げられる。

本開示に係るポリマーフィルムは、一又は複数の実施形態において、ベンゾオキサゾール構造を有する。ベンゾオキサゾール前駆体構造を有する本開示に係るポリマー溶液を用いてフィルムを形成する時又はフィルムを形成した後、熱処理（硬化処理）を施すことで前記フィルムにベンゾオキサゾール構造を導入できる。前記熱処理の処理温度は、一又は複数の実施形態において、２００℃以上、２２０℃以上、２４０℃以上、２６０℃以上、２８０℃以上、３００℃以上、又は、３２０℃以上である。また、前記熱処理の処理温度は、一又は複数の実施形態において、４２０℃以下、又は４００℃以下である。前記熱処理の処理温度は、一又は複数の実施形態において、５〜３００分、又は、３０〜２４０分である。

［ポリマーフィルムの製造方法］
したがって、本開示は、その他の態様において、ａ）本開示に係るポリマー溶液を支持材上に塗布すること、及び、ｂ）工程ａ）の後、支持体上の塗布物を熱処理すること、を含み、前記熱処理が上述の温度及び／又は時間条件である、ポリマーフィルムの製造方法に関する。

本開示はさらに以下の一又は複数の実施形態に関する。

＜Ｂ１＞ ＜Ａ１＞から＜Ａ１０＞のいずれかに記載のポリマー溶液から形成されるポリマーフィルム。
＜Ｂ２＞ 換算厚み１０μｍでの波長４００ｎｍの光透過率が６０％以上である、＜Ｂ１＞記載のポリマーフィルム。
＜Ｂ３＞ フィルム形成時又は形成後に２００℃以上の熱処理が施された、＜Ｂ１＞又は＜Ｂ２＞に記載のポリマーフィルム。
＜Ｂ４＞ ベンゾオキサゾール構造を有する、＜Ｂ１＞から＜Ｂ３＞のいずれかに記載のポリマーフィルム。
＜Ｂ５＞ フィルムの破断エネルギーが２．０ＭＪ／ｍ³以上である、＜Ｂ１＞から＜Ｂ４＞のいずれかに記載のポリマーフィルム。

［積層複合材］
本開示において、「積層複合材」は、ガラスプレートとポリマーフィルム層とが積層されたものをいう。ガラスプレートとポリマーフィルム層とが積層されているとは、限定されない一又は複数の実施形態において、ガラスプレートとポリマーフィルム層とが直接積層されていることをいい、また、限定されない一又は複数の実施形態において、ガラスプレートとポリマーフィルム層とが１若しくは複数の層を介して積層されたものをいう。本開示において、前記ポリマーフィルム層のポリマーフィルムは、本開示に係るポリマーフィルムである。したがって、本開示は、一態様において、ガラスプレート及びポリマーフィルム層を含み、前記ガラスプレートの一方の面上に本開示に係るポリマーフィルムが積層されている積層複合材に関し、その他の態様において、ガラスプレート及びポリマーフィルム層を含み、前記ガラスプレートの一方の面上に本開示に係るポリマーフィルムが積層されており、ガラスプレート上に本開示に係るポリマー溶液を塗布することで得られた又は得られうる積層複合材（以下、いずれも「本開示に係る積層複合材」ともいう。）に関する。

本開示に係る積層複合材は、限定されない一又は複数の実施形態において、図２に代表されるディスプレイ用素子、光学用素子又は照明用素子の製造方法に使用でき、また、限定されない一又は複数の実施形態において、図２の製造方法の工程Ｂで得られる積層複合材として使用できる。したがって、本開示に係る積層複合材は、限定されない一又は複数の実施形態において、ポリアミド樹脂層のガラスプレートと対向する面と反対の面上にディスプレイ用素子、光学用素子、又は、照明用素子を形成することを含むディスプレイ用素子、光学用素子、又は、照明用素子の製造方法に使用するための積層複合材である。

本開示に係る積層複合材は、ポリマーフィルム層以外にさらなる有機樹脂層及び/又は無機層を含んでもよい。さらなる有機樹脂層としては、限定されない一又は複数の実施形態において、平坦化コート層等が挙げられる。また、無機層としては、限定されない一又は複数の実施形態において、水、酸素の透過を抑制するガスバリア層、ＴＦＴ素子へのイオンマイグレーションを抑制するバッファーコート層等が挙げられる。

［ポリマーフィルム層］
本開示に係る積層複合材におけるポリマーフィルム層のポリマーフィルムは、本開示に係るポリマー溶液を用いて形成され得る。本開示に係る積層複合材におけるポリマーフィルム層の厚みは、フィルムをディスプレイ用素子、光学用素子、又は、照明用素子に用いる観点、及び、ポリマーフィルム層のクラック発生抑制の観点から、一又は複数の実施形態において、５００μｍ以下、２００μｍ以下、又は、１００μｍ以下であることが挙げられる。また、ポリマーフィルム層の厚みは、限定されない一又は複数の実施形態において、例えば、１μｍ以上、２μｍ以上、又は、３μｍ以上であることが挙げられる。

本開示に係る積層複合材におけるポリマーフィルム層の換算厚み１０μｍでの波長４００ｎｍの光透過率は、一又は複数の実施形態において、該フィルムがディスプレイ用素子、光学用素子又は照明用素子の製造に好適に用いられる観点から、一又は複数の実施形態において、６０％以上、６５％以上、７０％以上、７５％以上、又は８０％以上であることが挙げられる。また、本本開示に係る積層複合材におけるポリマーフィルム層の破断エネルギーは、ディスプレイ用素子、光学用素子又は照明用素子の製造における該フィルムの取扱性向上の点から、一又は複数の実施形態において、２．０ＭＪ／ｍ³以上、２．５ＭＪ／ｍ³以上、３．０ＭＪ／ｍ³以上、３．５ＭＪ／ｍ³以上、又は４．０ＭＪ／ｍ³以上であることが挙げられる。

本開示に係る積層複合材におけるポリマーフィルム層は、一又は複数の実施形態において、ベンゾオキサゾール構造を有する。ベンゾオキサゾール前駆体構造を有する本開示に係るポリマー溶液を用いてポリマーフィルム層を形成する時又はフィルムを形成した後、熱処理（硬化処理）を施すことで前記フィルムにベンゾオキサゾール構造を導入できる。

［ガラスプレート］
本開示に係る積層複合材におけるガラスプレートの材質は、フィルムをディスプレイ用素子、光学用素子、又は、照明用素子に用いる観点から、一又は複数の実施形態において、ソーダライムガラス、無アルカリガラス等が挙げられる。本開示に係る積層複合材におけるガラスプレートの厚みは、フィルムをディスプレイ用素子、光学用素子、又は、照明用素子に用いる観点から、一又は複数の実施形態において、０．３ｍｍ以上、０．４ｍｍ以上、又は、０．５ｍｍ以上であることが挙げられる。また、ガラスプレートの厚みは、一又は複数の実施形態において、例えば、３ｍｍ以下、又は、１ｍｍ以下であることが挙げられる。

［積層複合材の製造方法］
本開示に係る積層複合材は、本開示に係るポリマー溶液をガラスプレートに塗布し、乾燥し、必要に応じて硬化処理（熱処理）することにより製造することができる。硬化処理（熱処理）を施すことで前記フィルムにベンゾオキサゾール構造を導入できる。前記熱処理の処理温度は、一又は複数の実施形態において、２００℃以上、２２０℃以上、２４０℃以上、２６０℃以上、２８０℃以上、３００℃以上、又は、３２０℃以上である。また、前記熱処理の処理温度は、一又は複数の実施形態において、４２０℃以下、又は４００℃以下である。前記熱処理の処理温度は、一又は複数の実施形態において、５〜３００分、又は、３０〜２４０分である。

本開示はさらに以下の一又は複数の実施形態に関する。

＜Ｃ１＞ ガラスプレート及びポリマーフィルム層を含み、ガラスプレートの一方の面上にポリマーフィルムが積層されており、ガラスプレート上に＜Ａ１＞から＜Ａ１０＞のいずれかに記載のポリマー溶液を塗布することで得られた積層複合材。
＜Ｃ２＞ ガラスプレートの厚みが、０．３ｍｍ以上である、＜Ｃ１＞記載の積層複合材。
＜Ｃ３＞ ポリマーフィルムの厚みが、５００μｍ以下である、＜Ｃ１＞又は＜Ｃ２＞に記載の積層複合材。
＜Ｃ４＞ ポリマーフィルムの換算厚み１０μｍでの波長４００ｎｍの光透過率が、６０％以上である、＜Ｃ１＞から＜Ｃ３＞のいずれかに記載の積層複合材。
＜Ｃ５＞ ポリマーフィルムがベンゾオキサゾール構造を有する、＜Ｃ１＞から＜Ｃ４＞のいずれかに記載の積層複合材。
＜Ｃ６＞ ポリマーフィルムの破断エネルギーが２．０ＭＪ／ｍ³以上である、＜Ｃ１＞から＜Ｃ５＞のいずれかに記載の積層複合材。

［ディスプレイ用素子、光学用素子、又は照明用素子］
本開示において、「ディスプレイ用素子、光学用素子、又は照明用素子」とは、表示体（表示装置）、光学装置、または照明装置を構成する素子をいい、例えば有機ＥＬ素子、液晶素子、有機ＥＬ照明等をいう。また、それらの一部を構成する薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）素子、カラーフィルタ素子等も含む。本開示にかかるディスプレイ用素子、光学用素子、または、照明用素子は、一又は複数の実施形態において、本開示に係るポリマー溶液を用いて製造されるもの、ディスプレイ用素子、光学用素子、または、照明用素子の基板として本開示に係るポリマーフィルムを用いているものを含みうる。

＜有機ＥＬ素子の限定されない一実施形態＞
以下に図を用いて本開示にかかるディスプレイ用素子の一実施形態である有機ＥＬ素子の一実施形態を説明する。

図１は、一実施形態に係る有機ＥＬ素子１を示す概略断面図である。有機ＥＬ素子１は、基板Ａ上に形成される薄膜トランジスタＢ及び有機ＥＬ層Ｃを備える。なお、有機ＥＬ素子１全体は封止層４００で覆われている。有機ＥＬ素子１は、支持材５００から剥離されたものをであってもよく、支持材５００を含むものであってもよい。以下、各構成につき詳細に説明する。

１．基板Ａ
基板Ａは、透明樹脂基板１００及び透明樹脂基板１００の上面に形成されるガスバリア層１０１を備える。ここで、透明樹脂基板１００は、本開示に係るポリマーフィルムである。

なお、透明樹脂基板１００に対して、熱によるアニール処理を行っても良い。これにより、歪みを取り除くことができたり、環境変化に対する寸法の安定化を強化したりできる等の効果がある。

ガスバリア層１０１は、ＳｉＯｘ、ＳｉＮｘなどからなる薄膜であり、スパッタ法、ＣＶＤ法、真空蒸着法等の真空成膜法により形成される。ガスバリア層１０１の厚みとしては、通常１０ｎｍ〜１００ｎｍ程度であるが、この厚みに限定されるものではない。ここで、ガスバリア層１０１は図１のガスバリア層１０１と対向する面に形成しても良く、両面に形成しても良い。

２．薄膜トランジスタ
薄膜トランジスタＢは、ゲート電極２００、ゲート絶縁膜２０１、ソース電極２０２、活性層２０３、及びドレイン電極２０４を備える。薄膜トランジスタＢは、ガスバリア層１０１上に形成される。

ゲート電極２００、ソース電極２０２、及びドレイン電極２０４は、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）等からなる透明薄膜である。透明薄膜を形成する方法としては、スパッタ法、真空蒸着法、イオンプレーティング法等が挙げられる。これらの電極の膜厚は、通常５０ｎｍ〜２００ｎｍ程度であるが、この厚さに限定されるものではない。

ゲート絶縁膜２０１は、ＳｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃等からなる透明な絶縁薄膜であり、スパッタ法、ＣＶＤ法、真空蒸着法、イオンプレーティング法等により形成される。ゲート酸化膜の膜厚は、通常１０ｎｍ〜１μｍ程度であるが、この厚さに限定されるものではない。

活性層２０３は、例単結晶シリコン、低温ポリシリコン、アモルファスシリコン、酸化物半導体等であり、適時最適なものが使用される。活性層はスパッタ法等により形成される。

３．有機ＥＬ層
有機ＥＬ層Ｃは、導電性の接続部３００、絶縁性の平坦化層３０１、有機ＥＬ素子１の陽極である下部電極３０２、正孔輸送層３０３、発光層３０４、電子輸送層３０５、及び有機ＥＬ素子１の陰極である上部電極３０６を備える。有機ＥＬ層Ｃは、少なくともガスバリア層１０１上又は薄膜トランジスタＢ上に形成され、下部電極３０２と薄膜トランジスタＢのドレイン電極２０４は接続部３００により電気的に接続されている。なお、これに替えて、薄膜トランジスタＢの下部電極３０２とソース電極２０２が接続部３００により接続されるようにしてもよい。

下部電極３０２は、有機ＥＬ素子１の陽極であり、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）等の透明薄膜である。なお、高透明性、高電導性等が得られるので、ＩＴＯが好ましい。

正孔輸送層３０３、発光層３０４及び電子輸送層３０５としては、従来公知の有機ＥＬ素子用材料をそのまま用いることができる。

上部電極３０６は、例えばフッ化リチウム（ＬｉＦ）とアルミニウム（Ａｌ）をそれぞれ５ｎｍ〜２０ｎｍ、５０ｎｍ〜２００ｎｍの膜厚に成膜した膜よりなる。膜を形成する方法としては、例えば真空蒸着法が挙げられる。

また、ボトムエミッション型の有機ＥＬ素子を作製する場合、有機ＥＬ素子１の上部電極３０６は光反射性の電極にしても良い。これにより、有機ＥＬ素子１で発生して表示側と逆方向の上部側に進んだ光が上部電極３０６により表示側方向に反射される。したがって、反射光も表示に利用されるので、有機ＥＬ素子の発光の利用効率を高めることができる。

［ディスプレイ用素子、光学用素子、又は照明用素子の製造方法］
本開示は、その他の態様において、ディスプレイ用素子、光学用素子、又は照明用素子の製造方法に関する。本開示にかかる製造方法は、一又は複数の実施形態において、本開示にかかるディスプレイ用素子、光学用素子、又は照明用素子を製造する方法である。また、本開示にかかる製造方法は、一又は複数の実施形態において、本開示に係るポリマー溶液を支持材へ塗布する工程と、前記塗布工程後に、ポリマーフィルムを形成する工程と、前記ポリマーフィルムの前記支持材と接していない面にディスプレイ用素子、光学用素子、又は照明用素子を形成する工程とを含む製造方法である。本開示にかかる製造方法は、さらに、前記支持材上に形成されたディスプレイ用素子、光学用素子、又は照明用素子を前記支持材から剥離する工程を含んでもよい。

＜有機ＥＬ素子の作製方法の限定されない一実施形態＞
次に、以下に図を用いて本開示にかかるディスプレイ用素子の製造方法の一実施形態である有機ＥＬ素子の製造方法の一実施形態を説明する。

図１の有機ＥＬ素子１の作製方法は、固定工程、ガスバリア層作製工程、薄膜トランジスタ作製工程、有機ＥＬ層作製工程、封止工程及び剥離工程を備える。以下、各工程につき詳細に説明する。

１．固定工程
固定工程では、支持材５００上に透明樹脂基板１００が固定される。固定する方法は特に限定されるものではないが、支持材５００と透明樹脂基板１００の間に粘着剤を塗布する方法や、透明樹脂基板１００の一部を支持材５００に融着させる方法等が挙げられる。また、支持材５００の材料としては、例えば、ガラス、金属、シリコン、又は樹脂等が用いられる。これらは単独で用いられてもよいし、２以上の材料を適時組み合わせて使用してもよい。さらに、支持材５００に離型剤等を塗布し、その上に透明樹脂基板１００を張り付けて固定してもよい。一又は複数の実施形態において、支持材５００上に本開示に係るポリマー溶液を塗布し、乾燥等によりポリマーフィルム（透明樹脂基板）１００を形成する。

２．ガスバリア層作製工程
ガスバリア層作製工程では、透明樹脂基板１００上にガスバリア層１０１が作製される。作製する方法は特に限定することなく、公知の方法を用いることができる。

３．薄膜トランジスタ作製工程
薄膜トランジスタ作製工程では、ガスバリア層１０１上に薄膜トランジスタＢが作製される。作製する方法は特に限定することなく、公知の方法を用いることができる。

４．有機ＥＬ層作製工程
有機ＥＬ層作製工程は、第１工程と第２工程を備える。第１工程では、平坦化層３０１が形成される。平坦化層３０１を形成する方法としては、感光性透明樹脂をスピンコート法、スリットコート法、インクジェット法等により塗布する方法などが挙げられる。この際、第２工程で接続部３００を形成できるよう、平坦化層３０１には開口部を設けておく必要がある。平坦化層の膜厚は、通常１００ｎｍ〜２μｍ程度であるが、これに限定されるものではない。

第２工程では、まず接続部３００及び下部電極３０２が同時に形成される。これらを形成する方法としては、スパッタ法、真空蒸着法、イオンプレーティング法等が挙げられる。電極の膜厚は、通常５０ｎｍ〜２００ｎｍ程度であるが、これに限定されるものではない。その後、正孔輸送層３０３、発光層３０４、電子輸送層３０５、及び有機ＥＬ素子１の陰極である上部電極３０６が形成される。これらを形成する方法としては真空蒸着法や塗布法など、用いる材料及び積層構成に適切な方法を用いることができる。また、有機ＥＬ素子１の有機層の構成は、本実施例の記載に関わらず、その他正孔注入層や電子輸送層、正孔ブロック層、電子ブロック層など、公知の有機層を取捨選択して構成してもよい。

５．封止工程
封止工程では、有機ＥＬ層Ａが封止層４００によって上部電極３０６の上から封止される。封止層４００としては、ガラス、樹脂、セラミック、金属、金属化合物、又はこれらの複合体等で形成することができ、適時最適な材料を選択可能である。

６．剥離工程
剥離工程では作製された有機ＥＬ素子１が支持材５００から剥離される。剥離工程を実現する方法としては、例えば、物理的に支持材５００から剥離する方法が挙げられる。この際、支持材５００に剥離層を設けても良いし、支持材５００と表示素子の間にワイヤを挿入して剥離しても良い。また、その他の方法としては支持材５００の端部のみ剥離層を設けず、素子作製後端部より内側を切断して素子を取り出す方法、支持材５００と素子の間にシリコン層等からなる層を設け、レーザー照射により剥離する方法、支持材５００に対して熱を加え、支持材５００と透明基板を分離する方法、支持材５００を溶剤により除去する方法等が挙げられる。これらの方法は単独で用いてもよく、任意の複数の方法を組み合わせて用いてもよい。

本実施形態にかかるディスプレイ用、光学用、又は照明用の素子の製造方法によって得られた有機ＥＬ素子は、一又は複数の実施形態において、透明性、耐熱性、低線膨張性、低光学異方性等に優れている。

［表示装置、光学装置、照明装置］
本開示は、その態様において、本開示にかかるディスプレイ用素子、光学用素子、又は照明用素子を用いた表示装置、光学装置、又は照明装置に関し、また、それらの製造方法に関する。これらに限定されないが、前記表示装置としては、撮像素子などが挙げられ、光学装置としては、光／電気複合回路などが挙げられ、照明装置としては、ＴＦＴ−ＬＣＤ、ＯＥＬ照明などが挙げられる。

本発明はさらに以下の一又は複数の実施形態に関する。

＜Ｄ１＞ ＜Ｃ１＞から＜Ｃ６＞のいずれかに記載の積層複合材のポリマー層のガラスプレートと対向する面と反対の面上にディスプレイ用素子、光学用素子、又は、照明用素子を形成する工程を含む、ディスプレイ用素子、光学用素子、又は、照明用素子の製造方法。
＜Ｄ２＞ さらに、形成されたディスプレイ用素子、光学用素子、又は、照明用素子をガラスプレートから剥離する工程を含む、＜Ｄ１＞記載のディスプレイ用素子、光学用素子、又は、照明用素子の製造方法。
＜Ｄ３＞ ＜Ａ１＞から＜Ａ１０＞のいずれかに記載のポリマー溶液、又は、＜Ｂ１＞から＜Ｂ５＞のいずれかに記載のポリマーフィルムを使用して製造され、前記ポリマーフィルムを含む、ディスプレイ用素子、光学用素子、又は、照明用素子。

以下に、実施例及び比較例を挙げて本発明を説明するが、本発明は下記の実施例に限定されるものではない。

まず、本実施例中のフィルム特性の測定方法を記述する。
［破断エネルギー］
万能型引張り試験機 （オートグラフ AG-5ｋNX、株式会社島津製）を用いて、引張試験を実施し、測定結果から破断エネルギーを算出した。
測定条件は下記の通りである。
サンプルサイズ：幅５ｍｍ、長さ５５ｍｍ、厚み０．０１ｍｍ（短冊形状）
引張速度５ｍｍ／ｍｉｎ
つかみ具間距離：２５ｍｍ
［透過率］
分光光度計（V-670, 日本分光株式会社製）を用いて各波長の光透過率測定を実施した。なお、本実施例の数値は全光線透過率モードによって得られた数値を採用した。下記表１には、フィルムの厚みを１０μｍ換算したときの波長４００ｎｍの光透過率を示した。

［実施例１］
温度計、撹拌機、窒素導入管を備えた５００ｍＬ４つ口セパラブルフラスコで、２，２’−ジトリフルオロメチル−４，４’−ジアミノビフェニル（ＰＦＭＢ：セイカ株式会社製、２０．００ｇ）、３，３’−ジアミノ−４，４’−ヒドロキシビフェニル（ＤＡＤＨＢＰ：１．５０ｇ）をジメチルアセトアミド（関東化学株式会社製、２５７．６０ｇ）に溶解した。この溶液に酸化プロピレン（和光純薬工業株式会社製、１２．０９ｇ）を加えた後、窒素雰囲気下、０℃に冷却し、イソフタロイルクロリド（東京化成工業株式会社製、１２．６７ｇ）、テレフタロイルクロリド（ＴＰＣ：東京化成工業株式会社製、１．４１ｇ）を加えて４時間撹拌した後、ベンゾイルクロリド（東京化成工業株式会社製、０．０２ｇ）を加えてさらに１時間撹拌した。得られた反応溶液を大過剰のメタノールに投入し、析出した沈殿物をろ過により回収した。沈点物をメタノールで洗浄し、十分に乾燥させることでポリマーを得た。得られたポリマーを、ブチルセロソルブとＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミドの重量割合１５：８５の混合溶媒３００ｇに溶解し、スピンコーターを用いて塗布し、オーブン中で３３０℃６０分加熱処理を行うことでフィルムを作製した。得られたフィルムの特性（破断エネルギー、光透過率）について評価を実施した。
得られたフィルムの波長４００ｎｍにおける光透過率は８４．１％、破断エネルギーは１３．８ＭＪ／ｍ³であった。

［比較例１］
ジアミンとして２，２’−ジトリフルオロメチル−４，４’−ジアミノビフェニルのみを使用した他は実施例１と同様にポリマー溶液及びポリマーフィルムを作成し、得られたフィルム特性について評価を実施した。
得られたフィルムの波長４００ｎｍにおける光透過率は８２．２％、破断エネルギーは７．４８ＭＪ／ｍ³であった。

実施例１及び比較例１の結果を下記表にまとめる。

上記表１に示すとおり、ＤＡＤＨＢＰを使用したポリマーのポリマー溶液（実施例１）は、比較例１と比較して、光透過性が向上し透明性が向上したポリマーフィルムを製造可能であることが分かる。さらに、ＤＡＤＨＢＰを使用したポリマーのポリマー溶液（実施例１）は、比較例１と比較して、破断エネルギーが向上しフィルムの靭性が向上したポリマーフィルムを製造可能であることが分かる。

１ 有機ＥＬ素子
１００ 透明樹脂基板
１０１ ガスバリア膜
２００ ゲート電極
２０１ ゲート絶縁膜
２０２ ソース電極
２０３ 活性層
２０４ ドレイン電極
３００ 導電性接続部
３０１ 平坦化層
３０２ 下部電極
３０３ 正孔輸送層
３０４ 発光層
３０５ 電子輸送層
３０６ 上部電極
４００ 封止層
５００ 支持材
Ａ 基板
Ｂ 薄膜トランジスタ
Ｃ 有機ＥＬ層

Claims (12)

1. ベンゾオキサゾール前駆体構造を有する構造単位又はベンゾオキサゾール構造を有する構造単位を含むポリマーと溶媒とを含むポリマー溶液であって、
   前記ポリマーは、カルボン酸ジクロライド成分モノマーとジアミン成分モノマーとを重合させてなるポリマーであり、
   前記ジアミン成分モノマー全量に対するベンゾオキサゾール前駆体構造を有するジアミン成分モノマー量は、０を超え、２０モル％以下であり、
   ベンゾオキサゾール前駆体構造を有するジアミン成分モノマーが、ジヒドロキシ−ビフェニルを有するビスアミノフェノール化合物であり、
   前記ジアミン成分モノマーにおける、ベンゾオキサゾール前駆体構造を有するジアミン成分以外のジアミン成分モノマーが、ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、２，２’−ジトリフルオロメチル−４，４’−ジアミノビフェニル、９，９−ビス（４−アミノフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−アミノ−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−アミノ−３−フロロフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−アミノ−３−クロロフェニル）フルオレン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、及び２，２−ビス（４−アミノフェニル）ヘキサフルオロプロパンからなる群から選択される１種類又は２種類以上であり、
   前記カルボン酸ジクロライド成分モノマーが、テレフタル酸ジクロライド、２クロロ−テレフタル酸ジクロライド、イソフタル酸ジクロライド、ナフタレンジカルボニルクロライド、ビフェニルジカルボニルクロライド、４，４’−ビフェニルジカルボニルクロライド、ターフェニルジカルボニルクロライド、２フロロ−テレフタル酸ジクロライド、１，４−シクロヘキサンカルボン酸ジクロライド、２，２’−ビス（４−カルボキシフェニル）プロパンジクロライド、及び２，２’−ビス（４−カルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンジクロライドからなる群から選択される１種類又は２種類以上である、ポリマー溶液。
2. 請求項１に記載のポリマー溶液から形成されたポリマーフィルム。
3. 換算厚み１０μｍでの波長４００ｎｍの光透過率が、６０％以上である、請求項２に記載のポリマーフィルム。
4. 請求項１に記載のポリマー溶液からフィルムを形成すること、及び、
   フィルム形成時又は形成後に２００℃以上の熱処理を施すことを含む、ポリマーフィルムの製造方法。
5. ベンゾオキサゾール構造を有する、請求項２又は３に記載のポリマーフィルム。
6. フィルムの破断エネルギーが２．０ＭＪ／ｍ³以上である、請求項２、３及び５のいずれかに記載のポリマーフィルム。
7. ガラスプレート、ポリマーフィルム層を含み、
   ガラスプレートの一方の面上にポリマーフィルムが積層されている積層複合材であって、
   前記ポリマーフィルムは、ガラスプレート上に請求項１に記載のポリマー溶液から形成されたものであり、
   ガラスプレートの厚みが、０．３ｍｍ以上であり、
   前記ポリマーフィルムのガラスプレートと対向する面と反対の面上にディスプレイ用素子、光学用素子、又は、照明用素子を形成する工程を含む、ディスプレイ用素子、光学用素子、又は、照明用素子の製造方法に使用するための、積層複合材。
8. ポリマーフィルムの換算厚み１０μｍでの波長４００ｎｍの光透過率が、６０％以上である、請求項７に記載の積層複合材。
9. ポリマーフィルムがベンゾオキサゾール構造を有する、請求項７又は８に記載の積層複合材。
10. ポリマーフィルムの破断エネルギーが２．０ＭＪ／ｍ³以上である、請求項７から９のいずれかに記載の積層複合材。
11. 請求項７から１０のいずれかに記載の積層複合材のポリマー層のガラスプレートと対向する面と反対の面上にディスプレイ用素子、光学用素子、又は、照明用素子を形成する工程を含む、ディスプレイ用素子、光学用素子、又は、照明用素子の製造方法。
12. さらに、形成されたディスプレイ用素子、光学用素子、又は、照明用素子をガラスプレートから剥離する工程を含む、請求項１１に記載のディスプレイ用素子、光学用素子、又は、照明用素子の製造方法。

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