TWI242087B - LCD device having a higher contrast ratio - Google Patents
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Description
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五、發明說明α) 一、【發明所屬之技術領域】 本發明係關於-種LCD (液晶顯示)裴置,尤關於一種 利用側向電場旋轉LC層之中的!^ (液晶)分子之平 換模式液晶顯示裝置。 二、【先前技術】 液晶顯示裝置包括將LC層包夾在之間的一對基板, 對基板則包括TFT (薄膜電晶體)基板與 板)。各基板之上包括有用以對準LC層之中的^分(子慮之? 始方向的對準膜。為了達成液晶顯示裝置中的較高對比 率,故必須藉由減小其上的段差與對對準膜之均勻的刮除 處理而獲得基板之均勻的表面,藉以一致地對準L(:分子之 方向。雖然有某些用以提高對比率的技術與減小段差並不 相同’但以下首先說明對比率的限制因素。 圖11為習知液晶顯示裝置之TFT基板的平面上視圖,及 圖12為沿著圖n之剖面線χι卜乂丨I所形成之剖面圖。在透明 基板1之上’設置有構成彼此延伸成互相平行的複數之掃描 線(閘線)2與複數之共用線3的鉻膜。掃描線2與共用線3 被閘絕緣膜5覆蓋,而在閘絕緣膜5之上連續地形成半導體 (矽)層6與複數之汲線7。汲線7則提供穿過其中的像素作丨 號0 。 構成沒線7之一部份的汲極電極8與源線9連接於半導體 層6。源極電極9構成共用線3之上方區域中的儲存電極1〇, 且延伸到像素的中央區域而構成下像素電極11。半導體層
1242087 五、發明說明(2) 6、汲極電極8、源極電極9與半導體層6之下方的一部份之 掃描線2構成當作液晶顯示裝置中的切換元件之”丁(薄膜 電晶體)。 ^ ' 保護膜1 2與層間介電膜13覆蓋含有閘絕緣膜5的切換元 件。使上像素電極1 4與共用電極1 5形成在層間介電膜1 3之 上而用以對LC層施加侧向電場。 延伸在相鄰之共用線3之間所包夾的區域中的汲線7之 上方的一部份之共用電極15構成屏罩共用電極16。屏罩共 用電極1 6阻擒從相鄰之共用線3之間的區域中的汲線7洩漏 出來而射向受電場作用的像素之有效像素區域之洩漏電 場°使上像素電極14、共用電極15與屏罩共用電極16形成 在共用層之中’而在共用層之中,則藉由插在之間而含有 保護膜12與層間介電膜13的絕緣膜而使掃描線2與汲線7相 ^ °將此共用層配置在靠近LC層之絕緣膜的上表面之上, 藉以構成各互連層之間的最上層,且其由如I T0 (銦錫氧化 物)之透明材料所構成。 上像素電極14經由在垂直方向上貫穿過絕緣膜的接觸 插塞17而電連於下像素電極11。另一方面,共用電極15與 屏罩共用電極16亦經由在垂直方向上貫穿過絕緣膜的接觸 插塞18而電連於下方之共用線3。 、將屏罩共用電極16配置成重疊於下方之汲線7,且具有 大於汲,7之寬度的寬度,藉以突出於汲線7之各側邊達突 出長度L」。突出長度「L」通常為4//m或更大,較佳 至8 // m的情況更可具有較小的串擾,藉由防止從汲線 地
1242087 五、發明說明(3) 7鴻漏出來之電場射向上像素電極“而有效 各像素之間的串擾。由於此串擾發生在排列於 ?7吉、 方向上的各像素之間,故將此串擾稱為垂直串捧。 對準膜(未圖示)覆蓋有效像素區域 ),即覆蓋層間介電膜13之上的上像素電極 15與屏罩共用電極16。在製成TFT基板1〇〇之前, ;^00 ^ ^ ^ ^ ^ ί, 基板30 0相對而兩者之間則插入1(:層2〇〇。 例如,JP-A-1 998-1 864 07說明用以阻擋從汲線出 來液晶顯示裝置之結構。其中所述之液晶顯 不裝置匕括一對在膜厚方向上將信號線(汲線)包夾在之 用電極(共用線),☆在實質未減小有效面積 例的It况下,可降低由於洩漏電場所引起之串擾。此對 共用線經由沿著信號線排列之接觸插塞而連接在一起,用 以進一步阻擋來自信號線之洩漏電場。有效面積比例代表 2放像素區域對總像素區域之比例,通過有效像素區域之 中的光線則用以顯示出影像。 在上述專利公報的結構中,經由沿著信號線排列之接 t f而連接在一起並保持在共用電位的共用線能有效地 阻擋來S信號線之洩漏電場。然而,與信號線之間具有更 21電容值的共用線將由於信號線之大電容性負載而造成 k號扭曲’特別是在大螢幕液晶顯示裝置之中,勢必產生 ^大之平面内亮度差的結果。所謂之「平面内亮度差」代 頂列之像素與最下列之像素之間的亮度差異,而其被施
I麵 第8頁 1242087 五、發明說明(4) 以相同之液晶顯示裝置之此 難以將此結•用於商用知的信號電•。因此’ 插塞亦減小像素的有效裝置之中。此外’各接觸 以下參見圖1 2及圖1 3,梭击 共用線之突出部所引起 =詳細說明前冑由所屏罩 有圖12之結構的習知 理=圖13顯示具 二傳從::於突出長度「L」之區域㈣ 閘絕緣膜5、保護^緣膜^的光線「B」從透明基板1起經由 (ΙΤ0電極)16、對準膜 ^間^電膜13、屏罩共用電極 耵+膜(未圖不)、LC層200、及對準膜 (^圖不)而朝向濾色基板3〇〇行進。另一方面,在屏 Γ !6與上像素電極14之間的區域(區域。)中,光線八 」徒透明基板1起經由閘絕緣膜5、保護絕緣膜〗2、層 ^電膜13、、對準膜(未圖示)、L(^2()()與對準膜(未圖示 今而,向濾色基板3 〇 〇行進。在此將相當於屏罩共用電極之 大出部或長度「L」的區域b稱為仿有效像素區域、將相當 於屏罩共用電極1 6與上像素電極〗4之間的間距之區域c稱為 有效像素區域、並將因上像素電極丨4而完全阻隔光線的區 域(區域A )稱為遮罩區域。 至於各區域之「黑色亮度」,由於光線在區域A之中實· 質完全被阻隔,故其具有零的黑色亮度,且由於ITO不足以 阻隔光線,故區域B與區域C之間的黑色亮度的差異實質為 零。 至於各區域之「白色亮度」,狀況則不同於黑色亮
1242087 五、發明說明(5) 度。必須注意的是:在在像素電極與共用電極之間施加電 場,藉以使LC層20 0之中具有折射率的Lc分子在平行於基板 的平面中產生非等向旋轉。因此’由於雙折射現象,故將 使通過TFT基板1 00之上的偏光板(未圖示)之光線在偏光 板的偏光方向上發生改變,進而通過濾色(CF )基板3〇〇之 上的偏光板。圖1 3定性且概略地顯示出作用在液晶顯示裝 置之中的LC層20 0之電場。 ^ ' 在區域C中,此電場之較大的水平分量使!^層2 〇〇中的 LC分子旋轉達一較大的量,藉以使大量的光線通過偏光板 而顯示出白色。另一方面,在區域B中,電場或電力線指向 傾斜方向’這將造成電場具有較小的水平分量,藉以使區 域B中的LC分子比區域C中的LC分子旋轉一較小的量。因 此,通過CF基板側之偏光板的光線量較小,且此區域中的 白色亮度較弱。在區域Α中,汲線7則實質完全阻隔光線, 藉以使此區域中的白色亮度為零。 於此,假設: 燭 區域A之中的黑色亮度、白色亮度及面積比例為a 光)、A (燭光)及X % ; 燭 區域B之中的黑色亮度、白色亮度及面積比例為b 光)、B (燭光)及Y % ;且 燭 區域C之中的黑色亮度、白色亮度及面積比例為c 光)、C (燭光)及Z%,其中χ + γ + Ζ = 100, 定義成平均白色亮度與平均黑色亮度之比例的整個液 晶顯示裝置之對比率CR可藉由以下公式表示:
第10頁 1242087 五、發明說明(6)
AX BY CZ CP^im + im + im ^^+sr+cz ^BY+cz 〇X ^ hr ^ cZ aX+hY + cZ hY+cZ ⑴ 155 硕 ϊ5ϊ 在此,必須注意的是:「a」與「A」實質為零。如上 所述,由於「B」實質等於「C」,故公式(1 )可簡化成: CR = BY + CZ c(Y + Z)
若假設有效區域(區域C )與仿有效區域(區域B )之 總合對包含這些區域及遮罩區域(區域A )的總區域之比例馨 ()為固定時,則可將對比率CR表示成:
W\-W2Y BY + CZ _BY + C(Wo-Y) cxWo 〇Ψΰ 其中%與%為常數。 詳言之’在圖1 3所示之結構中,當作區域b之較大區 域,亦即當作區域B之較大的面積比例r γ」將降低對比 率。圖14顯不突出長度「L」與串擾之間的關係及突出長度 「L」與對比率之量測值之間的關係。由圖式可清楚理解: 雖然較大的突出長度「L」將允許較大量的屏罩效應而減小 串擾,然而,較大的突出長度勢必降低對比率。 圖15顯不藉由移除區域B而使LCD具有較大之對比率的 結構。在此結構中,以鉻代替ιτο而構成圖12及圖13之中的 第11頁 1242087 五、發明說明(7) 屏罩共用電極1 1 6,藉以形成用以阻隔此區域中的光線 「B」之遮罩區域(區域a )。此結構允許將對比率提高到 南達857的理論值。 然而’由鉻所構成的屏罩共用電極丨丨6將具有以下問 題’即屏罩共用電極丨丨6將會從由有機物質所構成的層間介 電膜13剝離。這由於金屬與有機膜之間的邊界具有極差的 黏著性。此外,相較於IT〇之中的〇· 2至〇· 6GPa之應力,鉻 膜具有咼達1 GPa的較大應力,而在沉積鉻膜的高溫環境 中’將使得較大之應力變成更大。較大的應力將使得從有 機膜剝離的可能性提高。 車父尚的沉積溫度亦造成鉻膜表面的氧化,這將降低其 與非等向性導電膜(ACF )之電連的可靠度。為了提高電連 的可靠度,就必須在鉻膜之上形成IT〇膜,然而,這將增加 製造步驟。由於上述原因,藉由如鉻所構成的金屬屏罩共 用電極取代I Τ0屏罩共用電極並不實用。 由於與習知液晶顯示裝置有關的前述原因,故通常以 ^用屏罩電極16覆蓋汲線7且通常具有突出於汲線7之各側 j的頗大之突出部’方能減小汲線7與像素電極“之間的串 減 從〉及線的寬度方向觀察時,雖然減 小串擾,但這將造成突出部阻擋電場 小突出部的長度可 的功能極差。
三、【發明内容】
1242087 五、發明說明(8) 不會降低對比率的情況下而減小串擾的液晶顯示裝置,而 習知液晶顯示裝置僅能就減小串擾與提高對比率加以取 捨0 本^明係提供,在其較佳實施例中,一種液晶顯示 (LCD )裝置包括第一與第二基板及被該第一基板與該第二 基,包夹在之間的一液晶(LC )層,其中在該第一基板之 上安裝有:複數之閘線與複數之共用線,其延伸成彼此互 相平行;一第一絕緣膜,覆蓋該等閘線與該等共用線;複 數之沒線’延伸成正交於該等閘線與該等共用線,俾定義 出複數之像素;一第二絕緣膜,覆蓋該等汲線與該第一絕 緣膜’共用電極與一像素電極,兩者皆由一透明材料所 構成且在每一個像素中延伸成彼此互相平行,俾能對該LC 層200施加一平行於該第一基板的一電場,俾能旋轉平/行於 =第一基板之一平面中的!^層之LC分子,而從正交於該第、 一基板之方向觀察時,該共用電極係具有突出於該汲=之 :二的-突出冑;及一遮光膜,延伸在其中兩個共用線所 疋義之一區域中的該共用電極之下方,而從正交於該 基板之方向觀察時,該遮光膜係具有重疊於該丑用^ =突出部的至少一局部之一重疊部,且電連於^共用電 依據本發明之液晶顯示裝置,共用電極之突 效地減小汲線與各像素之間的串|,而具有局部重 出部之遮光膜則提高因共用電極之突出部而減小且、大 之對比
1242087 、發明說明(9) 妄么將參照附隨的圖示,以說明本發明。在圖示中,相 似的參考符號指示類似的元件。 四、【實施方式】 以下,參見附圖俾詳細說明本發明,其中各圖式中相 同的構成元件係以相同的標號表示。 一參見圖1與圖2,其顯示本發明之第一實施例的液晶顯 不裝置之像素。必須注意的是:雖然本實施例中的每一個 像2電極11或14與共用電極16、36、56或116皆延伸成彼此 平^且下列之各實施例在其中央位置皆具有些微的折彎, 但每一個電極亦可具有如直條型的其它形狀。圖1與圖2之 結構係經由下述而獲得。 、卜使鉻所構成且延伸成彼此互相平行的複數之掃描線2與 複數之共用線3形成在透明基板1之上。使連接於共用線3的 遮光線4形成在含有透明基板〗之上的掃描線2與共用線3之 共用層之中。沉積形成閘絕緣膜5而覆蓋掃描線2、共用線3 與遮光線4,並接著連續地形成用以提供像素信號的半導體 層6與汲線7。半導體層6係連接於形成為汲線7之一部份的 汲極電極8與源極電極9。 源極電極9係構成覆蓋共用線3之區域中的儲存電極 丨瞻 1 〇,且延伸到像素之中央區域而構成下像素電極丨丨。如圖工 所示,在一對共用線3所包夾之區域的水平方向上,汲線7 係被包夾在一對遮光線4之間。半導體層6、汲極電極8 '、源 極電極9、與位在半導體層6之下方的掃描線2係構成切換裝
1242087 五、發明說明(10) 置,或TFT。為了圖案化處理,故只要各遮光線4本身之線 寬具有1 · 0 // m的餘隙且配置在其兩側之汲線7與遮光線4之 間的偏差具有的餘隙,則定成1〇至2〇//m之汲 與各遮光線4之間的間距將足夠當作圖案化步驟期間的 距的總合。若汲線7與其中一個遮光線4之間具有重疊 時’則沒線7將具有較大的寄生電容。 ^接著,連續地沉積形成保護膜12與層間介電膜13而霜 蓋包括閘絕緣膜5的TFT,並接著在層間介電膜丨3之上形 亡像素電極14與共用電極15,俾能對LC層2〇〇施加側向% 場。 电 、共用電極1 5係延伸而覆蓋相鄰之共用線3之間所包 區域中的汲線7而構成屏罩共用電極16,其阻擋從共 ,間的區域中的汲線7洩漏出來而射向有效像素區域的電 %。在共用層之中形成上像素電極14、共用電極丨^及 共用電極16,此共用層係配置在靠近LC層2〇〇之絕緣屛 括保護膜12與層間介電膜13)的其中一個表面之上/ (包 相對之掃描線2與汲線7之間插入絕緣層。此共用層 f 層之間的最上層且由透明的導電材料所構成。上|素, 14係經由貫穿過垂直方向上的各絕緣膜之接觸插塞 ,於下像素電極11。共用電極15與屏罩共用電極16亦= 貝穿過垂直方向上的各絕緣膜之接觸插塞18由 的共用線3。 思按於下方 更詳言之,將屏罩共用電極16配置成重疊於下方 線7,且具有汲線7更大的寬度,俾從汲線7之侧邊突出<攻 而具 1242087 五、發明說明(11) 有突 '長度、「上」。、在習知液晶顯示裝置中,冑突出長度 L」,又疋成等於或大於4 _且較佳為^至8 ,俾能有效 地防止從汲線7洩漏出來之電塭 μ飧本中k 1 <电%射向,特別是,上像素電極 1 4 〇 當層間::電膜1 3之上形成上像素電極1 4、共用電極1 5 用電極16之後’即在有效像素區域之上形成對準 膜(未圖不)並施以刮除處理,藉以製成m基板1〇〇。將 TFT基板100與濾色基板3 〇〇配置成彼此相對且兩者之間包夾 LC層200 。 參見圖3 ’其顯示通過圖2之結構中的“層2 〇〇之光線, 其中藉由在習知液晶顯示裝置的結構之中額外地設置遮光 線4 ’俾能在區域c的面積比例保持不變的情況下,從習知 結構之中減小區域B的面積比例且增加區域a的面積比例。 由圖16之表格可清楚理解:這允許LC層2〇〇的對比率從639 提高到71 0,亦即提高達71。 以下參見圖1 6、圖1 7A及圖1 7B,俾說明對比率可以提 南的理由。圖1 6顯示量測且計算自習知液晶顯示裝置之樣 本(第一與第二列)與圖1所示之第一實施例(第三與第四 ,)之黑色亮度(BB )、白色亮度(WB )與對比率(CR ) 等參數。圖1 6之表格亦將圖1 5所示之變化例(第五列)與 圖5所示之變化例(最下列),兩者皆從變化圖1而來,的 參數列入表格之中。圖丨7A顯示基於習知液晶顯示裝置與圖 1之實施例的量測值所選擇之參數,及圖〗7β顯示定義出具 有圖17A之參數的區域之剖面示意圖。下列為所獲得之表 1242087
五、發明說明(12) 格。 首先,假設區域B之黑色亮度等於區域c之黑色党度。 如圖1 6之第二列所示,具有6 2 %之面積比例(區域A ) 、1 6 % (區域B )與22 % (區域C )的習知產品係具有丨· 34燭光 的黑色亮度、85 9燭光的白色亮度,故具有實際量測值為 6 41之對比率。如圖1 6之第四列所示,具有7 0 %之面積比例 (區域A ) 、8 % (區域B )與22 % (區域C )的圖1之液晶顯 示裝置係具有1.08燭光的黑色亮度、764燭光的白色亮度’ 故具有實際量測值為7 21之對比率。 基於液晶顯示裝置之黑色亮度的量測值,習知液晶顯瞻 示裝置之結構中的各區域之黑色亮度由下列所決定: 區域A :零燭光 區域B 與區域C : 1· 34/ ( 16 % + 22 % ) =3· 5 (燭光) 這些黑色亮度值係列在圖1 7之表格中。 藉由圖17所示之區域A、區域B與區域C的各黑色亮度值 與各白色亮度值表示習知液晶顯示裝置與本實施例之液晶 顯示裝置的白色亮度。更具體而言,利用以下方程式從習 知液晶顯示裝置與本實施例之液晶顯示裝置測得之白色亮 度計算出圖17所示之區域B之白色亮度(M)與區域c之白色 亮度(N ): 853 = Μχ 0·16 + Νχ 0.22,及 764 = Μχ 0·08 + Νχ 〇·22 〇 將分別為1 2 0 0燭光與3 0 0 0燭光的圖1 7Β之結構中的區域 Β與區域C之白色売度的Μ與Ν值代入上述方程式。將這些值μ 與Ν與所計算出的對比率皆列入圖1 7 Α之表袼中。
第17頁 1242087 五、發明說明(13) 基於所列之值,計算出習知液晶顯示裝置與圖1之實施 例的黑色亮度、白色亮度與對比率並當作計算值而分別列 在頂列與第三列中。計算值係實質與量測值一致,此事實 係確保:圖1 7 A之表格所列之值可正確地代表圖1 7 B所示之 結構。 就具有78 %的面積比例(區域A ) 、0%(區域8)與22 % (區域C )之圖1 5的液晶顯示裝置與具有67 %的面積比例 (區域A ) 、8 % (區域B )與25 % (區域C )之圖5的液晶顯 示裝置而言,計算出其黑色亮度、白色亮度與對比率並列 在第五列與最下列中。 以下藉由上述實際例子’而就對比率比較本實施例之 液晶顯示裝置與習知液晶顯示裝置。習知液晶顯示裝置之 區域Α (遮罩區域)、區域B (仿有效像素區域)與區域C (有效像素區域)分別具有62 %、1 6 %與22 %的面積比 例。將圖1 7A所示之參數代入對比率(CR )之公式而得到習 知液晶顯示裝置之641的對比率。 在圖1之第一實施例中,將本發明應用於習知液晶顯示 裝置而配置遮光線4並藉以將區域B減小為一半,其中,如 圖1 6之表格所示,區域B之面積比例係從1 6 %減小到8 %, 及區域A之面積比例從6 2 %增加到7 0 %。於此情況下’將计 算出7 2 1的對比率。量測值顯示出:相較於習知液晶顯示裝 置之6 3 9的測得之對比率,對比率係變大到7 1 0。故本實施 例係藉由設置遮光線4的事實而獲得對比率之增加。 由上述說明可清楚理解:對比率係由各區域之間的面
第18頁 1242087 五、發明說明(14) 積比例所決定,亦即區域A、區域B與區域C,其中較小之區 域B的面積比例通常可達成較高之對比率。 若將本發明應用於習知液晶顯示裝置,而選擇區域B之 面積比例為零百分比時,亦即以區域A取代區域B,如圖1 5 所示之結構,則對比率將增加到最大值。這相當於藉由鉻 代替IT0形成遮光膜所構成的屏罩共用電極之結構。圖1 6之 表格的第五列顯示此種情況,其中對比率高達8 5 7。然而, 如上所述,由於製造處理的困難,故此種結構並無法據以 實施。 藉由遮住整個區域B的遮光線4將獲得面積比例為零百 | 分比之區域B。這允許總對比率假設高達8 5 7。然而,此種 結構將造成白色亮度降低而使液晶顯示裝置的螢幕變暗。 可將此種結構應用於首重較高之對比率的單色液晶顯示裝 置中。 本發明係基於以下之原理:相較於習知液晶顯示裝 置,在實質未涉及降低白色亮度的情況下,藉由最佳化區 域A、區域B與區域C之間的面積比例而提高對比率。更具體 而言,在實質不降低白色亮度的情況下,利用圖17A之表格 中的黑色亮度、白色亮度與對比率等參數計算最佳之面積 比例。例如’如圖1 6之表格的最後一列所示,圖5之結構係一 將對比率從習知結構之641提高到73 2,而白色亮度僅降低 1· 5 %,其中從8 59濁光/cm2降低到846燭光/cm2。 上述實施例所採用之遮光線4係阻擋從汲線7洩漏出來 而射向有效像素區域的電場,故相較於習知液晶顯示裝
第19頁 1242087 ---—.........- 五、發明說明(15) :::以減小串擾。如圖4所示,相較曰 的垂直串擾在許由汲線所浅漏出來之電場引起 較小的程度二大亍乾 二ί圖目5對於特定像素之周圍的背景灰階標度。传之 >見圖5,相鄰之共用線3之間所包夾之 的;=夾 +,运罢U 擴大有效像素區域,亦即區域C。在1Κ 線27、、电漏出、炎電極3曰6將因而具有較小長度之用以阻擋從汲 ' /之電%的突出部,藉以使遮光線2 4具有相對 於此較小之突出長度的寬度。 八有相對 在本發,中’遮光線所提高之没線的寄生電容僅為5 / ’例如,廷幾乎不會使像素的寫入品質降低。對本實施 歹1進行寫入品質的估計顯示:相較於習知液晶顯示裝置之 夂〇 %,本實施例具有2· 8%的寫入比例差異。所謂之「寫 入比例差異」代表,在相同之信號電壓施加於液晶顯示裝 f之端子時,螢幕之頂列像素與螢幕之最下列像素之間的 仏5虎電壓差異。施加於各像素之信號電壓的差異係相當於 各像素之免度的差異。相較於習知液晶顯示裝置之2. 〇 %,, =實施例之2 · 8 %的寫入比例差異實質不會造成影像品質變 此原因在於:將水平方向上之汲線包夾在之間且連接 於共用線的遮光線並不會嚴重影響汲線與其它互連線之間 m 第20頁 1242087
五、發明說明(16) 的總寄生電容。這可藉由實驗加以說明。圖1 8 A係表列習知 結構之對照結構與本發明之遮光線將汲線包夾在之間的結 構等情況之汲線與其它互連線之間的每一個像素之寄生電 容。圖1 8B顯示此對照結構,而圖1 8C顯示本發明之結構。 在圖1 8B之習知結構中,如圖1 8 A之最上列所示,汲線7 與屏罩共用電極1 6之間的寄生電容,例如,為每一個像素 2 3· IfF。在圖18C所示之本發明之結構中,雖然加上汲線? 與遮光線4之間的寄生電容而提高汲線7的寄生電容達2 χ 4 72 = 9· 44fF,但由於屏罩共用電極16與遮光線4保持在等電,
位,故本實施例之汲線7與屏罩共用電極丨6之間的寄生電容 將減小到1 7· 8 fF,故可將汲線7與屏罩共用電極丨6之間的寄 生電容一分為三。此外,汲線7與如線丨丨及線丨4等其它線之 間的寄生電谷亦由於被j:及線7包夾在之間的遮光線&之存在 而降低。然而’汲線7之寄生電容的增加可維持在適度的 值。 圖6所示之結構可視為第一實施例之另一變化例,其中 沒線27為直條狀。此種結構可用於具有25〇至3〇〇 之較大
的像素區域的情況,並可選擇有效像素區域對總顯示區域 ,較大值而可提供有效面積比例更大之邊界。必須注意的 是:由於信號線與接觸插塞的面積比例皆極小,故較大的 像素區域係允許採用較大的有效面積比例。在圖6所示之變 化例中,其中具有折彎區域的遮光線24將直條狀的汲線27 包夾在之間。 在像素尺寸為2 0 0 // m或更小的情況中,可採用如第一
第21頁 1242087 五、發明說明(17) = 部具有適度之折變區域的I線之結構,俾 中效面積比例而獲得較大之亮度。於此情況 :供:ί:ί 之折彎區域一致的折彎區域之沒線係 之ϊ:i:效面積比例。吾人應理解:由於基於其最小 2 決定屏罩共用電極之突出部的結構,故直條 ^,線將產生屏罩共用電極之較大的突出長度,藉以減 小有效面積比例。 參見圖7及圖8,其顯示本發明之第二實施例的液晶顯 不裝置之像素。 在本實施例之液晶顯示裝置中,遮光線4係突出於覆蓋 之屏罩共用電極56的各側邊。在本實施例中,由於遮光線4 2供給區域Α較大的區域,故可提高對比率。在此結構中, 突出於屏罩共用電極56之遮光線4係阻擋從汲線7浪漏出來 之洩漏電場,藉以允許屏罩共用電極56具有較小的寬度。 因此,相較於I知液晶顯示裝置,本實施例不僅提高有效 面積比例、更可達成較高之對比率與較小之串擾的優點。 一參見圖9與圖10,其顯示本發明之第三實施例的液晶顯 示裝置之像素。 … 在本實施例中,在遮光線44與汲線7之間不具間距的情 況下’單一遮光線44係阻擋光線與從汲線7洩漏出來之電月 場。此種結構將使汲線7與遮光線44之間產生更大的寄生^ 容,這雖然會使寫入品質變差,然而,可達成較高之°對比電 率。可依設计需要而選用第一實施例或第三實施,即 基於所需之液晶顯示裝置的特性而加以選擇。
1242087 五、發明說明(18) 在第三實施例中’可基於圖1 7之表格中所列的各區域 之黑色亮度、白色亮度與對比率而在實質未減小白色亮度 的情況下,採用最佳之面積比例而提高對比率。例如,圖 1 6之最下列的結構可在白色亮度僅減小丨· 5 %的情況下(從 8 5 9燭光/ cm2降低到8 4 6濁光/ c m2 )將習知結構之6 4 1的對比 率提高到732。 在上述各實施例所用之遮光線結構中,係將遮光線配 置在比沒線更遠離LC層2 0 0處。然而,亦可將遮光線配置 比汲線更靠近LC層20 0處。
/上所述,針對屏罩共用電極之下方的汲線所設置备 遮〇線係可在實質未降低白色亮度且免於使液晶顯示裴】 之寫入品質變差的情況下提高對比率且減小串擾。 雖然藉由上述各實施例說明本發明,但熟悉本項技袭 人士應β邊瞭解··只要在不脫離本發明之精神的 :孫:ί由任一變化型式據以實施本發明。故本發明之畫 圍係包括上述各實施例及其變化型態。 之車|
第23頁 1242087 圖式簡單說明 五、【圖式簡單說明】 圖1為本發明之第一實施例的液晶顯示裝置的平面上視 圖。 圖2為沿著圖1之剖面線I I -1 I所形成之剖面圖。 圖3顯示入射在圖2之結構上的光線。 圖4圖示本發明與習知技術之液晶顯示裝置的串擾與背 景之灰階標度之間的關係。 圖5為第一實施例之液晶顯示裝置的變化型式之液晶顯 示裝置的剖面圖。 圖6為第一實施例之液晶顯示裝置的另一變化型式之液 晶顯示裝置的平面上視圖。 圖7為本發明之第二實施例的液晶顯示裝置之平面上視 圖。 圖8為沿著圖7之剖面線V 111 -VI 11所形成之剖面圖。 圖9為本發明之第三實施例的液晶顯示裝置之平面上視 圖。 圖1 0為沿著圖9之剖面線X-X所形成之剖面圖。 圖11為習知液晶顯示裝置的平面上視圖。 圖1 2為沿著圖11之剖面線X I I -X 11所形成之剖面圖。 圖1 3顯示圖1 2之結構中的電場。 圖1 4顯示習知液晶顯示裝置之對比率與突出長度及串 擾與突出長度之間的關係圖。 圖1 5為圖1 2之變化型式的液晶顯示裝置之剖面圖。 圖1 6為列出本實施例之液晶顯示裝置與習知液晶顯示
第24頁 1242087 圖式簡單說明 ^ _____〜 裝置中的各參數之估計值與計算值的表格。 圖1 7 A為列出個別區域之參數值而用以計$ 數的表格,及圖17B為定義出圖17A之各區域的匈^ 16之參 圖1 8 A為列出藉由在T F T基板設置遮光線後、估計所提 高之汲線的寄生電容的表格,及圖1 8B與圖1 8C為用以達到 所增加之電容值的結構之剖面圖。 元件符號說明:
1 透明基板 10 儲存電極 11、11A、11B、14、14A、14B 像素電極 12 保護膜 13 層間介電膜 15、16、36、56、116 共用電極 1 7、1 8 接觸插塞 100 TFT基板 2 掃描線(閘線) 24、4、4A、4B、44 遮光線
2 7、7 汲線 200 LC 層 3 共用線 30 0 濾色基板 5 閘絕緣膜 6 半導體層
第25頁 1242087 圖式簡單說明 8 汲極電極 9源線(源極電極) L 突出長度 第26頁
Claims (1)
1242087 六、申請專利範圍 ----- 1二種液晶顯# (咖)裝置,包含第—與第二基板及被包 乂 6亥第一基板與該第二基板之間的一液晶(lc)層,其 中在該第一基板之上安裝有·· 複數之閘線與複數之共用線,其延伸成彼此 行; 該等閘線與該等共用線; 正交於該等閘線與該等共用線, 一第一絕緣膜,覆蓋 複數之沒線’延伸成 俾定義出複數之像素; 一第二絕緣膜’覆蓋該等汲線與該第-絕緣膜; 一共用電極與〜德去雷托 士 —
_ 象素電極’在母一個像素中延伸成描 此互相平仃,俾能對兮Τ Γ爲念 T 層^加一平行於該第一基板的- 電場,該共用電極係由一 & _ # 咕 ^ L _ , 田达明材枓所構成,而從正交於言! 第一基板之方向觀察時,該丘用雪托於曰》V 上 知 _ ^ 為/、用電極係具有突出於該汲麵 之兩邊的一突出部;及 遮光膜,沿著由該等共用線的其中兩條所定義之至 少一區域中的該共用電極而延伸,且從正交於該第一基板 之方向觀察時,該遮光膜具有重疊於該共用電極之該突出 部的至少一局部之一重疊部,且電連於該共用電極。 2·如申請專利範圍第1項之液晶 對之該遮光膜之間包夾該汲線 之側邊。 顯示(LCD )裝置,其中一 ’且不會突出於該共用電極
3 ·如申明專利範圍第1項之液晶顯示(l c d )裝置,其中一
1242087 六、申請專利範圍 對之該遮光膜之間係包夾該汲線,且突出於該共用電極之 側邊。 4. 如申請專利範圍第1項之液晶顯示(LCD )裝置,其中從 正交於該第一基板之方向觀察時,該遮光膜係突出於該汲 線之側邊,且不會突出於該共用電極之側邊。 5. 如申請專利範圍第1項之液晶顯示(LCD )裝置,其中將 該遮光膜配置在比該汲線更遠離該L C層處。 6. 如申請專利範圍第1項之液晶顯示(LCD )裝置,其中使 該共用電極形成在含有該像素電極之一對應部的一共用層 之中,且將該共用層配置在比該遮光膜與該汲線更靠近該 LC層處。 7 ·如申請專利範圍第6項之液晶顯示(LCD )裝置,其中該 像素電極係具有形成在含有該汲線的另一共用層之中的另 一局部,且將該另一共用層配置在比該遮光膜更靠近該LC 層處。
第28頁
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KR101030545B1 (ko) * | 2004-03-30 | 2011-04-21 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시소자 |
KR20060001662A (ko) * | 2004-06-30 | 2006-01-06 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 수평전계방식 액정표시소자 및 그 제조방법 |
JP2006100763A (ja) * | 2004-09-06 | 2006-04-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | 固体撮像装置の製造方法及び接合装置 |
KR101071257B1 (ko) * | 2004-09-17 | 2011-10-10 | 삼성전자주식회사 | 다중 도메인 박막 트랜지스터 표시판 및 이를 포함하는액정 표시 장치 |
CN100353228C (zh) * | 2004-11-26 | 2007-12-05 | 友达光电股份有限公司 | 多域垂直配向液晶显示面板 |
KR101109978B1 (ko) * | 2004-12-13 | 2012-02-29 | 엘지디스플레이 주식회사 | 고개구율 액정표시소자 |
GB2421833B (en) * | 2004-12-31 | 2007-04-04 | Lg Philips Lcd Co Ltd | Liquid crystal display device and method for fabricating the same |
JP4690057B2 (ja) * | 2005-01-17 | 2011-06-01 | Nec液晶テクノロジー株式会社 | 横電界型液晶表示装置 |
TWI569441B (zh) | 2005-01-28 | 2017-02-01 | 半導體能源研究所股份有限公司 | 半導體裝置,電子裝置,和半導體裝置的製造方法 |
TWI472037B (zh) * | 2005-01-28 | 2015-02-01 | Semiconductor Energy Lab | 半導體裝置,電子裝置,和半導體裝置的製造方法 |
KR101157386B1 (ko) * | 2005-02-02 | 2012-06-20 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시장치 및 그 제조방법 |
US8218120B2 (en) | 2005-03-31 | 2012-07-10 | Lg Display Co., Ltd. | Array substrate for in-plane switching liquid crystal display device and method of fabricating the same |
KR20060104708A (ko) * | 2005-03-31 | 2006-10-09 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 횡전계 방식 액정표시장치용 어레이 기판과 그 제조방법 |
KR20060105188A (ko) * | 2005-04-01 | 2006-10-11 | 삼성전자주식회사 | 표시 패널 및 이를 구비한 표시 장치 |
JP4385993B2 (ja) * | 2005-05-10 | 2009-12-16 | 三菱電機株式会社 | 液晶表示装置及びその製造方法 |
KR101137866B1 (ko) * | 2005-06-30 | 2012-04-23 | 엘지디스플레이 주식회사 | 횡전계방식 액정표시소자 |
CN100454114C (zh) * | 2005-08-23 | 2009-01-21 | 群康科技(深圳)有限公司 | 平面内横向电场切换型液晶显示器 |
TWI266105B (en) * | 2005-08-26 | 2006-11-11 | Innolux Display Corp | Liquid crystal display |
KR101224047B1 (ko) * | 2005-12-30 | 2013-01-18 | 엘지디스플레이 주식회사 | 횡전계방식 액정표시장치 |
CN101968588B (zh) * | 2006-03-30 | 2013-04-17 | 夏普株式会社 | 显示装置及滤色器基板 |
US8106865B2 (en) * | 2006-06-02 | 2012-01-31 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Display device and driving method thereof |
CN100529852C (zh) * | 2006-06-09 | 2009-08-19 | 群康科技(深圳)有限公司 | 液晶显示面板 |
KR101331898B1 (ko) * | 2006-06-14 | 2013-11-22 | 엘지디스플레이 주식회사 | 수평전계방식 액정표시장치 |
KR101274958B1 (ko) * | 2006-06-21 | 2013-06-13 | 엘지디스플레이 주식회사 | 수평전계방식 액정표시장치 |
KR101311337B1 (ko) * | 2006-10-20 | 2013-09-25 | 엘지디스플레이 주식회사 | 횡전계 방식 액정표시장치용 어레이기판과 그 제조방법 |
CN100442132C (zh) * | 2006-11-17 | 2008-12-10 | 北京京东方光电科技有限公司 | 一种tft lcd阵列基板结构及其制造方法 |
KR101307961B1 (ko) * | 2006-11-29 | 2013-09-26 | 엘지디스플레이 주식회사 | 횡전계형 액정표시장치용 어레이 기판 |
KR20090049659A (ko) * | 2007-11-14 | 2009-05-19 | 삼성전자주식회사 | 표시 기판 및 이를 구비한 표시 패널 |
JP5456980B2 (ja) * | 2008-02-15 | 2014-04-02 | 三菱電機株式会社 | 液晶表示装置、及びその製造方法 |
KR101529957B1 (ko) * | 2008-02-18 | 2015-06-18 | 삼성디스플레이 주식회사 | 액정 표시 장치 |
CN101666947B (zh) * | 2008-09-03 | 2011-04-13 | 北京京东方光电科技有限公司 | 像素单元结构 |
KR101308250B1 (ko) * | 2008-12-03 | 2013-09-13 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시장치 및 그 제조 방법 |
CN101819363B (zh) | 2009-02-27 | 2011-12-28 | 北京京东方光电科技有限公司 | Tft-lcd阵列基板及其制造方法 |
KR101275069B1 (ko) * | 2009-03-02 | 2013-06-14 | 엘지디스플레이 주식회사 | 프린지 필드 스위칭 모드 액정표시장치용 어레이 기판 |
JP5372900B2 (ja) * | 2010-12-15 | 2013-12-18 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 液晶表示装置 |
KR101635668B1 (ko) * | 2011-04-08 | 2016-07-01 | 가부시키가이샤 재팬 디스프레이 | 액정 표시 장치 |
JP2013097190A (ja) * | 2011-11-01 | 2013-05-20 | Japan Display Central Co Ltd | 液晶表示装置 |
CN102495504A (zh) * | 2011-12-19 | 2012-06-13 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 平面显示面板及其形成方法 |
EP2821845B1 (en) * | 2012-02-27 | 2020-04-01 | Kyocera Corporation | Liquid crystal display device |
CN103345095A (zh) * | 2013-07-11 | 2013-10-09 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种tft-lcd阵列基板及显示装置 |
KR102053439B1 (ko) * | 2013-08-20 | 2019-12-06 | 엘지디스플레이 주식회사 | 횡전계형 액정표시장치 어레이 기판 |
JP6332734B2 (ja) * | 2014-02-19 | 2018-05-30 | Tianma Japan株式会社 | 液晶表示装置 |
JP6415856B2 (ja) | 2014-05-30 | 2018-10-31 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 液晶表示装置 |
CN105204241B (zh) | 2014-06-20 | 2021-05-07 | 三星显示有限公司 | 液晶显示器 |
JP2016012089A (ja) * | 2014-06-30 | 2016-01-21 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 液晶表示装置 |
JP6369801B2 (ja) * | 2014-07-24 | 2018-08-08 | Tianma Japan株式会社 | 液晶表示装置 |
US9910530B2 (en) * | 2015-02-27 | 2018-03-06 | Panasonic Liquid Crystal Display Co., Ltd. | Display panel with touch detection function |
CN104701302A (zh) * | 2015-03-18 | 2015-06-10 | 合肥京东方光电科技有限公司 | 阵列基板及其制作方法以及显示装置 |
KR102337549B1 (ko) | 2015-05-27 | 2021-12-09 | 삼성디스플레이 주식회사 | 어레이 기판 및 이를 포함하는 액정 표시 장치 |
CN105629605B (zh) * | 2016-01-06 | 2019-01-22 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 阵列基板、液晶显示面板及液晶显示装置 |
CN107144999B (zh) * | 2017-06-30 | 2019-12-17 | 武汉华星光电技术有限公司 | 内嵌式触摸屏 |
CN107561807B (zh) * | 2017-10-16 | 2020-07-28 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 阵列基板和液晶显示装置 |
JP6587668B2 (ja) * | 2017-11-08 | 2019-10-09 | シャープ株式会社 | 表示装置 |
JP6522182B1 (ja) * | 2018-02-21 | 2019-05-29 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置 |
CN115903319A (zh) * | 2021-08-31 | 2023-04-04 | 瀚宇彩晶股份有限公司 | 显示面板 |
CN113917751B (zh) * | 2021-10-25 | 2023-05-02 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 阵列基板及液晶显示面板 |
CN116300222A (zh) * | 2023-03-21 | 2023-06-23 | 福州京东方光电科技有限公司 | 一种显示面板及电子设备 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3597305B2 (ja) * | 1996-03-05 | 2004-12-08 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 液晶表示装置およびその作製方法 |
JP3087841B2 (ja) | 1996-10-29 | 2000-09-11 | 日本電気株式会社 | 広視野角液晶表示装置 |
US6133977A (en) * | 1997-10-21 | 2000-10-17 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Liquid crystal displays having common electrode overlap with one or more data lines |
KR100483405B1 (ko) | 1998-05-15 | 2005-07-07 | 삼성전자주식회사 | 평면 구동 방식의 액정 표시 장치 |
US6486933B1 (en) * | 1998-03-12 | 2002-11-26 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Liquid crystal display with preventing vertical cross-talk having overlapping data lines |
KR100695299B1 (ko) * | 2000-05-12 | 2007-03-14 | 삼성전자주식회사 | 액정 표시 장치용 박막 트랜지스터 기판 및 그의 제조 방법 |
JP4472116B2 (ja) * | 2000-05-19 | 2010-06-02 | Nec液晶テクノロジー株式会社 | アクティブマトリクス型液晶表示装置 |
KR100736114B1 (ko) * | 2000-05-23 | 2007-07-06 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 횡전계 방식의 액정표시장치 및 그 제조방법 |
JP2002131767A (ja) * | 2000-10-27 | 2002-05-09 | Hitachi Ltd | 液晶表示装置 |
US6784965B2 (en) * | 2000-11-14 | 2004-08-31 | Lg.Philips Lcd Co., Ltd. | In-plane switching mode liquid crystal display device and manufacturing method thereof |
TW469496B (en) * | 2001-01-19 | 2001-12-21 | Hannstar Display Corp | Electrode arrangement structure of In-Plane switching mode LCD |
JP2002323706A (ja) * | 2001-02-23 | 2002-11-08 | Nec Corp | 横電界方式のアクティブマトリクス型液晶表示装置及びその製造方法 |
JP4718712B2 (ja) | 2001-04-17 | 2011-07-06 | Nec液晶テクノロジー株式会社 | アクティブマトリクス型液晶表示装置 |
JP3847590B2 (ja) * | 2001-08-30 | 2006-11-22 | 株式会社日立製作所 | 液晶表示装置 |
KR100876403B1 (ko) * | 2002-08-27 | 2008-12-31 | 엘지디스플레이 주식회사 | 횡전계방식 액정 표시 장치 및 그 제조방법 |
JP3880568B2 (ja) * | 2002-10-25 | 2007-02-14 | 鹿児島日本電気株式会社 | 液晶表示装置の製造方法 |
US6822716B2 (en) * | 2002-12-10 | 2004-11-23 | Hannstar Display Corp. | In-plane switching liquid crystal display with an alignment free structure and method of using back exposure to form the same |
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