JP2004502972A - ネットワークに基づくフォトマスクデータ入力インタフェース及びフォトマスク製造用の命令生成装置 - Google Patents
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Abstract
Description
〔発明の技術分野〕
本発明は、フォトマスクの製造に係わり、より詳細には、遠隔ユーザがパターン設計データ及びフォトマスク仕様を与えることを可能にし、フォトマスク製造装置用の命令を生成するためこのデータを使用するネットワークに基づくシステムに関する。
【0002】
〔発明の背景〕
フォトマスクは、半導体製造におけるリソグラフィック工程の一体的な部分である。フォトマスクは、水晶又はガラス板であり、集積回路の層の精密な像を保持する。フォトマスクは、フォトレジスト露光中に像を半導体ウェハーに工学的に転写するため使用される。
【0003】
フォトマスクは、設計のため複雑な数学的アルゴリズムを必要とし、複雑な製造技術を使用する。フォトマスクを製作するため、チップメーカーのようなユーザ(顧客)は、フォトマスク製造業者に回路設計データ及びフォトマスク仕様を提供する。このデータは、製造装置に適したフォーマットでフォトマスクパターンデータを生成するため使用される。各フォトマスクは、フォトリソグラフィック技術を用いて製作される。
【0004】
従来、ユーザによって提供されるデータは、ユーザの設計システムに基づく、ユーザに都合のよいフォーマットで表される。回路設計データは、典型的に、CADタイプのシステムから得られ、パターン毎に設計される。このデータは、フレキシブルディスク、磁気テープ、カセット、或いは、モデム接続経由のような様々な媒体で製造業者へ供給される。フォトマスク仕様は、ハードコピー形式、或いは、電子形式で、ある種の物理媒体によって製造業者へ供給されるか、電子的に配信される。このユーザ提供データが完全であること、或いは、製造可能なフォトマスクを生み出すことについての保証はない。
【0005】
〔発明の概要〕
本発明の一局面は、フォトマスク製造装置で使用するための命令を生成するネットワークに基づく方法である。ユーザ・コンピュータは、ワイド・エリア・ネットワークへ遠隔コネクションを確立する。このワイド・エリア・ネットワークへは製造業者のローカル・ネットワークからもアクセス可能である。一連の注文入力表示画面がユーザ・コンピュータへダウンロードされる。これらの画面は、ユーザにフォトマスク仕様データを入力するように促す。フォトマスク仕様データは、層、パターン、配置、及び、少なくとも一つのフォトマスク用のフラクチャリングデータを特定する。このフォトマスク仕様データは、フォトマスク映像業者のローカル・ネットワークへ通信される。ローカル・ネットワークは、遠隔コネクション中にフォトマスク仕様データの妥当性を確認する。ローカル・ネットワークは、フォトマスク仕様データに応答して、フラクチャリング命令及び装置制御命令の2タイプの命令を生成する。フラクチャリング命令は、ユーザからのパターン設計データを操作し、フラクチャ化されたパターンデータを生ずる。フラクチャ化されたパターンデータと、制御命令は、共に、製造装置へ電子的に配信される。
【0006】
本発明の効果は、ローカル・ネットワークがユーザの提供したフォトマスク仕様データに応じて直接的に作用することである。ローカル・ネットワークは、フォトマスク製造業者によって入力されたデータを必要とはしない。この方法は、フォトマスク仕様データがデータの電子転送を使用して受信され処理される、と言う意味で「オンライン」で行われる。フォトマスク仕様データは、望ましいフォーマットで受信されるので、コマンド生成器へ入力するために再フォーマッティングする必要がない。
【0007】
このフォトマスク仕様データを入力する方法は、フォトマスクを製造するために要する時間を著しく短縮する。例えば、パターンが従来通りの方法で手動でフラクチャ化された場合、フラクチャリング工程は、本発明の場合よりも70倍以上長い時間を要する。本発明の場合、フラクチャリング命令は、ユーザが注文データを入力するときに生成される。
【0008】
同時に、本発明は、ユーザが製造と課金の両方に必要な全情報を供給することを保証する。情報は一様なフォーマットで受信される。注文データは、フォトマスクが製造可能であることを保証するため検証される。注文入力工程は、課金目的のため請求システムと簡単に一体化することができる。
【0009】
〔発明の詳細な説明〕
〔システム概要〕
図1Aは、フォトマスクデータを取得し製造命令を生成する本発明によるネットワークに基づくシステムの構成図である。図1Bは、図1Aのシステムによって行われる方法の説明図である。
【0010】
コンピュータ102、108、114及び118は、後述の機能を実現するため処理リソースとメモリとを具備している。これらは、更に、これらの機能のためのプログラムを保存する関連したプログラムメモリを具備する。
【0011】
図1Aに示されるように、ユーザは、ユーザ・コンピュータ102と、回路設計コンピュータ104及び回路設計データベース106と、を含む。ユーザのコンピューティング装置は、ユーザのローカル・ネットワークに設置してもよい。
【0012】
図1Aに示された残りのコンピューティング装置は、フォトマスク製造業者によって運用されるローカル・ネットワーク100の構成要素である。図1Aの例の場合に、この装置の全体が同じローカル・エリア・ネットワーク(LAN)に設置されているが、その他の処理アーキテクチャを採用しても構わない。
【0013】
コンピュータ装置上の処理タスクの配分に関して、図1A及び1Bは、一つの考えられる実施例に過ぎない。例えば、製造業者のローカル・ネットワーク100上のコンピュータ108、114及び118によって実行される様々な処理タスクは、より少ない台数のコンピュータで実行してもよい。別の一例として、図1Bにおいて、ステップ120−124は、全て、1台のインタフェース・コンピュータ108によって実行されるように示されているが、これらのステップは、異なるコンピュータ装置で実行しても構わない。以下の記述では、ある種の処理タスクは、ローカル・ネットワーク100の特定のコンピュータによって実行されるかのように説明されているが、より一般的な意味において、これらのタスクは、ローカル・ネットワーク100によって実行されているとみなすこともできる。
【0014】
ユーザ・コンピュータ102は、遠隔コネクションを介して、インタフェース・コンピュータ108へアクセスする。ネットワークアクセスは、LAN経由或いはWAN経由でもよい。典型的に、遠隔コネクションは、ワイド・エリア・ネットワーク(WAN)を介して行われる。例えば、ネットワークはインターネットでもよく、ユーザ・コンピュータ102はウェブ・サイトへのコネクションを確立することができる。以下で説明する様々なユーザ・インタフェース画面は、ユーザ・コンピュータ102へダウンロードされる。インタフェース・コンピュータ108は、ユーザがこれらの画面へ入力したフォトマスクデータを受信する。様々なネットワーク・サーバ及びその他の装置は、ネットワークのタイプに応じて変化する。図1Aには終端局だけが図示されている。インターネット接続の場合、ユーザ・コンピュータ102は、ウェブ・ブラウザ以外に特別のプログラミングは不要である。
【0015】
ユーザは、回路設計コンピュータ104を具備する。回路設計コンピュータ104は、ユーザの集積回路の設計を生成するプログラミングを保存する。コンピュータ102及び104は同じ装置でも構わないが、典型的に、コンピュータ102はPC型コンピュータであり、コンピュータ104はUNIX(登録商標)型ワークステーションである。ユーザの回路設計データは、ユーザの設計ライブラリデータベース106に格納される。図1Bのステップ127に示されるように、フォトマスクの製造前のあるポイントで、この設計データは、製造業者のローカル・ネットワークによるアクセスのためユーザ設計データベース110へ転送される。
【0016】
インタフェース・コンピュータ108は、ネットワーク接続を介してユーザからフォトマスク仕様データを受信するプログラミングを保存する。換言すると、フォトマスク仕様データは、データを特定のフォーマットに編成する注文入力フォームを使用して、ユーザからオンラインで受信される。このデータは、製造業者のローカル・ネットワーク上の他のコンピューティング装置から直ちに利用できるようになる。インタフェース・コンピュータ108は、あらゆる製造上の要求事項並びにユーザの使用を充足する一つ以上のフォトマスクを設計するため、フォトマスク仕様データを使用するプログラミングも保持する。図1Bのステップ120−124には、インタフェース・コンピュータ108によって実行される注文入力工程と、その他の工程と、が示されている。
【0017】
コンピュータ108は、フォトマスク仕様データを、フォトマスク仕様データベース112に格納する。このデータは、コマンド生成器114によってアクセスされ、コマンド生成器114は、フォトマスク製造装置へ送られる命令を生成する。特に、コマンド生成器114は、フラクチャ・エンジン116へ供給されるフラクチャリング命令を生成する。フラクチャ・エンジン116は、データベース110からパターン設計データを受け取り、フラクチャ化(された)パターンデータを生成する。コマンド生成器114は、更に、制御命令を生成する。この制御命令は、パターンが書き込まれるべき場所と方式を指定する。
【0018】
フラクチャ化パターンデータ及び制御命令は、製造装置によってアクセス可能なメモリへ供給され、製造装置は、集積回路の層毎にフォトマスクを生産する。現代の製造環境において、製造装置は、コンピュータ制御リソグラフィ装置である。
【0019】
請求ファイル生成器118は、フォトマスク仕様データを製造業者の請求システムに連結するため仕様される。請求ファイル生成器118は、適切なデータを選択し、請求システムによって使用可能なフォーマットに並べる。
【0020】
〔フォトマスク仕様のオンライン入力〕
図1Cは、図1Bのステップ121の間に実行される多数のステップの説明図である。このステップ中に、インタフェース・コンピュータ108は、書式タイプ注文入力インタフェースを用いて、フォトマスク仕様データを受け取る。後述するように、ユーザは、様々なユーザ・インタフェース画面をダウンロードするネットワークにアクセスする。これらの画面はユーザ・コンピュータ102に表示され、ユーザを案内してフォトマスク仕様データを入力させる。
【0021】
図1Cのステップ131−136の各ステップは、異なるユーザ・インタフェース画面と関連付けられる。これらの画面は、図2乃至7に示されている。フォトマスク注文を提出するため、ユーザは、これらの画面へ順番にアクセスし、各画面によって促されたデータを入力する。
【0022】
表示画面は、コンピュータ108がその注文のために適当な命令を生成することができる書式で、データをインタフェース・コンピュータ108へ供給するように整えられる。画面は、ウィンドウタイプのオペレーティングシステムを使用する人に知られている多数のインタフェース機能を具備する。これらの機能には、データ入力ボックス、プルダウンメニュー、並びに、選択ボタン及びバーが含まれる。ヘルプアイコンは、ユーザがヘルプ情報を閲覧できるようにさせる。
【0023】
図2は、ログイン画面20の説明図である。この画面は、ユーザが目にする最初の画面である。インターネット経由でアクセスする場合、この画面は、フォトマスク製造業者のURLを入力するユーザに応答して表示される。
【0024】
各注文は、ユーザが最初にアカウントを保有することを要求する。新しいユーザ・リンク21は、ユーザがアカウントを設定することを許可し、ユーザ名及びパスワードを受け付ける。同時に、ユーザは、ユーザ設計データベース110へのネットワークアクセスのためセットアップされる。これにより、ユーザは、ユーザ・データベース106から、製造業者によって維持されるデータベース110へ回路設計データを電子転送できるようになる。後述のように、この転送は、注文を作成するため使用されたネットワーク接続と同一のネットワーク接続によって実現する必要がない。
【0025】
注文を入力するため、ユーザは、ユーザ名及びパスワードを入力するように要求される。メニュー22は、ユーザが新しい注文の作成を要求することを許可する。
【0026】
図3A及び3Bは、汎用ツーリングデータ画面30の説明図である。画面30の最上部のナビゲーションバー30aは、設計工程中の現在位置をユーザに通知し、ユーザが全ての画面の中を巡回できるようにさせる。
【0027】
注文コピーボックス31は、ユーザが、進行中の注文を再ロードすること、又は、旧い注文に基づいて新しい注文を作成することを可能にさせる。これにより、ユーザは、新しい注文のために再使用されるデータを再入力しなくてもよくなる。
【0028】
ユーザ情報ボックス32は、ユーザが関係連絡情報を入力することを可能にさせる。品質制御ボックス33は、ダイ・ツー・ダイ、マニュアル、又は、ダイ・ツー・データベースのような品質制御のタイプのためのプルダウンメニューを提示する。書類作成ボックス34は、書類作成を選択するプルダウンメニューを提示する。
【0029】
層(レイア)及びパターンボックス35は、ユーザに、デバイスに名前を付け、層とパターンの数を指定するように促す。ツーリング及び材料ボックス38は、プロダクトタイプ、ガラスのタイプ、ガラスのサイズ及び厚さ、並びに、コーティングのためのプルダウンメニューを提示する。反射率仕様も入力される。ペリクルボックス36は、ユーザがペリクルデータを指定できようにさせる。多数のステッパー・データも入力される。
【0030】
「作成及び前進」ボタン38は、ユーザが、画面30に入力された情報を保存し、次の画面へ進むことを可能にさせる。画面30に入力された情報は、後続の画面へ引き渡される。
【0031】
図4は、層データ画面40の説明図であり、ユーザが各層のデータを入力するように要求する。画面40は、1層だけのための層データライン41を含む。付加的なライン41は、付加的な層のために表示されるので、画面30のボックス35で指定された層と同数のライン41が存在する。層毎に、ユーザは、タイトルと、バーコードと、位置合わせ許容範囲と、その他の層情報と、を入力するように促される。
【0032】
図5は、パターンデータ画面50の説明図である。パターンデータラインの組51は、画面30で指定されたパターン毎に表示される。組51の中の第1ライン上に、ユーザはパターン名を入力する。このパターン名は、パターンを、プライマリ、テスト、フレーム、或いは、その他のタイプのパターンとして識別する。ユーザは、パターンがフラクチャ化されるべきかどうかも指定する。組51の中の後続のラインで、層毎に、ユーザは、多数の配置、配置の場所、及び、その他のフラクチャリングデータを指定する。臨界ディメンジョン(CD)データは、フォトマスクがユーザの仕様を充たしているかどうかを製造業者が検証することを可能にする。図5の例では、1層しか示されていないが(したがって、組51には2本のラインだけが示されているが)、付加的なラインを付加的な層のために生成される。
【0033】
図6は、パターン配置画面60の説明図である。ユーザは、画面60を使用して、各パターンを配置する場所を指定する。ライン61に示されるように、パターンデータは、画面50から受け継がれるので、画面60は、各層を進行し、各層上の各パターンを進行する。
【0034】
図7は、パターンフラクチャ画面70の説明図である。ここでも、前の画面からのデータが持ち越される。図7には、一つのパターンに対するデータ入力が例示されているが、ライン71は、データ入力ボックスと同じように、パターン毎に繰り返される。データベース入力ライン72は、ユーザに、ユーザ・データベース110内でパターンデータを識別し、見つけるために使用されるデータの入力を要求する。画面70上の付加的なボックス73は、ユーザに、スケール、GDS、及び、ウィンドウ制限データを入力するように要求する。
【0035】
〔注文入力以外の処理〕
再度、図1A及び1Bを参照するに、ユーザ注文入力(ステップ121)以外の多数のステップが示されている。後述するように、これらのステップは、注文入力と同時に、又は、注文入力に続いて行われる。
【0036】
ステップ125はステップ121の後に行われる。注文入力工程中にユーザによって入力されたデータは、フォトマスク仕様データベース112にフォトマスク仕様データとして格納される。
【0037】
ステップ122はユーザから請求データを受信する。このステップは、ステップ121と同じネットワーク接続中に行われる。本例では、請求データ画面は画面70の直後に現れる。
【0038】
図8は、ステップ122のための請求データを受け付けるため使用される請求データ画面80の説明図である。ユーザは、フォトマスクに対する請求の際に使用するための様々な情報を入力するように要求される。
【0039】
ステップ123は確認ステップであり、ステップ121の間、又は、ステップ121の後に実行される。すなわち、ステップ123は、ユーザがオンラインである間に実行される。ステップ123において、インタフェース・コンピュータ108は、注文データが有効であることを保証するため、注文データを処理する。確認技術の例には、ユーザがステップ120の間に全ての必要データを入力したことを保証することが含まれる。他の一例として、ユーザ・データは、指定されたパターンが層にぴったり合うことを保証するため検査される。確認の詳細な説明は後述する。
【0040】
図9は、確認画面90の説明図である。画面90は、ステップ123が実行されたことを示す。ステップ123のうちの確認テストの一つが失敗した場合、ユーザは、画面90内の異なるメッセージで通知され、正当性を欠くデータが入力された画面へ戻る機会が与えられるので、エラーを訂正することが可能である。
【0041】
図10A及び10Bは、注文概要画面100の説明図であり、この画面は、フォトマスクを製造する工場へ配信される。注文概要は、ユーザ・コンピュータ102へも送信される。画面100は、電子配信されるか、又は、ハードコピー形式で印刷若しくは配布される。
【0042】
ステップ124において、注文入力データの一部の項目は、請求システムが使用するため選択され、並べられる。例えば、注文データは、「セミファイル」として書式設定(フォーマット化)される。このセミファイルは、注文情報のための半導体産業規格に準拠する。専用の請求データ生成器118はこの作業のため使用される。しかし、図1A及び1Bに関して説明したように、ローカル・ネットワーク100のコンピューティング装置によって実行される処理タスクの分割は、本発明の実施例に応じて異なる。
【0043】
ステップ126は、ユーザがデータを入力するときに(ステップ121の間に)実行される。ステップ126の間に、コマンド生成器114は、画面70へ入力されたフラクチャリングデータを受け取る。コマンド生成器114は、フラクチャリング命令を生成するため、このデータと、プログラムメモリに収容されているフラクチャリングアルゴリズムを使用する。
【0044】
一部の製造システムでは、特定のパターンの組に対するフラクチャリング命令は、「シンチ(簡単な)ファイル」と呼ばれる。以下の命令は、シンチファイルの一部を表現し、一つのパターンを記述する。
!Fracture_1
clear
Allocate_rects 500000
Allocate_traps 500000
Allocate_space 20000000
Format MEBES
Mebes MACHINE 3
Compact FLY
Rule PARAGON
Border OUTSIDE
Input $INPUT_PATH/JEFF.GDS
Resolution 0
Structure MAIN
Layers 1, 3, 5, 7
Limits (−12000, −15000, 12000, 15000)
Scale 1
Output $OUTPUT_PATH/dpi000000_22.cflt
Do
完全なシンチファイルは、パターン毎に同様の記述を含む。
【0045】
フラクチャリング命令の自動生成は、マニュアル入力に伴うエラーを除去する。フラクチャリング命令は、ユーザがパターンデータ及びフラクチャデータを入力するときに、オンラインで生成される。図1A及び1Bに関して説明したように、フラクチャリング命令は、製造装置によって認識可能なフォトマスクパターンを製作するため、ユーザの設計データと共に使用される。
【0046】
ステップ127において、コマンド生成器114は、データベース112からフォトマスク仕様データを受信する。コマンド生成器114は、製造装置用の命令を生成するためこのデータを使用する。その結果として、パターンをフォトマスクプレート上に書き込ませるコンピュータ命令のセットが得られる。これらの命令は、「ジョブデッキ」と呼ばれる場合がある。
【0047】
ステップ128において、ユーザの回路設計データは製造業者へ渡される。設計データが電子形式で送信される場合、設計データは、注文入力のため使用されたネットワークとは別のコネクションを介して送信してもよい。例えば、安全なFTPファイル転送を使用できる。設計データはユーザ・データベース110に格納される。
【0048】
〔フォトマスク仕様及び請求データの確認〕
上述の通り、ステップ123において、ユーザのフォトマスク仕様データは、オンラインで、すなわち、入力中に確認される。
【0049】
以下の確認工程は、ステップ123の間に実行されるタスクの組の一例である。後述のように、多数の確認タスクが分類される。一部のタスクは、指定されたデータが入力されたかどうかを判定する。他のタスクは、データが指定されたフォーマットであるかどうか、すなわち、レンジ内の小数であるかどうかを判定する。他のタスクは、パターンがマスクにぴったり合うか、或いは、配置が整列しているかどうかのように、データが指定された寸法規準を充たすかどうかを判定する。
【0050】
図3Aから図9に例示された画面の各々に対して、以下の確認タスクが行われる。
汎用ツーリングデータ画面30:
存在の確認:
ユーザ名
デバイス名
層数
パターン数
レンジ内の整数であることを確認:
層数(1−99)
パターン数(1−99)
レンジ内の小数であることを確認:
反射率(0.0−100)
特別の確認:
電子メールアドレス
層データ画面40:
存在の確認:
層名
特別の確認:
層名は固有であることを確認
パターンデータ画面50:
存在の確認:
1層あたりのパターン配置の数
レンジ内の整数であることを確認
1層あたりのパターン配置の数(0−99)
レンジ内の小数であることを確認
アドレスユニット出力(0.0−10.0)
最終CDサイズ(任意の小数)
CD許容範囲(0.0−1000.0)
パターン配置画面60:
小数であることを確認
配置X(任意の小数)
配置Y(任意の小数)
パターンフラクチャ画面70:
レンジ内の小数であることを確認
フラクチャデータスケール出力(0.0−10000.0)
特別の確認
フラクチャデータベース名は有効なファイル名であることを確認
フラクチャ最上部構造は有効なファイル名であることを確認
ウィンドウ制限は、右上X−左下Xの絶対値がガラスの幅以下であることを確認
ウィンドウ制限は、右上Y−左下Yの絶対値がガラスの高さ以下であることを確認
請求データ画面80:
特別の確認
アカウントマネージャ電子メール、請求情報電子メール、及び、出荷情報電子メールは、有効な電子メールアドレスであること確かめるために全てを確認
確認画面90:
ユーザ名
デバイス
連絡先名
連絡先電話番号
連絡先ファックス番号
連絡先電子メール
プロダクトタイプ
ガラスタイプ
ガラスサイズ/厚さ
ガラスコーティング
欠陥規準
プロットサイズ
層数
パターン数
画面用のフィールドを確認:注文ビジネス情報
PO番号
請求先アドレス
請求先都市
請求先州
請求先国
請求先Zipコード
請求連絡先
請求連絡先電話番号
請求連絡先ファックス番号
請求連絡先電子メール
出荷先アドレス
出荷先都市
出荷先州
出荷先国
出荷先Zipコード
出荷連絡先
出荷連絡先電話番号
出荷連絡先ファックス番号
出荷連絡先電子メール
層の数を取得
層を進んで、1層ずつ確認:
層属性のアレイを取得
画面に対するフィールドを確認:層情報
マスクタイトル
バーコードテキスト(前の情報に基づいて必要な場合)
マスク優先度
タイトル優先度
次の層
パターンデータの確認
パターン名
要求フラクチャ
フラクチャが必要か否かを決定
画面に対するフィールドを確認:フラクチャ情報
注:これらは最上レベルのフィールドだけであり、層に依存しない
データベース名
最上部構造
データスケール出力
ウィンドウ限界−LLX
ウィンドウ限界−LLY
ウィンドウ限界−URX
ウィンドウ限界−URY
パターンアレイの取得及び確認
配置全体の初期化
パターンアレイデータの確認(パターン及びフラクチャ)
パターン情報の確認
アドレスユニット出力
最終CDサイズ
CDデジタル化
デジタル化データトーン
フラクチャ情報の確認
GDS層
入力パターンファイル名
配置数の取得及び確認
配置データの確認
配置属性の取得
エラーメッセージのルートを形成
画面に対するフィールドを確認:配置情報
X値
Y値
次の配置
numPatternLayerPlacements>0であるならば終了
次のパターン層
次のパターン
確認タスクは以上の通りである。
【0051】
〔その他の実施例〕
本発明を詳細に説明したが、特許請求の範囲に記載された事項によって定義される本発明の精神及び範囲を逸脱することなく、これらの詳細な説明に対して、様々な変更、置換及び代替を加え得ることは明らかである。
【図面の簡単な説明】
【図1A】
フォトマスクデータを取得し製造命令を生成する本発明によるネットワークに基づくシステムの構成図である。
【図1B】
図1Aのシステムによって行われる方法の説明図である。
【図1C】
図1Bの注文入力ステップの説明図である。
【図2】
図1Cの注文入力ステップと整合したユーザ・コンピュータへダウンロードされた表示画面の説明図である。
【図3A】
図1Cの注文入力ステップと整合したユーザ・コンピュータへダウンロードされた表示画面の説明図である。
【図3B】
図1Cの注文入力ステップと整合したユーザ・コンピュータへダウンロードされた表示画面の説明図である。
【図4】
図1Cの注文入力ステップと整合したユーザ・コンピュータへダウンロードされた表示画面の説明図である。
【図5】
図1Cの注文入力ステップと整合したユーザ・コンピュータへダウンロードされた表示画面の説明図である。
【図6】
図1Cの注文入力ステップと整合したユーザ・コンピュータへダウンロードされた表示画面の説明図である。
【図7】
図1Cの注文入力ステップと整合したユーザ・コンピュータへダウンロードされた表示画面の説明図である。
【図8】
図1Bの請求データステップ中に請求情報を入力する表示画面の説明図である。
【図9】
図1Bの確認ステップの結果を表示する確認画面の説明図である。
【図10A】
製造工場へ渡される注文概要表示の説明図である。
【図10B】
製造工場へ渡される注文概要表示の説明図である。
Claims (26)
- フォトマスク製造装置によって使用するための命令を生成するコンピュータネットワークであって、
遠隔ユーザ・コンピュータから遠隔ネットワーク接続を介してアクセス可能なインタフェース・コンピュータが設けられ、
ネットワーク接続中に、インタフェース・コンピュータは、ユーザ・コンピュータからフォトマスク使用データを受信し、フォトマスク仕様データを確認し、確認結果をユーザ・コンピュータへダウンロードするタスクを実行することが可能であり、
フォトマスク仕様データは、少なくとも一つのフォトマスクに関して、層と、パターンと、配置と、フラクチャリングデータを少なくとも特定し、
インタフェース・コンピュータと通信し、フォトマスク仕様データを保持することができるフォトマスク仕様データベースが更に設けられ、
フォトマスク仕様データベースと通信し、フォトマスク仕様データに応じて、フラクチャリング命令及び制御命令を生成することが可能であるコマンド生成器が更に設けられ、
フォトマスク用の設計データを保持するユーザ設計データベースが更に設けられ、
フラクチャリング命令及び設計データを受け取り、フラクチャ化されたパターンデータを生成するため当該データを使用するフラクチャ・エンジンが更に設けられている、
コンピュータネットワーク。 - 遠隔ネットワーク接続はインターネット接続である、請求項1記載のコンピュータネットワーク。
- ユーザ設計データベースは、ユーザから電子形式で設計データを受信する通信インタフェースを備えている、請求項1記載のコンピュータネットワーク。
- 設計データは、フォトマスク仕様データと同じネットワーク接続の間に受信される、請求項3記載のコンピュータネットワーク。
- フォトマスク仕様データから請求データを選択し、請求データを請求システムに適したフォーマットに整える請求データ生成器を更に有する請求項1記載のコンピュータネットワーク。
- 請求データ生成器は請求データをセミファイルとしてまとめる、請求項5記載のコンピュータネットワーク。
- コマンド生成器は、制御命令を製造装置からアクセス可能なメモリへ供給することが可能である、請求項1記載のコンピュータネットワーク。
- フラクチャ・エンジンは、フラクチャ化されたパターンデータを製造装置からアクセス可能なメモリへ供給することが可能である、請求項1記載のコンピュータネットワーク。
- フラクチャリング命令はシンチファイルの形式である、請求項1記載のコンピュータネットワーク。
- インタフェース・コンピュータは、データが指定されたフォーマットで入力されたかどうかを判定することにより、フォトマスク仕様データを確認する、請求項1記載のコンピュータネットワーク。
- インタフェース・コンピュータは、データが寸法規準に適合するかどうかを判定することにより、フォトマスク仕様データを確認する、請求項1記載のコンピュータネットワーク。
- インタフェース・コンピュータは、フラクチャリングデータを確認することにより、フォトマスク仕様データを確認する、請求項1記載のコンピュータネットワーク。
- フォトマスク製造装置によって使用される命令を生成するネットワークに基づく方法であって、
少なくとも一つのフォトマスクに関する層、パターン、配置及びフラクチャリングデータを少なくとも特定するフォトマスク仕様データの入力を要求するため機能し得る一連の表示画面を、遠隔ネットワーク接続を介してユーザ・コンピュータへダウンローディングする手順と、
フォトマスク製造業者側のローカル・ネットワーク上のローカル・コンピューティング装置で、遠隔ネットワーク接続を介してユーザ・コンピュータからフォトマスク仕様データを受信する手順と、
遠隔ネットワーク接続の間に、フォトマスク仕様データを検証するタスクと、フォトマスク仕様データに応じてフラクチャリング命令を生成するタスクと、ユーザ側からパターン設計データを受け取るタスクと、フラクチャ化されたパターンデータを生成するためフラクチャリング命令及びパターン設計データを使用するタスクと、製造装置用の制御命令を生成するタスクと、を実行するためローカル・コンピューティング装置を使用する手順と、
を有する方法。 - 遠隔ネットワーク接続はインターネット接続である、請求項13記載の方法。
- ローカル・コンピューティング装置は、ユーザ側から電子形式でパターン設計データを受信する、請求項13記載の方法。
- 設計データは、フォトマスク仕様データと同じネットワーク接続の間に受信される、請求項15記載の方法。
- ダウンローディングする手順は、ユーザに請求データの入力を要求するように動作可能な画面をダウンローディングすることによって更に実行され、
請求データを請求システムに適したフォーマットに整える手順と、
請求データを請求システムに渡す手順と、
を更に有する、
請求項13記載の方法。 - 画面は、少なくとも層データ画面とパターンデータ画面とを含み、
パターンデータ画面は、層データ画面に与えられたデータに基づいて層をリストに掲載する、
請求項13記載の方法。 - 画面は、少なくとも層データ画面とパターン配置画面とを含み、
パターン配置画面は、層データ画面に与えられたデータに基づいて層をリストに掲載する、
請求項13記載の方法。 - 画面は、少なくともパターンデータ画面とフラクチャ画面とを含み、
フラクチャ画面は、パターンデータ画面に与えられたデータに基づいてパターンをリストに掲載する、
請求項13記載の方法。 - ローカル・コンピューティング装置は、フラクチャ化されたパターンデータ及び制御命令を製造装置へ更に供給する、請求項13記載の方法。
- ローカル・コンピューティング装置は、少なくとも1台のコンピュータに組み込まれたインタフェース・コンピュータ、コマンド生成器、及び、フラクチャ・エンジンを含む、請求項13記載の方法。
- ローカル・コンピューティング装置は、製造業者側の請求システムで使用するための請求ファイルを更に生成する、請求項13記載の方法。
- ローカル・コンピューティング装置は、データが指定されたフォーマットで入力されたかどうかを判定することにより、フォトマスク仕様データを確認する、請求項13記載の方法。
- ローカル・コンピューティング装置は、データが寸法規準に適合しているかどうかを判定することにより、フォトマスク仕様データを確認する、請求項13記載の方法。
- ローカル・コンピューティング装置は、フラクチャリングデータを確認することにより、フォトマスク仕様データを確認する、請求項13記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US09/610,917 US6622295B1 (en) | 2000-07-05 | 2000-07-05 | Network-based photomask data entry interface and instruction generator for manufacturing photomasks |
US09/610,917 | 2000-07-05 | ||
PCT/US2001/021020 WO2002003141A2 (en) | 2000-07-05 | 2001-06-29 | Network-based photomask data entry interface and instruction generator for manufacturing photomasks |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004502972A true JP2004502972A (ja) | 2004-01-29 |
JP4873678B2 JP4873678B2 (ja) | 2012-02-08 |
Family
ID=24446917
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002508144A Expired - Fee Related JP4873678B2 (ja) | 2000-07-05 | 2001-06-29 | ネットワークに基づくフォトマスクデータ入力インタフェース及びフォトマスク製造用の命令生成装置 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US6622295B1 (ja) |
EP (1) | EP1297455A2 (ja) |
JP (1) | JP4873678B2 (ja) |
CN (1) | CN1251119C (ja) |
AU (1) | AU2001273139A1 (ja) |
HK (1) | HK1058090A1 (ja) |
TW (1) | TWI226555B (ja) |
WO (1) | WO2002003141A2 (ja) |
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-
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- 2001-06-29 WO PCT/US2001/021020 patent/WO2002003141A2/en active Application Filing
- 2001-06-29 CN CNB018151701A patent/CN1251119C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2001-06-29 AU AU2001273139A patent/AU2001273139A1/en not_active Abandoned
- 2001-06-29 JP JP2002508144A patent/JP4873678B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2001-06-29 EP EP01952380A patent/EP1297455A2/en not_active Withdrawn
- 2001-07-05 TW TW090116471A patent/TWI226555B/zh not_active IP Right Cessation
-
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WO2002003141A2 (en) | 2002-01-10 |
US6622295B1 (en) | 2003-09-16 |
WO2002003141A8 (en) | 2003-11-06 |
TWI226555B (en) | 2005-01-11 |
WO2002003141A3 (en) | 2002-08-15 |
US7398509B2 (en) | 2008-07-08 |
AU2001273139A1 (en) | 2002-01-14 |
CN1251119C (zh) | 2006-04-12 |
US20060074510A1 (en) | 2006-04-06 |
CN1452749A (zh) | 2003-10-29 |
EP1297455A2 (en) | 2003-04-02 |
HK1058090A1 (en) | 2004-04-30 |
US20040054982A1 (en) | 2004-03-18 |
JP4873678B2 (ja) | 2012-02-08 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080513 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110104 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110401 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110614 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110914 |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20111025 |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20111121 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141202 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4873678 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |