JP3830311B2 - 露光方法および装置、記録媒体 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、露光方法および装置、更にはこれらをソフトウェアの機能で実現するためのプログラムを格納した記録媒体に関し、特に、半導体装置・磁気デバイス・液晶・プリント基板等のＬＳＩを製造するためのレチクル・マスクデータ（露光データ）を設計データより生成する方法、レチクル・マスクに従って露光を行う方法に用いて好適なものである。
【０００２】
【従来の技術】
半導体デバイスの製造工程では、ＣＡＤ（Computer-Aided Design ）等により回路レイアウトがシンボリックに設計されたデバイスを製造するために、ウェハを作る原版となるレイアウトパターンを表したレチクルやフォトマスク等が使用される。そして、特に開発段階においては、そのデバイスの特性改善等のために、回路や条件の設計変更が行われる。この変更は、パターンの変更を伴う。
【０００３】
図５は、設計データをもとにレチクル（レチクル・マスク）を作成する際の処理手順の概要を示す図である。図５には、初版のレチクルを作成する過程と、改版したレチクルを作成する過程とを示している。
【０００４】
まず、ＣＡＤを用いてレチクルのレイアウトパターンを表した初版設計データ１を作成し、この初版設計データ１に対してデータ処理１１を行うことにより、露光データ２を作成する。データ処理１１としては、初版設計データ１の内部フォーマットデータへの変換、図形論理演算、サイジング等の処理を含む。このようにして作成された露光データ２は、図示しない記録媒体に出力され、記憶される。
【０００５】
次に、作成された露光データ２を露光装置に供給してレジストの露光１２を行うとともに、エッチングを行うことによってレチクル３を作成する。さらに、このレチクル３を用いてガラス基板上に焼き付け１３を行うことにより、ウェハー４を作成する。そして、このようにして作成されたウェハー４に対して、基板上に形成された回路パターンがきちんとパターニングされているかどうかや特性の試験１４を行い、条件を満足するものであればレチクル完成７となる。
【０００６】
一方、特性改善等の必要がある場合は、ＣＡＤを用いてレチクルパターンの設計データの手直し１５を行い、改版設計データ５を作成する。そして、この改版設計データ５に対して、上記データ処理１１と同様のデータ処理１６を行うことにより、改版露光データ６を作成する。ここで作成された改版露光データ６も、図示しない記録媒体に出力され、初版の露光データ２とは別に記憶される。
【０００７】
そして、このようにして作成された改版露光データ６に基づいて露光装置で再び露光１２を行うことにより、レチクル３を作成し、更に焼き付け１３を行うことによりウェハー４を作成する。このようにして新たに作成されたウェハー４に対して試験１４を行い、条件を満足するものであればレチクル完成７となる。一方、まだ改善の必要がある場合は、以下同様の処理を繰り返していく。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
近年におけるＬＳＩ開発では、急速な技術開発に伴い、設計データおよび露光データを短時間で作成することが要求されている。しかし、回路パターンの高密度化により、設計データ量および露光データ量は増加する傾向にあり、処理負担が増大している。そのため、設計データおよび露光データを短時間で作成するためには、扱うデータ量や作成工数を削減することが必要となってきている。
【０００９】
しかしながら、従来の手法では、改版設計データから改版露光データを作成する際に、初版設計データに対して修正されていない部分も重複してデータ処理していたため、扱うデータ量や作成工数が初版露光データを作る場合とほとんど変わらなかった。以下、このことを図面を用いて説明する。
【００１０】
図６は、初版設計データから初版露光データを作成する際の動作を説明するためのイメージ図である。図６において、初版設計データ１中に示される点線で表した複数のブロックａ〜ｆは、それぞれが半導体デバイスのセルの集まりであり、モジュールを構成する。これらの各モジュールａ〜ｆの中にそれぞれ固有の回路レイアウトがＣＡＤによってシンボリックに描かれる。
【００１１】
このような初版設計データ１をもとにデータ処理１１を実行することにより、初版露光データ２を生成する。この初版露光データ２中に示される点線で表した複数のブロックＡ〜Ｆは、上記初版設計データ１内の各モジュールａ〜ｆから生成された露光データのモジュールである。これらの各モジュールＡ〜Ｆの中は、露光装置の電子ビームを照射する部分と照射しない部分とを表したパターンデータが描かれている。
【００１２】
ここで、初版設計データ１のデータ量を仮に“１００”（データ処理装置において処理するデータ量が初版設計データ１の全体の１００％という意味）とした場合、データ処理１１では、その初版設計データ１の全てのモジュールａ〜ｆをデータ処理することから、初版露光データ２を生成する際のデータ処理量は“１００”である。
【００１３】
また、図７は、改版設計データから改版露光データを作成する際の動作を説明するためのイメージ図である。図７において、改版設計データ５は、図６に示した初版設計データ１中のモジュールｆを修正して、これを新たなモジュールｇとしたものである。他のモジュールａ〜ｅについては修正を加えておらず、初版設計データ１と同様である。
【００１４】
このような改版設計データ５をもとにデータ処理１６を実行することにより、改版露光データ６を生成する。この改版露光データ６中に示される一点鎖線で表したブロックＧは、上記改版設計データ５内のモジュールｇから生成された露光データのモジュールである。他のモジュールＡ〜Ｅは、改版設計データ５中の各モジュールａ〜ｅから生成された露光データのモジュールである。
【００１５】
この改版設計データ５に対してデータ処理１６を行う場合、手直しを行ったモジュールｇを含めて全てのモジュールをデータ処理装置に入力する。そのため、改版設計データ５のデータ量は“１００”である。また、改版設計データ中５の全モジュールａ〜ｅ，ｇをデータ処理するため、初版設計データ１を処理する場合と変わらない処理工数が必要となり、データ処理量も“１００”となる。
【００１６】
このように、従来は、改版のデータ処理において修正の行われていない部分（モジュールａ〜ｅ）も重複して処理していたため、データ処理に無駄が生じ、露光データの作成時間が長くなってしまう問題があった。また、修正のない部分も改版設計データ５中に含まれるため、これから作成される改版露光データ６のデータ量も大きくなり、記録媒体に保管するデータ量が大きくなってしまうという問題もあった。また、作成した露光データを工場に転送して露光を行うような場合、露光データ量が初版、改版共に大きいため、転送時間が長くなってしまうという問題もあった。
【００１７】
本発明は、このような問題を解決するために成されたものであり、改版露光データのデータ量や作成工数を削減することにより、露光データを短時間で作成することができるようにすること、露光データを少ないデータ量で保存できるようにすること、露光データの転送時間を短縮することができるようにすることを目的とする。
【００１８】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明は設計データから生成された露光データに従って露光を行うための方法であって、改版設計データ上で指定された修正部分のみをデータ処理することによって生成された改版露光データと、改版前露光データとに従って露光を行い、上記改版露光データに従って露光を行うときは、当該改版露光データのヘッダ部もしくはフッタ部に付加された上記修正部分の位置情報に基づいて対応する位置のみを露光し、上記改版前露光データに従って露光を行うときは、上記改版露光データのヘッダ部もしくはフッタ部に付加された上記修正部分の位置情報に基づいて対応する位置を未露光部として認識して露光を行うように構成する。
【００１９】
上記のように構成した本発明によれば、改版設計データから改版露光データを生成する場合、改版前の設計データと重複する部分についてはデータ処理を行わず、改版設計データ上で指定された修正部分のみをデータ処理すれば良いので、データ処理工数を削減することが可能となるとともに、扱うデータ量を削減することも可能となる。
【００２０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の一実施形態を図面に基づいて説明する。
図１は、本実施形態によるデータ処理装置および露光装置の構成例を示すブロック図である。図１において、設計データ２１は、製造する半導体デバイスの回路レイアウトをＣＡＤによりシンボリックに表したデータであり、図５に示した初版設計データ１および改版設計データ５を含む。
【００２１】
本実施形態のデータ処理装置１００は、設計データ入力部２２と、修正位置指定部２３と、データ処理部２４とを備え、ウェハを作る原版となるレチクルパターンを表した露光データを設計データ２１から生成する。上記設計データ入力部２２は、初版もしくは改版の設計データ２１をデータ処理装置１００内に入力するためのものであり、例えばコンピュータ端末のキーボードやマウス等の入力デバイスを備える。
【００２２】
修正位置指定部２３は、改版の設計データ２１を入力した場合に、その改版の設計データ２１中で修正した部分の位置を指定するものである。具体的には、修正を行ったエリアの情報として、改版した設計データ２１の全体の中の座標情報を指定する。これは、露光データを作成するオペレータがコンピュータ端末の入力デバイスを用いて座標情報を指定しても良いし、コンピュータ端末自身が座標情報を自動的に指定するようにしても良い。座標情報を自動的に指定する場合の動作については後述する。
【００２３】
また、データ処理部２４は、露光データ生成部２５と、位置情報付加部２６と、未露光指定部２７とを備える。上記露光データ生成部２５は、初版もしくは改版の設計データ２１に対して、内部フォーマットデータへの変換、図形論理演算、サイジング等のデータ処理を行うことにより、初版もしくは改版の露光データを作成する。このようにして作成された露光データは、ハードディスクやフロッピーディスク等の記録媒体から成る露光データ記憶部２８に出力され、各版ごとに記憶される。
【００２４】
位置情報付加部２６は、上記露光データ生成部２５により生成された改版露光データのヘッダ部もしくはフッタ部に、上記修正位置指定部２３により指定された修正位置を表す位置情報（座標情報）を付加する。また、未露光指定部２７は、上記露光データ記憶部２８に記憶されている初版露光データに対して、上記修正位置指定部２３により指定された修正位置を未露光部として指定する。
【００２５】
また、本実施形態の露光装置２００は、修正位置認識部２９と、未露光認識部３０と、露光部３１とを備え、上記露光データ記憶部２８に記憶された初版および改版の露光データに基づいて、レジストの露光を行うことによってレチクル３２を作成する。
【００２６】
上記修正位置認識部２９は、改版露光データのヘッダ部もしくはフッタ部に記述されている位置情報に基づいて、改版露光データ中で修正が行われている部分の全体に対する位置を認識する。また、未露光認識部３０は、初版露光データ中で上記未露光指定部２７により指定された未露光部の位置を認識する。
【００２７】
露光部３１は、上記修正位置認識部２９および未露光認識部３０による認識結果に基づいて、初版露光データおよび改版露光データを用いて露光を実行する。具体的には、初版のレチクル３２を作成するときは、初版露光データに従って通常通り露光を行う。また、改版のレチクル３２を作成するときは、初版露光データと改版露光データの両方を用いる。このとき、初版露光データに基づいて露光するときは、未露光認識部３０により認識された未露光部を除いた部分を露光する。また、改版露光データに基づいて露光するときは、修正位置認識部２９により認識された修正位置に対してのみ露光を行う。
【００２８】
以下に、設計データから露光データを作成する際の動作を具体例に即して説明する。まず、初版設計データから初版露光データを作成する際の動作を説明する。この場合の動作は、図６に示したものと全く同じである。したがって、ここでは重複する説明を省略する。
【００２９】
一方、改版設計データから改版露光データを作成する際の動作は、図２のイメージ図に示す通りになる。図２において、改版設計データ４１は、図６に示した初版設計データ１中のモジュールｆを修正して、これを新たなモジュールｇとしたものである。他のモジュールａ〜ｅについては初版設計データ１と同様である。また、改版設計データ４２は、修正したモジュールｇのみから成るデータである。これらの改版設計データ４１，４２は何れも図１の設計データ２１に相当する。
【００３０】
この設計データ２１を設計データ入力部２２から入力する場合、図２（ａ）のように、実際に修正したモジュールｇ以外の未修正モジュールａ〜ｅをも含む全ての改版設計データ４１を入力することも可能であるし、図２（ｂ）のように、実際に修正したモジュールｇのみの改版設計データ４２を入力することも可能である。
【００３１】
図２（ａ）のように全ての改版設計データ４１を入力する場合は、その改版設計データ４１のデータ量は“１００”である。一方、図２（ｂ）のようにモジュールｇのみの改版設計データ４２を入力する場合は、その改版設計データ４２のデータ量は、モジュールｇに相当する部分のデータ量だけであり、例えば“３０”である。
【００３２】
図２（ａ）および（ｂ）の何れの方法で改版設計データを入力する場合も、セルまたはモジュール単位で修正した部分のエリアを座標等により指定する。図２の例では、▲１▼、▲２▼で示す位置の座標を指定する。これは、上述したように露光データを作成するオペレータがコンピュータ端末の入力デバイスを用いて行っても良いし、コンピュータ端末自身が自動的に行っても良い。
【００３３】
座標情報を自動的に指定する場合、改版設計データ４１中に修正したモジュールｇのエリア（一点鎖線で示す枠）を実データとして記述する。そして、その枠内の回路パターン（図示せず）はデータ処理に使用し、枠のデータ自体は座標データとして使用する旨を指定することにより、コンピュータ端末が枠のデータからその座標情報を修正位置を表す情報として自動的に指定する。
【００３４】
データ処理を行う際は、改版設計データ上で修正した部分として指定されたエリア（座標情報▲１▼、▲２▼で示されるモジュールｇの部分）のみを処理対象とする。このとき、作成した改版露光データ４３のヘッダもしくはフッタには、修正エリアを表す位置情報として▲１▼、▲２▼の座標情報を記述する。
【００３５】
例えば、図２（ａ）のように全ての改版設計データ４１を入力した場合は、改版設計データ４１中に含まれる各モジュールａ〜ｅ，ｇのうち、修正箇所であるモジュールｇのみをデータ処理し、改版露光データ４３のモジュールＧを作成する。一方、図２（ｂ）のようにモジュールｇのみの改版設計データ４２を入力した場合は、その入力したモジュールｇをデータ処理し、改版露光データ４３のモジュールＧを作成する。したがって、改版設計データ４１もしくは４２から改版露光データ４３を生成する際のデータ処理量は、何れのパターンで設計データを入力した場合も“３０”となる。
【００３６】
次に、上記のように作成された露光データを用いて露光を行うことにより改版レチクルを作成する際の露光装置２００の動作を、図３のフローチャートに従って説明する。
露光装置２００は、まず最初にステップＳ１で、初版および改版の露光データを露光データ記憶部２８から入力する。そして、ステップＳ２で、上記入力した改版露光データのヘッダもしくはフッタに記述されている修正部分の座標を修正位置認識部２９によって認識する。
【００３７】
また、次のステップＳ３では、未露光認識部３０により、上記入力した改版露光データのヘッダもしくはフッタに記述されている修正部分の座標を、初版露光データ中の未露光部として認識する。そして、ステップＳ４で、初版露光データに基づいて、未露光部として認識された修正部エリア以外（図６に示す初版露光データ２中のモジュールＡ〜Ｅに相当する部分）を露光する。さらに、ステップＳ５で、改版露光データに基づいて、修正部エリア内（図２に示すモジュールＧに相当する部分）を露光することにより、改版レチクルを完成させる。
【００３８】
なお、ここでは、初版露光データに基づく露光を行った後に改版露光データに基づく露光を行ったが、この順番は逆でも良い。また、初版露光データと改版露光データとを適宜切り換えながら露光を行うようにしても良い。すなわち、露光装置２００はチップの左端から横方向への走査を上から順次下方へと繰り返していくが、例えば、モジュールＡ〜ＦのうちモジュールＢの部分が修正されているような場合に、露光装置２００の走査がモジュールＢの部分に来たときには改版露光データを用い、走査が他のモジュールの部分に来たときには初版露光データを用いるといった具合に切り換えを行うようにしても良い。
【００３９】
以上のように、本実施形態では、改版設計データから改版露光データを作成する際に、改版設計データの全てを処理するのではなく、実際に修正をしたエリアのみを処理対象とするため、処理工数を大幅に削減することができる。また、作成される改版露光データは、修正エリアのデータだけであるため、露光データ記憶部２８にて少ないデータ量で露光データを保存および管理することができる。また、作成した露光データをネットワークを介して転送する場合は、その転送時間を短くすることができる。
【００４０】
また、本実施形態では、改版露光データのヘッダもしくはフッタに任意の座標情報を記述することにより、初版露光データ上で未露光にする部分を任意に指定することができるというメリットも有する。図４は、このことを説明するための図である。図４において、５１〜５３は全て初版露光データ中に存在する回路パターンである。このうち、斜線で示した部分５３は、ヘッダもしくはフッタに座標情報を記述することによって、未露光部として指定した部分である。
【００４１】
このように、本実施形態では、初版露光データ中から任意の一部分を削除した改版露光データを作成したいような場合に、改版露光データを実際に作らなくても、ヘッダもしくはフッタに対応する座標情報を記述するだけで簡単に対応することができる。したがって、所望の部分を削った改版設計データを全て作り直してそれをデータ処理することによって改版露光データを作成していた従来に比べて、改版露光データを作成する手間も時間も大幅に削減することができる。
【００４２】
なお、以上に説明した本実施形態のデータ処理装置および露光装置は、コンピュータのＣＰＵあるいはＭＰＵ、ＲＡＭ、ＲＯＭなどで構成されるものであり、ＲＡＭやＲＯＭに記憶されたプログラムが動作することによって実現できる。したがって、コンピュータが上記機能を果たすように動作させるプログラムを、例えばＣＤ−ＲＯＭのような記録媒体に記録し、コンピュータに読み込ませることによって実現できるものである。上記プログラムを記録する記録媒体としては、ＣＤ−ＲＯＭ以外に、フロッピーディスク、ハードディスク、磁気テープ、光磁気ディスク、不揮発性メモリカード等を用いることができる。
【００４３】
また、コンピュータが供給されたプログラムを実行することにより上述の実施形態の機能が実現されるだけでなく、そのプログラムがコンピュータにおいて稼働しているＯＳ（オペレーティングシステム）あるいは他のアプリケーションソフト等と共同して上述の実施形態の機能が実現される場合や、供給されたプログラムの処理の全てあるいは一部がコンピュータの機能拡張ボードや機能拡張ユニットにより行われて上述の実施形態の機能が実現される場合も、かかるプログラムは本発明の実施形態に含まれる。
【００４４】
なお、以上に説明した実施形態は、本発明を実施するにあたっての具体化の一例を示したものに過ぎず、これらによって本発明の技術的範囲が限定的に解釈されてはならないものである。すなわち、本発明はその精神、またはその主要な特徴から逸脱することなく、様々な形で実施することができる。
【００４５】
【発明の効果】
本発明によれば、改版設計データから改版露光データを生成する場合、改版前の設計データと重複する部分についてはデータ処理を行わず、改版設計データ上で指定された修正部分のみをデータ処理すれば良くなり、データ処理工数を削減して露光データの作成時間を短くすることができるとともに、改版露光データのデータ量を削減することができる。このようにデータ量を削減できるので、データを保存する場合は少ないデータ量で保存することができるようになる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本実施形態によるデータ処理装置および露光装置の構成を示すブロック図である。
【図２】本実施形態による改版露光データの作成手法を説明するための図である。
【図３】本実施形態による露光装置の動作例を示すフローチャートである。
【図４】初版露光データ中の任意の部分を未露光部として指定した例を示す図である。
【図５】設計データからレチクルを作成するまでの流れを示す図である。
【図６】初版露光データの作成手法を説明するための図である。
【図７】従来による改版露光データの作成手法を説明するための図である。
【符号の説明】
１ 初版設計データ
２ 初版露光データ
３ レチクル
４ ウェハー
５ 改版設計データ
６ 改版露光データ
２１ 設計データ
２２ 設計データ入力部
２３ 修正位置指定部
２４ データ処理部
２５ 露光データ生成部
２６ 位置情報付加部
２７ 未露光指定部
２８ 露光データ記憶部
２９ 修正位置認識部
３０ 未露光認識部
３１ 露光部
３２ レチクル
１００ データ処理装置
２００ 露光装置
【発明の属する技術分野】
本発明は、露光方法および装置、更にはこれらをソフトウェアの機能で実現するためのプログラムを格納した記録媒体に関し、特に、半導体装置・磁気デバイス・液晶・プリント基板等のＬＳＩを製造するためのレチクル・マスクデータ（露光データ）を設計データより生成する方法、レチクル・マスクに従って露光を行う方法に用いて好適なものである。
【０００２】
【従来の技術】
半導体デバイスの製造工程では、ＣＡＤ（Computer-Aided Design ）等により回路レイアウトがシンボリックに設計されたデバイスを製造するために、ウェハを作る原版となるレイアウトパターンを表したレチクルやフォトマスク等が使用される。そして、特に開発段階においては、そのデバイスの特性改善等のために、回路や条件の設計変更が行われる。この変更は、パターンの変更を伴う。
【０００３】
図５は、設計データをもとにレチクル（レチクル・マスク）を作成する際の処理手順の概要を示す図である。図５には、初版のレチクルを作成する過程と、改版したレチクルを作成する過程とを示している。
【０００４】
まず、ＣＡＤを用いてレチクルのレイアウトパターンを表した初版設計データ１を作成し、この初版設計データ１に対してデータ処理１１を行うことにより、露光データ２を作成する。データ処理１１としては、初版設計データ１の内部フォーマットデータへの変換、図形論理演算、サイジング等の処理を含む。このようにして作成された露光データ２は、図示しない記録媒体に出力され、記憶される。
【０００５】
次に、作成された露光データ２を露光装置に供給してレジストの露光１２を行うとともに、エッチングを行うことによってレチクル３を作成する。さらに、このレチクル３を用いてガラス基板上に焼き付け１３を行うことにより、ウェハー４を作成する。そして、このようにして作成されたウェハー４に対して、基板上に形成された回路パターンがきちんとパターニングされているかどうかや特性の試験１４を行い、条件を満足するものであればレチクル完成７となる。
【０００６】
一方、特性改善等の必要がある場合は、ＣＡＤを用いてレチクルパターンの設計データの手直し１５を行い、改版設計データ５を作成する。そして、この改版設計データ５に対して、上記データ処理１１と同様のデータ処理１６を行うことにより、改版露光データ６を作成する。ここで作成された改版露光データ６も、図示しない記録媒体に出力され、初版の露光データ２とは別に記憶される。
【０００７】
そして、このようにして作成された改版露光データ６に基づいて露光装置で再び露光１２を行うことにより、レチクル３を作成し、更に焼き付け１３を行うことによりウェハー４を作成する。このようにして新たに作成されたウェハー４に対して試験１４を行い、条件を満足するものであればレチクル完成７となる。一方、まだ改善の必要がある場合は、以下同様の処理を繰り返していく。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
近年におけるＬＳＩ開発では、急速な技術開発に伴い、設計データおよび露光データを短時間で作成することが要求されている。しかし、回路パターンの高密度化により、設計データ量および露光データ量は増加する傾向にあり、処理負担が増大している。そのため、設計データおよび露光データを短時間で作成するためには、扱うデータ量や作成工数を削減することが必要となってきている。
【０００９】
しかしながら、従来の手法では、改版設計データから改版露光データを作成する際に、初版設計データに対して修正されていない部分も重複してデータ処理していたため、扱うデータ量や作成工数が初版露光データを作る場合とほとんど変わらなかった。以下、このことを図面を用いて説明する。
【００１０】
図６は、初版設計データから初版露光データを作成する際の動作を説明するためのイメージ図である。図６において、初版設計データ１中に示される点線で表した複数のブロックａ〜ｆは、それぞれが半導体デバイスのセルの集まりであり、モジュールを構成する。これらの各モジュールａ〜ｆの中にそれぞれ固有の回路レイアウトがＣＡＤによってシンボリックに描かれる。
【００１１】
このような初版設計データ１をもとにデータ処理１１を実行することにより、初版露光データ２を生成する。この初版露光データ２中に示される点線で表した複数のブロックＡ〜Ｆは、上記初版設計データ１内の各モジュールａ〜ｆから生成された露光データのモジュールである。これらの各モジュールＡ〜Ｆの中は、露光装置の電子ビームを照射する部分と照射しない部分とを表したパターンデータが描かれている。
【００１２】
ここで、初版設計データ１のデータ量を仮に“１００”（データ処理装置において処理するデータ量が初版設計データ１の全体の１００％という意味）とした場合、データ処理１１では、その初版設計データ１の全てのモジュールａ〜ｆをデータ処理することから、初版露光データ２を生成する際のデータ処理量は“１００”である。
【００１３】
また、図７は、改版設計データから改版露光データを作成する際の動作を説明するためのイメージ図である。図７において、改版設計データ５は、図６に示した初版設計データ１中のモジュールｆを修正して、これを新たなモジュールｇとしたものである。他のモジュールａ〜ｅについては修正を加えておらず、初版設計データ１と同様である。
【００１４】
このような改版設計データ５をもとにデータ処理１６を実行することにより、改版露光データ６を生成する。この改版露光データ６中に示される一点鎖線で表したブロックＧは、上記改版設計データ５内のモジュールｇから生成された露光データのモジュールである。他のモジュールＡ〜Ｅは、改版設計データ５中の各モジュールａ〜ｅから生成された露光データのモジュールである。
【００１５】
この改版設計データ５に対してデータ処理１６を行う場合、手直しを行ったモジュールｇを含めて全てのモジュールをデータ処理装置に入力する。そのため、改版設計データ５のデータ量は“１００”である。また、改版設計データ中５の全モジュールａ〜ｅ，ｇをデータ処理するため、初版設計データ１を処理する場合と変わらない処理工数が必要となり、データ処理量も“１００”となる。
【００１６】
このように、従来は、改版のデータ処理において修正の行われていない部分（モジュールａ〜ｅ）も重複して処理していたため、データ処理に無駄が生じ、露光データの作成時間が長くなってしまう問題があった。また、修正のない部分も改版設計データ５中に含まれるため、これから作成される改版露光データ６のデータ量も大きくなり、記録媒体に保管するデータ量が大きくなってしまうという問題もあった。また、作成した露光データを工場に転送して露光を行うような場合、露光データ量が初版、改版共に大きいため、転送時間が長くなってしまうという問題もあった。
【００１７】
本発明は、このような問題を解決するために成されたものであり、改版露光データのデータ量や作成工数を削減することにより、露光データを短時間で作成することができるようにすること、露光データを少ないデータ量で保存できるようにすること、露光データの転送時間を短縮することができるようにすることを目的とする。
【００１８】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明は設計データから生成された露光データに従って露光を行うための方法であって、改版設計データ上で指定された修正部分のみをデータ処理することによって生成された改版露光データと、改版前露光データとに従って露光を行い、上記改版露光データに従って露光を行うときは、当該改版露光データのヘッダ部もしくはフッタ部に付加された上記修正部分の位置情報に基づいて対応する位置のみを露光し、上記改版前露光データに従って露光を行うときは、上記改版露光データのヘッダ部もしくはフッタ部に付加された上記修正部分の位置情報に基づいて対応する位置を未露光部として認識して露光を行うように構成する。
【００１９】
上記のように構成した本発明によれば、改版設計データから改版露光データを生成する場合、改版前の設計データと重複する部分についてはデータ処理を行わず、改版設計データ上で指定された修正部分のみをデータ処理すれば良いので、データ処理工数を削減することが可能となるとともに、扱うデータ量を削減することも可能となる。
【００２０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の一実施形態を図面に基づいて説明する。
図１は、本実施形態によるデータ処理装置および露光装置の構成例を示すブロック図である。図１において、設計データ２１は、製造する半導体デバイスの回路レイアウトをＣＡＤによりシンボリックに表したデータであり、図５に示した初版設計データ１および改版設計データ５を含む。
【００２１】
本実施形態のデータ処理装置１００は、設計データ入力部２２と、修正位置指定部２３と、データ処理部２４とを備え、ウェハを作る原版となるレチクルパターンを表した露光データを設計データ２１から生成する。上記設計データ入力部２２は、初版もしくは改版の設計データ２１をデータ処理装置１００内に入力するためのものであり、例えばコンピュータ端末のキーボードやマウス等の入力デバイスを備える。
【００２２】
修正位置指定部２３は、改版の設計データ２１を入力した場合に、その改版の設計データ２１中で修正した部分の位置を指定するものである。具体的には、修正を行ったエリアの情報として、改版した設計データ２１の全体の中の座標情報を指定する。これは、露光データを作成するオペレータがコンピュータ端末の入力デバイスを用いて座標情報を指定しても良いし、コンピュータ端末自身が座標情報を自動的に指定するようにしても良い。座標情報を自動的に指定する場合の動作については後述する。
【００２３】
また、データ処理部２４は、露光データ生成部２５と、位置情報付加部２６と、未露光指定部２７とを備える。上記露光データ生成部２５は、初版もしくは改版の設計データ２１に対して、内部フォーマットデータへの変換、図形論理演算、サイジング等のデータ処理を行うことにより、初版もしくは改版の露光データを作成する。このようにして作成された露光データは、ハードディスクやフロッピーディスク等の記録媒体から成る露光データ記憶部２８に出力され、各版ごとに記憶される。
【００２４】
位置情報付加部２６は、上記露光データ生成部２５により生成された改版露光データのヘッダ部もしくはフッタ部に、上記修正位置指定部２３により指定された修正位置を表す位置情報（座標情報）を付加する。また、未露光指定部２７は、上記露光データ記憶部２８に記憶されている初版露光データに対して、上記修正位置指定部２３により指定された修正位置を未露光部として指定する。
【００２５】
また、本実施形態の露光装置２００は、修正位置認識部２９と、未露光認識部３０と、露光部３１とを備え、上記露光データ記憶部２８に記憶された初版および改版の露光データに基づいて、レジストの露光を行うことによってレチクル３２を作成する。
【００２６】
上記修正位置認識部２９は、改版露光データのヘッダ部もしくはフッタ部に記述されている位置情報に基づいて、改版露光データ中で修正が行われている部分の全体に対する位置を認識する。また、未露光認識部３０は、初版露光データ中で上記未露光指定部２７により指定された未露光部の位置を認識する。
【００２７】
露光部３１は、上記修正位置認識部２９および未露光認識部３０による認識結果に基づいて、初版露光データおよび改版露光データを用いて露光を実行する。具体的には、初版のレチクル３２を作成するときは、初版露光データに従って通常通り露光を行う。また、改版のレチクル３２を作成するときは、初版露光データと改版露光データの両方を用いる。このとき、初版露光データに基づいて露光するときは、未露光認識部３０により認識された未露光部を除いた部分を露光する。また、改版露光データに基づいて露光するときは、修正位置認識部２９により認識された修正位置に対してのみ露光を行う。
【００２８】
以下に、設計データから露光データを作成する際の動作を具体例に即して説明する。まず、初版設計データから初版露光データを作成する際の動作を説明する。この場合の動作は、図６に示したものと全く同じである。したがって、ここでは重複する説明を省略する。
【００２９】
一方、改版設計データから改版露光データを作成する際の動作は、図２のイメージ図に示す通りになる。図２において、改版設計データ４１は、図６に示した初版設計データ１中のモジュールｆを修正して、これを新たなモジュールｇとしたものである。他のモジュールａ〜ｅについては初版設計データ１と同様である。また、改版設計データ４２は、修正したモジュールｇのみから成るデータである。これらの改版設計データ４１，４２は何れも図１の設計データ２１に相当する。
【００３０】
この設計データ２１を設計データ入力部２２から入力する場合、図２（ａ）のように、実際に修正したモジュールｇ以外の未修正モジュールａ〜ｅをも含む全ての改版設計データ４１を入力することも可能であるし、図２（ｂ）のように、実際に修正したモジュールｇのみの改版設計データ４２を入力することも可能である。
【００３１】
図２（ａ）のように全ての改版設計データ４１を入力する場合は、その改版設計データ４１のデータ量は“１００”である。一方、図２（ｂ）のようにモジュールｇのみの改版設計データ４２を入力する場合は、その改版設計データ４２のデータ量は、モジュールｇに相当する部分のデータ量だけであり、例えば“３０”である。
【００３２】
図２（ａ）および（ｂ）の何れの方法で改版設計データを入力する場合も、セルまたはモジュール単位で修正した部分のエリアを座標等により指定する。図２の例では、▲１▼、▲２▼で示す位置の座標を指定する。これは、上述したように露光データを作成するオペレータがコンピュータ端末の入力デバイスを用いて行っても良いし、コンピュータ端末自身が自動的に行っても良い。
【００３３】
座標情報を自動的に指定する場合、改版設計データ４１中に修正したモジュールｇのエリア（一点鎖線で示す枠）を実データとして記述する。そして、その枠内の回路パターン（図示せず）はデータ処理に使用し、枠のデータ自体は座標データとして使用する旨を指定することにより、コンピュータ端末が枠のデータからその座標情報を修正位置を表す情報として自動的に指定する。
【００３４】
データ処理を行う際は、改版設計データ上で修正した部分として指定されたエリア（座標情報▲１▼、▲２▼で示されるモジュールｇの部分）のみを処理対象とする。このとき、作成した改版露光データ４３のヘッダもしくはフッタには、修正エリアを表す位置情報として▲１▼、▲２▼の座標情報を記述する。
【００３５】
例えば、図２（ａ）のように全ての改版設計データ４１を入力した場合は、改版設計データ４１中に含まれる各モジュールａ〜ｅ，ｇのうち、修正箇所であるモジュールｇのみをデータ処理し、改版露光データ４３のモジュールＧを作成する。一方、図２（ｂ）のようにモジュールｇのみの改版設計データ４２を入力した場合は、その入力したモジュールｇをデータ処理し、改版露光データ４３のモジュールＧを作成する。したがって、改版設計データ４１もしくは４２から改版露光データ４３を生成する際のデータ処理量は、何れのパターンで設計データを入力した場合も“３０”となる。
【００３６】
次に、上記のように作成された露光データを用いて露光を行うことにより改版レチクルを作成する際の露光装置２００の動作を、図３のフローチャートに従って説明する。
露光装置２００は、まず最初にステップＳ１で、初版および改版の露光データを露光データ記憶部２８から入力する。そして、ステップＳ２で、上記入力した改版露光データのヘッダもしくはフッタに記述されている修正部分の座標を修正位置認識部２９によって認識する。
【００３７】
また、次のステップＳ３では、未露光認識部３０により、上記入力した改版露光データのヘッダもしくはフッタに記述されている修正部分の座標を、初版露光データ中の未露光部として認識する。そして、ステップＳ４で、初版露光データに基づいて、未露光部として認識された修正部エリア以外（図６に示す初版露光データ２中のモジュールＡ〜Ｅに相当する部分）を露光する。さらに、ステップＳ５で、改版露光データに基づいて、修正部エリア内（図２に示すモジュールＧに相当する部分）を露光することにより、改版レチクルを完成させる。
【００３８】
なお、ここでは、初版露光データに基づく露光を行った後に改版露光データに基づく露光を行ったが、この順番は逆でも良い。また、初版露光データと改版露光データとを適宜切り換えながら露光を行うようにしても良い。すなわち、露光装置２００はチップの左端から横方向への走査を上から順次下方へと繰り返していくが、例えば、モジュールＡ〜ＦのうちモジュールＢの部分が修正されているような場合に、露光装置２００の走査がモジュールＢの部分に来たときには改版露光データを用い、走査が他のモジュールの部分に来たときには初版露光データを用いるといった具合に切り換えを行うようにしても良い。
【００３９】
以上のように、本実施形態では、改版設計データから改版露光データを作成する際に、改版設計データの全てを処理するのではなく、実際に修正をしたエリアのみを処理対象とするため、処理工数を大幅に削減することができる。また、作成される改版露光データは、修正エリアのデータだけであるため、露光データ記憶部２８にて少ないデータ量で露光データを保存および管理することができる。また、作成した露光データをネットワークを介して転送する場合は、その転送時間を短くすることができる。
【００４０】
また、本実施形態では、改版露光データのヘッダもしくはフッタに任意の座標情報を記述することにより、初版露光データ上で未露光にする部分を任意に指定することができるというメリットも有する。図４は、このことを説明するための図である。図４において、５１〜５３は全て初版露光データ中に存在する回路パターンである。このうち、斜線で示した部分５３は、ヘッダもしくはフッタに座標情報を記述することによって、未露光部として指定した部分である。
【００４１】
このように、本実施形態では、初版露光データ中から任意の一部分を削除した改版露光データを作成したいような場合に、改版露光データを実際に作らなくても、ヘッダもしくはフッタに対応する座標情報を記述するだけで簡単に対応することができる。したがって、所望の部分を削った改版設計データを全て作り直してそれをデータ処理することによって改版露光データを作成していた従来に比べて、改版露光データを作成する手間も時間も大幅に削減することができる。
【００４２】
なお、以上に説明した本実施形態のデータ処理装置および露光装置は、コンピュータのＣＰＵあるいはＭＰＵ、ＲＡＭ、ＲＯＭなどで構成されるものであり、ＲＡＭやＲＯＭに記憶されたプログラムが動作することによって実現できる。したがって、コンピュータが上記機能を果たすように動作させるプログラムを、例えばＣＤ−ＲＯＭのような記録媒体に記録し、コンピュータに読み込ませることによって実現できるものである。上記プログラムを記録する記録媒体としては、ＣＤ−ＲＯＭ以外に、フロッピーディスク、ハードディスク、磁気テープ、光磁気ディスク、不揮発性メモリカード等を用いることができる。
【００４３】
また、コンピュータが供給されたプログラムを実行することにより上述の実施形態の機能が実現されるだけでなく、そのプログラムがコンピュータにおいて稼働しているＯＳ（オペレーティングシステム）あるいは他のアプリケーションソフト等と共同して上述の実施形態の機能が実現される場合や、供給されたプログラムの処理の全てあるいは一部がコンピュータの機能拡張ボードや機能拡張ユニットにより行われて上述の実施形態の機能が実現される場合も、かかるプログラムは本発明の実施形態に含まれる。
【００４４】
なお、以上に説明した実施形態は、本発明を実施するにあたっての具体化の一例を示したものに過ぎず、これらによって本発明の技術的範囲が限定的に解釈されてはならないものである。すなわち、本発明はその精神、またはその主要な特徴から逸脱することなく、様々な形で実施することができる。
【００４５】
【発明の効果】
本発明によれば、改版設計データから改版露光データを生成する場合、改版前の設計データと重複する部分についてはデータ処理を行わず、改版設計データ上で指定された修正部分のみをデータ処理すれば良くなり、データ処理工数を削減して露光データの作成時間を短くすることができるとともに、改版露光データのデータ量を削減することができる。このようにデータ量を削減できるので、データを保存する場合は少ないデータ量で保存することができるようになる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本実施形態によるデータ処理装置および露光装置の構成を示すブロック図である。
【図２】本実施形態による改版露光データの作成手法を説明するための図である。
【図３】本実施形態による露光装置の動作例を示すフローチャートである。
【図４】初版露光データ中の任意の部分を未露光部として指定した例を示す図である。
【図５】設計データからレチクルを作成するまでの流れを示す図である。
【図６】初版露光データの作成手法を説明するための図である。
【図７】従来による改版露光データの作成手法を説明するための図である。
【符号の説明】
１ 初版設計データ
２ 初版露光データ
３ レチクル
４ ウェハー
５ 改版設計データ
６ 改版露光データ
２１ 設計データ
２２ 設計データ入力部
２３ 修正位置指定部
２４ データ処理部
２５ 露光データ生成部
２６ 位置情報付加部
２７ 未露光指定部
２８ 露光データ記憶部
２９ 修正位置認識部
３０ 未露光認識部
３１ 露光部
３２ レチクル
１００ データ処理装置
２００ 露光装置
Claims (4)
- 設計データから生成された露光データに従って露光を行うための方法であって、
改版設計データ上で指定された修正部分のみをデータ処理することによって生成された改版露光データと、改版前露光データとに従って露光を行い、
上記改版露光データに従って露光を行うときは、当該改版露光データのヘッダ部もしくはフッタ部に付加された上記修正部分の位置情報に基づいて対応する位置のみを露光し、
上記改版前露光データに従って露光を行うときは、上記改版露光データのヘッダ部もしくはフッタ部に付加された上記修正部分の位置情報に基づいて対応する位置を未露光部として認識して露光を行うことを特徴とする露光方法。 - 設計データから生成された露光データに従って露光を行う露光装置であって、
改版設計データから生成された改版露光データのヘッダ部もしくはフッタ部に付加されている位置情報に基づいて、上記改版露光データの修正位置を認識する修正位置認識手段と、
上記改版露光データのヘッダ部もしくはフッタ部に付加されている位置情報に基づいて、改版前露光データ上の対応する位置を未露光部として認識する未露光認識手段と、
上記修正位置認識手段により認識された修正位置の露光を上記改版露光データに従って行うとともに、上記未露光認識手段により認識された未露光部以外の露光を上記改版前露光データに従って行う露光手段とを備えることを特徴とする露光装置。 - 設計データから生成された露光データに従って露光を行う露光装置であって、
改版設計データから生成された改版露光データのヘッダ部もしくはフッタ部に付加されている位置情報に基づいて、改版前露光データ上の対応する位置を未露光部として認識する未露光認識手段と、
上記未露光認識手段により認識された未露光部以外を上記改版前露光データに従って露光する露光手段とを備えることを特徴とする露光装置。 - 改版設計データから生成された改版露光データのヘッダ部もしくはフッタ部に付加されている位置情報に基づいて、上記改版露光データの修正位置を認識する修正位置認識手段と、
上記改版露光データのヘッダ部もしくはフッタ部に付加されている位置情報に基づいて、改版前露光データ上の対応する位置を未露光部として認識する未露光認識手段と、
上記修正位置認識手段により認識された修正位置の露光を上記改版露光データに従って行うとともに、上記未露光認識手段により認識された未露光部以外の露光を上記改版前露光データに従って行う露光手段としてコンピュータを機能させるためのプログラムを記録したことを特徴とするコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
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