JP2000260879A

JP2000260879A - レイアウト設計支援装置、コンピュータ読み取り可能な記録媒体

Info

Publication number: JP2000260879A
Application number: JP6706599A
Authority: JP
Inventors: Kazumune Watanabe; 和宗渡辺; Eiji Tsujimoto; 英二辻本
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1999-03-12
Filing date: 1999-03-12
Publication date: 2000-09-22

Abstract

(57)【要約】【課題】レイアウトパターンに対する補正結果と、こ
の補正の検証結果とをレイアウトパターン設計者自身が
設計中に逐次確認できるレイアウト設計支援装置、コン
ピュータ読み取り可能な記録媒体を提供する。【解決手段】縮小投影露光に使われるレチクルパター
ンを作成する設計支援装置であって、レイアウトパター
ンを作成するためのレイアウトエディタ１と、レイアウ
トパターンに対して補正および検証を行うためのＯＰＣ
補正・検証装置２と、レイアウトパターン、補正および
検証のデータを格納するためのデータベース３などから
構成され、レイアウトエディタ１は、設計者がユーザイ
ンタフェースを通して操作することが可能とされ、レイ
アウトパターンを作成するための機能の他に、ＯＰＣ補
正・検証装置２の補正および検証を行うための機能を支
援するために、画面上のメニューに補正・検証コマンド
が追加されている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、レイアウト設計支
援技術に関し、特にＬＳＩ設計者による設計から補正・
検証までを可能とするレイアウト設計支援装置、コンピ
ュータ読み取り可能な記録媒体に適用して有効な技術に
関する。

【０００２】

【従来の技術】たとえば、本発明者が検討した技術とし
て、ＬＳＩのレイアウトパターン設計においては、最小
加工寸法が微細化するに伴い、縮小投影露光に使われる
レチクルパターンと実際にウェハ上に転写されるパター
ンとの違いが、物理的制約により大きくなっている。そ
こで、目的のパターンをウェハ上に実現するために、転
写によるパターン変形を予めレチクル上で補正しておく
光近接効果補正（ＯＰＣ）を導入した技術などが考えら
れる。

【０００３】このようなＯＰＣ方法を用いた技術として
は、たとえば特開平１０−３２６０１０号公報に記載さ
れるフォトマスクのパターン補正技術、特開平９−３１
９０６７号公報に記載されるＯＰＣ技術、特開平１０−
２４０７８３，１０−２３９８２６，１０−２３２４８
４号公報に記載されるフォトマスクパターン設計技術な
どが挙げられる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところで、前記各公報
のＯＰＣ方法を用いた技術においては、いずれも個々の
パターン形状に対する補正方法、および高速に補正処理
を実行する方法など、与えられたパターンに対して、個
々の部分について行う補正方法について記載している
が、レイアウトパターン設計工程と補正・検証の処理工
程との結びつきについては考慮されていない。

【０００５】たとえば、近年では、露光時の影響だけで
なく、現像・エッチング工程を含むプロセス全体が形成
するパターンに与える影響を考慮した補正が実施される
ようになってきている。しかし、この補正は物理的制約
内でのパターン整形をするだけなので、補正しても実際
にはウェハ上に、そのパターンを形成できない場合もあ
る。このとき、元のレイアウトパターンをＬＳＩ設計者
が修正しなければならない。ところが、補正、補正結果
の検証の経験的技術、いわゆるノウハウはプロセス技術
者が持ち、レイアウトパターンはＬＳＩ設計者が作成し
ているので、互いの情報のやり取りに手間取り、製品開
発期間が増大することが考えられる。

【０００６】そこで、本発明の目的は、プロセス技術者
が持つ補正、検証のノウハウに着目し、レイアウトパタ
ーン設計者が設計したレイアウトパターンに対する補正
結果と、この補正の検証結果とをレイアウトパターン設
計者自身が設計中に逐次確認することができるレイアウ
ト設計支援装置、コンピュータ読み取り可能な記録媒体
を提供するものである。

【０００７】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
次のとおりである。

【０００９】すなわち、本発明によるレイアウト設計支
援装置は、ＬＳＩ設計者がレイアウトパターンデータを
作成するために使う作成手段に、パターン補正を行う補
正手段、補正結果の検証を行う検証手段を追加するもの
である。この補正手段、検証手段には、プロセス技術者
が持つノウハウをそれぞれ補正ルール、検証ルールとし
て与えることを可能とし、これにより、設計中のレイア
ウトデータに対して、設計者自身がレイアウト中に対象
パターンの補正・検証を実行可能とするものである。

【００１０】その上、大規模データ一括適用のために、
補正手段内に与えられたデータを同じデータ量になるよ
うに分割し、指定された複数の処理手段を利用して各分
割されたデータを並列処理することも可能としている。
また、検証手段は、シミュレーション結果と補正前のレ
イアウトデータとを比較し、思うように形成できない部
分にエラー図形を生成して、作成手段の画面上で設計者
に知らせることも可能としている。

【００１１】また、本発明によるコンピュータ読み取り
可能な記録媒体は、レイアウトパターンデータを作成す
るための工程に、パターン補正を行うための工程、補正
結果の検証を行うための工程を追加し、この補正工程、
検証工程ではプロセス技術者が持つノウハウによる補正
ルール、検証ルールに基づいてそれぞれ処理するような
レイアウト設計支援方法を、コンピュータに実行させる
ためのプログラムを記録したものである。

【００１２】よって、前記レイアウト設計支援装置、コ
ンピュータ読み取り可能な記録媒体によれば、レイアウ
トパターン設計者が設計したレイアウトパターンに対す
る補正の結果と、その補正の正当性を確認する検証の結
果とをレイアウトパターン設計者自身が設計中に逐次確
認することができる。よって、ＴＡＴ（Turn AroundTim
e）が向上する。この結果、製品開発期間のうち、レイ
アウトパターン設計期間を短縮することができる。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳細に説明する。

【００１４】図１は本発明の一実施の形態であるレイア
ウト設計支援装置を示す機能ブロック図、図２は本実施
の形態において、レイアウトパターン設計方法を示すフ
ロー図、図３はレイアウトパターン設計方法に対応する
画面表示を示す説明図、図４および図５は補正方法を示
すフロー図、図６および図７は検証方法を示すフロー図
である。

【００１５】まず、図１により、本実施の形態のレイア
ウト設計支援装置の構成の一例を説明する。

【００１６】本実施の形態のレイアウト設計支援装置
は、たとえばＯＰＣ方法を用い、縮小投影露光に使われ
るレチクルパターンを作成する設計支援装置とされ、レ
イアウトパターンを作成するためのレイアウトエディタ
１（作成手段）と、レイアウトパターンに対して補正お
よび検証を行うためのＯＰＣ補正・検証装置２と、レイ
アウトパターン、補正および検証などのデータを格納す
るためのデータベース３などから構成され、レイアウト
エディタ１およびＯＰＣ補正・検証装置２はデータベー
ス３と相互に接続され、またレイアウトエディタ１から
ＯＰＣ補正・検証装置２に接続されている。

【００１７】レイアウトエディタ１は、たとえば設計者
がユーザインタフェース（ＧＵＩ）を通して操作するこ
とが可能とされ、レイアウトパターンを作成するための
機能の他に、補正および検証を行うための機能を支援す
るために、画面上のメニューに補正コマンド、検証コマ
ンドが追加されている。

【００１８】ＯＰＣ補正・検証装置２は、たとえば設計
者がレイアウトエディタ１を通して起動することが可能
とされ、起動されるときにレイアウトエディタ１から設
計者の指定したパラメータを受け取り、そのパラメータ
に従ってデータを処理する。このＯＰＣ補正・検証装置
２には、階層展開部２１、図形演算部２２、補正部２
３、図形演算部２４、シミュレーション部２５、比較検
証部２６などが設けられている。この補正部２３は補正
装置（補正手段）、シミュレーション部２５および比較
検証部２６は検証装置（検証手段）となる。

【００１９】このＯＰＣ補正・検証装置２においては、
階層を持って設計されたレイアウトデータから補正・検
証対象のデータを抽出するため、まずレイアウトデータ
を階層展開部２１で階層展開する。次に、レチクルパタ
ーンを生成するための図形演算を必要に応じて図形演算
部２２で実行する。補正の場合は、この図形演算の結果
により生成されるパターンに対して設計者が指定した通
りに補正部２３により補正を実行する。検証の場合に
は、この図形演算の結果により生成されるパターンに対
してプロセス技術者が提供するプロセスパラメータを用
いてシミュレーション部２５によりシミュレーション
し、ウェハ上に形成されるパターンを得る。この計算結
果と、計算元のパターンとを比較検証部２６で比較検証
し、許容値以内に収まっていなければエラー図形を生成
する。補正部２３、比較検証部２６の出力は必要に応じ
て図形演算部２４により図形演算し、その結果をレイア
ウトデータのデータベース３に戻す。

【００２０】データベース３には、たとえばレイアウト
設計工程の前の論理設計、回路設計工程などにより得ら
れた論理図のデータ、回路図のデータ、セル間の接続デ
ータなどとともに、これらのデータを元にレイアウトエ
ディタ１を使って作成したレイアウトパターンのデー
タ、このレイアウトパターンのデータを元にＯＰＣ補正
・検証装置２を使って作成した補正結果、検証結果のレ
イアウトパターンのデータなども格納される。

【００２１】以上のように構成されるレイアウト設計支
援装置において、レイアウトエディタ１においてレイア
ウトパターンを作成するための機能、ＯＰＣ補正・検証
装置２における階層展開部２１、図形演算部２２、補正
部２３、図形演算部２４、シミュレーション部２５、比
較検証部２６などの各機能は、たとえばＣＤ−ＲＯＭな
どの記録媒体からレイアウトエディタ１などに内蔵され
る主記憶装置などにプログラムが読み出されて、コンピ
ュータからなるレイアウト設計支援装置でソフト的に実
行される。

【００２２】次に、本実施の形態の作用について、図２
により、レイアウトパターン設計方法の一例を説明す
る。合わせて図３により、レイアウトエディタ１の画面
表示の一例を示す。このレイアウトパターンの設計は、
補正処理、検証処理を含めて全てレイアウトエディタ１
の画面上で行うことができる。

【００２３】このレイアウトパターンの設計において
は、データベース３に格納されている論理図のデータ、
回路図のデータ、セル間の接続データなどを元に、まず
基本セルのレイアウトを行い（ステップ２０１）、その
後で基本セルのレイアウトパターンを組み合わせてチッ
プのレイアウトを行う（ステップ２０４）。

【００２４】たとえば、この基本セル、チップのレイア
ウトにおいては、図３(a) に示すようなレイアウトパタ
ーンをレイアウトエディタ１の画面上に表示することが
できる。このレイアウトエディタ１の画面上には、レイ
アウト設計のメニューと、ウインドウに補正コマンド、
検証コマンドが追加されて、ＯＰＣ補正・検証装置２に
おける任意のパターンに対して補正・検証を実施できる
ようになっている。

【００２５】そして、レイアウト後の補正・検証は、ま
ずステップ２０１の基本セルのレイアウト中に実施し、
規模の小さいうちに問題点を洗い出し、修正する（ステ
ップ２０２，２０３）。この際に、基本セルのレイアウ
トパターンの補正がうまく実施できるまでステップ２０
１からの処理を繰り返す。

【００２６】たとえば、この基本セルレイアウトの補正
においては、図３(b) に示すようなレイアウトパターン
をレイアウトエディタ１の画面上に表示することができ
る。すなわち、補正コマンドを実行すると、レイアウト
パターンのデータベース３からの取得、補正処理、結果
のデータベース３への入力をして、結果パターンを表示
できる。また、結果は入力層とは別にすることで容易に
結果を確認できる。

【００２７】一方、たとえば、検証においては、図３
(c) に示すようなレイアウトパターンをレイアウトエデ
ィタ１の画面上に表示することができる。すなわち、検
証コマンドを実行すると、レイアウトパターンのデータ
ベース３からの取得、検証処理、エラーパターンのデー
タベース３への入力をして、エラーパターンを表示でき
る。また、エラー箇所は、たとえば×印で指摘できる。
このエラー箇所とは、補正結果に忠実にレチクルを作成
してもウェハに転写するとショートまたはオープンにな
ると予測される部分をいう。

【００２８】さらに、基本セルのレイアウトパターンの
補正がうまく実施できることを確認してから、ステップ
２０４のチップのレイアウトを行い、全体に対して補正
・検証を実施することで、今後は基本セル間で発生する
問題点を洗い出し、修正する（Ｓ２０５，２０６）。こ
の際に、チップのレイアウトパターンの補正がうまく実
施できるまでステップ２０４からの処理を繰り返す。ま
た、必要があればステップ２０１の基本セルのレイアウ
トを見直す。

【００２９】たとえば、このチップレイアウトの補正に
おいても、前記図３(b) に示す画面上において、補正コ
マンドを実行することで、レイアウトパターンのデータ
ベース３からの取得、補正処理、結果のデータベース３
への入力をして結果パターンを表示できる。一方、検証
においても、前記図３(c) に示す画面上において、検証
コマンドを実行することで、レイアウトパターンのデー
タベース３からの取得、検証処理、エラーパターンのデ
ータベース３への入力をしてエラーパターンを表示でき
る。

【００３０】このようにしてレイアウトパターンの設計
が終了し、レチクルの作成に移行する（ステップ２０
７）。以上のように、インクリメンタルに処理すること
で、レイアウトパターン設計期間を短縮することができ
る。また、各段階での補正・検証処理は、レイアウトエ
ディタ１から直接実行し、レイアウトエディタ１の画面
上で結果を確認できるので、設計パターンの正当性の確
認に要する時間は、ＯＰＣ補正・検証装置２の処理にか
かる時間だけとなる。

【００３１】次に、図４および図５により、前記ステッ
プ２０２，２０５の補正方法の一例を詳細に説明する。
図４および図５において、右側の図は左側の各フローに
対応する処理の図である。ここでは、パターンのコーナ
ーに矩形の飛び出しを形成する、いわゆるセリフを付加
する補正例を示す。その他に、パターンのコーナーに矩
形の削れを形成する、いわゆるセリフを付加する補正、
パターン端に矩形を形成する、いわゆるハンマヘッドを
付加する補正、パターン間の幅を修正する、いわゆるリ
ニアリティ補正などがある。

【００３２】まず、データベース３（ＤＢ）に収められ
た階層データを読み出す（ステップ４０１）。そして、
この階層データを、階層を保持してＤＢに付属の変換プ
ログラムでストリームフォーマット（ＳＦ）に変換する
（ステップ４０２）。このＳＦは一般的なフォーマット
であり、各ＤＢにはＳＦ変換プログラムが付属してい
る。

【００３３】そして、階層展開部２１において、階層デ
ータを階層展開プログラムで目的のセルを階層のないパ
ターンデータファイルに変換する（ステップ４０３）。
さらに、図形演算部２２において、この変換したパター
ンデータを用いて、そのまま補正のために変換したり、
あるいは別のパターンデータを生成した後、これを補正
のために変換する図形演算を行う（ステップ４０４）。

【００３４】その後、補正部２３において、コーナーに
セリフを付加する補正を行う（ステップ４０５）。この
補正手順は後述する。そして、図形演算部２４におい
て、補正されたパターンデータをＳＦ用に図形演算する
（ステップ４０６）。この出力されたパターンデータを
ＳＦに変換する（ステップ４０７）。

【００３５】そして、ＤＢに付属のＳＦ変換プログラム
でＤＢに組み込み、目的のセルに配置する（ステップ４
０８）。このように、目的のセルに配置すると、レイア
ウトエディタ１のウインドウに処理済みパターン形状が
表示されるので、オリジナルのパターンとともに結果を
確認することができる。

【００３６】前記ステップ４０５のコーナーにセリフを
付加する補正手順は、コーナーを形成する頂点を抽出す
ることから始まる。パターンデータには、図形の頂点座
標が図形毎に接続される順に収められているので、先頭
から座標値を読み込んでいけば、ある頂点に接続する２
つの辺の長さ、その間の角度を計算により求めることが
できる。

【００３７】まず、全ての頂点Ｐに対し、２辺の長さと
角度を求め、２辺の長さがＬ以上で角度が９０度である
頂点Ｐを抽出する（ステップ４０５１）。そして、これ
らの頂点Ｐに、指定された大きさａの正方形を指定され
た位置ｂに置く（ステップ４０５２）。

【００３８】このＬ，ａ，ｂなどの値がプロセス技術者
の持つ経験的なノウハウであり、他の形状についての補
正形状をこのようなライブラリに収めておくことで、レ
イアウトパターン設計者は、補正量を気にする必要がな
くなる。ただし、このノウハウは各基本パターンについ
て求めたもので、実際のパターンに現れる種々のパター
ンの組み合わせとしてのルールではないため、後述する
検証が必要になることもある。

【００３９】そして、図形演算で枠取り処理をすること
で補正の出力パターンを得る（ステップ４０５３）。こ
の補正したパターンは、レイアウトエディタ１の画面上
に表示して確認できる。

【００４０】この補正処理においては、大規模データの
場合に、補正処理の効率を考慮して、与えられたデータ
を同じデータ量になるように分割し、補正部２３内の指
定された複数の処理手段を利用して各分割されたデータ
を並列的に処理することもできる。

【００４１】次に、図６および図７により、前記ステッ
プ２０３，２０６の検証方法の一例を詳細に説明する。
図６および図７において、右側の図は左側の各フローに
対応する処理の図である。ここでは、前記補正方法によ
り得られたパターンの補正結果を検証する例を示す。

【００４２】まず、ＤＢに収められた、オリジナルと補
正済みの階層データを読み出す（ステップ６０１）。そ
して、この階層データを、階層を保持してＤＢに付属の
前記変換プログラムでＳＦに変換する（ステップ６０
２）。

【００４３】そして、階層展開部２１において、階層デ
ータを階層展開プログラムで目的のセルを階層のないパ
ターンデータファイルに変換する（ステップ６０３）。
さらに、図形演算部２２において、この変換したパター
ンデータを用いて、そのまま補正のために変換したり、
あるいは別のパターンデータを生成した後、これを補正
のために変換する図形演算を行う（ステップ６０４）。

【００４４】その後、シミュレーション部２５におい
て、補正後のパターンデータに対しプロセス条件を元に
シミュレーションし、リソグラフィシミュレータでウェ
ハ上の光強度分布、もしくはプロセスシミュレータで現
像後のレジスト厚み分布を求め、２次元配列データを出
力する（ステップ６０５）。

【００４５】さらに、比較検証部２６において、オリジ
ナルパターンとシミュレーション結果とを比較する検証
を行う（ステップ６０６）、そして、図形演算部２４に
おいて、図形演算により基準を満たしていない部分にエ
ラーを示す図形を出力する（ステップ６０７）。この検
証手順は後述する。さらに、出力されたエラーデータを
ＳＦに変換する（ステップ６０８）。

【００４６】そして、ＤＢに付属のＳＦ変換プログラム
でＤＢに組み込み、目的のセルに配置する（ステップ６
０９）。このように、目的のセルに配置すると、レイア
ウトエディタ１のウインドウにエラーパターンが表示さ
れるので、オリジナルのパターンとともに結果を確認す
ることができる。

【００４７】前記ステップ６０６のエラー部抽出の検証
手順は、前記ステップ６０５において求めた、ウェハ上
の光強度分布、現像後のレジスト厚み分布、すなわち破
線で示した格子状の各格子点での光強度、レジスト厚み
の２次元データを用いる（ステップ６０６１）。

【００４８】まず、前記光強度分布ファイルの２次元デ
ータからオリジナルパターンエッジ上の各点での値、傾
き最大の方向への分布の傾きを求める（ステップ６０６
２）。この傾きは２次元配列の上下左右（１次近似）、
斜め上下左右（２次近似）といった点の値の差を距離で
割れば求めることができる。

【００４９】そして、指定された基準値を満たさない点
が存在した場合に、その位置にエラー図形を生成する
（ステップ６０６３）。このエラー図形は、レイアウト
エディタ１の画面上に表示して確認できる。

【００５０】従って、本実施の形態のレイアウト設計支
援装置によれば、レイアウトパターンの補正結果、およ
び検証結果をそれぞれ確認するＯＰＣ補正・検証装置２
をレイアウトパターンを設計するレイアウトエディタ１
から実行できるので、レイアウトパターン設計者がレイ
アウトパターン設計に使っているツールをそのまま使用
することができる。もし、ＯＰＣ補正・検証装置２がレ
イアウトエディタ１から実行できなければ、レイアウト
パターンデータを補正装置、検証装置が入力できる形に
変換し、補正・検証を実行し、結果をレイアウトパター
ンデータに変換する必要があるが、本実施の形態の構成
によりその必要がなくなる。よって、レイアウトパター
ン設計者が設計したレイアウトパターンに対する補正の
結果と、その補正の正当性を確認する検証の結果とをレ
イアウトパターン設計者自身が設計中に逐次確認するこ
とができる。

【００５１】以上、本発明者によってなされた発明をそ
の実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前
記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸
脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもな
い。

【００５２】たとえば、前記実施の形態において、ＯＰ
Ｃ補正・検証装置の検証装置だけを用いれば、レイアウ
ト設計者が設計したレイアウトパターンがウェハ上に転
写可能かどうかを判定することができる。また、補正手
順において、補正装置をスキップすれば、既存のレイア
ウトパターンから図形演算により任意のパターンを生成
することができる。

【００５３】

【発明の効果】本願において開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。

【００５４】(1).レイアウトパターンデータを作成する
ために使う作成手段に、パターン補正を行う補正手段、
補正結果の検証を行う検証手段を追加することで、レイ
アウトパターン設計者が設計したレイアウトパターンに
対する補正の結果と、その補正の正当性を確認する検証
の結果とをレイアウトパターン設計者自身が設計中に逐
次確認することができるので、ＴＡＴを向上させること
が可能となる。

【００５５】(2).プロセス技術者が持つノウハウをそれ
ぞれ補正ルール、検証ルールとして与えることができる
ので、対象パターンの補正・検証の信頼性を向上させる
ことが可能となる。

【００５６】(3).与えられたデータを同じデータ量にな
るように分割し、指定された複数の処理手段を利用して
各分割されたデータを並列処理することができるので、
大規模データの一括適用が可能となる。

【００５７】(4).思うように形成できない部分にエラー
図形を生成して、作成手段の画面上で表示することがで
きるので、レイアウトパターン設計者は容易に不具合を
確認することが可能となる。

【００５８】(5).前記(1) 〜(4) により、レイアウトパ
ターンの設計から補正・検証までの処理において、ＴＡ
Ｔが向上し、レイアウトパターン設計期間を短縮するこ
とができるので、製品開発期間の短縮化を実現すること
が可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施の形態であるレイアウト設計支
援装置を示す機能ブロック図である。

【図２】本発明の一実施の形態において、レイアウトパ
ターン設計方法を示すフロー図である。

【図３】(a),(b),(c) は本発明の一実施の形態におい
て、レイアウトパターン設計方法に対応する画面表示を
示す説明図である。

【図４】本発明の一実施の形態において、補正方法を示
すフロー図である。

【図５】本発明の一実施の形態において、補正方法を詳
細に示すフロー図である。

【図６】本発明の一実施の形態において、検証方法を示
すフロー図である。

【図７】本発明の一実施の形態において、検証方法を詳
細に示すフロー図である。

【符号の説明】

１レイアウトエディタ２ＯＰＣ補正・検証装置３データベース２１階層展開部２２図形演算部２３補正部２４図形演算部２５シミュレーション部２６比較検証部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 2H095 BA02 BB01 5B046 AA08 BA04 JA00 JA04 5F064 DD04 HH07 HH09 HH10 HH12 HH14

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】レイアウトパターンを作成するための作
成手段と、前記作成手段を通して起動し、前記作成手段
により作成されたレイアウトパターンに対して補正を行
うための補正手段と、前記作成手段を通して起動し、前
記補正手段により補正されたレイアウトパターンに対し
てシミュレーションを行い、前記補正されたレイアウト
パターンと、対象物に形成されるべき目的のレイアウト
パターンとの比較検証を行う検証手段とを含み、前記検
証手段において、前記補正されたレイアウトパターン
が、前記目的のレイアウトパターンに一致するまで、前
記補正手段によりレイアウトパターンを補正することを
特徴とするレイアウト設計支援装置。
【請求項２】請求項１記載のレイアウト設計支援装置
であって、前記補正手段は、プロセス技術者が持つ経験
的技術を補正ルールとして有することを特徴とするレイ
アウト設計支援装置。
【請求項３】請求項１記載のレイアウト設計支援装置
であって、前記検証手段は、プロセス技術者が持つ経験
的技術を検証ルールとして有することを特徴とするレイ
アウト設計支援装置。
【請求項４】請求項１記載のレイアウト設計支援装置
であって、前記補正手段は、複数の処理手段を有し、前
記レイアウトパターンのデータを分割し、この各分割さ
れたデータを指定された前記各処理手段を用いて並列処
理することを特徴とするレイアウト設計支援装置。
【請求項５】請求項１記載のレイアウト設計支援装置
であって、前記補正手段および前記検証手段を前記作成
手段の画面上でパラメータを与えて実行し、前記補正手
段における補正処理・結果と、前記検証手段における検
証処理・結果とを前記作成手段の画面上で確認すること
を特徴とするレイアウト設計支援装置。
【請求項６】請求項１、２、３、４または５記載のレ
イアウト設計支援装置であって、前記レイアウト設計支
援装置は、光近接効果補正手法を用いていることを特徴
とするレイアウト設計支援装置。
【請求項７】レイアウトパターンを作成するための作
成工程と、前記作成工程を通して起動し、前記作成工程
により作成されたレイアウトパターンに対して、プロセ
ス技術者が持つ経験的技術による補正ルールに基づいて
補正を行うための補正工程と、前記作成工程を通して起
動し、前記補正工程により補正されたレイアウトパター
ンに対して、プロセス技術者が持つ経験的技術による検
証ルールに基づいてシミュレーションを行い、前記補正
されたレイアウトパターンと、対象物に形成されるべき
目的のレイアウトパターンとの比較検証を行う検証工程
とを含み、前記検証工程において、前記補正されたレイ
アウトパターンが、前記目的のレイアウトパターンに一
致するまで、前記補正工程によりレイアウトパターンを
補正するレイアウト設計支援方法を、コンピュータに実
行させるためのプログラムを記録したことを特徴とする
コンピュータ読み取り可能な記録媒体。