TWI234548B - Titanium oxide, photocatalyst comprising same and photocatalytic coating agent - Google Patents

Titanium oxide, photocatalyst comprising same and photocatalytic coating agent Download PDF

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TWI234548B
TWI234548B TW089111103A TW89111103A TWI234548B TW I234548 B TWI234548 B TW I234548B TW 089111103 A TW089111103 A TW 089111103A TW 89111103 A TW89111103 A TW 89111103A TW I234548 B TWI234548 B TW I234548B
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Yoshiaki Sakatani
Hironobu Koike
Yoshiaki Takeuchi
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1234548 A7 B7 五、發明說明（1 ) [發明領域] 本發明乃有關在紫外線及可見光照射下均展現優異的 =催化活性之氧化鈦；含有該氧化鈦作為催化劑成分之光 催化劑；及由該光催化劑及溶劑組成之光催 [發明背景] •氧化鈦已知係於光照下展現氧化活性或還原活性之物 質，下文稱此類物質為光催化劑，含有該氧化鈦之光摧化 劑為市售可得者。當此類光催化劑與，例如，存在於生活 空間或工作空間中之臭味物質，或存在水令之令人不愉悦 之物質例如有機溶劑、農業化學藥劑及界面活性劑接觸 時，該臭味物質或令人不愉悅之物質可被分解。 然而，該冑市售可得之光催化劑_可於紫外線照射下 展現優異之光魏活性，卻無法於可見光照射下展現優異 之光催化活性。 [發明概述] 因此本發明之目的在於提供於紫外線以及可見光照 射下均可展現優異光催化活性之氧化鈦。 本發月之另目的在於提供含有該氧化鈦作為催化劑 成分之光催化劑。 本發明之又一目的在於提供含有該光催化劑及溶劑之 光催化塗佈劑。 本發明人針對光催化劑進行精深之研究，結果發現在 I外線以及可見光照射下均可展現優異光催化活性之特定 氧化鈦，因而獲得本發明。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格⑽χ 297公着丁 311515
(請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -. 訂--------- 1234548 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製
A7 五、發明說明（2 本發明提供具有以下列等式⑴計算出之不大於約 0.90之Xl指數值，及以下列等式⑴）計算出之不小於約 0.075之Yl指數值之氧化鈦， …
Xi = Bi/Aj ⑴
Yl = Di/Ci (II) 其中’於等式⑴中，ajBi分別代表波峰之半寬，係藉 由包含下列步驟之製程而獲得： (1)依據X-射線光電子光譜學分析氧化鈦八次， (ii) 獲得關於上述第一次分析及第二次分析之鈦電子 狀癌之積分光譜， (iii) 在關於上述步驟（ii)所得積分光譜之458 eV至46( eV結合能範圍内獲得波峰之半寬，，及 (iv) 針對上述第七次分析及第八次分析進行如上述 與（iii)之相同步驟而獲得波峰之半寬，Βι，及 於等式（Π)中，Cl代表於氧化鈦紫外線_可見光擴散反射光 譜之測量中’從250nm至550nm波長範圍内之吸光度積分 值，及Di代表在40〇nm至55〇nm波長範圍内之氧化鈦吸 光度之積分值。 進一步地，本發明提供具有以下列等式⑴計算出之不 大於約0·90之X〗指數值、以下列等式（11)計算出之不小於 約0.075之Yi指數值、及以下列等式（111)計算出之不小於 約0·75之Z!指數值之氧化鈦，
Xl = B1/Al (I) Υι = 〇i/C] (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) (II) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 x 297公釐） 311515 1234548 A7 五、發明說明（3 )
Zl = Yl x El (III) 其中’於等式⑴中，A與n八 /、 1刀別代表波峰之半寬，係 由包含下列步驟之製程而獲得： 干見係籍 ⑴依據X·射線光電子光譜學分析氧化鈦八次， (i〇獲得關於上述第一次分狀β贫 人刀析及弟二次分析之鈦電子 狀態之積分光譜， (出）在關於上述步驟（ii)所得積分光譜之458〜至46〇 eV結合能範圍内獲得波峰之半寬，A!，及 ㈣針對上述第七次分析及第人次分析進行如上述⑻ 與（出）之相同步驟而獲得波峰之半寬，&，及 ，等式⑻中，Cl代表於氧化鈦紫外線可見光擴散反射光 4之測量中’從250nm至550nm ;皮長範圍内之吸光度積分 值’及D1代表在40〇11111至55〇11111波長範圍内之氧化鈦吸 光度之積分值；及 於等式（III)中，El代表氧化鈦之雛晶大小。 更進一步地，本發明提供具有以下列等式⑴計算出之 不大於約0.90之Xl指數值、以下列等式（11)計算出之不小 於約0.075之\指數值、以下列等式（111)計算出之不小於 約〇·75之Zl指數值、及以下列等式（IV)計算出之不小於約 0.40之w!指數值之氧化鈦， Χι = Β"Αι (I) Υι - Di/C, (II) Z1 = Yj x Ej (III) I = Yi x Ei x Fi (IV) 311515 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -. tr 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1234548 A7 B7 五、發明說明（4 ) 其中，於等式⑴中，aaBi分別代表波峰之半寬，係藉 由包含下列步驟之製程而獲得： ⑴依據X·射線光電子光譜學分析氧化鈦八次， (η)獲得關於上述第-次分析及第二次分析之欽電子 狀態之積分光譜， (m)在關於上述步驟（ii)所得積分光譜之458 至“ο eV結合能範圍内獲得波峰之半寬，A!，及 ㈣針對上述第七次分析及第μ分析進行如上述⑼ ”（111)之相同步驟而獲得波峰之半寬，Β"及 ，之二i中"C1代表於氧化鈦紫外線_可見光擴散反射光 ”曰” m ’從250nm至55〇nm波長範圍内之吸 ^及仏代表在伽叫—波長範圍内之氧化欽吸 光度之積分值； 於等式（HU中，El代表氧化鈦之雛晶大小，·及 於等式（IV)中，Fi代表氧化鈦銳鈦礦之結晶度。 =明也提供具有以下列等式⑺計算出之不大於約 0.97之V,指數值之氧化鈦， =h"Gi (V) 等式⑺中…㈣分別代表波峰之半寬， 由包含下列步驟之製程而獲得·· 消 ⑴依據X·射線光電子光譜學分析氧化鈦四次， (11)獲得關於上述第-次分析及第二次分析之鈦電子 狀態之積分光譜， 刀榔之鈦電子 (二)在關於上述步驟⑴）所得積分光譜之458 ev至460 1 本紙張尺_^^ 鮮（CNSM_(H^7¥F) 4 31Ϊ_ 1234548 A7 B7 五、發明說明（5 ) 一 eV結合能範圍内獲得波峰之半寬，，及 ㈣針對上述第三次分析及第四次分析進行如上述⑼ 與（in)之相同步驟而獲得波峰之半寬，Η〆 又’本發明提供具有以下列等式⑺計算出之不大於約 0.97之V!指數值，及以下列等式㈣計算出之不小於約 0·14之％指數值之氧化鈦，
Vl = H1/G1 (V) U1 - J1"1 (VI) 其中，於等式（V)中，（^與心分別代表波峰之半 由包含下列步驟之製程而獲得： ，、藉 ⑴依據X-射線光電子光譜學分析氧化鈦四次， ⑼獲得關於上述第一次分析A第二次分析之 狀態之積分光譜， (1Π)在關於上述步驟（ii)所得積分光譜之458 6¥至46〇 eV結合能範圍内獲得波峰之半寬，，及 (iv)針對上述第三次分析及第四次分析進行如上述⑴） 與（iii)之相同步驟而獲得波峰之半寬，Η!，及 於等式⑽中4代表於氧化鈦紫外線·可見光擴散反射光 譜之測量中，從22—至800nm》皮長範圍内之吸光度積分 值，及乃代表在40〇nm至800nmt長範圍内之氧化鈦吸 光度之積分值。 本發明尚又提供含有上述氧化鈦作為催化劑成分之光 催化劑。 此外，本發明提供含有該光催化劑及溶劑之光催化塗 311515 I -% 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐 1234548 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 五、發明說明（6 ) 佈劑。 本發明應用性之進一步範圍可從下文之詳細敘述顯 見。然而，需瞭解的是，該等詳細敘述及特定實施例，在 指明為本發明之較佳具體實例之同時，僅供說明之用途， 熟習此項技藝者可從該等詳細敘述顯而易見落於本發明精 神與範疇内之各種變化及改進。 [圖式簡單說明] 從下文之詳細敘述及隨附之圖式將可更充分瞭解本發 明，惟彼等僅供說明用途，因此不對本發明構成局限。 第1圖顯示裁止紫外線濾波器波長與透光率間之關 係。 第2圖顯示截止紅外線濾波器波長與透光率間之關 係。 第3圖顯示由實施例1所得氧化鈦依據χ-射線光電子 光譜學之第一次分析及第二次分析所得之光譜，及由實施 例1所得氧化鈦依據X-射線光電子光譜學之第七次分析及 第八次分析所得之光譜。 第4圖顯示由實施例2所得氧化鈦依據乂_射線光電子 光譜予之第一次分析及第二次分析所得之光譜，及由實施 例2所彳于氧化鈦依據X-射線光電子光譜學之第七次分析及 第八次分析所得之光譜。 第5圖顯示由比較例1所得氧化鈦依據χ_射線光電子 光Q予之第一次分析及第一次分析所得之光譜，及由比較 例1所得氧化鈦依據χ-射線光電子光譜學之第七次分析及 ------------·%----：----訂--------- (請先閱讀背面之注咅？事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格⑽χ 297公羞） 6 311515 1234548 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 -----^_ΒΙ 五、發明說明（7 ) 第八次分析所得之光譜。 一第6圖顯示由比較例2所得氧化鈦依據χ_射線光電子 光‘予之第一次分析及第二次分析所得之光譜，及由比較 例2所得氧化鈦依據X-射線光電子光譜學之第七次分析及 第八次分析所得之光譜。 [發明之詳細說明] 依據本發明之氧化鈦（Ti〇2)具有呈特定電子狀態之鈦 原子為了顯示該電子狀態而設定由前述等式⑴計算出之 指數\，其值不大於約0.90。電子狀態可藉結合能予以說 月 般而言’具有小的Χι指數值之氧化鈦係由具高結合 月b電子之鈦原子以及具低結合能電子之鈦原子二者所構 成。當重複照射X射線時，該氧化鈦即轉變成其鈦原子之 回結合能電子減少之氧化鈦。另一方面，具有大的X1指數 值之氧化鈦係由不具高結合能電子之鈦原子所構成。 為了獲得積分光譜，先使用X射線光電子分光計（使 用碳為標準以測定波峰位置）依序經由下列五個步驟對氧 化鈦進行分析。其中，第一步驟開始至第五步驟完成之間 所需時間在30分鐘之内，其間氧化鈦未曝露於大氣中。 第一步驟：分析鈦之電子狀態兩次，惟每次分析時門 為60秒（第一次分析及第二次分析）， 第二步驟··分析氧之電子狀態兩次，惟每次分析時門 為56秒；分析碳之電子狀態兩次，惟每次分析時間為如 秒’及分析鈦之電子狀態兩次，惟每次分析時間為6 〇和、（第 二次分析及第四次分析）， (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ·11111111 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 7 311515 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1234548 A7 -—--B7___ 五、發明說明（8 ) ^ 第三步驟：分析氧之電子狀態兩次，惟 ^ 也产 %夂分析日4 pq 為56秒；分析碳之電子狀態兩次，惟每次分析時 、曰1 耖，及分析鈦之電子狀態兩次，惟每次分析時 80 _ , j馬6〇秒f笙 五次分析及第六次分析）， （弟 第四步驟：分析氧之電子狀態兩次，惟每次分析 為56秒；分析碳之電子狀態兩次，惟每次分析時間^為時 秒；及分析鈦之電子狀態兩次，惟每次分析時間為6 〇秒= 七次分析及第八次分析），及 第五步驟：分析氧之電子狀態兩次’惟每次分析時間 為56秒；及分析碳之電子狀態兩次，惟每次分析時間 80秒。 曰… 然後，製取關於第一步驟至第五步驟各個分析之又射 線光電子光譜，之後，製取關於第一次分析及第二次分析 X射線光電子光譜鈦電子狀態之各別積分光譜。同樣地， 製取關於第七次分析及第八次分析x射線光電子光譜鈦電 子狀態之各別積分光譜。 從出現於上述所得積分光譜458ev至460ev結合能範 圍内之鈦波峰獲得波峰之半寬。若4586¥至460ev結合能 範圍内出現兩個或多個波峰，則自其中之最高峰獲得波峰 之半寬。 由則述等式（II)計算出之指數Υι顯示氧化鈦對可見光 之吸收力° Yi值不小於約〇 075，較好不小於約〇 11〇，更 好不小於約0.145。 吸光度之積分值意指於紫外線-可見光擴散反射光譜 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 8 311515 (請先閱讀背面之注咅？事項再填寫本頁) ··%
-1 ϋ ϋ «ϋ ϋ H ϋ^OJI ϋ ϋ 1 n ϋ .1- I ρ 1234548 消 311515 A7 五、發明說明（9 ) 之指定波長範圍内，由水平軸與擴散反射光譜所圍繞之面 積，惟垂直軸與水平軸分別代表吸光度及波長。紫外線_ 可見光擴散反射光譜可使用，例如，紫外線_可見光分光光 度計及以碳酸鋇為標準白板測量而獲得。 於根據本發明之氧化鈦中，較佳者為具有由下述等式 (ΠΙ)計得之冗1指數值不小於約0 75者，惟其雛晶大小以 Ει表示。 = Yx X Έχ (HI) 於此等式中，Y〗為由等式（II)計算出之指數。心之較佳值 為不小於約1.50,最佳值為不小於約18〇。雛晶大小，&， 可藉使用，例如，X射線繞射儀獲得氧化鈦最強干涉線（密 勒指數：1〇1)中之波峰半寬及波峰位置（布喇格角），然後 依據舍林氏等式（Scherrer’s equation)測得。 於根據本發明之氧化鈦中，較佳者為具有由下述等式 (IV)計得之Wl指數值不小於約〇 4〇者，惟其雛晶大小及 銳鈦礦結晶度分別以Ei與Fi表示。 W2 - Y2 X El X F3 (IV) 於此等式中，Yi為由等式⑴）計算出之指數。Wl之較佳值 為不小於'約1.30’最佳值為不小於、約18〇。銳欽礦結晶度， W】，可藉使用，例如，X射線繞射儀獲得氧化鈦最強干涉 線（密勒指數：101)中之波峰面積而測得。 依據本發明之氧化鈦（Tl〇2)具有呈特定電子狀態之鈦 =子。為了顯示該電子狀態而設定由前述等式（ν)計算出之 指數V1，其值不大於約〇 97，較好不大於約〇 93。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注咅？事項再填寫本頁) ·%----r---訂---------^i^L· 1234548 A7
經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（10 ) 為了獲得積分光譜，先使用χ射線光電子分光計（使 用碳為標準以測定波峰位置）依序經由下述二步驟對氧化 鈦進仃/刀析。其t，第-步驟開始至第二步驟完成之間 需時間在ίο分鐘之内，其間氧化鈦未曝露於大氣中。 第-步驟：分析鈦之電子狀態兩次，惟每次分 為60秒（第一次分析及第二次分析）， 曰 第二步驟：分析氧之電子狀態兩次，惟每次分析時門 為.56秒；分析碳之電子狀態兩次，惟每次分析時間為^ 私，及分析鈦之電子狀態兩次，惟每次分析時間為秒（第 二次分析及第四次分析）。 然後，製取關於第一步驟至第二步驟各個分析之又射 線光電子光譜，•，製取關於第一次分析及第二次分析 Χ』射線光電子光譜鈦電子狀態之各別積分光譜。同樣地， 製取關於第三次分析及第四次分析χ射線光電子光譜欽電 子狀態之各別積分光譜。 從出現於上述所得積分光譜458 eV至460 eV結合能 範圍内之鈦波峰獲得波峰之半寬。若458 eV至460 eV結 口此fe圍内出現兩個或多個波峰，則自其中之最高峰獲得 波峰之半寬。 ^由前述等式（VI)計算出之指數％顯示氧化鈦對可見 光之吸收力。％值不小於約〇」4，較好不小於約〇丨6。 吸光度之積分值意指於紫外線_可見光擴散反射光譜 之才曰疋波長範圍内，由水平軸與擴散反射光譜所圍繞之面 積’惟垂直轴與水平軸分別代表吸光度及波長。紫外線- -------罄％! C請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ·11111111 %, 1234548
五、發明說明（11) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 可見光擴散反射光譜可使用，例如，紫外線_可見光分光光 度計及以碳酸鋇為標準白板測量而獲得。 又’根據本發明之氧化鈦較好具有銳鈦礦相而於可見 光照射下展現優異之光催化活性。 根據本發明之氧化鈦，其形狀並無特定限制，可視用 途（包含使用製程）而異，顆粒型及纖維型為列舉之形狀實 例。根據本發明之氧化鈦可呈與其他無機化合物之摻合物 型使用，或呈藉加熱該摻合物而得之複合物型使用，只要 不損及其於可見光照射下所展現之光催化活性即可。該等 其他無機化合物之實例為氧化矽（si〇2)、氧化鋁（Al2〇3)、 氧化鍅（Zr〇2)、氧化鎂（Mg〇)、氧化辞（Zn〇)及氧化鐵 (Fe203、Fe304) 〇 根據本發明之氧化鈦例如可藉包括下列步驟之方法製 造： (i)於水中溶解市售可得之鈦化合物例如氧基硫酸 欽、三氣化鈦、四氣化鈦及硫酸鈦，得到溶液， (11)冷卻下，於該溶液中添加鹼例如氨、尿素、醯胺化 合物、脒化合物及胺化合物，使產生固體沉殿，及 (iii)鍛燒該固體以製得氧化鈦。 根據本發明之光催化劑含有本發明之氧化鈦作為催化 劑成分。關於光催化劑，可列舉者為將顆粒型氧化鈦與模 製輔助劑之混合物擠壓模製所得之片狀光催化劑；將纖維 型氧化鈇與有機纖維交織製得之片狀光催化劑；及將氧化 欽塗佈或覆蓋於金屬或樹脂製載體上所得之光催化劑。此 --I h I 丨訂------I--*5^^— (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -. 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（21〇 297公釐） 11 311515 1234548 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 五、發明說明（12 等光催化劑可與添加劑例如高分子量樹脂 '模製輔助劑、 黏合劑、抗靜電劑及吸收劑組合使用。或者，此等光催化 劑可與於紫外線照射下展現光催化活性之其他氧化鈦組合 使用。 關於使用根據本發明之光催化劑之方法，可列舉之方 法為，將光催化劑及欲處理之物件例如欲處理之液體及欲 處理之氣體置於可見光可穿透之玻璃容器内，然後照射波 長不小於430nm之可見光。以可見光照射之時間並無特別 限制，可視光源之光強度及欲處理物件中欲處理物質之種 類及量而不同。 光源並無特別限制，可為可照射含有波長不小於 430nm之可見光之光線，其實例為日光螢光燈鹵素燈、 黑光、氤氣燈及水銀燈。如果需要，可將光源裝備截止紫 外線攄波器及/或截止紅外線濾波器。 、 根據本發明之光催化塗佈劑係由本發明之光催化劑及 溶劑所組成。光催化塗佈劑可用於幫助塗佈及覆蓋氧化欽 於材料（例如建築材料及汽車材料）上，如此以氧化欽塗佈 Π::料表面具高度光催化活性。該溶劑並無特別限 較佳者為於塗佈或覆蓋後容易蒸發者，換言之， 殘留於生成膜上者。溶劑實 A < 1椚馮水、鹽酸、醇類及_類。 至於根據本發明之光催化塗佈劑之製法，可 將氧化鈦分散於水中形成漿狀物之方法；及欽 進行膠溶之方法。將氧化鈦分散於溶劑中時，如果ί要 可使用分散劑。 如果而要， ·»----^----訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 獅尺（GNS)A4規格⑵◦ X 297公釐） 311515
[234548 五、發明說明（) 根據本發明，係提供不僅於紫外線、甚且於可見光照 射下，亦展現優異光催化活性之氧化鈦。該等活性藉由比 較實施例1及比較例丨、或比較實施例2及比較例2、或比 又實施例3及比較例3、或比較實施例4及比較例3，可易 於瞭解。 、塗佈有本發明之光催化劑或光催化塗佈劑之建築材料 或汽車材料表面具有分解空氣中之N0X、分解臭味物質（例 如，存在於生活空間或工作空間中之煙味卜分解存在水中 之7人不愉悅之物質（例如有機溶劑、農業化學藥劑及界面 活性劑）、及進一步抑制細菌（例如發光菌）、藻類及黴菌之 能力。 [實例] 錄參照下列實例更詳細說明本發明，惟彼等僅供說明 用途’而不擬對本發明之範圍構成局限。 氧化鈦之X射線光電子分光光譜、其紫外線_可見光 擴散反射光譜、其雛晶大小、其銳鈦礦結晶度及其光催化 活性係根據下列方法予以測量。 1 · X射線光電子分光光譜 使用X射線光電子分光光度儀裝置（商標為XPS-7000，RIGAKU公司製造）及下列χ射線光源測量之。 (1) 以8kV及30mA之輸出值電子照射Mg，使用所產 生之源自Mg之之特別χ射線。 (2) 使用狹幅掃描之掃描模式。 (3) 調整路徑Ε至l〇ev。 ‘紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 χ 297公釐 -----r---訂---------丨»- (請先閱讀背面之注咅？事項再填寫本頁} - 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 311515 1234548 A7 B7 五、發明說明（14) (4)調整步驟E至〇.〇4eV。 2·紫外線-可見光擴散反射光譜 使用紫外線及可見光分光光度計（商標為UV-2500PC，島津公司製造）測量之。 3 ·離晶大小 使用X射線繞射儀（商標為RAD-IIA，RIGAKU公司製 造），於下列條件下獲得氧化鈦最大強度波峰（密勒指數： 101)之峰半寬、召（弧度）、及峰位置26> (弧度），然後依據 下列等式（VII)(舍林氏等式）計算而得到雛晶大小，Ει。 X射線管式燈 :Cu 燈管電壓 :40kV 燈管電力 :35mA 發散狹縫 :1度 散射狹縫 :1度 光接收狹縫 :〇.30mm 取樣寬度 =0.020 度 掃描速度 :2·00度/分 測定整合頻率 :1次 (nm) = K · λ /( β cos θ 此等式中，K為常數〇·94，λ為X射線測定波長（CuK^ _ 射線：0.154056nm)。 4.銳鈦礦結晶度 使用上述測篁雛晶大小所用之相同裝置及測量條件獲 得氧化鈦最大強度波峰（密勒指數：1〇1)之峰面積以 銳 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
ϋ _1 -ϋ ϋ 1 ϋ ^l^OJI ϋ ϋ .^1 ϋ ϋ I 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 14 311515 1234548 A7
五、發明說明（15 ) 鈦礦之結晶度。其中，以銳鈦礦型氧化鈦（商標為STT_ 65C-S，TITAN工業株式會社製造）為真實樣品，將其銳鈦 碟結晶度設定為1 (1〇〇%)。 宜1例1 於容積1升之燒瓶中，放置3 60克水，攪拌下，於其 内引入90克氧基硫酸鈦（SOEKAWA化學股份有限公司製 造）並混合付到溶液。以冰水冷卻該溶液下，以2 2分鐘逐 滴添加101克25%氨水溶液（特級，和光純化學工業公司製 造）’因而產生固體沉澱。過濾分離所得固體並予以乾燥。 於3 5 0 C空氣中鍛燒所得乾燥產物1小時而獲得氧化鈦顆 粒。測出所得氧化鈦之晶體構造為銳鈦礦型。該氧化鈦之 物理性質及其X射線光電子分光光譜分別示於表1及第3 圖。 接著，於直徑8公分、高1〇公分及容積約〇 5升之密 閉派勒克斯玻璃製反應容器中，放置直徑5公分之玻璃培 養皿。將僅由上述製得之氧化鈦顆粒組成之光催化劑置於 培養皿上’於反應容器内側裝填容積比為1 : 4之氧與氮混 合氣體，隨後於其中密封入4·5微莫耳乙醛，接著以波長 不小於43Onm之可見光予以照射。 使用Ushio公司製造、商標為OPTICAL MODULEX SX-UI500XQ之照明裝置作為光源。該裝置備有截止紫外 線濾波器（商標為Y-45，ASAHI TECHNO玻璃公司製造）， 其光譜特性如第1圖所示，截止紅外線濾波器（商標為 SUPER COLD FILTER，Ushio公司製造），其光譜特性如 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂-------- ρβ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 15 311515 1234548 A7 五、發明說明（16 第2圖所示，及燈（500W氙氣燈，商標為xjxL^oostUshio 公司製造）。以光照下產生之二氧化碳（乙醛之氧化性分解 產物）濃度評估光催化劑對乙醛之光催化活性，該濃度係使 用光聲多氣體檢測器（1312型，INNOVA製造）測定。測得 二氧化碳之產生率為19.36微莫耳/小時•克催化劑。 實施例2 於谷積500毫升之蘇型燒瓶中，放置克水，攪拌下， 於其内引入30克氧基硫酸鈦（SOEKAWA化學股份有限公 司製造）並混合得到溶液。使用蒸發器（6(rc )，濃縮該溶液 至達到86.9重篁％(以氧基硫酸鈦計）。於冷;東庫、_25°c冷 卻該濃縮溶液下，以5秒鐘逐滴添加137克25%氨水溶液 (特級’和光純化學工業公司製造）’因而產生固體沉厥。 過濾分離所得固體並予以乾燥。於400 °C空氣中鍛燒所得 乾燥產物1小時而獲得氧化鈦顆粒。測出所得氧化鈦之晶 體構造為銳鈦礦型。該氧化鈦之物理性質及其\射線光電 子分光光譜分別示於表1及第4圖。 接者’以實施例1之相同方式評估該氧化敛對乙酸之 光催化活性。測得二氧化碳之產生率為43丨5微莫耳/小 時•克催化劑。 比較例1 於400°C空氣中鍛燒KISHIDA化學股份有限公司製造 之冷-氧化鈦1小時而獲得氧化鈦。測出該氧化鈦之晶體構 造為銳鈦礦型。該氧化鈦之物理性質及其X射線光電子分 光光譜分別示於表1及第5圖。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ·%·· 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 16 311515 1234548 A7
五、發明說明（17 ) 接著，以實施例1之相同方式評估該氧化鈦對乙醛之 光催化活性β測得一氧化碳之產生率為0 93微莫耳/小時· 克催化劑。 生盞例2 重複實施例1，惟係使用僅由氧化鈦（商標為ρ-25， degussa公司製造）組成之光催化劑。測得二氧化碳之產 生率為0·0微莫耳/小時•克催化劑。該氧化鈦之物理性質 及其X射線光電子分光光譜分別示於表1及第6圖。 ίΜΜΛ 於容積ο·3升之燒瓶中，放置1〇〇克2〇G/❹三氯化鈦溶 液（特級，和光純化學工業公司製造），然後於氮氣氛圍下 攪拌。以冰水冷卻該溶液下，以3 〇分鐘逐滴添加14丨克 25%氨水溶液（特級，和光純化學工業公司製造），因而產生 固體沉厥。過濾分離所得固體，水洗並予以乾燥。於4〇〇 C空氣中鍛燒所得乾燥產物1小時而獲得氧化鈦顆粒。測 出所得氧化鈦之晶體構造為銳鈦礦型。該氧化鈦之物理性 質及其X射線光電子分光光譜分別示於表2及第7圖。 接著，於直徑8公分、高1〇公分及容積約〇 5升之密 閉派勒克斯玻璃製反應容器中，放置直徑5公分之玻璃培 養皿。使用Ushio公司製造、商標為UI-502Q(啟動器： XB-50101AA-A)之照明裝置作為光源。該裝置備有截止紫 外線濾波器（商標為Y-45，ASAHI TECHNO玻璃公司製 造），其光譜特性如第1圖所示，及燈（500W氙氣燈，商標 為UXL-5 00SX，Ushio公司製造）。將僅由上述製得之氧化 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)
ϋ 1_1 n ϋ 一一口， ϋ ϋ I— — ϋ. ϋ I % 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 17 311515 1234548 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 五、發明說明（18 ) 欽顆粒組成之光催化劑置於培養皿上，於反應容器内側裝 填容積比為1 : 4之氧與氮混合氣體，隨後於其中密封入 38微莫耳乙醛，接著以波長不小於43Onm之可見光予以昭 射。以光照下產生之二氧化碳（乙醛之氧化性分解產物）濃 度評估光催化劑對乙醛之光催化活性，該濃度係使用氣體 層析儀（島津公司）測定。測得二氧化碳之產生率為23 4微 莫耳/小時•克催化劑。 實施例4 於容積0.3升之燒瓶中，放置25克四氣化鈦溶液（特 級，和光純化學工業公司製造），然後予以攪拌。以冰水冷 卻該溶液下’以5分鐘逐滴添加3 6克2 5 %氨水溶液（特級， 和光純化學工業公司製造），因而產生固體沉澱。過濾分離 所得固體，水洗並予以乾燥。於400QC空氣中鍛燒所得乾 燥產物1小時而獲得氧化鈦顆粒。測出所得氧化鈦之晶體 構造為銳鈦礦型。該氧化鈦之物理性質及其X射線光電子 分光光譜分別示於表2及第8圖。 接著，以實施例3之相同方式評估該氧化鈦對乙醛之 光催化活性。測得二氧化碳之產生率為〇 75微莫耳/小時· 克催化劑。 比較例3 重複實施例3，惟係使用僅由氧化鈦（商標為p_25， DEGUSSA公司製造）組成之光催化劑，此氧化鈦具有銳欽 礦相及金紅石相。測得二氧化碳之產生率為0 3微莫耳/小 時•克催化劑。該氧化鈦之物理性質及其X射線光電子分 ΐ紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐）' ϋ "--1 ----r---^ . I------- (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -. 1234548
五、發明說明（19) 光光譜分別示於表2及第9圖。 實施例5 使實施例1製得之氧化鈦顆粒分散於水 化塗佈劑。將所得光催化塗佈劑塗覆於汽車破璃後，、催 乾燥，因而觀察到汽車玻璃表面一層該氧化鈦均 <勻分佈 [表1] 予以 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 實施例1 實施例2 比較例1 比較例2 指數 XitBVAJ 0.77 0.83 0.86 0.99 半寬AJeV) 2.20 1.71 1.51 1.34 半寬BJeV) 1.70 1.42 1.30 1.33 指數 0.183 0.260 0.027 0.065 吸光度積分值Ci 208.3 218.9 184.4 177.9 吸光度積分值Di 38.1 56.9 5.0 11.6 指數 ZipYiX ED 3.36 3.51 0.20 1.35 雛晶大小EJnm) 18.37 13.50 7.49 20.79 指數 WibYiX Ei x F〇 1.11 2.53 ~~~---- 0.13 0.97 銳鈦礦結晶度 Fi(-) 0.331 0.722 0.630 0.718 C02產生率（微莫 耳/小時·克催化 劑） 19.36 43.15 0.93 0.0 (請先閱讀背面之注音？事項再填寫本頁) %· ^^ 1111111 格 規 4 -A S) N (C 準 標 國 一國 中 用 適 度 j尺 一張ii 公 97 2 X ο 19 15 15 1234548 A7 B7 五、發明說明（2G) [表2] 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 實施例3 實施例4 比較例3 第一及第二次分析積 分光譜之波峰位置 458.7 458.2 458.2 指數 Vi tIVGO 0.64 0.92 0.99 半寬Gi (eV) 2.43 1.45 1.34 第三及第四次分析積 分光譜之波峰位置 458.3 458.2 458.2 半寬心（eV) 1.56 1.34 1.33 指數 Ui 0.196 0.119 0.126 吸光度積分值込 295.6 263.9 246.4 吸光度積分值乃 57.8 31.4 31.0 co2產生率（微莫耳/小 時•克催化劑） 23.4 0.75 0.3 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂--------- %- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 20 311515

Claims (2)

  2. 91.-. If 第891 1 1 103號專利申請案 申請專利範圍修正本 (94年3月1〇曰） 【· 一種氧化鈦，其以下列等式⑴計算出之Χι指數值不大 於〇.9〇，及以下列等式（Π)計算出之Υι指數值不小於 0.075， X] - Bj/Ai (I) γι - Di/Ci (II) 其中，於等式（I)中，八1與匕分別代表波峰之半寬，係 藉由包含下列步驟之製程而獲得： ⑴依據X-射線光電子光譜學分析氧化鈦八次， (ii) 獲得關於上述第一次分析及第二次分析之鈦電 子狀態之積分光譜， (iii) 獲得上述步驟（π)所得積分光譜之458 eV至 460 eV結合能範圍内之波峰之半寬，Al，及 (iv) 針對上述第七次分析及第八次分析進行如上述 (π)與（iii)之相同步驟而獲得波峰之半寬，Βι，及 經濟部中央標準局員工福利委員會印制衣 於等式（II)中，Q代表於氧化鈦紫外線-可見光擴散反射 光譜之洌量中’從250 nm至550nm波長範圍内之吸光 度積分值，及D〗代表在400 nm至550 ηιη波長範圍内 之氧化鈦吸光度之積分值。 2_ 一種氧化鈦，其以下列等式（I)計算出之Χι指數值不大 於0.90、以下列等式（II)計算出之Yl指數值不小於 0.075、及以下列等式（III)計算出之Zl指數值不小於 本紙張尺度_中_家標準（CNS) A4規格（21Gx 297公爱） 1(修正本） 311515 1234548 H3 0.75， Χι - Βι/Αι ⑴ γι - Ό,/C, (II) Ζ1 二 Υι χ Ε〗 (III) f中’於等式⑴中’〜與&分別代表波峰之半寬Μ:' 藉由包含下列步驟之製程而獲得： 、糸 ⑴依據X -射線光電子光譜學分析氧化鈦八次’ (ii)獲得關於上述第一次分析及第二次分析之鈦電 子狀態之積分光譜， ^ (Hi)獲得上述步驟（ii)所得積分光譜之458 eV至 460 ev結合能範圍内之波峰之半寬，Αι，及 (iv)針對上述第七次分析及第八次分析進行如上述 (H)與（iii)之相同步驟而獲得波峰之半寬，Βι， 於等式（II)中，C!代表於氧化鈦紫外線-可見光擴散反射 光譜之測量中，從250 nm至550nm波長範圍内之吸光 度積分值，及D!代表在400 nm至5 50 nm波長範圍内 之氧化鈦吸光度之積分值；及 於等式（III)中，E!代表氧化鈦之雛晶大小。 經濟部中央標準局員工福利委員會印製 3· 一種氧化鈦，其以下列等式⑴計算出之X】指數值不大 於0.90、以下列等式（Π)計算出之Yl指數值不小於 0.075、以下列等式（ΠΙ)計算出之Ζι指數值不小於 0.75、及以下列等式（IV)計算出之W!指數值不小於 0.40 ^ X] ill) B】/A D"C 2(修正本） 311515 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) A4規格（21G x 297&^) 1234548 H3 Z，= Yl ΧΕ' (III) H X Ε, x Fl (Ιν) 其中，於等式（I)中，Α盥Β八 丨 卜、βι刀別代表波峰之半寬，係 猎由包含下列步驟之製程而獲得： ⑴依據X-射線光電子光譜學分析氧化鈦八次， Ο!)獲得關於上述第一次分 子狀態之積分光譜，析及弟二次分析之欽電 (111)獲得上述步驟（ii)所得積分光譜之458 eV至 460 eV結合能範圍内之波峰之半寬，Al，及 广)·針對上述第七次分析及第八次分析進行如上述 (11)與（m)之相同步驟而獲得波峰之半寬，Βι， ^式（II)中，Cl代表於氧化鈦紫外線·可見光擴散反射 、、曰之測置中，從25〇11111至55〇nm波長範圍内之吸光 度積分值，及Dl代表在4〇〇_至55〇議波長範圍内 之氧化鈦吸光度之積分值；及 於等式（III)中，E,代表氧化鈦之雛晶大小；及 於等式（IV)中，FlR表氧化鈦銳鈦礦之結晶度。 經濟部中央標準局員工福利委員會印製 4. -種氧化鈦，其以下列等式（v)計算出之义指數值不大 於 0·93 ， V] = H]/G] (v) 係 其中，於等式（V)中，〇1與Hl分別代表波峰之半寬 藉由包含下列步驟之製程而獲得： (1)依據X-射線光電子光譜學分析氧化鈦四次 本紙張尺度^巾酬家鮮（CNS) A4規格（21厂 X 297公釐） 3(修正本） 311515 1234548 H3 (11)獲得關於上述第一次分析及第二次分析之 子狀態之積分光譜， (Hi)獲得上述步驟（11)所得積分光譜之458 ev至 460 eV結合能範圍内之波峰之半寬，，及 (π)針對上述第三次分析及第四次分析進行如上述 (ι〇與（iii)之相同步驟而獲得波峰之半寬，Hi。 5·如申請專利範圍第4項之氧化鈦，其中％指數 0.92。 6. 如申請專利範圍第4項之氧化鈦，其中％指數、 0.64 〇 ' 7. 一種氧化鈦，其以下列等式（V)計算出之％指數值不大 於0.93，及以下列等式（VI)計算出之小指數值不小於 0.14， ' Vi = H^Gi (V) Ui ^ Ji/Ii (VI) 其中，於等式（V)中，G!與Η!分別代表波峰之半寬，係 藉由包含下列步驟之製程而獲得： 經濟部中央標準局員工福利委員會印製 (1)依據X-射線光電子光譜學分析氡化鈦四次， (ii) 獲得關於上述第一次分析及第二次分析之敛電 子狀態之積分光譜， (iii) 獲得在上述步驟（ii)所得積分光譜之458 ev至 460 eV結合能範圍内之波峰之半寬，Gl，及 (iv) 針對上述第三次分析及第四次分析進行如上述 (ii)與（iii)之相同步驟而獲得波峰之半寬，，及 4(修正本） 311515 本紙張尺度翻中國國家標準（CNS) A4規格（21G X 297公爱） 1234548 H3 於等式（VI)中，L代表於氧化鈦紫外線_可見光擴散反射 光譜之測量中，從220 nm至800nm波長範圍内之吸光 度積分值’及J!代表在4〇〇 nm至800 nm波長範圍内 之氧化鈦吸光度之積分值。 8·如申請專利範圍第4項之氧化鈦，其中該鈦具有銳鈦礦 相。 9. 如申請專利範圍第7項之氧化鈦，其中該鈦具有銳鈦礦 相。 10. 種含有氧化鈦作為催化劑成分之光催化劑，該氧化 鈦以下列等式⑴計算出之X1指數值不大於0.90，及以 下列等式（II)計算出之Yl指數值不小於〇.〇75， Xi = B^/A! ⑴ Yl = D"C1 (II) 其中，於等式⑴中，、與B1分別代表波峰之半寬，係 藉由包含下列步驟之製程而獲得： ⑴依據X-射線光電子光譜學分析氧化鈦八次， (η)獲得關於上述第一次分析及第二次分析之鈦電 子狀態之積分光譜， (iii) 獲付在上述步驟（ii)所得積分光镨之458 eV至 4 6 0 e V結合能範圍内之波峰之半寬，a 1，及 (iv) 針對上述第七次分析及第八次分析進行如上述 (ii)與（iii)之相同步驟而獲得波峰之半寬，B〗，及 於等式（II)中，Q代表於氧化鈦紫外線-可見光擴散反射 光譜之測量中，從25〇11111至55〇nm波長範圍内之吸光 本紙張尺度適規格(21〇_ 297公釐） 5(修正本） 311515 1234548 H3 度積分值，及代表在400 nm至55 〜 ^ /t 王3:>υ nm波長範圍内 之氧化鈦吸光度之積分值。 U.一種含有氧化鈦作為催化劑成分之光催化劑，該氧化欽 以下列等式⑴計算出之X1指數值不大於0 90、以 等式（Π)計算出之Yl指數值不小於〇 〇75、及以下 式（III)汁异出之Ζι指數值不小於0.75， Χ* " Βι/Α, ⑴ Yl = D'/C* (II) Z丨= γιχΕι (m) f中’於等式⑴中’AJB1分別代表波峰之半寬，係 藉由包含下列步驟之製程而獲得： ⑴依據X-射線光電子光譜學分析氧化鈦八次， ⑼獲得關於上述第一次分析及第二次分析之鈦電 子狀恶之積分光譜， (iii) 獲得在上述步驟（11)所得積分光譜之458 eV至 460 eV結合能範圍内之波峰之半寬，A!，及 (iv) 針對上述第七次分析及第八次分析進行如上述 (ii)與（iii)之相同步驟而獲得波峰之半寬，& , ⑺於等式（Π)中，Ci代表於氧化鈦紫外線_可見光 擴散反射光譜之測量中，從25〇nm至55〇〇111波長範圍 内之吸光度積分值，及Dl代表在4〇〇 nm至55〇 nm波 長範圍内之氧化鈦吸光度之積分值；及 於等式（m)中，El代表氧化鈦之離晶大小。 12.—種含有氧化鈦作為催化劑成分之光催化劑，該氧化鈦 本紙張尺度_中關家鮮（CNS) 297公釐） 6(修正本） 311515 1234548 H3 ::下列等式⑴計算出之Xi指數值不大於〇·9〇、以下列 寺式㈤計异出之Υι指數值不小於0.075、以下列等式 (ΠΙ)计异出之Zl指數值不小於0.75、及以下列等式（IV) 計算出之Wl指數值不小於0.40， Xi = B〗/Ai Yi = D1/C1 1 j Yl x El ϋπ) Wl=Y> xE. xFl f中’於等式⑴中，、與Bi分別代表波修之半寬，係 藉由包含下列步驟之製程而獲得： ⑴依據X-射線光電子光譜學分析氧化鈦八次， (i〇d于關於上述第一次分析及第二次分析之鈦電 子狀恶之積分光譜， (πι)獲得在上述步驟（11)所得積分光譜之458 eV至 460 eV結合能範圍内之波峰之半寬，A】，及 (π〇針對上㈣七次分析及第八次分析進行如上述 (11)與（ill)之相同步驟而獲得波峰之半寬，Βι， 於寺式（II)中，C1代表於氧化鈦紫外線-可見光擴散反射 光.日之測里中，徒250 nm至55〇nm波長範圍内之吸光 度積分值，及D】代表為u a c… 1 η衣在400 nm至55〇 nm波長範圍内 之氧化鈦吸光度之積分值；及 於等式（III)中，E,代表氧化鈦之離晶大小’·及 於等式（IV)中，F】代表氧化欽銳欽礦之結晶度。 13.—種含有氧化鈦作為催化劑成分之光催化劑^节氧化鈦 以下列等式（V)計算出之V〗指數值不大於0.9^平、. 本紙張尺度適财關家鮮（CNS) A4^^(2l〇" 297公釐） 7(修正本） 311515 (V)1234548 H3 員 委 員 會 印 V f中’於等式（V)中’GjHi分別代表波峰之半寬，係 藉由包含下列步驟之製程而獲得： ⑴依據X-射線光電子光譜學分析氧化鈦四次， ⑼獲得關於上述第一次分析及第二次分析之鈦電 子狀態之積分光譜， (HD獲得在上述步驟（11)所得積分光譜之458 π至 460 eV結合能範圍内之波峰之半寬，&，及 針對上述第三次分析及第四次分析進行如上述 (η)與（iii)之相同步驟而獲得波峰之半寬，仏。 14·-種含有氧化鈦作為催化劑成分之光催化劑，該氧化欽 以下列等式⑺計算出之Vi指數值不大於"3， 列等式（VI)計算出之U】指數值不小於〇14， V1 - H1/G1 (V) U1 = Ji/Ii (VI) ^中’於等式（V)中’ 〇1與&分別代表波峰之半寬，係 藉由包含下列步驟之製程而獲得： Μ ⑴依據X·射線光電子光譖學分析氧化鈦四次， ⑻獲得關於上述第-次分析及第：次分析之欽带 子狀態之積分光譜， 弘 (ni)獲得在上述步驟（11)所得積分光譜之…至 460 eV結合能範圍内之波峰之半寬，，及 (π〇針對上述第三次分析及第四次分析進行如上述 311515 1234548 H3 (U)>與（111)之相同步驟而獲得波峰之半寬，Hl，及 於等式（VI)中，L代表於氧化欽紫外線-可見光擴散反射 光譜之測量中，p y 攸220 nm至80〇nm波長範圍内之吸光 度積分值，及了#主+ 1Λ 〆 1代表在400 nm至800 nm波長範圍内 之氧化鈦吸光度之積分值。 15·Γ種含t氧化鈦作㈣化劑成分之光催化劑，該氧化鈦 、下列等式（V)叶异出之Vl指數值不大於0.93，及具有 銳鈦礦相， V1 = Hi/Gi (V) 其中，於等式（V)中，〇1與Hl分別代表波峰之半寬，係 藉由包含下列步驟之製程而獲得： (0依據X-射線光電子光譜學分析氧化鈦四次， (i〇獲得關於上述第一次分析及第二次分析之鈦電 子狀態之積分光譜， (m)獲得在上述步驟（ii)所得積分光譜之458 eV至 460 eV結合能範圍内之波峰之半寬，Gi，及 經濟部中央標準局員工福利委員會印製 (π〇針對上述第三次分析及第四次分析進行如上述 (ii)與（iii)之相同步驟而獲得波峰之半寬，&。 16.—種含有氧化鈦作為催化劑成分之光催化劑，該氧化欽 以下列等式（v)計算出之V】指數值不大於〇·93,及以下 列等式（VI)計算出之U!指數值不小於〇·14，及具有銳 欽礦相， H】/Gi (V) U! = ],/!, (VI) 9(修正本）311515 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) A4規格（210 X 297公釐） 1234548
    1234548
    子狀態之積分光譜， (U1)獲得在上述步驟（11)所得積分光譜之eV至 6〇eV結合能乾圍内之波峰之半寬，a】，及 (iv)針對上述第七次分析及第八次分析進行如上述 (Π)與（iii)之相同步驟而獲得波峰之半寬，Βι，及 於，式（II)中，C,代表於氧化鈦紫外線·可見光擴散反射 光π曰之測里中，從250nm至550nm波長範圍内之吸光 ，積分值’及D,代表在譲i 550nm波長範圍内之 氧化鈦吸光度之積分值。 18·—種光催化塗佈劑，係包括： (1)選自水、鹽酸、醇類及酮類之溶劑；及 (U)含有氧化鈦作為催化劑成分之光催化劑，該氧 化欽以下列等式⑴計算出之X〗指數值不大於0.90、以 下列等式（II)汁异出之γ】指數值不小於〇 〇75、及以下 列等式（III)計算出之Zl指數值不小於〇 75， Χι =BJA! (I) Υι =D"Ci (II) Z! 二 Υι x Ei (III) 經濟部中央標準局員工福利委員會印製 其中，於等式（I)中，、與Bl分別代表波峰之半寬，係 藉由包含下列步驟之製程而獲得： ⑴依據X-射線光電子光譜學分析氧化鈦八次， (Π)獲得關於上述第一次分析及第二次分析之鈦電 子狀態之積分光譜， (m)獲得在上述步驟（π)所得積分光譜之458 eV至 11(修正本） 311515 本紙張尺度適財目_鮮(CNS) Α4^^7·2ι〇χ 297^*) 1234548 460 eV結合能範圍内之波♦之半寬，A】，及 (1V)針對上述第七次分析及第八次分析進行如上述 (ii)與（iii)之相同步驟而獲得波♦之半寬，Βι， ⑽於等式（π)中，Cl代表於氧化鈦紫外線_可見光 擴散反射光譜之測量中，從250麵至550nm波長範圍 内之吸光度積分值，及D,代表在400nm至5 5 0nm波長 範圍内之氧化鈦吸光度之積分值；及 於等式（III)中，E】代表氧化鈦之雛晶大小。 19. 一種光催化塗佈劑，係包括： (0選自水、鹽酸、醇類及酮類之溶劑；及 (ii)含有氧化鈦作為催化劑成分之光催化劑，該氧 化鈦以下列等式⑴計算出之Χι指數值不大於〇.90、以 下列等式（π)計算出之Yl指數值不小於〇 〇75、以下列 等式（III)計算出之Zl指數值不小於〇75、及以下列等 式（IV)計算出之W!指數值不小於〇.4〇， Χι = =B^A! (I) Yl : ^ Di/C! (II) Z!二 :Yi x El (III) W! =Υι x E! x Fi (IV) 其中，於4式⑴中，A1與B〗分別代表波峰之半寬，係 藉由包含下列步驟之製程而獲得： 經濟部中央標準局員工福利委員會印製 (i)依據X-射線光電子光譜:學分析氧化鈦八次， (Π)獲得關於上述第一次分析及第二次分析之鈦電 子狀態之積分光譜， 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) A4規格 1234548 H3 ㈣獲得在上述步驟（ιι)所得積分光譜之祝〜至 eV結合能範圍内之波峰之半寬，a丨，及 r (:V)針對上述第七次分析及第八次分析進行如上述 (Π):、（111)之相同步驟而獲得波峰之半寬，Βι， 手式（II) t ’ C，代表於氧化欽紫外線_可見光擴散反射 广測量中’從250議至55〇_波長範圍内之吸光 =分值’及Dl代表在彻nm至55Qnm波長範圍内之 乳化鈦吸光度之積分值；及 於等式（III)中，El代表氧化鈦之雛晶大小；及 於等式（IV)中，F1代表氧化鈦銳鈦礦之結晶度。 20·種光催化塗佈劑，係包括·· (0選自水、鹽酸、醇類及酮類之溶劑；及 (11)含有氧化鈦作為催化劑成分之光催化劑，該氧 化鈦以下列等式（V)計算出之V,指數值不大於〇·93， v] = (v) 2中，於等式（V)中，（^與仏分別代表波峰之半寬，係 藉由包含下列步驟之製程而獲得： ⑴依據X-射線光電子光譜學分析氧化鈦四次， (U)獲得關於上述第一次分析及第二次分析之鈦電 子狀恶之積分光譜， (Π1)獲得在上述步驟（11)所得積分光譜之458 eV至 460 eV結合能範圍内之波峰之半寬，g!，及 (π〇針對上述第三次分析及第四次分析進行如上述 (π)與（iii)之相同步驟而獲得波峰之半寬，Ηι。 X 297公釐） 13(修正本） 311515 2 1 · —種光催化塗佈劑，係包括·· ⑴選自水、鹽酸、醇類及_員之溶劑.及 (-)含有氧化鈦作為催化劑成分之 几 化鈦以下列等式（V)計算出之 劑，該氧 1¾數值不大於 以下列等式（Μ計算出^指數值不小於ο/3 % = Hl/Gl (V) ' Ul=Jl/l1 (VI) /、中於等式（V)中，G】與Ηι分別代表波峰之半寬，係 藉由包含下列步驟之製程而獲得： 、” ⑴依據X-射線光電子光譜學分析氧化鈦四欠， (H)獲得關於上述第一次分析及第二次分析之鈦電 子狀恶之積分光譜， (ill)獲得在上述步驟（il)所得積分光譜之458 eV至 460 eV結合能範圍内之波峰之半寬，，及 (iv)針對上述第三次分析及第四次分析進行如上述 (11)與（111)之相同步驟而獲得波峰之半寬，Ηι，及 於等式（VI)中^^戈表於氧化鈦紫外線—可見光擴散反射 光譜之測量中，從220nm至800nm波長範圍内之吸光 度積分值’及J!代表在400nm至800nm波長範圍内之 氧化鈦吸光度之積分值。 22. —種光催化塗佈劑，係包括： (i)選自水.、鹽酸、醇類及酮類之溶劑；及 (ii)含有氧化鈦作為催化劑成分之光催化劑，該氧 化鈦以下列等式計算出之V】指數值不大於0.93，及 14(修正本） 311515 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) A4規格（210 X 297公爱） 1234548 H3 具有銳鈦礦相， (V) Vi = Hj/Gj 其中’於等式（V)中，g傲υ \ 拉xh h人 1 1刀別代表波蜂之半寬，俜 措由包含下列步驟之製程而獲得： ⑴依據X-射線光電子鬼 a 尤°曰予刀析氧化鈦四次， (η)獲得關於上述第一次 ^ . v τ> 刀析及弟二次分析之鈦電 子狀恶之積分光譜， (111)獲得在上述步驟（i 1 )所传積分光譜之458 eV至 460 eV結合能範圍内之波峰之半寬，&，及 (iv)針對上述第三次分 刀析及弟四次分析進行如上述 (η)與（iii)之相同步驟而獲得波峰之半寬，Η]。 23. —種光催化塗佈劑，係包括： ⑴選自水、鹽酸、醇類及酮類之溶劑；及 (Π)含有氧化鈦作為催化劑成分之光催化劑，該氧 化鈦以下列等式（V)計算出之Vi指數值不大於〇 93，及 以下列等式⑽計算出之u』數值不小於〇14，及具 有銳献礦相， 經濟部中央標準局員工福利委員會印製 (V) Ui = J】/Ii (VI) 其中，於專式（V)中，G!與Η!分別代表波峰之半寬，係 藉由包含下列步驟之製程而獲得： (1)依據X-射線光電子光譜學分析氧化鈦四次， (ii)獲得關於上述第一次分析及第二次分析之鈦電 子狀態之積分光譜， 15(修正本） 311515 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) A4規格（210 x 297公爱） 1234548 經濟部中央標準局員工福利委員會印製 H3 (iii) 獲得在上述步驟（li)所得積分光譜之458 eV至 460 eV結合能範圍内之波峰之半寬，，及 (iv) 針對上述第三次分析及第四次分析進行如上述 (ii)與（iii)之相同步驟而獲得波峰之半寬，Hi，及 於等式（VI)中，Ιι代表於氧化鈦紫外線-可見光擴散反射 光譜之測量中，從220nm至800nm波長範圍内之吸光 度積分值，及Ji代表在4〇0nm至800nm波長範圍内之 氧化鈦吸光度之積分值。 16(修正本） 311515 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS) A4規格（210 X 297公釐）
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