TWI273965B - Process for forming a patterned thin film structure for in-mold decoration - Google Patents

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1273965 次、發明說明： 相關申請的交叉引用 本申請是2003年4月23曰提交的共同提出的未決美 國申請第10/422,557號的部分連續，其内容結合於此作為 茶考。該申請第10/422,557號要求2002年4月24曰提六 的果國臨時申請第6〇/375,9〇2號的利益，其内容处人2 作為參考。 α σ 、此 【發明所屬之技術領域】 本發明總體上涉及模内裝飾。本發明揭示了 一種在 於杈内裝飾的基材上形成圖案化薄膜的方法。 【先前技術】 背景技術 展円衣飾（IMD)已形成為 的技術。1MD技術是用來將文本:數位、圖例、 ”他付號和資訊、以及純粹裝飾性設計加 件，如電話和其他消費電子 成5•部 品的容哭…”.，， 備”'車儀錶板、用於消費 令-和巴泉材科、以及實， 域。 、不、出风型部件的整個領 iMD廸常涉及形成模内裝飾 膜），其包括要被轉印到或結人於i ,’D版或iMD裝音 圖像。在—個並型一 D 、士出成型部件的表面¥ ⑹一 土的扠内轉印 二醇醋（啦）膜心模_行處…i對苯二甲酸乙 ，然後塗佈以耐久層以提供耐油性：;以促進圖像轉印) 理和塗佈@哪 几刮性。然後在經處 嶋，用其他方法形成裝飾，接 1273965 著用黏著劑（例如，熱熔性黏著劑或聚氨能黏著瞥“ 该膜以形成模内轉印膜。然/ ^ 入、、主好目… 後在細谷融樹脂前將該膜嵌 /、吴一，亚將该裝飾（或其他圖像）從pe 射出成型的物品。在典型的 、p 土根：塑肷入方法中， 他圖像並不是從IMD穿偷脸絲〔 、""" 卜疋攸腫衣飾朕轉印到射 將IMD裝飾的膜匁紝於M山 i曰口物口口，而疋 衣飾的肢黏、U;射出成型的物品並成為 在一個典型的模塑嵌入方法中， 使用了 I碳酸酯（PC )基 材。要包括在射出成型的物品 ^ ffl ^ , 、衣飾或其他圖像被印刷 或用其他方法形成於Pc基 ^ ^ 材的表面上。然後該圖案化美 材塗佈以薄保護層（以便 " 、+ π 射過程中保護油墨免受損傷 )來提供IMD裝飾膜。 土兄又相知 在某些情況下，IMD iu- ^ 膜武J:灿一 支何可用來將包含圖案化金屬薄 月吴驭其他溽膜材料的裝飾 &』 /、他®像施加到或加入到射出 成型的物品。在一種方 、丄 m TMn ^ / ，廷種圖案化薄膜設計通過在 胸裝飾膜上形成圖案化I在 Φ， , A ’计版層來加入。一：f#並都& 製造包含圖案化金屬薄膜 t…、尘的 涉及使用井％ ,、，吴衣飾膜的現有技術的方法 ν汉1史用九刻技術和化學 ^ Λ 子刻蝕。典型的光刻方法包括多個

費％和咼成本步驟，包耔 夕1U .f ” p i , ΰ W )形成非圖案化金屬薄膜層 ，^)周光致抗蝕劑塗佈兮八斤 曰 將先致4几蝕劑圖形曝光 误 n . f , 、（例如）紫外線來對其進行圖宰 化’ （4 )通過從曝光 u木 、扣M m丄 戍未曝光區域除去光致抗蝕劑（取 決於所用光致抗蝕劑的類 k取 以# Λ a Μ 一 、！）使圖案化的圖像“顯影”， 以便在金屬溽膜要被除 F β、曰+ A 7 ^ ^ (即，不設置薄膜材料的 £域）恭露金屬薄獏； 寸的 J利用化學刻餘方法以便從光 1273965 致抗蝕劑已被除去的區域除去該薄膜 餘的光致抗蝕劑以便霖出θ安 除去剩 文L出圖案化的薄膜結構。 "光刻方法中的某些方法步驟，如圖形^ 亚需要小心地將掩模.梦# 疋費T的 果#私動的目標區域配准和對m . ’顯影和除去光致抗钮劑以及 :旱。此外 物，除了、、既在妯1 + 永自化子刻蝕方法的廢 丨牙、了 /曰在地造成環境危害以外， 。化學刻蝕方法也往往導致井… ①費4和昂貴的 ^ V致先澤較少的表面，這對於古β 衣飾應用來說通常是不符合需要的。 、、问而 因此，需要一種 膜的圖案化薄膜結構 I虫0 用於在塑性基材上形成用作 的方法，其無需使用光刻法 IMD裴飾 或化學刻 【發明内容】 【發明内容】 具體實施方式 …供本發明的較佳具體態樣的詳細描逑。雖然 發明結合較佳實施例進行描述’但應當明目棄，本，明並 限於任何-個具體態樣。相反，本發明的範圍僅：戶” 的保護範圍所限定並且本發明包括許多替換、改進、和 同物。為了舉例說明’纟下面的描述中給出了許多具體 細節以便提供對本發明的充分理解。本發明可按照保: 圍而沒有部分或全部這些具體的細節來進行實施。為； 疋起見對在興本發明相關的技術領域中熟知的技術資 沒有進行詳細描述，以便突出本發明的内容。 貝 本發明揭示了在基材上形成圖案化薄膜結構的方注 10 1273965 在—個具體態樣中，薄膜材 或丰導卿沾— Τ·」以疋寺包的、非導電的、 勿：。—個具體態樣中’圖案化薄膜結構包括在 用二土狀上形成的金屬或金屬基的設計（圖案），以便 DI飾膜。在基材上用遮蔽塗料或油墨印刷一個圖 :，該圖案是這樣的，在一個實施例中，所 Γ成在印刷的遮蔽塗料不存在的區域十印刷了要： ,± 、冢 遮敝層的乾重為基準，該遮蔽厣 匕括重量比5-80❽/〇、較佳會旦μ 曰 重里比1〇·60/ο的均勻分散在黏著 :中的再分散性顆粒，其可溶解或分散於在其後剝離過程 /斤使用的剝離劑組合物中。再分散性顆粒被定義為可分 在用來除去遮蔽塗料/油墨的剝離溶液中的顆粒。不可再 ^散性顆粒往往在剝離後形成不需要的浮逢或不鮮明的背 景。薄膜是通㉟’例如’沉積氣相沉積或濺鍍均句地沉積 於:員印刷有遮蔽油墨的基材上。在遮蔽塗層上的薄膜以及 遮蔽塗層然後在其後的剝離步驟中被除去。 在另一個具體態樣中，遮蔽層首先均勻地塗佈在基材 上，然後難以從基材剝離的黏結或增黏劑以一定圖案印刷 到^遮蔽層上。黏結層對遮蔽層和要沉積到圖案化基材上 的薄膜均具有良好的附著力。然後未沉積在黏結層上的薄 膜材料被選擇性地剝離，留下圖案化的薄膜設計圖案。在 這種情況下，所需要的薄膜結構在印刷的黏結材料存在的 區域形成，即，印刷了薄膜結構的正像。 ^圖1是一個流程圖，說明在一個在基材上形成圖案化 薄膜結構的具體態樣中所用的方法。該方法開始於步驟 11 1273965 :用：ί :丁到步驟104 ’在此所要形成的薄膜結構的負像 用边敝塗料或油墨印刷在基材的表面上。 ' 中，利用水溶液和/或另一種並 。—個實施例 墨。在牛… 通〉谷劑可除去遮蔽塗料或油 ’要形成的薄膜結構的負像在下 塗料或油墨將覆蓋在過程完成後薄膜:料不 杏所卜了 ,、品域亚將不會覆蓋薄膜材料存在的基材區域。 貝貝油墨圖案用作其後沉積的薄膜材料的掩膜，如下 面連同步驟1 06更充分說明的。 任何適當的印刷技術，如快乾印刷、無水勝印、電子 照相印刷、以及石版㈣’都可用來在基材上印刷油:圖 案。在某些應用中，根據需要的解析&，其他印刷技術， 如凸版印㈣、絲網印刷、照相凹版印刷、噴墨、以及熱敏 印刷’可能是合適的。&外，遮蔽塗層或油墨並不需要在 光學上與基材對比，並且可以是無色的。 限於：聚乙烯醇，聚乙烯吡咯烷酮，聚乙烯吡啶，聚丙烯 酸，聚曱基丙烯酸，聚丙烯醯胺，聚乙二醇，乙烯_馬來酐 共聚物，乙烯基醚-馬來酐共聚物，苯乙烯-馬來酐共聚物 ，丁烯·衣康酸共聚物，聚環氧乙烷（ΡΕ〇χ)，聚苯乙烯 在一個具體態樣中，遮蔽 顆粒。在一個具體態樣中，以 塗料或油墨包括重量比5-80% 解或刀政在剝離劑組合物中的 在/個具體態樣中，遮蔽塗料 性聚合物作為黏著劑。水溶性 ^料或油墨包含可再分散性 遮蔽層的乾重為基準，遮蔽 、較佳重量比1〇-6〇%的可溶 可再分散性顆粒和黏著劑。 或油墨包括水溶性或水分散 聚合物的典型實例包括但不 12 1273965 、石頁酸g旨’諸如經乙其 乙基緘維素、羥丙基纖維素、 、羧甲基纖維素铲許从概n * T基4維素 ηη μ义衩的緘維素衍生物，黃原膠， 膝’明膠，細，0匕 拉伯树

心卯鮮知，以及其共聚物。在一個$ _ AA 樣中，水分散性雙人榀们乂樣的具體態 a 匕括水分散性或鹼分散性艄、# κ ^丙稀酸乳膠或分散體。在-個具體態樣中 枓或油墨包括溶劑溶解或溶劑分散^土 在-個具體態樣中，遮蔽塗料或油墨包括可:::=。 何生自—乳化矽、caC〇3、CaS〇4、BaS0 Λ Τι〇2、空心Μ雕士上 aS〇4、ALA、 球肢、非成膜乳膠或分散體、益 機顏料。在一個呈_ & # + …、成顏枓、或有 们/、肢悲樣中，遮蔽塗料或油墨包 政性顆粒’其包括聚合物或聚合物複合刀 態樣中，在遮蔽塗料或油墨十包括可再分散性t個具體 其後的遮蔽塗料或、、由黑沾Μ ^顆粒可促進 蔽塗料或油黑中勹杠1^ 、 心樣中，在遮 料或油墨的剝離，J: e、s ϋ 進/、俊的遮蔽塗 巽厗Μ ， /、疋通過在剝離期間降低遮蔽塗# 1 墨層的厚声式6敕 〜队土層或油 又…兀Jk性和/或改善剝離溶劑 Φ 層的滲透性。 y對心敝塗層或油墨 在步驟106，將材料薄膜生 。在-個且…广 ，在基材的圖案化表面上 …银中，薄膜材料可以是導電的、非…

5 +導體的。在—個具體態樣中，在 t& 9J 相沉積被用來將材料薄膜沉 Λ 06，沉積氣 這樣6, . 儿和於基材的圖案化侧面上。左 水的—個具體態樣令，鋁、銅、 在 氣相沉浐$ 1^泠 / 可適5於通過沉積 一個 貝塗被沉積為薄膜的材料可用作薄膜材料，、 “美的具哺中’薄膜材料通過用薄膜材料歲射 13 1273965 塗膜基材的圖案化侧面來沉積。在這樣的一俩I ，可以使用氧化銦錫⑽）、硫化鋅、金、：中 銦：鉻、摻雜㈣氧化鋅、氧化此銦二:： 〆摻雜氟的氧化銦、或任何其他適合於通 沉積在薄膜中的材料。 、〜戈^塗膜被 μ可以使用任何在圖案化基材上形成薄膜層的方法，包 一不限於層壓、電鍍、濺鍍、真空沉積 用於在塑性基材上形成薄膜的方法的組

體包括金屬導體，例如鋁、銅 、溥朕V 、么㈣ J辞、錫、銦、鎳、鉻、銀 而八二銦1匕、鈦、1旦、鶴、錄、把、始和/或始等等 ;7:，化物導體，如氧化鋼锡（⑽ 以及何生自上述金屬和/或金屬氧化物的合金或多 膜。此外’本文所述的薄膜結構可包括單層薄膜或 夕"辱fe。有用的塑性基材包括環氧樹脂、聚驢亞胺、聚 礪、聚芳鱗、聚碳酸醋（PC)、聚對苯二甲酸乙期（ 間、聚萘二甲酸乙二醇(PEN)、聚（環稀）、以 及其組合物。就模内裝飾而言，基材通常塗佈以隔離層（ 未不出）’其隨後以-耐久層（未示出）塗覆。遮蔽塗料 的圖案被印刷到耐久層上。然後該經印觀多層膜通過， 例X心積氣相沉積或濺鍍，被塗覆以薄膜。 在圖1所不方法的步驟108中，遮蔽塗料或油墨從基 丄回卞化表面被剝離，其中該基材在步驟1 0 ό中已沉積 有薄膜材料。尤牛_ , ^ ^ % 1 0 8中剝離塗料/油墨且有下述效果： 將在步驟^⑽形成的印刷圖案剝離以及將在步，驟106沉積 14 ^73965 的分薄膜材料剝離’其沉積在塗料/油墨存在繼區域 油^安^溶劑能夠剝離塗料7油墨圖案和形成在塗料/ 驟10°/由貝部表面上的薄膜材料’即使剝離步驟是在步 步勒％中的沉積薄膜之後進行的。然後示於圖的方法在 ▼ Μ1? '結束。在不限制本揭示内容的-般性的情況下， 的遮Γ:4:在某些具體態樣中’在步驟1〇4至少部分印刷 為步y八由墨恭露於、或幾乎暴露於剝離溶劑，儘管作 罢。二06的'儿積過程的結果遮蔽圖案已為金屬薄膜所覆 ;或1一=體;1樣中’以遮蔽層的乾重為基準，遮蔽畫 或1 /舌重里比5_8〇%、較佳重量比1〇-60〇/〇的可溶解 再：；性：離劑組合物中的可再分散性顆粒和黏著劑。可 制離：粒的存在顯著地改善了遮蔽塗層上的薄膜的V 滿度條件下。布版的抗黏連性，特別是在較高溫度和 活性；：個具體態樣中，低分子量添加劑如增塑劑、表面 β以及在遮蔽塗料/油墨中的殘餘單體或溶劑可在貧 二二墨上的金屬中引起缺陷或微孔，加速遮蔽塗料暴露 = 據本發明揭示的内容，塗料/油墨、薄膜、以及 =万法的任何適當的組合都可以使用，而不以任何方式 二本發明揭示内容的適用範圍，並且不限制本發明揭承 何知"疋的剝離機理或理論。關於示於圖1的方法 ’僅有的要灰县· ό 使用的組合是這樣的，在剝離時形成 土 t的/#膜區域仍然存在而形成在可剝離遮蔽塗料/油 ’土、上的缚月吴區域被刻離、或基本上如此，這樣在剝離後薄 15 1273965 膜結構在塗料/油w安 如此，以 ·土、圖木存在的區域不存在、或足夠地幾乎 、、 而要的設計被充分地刻晝出來。 上述方、本” 、 ^ Λ , 亚不要求應用光刻法和選擇刻蝕導電層以便 牡巷材上定羞7 ®也， ，在沉浐薄膜結構，而是，將油墨圖案用來 :%材料之前’限定要形成的薄膜結構的形狀。 取=模内編中所使用的耐久層，簡單溶劑，如水 其=有：:二、二甲基亞™)、或許多 ，合J或，合劑混合物，可用來剝離油墨和在油 墨圖案的頂部形士 ΑΑ — r社/由 e ,, , 6/ι /成的溽膜材料。由於環境問題含水制離劑 疋較佳的。gl安儿雕… ιη 、 5木化溥肤結構的形成可通過滾帶式（Γ〇1Μο_ ""方法，該方法並不像在現有光刻方法中所使用的光 刻和化學刻蝕技術那樣費時叮更用的先 學廢物。 ΤΡ樣費日…貴、以及產生許多毒性化 “如上所述’本文描述的技術可在一個具體態樣中用來 包括圖案化金屬或其他圖案化薄膜層的細裝飾膜。 二主圖2D說明—系列方法步驟的平面示意圖，這些方 〜步驟用來在基材上利用薄纟士 ，、 印^ '、、口構形致包括四個垂直線條 、間早叹计。目2A顯示塑性基材2〇2。在目2b中 線條204的油墨圖宰p £ρ尿丨卜 土^木已中刷杜丞材202上。在示於圖2Β 例中，線條2G4在基材-上限定了四個垂直薄膜 :’要在其上形成的區域，如下面更充分地描述的 未被線條204覆蓋的基材2〇2的區域。 J圖卜薄膜層206已形成在基材的圖案化表面 ’後盍基# 202未被油墨線條2〇4覆蓋的部分（由圖Μ 16 1273965 中的虛線表示）和被油墨、㈣204覆蓋的部八 中，油墨圖案以及薄膜2〇6的 刀七81 ν σ ^ w 儿槓在油墨線條204上的部 为已被剝離，暴露出（多個）薄 壯播 m 果、，.口構208。單個的薄膜 結構208通過由於剝離油墨線條2〇4而聂* 的多個區域被彼此分離。 *路出的基材202 圖3A至3D通過提供示於 、 口 Μ主圖2D的方法步驟 的主視截面示意圖進一步說明示於圖2A至圖2〇的實施例 。圖3A表示基材2〇2的主視截面圖。圖3表示形成在基 材202上的油墨線條2〇4。如 口儿所不，潯膜層206形成 在基材的未被線條204覆蓋的部分上以及在聚合物油墨線 條2〇4的頂部和側面表面。最後，目3D表示在剝離線條 2〇4之後仍然形成在基材202上的薄膜結構m有 下述效果：剝離油墨線請和任何形成在油墨線請 頂部的薄膜材料206。 雖然圖2Α·和圖w言兒明在塑性基材上形成四個 垂直溥膜結構的實施例，但可以以任何任意的圖案印刷塗 料/油墨以便在基材上定義了任何所需形狀或尺寸的薄膜结 構。圖4Α和圖仙說明一個實施例的平面示意圖，其中形 成數位“8”@多個分段是利用本文所述方法的-個具體 態樣而形成。4Α表示1MD裝飾膜彻，其包括遮蔽油 墨圖案402,該圖案在塑性基材上限定了七個薄膜分段區 域4〇4a_4〇4g，在這些區域中油墨圖案402不存在，以致 暴露出下面的基材。圖4R 4· + „ Μ 表不在沉積薄膜和剝離油墨圖 案步驟之後的同-個膜彻。如_4Β所示，油墨的制離暴 17 1273965 露了基材的背景钱406,在其上不存在薄膜結構。此外 ’薄膜分段4〇8a-4〇8g已形成並留在分段區域购简， 其如上述圖4A中所限定的。 如從上述可以明顯看到的，住彳 J任何形狀或尺寸的薄膜結 構都可以通過在薄膜結構要在盆上 你/、上形成的基材上通過使用 印刷的圖案區域加以限定而簡單地形成。 在圖1 -4所說明的方法的一個 ^ 個具體恶樣中，用來使基

材構成圖像的塗料/油墨包括Sui1 . , A

^ 何 bun Chemical Aquabond AP

監色油墨和/或Sunester紅色油5 ( Q 巴冲墨（Sun Chemical公司，

Northlake，IL)，而基材包括5宓 何0也斗/予的Melmex 45 3聚g旨 (DuPont Teijin 公司，Ηοηρ'χ,θΐι λ、 w〇pewell，va)。油墨可通過鏤花 模板並利用具# 36〇#網紋傳墨報的手工刮膠器進行施加 。油墨可用空氣加熱搶進行乾燥。通過將圖案化基材載入 到直流磁控濺射系統中來沉積金屬薄膜以沉積ιτ〇膜多達 約100⑽厚度。在沉積金屬薄膜之前圖案化基封可用等離 子體進行處理。油墨圖宏如π Λ、Μ β、 土 a m和形成於其上的金屬薄膜是通過 在室溫下用丙i同（HistolocM·。·! , / 01〇gical grade (病理分級），Fisher

Scientific公司）嗜選太甘，1 y _ 、鹿在其上已形成金屬薄膜的圖案化基材 i至2分鐘而被剝離。上述方法步驟導致在油墨圖案中形 成的金屬薄膜（即’ IT0)與油墨一道被除去，在基材上 留下不存在ΙΤΟ塗層的區域，這樣在這些ιτ〇已被除去的 區域不存在可測量的電導率。 在圖1-4所說明的方法的一個具體態樣中，利用手工 刮膠器施加膜111暖紅色油墨（EnVn*〇nmental Inks and 18 1273965

Coatings公司，Los Angeles，加利福尼亞）以便在包括5 密耳厚 Mellnex ST505 聚酯（DuP〇nt TeiJin 公司， Hopewell，佛吉尼亞）的基材上定義了圖案或掩模。通過 將圖案化基材載入到直流磁控濺射系統中來沉積金屬薄膜 以沉積ITO膜多達約100_厚度。通過用丙酮（ H1St〇l〇glCal grade，Fisher Scientific)喷灑 30-60 秒，從 ιτ〇塗佈的圖案化基材洗滌油墨。在油墨上形成的ιτ〇和 油墨一道被除去，留下沒有ΙΤ0塗層的區域，在此處印刷 有油墨圖案。 在圖1-4所說明的方法的一個具體態樣中，遮蔽油墨 θ案疋在.印機上利用GP-2 1 7 Process Magenta油墨（Ink

Systems公司，Commerce，加利福尼亞）印刷於5密耳厚 的 4507 聚酯（Transilwrap，Franklin Park，伊利諾斯州） 上。塗油墨的聚醋被載入在供紹蒸發的真空系統中，在 120nm的膜厚度。鋁塗佈的聚酯浸潰在熱（丁 =約8〇。^ ) 丁酮（檢定級，Fisher Scientific，MEK)中 15 秒，然後 用〉父&雀ΜΕίν甲的棉布千緩地擦淨。該過程從聚醋剝離 塗油墨的區域，以及在油墨頂部的鋁。該剝離形成來自油 登白、J貝像，即’在印刷有油墨圖案的區域沒有|呂塗層，而 剩餘區域（即，油墨圖案不存在的區域）則塗佈有铭。 仕圖1 -4所說明的方法的一個具體態樣中，遮蔽油墨 圖案是在Mark Andy 4200快乾印刷機上利用膜ΠΙ暖紅色 油墨(Environmental Inks and Coatings ，Los Angeles，力〇 利福尼亞）製備在5密耳厚、12"寬的Mellnex 453聚醋 19 1273965 (astics Suppiiers ’ Fuliert〇n，加利福尼亞）的輥上。該 圖案化聚酯被載入到直流磁控濺射系統中以沉積⑽膜約 :00随。在沉積之前，油墨塗佈的片材可以用等離子體進 订處理。然後IT0塗佈的聚酯浸潰在熱（T=約80t ) 丁 :的谷益中並利用Fisher Scientific FS220H超聲清洗器超 聲波清洗2分鐘。作為超聲清洗步驟的結果，油黑二 油墨頂部形成的ITO被從聚酯剝離。 在沉積金屬薄膜後，利用簡單的對在塗料/油墨圖案不 子在勺區域形成的薄膜不具有破壞性的剝離方法（如作不 限：上述的溶劑和物理剝離方法）剝離遮蔽塗料/油墨線條 的能力有利於連續的製備方法’如滾帶式製備方法，因為 不需要費時的間歇操作’如圖形曝光和顯影光致抗蝕劑、 刻蝕掉未被光致抗蝕劑覆蓋的部分薄膜層、或利用需2特 殊處』或條件的溶劑以在刻钱後除去光致抗飿劑層。通過 :“、時間和使用較便宜的材料，本文描述的方法二其料 常用來在聚合物基材上形成各種類型的本文所述結構的= ，成本低得多。在遮蔽塗料/油墨中可再分散性顆粒的存在 頒者地改善了塗佈膜的抗黏連性並進而加寬了滾帶式方法 =方法窗口。此外，可再分散性顆粒大大地改善沉積在遮 蔽塗料/油墨上的薄膜的可剝離性。 圖5A-1至圖5D-2說明在-個在基材上形成圖宰化薄 膜設計的具體態樣中所用的可替換方法。示於圖至 圖5D'2、的可替換方法在下述意義上使用“正，，印刷的圖 像·塗料/油墨是以要形成的薄膜結構的圖案進行印刷，而 20 1273965 不是-如與圖1 -4有關的上面所述被用來定義了薄膜結構將 不會形成的區域。圖5A-1至圖5D-2所說明的方法在下述 方面類似於圖1-4所示的方法··示於圖5A-1至圖5£)-2的 方法使用印刷技術以限定要形成的薄膜結構。然而，示於 圖5A-1至圖5D-2的方法在下述方面不同於圖所示的 方法：印刷的圖案不從基材剝離，如下面更充分地描述的 /寸狀，口傅艰成在基材5 0 2 上。基材502可以是任何上述的供圖戶斤示方法之用的 基材材料。在-個具體態樣中，基材包括5密耳厚的伽 ♦酉曰（可獲自Transilwrap，FrankHn ，伊利諾斯州） 。圖5B-1和圖5B-2顯示印 5〇4 . ,〇r如 在基材502上的圖案線條 二口广。在—個具體態樣中’圖案線條5G4* 506是 牡骖印機上利用GP2001 1 UV Λ/Γ

Sysr Pl〇Cess Magenta 油墨（Ink y S Λ司，Commerce，加利萨尸冗、广 上。可以# 亡 利细尼亞）印刷於基材502 了以使用具有下述特徵的任 '和其附著於基材相比，其後沉二印刷材料 該印刷的材料，如下面更充分地更有力地附著於 圖5CM和圖5C_2顯示形成在 二 膜層508,覆蓋印刷的圖案（線條5〇?:®案化表面的薄 的未被印刷的圖案覆蓋的區域 ° 5⑹和基材502 5 〇 8的形成H、s i 個具體態樣中，薄膜 的幵/成疋通過將g) t化I 丫潯艇 统中’在m_的膜厚度。 供鋁蒸發的真空系

圖5D 1和圖5DJ |胃ϋ H 万法已除去形成在基 21 1273965 材502上的部分薄膜5〇8之後剩餘的結構 和5 1 2仍麸八則f Λ、士 < 寻膜、、、口，構5 1 〇 …、刀別形成在印刷的線條5〇4和5 二 =中’溶劑被用來除去直接形成在基材上的部分： μ去形成在印刷的材料之上的部分薄膜 Ρ刷的材料相同圖案的薄膜結 和圖瓜2的且〜Α 個未不於圖印] 的/、肢恶樣中，部分或所有形成在印 在剝離過程後仍然附著於印刷材料的侧面:在 /、^樣中，亚不是所有直接形成在 剝離過程除去， 的厚肤由 去^ ^ 成在基材上的薄膜被足夠地除 去以使在沒有印刷材料的基材區域除 材料。 $ j低乂或看不到溽膜 其：於圖W至圖瓜2的可替換方法要求：薄膜層對 基材的附著力較低、薄膜声g卩别# A 曰、 寻腰層對印刷材科的附著力較高、印 :材料對基材的附著力較高，並且溶劑是這樣…除； 料==基材上的部分薄膜層，但不除去形成在印刷材 料上的σ卩分薄膜層。 在另一個可替換作動；/土 曰俠仁較铨的方法中，可以使月 =二，其包括基材、隔離層、以及與薄膜具有不良親： '叫人層。在一個這樣的具體態樣中，可以使罔表面處 1、黏結層或底塗層如紫外線可固化聚合物層，其對耐久 層和薄膜均具有良好的附著力。在這種情況下，在未塗佈 £域上的缚膜會在剝離過程中被除去以顯露在表面處理或 底塗層頂部的設計圖。這種可替換的方法類似於示於圖 5Α-1至圖5D-2的方法，ia 〃有4…層或底塗層（未示出） 22 1273965 包括印刷社 ,^ ^ 顯示出’ 線條 * 506。如果耐久層 將遮蔽塗料/油黑：親合力，則可在黏結層和印刷材料之前 區域上的薄膜：在：地塗佈於耐久層。在沒有印刷材料的 黏結:頂部的”圖彳離過程中被除去以顯露在印刷材料和 替換方法至，6F_2說明示於圖卜4的方法的另外的可 圖6B_2中圖^安1和圖6A-2顯示基材602。在圖叫和 材斛P 木線條6〇4和606已使用可印刷的第—猫 於基材6G2。在—個具體態樣中，如圖π 至二塗佈以第二種材料，其: 以致所述的至少可溶的溶劑中是不可溶的， 不會剝離第二種材料心：：用來剝離第-種可印刷材料而 種材料是疏水的（gp ;一個具體態樣中，可印刷的第-低表面張力。在叫 ）和溶劑可溶解的並且具有 被第—種材料所排斥固具體態樣中，第二種材料是水性的並 種材料覆蓋的部分基二附!=些未被第- 區域008、610、以及 卜一红（水性）材料的 第二種材料不被第一種材料 们J &換的具體態樣中， 或完全地外塗佈圖心^竹尸吓並且第二種材料可部分 606。在一個之俨μ °圖6。2所示的圖案線條604和 -種二二 ^ ^ 弟一種材料的厚度 — 直接施加於基材的區域 "在罘二種材料 的區域)要小。在~個】:態:τ=:的基材上 弟一種材料的剝離是 23 1273965 6D-i 606已、皮/的結構’其中包括第一種材料的結構604和 已被剝離，在基材6〇2 608、61〇m”— ^下包括弟一種材料的結構 612。在一個具體態樣苴 料可塗覆於，至少1八a < /、甲弟一種材 在第-種材料二 刷的第—種材料，如此形成 ; 的部分第二種材料與它 分第-種材料一道被剝離 ：的部 二種材料（即，在第—料加於基材的部分第 弟 種材料不存在的ps*七、 和圖6D-2所令。* 弁在的&域），如圖6D] ’ 一個具體態樣中，用來剝離第一種可 印刷材料（以及，如果合適的話 ]❹種可 種材料）的溶劑包括水溶液或水。在—個 乐- 來剝離第一種可印刷材料 |心，，用 然後，如圖叫圖6E :括非水性溶劑或溶液。 ^口 6E 2戶斤不，使用上述薄膜材料之一 ，溥艇614形成在結構6〇8、6ι〇、 、 602的未被第二種材料覆蓋的部分上。乂 以及在基材 ’薄膜的形成是通過濺鍍二&成具體態樣中 適當賴。最後，圖6F:V"3沉積、喷塗、或別的 1和圖6F_2顯示在用適當的、、六 另一種適當的化學或機械剝離方法剝離掉第-種： 料之後留下的薄膜結構616㊉6ΐδ。在—個具體=^材 用來剝離第一種材料的溶劑 ""'' 疋奴性水溶液，而用來 :種材料的溶劑是酸性水溶液、中性水溶液、或水'。在 個具體態樣”用來制離第-種材料的溶劑是酸性水！： ’而用來剝離第二種材料的溶劑是驗性水溶 ：- 液、或水。在一個具體態樣中，用來剝離第-種材料:! 24 !273965 J疋中性水溶液或水，而用來剝 性水溶液或驗性水溶液。 種材料的溶劑是酸 在圖6A-1至圖6F_2所示方法之中， 刷圖案包括要形成的薄膜結構的材料的印 離以後，士 μ、+、千丨 在弟一種材料被剝 如上述，剩下的第二種材料 構的备你 匕枯要形成的薄膜社 再的負像。在某種意義上，第_ 、、 ⑽、 其可以用來定且右非# , " α以被看作掩模， ，其中镇“、尺寸的區域，如非常細的線條 “溥腠結構將不存在。雖然最初用者用％ ρ 由二Ρ刷技術，”刷如此窄線條可能是困難的，例如 可以用：限制、在印刷後油墨的擴散等等，但這樣的技術 二：易地印刷僅具有分隔線條或區域的小間 疋很細的線條或不是很小的區域。 是可Η十* 如上述的第二種材料於 後利％填充由第—種材料覆蓋的區域之間的窄間Ρ宗，缺 料6=的溶劑可剝離第-種材料，留下包括第二種： . 炚而取初印刷這種非常細的 、、泉I Μ形狀可能是不實際的。妙 所、f 。、 …、仗可使用廷些線條，如上 处，f Γ-為’例如’形成由非常 薄膜結構的負像。 …鶴分隔開的相鄰的 圖耷_具月'態你中’物理剝離方法如剝離被用來顯露 ::爾構。例如，對1T0 _當黏結強度和黏合 預印刷有遮蔽塗料/油墨❾刪聊 ::其後的剝離將除去在印刷有遮蔽油墨的區域上的或在 …墨的區域上…，其取決於油墨的黏結強度和在 油墨-m和IT0_PET介面的黏合強度。這種剝離技術可 25 1273965 以和任何上述的方法一起使用。 在一個具體態樣中，圖6A-1至圖6F-2的方法包括： 在Mark Andy 4200快乾印刷機上，使用膜III暖紅色油墨 (Environmental Inks and Coatings，Morganton，北卡羅來 納），將所需要的導電薄膜結構的正像印刷到Melinex 582 聚 S旨輥*( 4 密耳厚、14 "寬，Dupont Teijin Films， Wilmington，DL )上。然後聚酯輥的印刷部分利用6 #邁 耶棒塗佈以一溶液並在8 0 °C在烘箱中乾燥1,5分鐘，該溶 液包括16份含水的10%的聚乙烯p比略烧酮（pvp-9〇，ISP Technologies 公司，Wayne，新澤西州）、〇.40 份

Sunsperse Violet ( Sun Chemical，Cincinnati，俄亥俄）、 以及1 6份水。然後將該膜放置在含有乙酸乙酯的結晶皿 中。將1〇 " X 1〇 " X 12.5 "的超聲破碎浴（由12丁 MuldSomk1^ 發生器驅動的 BLACKST〇NE-NEY，pR〇T· 05 1 2H EP超聲浴）裝滿約4 "的水，並將含有該膜的皿浮 在水中，然後在1〇4KHz下超聲破碎5分鐘。然後從皿除 去該膜並纟8(TC在烘箱中乾燥h5分鐘。在完成乾燥步驟 時，該膜具有PVP塗層的線條’其限定最初印刷的正像的 負像。接著利用CHA Mark 50輕匕塗機用ίτ〇滅鍛塗佈圖宰 化聚酷以沉積mo埃厚的ΙΤ〇 μ。然後在含有水的择杯 中對叮〇塗佈的圖案化聚醋超聲破碎3分鐘，其中燒杯是 放置在FWer #FS220H超聲破碎器（Fisher §= Pmsburg，賓夕法尼亞）中。缺 、， τ …、俊將邊fe用去離子水沖洗 並用氣流吹掉水份進行齡、鹿。4 + 仃生成的膜具有ITO結構，1 26 1273965 形狀為最初印刷的正像。 在-個具體態樣中’示於圖6A]至圖6f_2的方法包 括在PET基材上減鑛沉積IT〇膜，該基材具有親水塗層， 歹?:，MellneX如，並利用暖紅色油墨（Environmental :行印刷。在—個具體態樣中，這種材料的組合使得 可以利用水性剝離劑超聲地從不需要的區域剝離ιτ〇。 η广個具體態樣中，用„〇剝離的水性剝離劑可以 性劑溶液，如祕叫三鱗酸納、石夕酸納、壬 m及氫氧化鈉）、洗 。 、虱化物、以及顯影劑Shipley 453等等 濃度、 墨印刷 具體態 在圖案 這樣的 油墨區 去'部分 的油墨

在一個具體態樣中，I 〜 〇釗離速率取決於溶劑 >谷齊彳溫度、以及甚好腊4 基材艇相對於超聲換能器的位置。 在一個具體態樣中， λα ^ r在IT〇濺鍍沉積之前，油 白、ν i Ε Τ表面用適當的望 、__ 田0寺離子體進行預處理。在一個 中’這樣的等離子俨 几^ 版預處理將在1丁〇剝離過程中 化I 丁0結構上微裂紋 1 Μ 、產生減至袁低程度。此外， 寻料體預處理在—個具 域上產生m)殘餘物，這是由/了防止在印刷的 印刷的油墨圖案的結 除 ,^ τ ，其可在剝離過程中在印刷 £域上產生ΙΤ0殘餘物。 殘餘物 的無色 為了消除出現在剝離 的光學靜·，/· J 11υ表面上的較少油墨 V曰 一個具體態樣中， 油墨是較佳的。 I別隹Μ表面 27 1273965 ㈣^於在基材上形成圖案㈣姻計的任何前述技術可 塑性基材上形成圖案化金屬層，以提供在其設計中 :括這樣的圖案化金屬層的IMD裝飾膜。這些技術適用於 但不限於极内轉印和模内嵌入iMd。 圖7疋一個流程圖’說明在-個具體態樣中為形成模 内轉印型獅膜所使用的方法，其中使用-種或多種本文 所述的技術來在基材上形成圖案 於步驟，其中PET基材塗佈二構广法開始 土仍土仰以隔離層。在一個具體態 樣中’在2…ET基材層上塗佈約〇·"_、較佳〇3_ 2μ1Ώ厚度的隔離層。在步驟7〇4，經處理的基材塗佈 久層以獲得耐油性和抗刮性。在—個具體態樣中，耐久層 Μ㈣微米’較佳為4_8_的厚度。在步驟？⑽， 了細設計的圖案化薄膜部分。在—個具體態樣中，步驟 706包括上面和圖1至圖6D中；^、+、 u 6D中心述的一種或多種技術，用 來在基材上形成圖案化薄膜結構。在一個具體 ，牛 7 -包括利用本文所述技術之—在基材上形成圖案化^ 屬層。在步驟708,使同任何適當的油墨在基 任 何額外的圖案，以獲得視覺效應。然後在步驟川 劑塗佈基材和設計«。產生的咖裝㈣刊在模^ 印方法中，以便將設計物轉印到射 " 圖8是一個流程圖，說明在一個且/能^； W八月且恶樣中為 内傲入型腳膜所使用的方法，其中使用—種或多^ 所述的技術來在基材上形成圖案化薄膜結構。在步驟、文 ’ IMD設計的圖案化薄膜部分是形成在二;802 ♦私酸酯 28 1273965 (PC)或丙烯酸（PMMA)基材上。在-個具體態樣中， 步驟802包括上面和圖！至目6D中描述的—

術，用來在基材上形成圖案化薄膜結 且Z , 再在一個具體態樣 〜驟802包括利用本文所述技術之—在基材上形成圖 案化金屬層。在步#謝，使用任何適當的油墨在美材上 印刷任何額外的圖案。基材和設計圖案然後在步驟806中 塗佈以薄層以保護油墨。產生的細裝飾膜可用在模内後 入方法中以便將設計圖案轉印到射出成型的物品。

【實施方式】 下面列舉的附加實施例（標記為具體態樣A至F以方 便比較），依據薄膜的圖像形成和相關的製造及處理方法 進步ϋ兒明，例如，在遮蔽塗料/油墨中包括可再分散性 顆粒（如本文所述）的優點，如在上面和圖1至圖中 描述的方法中。

在具體悲樣Α中，下述遮蔽層組合物用於鋁（A!)金 屬薄膜圖像形成：5.5克Celvol 203S (PVA，來自Celanese ’ Dallas，德克薩斯州，低分子量，87%水解）、5·5克PVP K-30 (來自isp公司，wayne，新澤西州）、以及〇· i克 汽原月食（來自 Allchem公司，Dalton，佐治亞州）在室溫 下緩慢溶解於39·2克的去離子水。在遮蔽組合物中加入 〇·23 克 Silwet L-7608 (來自 〇Si Specialties，Middlebury ’康涅狄格州）。產生的溶液用作遮蔽塗料/油墨，用於在 基材上印刷圖案，用於金屬化，例如，如本文所述。 在具體態樣B中，下述遮蔽層組合物用於鋁（A1)金 29 1273965 屬薄膜圖像形〜成：3.0克20%的分散二氧化矽（Sy〗〇jet 703C，來自 Grace Davison，Columbia，MD)用 36 2 克去 離子水進行稀釋。室溫下，在該溶液中緩慢加入5·2克 CeJv〇1 203S、5.2克PVP Κ-30、以及〇1克黃原膠，然後 在焉勇切速率下混合。最後，加入〇·23克Silwet L-76〇8。 產生的浴液用作遮蔽塗料/油墨，用於在基材上印刷圖案， 用於金屬化，例如，如本文所述。 在具體態樣C-F中，使用了與具體態樣β相同的步驟 和黏著劑，不同之處在於：在乾膜中二氧化矽的重量百分 比在具體態樣c中變化到10%、在具體態樣D中變化到 30%、在具體態樣E中變化到6〇%、以及在具體態樣f中 變化到80%。 A-F中的所有遮蔽溶 為了比較起見，在上述具體態樣

(用於具體態樣的在每一行 的資料由第一列的字母表示） 30 1273965 表1 黏著劑 PVA/PVP K-30(l:l) 二氧化矽 (在/乾膜中的 重量百分比） --——. Γ\(\ / ---~---- 絲網印 刷質量 --~~-— 在環境條件 下的膜黏連 在 50°C/80% RH條件下老 化後的膜黏連 水對鋁 的可剝 離性 0% ---—--- 5% --—-~—— 黏連 嚴重黏連 良好 良好 極好 良好 良好 —_ 良好 極好 極好 極好 —— 良好 --------- 極好 極好 極好 60% ' —--- 良好 極好 極好 極好 80% -~ t 極好 極好 相當好 攸表1可以看出，以乾遮蔽膜為基準並按重量計算 5wt%至80wt%的顆粒二氧化矽顯著地改善了遮蔽

A 旦 Ό_ Ε_ F 97 92 87 67 37 17 力口入

的4几黏連性和^ 曰上的鋁層的可剝離性。在遮蔽層中顆 粒分散體的存在也導i。^ ^ ^致具有細線條寬度和極好完整性的高 光澤銘線條。 、、在-個具體態樣中，模内裝纏，如上面結合圖7所 心I匕括隔離嘈，其製備如下：15.0克CYMEL 303ULF (，自 ytec nlaustnes 公司，We$t ρ^υ〇η，新澤西州） 吳1〇5克MEK在600轉/分鐘的條件下混合5分鐘。加入 克 CYCAT600 (來自 Cytec Industries 公司，West Ρ=_，新澤西州）並在_轉/分鐘的條件下再攪拌5 f鐘。生成的溶液然後用〇·2微米篩檢程式過濾並用 選耶棒塗佈於1 42宓X pft r 十a 五 ·4Ζ在斗PET ( SH22，來自SKC公司，南 韓） 5 目輕声 由认 ^子度為1 .um。然後空氣乾燥該塗佈膜5分錯並 在13代在埃箱中烘烤10分鐘。 & 、、 们具體恶樣中，模内裝飾膜，如上面結合圖7所 4苗述白勺 ，^7 Λ-r » 耐久層，其製備如下·· 5〇〇克在MEK/環已酮 31 1273965 (重量比=9:1 )中的 20%的 Elvacite 2041 ( PMMA 樹脂， 來自Lucite International公司）與320克在MEK/環已g同 (重量比=9:1 )中的25%的EB1290 (來自UCB Chemicals公司）充分混合。在該溶液中加入67克Mek、 ST (來自Nissan Chemical )同時機械攪拌。最後，加入 24克在MEK/環已酮（重量比=9:1 )中的25%的光敏引發 劑（Irgacure 907/Irgacure 1 800=1:1，w/w，來自

Specialty Chemicals)和 89 克 MEK/環已酮（重量比=9: i )並再攪拌j〇分鐘。該溶液用22號繞線棒塗佈於隔離層 塗佈膜而且該塗層在空氣中乾燥3〇分鐘，然後在65。〇乾 燥10分鐘以生產6-7μπι (乾）厚的耐久層塗層。 在一個具體態樣中，模内裝飾膜，如上面結合圖7所 描述的，包括圖案化鋁層’其製備如下：如上段所述製備 的耐久層通過絲網印刷來印刷上述具體態樣c的遮蔽層， 通過沉積氣相沉積塗佈以大約60nm厚的鋁層，然後通過 用水沖洗以除去印刷遮蔽層上的鋁從而顯影有光澤的、高 解析度的銘圖案。 在-個具體態樣中，如上面和目7共同描述的，包括 模内裝飾膜的黏著劑層包括黏著劑層，其製備如下：2乃 克Sancure 2710 (來自N〇ve〇n公司，俄亥俄 j和7·5 t去離子水充分混合然後帛16#邁耶棒塗佈於如 緊上郎所述製備的圖案化鋁層，目標厚度& 。塗佈 膜然後在90°C的烘箱中乾燥1分鐘。 在-個具體怨樣中，如前面四段所述製備的多層膜被 32 1273965 裝進注射模具， 在隔離膜被剝離 塑件。 然後PMMA樹脂被射出成型到黏著劑層。 後耐久層和圖案化鋁層被完全轉印到模 雖然為清楚理解起見已相當 田4細地才田述了前述發 但顯然在所附權利I炎蚩的誌 、 j要求曰的乾圍内可以進行某些改變和改 進。應該注意，有許多可替換 J乃八木貝知本發明的方法 和衣置。相應。地，目前的具體態樣應看作說明而不是限制 性的，並且本發明並不限制於本文所給的細節，而是可以 在所附要求的保護範圍和等效物内進行改進。 【圖式簡單說明】 (一）圖式部分 通過下面的詳細說明並結合附圖可以容易地理解本發 明，其中相同的附圖標記表示相同的結構部件，並且其中 圖1是流程圖，說明在一個在美妇· u ^二 1U在基材上形成圖案化薄膜 的具體態樣中所用的方法。 形成四個金屬條的一 圖2 A至圖2D說明用來在基材上 系列方法步驟的平面示意圖。 至圖2D所示的方法步 2A至圖2D所示的實施 圖3A主0 3u通過提供圖2a 驟的主視截面示意圖進一步說明圖 例0 圖4A和圖 用本文所述的一 案的分段電極° 叫‘、思、圆，具 個具體態樣的方法形成了用於一個七 1273965 圖5A-1至圖5D-2說明在一伽+甘 ^ 個在基材上形成圖案化薄 膜的具體癌樣中所用的可替換方法。 所示方法的另外一種可 圖6A-1至圖6F-2說明圖 替換方法。

況明用於製造模内（轉印）I飾膜的典型方法步 或敗入膜的典型步驟

圖8說明用於製造模内標記 (二）元件代表符號 102 :開始 104 :使用可剝離聚合物油墨印刷導+ I 〇 6 :在基材的圖案化表面 笔、、、°構的負像 5叫"L積導電 ΐ〇δ :剝離聚合物油墨圖案 讨料的薄膜 II 〇 :結束 702 :用脫模劑處理PET基材 704 :用耐久層塗佈經處理的烏材 7〇6 :形成圖案化薄膜層

7〇8 :印刷油墨以獲得任何其他圖安 7 1 〇 :用黏著劑塗佈 " 802 :在聚碳酸酯基材上形成圖案，* :印刷油墨以獲得任何其他g 〉寻膜層 806 :用薄層塗佈以保護油墨 34

Claims (1)

1273965 聚乙稀醇、聚乙烯毗咯烷酮、聚乙烯毗啶、聚丙烯酸、聚 甲基丙烯酸、聚丙烯醯胺、聚乙二醇、乙烯_馬來酐共聚物 、乙稀基醚-馬來酐共聚物、苯乙烯-馬來酐共聚物、丁烯-衣康酸共聚物、聚環氧乙烷、聚苯乙烯磺酸酯、纖維素衍 生物、黃原膠、阿拉伯樹膠、明膠、卵磷脂、以及其共聚 物所組成的群組中。 5·根據申請專利範圍第3項之在基材上形成圖案化薄 膜結構的方法，其中該水溶性或水分散性聚合物包括水分 政|±聚合物，其係選自由水分散性或驗分散性蠘、聚婦煙 、和丙烯酸乳膠或分散體所組成的群組中。 ”士 6·根據申請專利範圍第1項之在基材上形成圖案化薄 '。構的n其巾該黏著劑是溶劑溶解或溶劑分散性聚 7·根據申請專利範圍第 ^ ^ 固乐1項之在基材上形成圖案化薄 勝結構的方法，其中該可五八 77政性顆粒是衍生自二氧化矽 、CaC03、CaS〇4、BaS〇 ., 4 A12〇3、Tl〇2、空心圓球體、非 成臊乳膠或分散體、無機声 …、你顔枓、或有機顏料。 8·根據申請專利範圍第 臈結構的方法，其中該可異八/在基材上形成圖案化薄 合物複合微粒。 以性顆粒是聚合物微粒或聚 9·根據申請專利範圍第丨 、 膜結構的方法，1巾 、 土材上形成圖案化薄 選自由表面活性劑、染料、 乂匕括一添加劑， 群έ日由· ； 固化劑、以及增塑劑所紐忐的 群組中；從而該添加劑的少+ 曰2 ^所組成的 的存在促進在該薄膜材料的沉積之 36 1273965 後剝離該可剝離材料。 “ W根據中請專利範圍第！項之在基材上形成 刻離材料。”中5亥剝離步驟包括使用溶劑以除去該可 m據中請專利範圍第1G項之在 缚膜結構的方、本，甘士 ^ $成圖案化 嗣、η 劑是選自由水、水溶液、醇、 、二甲物、㈣苯、w錢輞、楓 —甲土亞®、以及其混合物和衍生物所組成的群植中。 12.根據申請專利範圍第丨 膜結構的方員之在基材上形成圖案化薄 / /、中5亥溥膜材料是非導電的。 1 3.根據申請專利範圍第 膜結構的員之在基材上形成圖案化薄 万去，其中該薄膜材料是半導體的。 14·根據申請專利範圍第1 膜結構的h 因乐1頁之在基材上形成圖案化薄 、 去，其中該薄膜材料是導電的。 15.根據申請專利範圍第14項之在基 薄膜結構的太、土 ^ ^ 成圖案化 屬…心電薄臈材料是選自由金屬、金 材料。彳及其合金和多層複合材料所組成的群組令的 16·根據申請專利範圍第14項之在基材上形成圖案化 存膜結構的方法，装中 ’、 八中°亥導電，専膜材料是金屬，選自由鋁 •…、辛、錫、鉬、鎳、鉻、銀、金、鐵、銦 I互、钱、n 紙 * 、把、鉑、以及銘所組成的群組中。 薄膜申請專利範圍第14項之在基材上形成圖案化 、方法，其中該導電薄膜材料是金屬氧化物或硫 37 1273965 化物，選自由氧化銦錫（ΐΤθ)、氧化銦鋅（iZ〇)、氧化 鋁鋅、氧化釓銦、氧化錫、摻雜氟的氧化銦或硫化鋅所组 成的群組中。 膜社18.根據中請專利範圍第丨項之在基材上形成圖案化薄 、、、Q冓约方法，其中該沉積薄膜材料的步驟包括藏鍍。 膜社19·根據巾晴專利範圍第1項之在基材上形成圖案化薄 。…構的方法，其中該沉積薄膜材料的步驟包括氣相沉積 模^請專利第1項之在基材上形成圖案化薄 。Q的方法，其中該沉積薄膜材料的步驟包括真空沉積 21 ·根據申 月莫結構的方法 2 2 ·根據申 月莫結構的方法 2 3 ·根據申 膜結構的方法 24.根據申 膜結構的方法 25·根據申 膜結構的方法 26.根據申 月莫結構的方法 27 ·根據申 請專利範圍第1項之在基材上形成圖案化薄 ，其中該沉積薄膜材料的步驟包括電鍍。 請專利範圍第1項之在基材上形成圖案化薄 ，其中該沉積薄膜材料的步驟包括無電鍍。 請專利範圍第1項之在基材上形成圖案化薄 ，其中该 >儿積薄膜材料的步驟包括電鑄。 請專利範圍第1項之在基材上形成圖案化薄 ，其中該印刷步驟包括快乾印刷。 請專利範圍第1項之在基材上形成圖案化薄 ’其中該印刷步驟包括無水膠印。 請專利範圍第1項之在基材上形成圖案化薄 ’其中該印刷步驟包括電子照相印刷。 請專利範圍第1項之在基材上形成圖案化薄 38 1273965 胰結構的方法’其中該印刷步驟包括石版印 膜灶構的1康申°月專利辄圍第1項之在基材上形成圖案化薄 、、方法，其中該印刷步驟包括照相凹版印刷。 膜結 法，其中該印刷步驟包括熱敏印刷。 膜結 去，其中该印刷步驟包括噴墨印刷。 膜結:冓範圍 万法，其中該印刷步驟包括絲網印刷。 膜^籌2·ΓΓ申請專利範圍第1項之在基材上形成圖案化薄 勺方法，其中該印刷步驟包括凸版印刷。 膜結材上形_案化薄 去’其中该基材包括塑性基材。 薄二據::,專第33項之在基材上形成圖案化 '，、中s亥塑性基材岜括部分塑性基材輥。 薄：=、Γ:Γ第34項之在基材上形成圖案化 方法是二 在基材上形成圖案化薄膜結構的 的組成部:裝飾膜（IMD dee讀d film)的滾帶式方法 膜社m康申請專利範圍第1項之在基材上形成圖案化薄 PET)膜方法，纟中該基材包括聚對苯二甲酸乙二醇醋（ 37·根據申請專利範 薄膜結構的方法，進一 圍第36項之在基材上形成圖案化 步包括在該基材上形成該圖案化薄 39 1273965 膜結構之前進行下述步驟： 用脫模劑或塗層處理或塗佈該pET膜；以及 用耐久層塗佈該經處理或經塗佈的PET膜以提供耐油 性和抗刮性。 3 =射請專利範圍第36項之在基材上形成圖案化 4的方法，進-步包括在該基材上使用不同於所述 缚臈材料的可印刷材料印刷第二個裝飾設計。 39·根據申請專利範圍第g + I 弟6項之在基材上形成圖案化 構的方法’進一步包括用黏著劑塗佈該 以形成模内轉印膜。 戒飾朕 40·根據申請專利範圍第】首少盆 ^1項之在基材上形成圖案化薄 …構的方法，其中該基材包括聚碳酸酯（PC)基材。 射請專利範圍第4G歡在基材上㈣圖案化 膜。…冓的方法’進-步包括用薄保護層塗佈該IMD裝飾 包括以 42. —種在基材上形成圖案化薄膜結構的方法 下步驟： ’該圖案定義了 以致所述第一種 ，所述第一種材 用第一種材料在所述基材上印刷圖案 在所述基材上要形成的裝飾設計的正像， 材料印刷在所述薄膜結構要形成的區域中 料可使用第一種溶劑剝離； 用第二種材料外塗佈所述基材的經印刷的表面，兑 所述第二種材料用所述第一種溶劑是不可剝離的.，、 在-過程中利用所述第一種溶劑制離所述第一種材料 1273965 =中所述過程剝離所述第一種材料和形成在所述第 ;斗上的所述第二種材料而沒有剝離直接形 上的第二種材料，以致所述第 ^ 逑基材 -種材料不存在的所述基材上，藉：二=第 要形成的裝飾設計的負像，以致所述第 土材上 薄膜結構不要形成的區域中； -枓仍在所述 在所述圖案化基材上沉積薄臈材料；以及 剝離以除去所述第二、 薄膜材料，從而以所诚梦胤…沉積於第二種材料上的 ； 飾㈣的形狀形成所㈣膜結構 中所述基材和形成為i 人於用❹ 成在其上的所述圖案化薄膜結構適 口於用作模内裝飾（細）裳飾臈。 霉、 43.根據申請專利範圍第 薄膜結構的方法，其中所述第一種 ===圖案化 料，以致所述第二種㈣排斥所述第二種材 材區域中,、真充未印刷所述第-種材料的基 戍中而>又有塗佈所述第一種材料存在的區域中。 44·根據申請專利範圍第 薄膜結構的方Ή由 在基材上形成圖案化 專的方法，其中所述第—種溶劑是水溶液或水。 薄膜結構的方、、：專：：圍弟42項之在基材上形成圖案化 。 勺方法’其中所述第-種溶劑是非水溶劑或溶液 薄膜第42項之在基材上形成圖案化 剝離所述第二種材二=Γ種溶劑是驗性水溶液’而 種材科的所述步驟包括使用第二種溶劑，包 1273965 括酸性水溶液、中性水溶液、或水。 —47’根據申請專利範圍第42項之在基材上形成圖案化 溥膜結構的方、、表 甘 / ，、中所述第一種溶劑是酸性水溶液，而 ;J離所述第—種材料的所述步驟包括使 括驗性水溶液、中性水溶液、或水。 薄膜ΓΓ據申請專利範圍第42項之在基材上形成圖案化 方法’其中所述第—種溶劑是中性水溶液或水 ,^ 弟一種材枓的所述步驟包括使用第二種溶劑 ，包括酸性水溶液或驗性水溶液。 括· 49.-種在基材上形成多個圖案化薄膜結構的方法，包 利用基本上由黏著劑$ j 〇_6〇重量％的 粒所構成的可剝離材料/ 刀放性顆 醫材枓在該基材的第_ 個圖案，該可剝離封枓沾# 上P刷弟一 一… 弟一個圖案定義了在該基材的第 ^上要形成的第一個薄膜結構的負像； 在該基材的圖幸化證 古丫 茶化弟—個表面上沉積薄膜材料； 從該基材剝離可剝離材料的第一個圖案； 鲁 利用基本上由黏著劑和1〇_6〇重 粒所構成的可剝離材料㈣基材 散性顆 個圖案，該可制離材料Μ 弟-個表面上印刷第二 -… 第二個圖案定義了在該基材的第 —個表面上要形成的第二個薄膜結構的負像； 的第 :該基材的圖案化第二個表面上沉積薄膜材料 仗該基材剝離可剝離材料的第二個圖案； 由此除去可剝離材料的第一 弟個圖案、可剝離材料的第 42 1273965 ::圖以及形成在可剝離材料的第-個或第二個圖案 、壬何薄膜材料，留下第一個薄 矛面上和弟二個薄臈結構在基材的第二個表面上； 其中該第-個薄臈結構包括第—個裝#設計，該第二 潯膜結構包括第二個裝飾設計， 的該_薄_適合於用作 0.種在基材上形成多個圖幸化镇膜έ士描· 括以下步驟： q案化謂結構的方法，包 利用基本上由黏著劑和10·6 粒所構成的可剥離材料在該基材的第一n刀政性顆 個m安》 刊曰7弟個表面上印刷第一 一二声、/可到離材料的第—個圖案定義了在該基材的第 -面上要形成的第一個薄膜結構的負像； 利用基本上由黏著劑* 1〇_6 個:：面該可剥離材料的第二個圖案定義了在該二 、上要形成的第二個薄膜結構的負像； _ 在該基材的圖荦4卜楚 _ ^ 沉積薄膜材料;以及-個表面和圖案化第二個表面上 ;從該基材剝離可剝離材料的第一個圖案和第二個圖案 由此除去可剝離材M ^ ^ 該第二個圖索… 的该第一個圖案、可剝離材料的 θ ^形成在可剝離材料的該第一個或 何賴材枓’留下第一個薄膜結構在基材的 43 1273965 ^ 表面和第—個薄膜結構在基材的第二個表面；以及 其中該第一個薄膜結構包括第一個裝飾設計，該第- 個薄膜結構包括筮-义 弟一 二 *匕枯弟一個裝飾設計，而該基材和在其上形成 U案化薄膜結構適合於用作模内裝飾（IMD )裝飾膜 圍第50項之在基材上形成多個圖 其中该剝離步驟包括使用溶劑以除 51·根據申請專利範 案化薄膜結構的方法， 去該可剝離材料。 案化巾請專利範圍第5G項之在基材上形成多個圖 以r丰、α構的方法’丨中該剝離步驟包括使用機械壓力 乂除去该可剝離材料。 ，構的方法，其中使用機械昼力包括刷塗。 54·根據申請專利範 案化薄膜姓構項之在基材上形成多個圖 =、:構的方法，其中使用機械壓力包括利用喷嘴。 •根據申請專利筋圖Μ 案化薄膜姓構0…項之在基材上形成多個圖 構的方法’其中該剝離步驟包括： 方也加黏著劑層， 強度，_ # 、： μ可剝離材料對該基材的黏合 的黏合強度、乂及 材枓和/或可剝離材料具有更高 通過剝離該黏著劑層 的任何薄臈材料。 μ去邊可剝離材料和形成在其上 56·根據申請專利範圍第 案化薄膜結構的方φ # 、之在基材上形成多個圖 的方法，其中該制離步驟包括： 44 Ϊ273965 :以及 區域中除 在該沉積步驟後，將黏著劑層施加於該基材 通過剝離該黏著劑層，在具有可剝離材料的 去該薄膜材料。 ^ / .mm ψ ^〜％签《丄形成多個圖 木化薄膜結構的方法，其中嗜μ m u ^ 八甲β 4膜材料的黏結強度和薄膜 材料和該基材之間的黏合強声县改& _丄 。强度疋強於下述三種強度的任何 一種：該可剝離材料的黏結強度 、 波沒忒溥膜材料和可剝離材 料之間的黏合強度、以及該可剝 J利雕材科和基材之間的黏合 強度。 58· -種在基材上以裝飾設計的形狀形成圖案化薄膜結 構的方法，包括以下步驟： 用可印刷的材料在該基材的頂部表面上印刷圖案，該 可印刷材料包括底塗層、黏著劑、黏結層、或附著促進材 料’而該圖案通過包括該裝飾設計的正像來定義了該薄膜 構要形成的區域，以致該可印刷的材料印刷在該薄膜結 構要形成的區域中； 在該基材的该圖案化頂部表面上沉積薄膜層，其中選 擇該薄膜、該可印刷材料、以及該基材，以便該薄膜比附 著於該基材更有力地附著於該可印刷材料；以及 利用並不從該可印刷材料剝離該薄膜的剝離方法，從 孩基材剝離直接形成在該基材上的薄膜部分，以致該薄膜 、、、口構仍然形成在該可印刷材料上，用來定義了該薄膜結構 以前要形成的區域； 其中該基材和在其上形成的該圖案化薄膜設計適合於 45 1273965 用作模内裝飾（iMD)裝飾膘。 59.根據申請專利範圍第58 薄膜結構的方法，其中 、之在基材上形成圖案介 6〇 ^ ^ 印刷材料包括油墨。 6〇.根據申請專利範圍第58 薄膜結構的方法，貞之在基材上形成圖案化 61 ip4, ，、亥可印刷材料是可輻射固化的 ^ .根據申請專利範圍第58項之、、 薄膜結構的方法，苴中 、 土 形成圖案化 62… 印刷材料是可熱固化的。 .根據申請專利範圍第 薄膜結構的方法，其中談 、之基材上形成圖案化 口〆剝離步驟肖每丨丨田、、〜 接形成在該基材上的部分薄膜材料。 洛背以除去直 二:=專:Γ第58項之在基材上…^ 去直接:成在二=剝離步驟包括利用機械…除 风在4基材上的部分薄膜材料。 64·根據申請專利範圍第63 薄膜結構的方半 i 、 土材上形成圖案化 法’其中使用機械壓力包括刷塗。 •根據申請專利範圍第63項之在其奸 薄膜結構的方法，…吏用機㈣力包括：用二成圖案化 薄項之在基材上形成圖案化 乃凌，其進一步包括： 材；=薄膜沉積步驟後’將第二個黏著劑層施加於該基 、t到離5亥第二個黏著劑層，在沒有印刷— 劑或附著促進材料的區域中除去該薄膜材料。^者 67·根據申請專利範圍帛66項之在基材上形成圖案化 46 i273965 •镇膜結構的 ’ 1 ^〜间的黏合強度當與 卞 述強度比較時是最弱的··該第二個 木似黏者劑層的黏結強度 該第一個黏著劑或附著促進材 ^ 運材枓的黏結強度、該薄膜的 黏結強度、該薄膜和該第二 、总辞键时 1U黏者劑層之間的黏合強度、 以及〜 >專膜和該第一個獻g十τ上 '者划或附著促進材料之間的黏合 強度。 拾壹、圖式：

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