TWI239863B - Reverse osmosis system with controlled recirculation - Google Patents

Reverse osmosis system with controlled recirculation Download PDF

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TWI239863B
TWI239863B TW091102447A TW91102447A TWI239863B TW I239863 B TWI239863 B TW I239863B TW 091102447 A TW091102447 A TW 091102447A TW 91102447 A TW91102447 A TW 91102447A TW I239863 B TWI239863 B TW I239863B
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Buddy Don Gray
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Buddy Don Gray
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    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10BDESTRUCTIVE DISTILLATION OF CARBONACEOUS MATERIALS FOR PRODUCTION OF GAS, COKE, TAR, OR SIMILAR MATERIALS
    • C10B25/00Doors or closures for coke ovens
    • C10B25/02Doors; Door frames
    • C10B25/08Closing and opening the doors
    • C10B25/14Devices for lifting doors

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Description

A7 B7 1239863 五、發明説明(
發明背景 發明範jgL 本發明一般關於水處理系統,更特別地關於具有總濃縮 液再循環之逆滲透系統,其中濃縮液週期性地自系統中淨 化’且隨著當前供給至系統中生水品質之不同,系統可在 淨化循環間,自動調整週期。 相關技藝隸i 用於水處理之逆滲透(R0)應用,已人所皆知且考証於各 種教科書中。不需任何濃縮液(廢水)再循環之標準式R0, 可以提供高品質水,但一般在其電力使用,給水及薄膜壽 限上則顯效益不足。再循環R〇系統在其供水使用中更具效 益’但是一般而言仍有其問題。此種再循環式系統,需要 進一步說明。 在再循環式之R0系統中,包含在開敞循環中之間歇式流 動(圖1 ),在封閉循環中之間歇式流動(圖2);在封閉循環中 之半連續式流動(圖3);以及連績式流動型式(圖4)。 圖1中所示之開環式間歇流動操作,包含初期盛滿生水之 給水槽44。強力給水泵13,將給水壓送至R〇元件Η中之r〇 入口 14。被強力給水泵13泵壓之部分(1〇至15%)容積,滲透 薄膜16 ’其餘者(濃縮液)經由濃縮液出口 17排出。控制閥 4 3 $又乂通過薄膜之壓力’將濃縮水送回給水槽4 *,同時與 已在槽44内之水混合。此一循環持續至給水槽料中之水内 污染物’增多至系統不再具效盈時方止,此時系統關閉, 給水槽4 4放水且重新灌注初次生水。 -4- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐)
裝 訂
線 1239863 A7 ^____ B7 五、發明説明(2 ) 圖2所7F之閉環式間歇流動操作,起始於原已充滿初次生 水之給水槽44。強力給水泵13將給水壓送至再循環泵21入 口’其接著將水送至R0元件1 5上之R〇入口 1 4。被再循環聚 21泵壓之部分(1〇至15%)容積滲透薄膜16,其餘者(濃縮液) 經由濃縮液出口 17排出。再循環泵2丨將濃縮液與由強力給 水泵1 3泵壓之給水混合,同時輸送部分之混合水經由控制1 閥43回至給水槽44 ,該控制閥43設定通過薄膜之壓力,讓 剩餘者流至RO入口 1 4。此一循環持續至給水槽44中之水内 污染物’增多至系統不再具效益時方止,此時系統關閉, 給水槽放水且重新灌注初次生水。 圖3概不之閉環式半連續流動操作,類似地起始於充滿初 次生水之給水槽44。強力給水泵1 3泵壓給水至再循環泵2 1 入口’其接著將水送至RO元件15上之R〇入口 14。被再循環 泵21泵壓之部分(1〇至15%)容積通過薄膜16,其餘者(濃縮 液)經由濃縮液出口 1 7排出。再循環泵2 1接收部分之濃縮液 ’同時將濃縮液與被強力給水泵1 3泵壓之給水混合。剩餘 之濃縮液部分,經由一設定通過薄膜之壓力的控制閥而回 送至給水槽,其自生水入口丨丨處獲得相同於滲透水之等量 淨水。此一循環持續至給水槽44中之水内污染物,增多至 系統不再具效益時方止,此時系統關閉,給水槽44放水且 重新灌注初次生水。 圖4概示之連續流動式操作,起始於自生水入口丨丨供應至 一強力給水泵1 3之初次生水。強力給水泵丨3將給水壓送至 再循環泵21入口,接著將水送至RO元件15上之RO入口 14 -5- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(21〇x 297公釐) ' " 1239863 A7
。被再循環泵㈣壓之部分(1G至15%)容積渗 餘㈣縮液)經由濃縮液出口17排出。再循環心濃: '夜Μ被強力給水泵13泵送至給水混合,持續將部分之〜 水經由設定通過薄膜之壓力的控制閥43送至排出口,:二 餘者流至R0入口 14。&-循環持續至再循環環路中之= 物水平到達-高水平,目而錄可轉料膜之水量時方 止0 已經經歷無數嘗試改進這些型式之反〇系統效率。其包含 總結於後之下面專利。 口 美國第3,959,146號專利(頒予Bray氏),雖非實際上之再 循環R0系統,嘗試藉由用給水沖洗薄膜以增長薄膜壽命及 整個系統效率。雖然此可或多或少增加效率,但是沖洗作 用會直接與新生水自行槽中之回流扯平,同時無法約束系 統或給水品質之目前狀況。 美國弟4,498,982號專利(頒予skinner氏)(其為圖4中說明 之連績流動式系統)在正常操作過程中,經由系統再循環部 分之;辰縮液。然而’ S k i η n e r氏之系統,經修改而使得當無 水被回收時’淨化水經由系統而再次循環。雖然此可協助 防止未淨化水及其污染物接近薄膜,但過多之電力需求將 快速地超越其效益。 美國第4,626,346號專利(頒予Hall氏)(其為圖1中說明之 開環式間歇流動型,5,282,972號專利(頒予Hanna等人)以及 5,52〇,816號專利(頒予〖1^?061:)(其為圖3中說明之閉環式 半連續流動型),自R0系統中再循環濃縮液(廢棄液)流而回 -6 - 本紙浪尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐) 1239863 A7 B7 五、發明説明(4 ) 流至限里芝間4給水槽,或是直接流回至給水管線,其可 用以給水至R0系統,或是諸如馬桶、洗碗以及沐浴用之不 適於飲用之應用中。雖然此可大體中協助保存給水,但其 以增多3染《水液提供非飲用水之應用。據悉前述非飲用 水之應用,雖然展現出對㈣水之使用無礙,但是目前已 眾人皆知可經由皮膚以及經由吸入水蒸汽而自污染液之吸 收作用造成許多有害影響。 吴國第5,503,735號專利(頒予Vinas等人)(其為圖4中說明 之連續流動型)再循環部分之濃縮液流回至R〇系統。雖然 此確實利用了更多之給水,但是再循環作用僅為所有濃縮 政流足一部分(其餘者均流失),同時由一對給水品質不敏 感4釋壓_制U確實擁有器具而以給水與再循環濃 縮水之組合液沖洗薄膜。此一沖洗需在預定時段中執行, 同時與系統之狀況無關。此可因過早之沖洗而造成水液浪 費’同時因延後之沖洗而造成對R◦元件之永久性傷害。系 統足較佳回收率為50%,其意謂僅有一半的給水被淨化, 而另一半被排放。 美國第5,597,487號專利(頒予v〇gel等人)(其為圖4所述 足連續泥動型)再循環所有或部分之濃縮液流回至R0系統 、。雖然經由系統再循環所有之濃縮液’可以增加給水利用 之:^文率’然Π77為了避免仏^ ★你卢 尤…水邊侍過度污染,系統需在每次 回收後或是在一時段基淮下,m、心, 丞卞下,用淨水,給水以及濃縮液之 混合物沖洗。不管方式^, 万气為何,沖洗作用無法針對送至R〇元 件之水質而在任何最佳時間下執行。此可因過早沖洗而導
1239863 A7 B7 五、發明説明(5 ) 致水液浪費,或是導致過度污染水液送至R0元件。 美國第 5,647,973 號專利(頒予Desaulniers氏)(其為圖4中 說明之連續流動型)試圖藉由控制濃縮水之比例而改良系 統之給水利用效率,該濃縮水根據送至R0元件之水質而再 次循環。雖然此可讓系統或多或少地調整以改變給水品質 但是總有部分之濃縮水被排放’造成非最佳之回收,因 而浪費給水。 美國第5,817,231號專利(頒予Souza氏)(其實際上亦為圖 4中所述之連續流動型)意圖再循環所有之濃縮水或是其中 一部分,試圖保存給水。可是,縱然當其在再循環所有濃 縮液之模式下,亦僅有在濃縮液壓力調節器在R0元件中維 持適當回壓後仍保不變之該一部分,可以適用於再循環作 用’而其餘者被壓力調節器持續地外流丟棄。此將再次造 成非最佳之回收,因而浪費給水。 上述系統擁有之一個共同特性,為越過薄膜之壓差,可 由一 制閥建立,其控制濃縮液之連續流動,自系統之受 壓區域’流至任一無法利用存於流體内能量之大氣槽或排 水溝。因此’泵浦必需持續補足經由薄膜損失之能量至滲 出水中’以及流至排水溝或氣槽之不合格部分。同樣地, 當給水品質因送至系統之生水本質或是在再循環環路中之 濃縮液增加而改變時,需待克服之滲透壓力隨之改變。用 以調節流動’或是僅作用為一細孔之控制閥,無法完全地 自動調整這些改變,因而同時在電力與水液消耗下,造成 非最佳之效率。外加自動控制閥以成就需用於各種水質之 -8 -7公釐) 1239863 A7
系統以提 改變’不可避免地價昂’複雜,尤其當應用至 供整個房子之安全飲水時易導致失效。 發明概述 、本發明之發表實施例,提供-種利用逆渗透之水處理系 統,其中污染物實際上自製成水流中移除而非經由氧化作 用:化學添加物或是離子交換而將其變換成某些其他型式 。取好,系統提供所有濃縮液之再循環,其濃縮液週期性 =自系統中清淨’ _清淨工作使用電機或機械式監測濃 鈿液/辰度而以自動控制法啟動以開啟清淨循環。在一實施 例中’系㈣著即時送人㈣中之生水水f不同而在清淨 循環中,自動調整週期,因此使得系統適合普遍分配而不 必為了安裝場地之水質而加以特定修改。此種水處理系統 適合工業、商業與醫療應用,以及用於居家應用之家用型 系統’特別如”金屬”或”通道點(p〇int 〇f Entry),,,其中已處 理水供應至居室内部或外側之所有水接口。 根據本發明一實施例,其配置之水處理系統,包含一過 濾部門以接收生水,經由一過濾器過濾生水,以及輸出滲 透液(過滤水)及濃縮液(廢棄液);一再循環部門以接收及再 循壤濃縮液至過濾部門;以及一滲透液貯槽及出口部門, 用以接收及貯存滲透液,同時自系統中排出滲透液以及將 滲透液回流至過濾部門;以及過濾部門與再循環部門,用 以當農縮液到達預定之污染水平時清淨過濾器。 根據本發明另一實施例,其配置之水處理系統,包含配 備過濾器薄膜之正切式過濾配件;循環濃縮水之配件;添 -9 - 本紙張尺度適用中國國豕標準(CNS) A4規格(210 χ 297公釐) 1239863 五 、發明説明( 加乾淨給水至循環中濃 平之配件;一旦到读箱a , a < ^,了水千到達預足水 ^ ^ 一達預疋水平後,用以清淨各污氽玄々、、 配件;以及當系統清淨本 夺^ 了水系統之 配件。 q/水寺,以乾淨給水補充系統之 自前述中將認知本發明 能系統之需求,其可表!施例,將滿足-種全功-之安全飲用水所 ’、平均98紅万染物均被實際移除 益、資胃、正個居子或其他系統,其利多為成本效 应貝源保存、以及且含匕、、店、1 *、. 需修改4人生人 率之高純度水。本系統將不 =:改或人為介入而處理廣泛之給水品質,具有自動調整 曰狀自刀羊又此力,用以根據給水品質以維持給水之 取大使用,具有保持高水平污染物剔除之能力而不需"折衷 製成水《口口戶貝’具有以高回收率生產高品質水之能力,同 時保持最低之能量使用,具有保留R0元件及其薄膜之好 性及性能的能力’以及具有執行所有上面所述之能力 時可維持最低量之配件數量及複雜性,並且提供高等級 可靠度。 數個圖式之簡單說明 本發明之前述及其他特性及優點,在當其自下面詳細說 明及搭配附圖而更佳了解後,更為認知,其中同一數字代 表同一元件,其中: 圖1圖式概示在一開環型R0系統中之先前技藝的間歇式 流動; 圖2圖式概示在一閉環型r〇系統中之先前技藝的間歇式 1239863 五、發明説明( 8 A7 B7 流> 動, 圖3圖式相+ y» 弋、夸動. ’、 閉環型R0系統中之先前技藝的半連續 圖圖式概不先前技藝之連續流動型R0系統; 圖5圖式概示本發明-實施例;以及 圖圖式”’、貝7F針*某_範圍中之給水條件而在淨化之間 生成之水量。 發明詳細說明 參考圖3,甘— /、甲·,.、員不之水過濾系統1 〇,適可用做為”金屬” 或通迢點之水處理系統,其企盼以飲用水品質之水液供 應至整個居室(水槽、浴缸、馬桶、洗衣機,洗碗機、製冰 機、以及所有其他可生飲及不可生飲之水源)。 系統10包含一原水入口 Π,其提供原水至内含原水碳過 濾器45入口之過濾部門,同時輸出過濾後之原水至一入口 電磁閥12電磁閥12出口連接強力給水泵13入口,同時連 接原水止回閥23。 在過濾部門中,強力給水泵13泵送已過濾原水至尺〇(逆 滲透7L件15之R0入口 14,其内含一正切R0薄膜16。正切 R0薄膜1 6之功能,已悉知於熟諳本技藝者,因此將不在本 文中詳述。滲透液傳導度水平偵測器19,置於r〇元件15之 R〇滲透液出口 1 8,而已過濾滲透水或製成水自r〇元件i 5 通過其間。位於R0元件1 5上之濃縮液出口丨7,疏通濃縮液 至再循環部門,其包含一濃縮液傳導度水平偵測器2 8、一 在其下游之再循環過濾器26,其内含一過濾元件29及清除 -11 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(21〇x 297公爱)
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_歲物電磁閥3 〇 ,同時自再4盾摄# :索$ 〇 ^ , f U吁目丹倨裱過濾态26通至再循環電磁閥 5以及通向再循環㈣輸人口之串聯式再循環水止回_ 。原水止回閥23亦通至再循環泵21。
7製程輔助部門連接再循環部門,其包含一與再循環過 思6輸入‘連接之二向式製程輔助給水電磁閥2 7,同時 :询^ 口連接至注入製程補助給水泵22之製程補助給水 丁才曰42,其接著供應已泵壓之製程輔助流體至位於製程輔 助電磁閥27上之第二輸入口.。 T 過濾部門連接一滲透液貯槽,同時經由R〇滲透液出口 ΐ8 連接出口部門,其連接一滲透液止回閥32,此閥通向一其 内具有紫外燈光34之製成水貯槽33 eR〇滲透液出口 18亦連 接一滲透液引導電磁閥31,其外送至與製成水貯槽33連接 疋父界貯槽出口電磁閥36,同時連至通向製成水壓力泵37 之管線,其供應泵壓之滲透水至製成水壓力槽39,同時通 至製成水清淨電磁閥4 1 ,其經由再循環泵2丨出口端而外連 至強力給水泵13輸出端之T型接頭47。製成水壓力泵37亦外 連至一製成水碳過濾器46,其接著外連一製成水出口 4〇。 熱父換器4 8可視需要用以增加濃縮水之溫度,其接著增 加進入RO元件1 5之水溫。大多數R〇元件在溫水時可提供較 高產值’因此熱交換器48藉由將熱能輸入給水流液而通至 RO元件’可以造成性能增強。此外,輸入熱交換器48之熱 月匕,可一則來自一主要熱源,或則來自廢水、空調排氣、 地熱或氣熱之廢棄熱量。 在一淨化循環過程中’可能源自公共供水系統、井水、 -12- ^紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公董) 1239863 A7 ___ B7 五、發明説明(1〇 ) 泉水、或是其他用於飲用水之適當水源之給水,經由給水 入口 11進入系統,同時直接通至系統之預先過濾次系統45 ’其在本特定實施例案例中,簡單地包含一碳塊形過濾器 。然而,其可包含一特定之過濾器,活性碳粒過濾器、或 疋其他可商購之過濾裝置組合時,俾用於一般在水源中發 現之污染物,同時其對逆滲透元件i 5提供必要保護以防止1 氧化物及其他有害化學劑,同時防止可能無法令人滿意地 自R0製程中移除之低濃度化學劑。 接著’預先處理過之給水流入入口電磁閥丨2,其閉合以 停止給水流入系統,同時開啟而讓水流過。在正常操作過 私中’給水由強力給水泵丨3加速,其最好為排量式泵,同 時泵給水量,相同於在尺〇滲透液出口 18處期望之製成 水量。接著’給水自強力給水泵丨3流至r〇入口 1 4,在r〇 元件15内,給水外露至R〇薄膜16。壓力調節閥2〇確保不會 產生具毀壞性之壓力,同時將過多的水回送至強力給水泵 13入口。由於所有管線在正常操作過程中均被充滿,同時 自過濾部門或淨化環路中均無出口,此將於稍後詳細說明 因此強力給水泵1 3在大體上足夠之壓力下但仍在由閥件 2〇建亙足系統限制内嘴出給水,使其整個容量流經尺〇薄膜 1 6且自R〇滲透液出口 i 8流出。 同時在正常操作過程中,基本上由R〇濃縮液出口 17、濃 鈿液傳導性水平偵測器28,再循環過濾器26、再循環水電 磁閥25、再循環水止回閥24、再循環泵21以及水連接丁型接 ;員47、’且成之再循%部門,無論何時均充滿水液,其經由 ________- 13 - I紙張尺度適财S @家標準(CNS\ A4規格(21Gχ挪在__-- 1239863 A7 B7 五、發明説明( 入口 1 4回流至R〇元件丨5。再循環部大部分均在由泵浦2丨建 乂之速率下流動,其最好為離心式,同時在接近容許通過 R0元件15之最大量下流動,而強力給水泵13僅產生較少之 成動。由泵浦2 1產生高流動之主要功用,為讓R〇薄膜丨6給 水側表面上之濃縮污染物,避開鄰近之薄膜表面疾速越過 。由於實際執行工作之薄膜表面上的污染物濃度較高之故〜 ’因此可讓逆滲透製程在接近水中污染物實際濃度下而非 較高濃度下作用。 當系統操作時,大約20%之進入R〇元件的總水量,少於 大約98%之污染物,滲過尺。薄膜16,同時經由滲透液出口 18視同淨水排出,剩下之8〇0/〇水流,隨同未通過薄膜之污 染物,自RO濃縮液出口 17排出。 為了概示目的,下面範例假設一種等同於!,〇〇〇 ppm(壓 力單位)之初期給水濃度,以及每分鐘37·85公升(1〇加侖) 之再循環流動。當水液第一次流過r〇元件丨5時,2〇%之流 液’或是母分鐘7.57公升(2加侖)之流液,被迫滲入薄膜 1 6 ’而每分鐘3 〇 ·2 8公升(8加侖)之流液,經由R〇濃縮液出 口 17流出。自方程式1中可見此時之水濃度為1245 ppm: C〇 = (Fc.(Fc - Pr . Rp))/(l.pr) (1) 其中:Fc=單位為ppm之初次給水濃度 Pr=回流部分百分比 RP=污染物之滲入部分百分比 Cc==單位為ppm之濃縮液濃度 因此 Cc = (1000-(1000 · 0.2 · 0.02))/(1-0.2) -14- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐) 1239863 A7 B7 五、發明説明(
Cc=(1000-4)/0.8
Cc=966/0.8
Cc=1245 ppm 其中滲入水中之污染物濃度,大約為供至R〇元件丨5濃度之 2%,或是20 ppm。當在T型接頭47處之濃縮水,以每分於 7.57公升(2加侖)之速率與初次給水混合時,在再循環^ 中之濃度,可自方程式2中所見變為1196 ppm:
Frc = (Cc · (1-Pr)) + (FC · Pr ) (2) 其中:Fc==單位為ppm之初次給水濃度
Frc=單位為ppm之再循環給水濃度 Pr=回流部分百分比 P f =滲入流液
Cc=單位為ppm之濃縮液濃度 因此 Frc = (1245 · (1-0·2)) + (1000χ0·2) Frc-(1245 · 0.8) + 200
Frc=996+200 Frc= 1 196 ppm 當新的混合再循環給水到達RO元件1 5時,Frc在方#呈^ 取代Fe而構成方程式3:
Cc = (Frc-(Frc · Pr · Rp))/(1-Pr) (3) 因此 Cc = (1 196-(1 196 · 0·2 . 0.02)/(1-0.2)
Cc = (l 196-4.784)/0.8 Cc=l 191.2/0.8
Cc=1489 ppm -15-
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發明説明 此一水液再次與初次給水混合且再次應用方程式2後,此 時知用新cc值,則在再循環給水中之新濃度變為1391 。此一環路持續循環,直至將如稍後所述到達預定濃度後 方止。 當濃縮水透過再循環環路進行再循環時,其通過再循環 過濾器26,同時接著通過再循環過濾器元件29,其在本實 她例中為2微米粗之線繞元件。此過濾器具有數項功能。其 首先收集長到足以在其内凝氣之廢屑、水垢或其他污染物 。接著其可用做為過濾輔助劑支架,用以增進過濾器收集 ,一般更小顆粒之能力。第三可以提供一吸收系、^其緩 k釋出防垢劑,協助防止R〇元件丨5納垢。第7可以提供一 表面,其可在截獲足污染物免於通過清除穢物電磁閥3〇之 狀況下加以沖洗。過濾輔助劑及防垢劑存放於製程辅助給 水槽42内,其經由製程輔助給水泵22以及三向製程輔助給 水電磁閥27輸送。 在一般加工模式過程中,三向閥27被用以將製程輔助劑 再循環回至貯槽42,俾確保一致之混合;再循環水電磁閥乃 開啟;清除穢物電磁閥30關閉;由於再循環水流至泵浦以 入口而開啟再循環止回閥24且關閉生水止回閥23 ;製成水 淨化電磁閥41關閉,有效地以強力給水泵13產生封閉環路 ’僅補充滲入RO薄膜16之再循環水部分;以及濃縮液傳導 性水平偵測器28 ,持續監測再循環環路中之污染物濃度。 當污染物濃度到達預定水平時(針對本文範例,假設預定 水平為2,500 ppm),系統進入清除模式,再循環閥乃瞬時 -16-
1239863 A7 B7 五、發明説明 關閉,止回閥24關閉,生水止回閥23開啟,且清除穢物電 磁閥3 0開啟。此時,初始生水被泵浦2 1以高速泵壓通過R〇 元件15,離開R0濃縮液出口 17,進入過濾器框體26,同時 離開清除穢物電磁閥3 0排放。此可有效地搭配已耗用之渗 透輔助劑移去凝氣之污染物,同時將其清離系統。宜注意 在清除模式中,沒有流液流經過濾器元件29。系統停留在、 清除模式一段預定時段,其一般相等於清除過往再循環水 系統之時段,或是直至預定水平之傳導性被濃縮液傳導性 水平偵測器2 8偵得後方止。 當清除模式結束後,清除穢物電磁閥30關閉;再循環電 磁閥25開啟;再循環止回閥24開啟;同時生水止回閥23關 閉而建乂正常之再循環環路。同時藉由正常再循環環路之 再建立,三向閥27開啟一段預定時段而讓製程辅助劑流入 過濾器το件29。此一製程輔助劑流動,係在再循環環路壓 力低到足以容許此一流動之時段中,以及足以容許系統之 適當分配的時間下流動。只要製成水貯槽33需水,系統將 不斷地在製程模式與清除模式間變化。 雖然為了时論之便而採用1 〇⑽ppm做為生水之污染水平 ,然而給水中之實際污染水平,將隨所在地不同而改變, 同時甚至可能在任何特定地點而大程度的變化。與其讓系 統預先設定為一公稱之污染水平且讓系統功能非為最佳性 能,同時與其讓系統針對每一安裝點微調,不如讓系統具 有原有能力而於任何已知時間及地點時,適應給水中之污 染物水平。使用方程式i,2及3作為列表基礎,可以繪出如 -17-
1239863 A7 B7 五、發明説明(15 圖6所不4圖式,其顯不在一段給水條件範圍中,在兩次清 除間產生之水量。 當淨水自R0滲透液出口 18流出時,通過滲透液傳導性水 平偵測器19,其在持續流至貯槽33之前,不斷地監測淨水 之傳導性。如果淨水超出預定傳導性時,可以聽見警報聲 或是系統被關斷。在正常狀況下,淨水持續通過滲透液止3 回閥32且進入貯槽33,淨水在此貯存,直至需要供水至製 成水壓力泵37時,在此一狀況下,水液通過貯槽出口電磁 閥36而流出貯槽33。當水液貯存於貯槽^時,其易遭逢空 氣中之生物感染菌。為了確保微生物感染菌不會擴散,貯 水持續或間斷地以來自貯槽紫外燈34之紫外線照射。 當貯槽33内水位下降時,貯槽水位偵測器35感測出水位 值,同時在一預足之低水位時,啟動淨化循環。如果在淨 化過私中貯槽33下降至一甚低水位時(本質上無水或是極 低水位時,其在系統成型時即已決定),藉由偵測器h所測 滲透液轉向電磁閥3 1開啟,貯槽出口電磁閥3 6關閉,滲 透政止回閥32關閉,同時淨水旁通貯槽33而直接供應至製 成水壓力泵37内。此可協助系統藉由應用由泵浦37直接在 低壓區、或疋在薄膜1 6之參入側生成之負壓力、因之增加 在高壓區、或是薄膜16給水側之顯見壓力而增加生產率。 此亦確保泵浦37將經常有水,同時造成當貯槽”乾酒時必 然發生之無法攝取空氣。
當製成水壓力泵37關斷時’來自由⑽元件之滲透水輸出 產生之水壓,超越滲透液止回閥32,其可讓水進入貯槽D -18-
1239863
。當貯槽33内水位高於甚低水位之上時,滲透液轉向電磁 間3 1關閉,同時貯槽入口電磁閥36開啟,將水流回復至正 常形態。 當偵測咨3 5偵得貯槽3 3内之高水位時,淨化循環藉由對 泵浦Π ,泵浦21以及泵浦22之斷電而中止。入口電磁閥12 如同再循%閥2 5般關閉。製成水清淨電磁閥4丨及清除穢物1 電磁閥30開啟一段預定時段,其期限足以用來自製成水壓. 力槽3 9及經由閥件4 1、自泵浦1 3及2 1出口經由r〇元件丨5之 給水側,經由過濾器26框體,以及經由閥件3〇流出之淨水 ’清除所有之污染水。 當水被使用時,其自其内已被泵浦3 7以壓力泵入淨水之 水槽3 9流出,其經由製成水碳過濾器46而自製成水出口 况出。製成水壓力偵測器38監測水槽39内壓力,其在低壓 時開啟泵浦37,同時在鬲壓時關斷泵浦37。標準低壓為3〇 PSIG,標準高壓為45PSIG。 當泵浦37自貯槽33抽水以充填及加壓水槽39時,貯槽33 内水位下降。當此水位降至由偵測器35設定之低水位之下 時,開啟新一回合之淨化循環。 上面概述但修改淨水使用以完成濃縮再循環水清淨之同 一體系,將可讓本發明利用初期較高污染水平之水液。採 用修改過之體系,鹽水及海水均可用為系統之給水源。< 各種泵浦,閥件,加熱元件以及紫外光之控制,可藉由 一控制電路50連接個別配件執行。本文中未提供控制^路 說明,其涵蓋於本技藝中之一般技術範圍内,用以提供將 -19- 1239863 A7 B7 五、發明説明(17 ) 根據前述說明而造成系統執行之適當控制電路。 自前面所述將可認知雖然為了概示目的而在本文中說明 了本發明之特定實例,因而在不偏離本發明之精神與範疇 下進行各種修改。因此,本發明除了隨附申請專利範圍及 其同等件所限者外無另限制。 -20- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐)
裝 訂

Claims (1)

1239863 A BCD 六、申請專利範圍 1 · 一種淨水系統,其包含: 正切武過滤裝置; 用以循環濃縮水之裝置; 用以添加初次給水至循環濃縮水之裝置,用以取代滲 入正切式過濾薄膜之水量; 用以偵測循環水之污染水平何時到達預定水平之裝_ 置; 用以一旦到達預定水平時,清除含污水系統之裝置; 以及 用以當系統清除含污水時,重新以初次給水充填系統 之裝置。 2. 根據申請專利範圍第丨項之淨水系統,其中該濃縮水循 環裝置包含: 循環水過濾裝置; 用以沖洗系統之裝置,污染物被該過濾裝置截獲;以 及 、用以搭配清除來自循環裝置之含污水以成就沖洗被 該過濾裝置截獲之污染物之裝置。 3. 根據申請專利範圍第i項之淨水系統,其中該系統另外 包含: 為該正切式過濾裝置添加化學增進劑之裝置。 4. 根據申請專利範圍第3項之淨水系統,其中該系統另外 包含: 為違正切式過〉慮裝置循環該化學增進劑之裝置。 -21 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐Γ ^-: --------
•根據申請專利範圍.第2項之淨水 廿丄,〆々、7 4 ^ 〜系統,其中該系統另外 包含: 為該循環水過濾裝置添加化學增進劑之裝置。 6·根據申請專利範圍第5項之淨水萃結 廿丄,< p & τ >承統,其中該系統另外 包含: 為該循環水過濾裝置循環該化學增進,之裝置。 7.根據中請專利範圍第i項之淨水系统,^ 、统另外 包含: 在不同地點適應不同水質條件之裝置。 8_根據申請專利範圍第i項之淨水系統,其中該系統另外 包含: 在已设地點返應不同水質條件之裝置。 9. 根據申請專利範圍第丨項之淨水系統,其中該系統另外 包含: 在水進入正切式過濾裝置之前,移去正切式過濾裝置 將無法移去之預定污染物的裝置。 10. 根據申請專利範圍第1項之淨水系統,其中該系統另外 包含: 在水進入正切式過濾裝置之前,移去對正切式過濾裝 置有害之污染物的裝置。 11,根據申請專利範圍第1項之淨水系統,其中該系統另外 包含: 被正切式過濾裝置淨化後及流出系統前,移去仍然存 於淨水内之污染物的裝置。 -22- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐)
12、 • m據申請專利範圍第1項之淨水系統,其中該系統另外 包含: 給水預熱之裝置。 1 3 ·根據申請專利範圍第1 2項之淨水系統,其中該系統另外 包含: 自先前加熱之處理水中,再生式交換熱之装置;及 自先前加熱廢水再生交換熱之裝置。 14·根據申請專利範圍第1項之淨水系統,其中該系統另外 包含: 在完成淨化循環後,自正切式過濾裝置中清除含污水 之裝置。 1 5 ·根據申請專利範圍第1項之淨水系統,其中該系統另外 包含: 在完成淨化循環後,用淨水自正切式過濾裝置中,清 除含污水之裝置。 1 6.根據申請專利範圍第1項之淨水系統,其中該系統另外 包含: 存貯淨水之裝置。 1 7.根據申請專利範圍第16項之淨水系統,其中該系統另外 包含: 用以監測貯存裝置内之水位之裝置;以及 用以根據貯存裝置内水位以開始及停止淨化循環之 裝置。 1 8.根據申請專利範圍第17項之淨水系統,其中該系統另外 -23- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) !239863 A8 B8 C8 D8 申請專利範圍 包含: 加壓水液以供輸送之裝置。 19.根據中請專利範圍第16項之淨水系統,其中該系統另外 包含: 以糸外光照射存於辟槽内淨水之裳置。 2〇·根據申請專利範圍第i項之淨水系統 該系 包含: 監測製成水品質之裝置。 &根據申請專利範圍第20項之淨水系統,其中該系統另外 包含: 當製成水監測裝置偵得含污水時,防止污染存貯中製 成水之裝置。 22. —種水處理系統,其包含: 接收生水之水過漉部門,用以經由_過㈣ ’同時輸出滲透液及濃縮液; 用以接收及再循環濃縮液至過濾部門之再循環部門 ,同時偵測在再循環部門内之污染物水平;以及 用以接收及貯存滲透液之滲透液貯存及流出部門,其 自系統中流出滲透液,同時回流滲透液至過濾部門,過 濾部門及再循環部門可用以當濃縮液在再循環部門中 到達一預定污染物水平時,清淨過濾器。 2 3 · —種水處理系統,其包含: 接收生水(水過濾部門,用以經由一過濾器過濾生水 ,同時輸出滲透液及濃縮液; -24- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公董)
用以接收及具J 、、 衣/辰、、、宿液至過遽部門之再循環部門 ’同時偵測在再循環部門内之污染物水平; π =將製程辅助劑與再循環部門内之 製程辅助部門;以及 〈 用以接收及貯存渗透液之滲透液野存及流出部門,其 系充中/瓜出滲透液,㈤日寺回流參透液至過滤部門,浓 透部門及再循環部門可用以當濃縮液在再循環部門中 到達一預足3染物水平時,清淨過濾器。 24·一種水處理系統,其包含: 、用以經由一過濾器過濾生水,同時輸出滲透液及濃縮 液之接收生水之水過濾部門; 用以接收及再循環濃縮液至過濾部門之再循環部門 ’同時偵測在再循環部門内之污染物水平; 用乂接收及4存渗透液之滲透液貯存及流出部門,其 自系統中流出滲透液,同時回流滲透液至過濾部門;以及 其至少與過濾部門及再循環部門連接之控制電路,該 控制電路經配置而用以當濃縮液在再循環部門中到達 預定之污染物水平時,控制過濾部門及再循環部門以清 淨過濾器。 -25- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(210X297公釐)
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