TWI278870B - Manufacturing method for electronic component module and electromagnetically readable data carrier - Google Patents

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TWI278870B
TWI278870B TW092134023A TW92134023A TWI278870B TW I278870 B TWI278870 B TW I278870B TW 092134023 A TW092134023 A TW 092134023A TW 92134023 A TW92134023 A TW 92134023A TW I278870 B TWI278870 B TW I278870B
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film
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Wakahiro Kawai
Noriaki Sato
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Omron Tateisi Electronics Co
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Description

4 1278870 玖、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明關於一種用以製造電子元件模組之方法,該電子 元件模組適宜用以製造電磁可讀取資料載體,其作用如飛 航行李標籤,物體分配管理標籤或無人檢視出入口,且更 明確地,關於一種用以製造電子元件模組之方法,其中藉 由低成本之覆晶連接方法在配線基板上封裝半導體承載晶 片’其中即使在在半導體承載晶片之封裝部份上施加高溫 及高壓負載的狀況之下,亦可防止因半導體承載晶片與配 線基板上之電極區域的接觸而引起的短路。 【先前技術】 所謂的飛航行李標簽習知為此類型的電磁可讀取資料載 體。故可預期該飛航行李標簽會在未來以拋棄式形式用在 機場的旅客行李管理。以世界性的航空公司狀況而言,單 一公司每個月就存在有8,500,000標籤的大量需求。因此, 希望可建立大量製造且低成本的技術,以用於此類的飛航 行李標籤。 例如,飛航行李標籤習知為,其中渦捲狀導體圖案用作 為用於傳輸及接收電路的天線圈及1C部份,及一記憶體位 於矩形之PET薄膜基板的一面上。在此飛航行李標籤中,保 持作為天線圈之渦捲狀導體圖案的飛航行李標籤主體會藉 由選擇性钱刻PET薄膜之一面上的銅線圈或紹線圈而形 成 因此,易於精由習知的微影技術及後續的濕餘刻步驟 而經光阻形成步驟實行基於RTR (Roll To Roll)的連續製造 89725-950710.doc 1278870 線。另一方面,作為傳輸及接收電路及記憶體的電路部份, 其没置於飛航行李標籤主體上,會利用 (例,參照專利前案υ而建構在一晶片中。 技術 本發明者先前曾提出一種技術,其中組成傳輸及接收電 路及記憶體的半導體承載晶片先行封裝在薄膜狀的絕緣晶 圓上(一種配線基板)以製造一模組。該電子元件模組接合至 PET薄膜上而組成飛航行李標籤以增加飛航行李標籤的生 產率(參照專利前案2)。 對位於極薄之薄片上的電子部份(如,黏在飛航行李標籤 上之電子元件模組)而言,已做出關於覆晶連接方法的多樣 措施以用於直接令半導體承載晶片在配線基板上。 圖17顯示覆晶連接方法的範例(下文中稱之為第一習知 方法。以第一方法,用於連接的突出端b(稱作凸塊)預先形 成於半導體承載晶片的底部電極(未示)上,且配線基板〇之 配線圖案上的凸塊b及電極區域(與凸塊b之預定連接區域)d 會對齊,並藉由接合材料e(如,焊料或導電糊狀物)連接。 第一方法具有數個問題,(丨)用以供應及固化用於在配線 圖案上連接凸塊b與電極區域d的接合步驟很複雜,(2)用以 在晶片a與配線基板c之間填充絕緣樹脂f(稱作填膠)及令凸 塊連接部份密封的步驟有賴於凸塊連接部份的阻擋濕氣可 罪性及半導體的承托力,及需要(3)用以填充及固化絕緣樹 脂f(如同填膠)的步驟,因而會增加製造成本。 圖18顯示覆晶連接方法的另一範例(下文中稱之為第二 習知方法)。第二方法解決了第一方法的相關問題。第二方 89725-9507i0.doc 1278870 法牵涉利用-多向異性導電薄片令半導體承載晶片封裝於 配線基板上。在第二方法中, ★在熱塑型性或熱固型性樹脂中散佈導電粒子的多向異性 薄片g插入半導體承載晶片a及配線基板c之間。藉由樹脂導 電粒子h因熱電偶接合於配線圖案上的凸塊b及電極區域d 門的導電粒子形成厚度方向的電連接(例,參照專利前案 3)。 一 在第二方法中,配線圖案的對齊為相對上粗略地在配線 基板上封裝半導體。樹脂固化時間為10至20秒之短。不需 作用也封劑’如填膠。因此,會減少製造成本。相反地, 仍存在數個問題,即(1)多向異性導電薄片g相對上是較貴 的’(2)需要高於2〇〇。〇的溫度以用於固化,以令較無法抗熱 之板失能,(3)雖為相對上較短的時間,但仍需要1〇至2〇秒 以固化樹脂材料。難以簡化並加速此步驟,且(4)凸塊與配 線圖案之間的電連接為藉由散佈在樹脂材料中之導電粒子 的接觸所造成,故其連接之可靠度較差。 因此,本發明者曾提出一種覆晶連接方法(稱之為第三習 知方法)。圖19A至19C顯示根據第三方法的覆晶連接方法。 以第二方法,以半導體剖面之凸塊b所形成的半導體承載晶 片a封裝於具有配線基板〇上的覆晶連接配線基板,形成於 配線基板c上之配線圖案上的電極區域d,及覆蓋電極區域4 的熱固型樹脂薄膜(樹脂附著)i上。 更明確地,存在用以放置(放置步驟)承載晶片&側(凸塊b) 及配線基板c(電極區域d)(圖19A)的步驟,用以在利用加熱 89725-950710.doc 1278870 … ι 台加熱熱塑型樹脂薄膜i時(圖丨9B)時的狀態之下,當施加超 音波至凸塊b時,藉由令導電承載晶片a向下壓(圖19B的箭 頭方向)以部份擠去熔化的熱塑型樹脂薄膜丨而令凸塊1)及電 極區域d接觸(熱塑型樹脂薄膜)的步驟,用以在凸塊b與電極 區域d接觸的狀態之下(圖19C),藉由再持續地施加超音 波,以超音波接合(金屬熔化)(超音波接合的步驟)凸塊匕與 電極區域d的步驟,及用以藉由冷卻並硬化熔化的熱塑型樹 脂薄膜i(未示)而令半導體承載晶片主體接合在配線基板上 的步驟(參照專利前案4)。 以第三方法,一系列的封裝步驟,包括在一至二秒内執 行熔化熱塑型樹脂薄膜i,其藉由施加超音波至凸塊b而接 合凸塊b及電極區域d,且固化(冷卻及硬化)熱塑型樹脂薄膜 i,藉以可縮短製造時間。因凸塊b及電極區域d之間的金屬 熔化接合,故電連接具有可靠性。 然而,第三習用方法具有以下問題。 圖20A至20B顯示一方法之範例,其用於作用包括在資料 載體(設置有半導體承載晶片)中的卡片及憑證。圖2〇a顯示 一方法,其用於藉由疊層壓製作用包括在資料載體中的卡 片。圖20B顯示一方法,其用於藉由射出成形作用包括在資 料載體中的憑證。更明確地,以圖20A中顯示的作用方法, 設置有半導體承載晶片j的資料載體主體!^夾在二樹脂薄膜 1 - 1中間’且在此狀態中’藉由一對加熱至約1 2〇 的金屬 板m-m(具有垂直方向100-200 Kg/cm2的壓力)壓按,以整體 地接合二薄膜1-1與資料載體,藉以製造包括在資料載2中 89725-950710.doc 1278870 的卡片。以圖20B中所千沾从m , r所不的作用方法,設置有半導體承載晶 片』的負料載體主體k置於鑄模n内部凹洞内的預設位置,及 在此狀態中,具有250。(:溫度的樹脂會在4〇至8〇 Kg/mm2的 壓力下的鑄模η的樹脂注入口注入,藉以製造包括在資料裁 體中的憑證。 即’在藉由第三習用方法所製造的電子元件模組中,如 圖21Α所示,因為只藉由熱塑型樹脂薄膜產生半導體承載晶 片a與電極區域之間的絕緣,若作用中需要的高溫負載(如 豐層壓製及射出成形)施加至半導體承載晶片&的封裝部 伤,則在某些狀況中,熱塑型樹脂薄膜丨會熔化。在此狀態 中,右在圖21B之箭頭所指示的方向施加高壓,電極區域d 及配線基板c會部份捲曲。接著,半導體承載晶片&會埋入 熱塑型樹脂薄膜i之中,造成了不穩定性,即半導體承載晶 片a及電極區域d間的接觸會產生短路。 [前案1] JP-A-6-243358 [前案2] JP-A-11.176022 [前案3] 曰本專利第2586154號 [前案4] JP-A-11.333409 【發明内容】 發月的目的為提供一種用以製造電子元件的方法,其 89725-950710.doc 1278870 中半導體承載晶片會快速地以電機可靠方式及低成本封裝 在配線基板上’其中可防止短路的發生,其導因於配線基 板上之半導體承載晶片與電極區域之間的接觸,即使在高 溫及高壓負載施加在半導體承載晶片之封裝部份的狀況之 下。 本發本的另一目的為提供一種覆晶連接配線基板,其適 宜用於製造電子元件模組的方法。 本發明的再一目的為提供一種用以製造覆晶連接配線基 板的方法,其中可簡單地且低成本地製造配線基板。 再者,本發明的更一目的為提供一種用以製造電磁可讀 取驁料載體的方法,其利用低成本及大量製造的覆晶連接 配線基板,其中電磁可讀取資料載體用作飛航行李標籤, 物體分配管理標籤或無人檢視出入口。 本發明的其他目的會隨著下列實施例而令熟習此技藝者 更了解。 本發明提供一種用以製造電子元件模組的方法,該電子 元件模組之電路板上封裝有半導體承載晶片,該方法包括·· (a) 準備該配線基板,其包括一配線圖案,一熱固型樹脂 缚膜’其覆盖^ 邊配線圖案上之電極區域且具有散佈的絕 緣粒子並包括在其中,及一熱塑型樹脂薄膜,其覆蓋該熱 固型樹脂薄膜; (b) 當施加超音波時,令半導體承載晶片壓按於熔化狀態 中的熱塑型樹脂薄膜(即該熱塑型樹脂薄膜加熱及軟化) 上’因而熔化之熱塑型樹脂薄膜會藉由半導體承載晶片之 89725-950710.doc -11 - 1278870 该凸塊推開,且該凸塊會達到該熱固型樹脂薄膜的表面; (匀藉由持續地施加超音波至該凸塊而令該凸塊壓迫該熱 固型樹脂薄膜,因而該絕緣粒子會由熱固型樹脂薄膜分 離,熱固型樹脂薄膜會由該凸塊上方削去,及該凸塊會成 與該電極區域接觸; (d) 在該凸塊與該電極區域接觸的狀態之下,藉由持續性 地施加超音波,而超音波接合該凸塊與該電極區域;及 (e) 藉由冷卻及硬化該熔化之熱塑型樹脂而令半導體承載 晶片主體接合在該配線基板上。 由步驟(a)可知,具有散佈及包括在其中之絕緣粒子的熱 固型樹脂薄膜會預先形成在配線基板之配線圖案上的電極 區域上,如本發明中所使用般。再者,熱塑型樹脂薄膜會 形成在熱固型樹脂薄膜上。熱固型樹脂薄膜只會覆蓋配線 圖案的電極區域,或配線圖案的整個表面。 文中使用的’’電極區域”意即配線圖案上的某個小區域,該 配線圖案包括一預設部份,其中電子部份的端子會連接。電 極區域包括一部份,其基本上稱為配線圖案上的凸台。 文中使用的”加熱及軟化"兩者意指一狀態,其中加熱及 軟化熱塑型樹脂薄膜至某個步驟,及一加熱及熔化的狀 態。再者,文中使用的,,熱塑型樹脂”較佳地具有作為黏著 劑的優良特徵。 散佈及包括”在其中的意思為預設的絕緣粒子量存在至 >、接近電極區域(一凸塊嵌入熱固型樹脂薄膜的預定區 域)。再者,絕緣粒子平均地存在整個熱固型樹脂薄膜區 89725-950710.doc -12- 1278870 / ε緣粒子會平均地散佈在熱固型樹脂薄膜内。再者, 絕緣粒子句# ^ ^ 士、 中,以藉由凸塊之超音波振動而由熱固 1 ί月曰薄膜内分離絕緣粒子,及製造通孔在熱固型樹脂薄 I ,因為在熱固型樹脂薄膜内製造通孔,熱固型樹 薄膜在耐久性方面是容易損壞的,藉以凸塊可易於嵌經 熱固型樹脂薄膜。 文中使用之”由熱固型樹脂薄膜内分離絕緣粒子"兩者包 括兩者 5 ^ ^ 為完全由熱固型樹脂薄膜分離絕緣粒子的狀 況,及一為由熱固型樹脂薄膜部份突出絕緣粒子的狀況。 _ 根據本發明之用以製造電子元件模組的方法具有以下優 點,即(1)安穩地達成電傳導,因為凸塊及電極區域會因超 音波接合的擴散接點而改變,(2)優良的濕度抵擋,因為凸 塊及電極區域之間的接點部份由樹脂所密封,(3)對抗張力 的機械封裝力較佳,因為當熱塑型樹脂薄膜固化時,會接 合半導體承載晶片及配線基板,電傳導及機械連接會在 短時間内同時達成,(5)製造成本超級低,因為任何特別密一 封及接合步驟及接合材料都不需要,及(6)在加熱時,基板 _ 表面會較所需的更不黏,因為熱塑型樹脂薄膜不存在板表 面的曝露部份。 雖然會大大地因覆蓋熱固型樹脂薄膜之熱塑型樹脂薄膜 的存在而獲得以上(1)至(6)中所陳述的優點,然可藉由本發 · 明者先前所提出之相關技藝(JP-A-1 1-333409)的第三方法 . 而獲得幾乎相同的優點。即,本發明的著越特徵即除了以 上(1)至(6)所陳述的優點之外,根據本發明用以製造電子元 89725-950710.doc -13- 1278870 … 件模組的方法具有以下優點。 (7) 在根據本發明所製造的電子元件模組中,因為典型上 不會在高溫熔化的熱固型樹脂薄膜會插入半導體承載晶片 與電極區域(配線圖案)之間,會防止半導體承載晶片與配線 圖案的直接接觸,其導因於熱固型樹脂薄膜的存在,如先 岫以圖21A至21B之連接中所描述的,即使如先前圖2〇A之 連接中所述的,施加咼溫及高壓負載至半導體承載晶片的 負載部伤。因此,可製造出高度可靠且不會造成短路的電 子元件模組。 (8) 因為熱固型樹脂薄膜具有散佈及包括在其中的絕緣粒 子,用以移去熱固型樹脂薄膜以令凸塊嵌入熱固型樹脂薄 膜的步驟包括藉由施加超音波振動至凸塊,而純粹壓按凸 塊至熱固型樹脂薄膜上。例如,為了防止短路,會考慮設 置不含絕緣粒子的絕緣薄膜(絕緣層)於熱塑型樹脂薄膜與 配線圖案之間,絕緣層不容易只藉由凸塊的超音波振動而 嵌入(部份移去)。相反地,本發明中,絕緣粒子會藉由凸塊 的超音波振動而由熱固型樹脂薄膜分離,因此會在熱固型 樹脂層中製造通孔以令樹脂層易於損壞,而可趨使凸塊易 於在短時間内鑽入熱固型樹脂層内,且使凸塊的頂端部份 達到電極區域。 再者,本發明提供一種覆晶連接配線基板,包括一配線 圖案,一熱固型樹脂薄膜,其覆蓋一電極區域於配線圖案 上且具有散佈及包括於其中的絕緣粒子,及一熱塑型樹脂 薄膜’其覆蓋熱固型樹脂薄膜。 89725-950710.doc -14- 1278870 立使用該覆晶連接配線基板,可易於在配線基板上藉由超 音波封包(其只藉由以預設凸塊提供半導體承載晶片)而設 置半導體承載晶^且可獲得具有以上⑴至⑹巾所陳述之 優點的優良電子元件模組。 為了製造該覆晶連接配線基板,較佳利用具有散佈及包 括在其間之絕緣粒子的熱固型樹脂薄膜作為形成及配線圖 案經钱刻步驟時的钱刻遮罩,且熱固型樹脂薄膜會覆蓋以 熱塑型樹脂薄膜。 以此製造方法,會縮短用以剝除㈣光組的典型步驟, 藉以可簡化製造步驟。再者,具有姓刻光阻有效地作為配 線圖案表面上的絕緣保護層。 再者’本發明提供一種用以製造一電磁可讀取資料載體 之方法’該電磁可讀取資料載體整體上包括一資料載體主 體及一電子元件模組,該資料載體主體保持-導體圖案, 其在薄膜上組成一天線,該電子元件模組,其中具有傳輸/ 接收電路及記憶體的半導體承載晶片,封褒在該薄膜之配 線圖案’薄片或薄板狀的配線基板上,該方法具有用以該 電子元件模組的製造方法,包括以下步驟·· ⑷分離具有該配線圖案的該薄膜’薄片或薄板狀的配線 基板,一熱固型樹脂薄膜在該配線圖案上覆蓋電極區域且 具有散佈及包括在其中的絕緣粒子,及—熱塑型樹脂薄 膜’其覆蓋熱固型樹脂薄膜; ⑻令半導體承載晶片之凸塊麼按至炼化狀態的熱塑型樹 脂薄膜(即加熱及軟化)上’當施加—超音波時,因而溶化之 89725-950710.doc -15- 1278870 熱塑型樹脂薄膜會由半導體承載晶片之凸塊邊緣削去,且 該凸塊達到熱固型樹脂薄膜的表面; (c) 藉由持續性施加超音波至該凸塊,而朝向熱固型樹月旨 薄膜壓按該凸塊,因而該絕緣粒子會由熱固型樹脂薄膜内 分離,熱固型樹脂薄膜會由該凸塊削去,且該凸塊會形成 該電極區域的接觸; (d) 在該凸塊及該電極區域接觸的狀態下,藉由持續性施 加超音波而以超音波接合該凸塊與該電極區域;及 (e) 藉由冷卻及硬化該熔化的熱塑型樹脂薄膜而在該配線 基板上接合半導體承載晶片主體。 以此構造,因上述關於製造電子元件模組之方法的優點 (1)至(8) ’可大量製造高效能操作的電磁可讀取資料載體, 如飛航行李標籤,物體分配管理標籤或無人檢視出入口。 較佳地,本發明提供一種用以製造電磁可讀取資料載體 的方法,其整體上包括-資料載體主體,其保持_金屬圖 案,其包括一薄膜狀樹脂基板上的天線圈,及一電子元件 杈組,其中組成一傳輸/接收電路及一記憶體的半導體承載 晶片會封裝在薄膜狀薄膜基板上的鋁络配線圖案上,該方 法i括製迈電子元件模組的步驟,其中半導體承載晶片會 封裝在薄膜狀薄膜基板表面上的Μ配線圖案Ji,該步驟 更L括(a)準備—具有!g箱配線圖案之配線基板的步驟,一 熱固型樹脂薄膜令電極區域覆蓋在鋁箔配線圖案且具有散 ,及G括在其間的絕緣粒子’及—熱塑型樹脂薄膜,其覆 蓋…、固51樹月曰薄膜,⑻令半導體承載晶片之凸塊壓按至熔 89725-950710.doc -16- 1278870 化狀態的熱塑型樹脂薄膜(其加熱及軟化)上,當施加超音波 且推迫凸塊以擠去熔化的熱塑型樹脂薄膜且達到熱固型樹 脂薄膜的表面,(c)藉由持續地再施加超音波至凸塊,而朝 向熱固型樹脂薄膜壓按凸塊,由熱固型樹脂薄膜内分離絕 緣粒子且推迫凸塊削去熱固型樹脂薄膜及產生與電極區域 之接觸的步驟,(d)在凸塊及電極區域接觸的狀態下,藉由 持續地再施加超音波而超音波接合凸塊及電極區域,及(e) 藉由冷卻及硬化熔化的熱塑型樹脂,而在配線基板上接合 半導體承載晶片主體。 根據本發明者所知,可確認若利用鋁箔以上述方式作為 電子元件模組側上的配線圖案,上述程的(d)的序蝕刻方程 及超音波接合會較利用其他材料時相對上更為容易且低成 ° 本發明中之"絕緣粒子的材料",會利用氧化矽,氧化鋁 或四氟乙烯。由抗壓的觀點而言,具有相對高硬度之無機 氧化物的氧切或氧化銘是較佳的。然而,因為氧化铭具 有相對較高的介電常數,氧化矽是使用上較佳的,不喜任 何在半導體承載晶片之下的電容元件。當依需求而需要切 割配線基板時,若硬粒子的氧化物(如氧化石夕或氧化⑴包括 在熱固型樹脂薄膜中’贓存在縮短刀片使用期的風險。在 此樣的狀況之下,較佳可利用相對較軟的四氟乙烯。 較佳地,在本發明t,熱@型樹脂薄膜中之絕緣粒子的 含量占樹脂的百分重量比為30重量%。這可做為詳細研究 的結果。可發現在10重量%以下,凸塊難以嵌經熱固型樹 89725-950710.doc -17- 1278870 ·, 脂薄膜(即,半導體承載晶片與電極區域之間的電連接),而 樹脂的可使用性為3〇%以上。 本發明中,絕緣粒子的直徑較佳為熱固型樹脂薄膜厚度 的70 /〇以上(含)。因為以較大直徑的絕緣粒子,樹脂内的通 孔會較大,使得易於嵌入凸塊,製造該通孔以由熱固型樹 脂薄膜分離絕緣粒子。 【實施方式】 [實施例] 根據本發明之較佳實施例,用以製造電子元件模組之方 法會在下文參照附圖描述。下列實施例只組成本發明的一 部份’然本發明的範圍可由申請專利範圍而界定。 實施例包括用以製造電子元件模組之方法,其中一方法 用以製造電子元件模組,其具有封裝在配線基板上的半導 體承載晶片,該方法包括: 準備该配線基板,其包括一配線圖案,一熱固型樹脂薄 膜,覆蓋一電極區域在該配線圖案上且具有散佈及包括在 其間的絕緣粒子,及一熱塑型樹脂薄膜,覆蓋該熱固型樹 脂薄膜; 當施加超音波時,壓按半導體樹脂薄臈之凸面在熔化狀 態的熱塑型樹脂薄膜(加熱及軟化)上,因而熔化的熱塑型樹 脂薄膜會藉由半導體承載晶片之該凸塊而推開,及該凸塊 達到該熱固型樹脂薄膜的表面; 藉由持續性施加超音波至該凸塊而令該凸塊朝向該熱固 型树月曰薄膜壓按,因而§亥絕緣粒子會由熱固型薄膜分離, 89725-950710.doc •18· 1278870 熱固型树月曰薄膜會猎由該凸塊而推開,且該凸塊造成該電 極區域的接觸; 在該凸塊與該電極區域接觸的狀態之下,藉由持續性施 加超音波而超音波接合該凸塊與該電極區域;及 藉由冷卻及硬化該熔化的熱塑型樹脂而在該配線基板上 接合一半導體承載晶片。 圖1A至1F為步驟圖,顯示一系列之製造方法的步驟。該 系列的步驟包括一金屬箔疊層板製造步驟(圖1A),蝕刻遮 罩印刷步驟(圖1B),用於配線圖案形成的蝕刻步驟(圖1(:), 熱塑型薄膜形成步驟(圖ID),超音波封裝步驟(圖1E),及接 合步驟(圖1F)。各步驟的細節詳如下述。 金屬箔疊層板製造步驟 在此步驟中,製造作為薄膜狀配線基板之基礎元件的鋁 -PET疊層板1。藉由令35以以厚的硬鋁箔3經胺基甲酸酯而置 放於25 μπι厚的PET薄膜2之一側(圖中朝上的一面)上而製造 此銘-PET疊層板i,且在15代與壓力5kg/cm2的條件下加熱 疊層且接合。 餘刻遮罩印刷步驟 在此製造步驟中’具有所需之配線圖案形狀的蝕刻光阻 圖案會形成在銘·ΡΕΤ疊層板i之硬㈣3的表面上。在此範 例中’光阻圖案形成為環氧化熱固型樹脂薄臈4,其具有如 圖1B至1F中以,,·,,標示之散佈Si〇2粒子(絕緣粒子)。更明確 地’藉由令-墨水以凹版印刷法塗佈於銘猶疊層板】的表 面上’該墨水包括100重量比率之環氧化樹脂及3〇重量比率 89725-950710.doc •19· 1278870 之Si〇2粒子(直徑為3至4 /zm),其混合至含有甲苯30%,甲 基乙基酮6.1。/。及丁基乙醇12%的溶劑的而以約4至6 的 厚度形成環氧化熱固型樹脂薄膜(蝕刻光阻圖案)4,且以13〇 至200°C的溫度乾燥墨水2〇至60秒。 餘刻步驟 在此步驟中,由熱固型樹脂薄膜(蝕刻光阻圖案)4曝露的 鋁箔部份5會藉由習知之蝕刻移去,以形成配線圖案6,其 包括硬鋁箔3。在本範例中,藉由以Na〇H (120 g/Ι)的蝕刻 劑在50°C的溫度下摻質鋁箔部份5而形成配線圖案6,該鋁 V# ap伤由熱固型樹脂薄膜4所曝露。因此,包括硬紹箔3的 配線圖案會出現在配線基板未完成製品8a(在此餘刻步驟 中所獲)的表面上。配線圖案6的表面完全覆蓋以環氧化熱 固型樹脂薄膜4,其用作為蝕刻光阻圖案(蝕刻遮罩)。即, 配線圖案6中至少電極區域的表面(與半導體承載晶片之凸 塊連接的連接預定區域)會覆蓋以熱固型樹脂薄膜4。熱固 型樹脂薄膜4的塗佈厚度會依凸塊大小及所封裝之承載晶 片形狀而調整。 熱塑型樹脂薄膜形成步驟 在本步驟中,作為黏著層的熱塑型樹脂薄膜7會形成在熱 固型樹脂薄膜4的整個表面上,以作為蝕刻圖案。藉由在熱 固型樹脂薄膜4的表面上以凹版印刷法塗佈約4至6 “瓜厚的 聚烯烴熱塑型樹脂黏著劑(約在9〇至1 〇〇°C的溫度下溶化)而 形成熱塑型樹脂薄膜7。即,熱固型樹脂薄膜4的表面會完 全覆蓋以熱塑型樹脂薄膜7。因此,可完成覆晶連接配線基 89725-950710.doc -20- 1278870 板(用以封裝半導體承載晶片的配線基板)卜熱塑型樹脂薄 膜7的塗佈厚度會依凸塊大小及所封裝之承載晶片形 調整。 超音波封裝步驟 在本步驟中,當施加超音波時,半導體承載晶片9會封裝 在配線基板8上。本步驟包括以下步驟:—步驟(第一步驟) 即,當施加超音波時,即壓按半導體承載晶片9之凸塊⑺至 熔化狀態的熱塑型樹脂薄膜7(加熱及軟化)上,且壓迫凸塊 1〇以推開熔化的熱塑型樹脂薄膜7及達到熱固型樹脂薄膜4 的表面,一步驟(第二步驟)即,而壓按凸塊1〇朝向熱固型樹 脂薄膜4 ’藉由再持續地施加超音波至凸塊1〇以由熱固型樹 脂薄膜4分離絕緣粒子,及壓迫凸塊1〇以推開熱固型樹脂薄 膜4且與電極區域丨丨產生接觸,及一步驟(第三步驟)即,在 凸塊1〇與電極區域U接觸的狀態之下,藉由再持續地施加 超音波’超音波接合凸塊10與電極區域U。 在本範例中,半導體承載晶片約150 “❿厚,且以所謂的 表面封裝元件所组成,其中用於連接之金屬端的凸塊10會 由其底部面突出。凸塊10會鍍上黃金,且具有14 的高 度及 8 0 # mm 的寬度(80x80 β mm)。 超音波封裝步驟的細節會顯示在圖2A至2C中。在第一步 驟中’會在施加超聲振動的狀態下,朝向熱塑型薄膜7而壓 按凸塊10,該熱塑型薄膜7在1 50°C的溫度下加熱及熔化。 接著’如圖2A所示,熔化的熱塑型樹脂薄膜7會因凸塊10 的超音波振動,而部份地由凸塊10的頂端位置推開及移 89725-950710.doc -21 - 1278870 去,因而凸塊10可達到熱固型樹脂薄膜4的表面,其中散佈 及包括有Si02粒?,一步驟(第三步驟)為㈣凸塊朝向熱固 型樹脂薄膜4,藉由持續性地再施加超音波至凸塊1G以由熱 固型樹脂薄膜4分離絕緣粒子,及壓迫凸塊1〇以推開熱固型 樹脂薄膜4並產生電極區則的接觸,及_步驟(第三步驟) 即,在凸塊與電極區域㈣觸的狀態之下,藉由再持續性 地施加超音波,而超音波會接合凸塊10與電極區域U。 在本範例中,半導體承載晶片是15〇 _厚,且組成所謂的封 裝70件’其中作為連接之金屬端子的凸塊1()會由其底面突出。 凸塊ίο會鍍上黃金,且具有14 的高度及8〇 的寬度 (8 0 X 8 0 // mm) 〇 超音波封裝步驟的細節顯示在圖2a至2C。在第一步驟 中,會在施加超音波振動的狀況之下,朝向熱塑型薄膜7(在 150 C的溫度中加熱及熔化)壓按凸塊1〇。接著,如圖2a所 示,由於凸塊10的超音波振動,會推開部份熔化的熱塑型 樹脂薄膜7及移去凸塊1〇的頂端部份,因而凸塊1〇會達到具 有散佈及包括於其中之Si〇2粒子的熱固型樹脂薄膜4表 面。在第二步驟中,在再施加超音波振動凸塊1〇至凸塊ι〇 的狀態之下,會朝向熱固型樹脂薄膜4而壓按凸塊1〇。接 著,以%’’所標示的Si〇2粒子會由熱固型樹脂薄膜4内以凸塊 10掃除(分離),因而如圖2B所示,標示為,,〇,,的通孔會在熱 固型樹脂薄膜4之内形成。溶化的熱塑型樹脂薄膜7會吸引 (鑽入)由熱固型樹脂薄膜4分離的Si〇2粒子。因通孔的產 生’熱固型樹脂薄膜7的耐久性會更易損壞,因而凸塊丨〇容 89725-950710.doc -22- 1278870 圖1A至1E中所示的步驟。用以製造電子元件模組的方法具 有以下優點:(1)會穩固地產生電通導,因為凸塊1〇及電極 區域11為藉由超音波接合的擴散接面,(2)濕氣阻擋是優良 的,因為凸塊10與電極區域u的接面部份會藉由樹脂密 封,(3)對抗張力的機械封裝力很高,因為當熱塑型樹脂薄 膜7固化時,半導體承載晶片9與配線基板8會接合,(4)電通 導及機械連接會在短時間内同時完成,(5)製造成本極低, 因為不需要任何特別的密封及接合步驟及接合材料,及(6) 基板表面會較加熱時所需的更黏,因為熱塑型樹脂薄膜不 存在板表面的曝露部份。 雖然大部份因熱塑型樹脂薄膜7的存在而可獲得以上(1)至 (6)所陳述的優點,然可藉由第三習用方法(Jp-A_U-3334〇9 , 為本發明者所提出)而獲得幾乎相同的優點。即,顯著的特 徵是根據本實施例之製造電子元件模組的方法除了以上(1) 至(6)所陳述之外,具有以下優點。 (7)因為熱固型树脂薄膜4不會在高溫溶化(本範例中為t 至250°C的範圍)會插入半導體承載晶片9與鋁箔配線圖案6 之間會避免半導體承載晶片及紹箔配線圖案接觸,因為 如前附隨圖21A至21B所述之熱固型樹脂薄膜4的存在,即 使施加高溫及高壓負載至半導體封裝部份,如先前伴隨圖 20所述般。因此,可製造出高可靠度且不會造成短路的電 子元件模組。 (8)因為形成在製造電子元件模組中的熱固型樹脂薄膜4 具有散佈且包括於其t的Si〇2粒子,用以移去熱固型樹脂 89725-950710.doc • 25 - 1278870 薄膜4以造成凸塊10鑽入的部份移去步驟包括藉由施加超 音波振動至凸塊10而純粹壓按凸塊至熱固型樹脂薄膜4 上。例如,為了防止短路,考量當不包含絕緣粒子(如si〇2 粒子)的絕緣薄膜(絕緣層)設置在熱塑型樹脂薄膜7與鋁箱 配線圖案6之間的狀況,會難以只藉由凸塊1〇的超音波振動 移去絕緣層。相反地,在上述實施例中,絕緣粒子(Si〇2粒 子)會藉由凸塊10的超音波振動而由熱固型樹脂薄膜4分離 出來,因此會在熱固型樹脂薄膜4中製造通孔以使樹脂薄膜 4易於損壞,藉以可強制凸塊10在短時間(約一秒鐘)含量易 地鑽入熱固型樹脂薄膜4,且使凸塊10的頂端部份達到鋁箔 配線圖案6(電極區域)。 圖6A顯示本實施例中所製造的電子元件模組中之半導體 承載a曰片9與配線圖案6之間的接合力,與只利用超音波接 合的狀況比較。由圖6A可知,當利用本發明用以製造電子 元件模組的方法時,電子元件模組具有大於只利用超音波 接合約七倍(5.6至8.5倍)的接合力。大多可歸因於一事實, 即當熱塑型樹脂薄膜7固化時,半導體承載晶片9與配線基 板8會接合,但熱固型樹脂薄膜4的存在亦有貢獻。 當以150C的溫度及2 Kg/cm2的壓力施加疊層壓製步驟 時,藉由第三習知方法所製造的電子元件模組之短路失誤 發生比(無具有散佈Si〇2粒子之熱固型樹脂薄膜4的電子元 件模組),與圖6B中所之實施例所製造的電子元件模組之短 路失誤發生比。如圖6B所示,第三習用方法中,失誤發生 比為5/100測試物品模組(5%),而本實施例中無短路失誤發 89725-950710.doc -26- 1278870 生(短路電路失誤發生比〇%)。以此方式,本實施例可獲得 可完全抵抗咼溫及高壓負載之步驟的電子元件模組。 本實施例(其中利用熱固型樹脂薄膜4(具有散佈及包括於 其中的Si〇2粒子的絕緣層)作為熱塑型樹脂薄膜7與鋁箔配 線圖案6之間的絕緣層)中的半導體承載晶片之接合失誤發 生比,及作為絕緣層的半導體承載晶片(其中不包含si〇2粒 子的熱固型樹脂薄膜)之接合失誤發生比顯示在圖7A。由圖 7A可知,配線基板8上之半導體承載晶片9藉由施加超音波 至凸塊10的設置會藉由利用具有散佈且包括在其中之以〇2 粒子的熱固型樹脂薄膜4而允許(無Si〇2粒子··失誤發生比 96%,含Si02粒子:失誤發生比〇%)。 在上述實施例中,半導體承載晶片因散佈及包括在熱固 型樹脂薄膜4中的Si〇2粒子直徑不同的接合失誤發生比顯 示在圖7B。如圖7B所示,當si〇2粒子的直徑為丨至2 (約 熱固型樹脂薄膜4厚度(4至6 //mm)的30°/。)時,接合失誤發生 百分比為50%。然而,當Si〇2粒子的直徑是3至4 (約熱 固型樹脂薄膜4厚度(4至6 的7〇%)時,則無接合失誤發 由此了發現Si〇2粒子的直徑較佳為熱固型樹脂薄膜4 厚度的70%以上(含)。 在上述實轭例中,會利用作為樹脂基底材料(組成疊層板 1)的PET㈣,但會取代pET薄膜而利用聚硫亞氨薄膜。 在上述實施例中,在形成熱固型樹脂薄膜4時會利用含混 a至100重畺/。環氧化樹脂之3〇重量% 8丨〇2粒子的墨水。然 而,由精確研究的結果,本發明者發現半導體承載晶片的 89725-950710.doc •27- 1278870 超音波封裝是優良的選擇,只要環氧化樹脂與si〇2粒子的 混合比是10至30重量%的^〇2粒子對1〇〇重量%的環氧化樹 脂。 在上述實施例中,會利用Si〇2(矽)作為散佈且包括於熱固 型树月曰薄膜4中之絕緣粒子的材料,但亦可利用A1〇3(氧化 鋁)或四氟乙烯。即,當視狀況必須切斷配線基板8時,若 硬氧化物粒子(如,Si02粒子或A103粒子)包括在熱固型樹脂 薄膜4中,則可能會減少刀緣的使用期。在此狀況中,較佳 可利用相對較軟的四氟乙烯。 在以上實施例中,會利用熱固型樹脂薄膜4作為熱塑型樹 月曰薄膜7與鋁箔配線圖案6之間的絕緣層。然而,絕緣層是 熱塑型樹脂薄膜(即,即使熱塑型樹脂薄膜7在高溫(如圖 20A至20B中疊層壓製或射出成形步驟中所需)時熔化,仍可 維持固化狀態),其較熱塑型樹脂薄膜7具有較高的再軟化 點。當然,在此狀況中,Si〇2粒子(絕緣粒子)會包括在絕緣 層中。此狀況中的配線基板可推斷為覆晶連接半導體晶 片,其包括配線圖案,第一熱塑型樹脂薄膜,其覆蓋配線 圖案上的電極區域且具有散佈及包括在其中的絕緣粒子, 及第一熱塑型樹脂薄膜’其覆蓋第一熱塑型樹脂薄膜,其 中第一熱塑型樹脂薄膜較第二熱塑型樹脂薄膜具有完全較 高的再軟化點。然而,本實施例中的配線基板8可認為是覆 曰曰連接配線基板’其包括配線圖案6,熱固型樹脂薄膜4, 其覆蓋配線圖案6上的電極區域且具有散佈及包括在其中 的絕緣粒子,及熱塑型樹脂薄膜7,其覆蓋熱固型樹脂薄 89725-950710.doc -28 - 1278870 臈。以14些配線基板,具有凸塊的樹脂承載晶片9會藉由施 加超音波而容易地且低成本地封裝,藉以可製造具有高接 合力且高可靠度(不會造成短路,即使施加高溫及高壓負載 時)電子元件模組。 如圖IB,1C及1D所示之製造配線基板的方法可推論為用 以製造覆晶連接配線基板的方法,其中具有散佈及包括在 其中之絕緣粒子的熱固型樹脂會在經蝕刻步驟形成配線圖 案時用作為蝕刻遮罩,且熱固型樹脂會覆蓋以熱塑型樹 脂。以此構造,在蝕刻步驟中利用以形成配線圖案的蝕刻 遮罩會直接成為熱固型樹脂薄膜,其組成覆晶連接配線基 板,藉以可不需要移去蝕刻遮罩而以低麻煩及低成本來製 造配線基板。 參照圖8至12,用以根據本發明之實施例製造資料載體的 方法如下述。資料載體是電磁可讀取的,以操作如同飛航 行李標籤,物體分配管理標籤或無人檢視出入口。資料載 體整體上包括一資料載體主體,其保留金屬圖案,其在薄 膜狀的樹脂基板上組成天線圈,及電子元件模組,其具有 半導體承載晶片,其組成傳輸與接收電路及記憶體,其封 裝在薄膜狀樹脂基板表面上的紹箔配線圖案中。 圖8顯示根據本實施例之資料載體的範例。如圖8中所示 的’資料載體DC包括一資料載體主體1〇〇,保留一 1〇 a瓜厚 度之銅箔渦捲狀導體圖案(對應至一天線圈)在25 厚度 之PET(t乙稀對苯二甲酸)基板ιοί的一側,及電子元件模 組200具有半導體承載晶片202,其封裝在70 //in厚度之玻璃 89725-950710.doc -29- 1278870 環氧化晶圓201的較低側上。及電子元件模組200置於資料 載體主體100上,因此晶圓201會跨越(越過)一環繞導體束 102a,其組成一渦捲狀導體圖案,其中其具有渦捲狀導體 圖案102的電連接會使用渦捲狀導體圖案1〇2中的内周側端 子墊103及外周側端子墊1〇4而產生。 圖9是放大的剖面圖,顯示電子元件模組2〇〇之封裝構造 的範例(延著圖8之剖面圖的線13-13)。用以如圖8及9所示般 製造資料載體主體100及電子元件模組2〇〇的方法會詳如下 述。 圖10A至10E顯示組成天線圈之渦捲狀導體圖案1〇2的製 造步驟範例。參照圖10A至10E,形成渦捲狀導體圖案1〇2 成為PET半導體基板ιοί—側上之天線圈的步驟如下述。 首先,銅-PET疊層基板301會如圖i〇A般準備。如範例 中,銅-PET疊層基板301會藉由經胺基甲酸酯黏著劑令銅箱 303置放在25以❿厚之PET薄膜3〇2上,及在溫度i5〇<t及壓力$ kg/cm2條件之下,加熱疊層及接合。 渦捲狀的蝕刻光阻圖案304會形成在圖10B所示之銅-pET 疊層基板301中的銅箔303表面上。即,絕緣蝕刻光阻墨水 會印刷在渦捲狀的銅箔303上,該銅箔303具有的轉數可提 供L值與Q值,線寬,高度,及内部與外部周長,其為縮進 印刷所需的箔片特徵。此時,光阻墨水會藉由加熱光束或 主動能束而固化。主動能束是紫外線或電子光束,及當利 用紫外線時,光聚合作用劑會混合在光阻墨水中。 如圖ioc所示,在銅_PET疊層基板301中之銅箱3〇3表面上 89725-950710.doc -30 - 1278870 與電子部份模組200之電極產生電通導連接的位置,具有需 要形狀之電極的導電蝕刻光阻圖案3〇5a、3〇5b(圖8中的 103、104)會藉由導電墨水形成。光阻圖案3〇5&、3〇5b的形 成會藉由先前步驟中之縮進印刷而進行,及光阻墨水是熱 固型導電黏著劑,其藉由溫度12〇t的加熱處理約2〇分鐘而 固化。此步驟中導電墨水的印刷會藉由通常利用的絲網印 刷法而執行,及墨水材料是銀粒子與熱塑型黏著劑的混合 物’含有光聚合反應劑,或焊料。 如圖10D所示,由蝕刻光阻圖案3〇4、3〇5a及3〇讣曝露出 來的銅羯部份306會藉由習知之蝕刻而移去,以形成渦捲狀 導體圖案(圖8中的102)以作為天線圈。在蝕刻步驟中,會利 用溫度50°C的FeCh (120 g/Ι)作為蝕刻劑以移去銅箔3〇3。 通常在下文中,電子部份無法封裝在電路上,即,在組成 天線圈的渦捲狀圖案上,除非移去步驟B中所形成的姓刻光 阻。然而,在本發明中,存在步驟c中所描述的導體光阻圖 案305a及305b,因而不需藉由在那些圖案上封裝電子部份 而移去蝕刻光阻。即,用以剝除蝕刻光阻的步驟在本發明 中可略去,因而有一效果,即藉由絕緣墨水所形成的蝕刻 光阻304會當作銅箔電路圖案上的絕緣保護層。 如圖10E所示,在本實施例中,壓按而通過通孔3〇7,而 插入電子元件模組的凸出部份(圖9中的壺狀部份413)内。以 上述方式,會完成資料載體主體1〇〇,其中天線圈的渦捲狀 導體圖案308(102)會保留在pet薄膜基板302(1 01)的一側 上。 89725-9507 l〇.d( -31 - I278870 圖11A至11G顯示電子元件模組2〇〇的製造步驟範例。應 先前注意,經製造步驟而獲得的電子元件模組2〇〇具有幾乎 相同的組成,如圖1F中所顯示的電子元件模組,除了半導 體晶片202是樹脂,其藉由壺狀部份413(見圖llG)密封,及 導電光阻412置於電極部份用以與資料載體主體1〇〇連接。 金屬fl豐層板製造步驟 如圖11A所示,製造作為薄膜狀配線基板之基礎元件的鋁 -PET疊層板401。鋁_PET疊層板4〇1會藉由經胺基甲酸酯黏 著劑令35 /zm厚之硬鋁箔4〇3置放在25 厚之pET薄膜4〇2 _ 的一側上,及在15(TC及壓力5 kg/cm2的條件之下,加熱疊 層及接合。 蝕刻遮罩印刷步驟 如圖11B中顯示的,用以形成具有所需配線圖案形狀之蝕 刻光阻圖案的第一光阻層會形成在鋁_pET疊層板4〇1中之 硬鋁箔403的表面上。在此範例中,第一光阻層會形成為環 氧化熱固型樹脂薄膜404,其具有如圖中以,,•”所指示的散佈, Si〇2粒子(絕緣粒子)。更明確地,會藉由凹版印刷法塗佈一 · 墨水於鋁-PET疊層板1的表面上,而形成為厚度約4至ό // m的環氧化熱固型樹脂薄膜(第一光阻層)4〇4,該墨水包括 100重量比之環氧化樹脂及30重量比之Si〇2粒子(其直徑為 3至4 #m),其混合溶入含有3〇0/〇甲苯,61%甲基乙基酮及 · 12〇/❶丁基乙醇的溶劑中,及以溫度130至200。(:乾燥墨水20 · 至60秒。在此步驟中,如圖丨1B所示,用以形成所需配線圖 案形狀之蝕刻光阻圖案的熱固型導電黏著劑會塗佈在硬鋁 89725-950710.doc -32- 1278870 V备403之左及右端的表面405a、4〇51^上。詳如下述。 餘刻遮罩印刷步驟 如圖11C所不,作為第二光阻層(作為黏著層)的熱塑型樹 脂薄膜406會形成在熱固型樹脂薄膜4〇4(用作第一光阻層) 的表面上。藉由塗佈在溫度約9〇至1〇〇它熔化的聚烯烴熱塑 型樹脂黏著劑而形成熱塑型樹脂薄膜4〇6。即,熱固型樹脂 薄膜404的表面會完全地覆蓋以熱塑型樹脂薄膜4〇6。 敍刻遮罩印刷步驟 如圖11D所示,導電光阻層(導電光阻區域)4〇7&、扣几會 形成在硬鋁箔層403兩端的表面405a、405b上。導電光阻層 4〇7對應至與資料載體主體1〇〇之端子墊部份3〇5&、“讣的 連接部份。藉由先前步驟之縮進印刷法形成導電光阻區域 4〇7a、407b,及墨水為熱固型導電黏著劑,其藉由12〇(5(:加 熱處理約20分鐘而固化。此步驟中之導電墨水的印刷會藉 由習用之絲網印刷法執行,及墨水材料是銀粒子及熱塑型 黏著劑的混合物,含有光聚合作用劑,或焊料。 具有熱固型樹脂薄膜404熱塑型樹脂薄膜406及導電光阻 區域407a及407b之所需配線圖案形狀的餘刻光阻圖案,圖 式簡單說明會經以上圖11B至11D所示步驟而形成在硬鋁 403 上。 蝕刻步驟 如圖11E所示,由蝕刻光阻圖案408曝露的鋁箔部分4〇9 會藉由習知蝕刻而移去以形成一配線圖案41〇,其包括硬鋁 泊4〇3。藉由以Na0H (12〇 g/1)的蝕刻劑在溫度5〇艺摻質鋁 89725-950710.doc -33- 1278870 猪部份409(其由蝕刻光阻圖案408曝露)而形成配線圖案 410。因此,包括硬鋁箔403的配線圖案410出現在配線基板 411的表面上。 超音波封裝步驟 如圖Ilf所示,當施加超音波時,半導體承載晶片2〇2封 t在配線基板4 11上。此步驟包括以下步驟,一步驟(第一 步驟)即,當施加超音波時,壓按半導體承載晶片2〇2之凸 塊203至熔化狀態的熱塑型樹脂薄膜4〇6(加熱及軟化)之 上’且壓迫凸塊203以推開溶化的熱塑型樹脂薄膜406及達 到熱固型樹脂薄膜404的表面,一步驟(第二步驟)即,朝向 熱固型樹脂薄膜404壓按凸塊203,藉由再持續施加超音波 至凸塊203以令Si〇2粒子由熱固型樹脂薄膜404分離,及壓 按凸塊10以推開熱固型樹脂薄膜404並產生與硬铭箔403上 之電極區域412的接觸,及一步驟(第一步驟)即,在凸塊2〇3 與電極區域412接觸的狀態之下,藉由再持續地施加超音波 而超音波接合凸塊203與電極區域412。 在此範例中’半導體承載晶片202是150 /z m厚,及組成 所謂的表面封裝元件,其中作為用以連接之金屬端子的凸 塊203會由其底部面突出。凸塊203會鍍金,且高度為14 及寬度為80 //mm(80x80 emm)。在第一步驟中,凸塊2〇3會 在施加超音波振動的狀態之下,朝向熱塑型薄膜4〇6(其加 熱且在溫度150°C熔化)壓按。接著,熔化的熱塑型樹脂薄 膜406會因凸塊203的超音波振動而由凸塊203的頂端部份 部份推開及移去,因此凸塊2〇3會達到具有散佈及包括於其 89725-950710.d< -34- 1278870 中之Si〇2粒子之熱固型樹脂薄膜404的表面。在第二步驟 中,在超音波振動再施加至凸塊203的狀態之下,凸塊203 會朝向熱固型樹脂薄膜404壓按。接著,以,,·,,指示的Si〇2 粒子會由熱固型樹脂薄膜404内藉由凸塊203掃去(分離),因 此以Ο指示的通孔會在熱固型樹脂薄膜404内形成。由熱固 型樹脂薄膜404分離的Si〇2粒子會吸引(鑽入)入溶化的熱塑 型樹脂薄膜406。因為通孔的產生,熱固型樹脂薄膜404的 耐久性會更易損壞,因而凸塊203容易推開(部份移去)熱固 型樹脂薄膜404以達到鋁箔配線圖案410的表面(電極區域 412)。此時,鋁箔配線圖案410表面上的氧化層會藉由凸塊 203之超音波振動機械式地移去。接著,凸塊203及電極區 域412會接觸。在此步驟中,凸塊203及配線圖案41〇的電極 區域412會藉由凸塊之超音波振動的磨擦生熱而加熱,因而 銘箔中含有擴散之金原子的金屬熔合部份會形成以完成兩 者的超音波接合。 超音波封裝步驟中的第一至第三步驟會在半導體承載晶 片202置放在預設位置之後,在〇·2 kg/mm2的負載壓力之下 藉由施加63 KHz頻率的超音波振動約ι·5秒而完成。 接合步驟 如圖11G中所示,熔化的熱塑型樹脂薄膜4〇6不會加熱配 線基板411至1 50°C而會藉由自然冷卻或強制冷卻再固化, 以接合半導體承載晶片202的主體與配線圖案4 1 〇。即,插 入半導體承載晶片202之底面與配線基板4 11之間的溶化熱 塑型樹脂薄膜406會冷卻及硬化,因此半導體承載晶片202 89725-950710.doc -35- 1278870 與配線基板411會穩固地接合。下文中,半導體承載晶片2〇2 是樹脂,其依需要而藉習知方法密封,以形成壺狀部份4 i 3。 參照圖12 A至12B,以下會描述用以置放電子元件模組 200在資料載體主體1〇〇上的步驟,因此絕緣晶圓2〇1跨越 (或越過)環繞的導體束l〇2a,其組成渦捲狀導體圖案,及造 成與渦捲狀導體圖案的電連接,其分別用於渦捲狀導體圖 案102中的内部及外部圓周側。 如圖12A所示,電子元件模組200會置放在資料載體主體 100上,因而電子元件模組2〇〇的電子部份置放面會面對資 料載體主體100之導體圖案形成面,及電子元件模組2〇〇會 跨越(或越過)環繞的導體束102a,其組成渦捲狀導體圖案 102。此時,會在通孔307(開在資料載體主體ι〇〇的側上)中 接收覆蓋承載晶片202(作為電子元件)的壺狀部份413。再 者,作為用於一對鋁箔區域410、410之電極區域的導電光 阻區域407a、407b,鋁箔區域41 〇傳導至凸塊203,電子元 件模組200側上之半導體承載晶片2〇2的凸塊2〇3會直接置 於在一對導電光阻圖案305a、305b(其位於資料載體主體 100側上)前。即,電子元件模組200側上的鋁箔區域41〇、 410及資料載體主體1〇〇側上的導電光阻圖案3〇5a、3〇5b會 分別經導電光阻區域407a、407b而彼此面對。 如圖12B所示,以溫度160°C加熱的壓頭5〇ia、501b會以 21.7 kg的負載壓力之下壓按在電子元件模組2〇〇上2〇秒,特 別是直接在一對導電光阻圖案305a、305b上。此時,熱塑 型黏著薄膜的導電光阻圖案會局部軟化及熔化,因而導電 89725-950710.doc -36- 1278870 光阻區域4〇7a、407b傳導至電子元件模組2〇〇的端子區域 410及貿料載體主體1〇〇上的導電光阻圖案3〇5a、3〇5b 會接合及牢靠。然而,熱塑型樹脂薄膜4〇6部份會維持絕緣 及用於接合電子元件模組2〇〇與資料載體主體1〇〇。再者, 因為渦捲狀導體圖案1〇2表面上的蝕刻光阻3〇4會維持為絕 緣材料,電子元件模組200之絕緣基底晶圓4〇1(2〇1)上的配 線圖案(未示)會作為跳線構件,其連接渦捲狀導體圖案1〇2 的内部及外部圓周。因此,渦捲狀導體圖案i 〇2與半導體承 載晶片202之間的電連接不需使用跳線構件及背對配線圖 案即可,如在習用構造中。 參肽圖13至16 ’用以根據本發明另一實施例的製造資料 載體方法如下述。資料載體是電磁可讀取的,可操作為飛 航行李標籤,物體分配管理標籤或無人檢視出入口。資料 載體整體上包括一資料載體主體,其保留一金屬圖案,其 組成薄膜狀樹脂基板上的天線圈,及一電子元件模組,其 具有一半導體承載晶片,其組成一傳輸與接收電路及一記 憶體’其封裝在薄膜狀樹脂基板表面上的鋁箔配線圖案。 圖13是放大的剖面圖,顯示電子元件模組之封裝構造範 例(對應至圖8延著線13-13之剖面圖)。用以如圖13中所示製 造資料載體主體及電子元件模組的方法如下述。 圖14顯示組成天線圈之渦捲狀導體圖案1〇2(圖8)的製造 步驟範例。參照圖14,用以如PET薄膜基板101侧上之天線 圈般(圖8)形成渦捲狀導體圖案1〇2的步祿如下述。 如圖14A所示,準備銅-pet疊層基板6〇1。如範例,會藉 89725-950710.doc -37- 1278870 由經胺基甲酸酯黏著劑令10 V m厚之銅箔置放於25 #瓜厚 之PET薄膜的一側上而製造銅_ΡΕΊΓ疊層基板6〇1,且在溫度 150°C及壓力5 kg/cm2的條件之下會加熱疊層及接合。因 此’可元成銅_PET豐層基板601,其中銅猪603連接至PET 薄膜602(101)的表面。 如圖14B所示’渦捲狀及末端形狀的餘刻光阻圖案6〇4會 形成在銅-PET疊層基板601中之銅箔603的表面上。即,絕 緣#刻光阻墨水會印刷在渦捲狀的銅箔上,該銅箔提供縮 進印刷法之箔片特徵所需的L值與Q值,線寬,高度,及内 部與外部圓周的轉數。此時,光阻墨水會藉由加熱光束或 主動能束而固化。主動能束是紫外線或電子束,及當利用 紫外線時’光聚合作用劑會混合在光阻墨水中。 如圖14C所示,由蝕刻光阻圖案6〇4經以上步驟曝露的銅 箔部份603a會藉由習知蝕刻移去以形成渦捲狀導體圖案 605(其用作天線圈)及内與外周侧端子墊6〇以及6〇补。在此 蝕刻步驟中,會在溫度5(TC利用FeCl2〇2〇g/1)作為蝕刻劑 以依需要移去銅箔部份。 下文中,通常,除了在圖14B中所示之步驟中所形成的蝕 刻光阻604移去之外,電子部份不會封裝在電路上,即,在 線圈上。然而在本發明中,因為位於接合預定部份⑽以、 606b的蝕刻光阻會因接合時之超音波而藉由機械摩擦力移 去(見圖13),故不需要移去絕緣光阻6〇4。即,用以剝除蝕 刻光阻的步驟在本發明中可略去,藉以有一效果,即蝕刻 光阻604可作為銅導體圖案6〇5表面上之絕緣保護層。 89725-950710.doc -38 - 1278870 圖15A至15F顯示用於電子元件模組2〇〇的製造步驟範 例。應先注意,用於如圖15a至15F之電子元件模組2〇〇的製 4步驟實質上等於圖1A至1F中所顯示的,除了半導體晶片 是藉由壺狀物密封的樹脂。因此,雖然重複解釋,然相同 部份會因謹慎原故而再次描述。 金屬箔疊層板製造步驟 如圖1 5 A中所示,製造作為薄膜狀配線基板之基礎元件的 鋁-PET疊層板701。藉由令35 厚的硬鋁箔703經胺基甲酸 酯黏著劑置放於25 厚的PET薄膜702的一侧(圖中朝上的 一面)上而製造此鋁·ΡΕΤ疊層板701,且在l5〇〇c與壓力5 kg/cm2的條件了加熱疊層且接合。 钱刻遮罩印刷步驟 如圖15B中所示,具有所需之配線圖案形狀的蝕刻光阻圖 案會形成在链-PET疊層板701之硬鋁箔703的表面上。在此 辜ϋ例中’光阻圖案形成為環氧化熱固型樹脂薄膜7〇4 ,其具 有如圖15Β中以,,•”標示之散佈si〇2粒子(絕緣粒子)。更明確 地’藉由令一墨水以凹版印刷法塗佈於鋁_ΡΕτ疊層板7(H 的表面上,該墨水包括100重量比率之環氧化樹脂及3〇重量 比率之Si〇2粒子(直徑為3至4 "的,其混合至含有甲苯 30%,甲基乙基_6」%及丁基乙醇12%的溶劑)而以約4至6 # m的厚度形成環氧化熱固型樹脂薄膜(蝕刻光阻圖 案)704,且以130至2〇〇°C的溫度乾燥墨水20至6〇秒。 蝕刻步驟 如圖14C所示,由熱固型樹脂薄膜刻光阻圖案)7〇4曝 89725-950710.doc -39- 1278870 路的鋁4部份705會藉由習知之蝕刻移去,以形成配線圖案 7〇6’其包括硬鋁箔703。在本範例中,藉由wNa〇H (12〇 g/1) 的蝕刻劑在5(TC的溫度下摻質鋁箱部份7〇5而形成配線圖 案706,該鋁箔部份由熱固型樹脂薄膜7〇4所曝露。因此, 包括硬鋁箔703的配線圖案會出現在配線基板中間產物 708a(在此蝕刻步驟中所獲)的表面上。配線圖案的表面 凡全覆蓋以環氧化熱固型樹脂薄膜7〇4,其用作為蝕刻光阻 圖案(蝕刻遮罩)。即,配線圖案7〇6中至少電極區域的表面 (與半導體承載晶片之凸塊連接的連接預定區域)會覆蓋以 熱固型樹脂薄膜704。熱固型樹脂薄膜7〇4的塗佈厚度會依 凸塊大小及所設置之承載晶片形狀而調整。 熱塑型樹脂薄膜形成步驟 如圖15D所示,作為黏著層的熱塑型樹脂薄膜7〇7會形成 在熱固型樹脂薄膜704的整個表面上,以作為蝕刻光阻圖 案。藉由在熱固型樹脂薄膜704的表面上以凹版印刷法塗佈 約4至6 β m厚的聚烯烴熱塑型樹脂黏著劑(約在9〇至i〇(rc 的溫度下熔化)而形成熱塑型樹脂薄膜7〇7。即,熱固型樹 脂薄膜704的表面會完全覆蓋以熱塑型樹脂薄膜7〇7。因 此,可完成覆晶連接配線基板(用以封裝半導體承載晶片的 配線基板)708。熱塑型樹脂薄膜7〇7的塗佈厚度會依凸塊大 小及所設置之承載晶片形狀而調整。 超音波封裝步驟 如圖15E所示,當施加超音波時,半導體承載晶片7〇9會 封裝在配線基板708上。本步驟包括以下步驟:一步驟(第 89725-950710.doc -40- 1278870 一步驟)即,當施加超音波時,即壓按半導體承載晶片7〇9 之凸塊710至炼化狀態的熱塑型樹脂薄膜7〇7(加熱及軟化) 上,且壓迫凸塊710以推開熔化的熱塑型樹脂薄膜7〇7及達 到熱固型樹脂薄膜704的表面,一步驟(第二步驟)即,而壓 按凸塊710朝向熱固型樹脂薄膜7〇4,藉由再持續地施加超 音波至凸塊710以由熱固型樹脂薄膜7〇4分離絕緣粒子,及 壓迫凸塊710以推開熱固型樹脂薄膜7〇4且與電極區域7 i j 產生接觸,及一步驟(第三步驟)即,在凸塊71〇與電極區域 711接觸的狀態之下,藉由再持續地施加超音波,超音波接 合凸塊10與電極區域11。 在本範例中,半導體承載晶片7〇9約15〇 #瓜厚,且以所謂 的表面封裝元件所組成,其中用於連接之金屬端的凸塊71〇 會由其底部面突出。凸塊710會鍍上黃金,且具有14 的咼度及80 /z mm的寬度(80x80 /z mm)。在第一步驟中,會在 施加超聲振動的狀態下,朝向熱塑型薄膜7〇7壓按凸塊 710,該熱塑型薄膜7在150 °C的溫度下加熱及熔化。接著, 熔化的熱塑型樹脂薄膜707會因凸塊1〇的超音波振動,而部 伤地由凸塊71 0的頂端位置推開及移去,因而凸塊7丨〇可達 到熱固型樹脂薄膜704的表面,其中散佈及包括有5;丨〇2粒 子,在第二步驟中,在超音波振動再施加至凸塊71〇的狀態 之下’壓按凸塊朝向熱固型樹脂薄膜7〇4。接著,以,,•”指示 的Si〇2粒子由熱固型樹脂薄膜7〇4中藉由凸塊71〇掃去(分 離)’因此以”0”指示的通孔會形在在熱固型樹脂薄膜7〇4 内。由熱固型樹脂薄膜7〇4分離的si〇2粒子會吸引(鑽入)熔 89725-950710.doc •41 - 1278870 化的熱塑型樹脂薄膜707内。因為通孔的產生,熱固型樹脂 薄膜704的耐久性會更易損壞,因而凸塊71〇容易推開(部份 移去)熱固型樹脂薄膜704以達到鋁箔配線圖案7〇6的表= (電極區域711)。此時,鋁箔配線圖案7〇6表面上的氧化層會 藉由凸塊710之超音波振動機械式地移去。接著,凸塊7ι〇 與電極區域711會接觸。在第三步驟中,配線圖案7〇6的凸 塊71〇及電極區域711會藉由凸塊的超音波振動之磨擦生熱 而加熱,因而會形成鋁箔中的金屬熔合部份(含有擴散之金 原子)以完成兩者的超音波接合。 超音波封裝步驟中的第一至第三步驟會在半導體承載晶 片202置放在預設位置之後,在〇2kg/mm2的負栽壓力之下 藉由施加63 KHz頻率的超音波振動約15秒而完成。 接合步驟 如圖15F所示,熔化的熱塑型樹脂薄膜7〇7會藉由自然冷 卻或不加熱配線基板708至15〇。〇的強制冷卻而再固化,Z 接合半導體承載晶片7〇9的主體與配線圖案6。即,半導體 承載晶片709之底面與配線基板7〇8之間填充的熔化熱塑型 樹脂薄膜707會冷卻及硬化,因此半導體承載晶片彻與配 線基板7G8會穩固地接合。下文中,半導體承載晶片彻是 依需求以習知方法密封的樹脂’以形成壺狀部份712。以此 方式,可完成電子元件模組7〇〇。 參照圖16A至16B,用以在資料載體上封裝電子元件模組 ^ 、复圈產生電連接的步驟如下述。此步驟會利用超音 波炼接技術執行。 89725-950710.doc -42- 1278870 如圖16八所不,電子元件模組7〇〇會設置在資料載體主體 -上因而包子元件模組側上的接合預定部份7丨3 a、7丨3 b 會與端子墊606a及606b對齊,其接合於資料載體主體側上 的預定部份。 如圖16B所示,當施加頻率4〇 kHz(v)的超音波振動時, 一對整體落下的壓頭801、802會在負載壓力〇 2kg/mm2(p) 之下直接壓在電子元件模組700的接合預定部份7l2a、7i3b 上0.5秒(時間Τ)β圖16中,參考號碼8〇3,8〇4標示面對壓頭 801、802的砧。 通常,當原子彼此接近至一距離(數埃)而造成引力作用在 結合之金屬面上的原子間時會發生熔接,且整個面上的原 子會以條理的排列接觸。然而,因為金屬面會覆蓋以薄的 表層(如,氧化物及吸收氣體),乾淨的金屬原子會避免接近 完全的接合力。 因此,以超音波接合方法,金屬表層(本範例中包括 713a、713b、606a及606b)會藉由上述方式之活化原子振盪 而移去,及原子會藉由活化原子振盪而擴散,因此電子元 件模組700端與資料載體端可穩固地接合。即,與電子元件 模組700之凸塊710及資料載體端部份之銅络部份6〇3(在圖 8中以號碼103及104標示)電連接的熱固型樹脂薄膜7〇4(在 圖13中的兩端部份)會熔接,如圖13所示。 此方法基於超音波接合的原則,其中金屬表層會藉由超 音波振盡移去。即使不剝除導體圖案之端子墊6〇6a、 606b(其形成以作為絕緣蝕刻光阻)而執行圖14B所示步 89725-950710.doc •43 - 1278870 驟’仍可獲侍電子元件模組7〇〇與資料載體主體術之間的 疋王電子及機械式的接合特徵。經過以上步驟,可完成根 據本發明之薄膜狀的資料載體DC(見圖8)。 在X上實知例中,對應融合部份形狀的數個凹凸部份會 設置在砧803、804的終面上(面對壓頭8〇卜8〇2),而金屬的 塑性流動會藉由調整壓頭謝、8〇2的壓按時間而局部地製 ^八對應至犬出部份,因此由金屬層移去部份所面對的 樹脂層會藉由超音波振動而融合。特別是當同時利用金屬 融合及樹脂融合時,電子元件模組的機械接合力會大幅增 加,因此當資料載體適於粗略掌握時(如,飛航行李標籤或 物體分配管理標籤),本實施例很有效用。 以此方式成的薄膜狀資料載體會基於電磁場而利用讀 取媒體,及可靠地在100至1〇〇〇mm外的距離讀取儲存在半 導體的資料,而不需受讀取距離或距離的限制,特別是讀 取定向性。 [本發明的效用] 由以上描述可知,本發明可提供用以製造電子元件模組 的方法,其中半導體承載晶片以電機可靠方式及低成本快 速地封裝在配線基板上,其中因配線基板上之半導體承載 晶片與電極區域之間的接觸可避免短路的發生,即使在施 加高溫及高壓負載至半導體承載晶片之封裝部份的情況之 下。 本發明可提供用以低成本且大量地製造電磁可讀取資料 載體的方法,其中電磁可讀取資料載體用作飛航行李標 89725-9507I0.doc -44- 1278870 籤,物體分配管理標籤或無人檢視出入口。 【圖式簡單說明】 圖1A至1F為步驟圖,顯示根據本發明之用以製造電子元 件模組的方法; 圖2A至2C為解釋圖,顯示超音波封裝步驟; 圖3A至3C為解釋圖,顯示超音波封裝步驟的細節; 圖4A至4C為解釋圖,顯示超音波封裝步驟的細節; 圖5為剖面圖,顯示根據本發明之電子元件模組的構造; 圖6A至6B為表格,顯示根據本發明在電子元件模組中之 半導體承載晶片的接合力,及短路失誤發生比; 圖7A至7B為表格,顯示根據本發明在電子元件模組中之 半導體承載晶片的接合力失誤發生比; 圖8為一圖,顯示資料載體之範例; 圖9為封裝在資料載體上的電子元件模組的剖面圖; 圖10A至10E顯示資料載體主體之製造步驟圖; 圖11A至11G顯示封裝在資料載體上之電子元件模组之 製造步驟圖; 、’ 圖12A至12B為步驟圖,顯示資料載體主體上之電子元件 模組的封裝步驟; 圖13為剖面圖,顯示電子元件模组之封裝構造的另一範 圖14A至14C顯不資料載體主體之製造步驟圖; 圖15A至15F顯示封裝於資料載體上電子元件 製造步驟圖; 89725-950710.doc -45- 1278870 圖16A至16B為步驟圖,顧+咨少丨 口顯不貝枓載體主體上之電子元件 模組的另一封裝步驟; 圖17顯示用於覆晶連接的第一習知方法之圖,· 圖18顯示用於覆晶連接的第二習知方法之圖; 圖19A至19C顯示用於覆晶連接的第三習知方法之圖; 圖撤至細顯示處理含有第三方法成品之資料載體的 樣品;及 圖21A至21B顯示關於第三方法的問題。 【圖式代表符號說明】 1 銘-PET疊層板 2 PET薄膜 3 硬鋁箔 4 環氧化熱固型樹脂薄膜 5 鋁箔部份 6 配線圖案 7 熱塑型樹脂薄膜 8 覆晶連接配線基板 9 半導體承載晶片 10 凸塊 11 電極區域 12 超音波味i 口八 13 加熱台與砧 100 資料載體主體 101 PET基板 89725-950710.doc -46- 1278870 102 渦捲狀導體圖案 103 内周侧端子墊 104 外周側端子墊 200 電子元件模組 201 玻璃壞氧化晶圓 202 半導體承載晶片 301 銅-PET疊層基板 302 PET薄膜 303 銅fl 304 蝕刻光阻圖案 305 光阻圖案 306 銅箔部份 307 通孔 308 渦捲狀導體圖案 401 鋁-PET疊層板 402 PET薄膜 403 硬紹% 404 環氧化熱固型樹脂薄膜 405a、405b 表面 406 熱塑型樹脂薄膜 407a、405b 導電光阻層(導電光阻區域) 408 姓刻光阻圖案 409 鋁箔部分 410 配線圖案(端子區域、銘f自區域) 89725-950710.doc -47- 1278870 411 配線基板 412 導電光阻(電極區域) 413 壺狀部份 501 壓頭 601 銅-PET疊層基板 602 PET薄膜 603 銅箱 604 蝕刻光阻圖案 605 渦捲狀導體圖案 606a 内周側端子塾 606b 外周側端子墊 607 資料載體主體 700 電子元件模組 701 鋁-PET疊層板 702 PET薄膜 703 704 環氧化熱固型樹脂薄膜 705 鋁箔部份 706 配線圖案 707 熱塑型樹脂薄膜 708 配線基板中間產物 709 半導體承載晶片 710 凸塊 711 電極區域 89725-950710.doc -48-

Claims (1)

1278S%34〇23號專利申請案 i日修(更)正本 中文申請專利範圍替換本(95年iJL^— ---— 拾、申請專利範園: 1· 一種用以製造電子元件模組之方法,該電子元件模組具 有封裝於配線基板上之半導體承載晶片,該方法包括·· 準備該配線基板,其包括一配線圖案,一熱固型樹脂 薄膜,其覆蓋一電極區域於該配線圖案上及具有散佈及 包括於其中之絕緣粒子,及一熱塑型樹脂薄膜,其覆蓋 該熱固型樹脂薄膜; 當施加超音波時,壓按半導體承載晶片之凸塊至熔化 狀態之熱塑型樹脂薄膜上,其中加熱及軟化該熱塑型樹 脂薄膜’因而會藉由該半導體承載晶片之該凸塊推開熔 化之熱塑型樹㈣膜,及該凸塊會達到該熱固型樹脂薄 膜之表面,· 藉由持續地施加超音波至該凸塊而朝向該熱固型樹脂 薄膜壓按凸塊,因而該絕緣粒子會由該熱固型樹脂薄膜 内分離,會藉由該凸塊推開該熱固型樹脂薄膜,及該凸 塊造成與該電極區域之接觸; 在該凸塊與該電極區域接觸時,藉由持續施加超音波 而超音波接合該凸塊與該電極區域;及 藉由冷卻及硬化該熔化之熱塑型樹脂而令一 載晶片主體接合於該配線基板上。 2. ^申請專利範圍…之用以製造電子元件 法,其中利用氧化石夕或氧化銘作為絕緣粒子、粗方 3. 如申請專利範圍第1項之用以製造電 ’。 法,其中利用四氟乙烯作為絕緣粒子之材=。模組之方 89725-951122.doc 1278870 4. 5· 6. 7. 8. 9. 10. 11. 如申請專利範圍第1至3項中任一担 模組之方法,其中熱固型樹脂二用以製造電子元件 ⑽重量。狀樹脂中之絕緣粒子之含量係 如申請專利範圍第i項 土 用以I造電子元件模組之方 t二電子元件模組具有封裝於-配線基板上之半導體 承載晶片,其中該絕緣粒子平 薄膜内。 t十均地散佈於該熱固型樹脂 一種覆晶連接配線基板,包括: 一配線圖案; 熱固型樹脂薄膜,其覆蓋一雷 是盈冤極區域於該配線圖案 上’及具有散佈及包括於其中之絕緣粒子;及 … 熱塑型樹脂薄膜,其覆蓋該熱固型樹脂薄膜。 如申明專利範圍第6項之覆晶連接配線基板,纟中利用氧 化矽或氧化鋁作為該絕緣粒子之材料。 如申%專利範圍第6項之覆晶連接配線基板,#中利用四 氟乙烯作為該絕緣粒子之材料。 如申μ #利範圍第6至8項中任一項之覆晶連接配線基 板八中熱固型樹脂薄膜中該絕緣粒子之含量係1 〇〇重量 %之樹脂中之10至30重量%。 如申請專利範圍第6項之用於覆晶連接配線基板,其中該 絕緣粒子平均地散佈於該熱固型樹脂薄膜内。 種用以製造覆晶連接配線基板之方法,包括以下步驟: 準備一薄膜狀配線基板之基礎元件; 令一金屬箔於該基礎元件上疊層;及 89725-951122.(1( 1278870 於該金屬猪之表面上形成一配線圖案所需之钱刻圖 案,因此利用-熱固型樹脂作為_㈣遮罩材料,當經 蚀刻步驟形成-配線圖案時,該熱固型樹脂具有散佈及 包括於其中之絕緣粒子’及該熱固型樹脂再覆蓋以一熱 塑型樹脂。 α如申請專利範圍第u項之用以製造覆晶連接配線基板之 方法’其中利用氧化梦或氧化紹作為該絕緣粒子之材料。 α如申請專利範圍第u項之心製造覆㈣接配線基板之 方法’其中利用四氟乙烯作為該絕緣粒子之材料。 Κ如申請專利範圍第w13項中任—項之用以製造覆晶連 接配線基板之方法,其中熱固型樹脂薄膜中絕緣粒子之 含量係100重量〇/0之樹脂中之1〇至3〇重量%。 15·如申請專利範圍第11項之用以製造覆晶連接配線基板之 方法’其中該絕緣粒子平均地散佈於該熱固型樹脂薄媒 内。 16· -種用以製造電磁可讀取資料載體之方法,該電磁可讀 取資料載體整體上包括一資料載體主體及一電子元件模 組’該資料載體主體保留一導體圖案,其組成一薄膜上 之天線’該電子元件模組,其中一半導體承載晶片具有 一傳輸/接收電路及-記憶體,封裝於該薄膜,薄片或薄 板狀配線基板之轉„上,具有用於該電子元件模組 之製造方法的該方法包括以下步驟·· 準備該薄膜’薄片或薄板狀配線基板,其具有該配線 圓案’ -熱固型樹脂薄膜’其覆蓋一電極區域於該配線 89725-951122.d〇( 1278870 圖案上及具有散佈及包括於其中之絕緣粒子,及一熱塑 型樹脂薄膜,其覆蓋該熱固型樹脂薄膜; 當施加一超音波時,壓按半導體承載晶片之凸塊至熔 化狀態之熱塑型樹脂薄膜上,該狀態即加熱及軟化該熱 塑型樹脂薄膜,因而會藉由半導體承載晶片之該凸塊推 開熔化之熱塑型樹脂薄膜,及該凸塊達到該熱固型樹脂 薄膜之表面; 藉由持續地施加超音波至該凸塊而朝向該熱固型樹脂 薄膜壓按該凸塊,因而該絕緣粒子會由該熱固型樹脂薄 膜内分離,該熱固型樹脂薄臈會藉由該凸塊推開,及該 凸塊造成與該電極區域之接觸,· 、在該凸塊與該電極區域接觸時,藉由持續地施加超音 波而超音波接合該凸塊與該電極區域,·及 藉由冷卻及硬化該熔化之熱塑型樹脂,而令一半導體 承載晶片主體接合於該配線基板上。 17.如申請專利範圍第16項之用以製造電磁可讀取資料載體 之方法,其中該薄膜狀樹月旨基板用於資料載體主體。 A ί:請專利範圍第16或17項之用以製造電磁可讀取資料 載:之方法,其中利用氧切或氧化銘作為該絕緣粒子 19·如申請專利範圍第16或17項之用 ^ 載體之方法,其甲利用四氟 ^"可項取資剩 20 ^由▲主由 鼠乙締作為該絕緣粒子之材料。 20·如申凊專利範圍第16項之用以 十 之方法,盆”絕緣物早工每電磁可讀取資科載體 …子平均地散佈於該熱固型樹脂薄 89725-951122.doc 1278870 膜内。 21· 一種覆晶連接配線基板,包括·· 一配線圖案; 一第一熱塑型樹脂薄膜,其覆蓋一電極區域於該配線 圖案上及具有散佈及包括於其中之絕緣粒子;及 一第一熱塑型樹脂薄膜,其覆蓋該第一熱塑型樹脂薄 膜; 其中該第一熱塑型樹脂薄膜之再軟化溫度完全高於該 第二熱塑型樹脂薄膜之再軟化溫度。 22·如申請專利範圍第22項之覆晶連接配線基板,其中該絕緣 粒子平均地散佈於該熱固型樹脂薄膜内。 89725-951122.doc
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