JPH04242916A - 露光データの生成方法 - Google Patents
露光データの生成方法Info
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- JPH04242916A JPH04242916A JP3000309A JP30991A JPH04242916A JP H04242916 A JPH04242916 A JP H04242916A JP 3000309 A JP3000309 A JP 3000309A JP 30991 A JP30991 A JP 30991A JP H04242916 A JPH04242916 A JP H04242916A
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 15
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 5
- 238000013461 design Methods 0.000 claims description 14
- 238000012432 intermediate storage Methods 0.000 claims description 7
- 238000012545 processing Methods 0.000 abstract description 18
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 10
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 7
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Electron Beam Exposure (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、露光データの生成方法
、特に大容量の露光データ生成方法に関する。
、特に大容量の露光データ生成方法に関する。
【０００２】近年、ＬＳＩ（Ｌａｒｇｅ Ｓｃａｌｅ
Ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄｃｉｒｃｕｉｔ）の大規模化に伴
って、そのＬＳＩの設計からマスク描画に至る過程で生
成される露光データの大きさ（データ量）が、ますます
増大する傾向にある。例えば、４メガＤＲＡＭでは数百
メガバイト、あるいは、１６メガＤＲＡＭでは数十ギガ
バイトもの極めて大きな露光データが作られるようにな
ってきた。
Ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄｃｉｒｃｕｉｔ）の大規模化に伴
って、そのＬＳＩの設計からマスク描画に至る過程で生
成される露光データの大きさ（データ量）が、ますます
増大する傾向にある。例えば、４メガＤＲＡＭでは数百
メガバイト、あるいは、１６メガＤＲＡＭでは数十ギガ
バイトもの極めて大きな露光データが作られるようにな
ってきた。
【０００３】
【従来の技術】図７は従来の露光データ生成の概念図で
ある。計算機は、ＬＳＩの設計データを逐次に読み込み
、所定の処理を実行した後、その処理結果（露光データ
）を記憶媒体（例えば磁気ディスクやメタルテープ：Ｍ
／Ｔと略記）に出力する。
ある。計算機は、ＬＳＩの設計データを逐次に読み込み
、所定の処理を実行した後、その処理結果（露光データ
）を記憶媒体（例えば磁気ディスクやメタルテープ：Ｍ
／Ｔと略記）に出力する。
【０００４】ここで、記憶媒体の所要個数は露光データ
の大きさに依存する。例えば１６メガＤＲＡＭの場合に
は複数個のＭ／Ｔを必要とする。露光データの生成は、
最後の記憶媒体にデータを出力した時点で完了し、これ
らの複数個の記憶媒体が露光装置へと搬送されて順次、
露光装置にセットされる。
の大きさに依存する。例えば１６メガＤＲＡＭの場合に
は複数個のＭ／Ｔを必要とする。露光データの生成は、
最後の記憶媒体にデータを出力した時点で完了し、これ
らの複数個の記憶媒体が露光装置へと搬送されて順次、
露光装置にセットされる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、かかる
従来の露光データの生成方法にあっては、多数の記憶媒
体の搬送、露光装置へのセットが必要であり、データの
受け渡し性が悪いといった問題点がある。また、最後の
記憶媒体にデータが出力されるまでは一連のデータ生成
処理が完了せず、処理時間が長引くといった問題点があ
る。
従来の露光データの生成方法にあっては、多数の記憶媒
体の搬送、露光装置へのセットが必要であり、データの
受け渡し性が悪いといった問題点がある。また、最後の
記憶媒体にデータが出力されるまでは一連のデータ生成
処理が完了せず、処理時間が長引くといった問題点があ
る。
【０００６】そこで、本発明は、露光データの受け渡し
性を良好にすると共に、処理時間の短縮化を図ることを
目的としている。
性を良好にすると共に、処理時間の短縮化を図ることを
目的としている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するためその原理図を図１に示すように、半導体集積
回路の設計データをいくつかのデータ群に分割し、それ
ぞれのデータ群をさらにいくつかの小データ群に分割し
、前記１つのデータ群を構成する小データ群の露光デー
タを並列生成すると共に、該生成された露光データを中
間記憶装置を介して露光装置に与えることを特徴とする
。
成するためその原理図を図１に示すように、半導体集積
回路の設計データをいくつかのデータ群に分割し、それ
ぞれのデータ群をさらにいくつかの小データ群に分割し
、前記１つのデータ群を構成する小データ群の露光デー
タを並列生成すると共に、該生成された露光データを中
間記憶装置を介して露光装置に与えることを特徴とする
。
【０００８】
【作用】本発明では、設計データがいくつかのデータ群
に分けられ、それぞれのデータ群ごとに露光データが生
成される。
に分けられ、それぞれのデータ群ごとに露光データが生
成される。
【０００９】従って、データの受け渡し性が改善される
と共に、一連のデータ生成処理が各データ群ごとに完結
され、処理時間の短縮化が図られる。
と共に、一連のデータ生成処理が各データ群ごとに完結
され、処理時間の短縮化が図られる。
【００１０】
【実施例】以下、本発明を図面に基づいて説明する。図
２〜図６は本発明に係る露光データの生成方法の一実施
例を示す図である。
２〜図６は本発明に係る露光データの生成方法の一実施
例を示す図である。
【００１１】図２において、１０はＥＷＳ（エンジニア
リング・ワークステーション：Ｅｎｇｉｎ−ｅｅｒｉｎ
ｇ Ｗｏｒｋ Ｓｔａｔｉｏｎ ）、１１は複数のＣＰ
Ｕ（Ｃｅｎｔｒａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ
）を備える並列計算機、１２は中間記憶装置、１３は
露光装置であり、これら各部はバス１４、１５、１６に
よって接続されている。なお、図３に示すように、複数
のＥＷＳでローカルエリアネットワーク（ＬＡＮ）を構
成してもよい。
リング・ワークステーション：Ｅｎｇｉｎ−ｅｅｒｉｎ
ｇ Ｗｏｒｋ Ｓｔａｔｉｏｎ ）、１１は複数のＣＰ
Ｕ（Ｃｅｎｔｒａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ
）を備える並列計算機、１２は中間記憶装置、１３は
露光装置であり、これら各部はバス１４、１５、１６に
よって接続されている。なお、図３に示すように、複数
のＥＷＳでローカルエリアネットワーク（ＬＡＮ）を構
成してもよい。
【００１２】図４はＥＷＳ１０と並列計算機１１の機能
概念図である。図中の枠Ａは、ＥＷＳ１０に読み込まれ
るＬＳＩ設計データを摸式的に表している。本実施例に
おけるＥＷＳ１０はこの枠Ａで示される設計データを４
つのデータ群Ａｉ（ｉは１〜４）に分割し、各データ群
Ａｉを順次、並列計算機１１へと転送する。
概念図である。図中の枠Ａは、ＥＷＳ１０に読み込まれ
るＬＳＩ設計データを摸式的に表している。本実施例に
おけるＥＷＳ１０はこの枠Ａで示される設計データを４
つのデータ群Ａｉ（ｉは１〜４）に分割し、各データ群
Ａｉを順次、並列計算機１１へと転送する。
【００１３】並列計算機１１では、与えられたデータ群
Ａｉをさらに９個の小データ群Ａｉ−ｎ（ｎは１〜９）
に分割し、それらの小データ群Ａｉ−ｎを第１ＣＰＵ〜
第９ＣＰＵに割り当てる。各ＣＰＵは所定のプログラム
に従って小データ群Ａｉ−ｎごとの露光データＤｉ−ｎ
を並列的に生成処理し、各ＣＰＵの処理結果（露光デー
タ）を中間記憶装置１２に一時記憶する。
Ａｉをさらに９個の小データ群Ａｉ−ｎ（ｎは１〜９）
に分割し、それらの小データ群Ａｉ−ｎを第１ＣＰＵ〜
第９ＣＰＵに割り当てる。各ＣＰＵは所定のプログラム
に従って小データ群Ａｉ−ｎごとの露光データＤｉ−ｎ
を並列的に生成処理し、各ＣＰＵの処理結果（露光デー
タ）を中間記憶装置１２に一時記憶する。
【００１４】中間記憶装置１２は、１つのデータ群Ａｉ
について、その全ての露光データＤｉ−１〜Ｄｉ−９が
生成されるまでの間、記憶動作を継続し、生成完了に伴
って全ての記憶データＤｉ−１〜Ｄｉ−９を露光装置１
３に転送する。
について、その全ての露光データＤｉ−１〜Ｄｉ−９が
生成されるまでの間、記憶動作を継続し、生成完了に伴
って全ての記憶データＤｉ−１〜Ｄｉ−９を露光装置１
３に転送する。
【００１５】次に、図５の動作フローを参照しながら本
実施例の作用を説明する。まず、ステップＳ１で設計デ
ータを読み込み、読み込んだ設計データをステップＳ２
でいくつかのデータ群Ａｉに分割する。次に、ステップ
Ｓ３で１つのデータ群Ａ１を取り出し、それをさらに９
個の小データ群Ａ１−１〜Ａ１−９に分割する。そして
、ステップＳ４で９個の小データ群Ａ１−１〜Ａ１−９
のそれぞれを各ＣＰＵに割り当てて露光データを並列生
成し、生成された露光データをステップＳ５で一時記憶
する。Ｄ１−１〜Ｄ１−９までの９個の露光データを生
成完了すると、ステップＳ６でそれらを露光装置に転送
すると共に、再びステップＳ３に戻り、次のデータ群Ａ
２を取り出して以上の処理を繰り返す。
実施例の作用を説明する。まず、ステップＳ１で設計デ
ータを読み込み、読み込んだ設計データをステップＳ２
でいくつかのデータ群Ａｉに分割する。次に、ステップ
Ｓ３で１つのデータ群Ａ１を取り出し、それをさらに９
個の小データ群Ａ１−１〜Ａ１−９に分割する。そして
、ステップＳ４で９個の小データ群Ａ１−１〜Ａ１−９
のそれぞれを各ＣＰＵに割り当てて露光データを並列生
成し、生成された露光データをステップＳ５で一時記憶
する。Ｄ１−１〜Ｄ１−９までの９個の露光データを生
成完了すると、ステップＳ６でそれらを露光装置に転送
すると共に、再びステップＳ３に戻り、次のデータ群Ａ
２を取り出して以上の処理を繰り返す。
【００１６】すなわち、中間記憶装置１２には、まず始
めに、データ群Ａ１の露光データＤ１−１〜Ｄ１−９が
保持され、次いで、データ群Ａ２の露光データＤ２−１
〜Ｄ２−９、そして、データ群Ａ３の露光データＤ３−
１〜Ｄ３−９、最後に、データ群Ａ４の露光データＤ４
−１〜Ｄ４−９が保持される。
めに、データ群Ａ１の露光データＤ１−１〜Ｄ１−９が
保持され、次いで、データ群Ａ２の露光データＤ２−１
〜Ｄ２−９、そして、データ群Ａ３の露光データＤ３−
１〜Ｄ３−９、最後に、データ群Ａ４の露光データＤ４
−１〜Ｄ４−９が保持される。
【００１７】このように、本実施例では、設計データを
１／４の大きさに分割して分割データごとに露光データ
を生成するようにしたので、１つの露光データの大きさ
を１／４に減少することができ、バス転送等を用いて露
光装置との間のデータ受け渡し性を良好にすることがで
きる。
１／４の大きさに分割して分割データごとに露光データ
を生成するようにしたので、１つの露光データの大きさ
を１／４に減少することができ、バス転送等を用いて露
光装置との間のデータ受け渡し性を良好にすることがで
きる。
【００１８】また、露光データ生成と露光処理とを並行
して行うことができ、ＬＳＩ製造工程の短縮化を図るこ
とができる。すなわち、図６において、従来例では、一
連の露光データ生成を完了しなければ露光処理に移るこ
とができなかったため、全体の作業時間が、露光データ
の生成時間＋露光処理の時間の合計となっていた。
して行うことができ、ＬＳＩ製造工程の短縮化を図るこ
とができる。すなわち、図６において、従来例では、一
連の露光データ生成を完了しなければ露光処理に移るこ
とができなかったため、全体の作業時間が、露光データ
の生成時間＋露光処理の時間の合計となっていた。
【００１９】これに対し、本実施例では、露光データ生
成と露光処理とを一部でオーバラップして行うことがで
きる（但し、最初の露光データ処理を除く）ので、全体
の製造時間を、オーバラップ時間の合計だけ短縮化する
ことができる。
成と露光処理とを一部でオーバラップして行うことがで
きる（但し、最初の露光データ処理を除く）ので、全体
の製造時間を、オーバラップ時間の合計だけ短縮化する
ことができる。
【００２０】なお、設計データの分割の仕方としては、
全体をほぼ等分割する方法と、分割各部のパターン密度
が均一化するように分割数および分割点を決定する方法
の２通りがある。前者の方法によると、並列計算機の各
ＣＰＵの処理時間にバラつきが発生する恐れがある反面
、分割決定アルゴリズムを簡単化できオーバヘッドを軽
くできる長所があるので、メモリ等、パターン密度が一
定のＬＳＩに好適である。一方、後者の方法によると、
最適な分割数および分割点を決定するためには複雑なア
ルゴリズムを必要とする反面で、各ＣＰＵの処理時間を
均一化できる長所があり、パターン密度の偏りが大きい
ＬＳＩに好適である。
全体をほぼ等分割する方法と、分割各部のパターン密度
が均一化するように分割数および分割点を決定する方法
の２通りがある。前者の方法によると、並列計算機の各
ＣＰＵの処理時間にバラつきが発生する恐れがある反面
、分割決定アルゴリズムを簡単化できオーバヘッドを軽
くできる長所があるので、メモリ等、パターン密度が一
定のＬＳＩに好適である。一方、後者の方法によると、
最適な分割数および分割点を決定するためには複雑なア
ルゴリズムを必要とする反面で、各ＣＰＵの処理時間を
均一化できる長所があり、パターン密度の偏りが大きい
ＬＳＩに好適である。
【００２１】また、小データ群のサイズは、例えば露光
装置の最小露光範囲すなわちビーム偏向のみの露光範囲
に対応させるのが望ましい。さらに、隣接データ群同士
および隣接小データ群同士を僅かに重複させるのが望ま
しい。これにより、データの分割により生ずる、隣接デ
ータ群および隣接小データ群に跨る配線やパターンの欠
落を回避することができる。
装置の最小露光範囲すなわちビーム偏向のみの露光範囲
に対応させるのが望ましい。さらに、隣接データ群同士
および隣接小データ群同士を僅かに重複させるのが望ま
しい。これにより、データの分割により生ずる、隣接デ
ータ群および隣接小データ群に跨る配線やパターンの欠
落を回避することができる。
【００２２】
【発明の効果】本発明によれば、半導体集積回路の設計
データをいくつかのデータ群に分割し、各データ群ごと
に露光データを生成するようにしたので、データの受け
渡し性を良好にすることができ、処理時間の短縮化を図
ることができる。
データをいくつかのデータ群に分割し、各データ群ごと
に露光データを生成するようにしたので、データの受け
渡し性を良好にすることができ、処理時間の短縮化を図
ることができる。
【図１】本発明の原理図である。
【図２】一実施例のシステム構成図である。
【図３】一実施例のＬＡＮを用いたシステム構成図であ
る。
る。
【図４】一実施例のＥＷＳと並列計算機の機能概念図で
ある。
ある。
【図５】一実施例の動作フロー図である。
【図６】一実施例の処理時間の短縮効果を説明するため
の従来例との比較図である。
の従来例との比較図である。
【図７】従来例の概念図である。
１０…ＥＷＳ
１１……並列計算機
１２……中間記憶装置
１３……露光装置
１４……バス
１５……バス
１６……バス
Ａ……ＬＳＩ設計データ
Ａｉ……データ群
Ａｉ−ｎ……小データ群
Claims (1)
- 【請求項１】半導体集積回路の設計データをいくつかの
データ群に分割し、それぞれのデータ群をさらにいくつ
かの小データ群に分割し、前記１つのデータ群を構成す
る小データ群の露光データを並列生成すると共に、該生
成された露光データを中間記憶装置を介して露光装置に
与えることを特徴とする露光データの生成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3000309A JP2801970B2 (ja) | 1991-01-08 | 1991-01-08 | 露光データの生成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3000309A JP2801970B2 (ja) | 1991-01-08 | 1991-01-08 | 露光データの生成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04242916A true JPH04242916A (ja) | 1992-08-31 |
| JP2801970B2 JP2801970B2 (ja) | 1998-09-21 |
Family
ID=11470311
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3000309A Expired - Fee Related JP2801970B2 (ja) | 1991-01-08 | 1991-01-08 | 露光データの生成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2801970B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004502972A (ja) * | 2000-07-05 | 2004-01-29 | デュポン フォトマスクス， インコーポレイテッド | ネットワークに基づくフォトマスクデータ入力インタフェース及びフォトマスク製造用の命令生成装置 |
| JP2011023564A (ja) * | 2009-07-16 | 2011-02-03 | Nuflare Technology Inc | 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画データ作成装置 |
| JP2011044463A (ja) * | 2009-08-19 | 2011-03-03 | Nuflare Technology Inc | 荷電粒子ビーム描画装置、荷電粒子ビーム描画方法、および、荷電粒子ビーム描画用データの処理装置 |
| JP2012015249A (ja) * | 2010-06-30 | 2012-01-19 | Nuflare Technology Inc | 荷電粒子ビーム描画装置およびその制御方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63193524A (ja) * | 1987-02-06 | 1988-08-10 | Hitachi Ltd | Ｌｓｉ描画パタ−ン・デ−タ作成装置 |
-
1991
- 1991-01-08 JP JP3000309A patent/JP2801970B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63193524A (ja) * | 1987-02-06 | 1988-08-10 | Hitachi Ltd | Ｌｓｉ描画パタ−ン・デ−タ作成装置 |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004502972A (ja) * | 2000-07-05 | 2004-01-29 | デュポン フォトマスクス， インコーポレイテッド | ネットワークに基づくフォトマスクデータ入力インタフェース及びフォトマスク製造用の命令生成装置 |
| JP4873678B2 (ja) * | 2000-07-05 | 2012-02-08 | トッパン フォトマスクス， インコーポレイテッド | ネットワークに基づくフォトマスクデータ入力インタフェース及びフォトマスク製造用の命令生成装置 |
| JP2011023564A (ja) * | 2009-07-16 | 2011-02-03 | Nuflare Technology Inc | 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画データ作成装置 |
| JP2011044463A (ja) * | 2009-08-19 | 2011-03-03 | Nuflare Technology Inc | 荷電粒子ビーム描画装置、荷電粒子ビーム描画方法、および、荷電粒子ビーム描画用データの処理装置 |
| JP2012015249A (ja) * | 2010-06-30 | 2012-01-19 | Nuflare Technology Inc | 荷電粒子ビーム描画装置およびその制御方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2801970B2 (ja) | 1998-09-21 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
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