JP2786800B2 - パターン配置指示情報の作成方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、描画装置や露光装置に
与えるためのパターン配置指示情報を作成するパターン
配置指示情報の作成方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】描画装置が、電子ビームやレーザ光を用
いてフォトマスクブランクに原画パターンを描画する際
には、描画指示情報やこの描画指示情報で配置位置等が
特定されているパターンデータに従って描画を行なう。
このような描画装置を駆動して描画を実行させる描画指
示情報の一要素であるパターン配置指示情報は、一般的
に、図１１に示すような各手順を得て作成される。

【０００３】なお、この明細書において、パターンデー
タとは、例えばレジスト面の部分区画又は全体区画の潜
像パターンの形状等を特定する情報であり、描画指示情
報とは、どのパターンデータを使用し、それらがフォト
マスクブランク上のどの場所にどのような条件で描画さ
れるかを規定しているものである。描画指示情報には、
集積回路や層を特定する情報やポジ／ネガ描画を規定す
る情報等も含まれているが、以下では、パターンデータ
をフォトマスクブランク上のどの場所に配置するかを示
すパターン配置指示情報を作成するという観点から、処
理手順を説明する。

【０００４】［手順１（Ｔ１）：原画パターンのデータ
化］フォトマスクブランクに対する原画パターンが記載
された図面を基準とする。そして、例えば、いわゆるＣ
ＡＤシステムを用いて、その図面に基づいて、レジスト
面の部分区画又は全体区画の潜像パターンの形状等をパ
ターンデータ（以下、ＣＡＤデータと呼ぶ）にデータ化
する。このようにして形成される１又は２以上のＣＡＤ
データはそれぞれ、外形が矩形形状のパターンデータで
あって識別可能なようにファイル名等が付与される。各
ＣＡＤデータが規定する矩形形状や矩形領域内の点は、
ＣＡＤシステムの使用者がデータ化が容易になるように
任意に定めた座標系で表現されている。なお、ユーザか
らＣＡＤデータが提供されてフォトマスクの作成が求め
られることがある。

【０００５】［手順２（Ｔ２）：配置用データの作成］
このようにして形成された各ＣＡＤデータに基づいて、
フォトマスクブランク領域への配置用データを作成す
る。ここで、ＣＡＤデータは、矩形領域内の各点につい
て、電子ビームやレーザ光を照射する位置か照射しない
位置かを明らかにする情報も含まれているが、配置用デ
ータは、手順３に示すようにその矩形領域がフォトマス
クブランク領域のどこに配置されるかを明らかにするた
めに用いられるものであり、矩形形状を明らかにする情
報が少なくとも含まれていれば良い。

【０００６】例えば、配置用データは、矩形形状の縦横
の長さ（ウィンドウサイズ）を直接表すデータや、左下
の座標を（０，０）とし右上の座標がウィンドウサイズ
の値をそのまま含むことでウィンドウサイズを間接的に
表すデータである。従って、配置用データ毎に座標系が
異なっており、また、配置用データはＣＡＤデータの座
標系とも異なる座標系で表現されていることになる。

【０００７】［手順３（Ｔ３）：配置用データのフォト
マスクブランク領域への配置］次に、仕様書や原画パタ
ーンが記載されている図面等に基づいて、得られた各配
置用データをフォトマスクブランク領域のどの位置に配
置するかを規定する中間のパターン配置指示情報を作成
する。より具体的には、フォトマスクブランク領域につ
いての座標系を定義し、その座標系において配置用デー
タの特異点（中心や左下）が位置する座標を求め、その
座標位置に配置用データの特異点が位置するように配置
用データを配置することを求める中間のパターン配置指
示情報を作成する。

【０００８】例えば、フォトマスクブランク領域の左下
を（０，０）とした座標系や、フォトマスクブランク領
域の中心を（０，０）とした座標系等にフォトマスクブ
ランク領域の座標系を規定する。その後、配置用データ
に係る矩形領域の中心点Ａが位置するフォトマスクブラ
ンク領域における座標Ｂを求める。そして、中間のパタ
ーン配置指示情報として、例えば「フォトマスクブラン
ク領域の左下を（０，０）とした時に、配置用データの
中心点Ａが座標Ｂに位置するように配置用データを配置
する」という意味を有するものを作成する。

【０００９】なお、中間のパターン配置指示情報は、実
際上、座標系を明らかにしてフォトマスクブランク領域
を記載すると共に、特異点座標を明らかにしてそのフォ
トマスクブランク領域内に配置用データを記載した図面
が該当することもあり、また、この図面から、後述する
コンバータプログラムにかけることができる（キーボー
ドから打ち込める）コマンド列に変換したものを言うこ
ともある。

【００１０】［手順４（Ｔ４）：パターン配置指示情報
の描画装置が取込める形式への変換］以上のようにして
作成された中間のパターン配置指示情報を、装置対応化
コンバータプログラム（例えば、描画装置メーカが提供
したエディタ等）にかけ、描画装置が取り込める形式の
最終的なパターン配置指示情報に変換する。例えば、中
間のパターン配置指示情報が記載されている図面を見な
がら、利用者がキーボードを用いて、中間のパターン配
置指示情報に対応したコマンドを入力して、最終的なパ
ターン配置指示情報に変換させる。

【００１１】以上のような各手順を経て作成されたＣＡ
Ｄデータやパターン配置指示情報が描画装置に与えられ
る。なお、集積回路の種類やその層や描画極性やアドレ
スサイズ等の情報も描画装置に与えられる。

【００１２】描画装置は、このような情報に従って、フ
ォトマスクブランクのどの領域ではどのＣＡＤデータに
係る照射オンオフ情報を利用すれば良いかを認識し、認
識したＣＡＤデータのオンオフ情報に従い、かつ、他の
情報にも従って、装填されているフォトマスクブランク
に対して電子ビーム又はレーザ光を適宜照射して原画パ
ターンを描画させる。

【００１３】図１２は、従来の上述した各手順によるデ
ータ変換の様子の一例を、座標面を中心に示したもので
ある。この図１２は、１個のパターンをフォトマスクブ
ランクに配置させる例である。

【００１４】今、図１２（ａ）に示すように、原画パタ
ーンが、ＣＡＤシステムによって、左下座標が（−１０
０，−５０）、右上座標が（９００，９５０）の矩形形
状に係るＣＡＤデータに変換されたとする。なお、ＣＡ
Ｄデータには、他の点の座標も与えられているが、図１
２（ａ）では、以下の説明との関係から、上記２点及び
原点座標を表示している。

【００１５】従って、この例の場合、配置用データとし
ては、そのＣＡＤデータに係る矩形形状の領域の大きさ
を表すウィンドウサイズ、すなわち、図１２（ｂ）に示
すような、Ｘ方向の長さが１０００、Ｙ方向の長さが１
０００というデータが得られる。又は、左下座標（０，
０）、右上座標（１０００，１０００）という右上座標
の値がウィンドウサイズを表す配置用データが得られ
る。

【００１６】ここで、図１２（ｃ）に示すように、フォ
トマスクブランク領域に対する座標系として左下を原点
（０，０）としたものを採用し、この座標系で配置用デ
ータに係る矩形領域の左下座標が（ｘ1 ，ｙ1 ）であれ
ば、「フォトマスクブランクの左下を（０，０）とした
時に、配置用データの中心点が座標（５００＋ｘ1 ，５
００＋ｙ1 ）に位置するように配置用データをフォトマ
スクブランク領域に配置する」という意味の中間のパタ
ーン配置指示情報が作成される。ここで、座標（５００
＋ｘ1 ，５００＋ｙ1 ）における５００という値はそれ
ぞれ、配置用データに係る矩形領域の左下を（０，０）
とした座標系における矩形領域の中心点座標を規定する
値であり、配置用データから計算されて求められるもの
である。例えば、ｘ1 及びｙ1 がそれぞれ、５０及び１
００であれば、「フォトマスクブランクの左下を（０，
０）とした時に、配置用データの中心点が座標（５５
０，６００）に位置するように配置用データをフォトマ
スクブランク領域に配置する」という意味の中間のパタ
ーン配置指示情報が作成される。このような中間のパタ
ーン配置指示情報が、装置対応化コンバータプログラム
によって描画装置が取り込める形式のパターン配置指示
情報に変換される。

【００１７】なお、原画パターンから複数のＣＡＤデー
タが形成された場合には、各ＣＡＤデータについて、上
記のような処理が実行される。

【００１８】

【発明が解決しようとする課題】ところで、仮にコンピ
ュータを援用して配置用データや中間のパターン配置指
示情報を作成する場合であっても、多くの計算を手作業
で行なうことが多い。例えば、ＣＡＤデータに係る矩形
領域のウィンドウサイズを得る計算や、ＣＡＤデータに
係る矩形領域の左下を（０，０）とした座標系における
矩形領域の中心点座標を求める計算は、手作業で行なわ
れることが多い。また、見方を変えると、ＣＡＤデータ
から配置用データを形成する際にも座標変換を行なって
おり、また、配置用データから中間のパターン配置指示
情報を作成する際にも座標変換を行なっている。このよ
うな座標変換の度に計算が必要である。実際上、１個の
原画パターンは、複数に分割されて複数のＣＡＤデータ
が形成されることが多く、従って、最終的なパターン配
置指示情報を得るまでに実行される計算の量もかなり多
い。そのため、計算ミスが発生する確率も高くなってお
り、原画パターンが正確に描画されていないフォトマス
クが形成される可能性も高くなっていた。

【００１９】実際上、形成されたフォトマスクが原画パ
ターンに正確に一致しているか否か検証される。このよ
うな検証で原画パターンが正確に形成されていないこと
が判明した場合には、各種のデータを分析して原因が究
明される。この原因究明の際、従来のパターン配置指示
情報の作成方法によれば、中間のパターン配置指示情報
が上述した形式であるため、ＣＡＤデータにおける座標
系の情報がなんら存在せず、そのために、ＣＡＤデータ
と中間のパターン配置指示情報との整合性を確認し難い
ものとなっており、原因を究明する作業が大変であっ
た。

【００２０】このような計算量が多くて計算ミスの発生
確率が高くなって不正確なフォトマスクが作成され易い
という課題や、不正確なフォトマスクが作成される原因
を究明し難いという課題は、中間フォトマスクの作成を
要する大規模フォトマスクの作成においても生じるもの
である。

【００２１】大規模フォトマスクを作成する場合には、
原画パターンを２以上の区画に分割し、上述した方法に
よって各分割区画毎に作成されたパターン配置指示情報
を用いて１又は２以上のフォトマスク（中間フォトマス
ク；例えばレチクル）を作成し、このようにして作成さ
れた中間フォトマスクを用いた露光処理によって大規模
フォトマスクを作成する。従って、各中間フォトマスク
を作成する際に必要なパターン配置指示情報だけでな
く、中間フォトマスクに係る矩形領域を大規模フォトマ
スクブランク領域のどこに配置させるかを規定するパタ
ーン配置指示情報も必要であり、上記課題は、中間フォ
トマスクの作成が不要な小規模フォトマスク以上に大き
な課題である。

【００２２】本発明は、以上の点を考慮してなされたも
のであり、パターン配置指示情報をより正確に作成させ
ることができる、しかも、原画パターンに不正確なフォ
トマスクが作成された場合に原因を究明し易いパターン
配置指示情報を作成できるパターン配置指示情報の作成
方法を提供しようとしたものである。

【００２３】

【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め、第１の本発明においては、描画装置に与えるパター
ン配置指示情報を、以下のようにして作成することとし
た。

【００２４】すなわち、(a) フォトマスクブランクに描
画される原画パターンを、その全体又は要素毎にデータ
化し、(b) 各パターンデータに基づいて、各パターンデ
ータに係る座標系で座標が表現されている各パターンデ
ータの領域を規定した配置用データを作成し、(c) 各配
置用データが従う座標系においてフォトマスクブランク
の特異点の座標を求め、フォトマスクブランクの特異点
にその特異点座標が位置するように各配置用データを配
置することを指示する中間パターン配置指示情報を作成
し、(d) 描画装置がパターンデータと共に描画を実行す
るに必要な、しかも描画装置が取り込める形式を有する
最終的なパターン配置指示情報に、各中間パターン配置
指示情報を変換することで、描画装置に与えるパターン
配置指示情報を作成する。

【００２５】また、第２の本発明においては、１又は２
以上の小規模フォトマスクを用いた露光装置による露光
処理によって大規模フォトマスクを作成する場合に必要
となる、各小規模フォトマスクの作成用描画装置に与え
るパターン配置指示情報、及び、露光装置に与えるパタ
ーン配置指示情報を、以下のようにして作成することと
した。

【００２６】すなわち、(A) 大規模フォトマスクブラン
クに描画される原画パターンを要素毎にデータ化すると
共に、データ化された各要素パターンデータが描画され
る小規模フォトマスクブランクを決定し、(B) 各小規模
フォトマスクブランクに対する最終的なパターン配置指
示情報を、第１の本発明での処理(b) 〜(d) で作成し、
(C) 各要素パターンデータが従う座標系において大規模
フォトマスクブランクの特異点の座標を求め、大規模フ
ォトマスクブランクの特異点にその特異点座標が位置す
るように各小規模フォトマスクを配置することを指示す
る中間パターン配置指示情報を作成し、(D) 露光装置が
露光するに必要な、露光装置が取り込める形式を有する
最終的なパターン配置指示情報に、各中間パターン配置
指示情報を変換することで、各小規模フォトマスクの作
成用描画装置に与えるパターン配置指示情報、及び、露
光装置に与えるパターン配置指示情報を作成する。

【００２７】

【作用】第１の本発明は、小規模フォトマスクを作成さ
せるために描画装置に与えるパターン配置指示情報の作
成方法に関する。また、第２の本発明は、１又は２以上
の小規模フォトマスクを用いた露光装置による露光処理
によって大規模フォトマスクを作成する場合に必要とな
る、各小規模フォトマスクの作成用描画装置に与えるパ
ターン配置指示情報、及び、露光装置に与えるパターン
配置指示情報の作成方法に関する。

【００２８】第１及び第２の本発明はこのように意図す
るフォトマスクは異なるが、第１及び第２の本発明は共
に、原画パターンをデータ化したパターンデータにおけ
る座標系で表された配置用データや要素パターンデータ
に基づいて、中間パターン配置指示情報を作成すること
により、中間パターン配置指示情報の作成時の計算ミス
の発生確率を低減すると共に、不正確なフォトマスクが
形成された場合の検証を容易に実行できるようにしたも
のである。

【００２９】

【実施例】

（Ａ）第１実施例 以下、本発明による描画指示情報の作成方法の第１実施
例を図面を参照しながら詳述する。この第１実施例は、
小規模フォトマスクブランク（例えば、一辺の長さが７
インチ以下）を描画装置が描画対象とするものである。

【００３０】この第１実施例においても、描画指示情報
を作成するまでの手順を大きく分けた場合には、従来の
作成方法と同様に、原画パターンのデータ化を行なう手
順１、配置処理に供する配置用データの作成を行なう手
順２、配置用データをマスクブランク領域に配置する手
順３、及び、手順３によって形成された中間のパターン
配置指示情報を描画装置が取り込める形式の最終的なパ
ターン配置指示情報へ変換する手順４からなる（なお、
見方によっては手順２が省略されたと見ることもでき
る）。

【００３１】しかし、図１に示すように、配置用データ
の作成を行なう手順２、及び、配置用データをマスクブ
ランク領域に配置する手順３の詳細が、従来のパターン
配置指示情報の作成方法とは大きく異なっている。

【００３２】［手順１（Ｔ１１）：原画パターンのデー
タ化］図面に記載されている原画パターンをＣＡＤデー
タにデータ化する処理は、従来と同様である。

【００３３】［手順２（Ｔ１２）：配置用データの作
成］手順１で形成された各ＣＡＤデータに基づいて、各
ＣＡＤデータに係る矩形領域を規定するＣＡＤシステム
座標系での座標値（例えば左下及び右上座標の座標値）
を認識する。すなわち、この第１実施例におけては、Ｃ
ＡＤデータに係る矩形領域を規定する座標値（左下及び
右上の座標値）を、配置処理で用いることにしており、
ＣＡＤデータ自体が架空の配置用データとなっていると
いうことができる。言い換えると、ＣＡＤデータに基づ
いて、配置用データを作成する際には、座標変換が不要
である。

【００３４】［手順３（Ｔ１３）：配置用データのフォ
トマスクブランク領域への配置］ＣＡＤシステム座標系
においてマスクブランク領域の特異点座標（例えば中心
点座標）Ｃを認識する。そして、「ＣＡＤシステム座標
系で表された配置用データ領域（左下及び右上座標でな
る配置用データ領域）を、ＣＡＤシステム座標系におけ
るマスクブランクの特異点（中心点）座標Ｃが、フォト
マスクブランク領域の特異点（中心点）位置に一致する
ようにフォトマスクブランク領域に配置する」という意
味の中間のパターン配置指示情報を作成する。

【００３５】同一マスクブランクに配置されるパターン
データ（ＣＡＤデータ）が複数あり、各ＣＡＤデータに
対する座標系が一致している場合には、「ＣＡＤシステ
ム座標系で表された各配置用データ領域をそれぞれ、Ｃ
ＡＤシステム座標系におけるマスクブランクの特異点
（中心点）座標Ｃが、描画装置座標系でのマスクブラン
クの特異点（中心点）に一致するように配置する」とい
う意味の中間のパターン配置指示情報を作成する。

【００３６】因に、従来方法の手順３で作成される中間
のパターン配置指示情報が、配置用データの特異点を、
配置用データとは異なる座標系を有するフォトマスクブ
ランク領域におけるその特異点座標に一致するように配
置用データを配置する、というものであった。これに対
して、第１実施例の手順３で作成される中間のパターン
配置指示情報は、配置用データとは異なる座標系を有す
るフォトマスクブランク領域の特異点を基準とし、フォ
トマスクブランク領域の特異点に相当する配置用データ
の座標値を求め、フォトマスクブランク領域の特異点に
相当する配置用データの座標値がフォトマスクブランク
領域の特異点に一致するように配置用データを配置す
る、というものである。

【００３７】配置用データ自体がＣＡＤデータの座標系
に従っており、しかも、第１実施例の手順３で作成され
る中間のパターン配置指示情報自体がこのようなもので
あるので、中間のパターン配置指示情報には、ＣＡＤデ
ータにおける座標系に従う座標値がそのまま含まれるも
のである。従って、配置用データから中間のパターン配
置指示情報を作成する際にも座標系を変換する必要がな
い。

【００３８】［手順４（Ｔ１４）：パターン配置指示情
報の描画装置が取り込める形式への変換］以上のように
して作成された中間のパターン配置指示情報を、装置対
応化コンバータプログラムにかけ、描画装置が取り込め
る形式の最終的なパターン配置指示情報に変換する。

【００３９】上述したように、中間のパターン配置指示
情報は、「ＣＡＤシステム座標系で表された各配置用デ
ータ領域をそれぞれ、ＣＡＤシステム座標系におけるマ
スクブランクの特異点（中心点）座標Ｃが、描画装置座
標系でのマスクブランクの特異点（中心点）に一致する
ように配置する」という意味のものであるが、下線を引
いた部分はコマンドには含まれない部分であり、座標の
平行移動を指示しているものである。そのため、従来か
らの装置対応化コンバータプログラムの多くは、この第
１実施例の手順３で作成された中間のパターン配置指示
情報に対応できるものになっている。なお、既存の装置
対応化コンバータプログラムが、この第１実施例の手順
３で作成された中間のパターン配置指示情報に対応でき
ないものであれば、装置対応化コンバータプログラム自
体を変更することも要する。

【００４０】また、手順３で作成される中間のパターン
配置指示情報の表現は従来と第１実施例とで異なってい
ても、装置対応化コンバータプログラムによって最終的
に得られたパターン配置指示情報は従来方法と第１実施
例の方法とで同一のものである。

【００４１】図２は、第１実施例の上述した各手順Ｔ１
１〜Ｔ１４によるデータ変換の様子の一例を、座標面を
中心に示したものである。この図２は、１個のパターン
をマスクブランクに配置させる例である。なお、図２に
おける座標値は、全てＣＡＤシステム座標系での値であ
る。

【００４２】今、図２（ａ）に示すように、原画パター
ンが、ＣＡＤシステムによって、その座標系で、左下座
標が（−１００，−５０）、右上座標が（９００，９５
０）の矩形形状に係るＣＡＤデータに変換されたとす
る。なお、ＣＡＤデータには、他の点の座標も与えられ
ているが、図２（ａ）では、以下の説明との関係から、
上記２点及び原点座標を表示している。

【００４３】従って、この例の場合、配置用データとし
て、図２（ｂ）に示すように、そのＣＡＤデータに係る
矩形形状領域の大きさを規定する左下座標（−１００，
−５０）、右上座標（９００，９５０）が認識される。

【００４４】次に、ＣＡＤシステム座標系でのフォトマ
スクブランク領域の中心点座標（Ｘ0 ，Ｙ0 ）を認識す
る。なお、フォトマスクブランク領域の中心点を配置処
理の基準を与える特異点としている。そして、図２
（ｃ）に示すように、「左下座標（−１００，−５
０）、右上座標（９００，９５０）で規定される配置用
データ領域を、配置用データと同一の座標系での座標
（Ｘ0 ，Ｙ0 ）がフォトマスクブランク領域の中心に一
致するように配置する」という意味の中間のパターン配
置指示情報を作成する。例えば、Ｘ0 及びＹ0 がそれぞ
れ７２０及び７３０であれば、「左下座標（−１００，
−５０）、右上座標（９００，９５０）で規定される配
置用データ領域を、同一座標系での座標（７２０，７３
０）がフォトマスクブランク領域の中心に一致するよう
に配置する」という意味の中間のパターン配置指示情報
が作成される。

【００４５】図３も、第１実施例の上述した各手順Ｔ１
１〜Ｔ１４によるデータ変換の様子の一例を、座標系の
変換を中心に示したものである。この図３は、２個のパ
ターンをフォトマスクブランクに配置させる例である。
また、図３においても、（ｘ，ｙ）で表現されている座
標は、ＣＡＤシステム座標系で表された座標である。

【００４６】今、図３（ａ）に示すように、ＣＡＤ使用
者がＣＡＤシステムによって、原画パターンを２個の部
分区画に分けてＣＡＤデータを形成したとする。しか
も、両ＣＡＤデータ共にフォトマスクブランク領域の中
心を原点とする座標系で表現し、一方のＣＡＤデータに
係る矩形領域が左下座標（−４０００，−４２００）、
右上座標（−２０００，４０００）であり、他方のＣＡ
Ｄデータの矩形形状に係る矩形領域が左下座標（２５０
０，−２０００）、右上座標（４２００，４０００）で
あるとする。

【００４７】従って、この例の場合、配置用データとし
て、図３（ｂ）に示すように、一方のＣＡＤデータに係
る矩形形状領域の大きさを規定する左下座標（−４００
０，−４２００）、右上座標（−２０００，４０００）
の組と、他方のＣＡＤデータに係る矩形形状領域の大き
さを規定する左下座標（２５００，−２０００）、右上
座標（４２００，４０００）の組とが認識される。

【００４８】次に、ＣＡＤシステム座標系でのフォトマ
スクブランク領域の中心点座標（０，０）を認識する。
その結果、図３（ｃ）に示すように、「左下座標（−４
０００，−４２００）、右上座標（−２０００，４００
０）で規定される配置用データ領域と、左下座標（２５
００，−２０００）、右上座標（４２００，４０００）
で規定される配置用データ領域とをそれぞれ、配置用デ
ータに係る座標系での座標（０，０）がフォトマスクブ
ランク領域の中心に一致するように配置する」という意
味の中間のパターン配置指示情報が作成される。

【００４９】以上のように、ＣＡＤデータがフォトマス
クブランク領域の中心を原点として表現されている場合
には、中間のパターン配置指示情報を容易に作成するこ
とができる。

【００５０】なお、図３は、２個のＣＡＤデータに対す
る原点が一致するものを示したが、２個のＣＡＤデータ
で原点が異なる座標系で表現しても良く、この場合に
は、各ＣＡＤデータに対するパターン配置指示情報で、
フォトマスクブランク領域の特異点（例えば中心）に一
致させる座標が異なることになる（後述する図６〜図８
参照）。

【００５１】図２に示した例であろうと図３に示した例
であろうと、以上のようにして作成された中間のパター
ン配置指示情報が装置対応化コンバータプログラムにか
けられて、最終的なパターン配置指示情報に変換され
る。

【００５２】従って、上記第１実施例によれば、配置用
データとして、ＣＡＤデータに係る矩形領域の左下座標
及び右上座標の組をそのまま用いると共に、その配置用
データ領域に係る座標系での特異点座標をフォトマスク
ブランク領域の特異点に一致させることを意味する中間
のパターン配置指示情報を形成するようにしたので、中
間のパターン配置指示情報を得るために必要な計算量を
従来方法より少なくできて原画パターンに正確なフォト
マスクを形成させる確率を高めることができ、しかも、
不正確なフォトマスクが生じたとしてもその原因を究明
し易くできる。

【００５３】（Ｂ）第２実施例 以下、本発明によるパターン配置指示情報の作成方法の
第２実施例を図面を参照しながら詳述する。この第２実
施例は、大規模フォトマスクブランク（例えば、一辺の
長さが７インチ以上）を対象とするものである。

【００５４】ここで、図４が、この第２実施例によるパ
ターン配置指示情報の作成手順の一例を示すものであ
る。以下、この図４を参照しながら、大規模フォトマス
クブランクを対象とするパターン配置指示情報の作成手
順を説明する。

【００５５】なお、大規模フォトマスクは、小規模フォ
トマスク（レチクル）を１枚又は複数枚作成し、この小
規模フォトマスクを用いた大規模フォトマスクブランク
への転写を２回以上繰り返すことで作成するという手法
をとっている。従って、大規模フォトマスクを作成する
際のパターン配置指示情報としては、中間的な小規模フ
ォトマスクを作成する際に必要なパターン配置指示情報
（この第２実施例の説明では描画時パターン配置指示情
報と呼ぶ）と、中間的な小規模フォトマスクから大規模
フォトマスクを作成する際に必要なパターン配置指示情
報（この第２実施例の説明では露光時パターン配置指示
情報と呼ぶ）とがある。描画時パターン配置指示情報
は、単独の小規模フォトマスクを作成する上述した場合
と同様な方法によって作成できる。そこで、以下では、
中間的な小規模フォトマスクから大規模フォトマスクを
作成する際に必要な露光時パターン配置指示情報の作成
方法を中心に説明する。

【００５６】［手順１（Ｔ２１）：原画パターンのデー
タ化］図面に記載された原画パターンを、例えば、ＣＡ
Ｄシステムを用いて、その図面に基づいて、ＣＡＤデー
タにデータ化する。なお、ＣＡＤデータの形式でユーザ
から情報が提供されることがある。

【００５７】［手順２（Ｔ２２）：中間フォトマスクブ
ランクに形成させるパターン領域への分割］大規模フォ
トマスクブランクの大きさを確認する。また、使用する
大規模フォトマスク用露光装置の露光可能範囲を確認す
ることにより、中間的な小規模フォトマスクの中心が大
規模フォトマスクブランクの中心からずれても良い許容
範囲を確認する。さらに、ＣＡＤデータを見ながら、Ｃ
ＡＤデータ上でのエリアを確認する。さらにまた、大規
模フォトマスクブランクの中心に相当するＣＡＤデータ
における座標を確認する。

【００５８】そして、(1) 小規模フォトマスクの枚数を
最小にする、(2) 大規模フォトマスクブランクへの露光
方法を極力簡単にする、ということを念頭において、Ｃ
ＡＤデータにおいてパターンが存在する領域を、小規模
フォトマスク用領域（以下、要素ＣＡＤデータと呼ぶ）
に分割する。また、どの要素ＣＡＤデータに係るパター
ンをどの小規模フォトマスクブランクに描画させるかを
決定する。

【００５９】例えば、１個の小規模フォトマスクブラン
クに対して２個以上の要素ＣＡＤデータにかかるパター
ンを描画するように決定しても良く、同一の小規模フォ
トマスクブランクに形成される２個以上の要素ＣＡＤデ
ータに係るパターンが、大規模フォトマスク上で離れて
いるように、小規模フォトマスクブランクに描画させる
要素ＣＡＤデータに係るパターンを決定しても良い。

【００６０】［手順３（Ｔ２３）：中間フォトマスクブ
ランク用のパターン配置指示情報の作成］単独の小規模
フォトマスクに対する描画指示情報の作成方法と同様に
して、各中間の小規模フォトマスクの作成用の中間の描
画時パターン配置指示情報を作成し、この中間の描画時
パターン配置指示情報をコンバータプログラムにかけ、
描画装置を駆動させるための最終的な描画時パターン配
置指示情報に変換する（第１実施例における手順２〜手
順４参照）。

【００６１】この場合における中間の描画時パターン配
置指示情報は、大規模フォトマスクブランクに係るＣＡ
Ｄデータの座標系に従う座標がそのまま含まれている。

【００６２】［手順４（Ｔ２４）：大規模フォトマスク
ブランクへの配置用データの作成］中間の小規模フォト
マスクの大規模フォトマスクブランクに対する露光時位
置Ｄを、ＣＡＤシステム座標系で認識する。また、露光
処理時の露光装置のアパーチャの大きさ（要素ＣＡＤデ
ータにかかるパターンの大きさ）を、ＣＡＤシステム座
標系で認識する。

【００６３】例えば、要素ＣＡＤデータに係る矩形領域
の左下及び右上のＣＡＤシステム座標系での座標を、露
光処理時の露光装置のアパーチャの大きさ情報として認
識する。また、例えば、要素ＣＡＤデータに係る矩形領
域における小規模フォトマスクブランクの特異点に一致
させるＣＡＤシステム座標系での座標Ｄを、小規模フォ
トマスクの大規模フォトマスクブランクに対する露光時
の位置情報として認識する。

【００６４】［手順５（Ｔ２５）：配置用データの大規
模マスクブランク領域への配置］ＣＡＤシステム座標系
において大規模フォトマスクブランクの特異点座標（例
えば中心点座標）Ｅを認識する。そして、「大規模フォ
トマスクブランクの特異点（中心点）座標をＥとした
時、ＣＡＤシステム座標系における小規模マスクブラン
クの特異点が同一座標系で座標Ｄに一致するように小規
模フォトマスクを位置決めし、ＣＡＤシステム座標系で
表された左下及び右上座標でなる要素ＣＡＤデータに係
るパターン領域を露光範囲とする」という意味の、大規
模フォトマスクブランクに対する中間的な露光時パター
ン配置指示情報を作成する。中間の小規模フォトマスク
ブランクが複数ある場合にも、同様にして、中間的な露
光時パターン配置指示情報を作成する。

【００６５】［手順６（Ｔ２６）：露光装置駆動用の最
終的な露光時パターン配置指示情報への変換］以上のよ
うにして作成された露光装置駆動用の中間的な露光時パ
ターン配置指示情報を、コンバータプログラム（例えば
露光装置メーカによって提供されている）によって、露
光装置を駆動させる最終的な描画指示情報に変換する。
例えば、中間の露光時パターン配置指示情報が記載され
ている図面を見ながら、利用者がキーボードを用いて、
中間の露光時パターン配置指示情報に対応したコマンド
を入力して、最終的な露光時パターン配置指示情報に変
換させる。

【００６６】上記手順３によって作成された小規模フォ
トマスクに対する描画時パターン配置指示情報等を用い
て、描画装置が小規模フォトマスクブランクに対して描
画処理を行なって中間の小規模フォトマスクを作成す
る。また、上記手順６によって作成された露光装置用の
最終的な露光時パターン配置指示情報に従って、露光装
置が大規模フォトマスクブランクに対して、小規模フォ
トマスクを介した露光処理を行なって大規模フォトマス
クを作成させる。

【００６７】図５〜図１０は、大規模フォトマスクの作
成に係るパターン配置指示情報の具体的な作成方法の説
明図である。

【００６８】ユーザから提供された原画パターンに基づ
いて形成されたＣＡＤデータ、又は、ユーザから提供さ
れたＣＡＤデータが、図５に示すように、左下座標（−
１００００，０）、右上座標（２６００００，２０００
００）の大規模フォトマスクを規定しており、その大規
模フォトマスクに係る矩形領域の周囲部分にだけパター
ンが存在するとする。このとき、使用する大規模フォト
マスク用露光装置の露光可能範囲等を確認し、かつ、小
規模フォトマスクの枚数を最小にする、大規模フォトマ
スクへの露光方法を極力簡単にする、ということを念頭
において、図５に示すように、ＣＡＤデータにおいてパ
ターンが存在する領域を複数の部分パターン領域（要素
ＣＡＤデータ）ＲＡ〜ＲＧに分割する。

【００６９】このような分割処理時には、どの部分パタ
ーン領域をどの小規模フォトマスクに作成させるかも併
せて決定される。例えば、部分パターン領域ＲＡ及びＲ
Ｅを１枚の小規模フォトマスクブランクＳＰＭ１に描画
し、部分パターン領域ＲＣ及びＲＤを１枚の小規模フォ
トマスクブランクＳＰＭ２に描画し、部分パターン領域
ＲＦ及びＲＧを１枚の小規模フォトマスクブランクＳＰ
Ｍ３に描画し、部分パターン領域ＲＢを１枚の小規模フ
ォトマスクブランクＳＰＭ４に描画することに決定す
る。

【００７０】ここで、作成される小規模フォトマスク
は、大規模フォトマスクを作成するための中間部材であ
るため、小規模フォトマスクにおける部分パターン領域
（配置用データ）の位置を、情報作成者が任意に選定す
ることができる。

【００７１】図６は、小規模フォトマスクブランクＳＰ
Ｍ１に対する部分パターン領域ＲＡ及びＲＥの決定され
た配置位置を示すものである。なお、図６において、座
標（ｘ，ｙ）は、部分パターン領域ＲＡに係る座標を示
しており、座標［ｘ，ｙ］、部分パターン領域ＲＥに係
る座標を示している。

【００７２】図６の配置例の場合、「左下座標（−１０
０００，１０８６００）、右上座標（６００００，２０
００００）で規定される配置用部分パターン領域ＲＡ
を、その座標系での座標（５５０００，１４６０００）
が小規模フォトマスクブランクＳＰＭ１の中心に一致す
るように配置する」という意味の中間的な描画時パター
ン配置指示情報と、「左下座標［２２４８００，３８０
００］、右上座標［２６００００，１０８６００］で規
定される配置用部分パターン領域ＲＥを、その座標系で
の座標［１９５０００，５５０００］が小規模フォトマ
スクブランクＳＰＭ１の中心に一致するように配置す
る」という意味の中間的な描画時パターン配置指示情報
とが作成される。

【００７３】図７は、小規模フォトマスクブランクＳＰ
Ｍ２に対する部分パターン領域ＲＣ及びＲＤの決定され
た配置位置を示すものであり、図８は、小規模フォトマ
スクブランクＳＰＭ３に対する部分パターン領域ＲＦ及
びＲＧの決定された配置位置を示すものであり、図９
は、小規模フォトマスクブランクＳＰＭ４に対する部分
パターン領域ＲＢの決定された配置位置を示すものであ
る。これら図面の意義は図６と同様であるので、その説
明は省略する。

【００７４】以上のようにして作成された各小規模フォ
トマスクブランクについての中間的な描画時パターン配
置指示情報が、コンバータプログラムにかけられて、描
画装置を駆動させるための最終的な描画時パターン配置
指示情報に変換される。このようなパターン配置指示情
報とＣＡＤデータとから描画装置が小規模フォトマスク
ブランクに対する描画を行ない、その後、レジスト除去
処理等がなされて、中間の４枚の小規模フォトマスクが
形成される。

【００７５】ここで、図６において、部分パターン領域
ＲＡについて小規模フォトマスクブランクＳＰＭ１の中
心に位置する座標（５５０００，１４６０００）も、部
分パターン領域ＲＥについて小規模フォトマスクブラン
クＳＰＭ１の中心に位置する座標［１９５０００，５５
０００］も、大規模フォトマスクブランクについてのＣ
ＡＤデータに係る座標系に従っている座標値である。こ
のことは、逆に言えば、図１０に示すように、大規模フ
ォトマスクブランクの中心をＣＡＤデータに係る座標系
の座標（１２５０００，１０００００）で表した場合、
小規模フォトマスク上の部分パターン領域ＲＡ又はＲＥ
のパターンを露光装置が露光させるときに、小規模フォ
トマスクの中心をどこに位置させるかを示していること
になる。

【００７６】従って、例えば、部分パターン領域ＲＡに
ついての露光装置に対する中間的な露光時パターン配置
指示情報は、「大規模フォトマスクブランクの中心座標
を（１２５０００，１０００００）としたとき、装着さ
れている第１の小規模フォトマスクＳＰＭ１をその中心
が座標（５５０００，１４６０００）になるように位置
決めし、左下座標（−１００００，１０８６００）、右
上座標（６００００，２０００００）で規定される領域
を露光領域として露光する」という意味のものとなる。
他の部分パターン領域についての中間的な露光時パター
ン配置指示情報も同様にして形成される。

【００７７】図１０は、このような中間の露光時パター
ン配置指示情報を、イメージ的に示したものである。

【００７８】以上のようにして作成された中間的な露光
時パターン配置指示情報が、コンバータプログラムにか
けられて、露光装置を駆動させるための最終的な露光時
パターン配置指示情報に変換され、この最終的な露光時
パターン配置指示情報に基づいて、露光装置が大規模フ
ォトマスクブランクに対する露光を行なう。

【００７９】従って、上記第２実施例によれば、中間の
小規模フォトマスクを作成し、それを用いて大規模フォ
トマスクを作成させる際に必要となる、小規模フォトマ
スクの作成のための中間の描画時パターン配置指示情報
や、大規模フォトマスクを作成させるための中間の露光
時パターン配置指示情報に、ＣＡＤデータの座標系に従
う座標値を含めるようにしたので、従来のこれら指示情
報の作成方法に比較して計算量が少なくて良く、計算ミ
スによる不正確な大規模フォトマスクの作成確率を小さ
くできると共に、不正確なフォトマスクが作成された場
合に、どの情報がおかしいかの検証を容易に行なうこと
ができる。

【００８０】（Ｃ）他の実施例 本発明が前提とする描画装置や露光装置の種類は限定さ
れるものではない。すなわち、電子ビーム描画装置、レ
ーザ描画装置、パターンジェネレータ、コンタクトプロ
キシミティ装置、フォトリピータ等であっても良い。

【００８１】上記実施例においては、中間のパターン配
置指示情報で配置位置を規定するマスクブランクの特異
点として左下や中心のものを示したが、これ以外の位置
を特異点として中間のパターン配置指示情報を形成する
ようにしても良い。

【００８２】

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、パター
ンデータにおける座標系で表現された配置に係るデータ
を用いて中間のパターン配置指示情報を形成するように
したので、従来の作成方法に比較して計算量が少なくて
良く、計算ミスによる不正確なマスクの作成確率を小さ
くできると共に、不正確なマスクが作成された場合に、
どの情報がおかしいかの検証を容易に行なうことができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】第１実施例でのパターン配置指示情報の作成手
順を示す説明図である。

【図２】第１実施例での具体的な第１作成例を示す説明
図である。

【図３】第１実施例での具体的な第２作成例を示す説明
図である。

【図４】第２実施例でのパターン配置指示情報の作成手
順を示す説明図である。

【図５】第２実施例での具体的な作成例を示す説明図
（その１）である。

【図６】第２実施例での具体的な作成例を示す説明図
（その２）である。

【図７】第２実施例での具体的な作成例を示す説明図
（その３）である。

【図８】第２実施例での具体的な作成例を示す説明図
（その４）である。

【図９】第２実施例での具体的な作成例を示す説明図
（その５）である。

【図１０】第２実施例での具体的な作成例を示す説明図
（その６）である。

【図１１】従来のパターン配置指示情報の作成手順を示
す説明図である。

【図１２】従来での具体的な作成例を示す説明図であ
る。

【符号の説明】

Ｔ１１…原画パターンのデータ化、Ｔ１２…配置用デー
タの作成、Ｔ１３…配置用データのマスクブランク領域
への配置、Ｔ１４…パターン配置指示情報の最終形式へ
の変換、Ｔ２１…原画パターンのデータ化、Ｔ２２…中
間フォトマスクブランクに形成されるパターン領域への
分割、Ｔ２３…描画時パターン配置指示情報の作成、Ｔ
２４…大規模フォトマスクブランクへの配置用データの
作成、Ｔ２５…配置用データの大規模マスクブランク領
域への配置、Ｔ２６…露光時パターン配置指示情報の最
終形式への変換。

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 (a) フォトマスクブランクに描画される
   原画パターンを、その全体又は要素毎にデータ化し、 (b) 各パターンデータに基づいて、各パターンデータに
   係る座標系で座標が表現されている各パターンデータの
   領域を規定した配置用データを作成し、 (c) 各配置用データが従う座標系においてフォトマスク
   ブランクの特異点の座標を求め、フォトマスクブランク
   の特異点にその特異点座標が位置するように各配置用デ
   ータを配置することを指示する中間パターン配置指示情
   報を作成し、 (d) 描画装置が上記パターンデータと共に描画を実行す
   るに必要な、しかも描画装置が取り込める形式を有する
   最終的なパターン配置指示情報に、上記各中間パターン
   配置指示情報を変換する処理でなることを特徴としたパ
   ターン配置指示情報の作成方法。
2. 【請求項２】 １又は２以上の小規模フォトマスクを用
   いた露光装置による露光処理によって大規模フォトマス
   クを作成する場合に必要となる、上記各小規模フォトマ
   スクの作成用描画装置に与えるパターン配置指示情報、
   及び、上記露光装置に与えるパターン配置指示情報を作
   成するパターン配置指示情報の作成方法であって、 (A) 大規模フォトマスクブランクに描画される原画パタ
   ーンを要素毎にデータ化すると共に、データ化された各
   要素パターンデータが描画される小規模フォトマスクブ
   ランクを決定し、 (B) 上記各小規模フォトマスクブランクに対する最終的
   なパターン配置指示情報を、請求項１に記載の処理(b)
   〜(d) で作成し、 (C) 上記各要素パターンデータが従う座標系において大
   規模フォトマスクブランクの特異点の座標を求め、大規
   模フォトマスクブランクの特異点にその特異点座標が位
   置するように各小規模フォトマスクを配置することを指
   示する中間パターン配置指示情報を作成し、 (D) 露光装置が露光するに必要な、露光装置が取り込め
   る形式を有する最終的なパターン配置指示情報に、上記
   各中間パターン配置指示情報を変換する処理でなること
   を特徴としたパターン配置指示情報の作成方法。