JP2005011181A - 生産管理装置、生産管理方法、生産管理プログラム - Google Patents
生産管理装置、生産管理方法、生産管理プログラム Download PDFInfo
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Abstract
【課題】工程管理を簡単に行うことができる生産管理装置を提供する。
【解決手段】フォトマスクの製造管理を行う生産管理装置であって、生産するフォトマスクのデザインルールを指定するための情報であるデザインルール情報を入力するデザインルール情報入力部と、デザインルール毎に標準工程を対応付けて記憶する標準工程記憶部と、前記デザインルール情報入力部から入力されるデザインルール情報に対応する標準工程を前記標準工程記憶部から読み出す標準工程検索部と、を有することを特徴とする。
【選択図】 図１
【解決手段】フォトマスクの製造管理を行う生産管理装置であって、生産するフォトマスクのデザインルールを指定するための情報であるデザインルール情報を入力するデザインルール情報入力部と、デザインルール毎に標準工程を対応付けて記憶する標準工程記憶部と、前記デザインルール情報入力部から入力されるデザインルール情報に対応する標準工程を前記標準工程記憶部から読み出す標準工程検索部と、を有することを特徴とする。
【選択図】 図１
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、製品の生産管理をする生産管理装置、生産管理方法、生産管理プログラムに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、製品の製造を行う場合、一般に生産工程の管理が行われている。例えば、フォトマスク（以下、単にマスクと称す）の生産管理を行う場合においては、フォトマスクの品種に応じて生産工程が標準工程として標準化されており、品種に応じた標準工程に基づいて、工程管理が行われる。ここで品種は、受注先（Ａ社、Ｂ社、…）、ウェハの用途（メモリ、ロジック、液晶表示装置）、マスクの基本構造（バイナリーマスク、ハーフトーン型マスクなど）、代表的な工程指示（Ａ型機を使用した工程、Ｂ型機を使用した工程、…）等の項目に基づいて分類されていた。そして、生産工程を決定する場合には、品種を決定する必要があり、そのために受注先、ウェハの用途、マスクの基本構造、工程指示等の組み合わせに応じて品種を分類しておき、この品種に応じて標準工程が決定されていた。
【０００３】
このように、品種に応じて工程の管理を行うものの一例として、特許文献１に示す技術がある。
【０００４】
【特許文献１】
特開平７−２８８９４号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、マスクは、半導体の用途により多種類の品種が存在する。特に、半導体の要求仕様により、使用する製造工程が大きく変わるため、生産管理業務には、以下の問題がある。
上述した従来技術においては、特にフォトマスクは、大量生産をするものではなく、少量生産であるので、受注内容に応じて注文に個別に工程を決定する場合が多い。従って、製品単位毎に工程を設定するとなると、製造工程の選択が多岐に渡るので、工程を計画する業務の負荷が大きくなり、多数の製品を取り扱うことが困難になってしまう。特に、品種の増大によって、品種が数百種類にまで達してしまう場合もあり、工程を計画する業務の負荷は大きいものである。
また、画一な標準工程を採用した場合、現実には、製品毎に製造工程が異なるために、標準工程と実際の製造工程との工程日数等において誤差が大きくなり、信頼度が低下してしまう。
【０００６】
一方、先行技術文献１における技術では、品種毎に工程仕様を標準工程として設定する場合、製造工程の組み合わせが何通りも発生するので、それに応じて工程仕様を多種類用意しなければならないという問題点がある。実運用する場合は、工程仕様をデータベース化し電算機を利用して工程仕様の選択とスケジュール作成や納期予測などの業務が実行されるが、工程仕様の選択が負荷の大きい作業となり、さらにデータベースの更新業務の負荷も大きい。
【０００７】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、その目的は、工程管理を簡単に行うことができる生産管理装置、生産管理方法、生産管理プログラムを提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明は、製品の製造管理を行う生産管理装置であって、生産する製品を構成するレイアウトの作成難易度を示すレベル情報を入力するレベル情報入力部と、レベル情報毎に標準工程とを対応付けて記憶する標準工程記憶部と、前記レベル情報入力部から入力されるレベル情報に対応する標準工程を前記標準工程記憶部から読み出す標準工程検索部と、を有することを特徴とする。
【０００９】
また、本発明は、フォトマスクの製造管理を行う生産管理装置であって、生産するフォトマスクのデザインルールを指定するための情報であるデザインルール情報を入力するデザインルール情報入力部と、デザインルール毎に標準工程を対応付けて記憶する標準工程記憶部と、前記デザインルール情報入力部から入力されるデザインルール情報に対応する標準工程を前記標準工程記憶部から読み出す標準工程検索部と、を有することを特徴とする。
また、本発明は、上述の生産管理装置において、前記デザインルール情報入力部は、前記デザインルール情報入力部からデザインルール情報として入力される最小設計値、外観検査規格、寸法公差のうちいずれかに基づいて、デザインルールを演算するデザインルール演算部を有することを特徴とする。
また、本発明は、上述の生産管理装置において、前記標準工程記憶部は、前記フォトマスクを生産する上での工程または仕様を特定するための情報である工程情報によって前記デザインルール情報が分類され、該分類されたデザインルール情報にそれぞれ標準工程を対応付けて記憶しており、前記標準工程検索部は、前記デザインルール情報入力部から入力されるデザインルール情報と該デザインルール情報に付加されて入力される工程情報とに対応する標準工程を前記標準工程記憶部から読み出すことを特徴とする。
【００１０】
また、本発明は、製品の製造管理を行う生産管理方法であって、生産する製品を構成するレイアウトの作成難易度を示すレベル情報を入力し、レベル情報毎に標準工程とを対応付けて記憶する標準工程記憶部を参照して、前記入力されたレベル情報に対応する標準工程を読み出すことを特徴とする。
また、本発明は、製品の製造管理を行う生産管理装置に用いられる生産管理プログラムであって、生産する製品を構成するレイアウトの作成難易度を示すレベル情報を入力するステップと、レベル情報毎に標準工程とを対応付けて記憶する標準工程記憶部を参照して、前記入力されたレベル情報に対応する標準工程を読み出すステップとを有することを特徴とする。
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の一実施形態による生産管理装置を図面を参照して説明する。図１は、この発明の一実施形態による生産管理装置を適用した生産管理システムの構成を示す概略ブロック図である。この図において、生産管理装置１は、端末装置２と接続され、フォトマスクなどの製品の製造管理を行う。
この生産管理装置１において、デザインルール情報入力部１０は、生産するフォトマスクのデザインルールを指定するための情報であるデザインルール情報を端末装置２から入力する。ここでいうデザインルール情報は、ウェハの最小線幅であるデザインルールまたは、デザインルール特定情報が含まれる。デザインルール特定情報とは、デザインルールを特定するための情報であり、例えば、最小設計値、外観検査規格、寸法公差がある。最小設計値とは、マスクにおける最小線幅である。外観検査規格とは、マスクのパターンの最小線幅に対する誤差の許容サイズのことであり、例えば、デザインルールに対して影響を与えない範囲のマスク上の誤差である。寸法公差とは、マスクの基準寸法に対する寸法上の許容誤差範囲のことである。
【００１２】
また、デザインルール情報入力部１０のデザインルール演算部１１は、デザインルール情報として入力される最小設計値、外観検査規格、寸法公差のうちいずれかに基づいて、デザインルールを演算する。デザインルール演算部１１は、最小設計値からデザインルールを演算する場合、最小設計値に所定の係数を乗算することによって演算する。この所定の係数は、例えば、ウェハに露光をする倍率に基づいて設定される。デザインルール演算部１１は、外観検査規格からデザインルールを演算する場合、外観検査規格に所定の係数を乗算することにより演算する。場合によっては、外観検査規格の値をそのままデザインルールとして用いても良い。また、デザインルール演算部１１は、寸法公差からデザインルールを演算する場合、この寸法公差とデザインルールとを対応付けて記憶する寸法公差変換情報記憶部１２を参照し、デザインルール情報入力部１０に入力された寸法公差に対応するデザインルールを読み出すことにより行われる。なお、寸法公差からデザインルールを演算するための所定の演算式を利用して演算するようにしてもよい。
【００１３】
標準工程記憶部２０は、デザインルール毎に標準工程を対応付けて記憶する。
図２は、標準工程記憶部２０に記憶される情報の一例を示す図面である。この図に示すように、各デザインルールにおける標準工程が対応付けられている。ここでは、さらに、フォトマスクを生産する上での工程または仕様を特定するための情報である工程情報によってデザインルール情報が分類され、該分類されたデザインルール情報にそれぞれ標準工程が対応付けて記憶されている。図２においては、マスクの基本構造を特定するハーフトーンまたはバイナリの情報が設定されているが、工程情報として、例えば、材料、工程指示、用途、受注先などを設定することも可能である。
【００１４】
図３は、工程情報が設定されていない場合における標準工程記憶部２０に記憶される情報の一例を示す図面である。この図３においては、１つのデザインルールに１つの標準工程が対応付けて記憶されている。
【００１５】
標準工程検索部３０は、デザインルール情報入力部１０から入力されるデザインルール情報に対応する標準工程を標準工程記憶部２０から読み出す。また、標準工程検索部３０は、デザインルール情報入力部１０からデザインルール情報に工程情報が付加されて入力された場合、デザインルール情報入力部１０から入力されるデザインルール情報と該デザインルール情報に付加されて入力される工程情報とに対応する標準工程を標準工程記憶部２０から読み出す。
【００１６】
スケジュール管理部４０は、標準工程検索部３０の検索結果に基づいて、生産スケジュールの管理を行う。このスケジューリングの管理としては、例えば、標準工程検索部３０の検索結果に基づいて、各工程の作業日程を決定する処理を行う。図４は、スケジュール管理部４０によって各工程の作業日程がスケジューリングされた一例を示す図面である。このスケジューリングによって、製品の納期シミュレーションや納期予測を行うことが可能である。
【００１７】
出力部５０は、スケジュール管理部４０によって管理される生産スケジュールを端末装置２に出力する。端末装置２は、ユーザからキーボードやマウスなどの入力装置を介して入力されるデザインルール情報と工程情報とを生産管理装置１に出力する。また、端末装置２は、ＣＲＴ（Ｃａｔｈｄｅ Ｒａｙ Ｔｕｂｅ）や液晶表示装置などの表示装置によって、生産管理装置１の出力部５０から出力される生産スケジュールを出力する。
【００１８】
次に、図１の構成における生産管理装置１の動作について図５のフローチャートを用いて説明する。
ここでは、デザインルールが２５０（ｎｍ）である製品ａの標準工程を決定する場合について説明する。
まず、ユーザによって端末装置２の入力装置からデザインルール情報と工程情報とが入力され、生産管理装置１に出力されると、生産管理装置１は、端末装置２からデザインルール情報と工程情報とをデザインルール情報入力部１０に入力し（ステップＳ１）、デザインルール情報入力部１０によってデザインルール情報がデザインルールであるか否かを検出する（ステップＳ２）。デザインルール情報がデザインルール特定情報（最小設計値、外観検査規格、寸法公差のいずれかの情報）である場合、デザインルール情報入力部１０は、デザインルール演算部１１によってデザインルール特定情報からデザインルールを生成し（ステップＳ３）、生成したデザインルールと工程情報とを標準工程検索部３０に出力し、ステップＳ４に移行する。
【００１９】
一方、デザインルール情報がデザインルール（２５０（ｎｍ））である場合、デザインルール情報入力部１０は、デザインルールと工程情報とを標準工程検索部３０に出力する。標準工程検索部３０は、デザインルール情報入力部１０からデザインルール情報が入力されると、工程情報が付加されているか否かを検出する（ステップＳ４）。工程情報が付加されている場合、標準工程検索部３０は、デザインルール情報と工程情報とに対応する標準工程を標準工程記憶部２０から読み出して（ステップＳ５）、スケジュール管理部４０に出力する。このとき参照される標準工程記憶部２０の情報は、例えば、図２に示す情報である。
【００２０】
一方、デザインルール情報に工程情報が付加されていない場合には、標準工程検索部３０は、例えば標準工程検索部３０に記憶されている図３に示すような情報を参照し、デザインルール情報に一致する標準工程を読み出して（ステップＳ６）、スケジュール管理部４０に出力する。
【００２１】
スケジュール管理部４０は、標準工程検索部３０の検索結果に基づいて、生産スケジュールの管理を行う。このスケジュール管理としては、例えば、標準工程検索部３０によって検索された標準工程に基づいて、各工程の作業日程を決定する処理を行う（ステップＳ７）。
【００２２】
標準工程検索部３０は、デザインルール情報入力部１０から入力されるデザインルール情報に対応する標準工程を標準工程記憶部２０から読み出す。また、標準工程検索部３０は、デザインルール情報入力部１０からデザインルール情報に工程情報が付加されて入力された場合、デザインルール情報入力部１０から入力されるデザインルール情報と該デザインルール情報に付加されて入力される工程情報とに対応する標準工程を標準工程記憶部２０から読み出す。スケジュール管理部４０は、標準工程検索部３０の検索結果に基づいて、各工程の作業日程を決定する処理を行う。そして、スケジュール管理部４０によってスケジューリングされると、出力部５０は、スケジューリングの結果を端末装置２に出力する。
【００２３】
端末装置２は、生産管理装置１から出力されるスケジューリングの結果を表示装置によって表示する。この表示装置には、例えば、図４に示すような工程管理表が表示される。
【００２４】
なお、上記実施形態においては、生産管理装置１をマスクを製造する工程管理に用いる場合について説明したが、生産管理装置１は、マスク以外の製品を製造する場合に適用するようにしてもよい。
例えば、生産する製品を構成するレイアウトの作成難易度を示すレベル情報と標準工程とを対応付けて標準工程記憶部２０に記憶しておき、端末装置２からレベル情報を入力し、標準工程検索部３０によって、レベル情報に対応する標準工程を標準工程記憶部２０から読み出し、生産スケジュールの管理を行うようにしてもよい。ここでいうレベル情報としては、例えば、製品を製造する上で最も細かさの度合いが高い部分の精度を示す情報があり、写真製版や画像を取り扱う製品の場合は、解像度が用いられる。
【００２５】
また、図１におけるデザインルール情報入力部１０、デザインルール演算部１１、標準工程検索部３０、スケジュール管理部４０、出力部５０の機能を実現するためのプログラムをコンピュータ読み取り可能な記録媒体に記録して、この記録媒体に記録されたプログラムをコンピュータシステムに読み込ませ、実行することにより製品の生産管理を行ってもよい。なお、ここでいう「コンピュータシステム」とは、ＯＳや周辺機器等のハードウェアを含むものとする。
【００２６】
また、「コンピュータシステム」は、ＷＷＷシステムを利用している場合であれば、ホームページ提供環境（あるいは表示環境）も含むものとする。
また、「コンピュータ読み取り可能な記録媒体」とは、フレキシブルディスク、光磁気ディスク、ＲＯＭ、ＣＤ−ＲＯＭ等の可搬媒体、コンピュータシステムに内蔵されるハードディスク等の記憶装置のことをいう。さらに「コンピュータ読み取り可能な記録媒体」とは、インターネット等のネットワークや電話回線等の通信回線を介してプログラムを送信する場合の通信線のように、短時間の間、動的にプログラムを保持するもの、その場合のサーバやクライアントとなるコンピュータシステム内部の揮発性メモリのように、一定時間プログラムを保持しているものも含むものとする。また上記プログラムは、前述した機能の一部を実現するためのものであっても良く、さらに前述した機能をコンピュータシステムにすでに記録されているプログラムとの組み合わせで実現できるものであっても良い。
【００２７】
以上、この発明の実施形態を図面を参照して詳述してきたが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲の設計等も含まれる。
【００２８】
【発明の効果】
以上説明したように、この発明によれば、レベル情報を入力し、レベル情報毎に標準工程とを対応付けて記憶する標準工程記憶部を参照し、入力されたレベル情報に対応する標準工程を読み出すようにしたので、品種が増大する場合に比べて、レベル情報が増大する場合が少ないので、管理対象の標準工程数を削減することができ、これにより工程管理を簡単に行うことができる。
また、本発明によれば、レベル情報に応じて標準工程を読み出すようにしたので、レベル情報は、一般に品種（受注先、製品用途、製品の基本構造、工程指示）が追加されても、既に設定されたレベル情報を適用することができるので、製品単位毎に工程を設定する場合に比べて、新たな工程管理を行う作業を低減することができるので、工程を管理する業務の負担の低減、およびデータベース更新業務を低減させることができるとともに、電算機などのコンピュータにおける負荷を低減させ、データベースのデータ量を低減させることができる。また、製品のレベルに見合った工程の管理を行うことができるので、画一な標準工程を採用した場合においても、標準工程と実際の製造工程との誤差を低減させることができ、これにより、製品の製造にかかる納期シミュレーションや納期予測の精度を向上させることができる。
【００２９】
また、本発明によれば、最小設計値、外観検査規格、寸法公差のうちいずれかに基づいて、デザインルールを演算するようにしたので、デザインルールそのものがわからなくても、他の情報を手がかりにして、生産管理を簡単に行うことができる。
【００３０】
また、本発明は、デザインルール情報入力部から入力されるデザインルール情報と工程情報とに対応する標準工程を読み出すようにしたので、顧客からの要望を反映させても簡単な生産管理を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の一実施形態による生産管理装置を適用した生産管理システムの構成を示す概略ブロック図である。
【図２】工程情報が設定されている場合における標準工程記憶部２０に記憶される情報の一例を示す図面である。
【図３】工程情報が設定されていない場合における標準工程記憶部２０に記憶される情報の一例を示す図面である。
【図４】スケジュール管理部４０によって各工程の作業日程がスケジューリングされた一例を示す図面である。
【図５】図１の構成における生産管理装置１の動作について説明するためのフローチャートである。
【符号の説明】
１ 生産管理装置 ２ 端末装置
１０ デザインルール情報入力部 １１ デザインルール演算部
１２ 寸法公差変換情報記憶部 ２０ 標準工程記憶部
３０ 標準工程検索部 ４０ スケジュール管理部
５０ 出力部
【発明の属する技術分野】
この発明は、製品の生産管理をする生産管理装置、生産管理方法、生産管理プログラムに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、製品の製造を行う場合、一般に生産工程の管理が行われている。例えば、フォトマスク（以下、単にマスクと称す）の生産管理を行う場合においては、フォトマスクの品種に応じて生産工程が標準工程として標準化されており、品種に応じた標準工程に基づいて、工程管理が行われる。ここで品種は、受注先（Ａ社、Ｂ社、…）、ウェハの用途（メモリ、ロジック、液晶表示装置）、マスクの基本構造（バイナリーマスク、ハーフトーン型マスクなど）、代表的な工程指示（Ａ型機を使用した工程、Ｂ型機を使用した工程、…）等の項目に基づいて分類されていた。そして、生産工程を決定する場合には、品種を決定する必要があり、そのために受注先、ウェハの用途、マスクの基本構造、工程指示等の組み合わせに応じて品種を分類しておき、この品種に応じて標準工程が決定されていた。
【０００３】
このように、品種に応じて工程の管理を行うものの一例として、特許文献１に示す技術がある。
【０００４】
【特許文献１】
特開平７−２８８９４号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、マスクは、半導体の用途により多種類の品種が存在する。特に、半導体の要求仕様により、使用する製造工程が大きく変わるため、生産管理業務には、以下の問題がある。
上述した従来技術においては、特にフォトマスクは、大量生産をするものではなく、少量生産であるので、受注内容に応じて注文に個別に工程を決定する場合が多い。従って、製品単位毎に工程を設定するとなると、製造工程の選択が多岐に渡るので、工程を計画する業務の負荷が大きくなり、多数の製品を取り扱うことが困難になってしまう。特に、品種の増大によって、品種が数百種類にまで達してしまう場合もあり、工程を計画する業務の負荷は大きいものである。
また、画一な標準工程を採用した場合、現実には、製品毎に製造工程が異なるために、標準工程と実際の製造工程との工程日数等において誤差が大きくなり、信頼度が低下してしまう。
【０００６】
一方、先行技術文献１における技術では、品種毎に工程仕様を標準工程として設定する場合、製造工程の組み合わせが何通りも発生するので、それに応じて工程仕様を多種類用意しなければならないという問題点がある。実運用する場合は、工程仕様をデータベース化し電算機を利用して工程仕様の選択とスケジュール作成や納期予測などの業務が実行されるが、工程仕様の選択が負荷の大きい作業となり、さらにデータベースの更新業務の負荷も大きい。
【０００７】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、その目的は、工程管理を簡単に行うことができる生産管理装置、生産管理方法、生産管理プログラムを提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明は、製品の製造管理を行う生産管理装置であって、生産する製品を構成するレイアウトの作成難易度を示すレベル情報を入力するレベル情報入力部と、レベル情報毎に標準工程とを対応付けて記憶する標準工程記憶部と、前記レベル情報入力部から入力されるレベル情報に対応する標準工程を前記標準工程記憶部から読み出す標準工程検索部と、を有することを特徴とする。
【０００９】
また、本発明は、フォトマスクの製造管理を行う生産管理装置であって、生産するフォトマスクのデザインルールを指定するための情報であるデザインルール情報を入力するデザインルール情報入力部と、デザインルール毎に標準工程を対応付けて記憶する標準工程記憶部と、前記デザインルール情報入力部から入力されるデザインルール情報に対応する標準工程を前記標準工程記憶部から読み出す標準工程検索部と、を有することを特徴とする。
また、本発明は、上述の生産管理装置において、前記デザインルール情報入力部は、前記デザインルール情報入力部からデザインルール情報として入力される最小設計値、外観検査規格、寸法公差のうちいずれかに基づいて、デザインルールを演算するデザインルール演算部を有することを特徴とする。
また、本発明は、上述の生産管理装置において、前記標準工程記憶部は、前記フォトマスクを生産する上での工程または仕様を特定するための情報である工程情報によって前記デザインルール情報が分類され、該分類されたデザインルール情報にそれぞれ標準工程を対応付けて記憶しており、前記標準工程検索部は、前記デザインルール情報入力部から入力されるデザインルール情報と該デザインルール情報に付加されて入力される工程情報とに対応する標準工程を前記標準工程記憶部から読み出すことを特徴とする。
【００１０】
また、本発明は、製品の製造管理を行う生産管理方法であって、生産する製品を構成するレイアウトの作成難易度を示すレベル情報を入力し、レベル情報毎に標準工程とを対応付けて記憶する標準工程記憶部を参照して、前記入力されたレベル情報に対応する標準工程を読み出すことを特徴とする。
また、本発明は、製品の製造管理を行う生産管理装置に用いられる生産管理プログラムであって、生産する製品を構成するレイアウトの作成難易度を示すレベル情報を入力するステップと、レベル情報毎に標準工程とを対応付けて記憶する標準工程記憶部を参照して、前記入力されたレベル情報に対応する標準工程を読み出すステップとを有することを特徴とする。
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の一実施形態による生産管理装置を図面を参照して説明する。図１は、この発明の一実施形態による生産管理装置を適用した生産管理システムの構成を示す概略ブロック図である。この図において、生産管理装置１は、端末装置２と接続され、フォトマスクなどの製品の製造管理を行う。
この生産管理装置１において、デザインルール情報入力部１０は、生産するフォトマスクのデザインルールを指定するための情報であるデザインルール情報を端末装置２から入力する。ここでいうデザインルール情報は、ウェハの最小線幅であるデザインルールまたは、デザインルール特定情報が含まれる。デザインルール特定情報とは、デザインルールを特定するための情報であり、例えば、最小設計値、外観検査規格、寸法公差がある。最小設計値とは、マスクにおける最小線幅である。外観検査規格とは、マスクのパターンの最小線幅に対する誤差の許容サイズのことであり、例えば、デザインルールに対して影響を与えない範囲のマスク上の誤差である。寸法公差とは、マスクの基準寸法に対する寸法上の許容誤差範囲のことである。
【００１２】
また、デザインルール情報入力部１０のデザインルール演算部１１は、デザインルール情報として入力される最小設計値、外観検査規格、寸法公差のうちいずれかに基づいて、デザインルールを演算する。デザインルール演算部１１は、最小設計値からデザインルールを演算する場合、最小設計値に所定の係数を乗算することによって演算する。この所定の係数は、例えば、ウェハに露光をする倍率に基づいて設定される。デザインルール演算部１１は、外観検査規格からデザインルールを演算する場合、外観検査規格に所定の係数を乗算することにより演算する。場合によっては、外観検査規格の値をそのままデザインルールとして用いても良い。また、デザインルール演算部１１は、寸法公差からデザインルールを演算する場合、この寸法公差とデザインルールとを対応付けて記憶する寸法公差変換情報記憶部１２を参照し、デザインルール情報入力部１０に入力された寸法公差に対応するデザインルールを読み出すことにより行われる。なお、寸法公差からデザインルールを演算するための所定の演算式を利用して演算するようにしてもよい。
【００１３】
標準工程記憶部２０は、デザインルール毎に標準工程を対応付けて記憶する。
図２は、標準工程記憶部２０に記憶される情報の一例を示す図面である。この図に示すように、各デザインルールにおける標準工程が対応付けられている。ここでは、さらに、フォトマスクを生産する上での工程または仕様を特定するための情報である工程情報によってデザインルール情報が分類され、該分類されたデザインルール情報にそれぞれ標準工程が対応付けて記憶されている。図２においては、マスクの基本構造を特定するハーフトーンまたはバイナリの情報が設定されているが、工程情報として、例えば、材料、工程指示、用途、受注先などを設定することも可能である。
【００１４】
図３は、工程情報が設定されていない場合における標準工程記憶部２０に記憶される情報の一例を示す図面である。この図３においては、１つのデザインルールに１つの標準工程が対応付けて記憶されている。
【００１５】
標準工程検索部３０は、デザインルール情報入力部１０から入力されるデザインルール情報に対応する標準工程を標準工程記憶部２０から読み出す。また、標準工程検索部３０は、デザインルール情報入力部１０からデザインルール情報に工程情報が付加されて入力された場合、デザインルール情報入力部１０から入力されるデザインルール情報と該デザインルール情報に付加されて入力される工程情報とに対応する標準工程を標準工程記憶部２０から読み出す。
【００１６】
スケジュール管理部４０は、標準工程検索部３０の検索結果に基づいて、生産スケジュールの管理を行う。このスケジューリングの管理としては、例えば、標準工程検索部３０の検索結果に基づいて、各工程の作業日程を決定する処理を行う。図４は、スケジュール管理部４０によって各工程の作業日程がスケジューリングされた一例を示す図面である。このスケジューリングによって、製品の納期シミュレーションや納期予測を行うことが可能である。
【００１７】
出力部５０は、スケジュール管理部４０によって管理される生産スケジュールを端末装置２に出力する。端末装置２は、ユーザからキーボードやマウスなどの入力装置を介して入力されるデザインルール情報と工程情報とを生産管理装置１に出力する。また、端末装置２は、ＣＲＴ（Ｃａｔｈｄｅ Ｒａｙ Ｔｕｂｅ）や液晶表示装置などの表示装置によって、生産管理装置１の出力部５０から出力される生産スケジュールを出力する。
【００１８】
次に、図１の構成における生産管理装置１の動作について図５のフローチャートを用いて説明する。
ここでは、デザインルールが２５０（ｎｍ）である製品ａの標準工程を決定する場合について説明する。
まず、ユーザによって端末装置２の入力装置からデザインルール情報と工程情報とが入力され、生産管理装置１に出力されると、生産管理装置１は、端末装置２からデザインルール情報と工程情報とをデザインルール情報入力部１０に入力し（ステップＳ１）、デザインルール情報入力部１０によってデザインルール情報がデザインルールであるか否かを検出する（ステップＳ２）。デザインルール情報がデザインルール特定情報（最小設計値、外観検査規格、寸法公差のいずれかの情報）である場合、デザインルール情報入力部１０は、デザインルール演算部１１によってデザインルール特定情報からデザインルールを生成し（ステップＳ３）、生成したデザインルールと工程情報とを標準工程検索部３０に出力し、ステップＳ４に移行する。
【００１９】
一方、デザインルール情報がデザインルール（２５０（ｎｍ））である場合、デザインルール情報入力部１０は、デザインルールと工程情報とを標準工程検索部３０に出力する。標準工程検索部３０は、デザインルール情報入力部１０からデザインルール情報が入力されると、工程情報が付加されているか否かを検出する（ステップＳ４）。工程情報が付加されている場合、標準工程検索部３０は、デザインルール情報と工程情報とに対応する標準工程を標準工程記憶部２０から読み出して（ステップＳ５）、スケジュール管理部４０に出力する。このとき参照される標準工程記憶部２０の情報は、例えば、図２に示す情報である。
【００２０】
一方、デザインルール情報に工程情報が付加されていない場合には、標準工程検索部３０は、例えば標準工程検索部３０に記憶されている図３に示すような情報を参照し、デザインルール情報に一致する標準工程を読み出して（ステップＳ６）、スケジュール管理部４０に出力する。
【００２１】
スケジュール管理部４０は、標準工程検索部３０の検索結果に基づいて、生産スケジュールの管理を行う。このスケジュール管理としては、例えば、標準工程検索部３０によって検索された標準工程に基づいて、各工程の作業日程を決定する処理を行う（ステップＳ７）。
【００２２】
標準工程検索部３０は、デザインルール情報入力部１０から入力されるデザインルール情報に対応する標準工程を標準工程記憶部２０から読み出す。また、標準工程検索部３０は、デザインルール情報入力部１０からデザインルール情報に工程情報が付加されて入力された場合、デザインルール情報入力部１０から入力されるデザインルール情報と該デザインルール情報に付加されて入力される工程情報とに対応する標準工程を標準工程記憶部２０から読み出す。スケジュール管理部４０は、標準工程検索部３０の検索結果に基づいて、各工程の作業日程を決定する処理を行う。そして、スケジュール管理部４０によってスケジューリングされると、出力部５０は、スケジューリングの結果を端末装置２に出力する。
【００２３】
端末装置２は、生産管理装置１から出力されるスケジューリングの結果を表示装置によって表示する。この表示装置には、例えば、図４に示すような工程管理表が表示される。
【００２４】
なお、上記実施形態においては、生産管理装置１をマスクを製造する工程管理に用いる場合について説明したが、生産管理装置１は、マスク以外の製品を製造する場合に適用するようにしてもよい。
例えば、生産する製品を構成するレイアウトの作成難易度を示すレベル情報と標準工程とを対応付けて標準工程記憶部２０に記憶しておき、端末装置２からレベル情報を入力し、標準工程検索部３０によって、レベル情報に対応する標準工程を標準工程記憶部２０から読み出し、生産スケジュールの管理を行うようにしてもよい。ここでいうレベル情報としては、例えば、製品を製造する上で最も細かさの度合いが高い部分の精度を示す情報があり、写真製版や画像を取り扱う製品の場合は、解像度が用いられる。
【００２５】
また、図１におけるデザインルール情報入力部１０、デザインルール演算部１１、標準工程検索部３０、スケジュール管理部４０、出力部５０の機能を実現するためのプログラムをコンピュータ読み取り可能な記録媒体に記録して、この記録媒体に記録されたプログラムをコンピュータシステムに読み込ませ、実行することにより製品の生産管理を行ってもよい。なお、ここでいう「コンピュータシステム」とは、ＯＳや周辺機器等のハードウェアを含むものとする。
【００２６】
また、「コンピュータシステム」は、ＷＷＷシステムを利用している場合であれば、ホームページ提供環境（あるいは表示環境）も含むものとする。
また、「コンピュータ読み取り可能な記録媒体」とは、フレキシブルディスク、光磁気ディスク、ＲＯＭ、ＣＤ−ＲＯＭ等の可搬媒体、コンピュータシステムに内蔵されるハードディスク等の記憶装置のことをいう。さらに「コンピュータ読み取り可能な記録媒体」とは、インターネット等のネットワークや電話回線等の通信回線を介してプログラムを送信する場合の通信線のように、短時間の間、動的にプログラムを保持するもの、その場合のサーバやクライアントとなるコンピュータシステム内部の揮発性メモリのように、一定時間プログラムを保持しているものも含むものとする。また上記プログラムは、前述した機能の一部を実現するためのものであっても良く、さらに前述した機能をコンピュータシステムにすでに記録されているプログラムとの組み合わせで実現できるものであっても良い。
【００２７】
以上、この発明の実施形態を図面を参照して詳述してきたが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲の設計等も含まれる。
【００２８】
【発明の効果】
以上説明したように、この発明によれば、レベル情報を入力し、レベル情報毎に標準工程とを対応付けて記憶する標準工程記憶部を参照し、入力されたレベル情報に対応する標準工程を読み出すようにしたので、品種が増大する場合に比べて、レベル情報が増大する場合が少ないので、管理対象の標準工程数を削減することができ、これにより工程管理を簡単に行うことができる。
また、本発明によれば、レベル情報に応じて標準工程を読み出すようにしたので、レベル情報は、一般に品種（受注先、製品用途、製品の基本構造、工程指示）が追加されても、既に設定されたレベル情報を適用することができるので、製品単位毎に工程を設定する場合に比べて、新たな工程管理を行う作業を低減することができるので、工程を管理する業務の負担の低減、およびデータベース更新業務を低減させることができるとともに、電算機などのコンピュータにおける負荷を低減させ、データベースのデータ量を低減させることができる。また、製品のレベルに見合った工程の管理を行うことができるので、画一な標準工程を採用した場合においても、標準工程と実際の製造工程との誤差を低減させることができ、これにより、製品の製造にかかる納期シミュレーションや納期予測の精度を向上させることができる。
【００２９】
また、本発明によれば、最小設計値、外観検査規格、寸法公差のうちいずれかに基づいて、デザインルールを演算するようにしたので、デザインルールそのものがわからなくても、他の情報を手がかりにして、生産管理を簡単に行うことができる。
【００３０】
また、本発明は、デザインルール情報入力部から入力されるデザインルール情報と工程情報とに対応する標準工程を読み出すようにしたので、顧客からの要望を反映させても簡単な生産管理を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の一実施形態による生産管理装置を適用した生産管理システムの構成を示す概略ブロック図である。
【図２】工程情報が設定されている場合における標準工程記憶部２０に記憶される情報の一例を示す図面である。
【図３】工程情報が設定されていない場合における標準工程記憶部２０に記憶される情報の一例を示す図面である。
【図４】スケジュール管理部４０によって各工程の作業日程がスケジューリングされた一例を示す図面である。
【図５】図１の構成における生産管理装置１の動作について説明するためのフローチャートである。
【符号の説明】
１ 生産管理装置 ２ 端末装置
１０ デザインルール情報入力部 １１ デザインルール演算部
１２ 寸法公差変換情報記憶部 ２０ 標準工程記憶部
３０ 標準工程検索部 ４０ スケジュール管理部
５０ 出力部
Claims (6)
- 製品の製造管理を行う生産管理装置であって、
生産する製品を構成するレイアウトの作成難易度を示すレベル情報を入力するレベル情報入力部と、
レベル情報毎に標準工程とを対応付けて記憶する標準工程記憶部と、
前記レベル情報入力部から入力されるレベル情報に対応する標準工程を前記標準工程記憶部から読み出す標準工程検索部と、を有することを特徴とする生産管理装置。 - フォトマスクの製造管理を行う生産管理装置であって、
生産するフォトマスクのデザインルールを指定するための情報であるデザインルール情報を入力するデザインルール情報入力部と、
デザインルール毎に標準工程を対応付けて記憶する標準工程記憶部と、
前記デザインルール情報入力部から入力されるデザインルール情報に対応する標準工程を前記標準工程記憶部から読み出す標準工程検索部と、を有することを特徴とする生産管理装置。 - 前記デザインルール情報入力部は、前記デザインルール情報入力部からデザインルール情報として入力される最小設計値、外観検査規格、寸法公差のうちいずれかに基づいて、デザインルールを演算するデザインルール演算部を有することを特徴とする請求項２記載の生産管理装置。
- 前記標準工程記憶部は、前記フォトマスクを生産する上での工程または仕様を特定するための情報である工程情報によって前記デザインルール情報が分類され、該分類されたデザインルール情報にそれぞれ標準工程を対応付けて記憶しており、
前記標準工程検索部は、前記デザインルール情報入力部から入力されるデザインルール情報と該デザインルール情報に付加されて入力される工程情報とに対応する標準工程を前記標準工程記憶部から読み出すことを特徴とする請求項２または請求項３記載の生産管理装置。 - 製品の製造管理を行う生産管理方法であって、
生産する製品を構成するレイアウトの作成難易度を示すレベル情報を入力し、レベル情報毎に標準工程とを対応付けて記憶する標準工程記憶部を参照して、前記入力されたレベル情報に対応する標準工程を読み出す
ことを特徴とする生産管理方法。 - 製品の製造管理を行う生産管理装置に用いられる生産管理プログラムであって、
生産する製品を構成するレイアウトの作成難易度を示すレベル情報を入力するステップと、
レベル情報毎に標準工程とを対応付けて記憶する標準工程記憶部を参照して、前記入力されたレベル情報に対応する標準工程を読み出すステップとを有することを特徴とする生産管理プログラム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003176370A JP2005011181A (ja) | 2003-06-20 | 2003-06-20 | 生産管理装置、生産管理方法、生産管理プログラム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2005011181A true JP2005011181A (ja) | 2005-01-13 |
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ID=34099266
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2005011181A (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009086639A (ja) * | 2007-09-14 | 2009-04-23 | Renesas Technology Corp | フォトマスクの製造方法 |
-
2003
- 2003-06-20 JP JP2003176370A patent/JP2005011181A/ja active Pending
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