TWI226555B - Network-based photomask data entry interface and instruction generator for manufacturing photomasks - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 29
- 238000013479 data entry Methods 0.000 title description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 claims abstract description 41
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 28
- 230000002079 cooperative effect Effects 0.000 claims description 13
- 230000004044 response Effects 0.000 claims description 2
- 229910007933 Si-M Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910008318 Si—M Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 36
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 24
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 9
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 8
- 238000003908 quality control method Methods 0.000 description 4
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000012938 design process Methods 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 238000000547 structure data Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010200 validation analysis Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
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- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06Q—INFORMATION AND COMMUNICATION TECHNOLOGY [ICT] SPECIALLY ADAPTED FOR ADMINISTRATIVE, COMMERCIAL, FINANCIAL, MANAGERIAL OR SUPERVISORY PURPOSES; SYSTEMS OR METHODS SPECIALLY ADAPTED FOR ADMINISTRATIVE, COMMERCIAL, FINANCIAL, MANAGERIAL OR SUPERVISORY PURPOSES, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G06Q30/00—Commerce
- G06Q30/02—Marketing; Price estimation or determination; Fundraising
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06Q—INFORMATION AND COMMUNICATION TECHNOLOGY [ICT] SPECIALLY ADAPTED FOR ADMINISTRATIVE, COMMERCIAL, FINANCIAL, MANAGERIAL OR SUPERVISORY PURPOSES; SYSTEMS OR METHODS SPECIALLY ADAPTED FOR ADMINISTRATIVE, COMMERCIAL, FINANCIAL, MANAGERIAL OR SUPERVISORY PURPOSES, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G06Q30/00—Commerce
- G06Q30/04—Billing or invoicing
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06Q—INFORMATION AND COMMUNICATION TECHNOLOGY [ICT] SPECIALLY ADAPTED FOR ADMINISTRATIVE, COMMERCIAL, FINANCIAL, MANAGERIAL OR SUPERVISORY PURPOSES; SYSTEMS OR METHODS SPECIALLY ADAPTED FOR ADMINISTRATIVE, COMMERCIAL, FINANCIAL, MANAGERIAL OR SUPERVISORY PURPOSES, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G06Q30/00—Commerce
- G06Q30/06—Buying, selling or leasing transactions
- G06Q30/0601—Electronic shopping [e-shopping]
- G06Q30/0603—Catalogue ordering
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06Q—INFORMATION AND COMMUNICATION TECHNOLOGY [ICT] SPECIALLY ADAPTED FOR ADMINISTRATIVE, COMMERCIAL, FINANCIAL, MANAGERIAL OR SUPERVISORY PURPOSES; SYSTEMS OR METHODS SPECIALLY ADAPTED FOR ADMINISTRATIVE, COMMERCIAL, FINANCIAL, MANAGERIAL OR SUPERVISORY PURPOSES, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G06Q50/00—Information and communication technology [ICT] specially adapted for implementation of business processes of specific business sectors, e.g. utilities or tourism
- G06Q50/04—Manufacturing
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/30—Electron or ion beam tubes for processing objects
- H01J2237/317—Processing objects on a microscale
- H01J2237/3175—Lithography
- H01J2237/31761—Patterning strategy
- H01J2237/31762—Computer and memory organisation
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P90/00—Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
- Y02P90/30—Computing systems specially adapted for manufacturing
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- Business, Economics & Management (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Development Economics (AREA)
- Accounting & Taxation (AREA)
- Finance (AREA)
- Strategic Management (AREA)
- Marketing (AREA)
- General Business, Economics & Management (AREA)
- Economics (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Game Theory and Decision Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Entrepreneurship & Innovation (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Human Resources & Organizations (AREA)
- Primary Health Care (AREA)
- Tourism & Hospitality (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Management, Administration, Business Operations System, And Electronic Commerce (AREA)
Description
1226555 A7 _____B7 _ 五、發明説明(1 ) [發明領域] (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本發明關係於光罩的製造,更明確地說,係關於一網路爲 主系統,其允許遠端客戶提供圖案設計資料及光罩規格,並使 用此資料以產生用於光罩製造設備之指令。 [發明背景] 光罩係爲半導體製造之微影製程的一整合部份。光罩 係爲石英或玻璃板,其包含積體電路的精確影像層。這些係 用以於光阻曝光時,光學轉移影像至半導體晶圓上。 光罩需要設計上複雜之數學演繹法,並使用智慧型之製 造設備。爲了製作光罩,一客戶,例如一晶片製造者提供光罩 製造者以電路設計資料及光罩規格。此資料係被用以產生 適用於該製造設備之格式的光罩圖案資料。每一光罩然後 藉由使用光微影技術加以創造。 經濟部智慧財產局員工消费合作社印製 傳統上,由客戶所提供之資料,不管以何格式係對於客戶 方便爲主,基於客戶之設計系統。電路設計資料係典型由 CAD類型系統作成,每一圖案係有一設計。該資料可能於各 種媒體上,例如軟碟,磁帶,卡匣,或經由數據機連接被傳送給 製造者。光罩規格必須呈硬拷貝形式或呈電子形成,於一些 類型之實體媒體被傳送給製造者,或被電子式輸送。完全沒 有保護客戶所提供之資料將會完成,或者,它將能爲一可製造 之光罩。 [發明背景] 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -4 - 1226555 A7 _ B7 _ 五、發明説明(2 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本發明之一方面係爲一網路爲主之產生指令方法,以用 於光罩製造設備中。一客戶電腦建立一遠端連接至廣域網 路,同時,也可以爲一製造者的區域網路所接取。一連串之訂 單輸入顯示螢幕係被下載至客戶電腦。這些螢幕使客戶快 速輸入光罩規格資料,該資料指明諸層,諸圖案,諸放置處及 用於至少一光罩之分裂資料。此光罩規格資料係相通訊至 光罩製造者之區域網路。區域網路於遠端連接時確認光罩 規格資料。區域網路同時反應於光罩規格資料,產生兩類型 之指令:分裂指令及設備控制指令。分裂指令操作於來自客 戶之圖案設計資料上,以提供分裂圖案資料。分裂圖案資料 及控制指令可以電子式輸送至製造設備。 本發明之一優點是區域網路可直接操作以反應於客戶 提供之光罩規格資料。其並不需要爲光罩製造者所輸入之 資料。該方法發生於”線上”,在於光罩規格資料係使用資料 的電子轉移方式加以接收及處理。其係被接收於想要格式, 使得對於該至訂單產生器之輸入並不需要再重新作格式,。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 此輸入光罩規格資料的方法大量降低了製造光罩所需 要的時間。例如,當圖案係被以傳統方式手動分裂時,分裂製 程可以花上70倍於本案之時間。以本發明,分裂指令可以於 客戶輸入訂單資料時被產生。 於此同時,本發明確保客戶所提供之所有用於製造及會 計上必須資訊。資訊係被接收呈劃一格式。訂單資料係被 驗證以確保光罩係爲可製造的。訂單輸入製程可以容易地 被整合以會計目的用之計帳系統。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -5 - 1226555 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明(3) [圖式簡要說明]: 第1A圖爲依據本發明之用以取得光罩資料及產生製造 指令之網路爲主系統。 第1B圖爲由第1A圖之系統所進行之方法。 第1C圖爲第1B圖之訂單輸入步驟。 第2-7圖爲各種被下載至客戶電腦的顯示螢幕,其係相 符第1C圖之訂單輸入步驟。 第8圖爲於第1B圖計帳資料步驟時,輸入計帳資訊的顯 示螢幕。/ 第9圖爲顯示第1B圖之確認步驟結果的確認螢幕。 第10A及10B圖爲訂單總結顯示,其係被輸送給製造廠 主要元件對照表 20 登 入 螢 幕 21 新 客 戶 鏈 路 22 選 單 30 工 具 資 料 螢幕 31 訂 單 拷 貝 框 32 客 戶 資 訊框 33 品 管 框 34 證 明框 35 層 及 圖 案 框 36 薄 膜 框 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X於7公釐) · 6 - • I (請先閱讀背面之注意事項再填寫本貰)
1226555 A7 B7 五、發明説明(4 ) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 37 工 具 及材料 框 38 創 造 及 進 行按鈕 40 層 資 料 螢 幕 41 層 資 料行 50 圖 案 資 料 螢 幕 51 圖 案 資 料行 60 圖 案 放 置 螢 幕 70 圖 案 分 裂 螢 幕 72 資 料 庫 輸 入 行 80 計 帳 資 料 螢 幕 90 確 認 螢 幕 100 總 結 螢 幕 102 客 戶 電 腦 104 設 計 電 腦 106 設 計 資 料 庫 108 界面 電 腦 110 客 戶 設 計 資 料庫 112 資 料 庫 114 命令 產 生 器 116 分 裂 引 擎 118 電 腦 [本發明之詳細說明] 系統槪要 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 1226555 A7 B7__ _ 五、發明説明(5 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 第1A圖爲一依據本發明之用以取得光罩資料並產生製 造指令之網路爲主系統。第1 B圖爲第1A圖之系統所執行 之方法。 電腦102,108,1 1 4,及118係被假設具有處理資源及記憶 體以執行於此所述之功能。它們更進一步假設具有相關程 式記億體,用以儲存這些功能之程式。 如於第1A圖所示,客戶係被假設具有一客戶電腦102,及 一電路設計電腦104及電路設計資料庫106。客戶計算設備 可以於一客戶的區域網路上。 示於第1A圖之計算設備之其他部份係爲由光罩製造者 所操作之區域網路100。於第1A圖之例子中,所有這些設備 係於相同區域網路(LAN)上,但也可以是其他處理架構。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 有關於電腦設計上之處理工作的分配,第1A及1B圖只 是爲一可能之實施例。例如於製造者之區域網路100上之 電腦108,114及118所執行之各種處理工件可以執行於少數 電腦上。例如,雖然第1B圖顯示步驟120-124係爲一單一界 面電腦1 08所執行,但這些步驟也可以執行於不同電腦設備 上。雖然以下說明係針對爲區域網路100中之特定電腦所 執行之處理工作,但這些工作也可以爲一區域網路100所執 行。 客戶電腦102經由遠端連接提供至界面電腦108之接取 。網路接取可以經由任一 LAN或WAN。典型地,遠端連接 係經由一寬域網路(WAN)。例如,網路可以爲網際網路,及客 戶電腦102可以建立以連接至網頁。於此所述之各種使用 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) ^ 1226555 A7 B7 五、發明説明(6 ) 者界面螢幕係被下載至客戶電腦102。界面電腦108將接收 客戶所輸入於這些螢幕上之光罩資料。各種網路伺服器及 其他設備將取決於網路的類型;只有端站係被示於第1A圖 中。當網際網路連接時,客戶電腦1 02不必具有瀏覽器以外 之特殊程式。 客戶同時具有一電路設計電腦1〇4。電路設計電腦1〇4 儲存用以產生客戶積體電路之設計用之程式。也有可能電 腦102及104爲相同設備,但典型地,電腦1〇2爲一 PC類型電 腦及電腦104爲UNIX類型工作站。客戶之電路設計資料係 被儲存於客戶設計資料庫106中。如由第1B圖之步驟127 所示,在製造光罩前之一些點處,此設計資料係被傳送至客戶 設計資料庫1 1 0,用以接取製造者區域網路。 界面電腦1 08儲存用以接收之程式,其係客戶經由網路 連接之光罩規格資料。換句話說,光罩規格資料係由客戶於 線上接收,使用訂單輸入形式,其組織於特定格式之資料。此 資料係立即可爲製造者區域網路上之其他計算設備所使用 。界面電腦108同時儲存程式,其使用光罩規格資料以設計 一或多數光罩,光罩將符合製造要求及客戶規格者。第1B谓 之步驟120- 124例示由界面電腦108所執行之訂單輸入處理 及其他處理。 電腦108儲存光罩規格資料於光罩規格資料庫112中。 此資料係爲訂單產生器114所接取,該產生器產生被輸送至 光罩製造設備之指令。明確地說,訂單產生器114產生分裂 指令,其係被輸送至分裂引擎116。分裂引擎116同時接收 ^紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X297公釐) ^ —---------- (請先閲讀背面之注意事1再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1226555 A7 B7 五、發明説明(7) 來自資料庫110之圖案設計資料並產生分裂圖案資料。訂 單產生器1 14同時產生控制指令,其指明將於何處及如何寫 圖案。 分裂圖案資料及控制指令係被輸送至製造設備可接取 之記憶體,該製造設備產生用於每一層積體電路之光罩。於 今曰之製造環境中,製造設備係爲電腦控制微影設備。 記帳檔案產生器118係用以作爲光罩規格資料至製造 者記帳系統的界面。其選擇適當資料並將之安排成爲記帳 系統可用之格式。 光罩規格的線上輸入 第1C圖示出第1B圖之步驟121中所執行之各種步驟。 於此步驟中,界面電腦108接收光罩規格資料,使甩一形式類 型訂單輸入界面。如下所述,假設客戶已經接取一網路,用以 下載各種使用者界面螢幕。這些螢幕係被顯示於客戶電腦 102上,並導引客戶輸入光罩規格資料。 第1C圖之步驟13卜136均相關於一不同使用者界面螢 幕。這些螢幕係示於第2-7圖。爲了補充一光罩訂單,客戶 依序接取這些螢幕,並輸入爲每一螢幕所提起之資料。 顯示螢幕係被安排成以一格式傳送資料至界面電腦108, 以產生用於該訂單之適當指令。諸螢幕具有各種爲使用視 窗類型作業系統的使用者所知的界面特性。這些特性包含 資料輸入框,下拉選單,及選擇按鈕及軸。協助符號允許客戶 觀看協助資訊。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 1〇· I--------^^1 — (請先閲讀背面之注意事^再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1226555 A7 B7 五、發明説明(8 ) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 第2圖爲一登錄螢幕20,其係爲客戶所看到之第一螢幕 。其中接取係經由網際網路,此螢幕係反應於客戶進入光罩 製造者之URL而被顯示。 每一訂單需要客戶首先具有一帳號。一新客戶鏈路21 允許客戶以設立一帳號,藉以接收使用者名稱及密碼。於此 同時,客戶可以被設立以用於網路接取至客戶設計資料庫 110。這允許客戶由客戶資料庫106電子式傳送電路設計資 料至爲製造者所維持之資料庫11 0。如以下所述,此轉移並 不需要以用以建立一訂單之相同網路連接完成。 爲了輸入一訂單,使用者係被提示輸入一使用者名稱及 密碼。一選單22允許使用者以要求建立一新訂單。 第3A及3B圖例示一般工作資料螢幕30。螢幕30頂部 之導引條30通知在設計處理中之現行位置之客戶並允許客 戶進行於所有螢幕間。 一訂單拷貝框3 1允許使用者重新下一進行中之訂單或 者基於一舊訂單創造一新訂單。這降低了客戶重新輸入爲 新訂單所再使用的資料之情形。 一客戶資訊框32提示客戶輸入相關聯絡資訊。一品質 管制框33提供一下拉選單,用於各種之品質控制,例如一晶 粒晶粒,人工式,或晶粒對資料庫之品管。一證明框34,提供 下拉選單,用以選擇證明。 一層及圖案框35提示使用者以命名裝置,及指明層及圖 案之數量。一工具及材料框37,提供下拉選單,用以生產類型 玻璃類型,玻璃尺寸及厚度及塗層。也可以包含一反射率規 請 先 閲 讀 背 之 注· 意 事 項· 再 奢 I 裝 訂 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210 X 297公釐) 1226555 A7 B7 五、發明説明(9 ) 格。一薄膜框36允許客戶指明薄膜資料。各種步進機資料 同時也可以輸入。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 一 ”創造及前進”按鈕38提示客戶儲存輸入於螢幕30上 之資訊並進行至下一螢幕。輸入之螢幕30之資訊係被帶至 後續螢幕中。 第4圖示出一層資料螢幕40,其提示客戶以輸入用於每 一層之資料。螢幕40具有一層資料行41,只用於一層。其他 行41將被顯示用於其他層,使得其中之行41係相同於螢幕 30之框35中所指之層數。對於每一層,一客戶係被提示以輸 入一名稱,一條碼,一登記公差,及其他層資訊。 第5圖例示一有圖案資料螢幕50 —組圖案資料行5 1係 被顯示用於被指明於螢幕30中之每一圖案。組51之第一行 上,客戶輸人一圖案名稱,其指明圖案作爲一初步,測試,框架 或其他類型之圖案。客戶同時指明是否圖案予以被分裂。 於組51之後續行中,對於每一層,客戶指出放置量,放置的位 置,及其他分裂資料。臨界尺寸(CD)資料允許製造者以驗證 是否光罩符合客戶之規格。雖然於第5圖中之例子只有單 一層(於組5 1中之兩行),但其他行也可以產生用於其他層。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 第6圖例示一圖案放置螢幕60。使用螢幕60,客戶指明 將每一圖案放在何處。如由行61所指出,圖案資料係由螢幕 50所帶來,使得營幕60通過每一層及在每一層上之每一圖案 〇 第7圖例示一圖案分裂螢幕70。再一次,來自先前螢幕 之資料係被帶來。雖然第7圖示出用於單…圖案之資料輸 -12- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 1226555 A7 B7 五、發明説明(ι〇) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 入,但行7 1將重覆於每一圖案,如同資料輸入框般。一資料 庫輸入行72提示客戶輸入用以指明及找到客戶資料庫1 1〇 中之圖案資料的資料。於螢幕70上之其他框73提示客戶以 輸入刻度,GDS,及窗限制資料。 II單輸入外之製稈 再次參考第1A及1B圖,客戶訂單輸入(步驟121)以外之 各步驟係被顯示。如以下所述,這些步驟與訂單輸入同時發 生或在其後發生。 步驟125發生於步驟121後。爲客戶於訂單輸入處理時 所輸入之資料係被儲存作爲於光罩規格資料庫1 1 2中之光 罩規格資料。 步驟1 22係由客戶接收計帳資料。此步驟可以發生於 相同於如步驟1 2 1之網路連接。於此說明例中,一計帳資料 螢幕係立即出現在螢幕70後。 第8圖爲用以接收步驟1 22之計帳資料之計帳資料螢幕 80。客戶被提示以輸入用以計帳光罩的各種資料。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 步驟123係爲確認步驟,其可以於步驟121中或之後進 行。即步驟1 23可以於客戶仍在線上時執行。於步驟1 23中, 界面電腦1 08處理訂單資料,以確保其有效性。確認技術例 子包含確保客戶已輸入於步驟120中所有所需之資料。於 另一例子中,客戶資料可以被檢查,以確定所指定圖案將適合 該層。確認之詳細說明係被說明如下。 第9圖爲一確認螢幕90。螢幕90表示已被執行之步驟 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 1226555 A7 ___ B7__ 五、發明説明(11) (請先閲請背面之注意事項再填寫本頁) 123。若步驟123乏確認測試之一失敗,則客戶將會被於螢幕 90中被通知一不同信息,並給一機會以回到有資料造成失效 的螢幕中,使得該錯誤將被校正。 第10A及10B圖例示一訂單槪要螢幕100,其係被送至予 以產生光罩之廠中。一訂單總結可以被送至客戶電腦1 02 。螢幕100可以被電子式輸送或列印並以硬拷貝形式傳遞 〇 於步驟124中,某些項目之訂單輸入資料係被選擇並安 排以用於一計帳系統中。例如,訂單資料可以格式化爲”半檔 案”,其符合用於訂單資訊之半導體工業標準。一特殊計帳資 料產生器118可以用於此工作。然而,如有關於第1A及1B 圖所述者,由區域網路1 00之計算設備所執行之處理工作的 分割可能在本發明之不同實施例而有所不同。 步驟126係被執行於當客戶輸入資料(於步驟121)。於 步驟126中,命令產生器114接收被輸入至螢幕70之分裂資 料。其使用該資料,及儲存於其程式記憶體中之分裂演繹法, 以產生分裂指令。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 對於一些製造系統,用於一特定組圖案之分裂指令係被 稱爲”cine檔案”,以下指令代表cine檔案之一部份,其描述一 單一圖案。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) _ 14 - 1226555 A7 B7 五、發明説明(12) , !Fractufe—l clear (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
Allocate一rects 500000 Allocate一traps 500000 Allocate一space 20000000 Format MEBES Mebes MACHINE 3 Compact FLY Rule PARAGON Border OUTSIDE 工nput $ INPUT一PATH/JEFF · GDS Resolution 0 Structure MAIN Layers 1,3,5,7
Limits (-12000, -15000, 12000, 15000)
Scale 1
Output $OUTPUT_PATH/dpiOOOOOO_22.cflt Do 一 一完整cine檔案將對於每一圖案具有類似之說明。 分裂指令的自動產生免除了相關於手動輸入之錯誤。 分裂指令可以當客戶輸入圖案及分裂資料時被產生於”線上1 。如上有關於第1A及1B圖所示,分裂指令係配合客戶設計 資料一起使用,以創造爲製造設備所認識之光罩圖案。 於步驟127中,命令產生器114接收來自資料庫112之光 罩規格資料。其使用此資料以產生用於製造設備之指令。 此結果爲一組電腦指令%其將造成圖案被寫在光罩皮上。這 些指令有時被稱爲”工作卡疊”。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 於步驟128中,客戶電路設計資料係被輸送至製造者。 若設計資料係以電子形式送出,其可以被送於一與用於訂單 輸入之網路的不同連接點上。例如,一保全FTP檔案轉移可 以被使用。設計資料係被儲存於客戶資料庫11 0中。 光罩規格及計帳資料的確認 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -15 - 1226555 A7 B7 五、發明説明(13) 如上所述,於步驟123中,客戶之光罩規格資料可以於線 上確認,即當其被輸入之同時。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 以下確認處理係爲一組於步驟1 2 3時所執行之工作例 子。如以下所述,很多確認工件可以被分類。一些工作決定 是否指定資料被輸入否。其他工作決定資料是否呈指定格 式,即於十進制之範圍中。其他工作決定是否資料符合指定 尺寸要件,例如,是否圖案配合一光罩或是否放置對齊。 對於每一例示於第3A-9圖中之螢幕,發生以下確認工作: 一般工具資料螢幕30: 確認以離開: 客戶名稱 裝置名稱 層數量 圖案數量 確認於整數範圍中 層數量(1-99) 圖案數量(1-99) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 確認於十進制範圍 反射率(0.0-100) 特殊確認 電子郵件信箱 層資料螢幕40: 本紙張尺度適用中.國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 1226555 A7 B7 五、發明説明(14) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 確認以離開 層名稱 特殊確認 層名稱被確認爲特有的 圖案資料螢幕50: 確認以離開 每層之圖案放置量 確認範圍中之整數 每層之圖案放置量(0-99) 確認於十進制之範圍 位單元(0.0-10.0) 尋找CD尺寸(任何十進制) CD 容許度(0.0-1000.0) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 圖案放置螢幕60: 確認爲十進制 放置X(任何十進制) 放置Y(任何十進制) 圖案分裂螢幕70: 確認爲十進製範圍 分裂資料規格(0.0-10000.0) 特殊確認 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -17- 1226555 A7 B7 五、發明説明(15) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 分裂資料庫名被確認爲有效檔案名 分裂頂結構被確認爲有效檔案名 窗限制係被確認爲,使得上右X-左下X之絕對値係少於等於 玻璃寬度 窗限制係被確認,使得上右Y-左下Y之絕對値係少於等於玻 璃高度 計帳資料螢幕80: 特殊確認 計帳管理者電子郵件,計帳資訊電子郵件,及運送資訊電子郵 件係被確認,以確認其爲有效電子郵件信箱 確認螢幕90: 客戶名稱 裝置 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 聯絡名稱 聯絡電話 聯絡傳真 聯絡電子郵件 產品類型 玻璃類型 玻璃尺寸/厚度 玻璃塗層 缺陷要件 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 1226555 A7 B7 五、發明説明(16) 圖大小 層數量 圖案數量 用於螢幕之確認欄位:訂單資訊 P〇數量 計帳位置 計帳城市 計帳州 計帳國家 計帳區域號 計帳聯絡 計帳聯絡電話 計帳聯絡傳真 計帳聯絡電子郵件 運送位址 運送城市 運送州 運送國家 運送區域號 運送聯絡 運送聯絡電話 運送聯絡傳真 運送聯絡電子郵件 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Μ規格(210 X297公釐) :扣: (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -裝· 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1226555 A7 B7 五、發明説明(17) 取得層數量 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 通過每一層及確認每一層: 取得該陣列之層屬性 確認螢幕的欄位:層資訊 光罩名稱 條碼文(若先前資訊中需要) 罩極性 名稱極性 下一層 確認圖案資料 圖案名稱 分裂需求 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 決定是否需要分裂 確認用於螢幕之欄位:分裂資訊 注意:只有頂層欄位,非層有關 資料庫名 頂結構 資料超出 窗限制-LLX 窗限制-LLY 窗限制-URX 窗限制-URY 取得&確認圖案陣列 啓始總放置 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 1226555 A7 B7 _ 五、發明説明(18) 確認圖.案陣列資料(圖案及分裂) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 確認圖案資訊 位址單元外 最終CD尺寸 CD數位化 數位化資料音 確認分裂資訊 GDS層 輸入圖案檔名 取得及確認放置數量 確認放置資料 取得放置屬性 形成用於錯誤信息之根 用於螢幕之確認欄位:放置資訊 X値 Y値 下一放置 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 若圖案層放置量>0結束 下一圖案層 下一圖案 其他實施例 雖然,本發明已經詳述,但應了解的是各種改變,替代及 變化仍可以在不脫離本發明之精神及範圍下加以完成,本發 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐〉 -21 - 1226555 A7 B7 五、發明説明(19) 明之範圍係由隨咐之申請專利範圍所定義 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -裝. 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐)
Claims (1)
1226555
六、申請專利範圍 A8 B8 C8 D8 1 ·一種電腦網潞,.用以產生爲光罩製造設備所使用之指 令,該網路包含: (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 一界面電腦,可經由一遠端網路連接接取一遠端客戶電 腦,及於網路連接時,界面電腦操作以執行以下工作:由客戶 電腦接收光罩規格資料,確認光罩規格資料,及下載確認結果 至客戶電腦; 其中該光罩規格資料至少指明至少一光罩之諸層,諸圖 案,放置及分裂資料; 一光罩規格資料庫,與界面電腦相通,可操作以儲存光罩 規格資料; 一命令產生器與光罩規格資料庫相通,可操作以反應於 光罩規格資料而產生分裂指令及控制指令; 一客戶設計資料庫,其儲存用於該光罩之設計資料;及 —分裂引擎,其接收該分裂指令及設計資料,並使用此資 料以產生分裂圖案資料。 2. 如申請專利範圍第1項所述之網路,其中該遠端網路 連接係爲一網際網路連接。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 3. 如申請專利範圍第1項所述之網路,其中該客戶設計 資料庫係具有一通訊界面,用以由客戶接收電子形式之設計 資料。 4·如申請專利範圍第3項所述之網路,其中該設計資料 係於與光罩規格資料相同之網路連接時所接收。 5.如申請專利範圍第1項所述之網路,更包含一計帳資 料產生器,其由光罩規格資料選擇計帳資料並安排該計帳資 紙 尽 两 两 Τ 暹 - Μ zy· X U 1 N 1226555 A8 B8 C8 D8 夂、申請專利範圍 料呈適用於一計帳:系統的格式。 6·如申請專利範圔第5項所述之網路,其中該計帳資料 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 產生器安排計帳資料成爲一半檔案。 7.如申請專利範圍第1項所述之網路,其中該命令產生 器更操作以傳輸控制指令給可爲製造設備所存取之記憶體 〇 8·如申請專利範圍第丨項所述之網路,其中該分裂引擎 係更可操作以傳送分裂圖案資料至可爲製造設備所存取之 記憶體。 9·如申請專利範圍第1項所述之網路,其中該分裂指令 係呈cine檔案的形式。 10·如申請專利範圍第1項所述之網路,其中該界面電腦 藉由決定資料是否以一特定格式被輸入,而確認該光罩規格 資料。 11. 如申請專利範圍第1項所述之網路,其中該界面電腦 藉由決定資料是否配合尺寸要件,而確認該光罩規格資料。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 12. 如申請專利範圍第1項所述之網路,其中該界面電腦 藉由確認分裂資料,而確認光罩規格資料。 13. —種產生爲光罩製造設備所用之指令的網路爲主的 方法,包含步驟: 經由一遠端網路連接,而下載一連串之顯示螢幕至一客 戶電腦,每一網路螢幕可操作以提示客戶以輸入光罩規格資 料; 其中光罩規格資料至少指明至少一光罩之層,圖案,放置 -24- 本紙張尺度逋用中國國家#準(CNS ) A4规格(210X297公釐) 1226555
申請專利範圍 及分裂資料; (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 在光罩製造者之區域網路上之區域計算設備處,由客戶 電腦經由遠端網路連接,接收光罩規格資料;及 使用區域計算設備,以執行以下工作:於遠端網路連接時 確認光罩規格資料;反應於該光罩規格資料,以產生分裂指令 由客戶處接收圖案設計資料;使用分裂指令及圖案設計資料, 以產生分裂圖案資料;及產生用於製造設備之控制指令。 14·如申請專利範圍第13項所述之方法,其中該遠端網 路連接爲一網際網路連接。 15.如申請專利範圍第13項所述之方法,其中該區域計 算設備由客戶處接收呈電子形式之圖案設計資料。 16·如申請專利範圍第15項所述之方法,其中該設計資 料係於與光罩規格資料相同之網路連接時所接收。 17. 如申請專利範圍第13項所述之方法,其中該下載步 驟更藉由下載一可操作以提示使用者輸入計帳資料的螢幕 加以執行,及更包含安排計帳資料於一適用於一計帳系統的 格式及傳送計帳資料至計帳系統的步驟。 經 濟 部 智 慧 財 產 局 員 工 消 費 合 作 社 印 製 18. 如申請專利範圍第13項所述之方法,其中諸螢幕包 含至少一層資料螢幕及一圖案資料螢幕,及其中該圖案資料 螢幕基於提供給層資料螢幕之資料,而列出諸層。 19. 如申請專利範圍第13項所述之方法,其中諸螢幕包 含至少一層資料螢幕及一圖案放置螢幕,及其中該圖案放置 螢幕基於提供給層資料螢幕之資料,而列出諸層。 20. 如申請專利範圍第13項所述之方法,其中諸螢幕包 25 本紙張尺度逋用中國國家梂準(CNS ) A4规格(210X297公釐) 1226555 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 含至少一圖案資料螢幕及一分裂螢幕,及其中該分裂螢幕基 於提供給圖案資料螢幕之資料,而列出圖案。 21.如申請專利範圍第13項所述之方法,其中該區域計 算設備更輸送分裂圖案資料及控制指令給製造設備。 22·如申請專利範圍第13項所述之方法,其中該區域計 算設備包含一界面電腦,一命令產生器,及一分裂引擎,實施 於至少一電腦上。 23.如申請專利範圍第13項所述之方法,其中該區域計 算設備更產生一計帳檔案,爲該製造者之計帳系統所使用。 24·如申請專利範圍第13項所述之方法,其中該區域計 算設備藉由決定資料是否以一特定格式被輸入,而確認該光 罩規格資料。 25. 如申請專利範圍第13項所述之方法,其中該區域計 算設備藉由決定資料是否配合尺寸要件,而確認該光罩規格 資料。 26. 如申請專利範圍第13項所述之方法,其中該區域計 算設備藉由確認分裂資料,而確認光罩規格資料。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 • 26 - 本紙張尺度逋用中國國家揉準(CNS ) A4规格(210X297公釐)
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US09/610,917 US6622295B1 (en) | 2000-07-05 | 2000-07-05 | Network-based photomask data entry interface and instruction generator for manufacturing photomasks |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TWI226555B true TWI226555B (en) | 2005-01-11 |
Family
ID=24446917
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW090116471A TWI226555B (en) | 2000-07-05 | 2001-07-05 | Network-based photomask data entry interface and instruction generator for manufacturing photomasks |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US6622295B1 (zh) |
EP (1) | EP1297455A2 (zh) |
JP (1) | JP4873678B2 (zh) |
CN (1) | CN1251119C (zh) |
AU (1) | AU2001273139A1 (zh) |
HK (1) | HK1058090A1 (zh) |
TW (1) | TWI226555B (zh) |
WO (1) | WO2002003141A2 (zh) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
2000
- 2000-07-05 US US09/610,917 patent/US6622295B1/en not_active Expired - Fee Related
-
2001
- 2001-06-29 JP JP2002508144A patent/JP4873678B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2001-06-29 WO PCT/US2001/021020 patent/WO2002003141A2/en active Application Filing
- 2001-06-29 EP EP01952380A patent/EP1297455A2/en not_active Withdrawn
- 2001-06-29 CN CNB018151701A patent/CN1251119C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2001-06-29 AU AU2001273139A patent/AU2001273139A1/en not_active Abandoned
- 2001-07-05 TW TW090116471A patent/TWI226555B/zh not_active IP Right Cessation
-
2003
- 2003-09-08 US US10/657,648 patent/US6968530B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2004
- 2004-02-09 HK HK04100853A patent/HK1058090A1/xx not_active IP Right Cessation
-
2005
- 2005-11-18 US US11/283,569 patent/US7398509B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2002003141A3 (en) | 2002-08-15 |
WO2002003141A8 (en) | 2003-11-06 |
JP2004502972A (ja) | 2004-01-29 |
JP4873678B2 (ja) | 2012-02-08 |
CN1251119C (zh) | 2006-04-12 |
CN1452749A (zh) | 2003-10-29 |
WO2002003141A2 (en) | 2002-01-10 |
US20060074510A1 (en) | 2006-04-06 |
US6968530B2 (en) | 2005-11-22 |
HK1058090A1 (en) | 2004-04-30 |
EP1297455A2 (en) | 2003-04-02 |
US6622295B1 (en) | 2003-09-16 |
US7398509B2 (en) | 2008-07-08 |
US20040054982A1 (en) | 2004-03-18 |
AU2001273139A1 (en) | 2002-01-14 |
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