JPH056338B2 - - Google Patents
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- JPH056338B2 JPH056338B2 JP57168001A JP16800182A JPH056338B2 JP H056338 B2 JPH056338 B2 JP H056338B2 JP 57168001 A JP57168001 A JP 57168001A JP 16800182 A JP16800182 A JP 16800182A JP H056338 B2 JPH056338 B2 JP H056338B2
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- repeating
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- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 claims description 41
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 20
- 238000000609 electron-beam lithography Methods 0.000 claims description 14
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 13
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 19
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 10
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000013500 data storage Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000011218 segmentation Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/302—Controlling tubes by external information, e.g. programme control
- H01J37/3023—Programme control
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は、電子ビームを利用して試料上に微細
パターンを描画する電子ビーム描画技術に係わ
り、特に電子ビーム描画装置に入力する電子ビー
ム描画データの作成方法に関する。
パターンを描画する電子ビーム描画技術に係わ
り、特に電子ビーム描画装置に入力する電子ビー
ム描画データの作成方法に関する。
近時、半導体ウエーハやマスク等の試料上に微
細パターン（集積回路のパターンデータ）を描画
するものとして、各種の電子ビーム描画装置が用
いられている。また、LSIの急激な進歩と共に、
そのパターンデータは益々複雑かつ微細になつて
きている。このため、１チツプを構成する図形の
数も膨大な数（〜数1000万個）に増えてきてい
る。そして、この図形数の増加は次の２つの問題
を誘起している。
細パターン（集積回路のパターンデータ）を描画
するものとして、各種の電子ビーム描画装置が用
いられている。また、LSIの急激な進歩と共に、
そのパターンデータは益々複雑かつ微細になつて
きている。このため、１チツプを構成する図形の
数も膨大な数（〜数1000万個）に増えてきてい
る。そして、この図形数の増加は次の２つの問題
を誘起している。
(1) 電子ビーム描画装置はCADシステムから出
力されたパターンデータを直接入力することは
できず、このため上記パターンデータを装置の
描画方式や構成等に強く依存したデータ（EB
フオーマツトデータ）にデータ変換してやる必
要があるが、図形数の増加に伴いこのデータ変
換に要する時間が急増してきた。パターンの種
類によつてはデータ変換に要する時間が、その
データを使つて描画を行う時間の数10〜数100
倍にも達することがある。
力されたパターンデータを直接入力することは
できず、このため上記パターンデータを装置の
描画方式や構成等に強く依存したデータ（EB
フオーマツトデータ）にデータ変換してやる必
要があるが、図形数の増加に伴いこのデータ変
換に要する時間が急増してきた。パターンの種
類によつてはデータ変換に要する時間が、その
データを使つて描画を行う時間の数10〜数100
倍にも達することがある。
(2) データ変換処理に長時間を要することから変
換処理を描画前に実行し、変換して作成した
EBフオーマツトデータを適当な記憶装置に格
納しておく必要がある。しかし、図形数の増加
と共に変換データの量も数メガ〜数10メガバイ
トまで膨長するので、記憶装置に格納できるチ
ツプが極く小数に限定されたり、或いはオーバ
フローして格納し切れない等のケースも発生し
ている。
換処理を描画前に実行し、変換して作成した
EBフオーマツトデータを適当な記憶装置に格
納しておく必要がある。しかし、図形数の増加
と共に変換データの量も数メガ〜数10メガバイ
トまで膨長するので、記憶装置に格納できるチ
ツプが極く小数に限定されたり、或いはオーバ
フローして格納し切れない等のケースも発生し
ている。
このような問題は、今後のLSIの進歩によつて
一層深刻化されると予想される。電子ビーム描画
装置はマスクパターン作成の工期短縮で、或いは
マスクパターン作成工程そのもののバイパスLSI
デバイスの開発及び製造期間を大幅に短縮するも
のとして登場してきたが、上述した問題によつて
その利点が失われる虞れすらでてきている。
一層深刻化されると予想される。電子ビーム描画
装置はマスクパターン作成の工期短縮で、或いは
マスクパターン作成工程そのもののバイパスLSI
デバイスの開発及び製造期間を大幅に短縮するも
のとして登場してきたが、上述した問題によつて
その利点が失われる虞れすらでてきている。
第１図は従来の電子ビーム描画データ作成方法
に係わるデータ処理系を示すブロツク図である。
CADシステム１から出力されたチツプパターン
データ２はMTフアイルやデイスクフアイル等の
データフアイルに格納される。データ変換処理シ
ステム３では、上記チツプパターンデータを入力
してデータ変換を行う。そして、チツプ全体の変
換データフアイル４はデイスク等の記憶装置に格
納される。このとき、チツプ領域全面にベタに展
開されたパターンは、第２図に示す如く一定幅で
機械的にフレーム分割される。ここで、第２図中
F1，〜，F7は第１乃至第７のフレームをそれぞ
れ示している。なお、前記CADシステム１では
チツプパターンデータを繰り返しにより作成す
る。メモリパターンのように同一形状のメモリセ
ルがチツプの大半を占めるパターンの設計では尚
更のことである。修正を行う場合でもメモリセル
１個を修正し、それを展開すると云う手法がとら
れる。
に係わるデータ処理系を示すブロツク図である。
CADシステム１から出力されたチツプパターン
データ２はMTフアイルやデイスクフアイル等の
データフアイルに格納される。データ変換処理シ
ステム３では、上記チツプパターンデータを入力
してデータ変換を行う。そして、チツプ全体の変
換データフアイル４はデイスク等の記憶装置に格
納される。このとき、チツプ領域全面にベタに展
開されたパターンは、第２図に示す如く一定幅で
機械的にフレーム分割される。ここで、第２図中
F1，〜，F7は第１乃至第７のフレームをそれぞ
れ示している。なお、前記CADシステム１では
チツプパターンデータを繰り返しにより作成す
る。メモリパターンのように同一形状のメモリセ
ルがチツプの大半を占めるパターンの設計では尚
更のことである。修正を行う場合でもメモリセル
１個を修正し、それを展開すると云う手法がとら
れる。
このような方法で作成したデータ（EBフオー
マツトデータ）は第３図に示す如くなる。すなわ
ち、前半に各フレームの格納アドレスを記録した
インデツクス部があり、そのあとにフレーム単位
でデータが格納されることになる。そしてこの場
合、各フレームにおけるデータがそれぞれ膨大な
ものとなり、前進した問題を招くのである。
マツトデータ）は第３図に示す如くなる。すなわ
ち、前半に各フレームの格納アドレスを記録した
インデツクス部があり、そのあとにフレーム単位
でデータが格納されることになる。そしてこの場
合、各フレームにおけるデータがそれぞれ膨大な
ものとなり、前進した問題を招くのである。
本発明の目的は、図形数の多いパターンデータ
でも短時間にデータ作成を行うことができ、かつ
変換データの量を大幅に低減し得る電子ビーム描
画データ作成方法を提供することにある。
でも短時間にデータ作成を行うことができ、かつ
変換データの量を大幅に低減し得る電子ビーム描
画データ作成方法を提供することにある。
本発明の骨子は、パターン設計段階では明確に
意識されていた繰り返しの考えを、フレーム分割
から変換データフアイル作成に至る処理に採り込
んだことにある。
意識されていた繰り返しの考えを、フレーム分割
から変換データフアイル作成に至る処理に採り込
んだことにある。
すなわち本発明は、メモリセル等の繰り返し要
素を複数個配列してなる反復性領域及び非反復性
領域からなるチツプパターンデータを基に電子ビ
ーム描画装置固有の電子ビーム描画データを作成
するに際し、まずチツプパターンを所定のｘ方向
幅でｙ方向に沿つてフレーム分割し、次いで分割
された各フレームにおける非反復性領域について
は該領域に相当するチツプパターンデータをデー
タ変換して非反復性EBフオーマツトデータを作
り、かつ反復性領域については該領域のフレーム
幅及び上記繰り返し要素のｙ方向幅で規定される
反復性部分に相当するチツプパターンデータをデ
ータ変換して反復性EBフオーマツトデータを作
り、しかるのち上記作成された非反復性EBフオ
ーマツトデータを記憶装置に格納し、かつ上記作
成された反復性EBフオーマツトデータを前記各
フレーム中での反復性部分のｙ方向繰り返し回数
と共に記憶装置に格納するようにした方法であ
る。
素を複数個配列してなる反復性領域及び非反復性
領域からなるチツプパターンデータを基に電子ビ
ーム描画装置固有の電子ビーム描画データを作成
するに際し、まずチツプパターンを所定のｘ方向
幅でｙ方向に沿つてフレーム分割し、次いで分割
された各フレームにおける非反復性領域について
は該領域に相当するチツプパターンデータをデー
タ変換して非反復性EBフオーマツトデータを作
り、かつ反復性領域については該領域のフレーム
幅及び上記繰り返し要素のｙ方向幅で規定される
反復性部分に相当するチツプパターンデータをデ
ータ変換して反復性EBフオーマツトデータを作
り、しかるのち上記作成された非反復性EBフオ
ーマツトデータを記憶装置に格納し、かつ上記作
成された反復性EBフオーマツトデータを前記各
フレーム中での反復性部分のｙ方向繰り返し回数
と共に記憶装置に格納するようにした方法であ
る。
本発明によれば、反復性部分を複数個含むフレ
ームについては、その非反復性領域と反復性部分
１個に相対するデータ変換を行うのみでEBフオ
ーマツトデータを作成することができる。このた
め、データ変換に要する時間を大幅に短くするこ
とができる。しかも、変換データ量が極めて少な
く（従来の数分の１〜数10分の１）なるので、今
後のLSIの進歩にも十分対応できる等の効果を奏
する。
ームについては、その非反復性領域と反復性部分
１個に相対するデータ変換を行うのみでEBフオ
ーマツトデータを作成することができる。このた
め、データ変換に要する時間を大幅に短くするこ
とができる。しかも、変換データ量が極めて少な
く（従来の数分の１〜数10分の１）なるので、今
後のLSIの進歩にも十分対応できる等の効果を奏
する。
第４図は本発明の一実施例方法に係わるデータ
作成処理系を示すブロツク図である。なお、第１
図と同一部分には同一符号を付して、その詳しい
説明は省略する。CADシステム１で設計したチ
ツプパターンデータ２ａ，２ｂは、その非反復性
領域と反復性領域の繰り返し要素とをそれぞれ別
のフアイル（図では分り易いようにMTを分けて
示しているが同一のMTであつてもよい）として
作成する。さらに、繰り返し要素の繰り返しがチ
ツプのどの位置から開始されるかを示すｘ、ｙ座
標（Xs、Ys）、ｘ、ｙ方向の配列数（ｎ、ｍ）
及び各々のピツチＰが付属情報としてデータフア
イルに付く。なお、付属情報の受渡しは設計者か
らのメモ形でもよい。データ変換処理システム３
では、これらの付属情報を基に第５図に示す如く
フレーム分割を行う。なお、第５図中F1，〜，
F7は第１乃至第７のフレームをそれぞれ示し、
１１はチツプパターン、１２は非反復性領域、１
３は反復性領域、１４はメモリセル等の繰り返し
要素、１５は反復性部分を示している。
作成処理系を示すブロツク図である。なお、第１
図と同一部分には同一符号を付して、その詳しい
説明は省略する。CADシステム１で設計したチ
ツプパターンデータ２ａ，２ｂは、その非反復性
領域と反復性領域の繰り返し要素とをそれぞれ別
のフアイル（図では分り易いようにMTを分けて
示しているが同一のMTであつてもよい）として
作成する。さらに、繰り返し要素の繰り返しがチ
ツプのどの位置から開始されるかを示すｘ、ｙ座
標（Xs、Ys）、ｘ、ｙ方向の配列数（ｎ、ｍ）
及び各々のピツチＰが付属情報としてデータフア
イルに付く。なお、付属情報の受渡しは設計者か
らのメモ形でもよい。データ変換処理システム３
では、これらの付属情報を基に第５図に示す如く
フレーム分割を行う。なお、第５図中F1，〜，
F7は第１乃至第７のフレームをそれぞれ示し、
１１はチツプパターン、１２は非反復性領域、１
３は反復性領域、１４はメモリセル等の繰り返し
要素、１５は反復性部分を示している。
フレーム分割に際しては、繰り返し要素１４が
ある領域、つまり反復性領域１３が存在するとこ
ろでは、フレームの分割線が繰り返しの開始点を
通るように決める。また、フレームの分割幅は繰
り返し要素１４のｘ方向ピツチのｋ倍（ｋ：整
数）に決める。使用する電子ビーム描画装置で規
定されるフレームの最大許容幅をＷ、繰り返し要
素１４のｘ方向ピツチをＰとするときｋ（≦ｎ：
ｘ方向繰返し回数）は ｋ＝Inte（ｗ／ｐ） で与えられる。ただし、Inteは整数部分を表わ
す。このときのフレーム幅ωは ω＝kP である。反復性領域１３をωのフレーム幅で分割
したとき ｌ＝（ｎ／ｋ）−Inte（ｎ／ｋ）≠０ の場合、最終フレーム、すなわち第Inte（ｎ／ｋ）
＋１フレームのフレーム幅ω′は ω′＝｛ｎ−ｋ＊Inte（ｎ／ｋ）｝Ｐ と設定する。ｌ＝０の場合（第５図の場合）、反
復性領域１３の全てのフレーム幅は等しくなる。
また、全体のフレーム分割はチツプ原点（図の左
下点）から繰り返し開始点まで（０〜Xs）、反復
性領域（Xs〜Xs+op）、反復性領域以降（Xs+op〜）
の３つに分けて行う。
ある領域、つまり反復性領域１３が存在するとこ
ろでは、フレームの分割線が繰り返しの開始点を
通るように決める。また、フレームの分割幅は繰
り返し要素１４のｘ方向ピツチのｋ倍（ｋ：整
数）に決める。使用する電子ビーム描画装置で規
定されるフレームの最大許容幅をＷ、繰り返し要
素１４のｘ方向ピツチをＰとするときｋ（≦ｎ：
ｘ方向繰返し回数）は ｋ＝Inte（ｗ／ｐ） で与えられる。ただし、Inteは整数部分を表わ
す。このときのフレーム幅ωは ω＝kP である。反復性領域１３をωのフレーム幅で分割
したとき ｌ＝（ｎ／ｋ）−Inte（ｎ／ｋ）≠０ の場合、最終フレーム、すなわち第Inte（ｎ／ｋ）
＋１フレームのフレーム幅ω′は ω′＝｛ｎ−ｋ＊Inte（ｎ／ｋ）｝Ｐ と設定する。ｌ＝０の場合（第５図の場合）、反
復性領域１３の全てのフレーム幅は等しくなる。
また、全体のフレーム分割はチツプ原点（図の左
下点）から繰り返し開始点まで（０〜Xs）、反復
性領域（Xs〜Xs+op）、反復性領域以降（Xs+op〜）
の３つに分けて行う。
フレーム分割後、非反復性領域（図の〜
）のデータ変換を行い、これを変換データフア
イルに格納する。また、反復性領域の反復性部分
（図の）は繰り返し要素１４として入力したフ
アイルから、これをｋ個（図では２個）ｘ方向に
並べたものを作つてデータ変換を行い、これを変
換データフアイルに格納する。この際、各フレー
ムの何番目の格納データがｙ方向に何個並ぶかを
示す精報もレイアウトテーブルに記録する。
）のデータ変換を行い、これを変換データフア
イルに格納する。また、反復性領域の反復性部分
（図の）は繰り返し要素１４として入力したフ
アイルから、これをｋ個（図では２個）ｘ方向に
並べたものを作つてデータ変換を行い、これを変
換データフアイルに格納する。この際、各フレー
ムの何番目の格納データがｙ方向に何個並ぶかを
示す精報もレイアウトテーブルに記録する。
作成データは第６図ｂに示す如く、番号づけら
れた変換データと各データの格納番地テーブルと
からなる。格納番地テーブルはデータアクセスの
際のインデツクスとして使われる。また、レイア
ウトテーブルは第６図ａに示す如く、フレーム毎
のレイアウト情報の格納番地テーブルとレイアウ
ト情報とから構成される。ここで、レイアウト情
報は各フレームのフレーム幅、フレームを構成す
るデータ番号及びそのｙ方向反復回数からなるも
のである。
れた変換データと各データの格納番地テーブルと
からなる。格納番地テーブルはデータアクセスの
際のインデツクスとして使われる。また、レイア
ウトテーブルは第６図ａに示す如く、フレーム毎
のレイアウト情報の格納番地テーブルとレイアウ
ト情報とから構成される。ここで、レイアウト情
報は各フレームのフレーム幅、フレームを構成す
るデータ番号及びそのｙ方向反復回数からなるも
のである。
次に、このようにして作成されたデータのアク
セス方法を述べる。レイアウトテーブル、作成デ
ータの先頭番地をそれぞれAL、ADとする。また、
レイアウトテーブルのフレーム格納番地、フレー
ム幅の各情報の長さをそれぞれv1、v2とし、作成
データの格納番地の情報の長さをv3とする。い
ま、Cont(A)をＡ番地から格納されているデータ
の内容であると定義すると、第ｉフレームのフレ
ーム幅を取り出すには Cont（AL＋（ｉ−１）v1） をアクセスすればよい。第ｉフレームの構成デー
タ番号を取り出すには Cont（AL＋（ｉ−１）v1＋v2） をアクセスすればよい。またｑ＊Cont(A)をＡ番
地に格納されているデータの内容をｑ回参照する
ことであると定義し、レイアウトテーブルのデー
タ番号の情報の長さをv4、反復回数の情報の長さ
をv5とすると、第ｉフレームを描画する場合 AL＋（ｉ−１）v1＋v2＋v4） ＊Cont（｛Cont（AL＋（ｉ−１）v1＋v2）−
１｝v3＋AD） ＋Cont（AL＋（ｉ−１）v1＋v2＋（v4＋v5）
＋v4） ＊Cont（｛Cont（AL＋（ｉ−１）v1＋（v4＋
v5）＋v2）−１｝v3＋AD） … … ＋Cont（AL＋（ｉ−１）v1＋v2＋（v4＋v5）
（ｖ−１）＋v4） ＊Cont（｛Cont（AL＋（ｉ−１）v1＋（v4＋
v5）（ｖ−１）＋v2）−１｝v3＋AD） のデータを電子ビーム描画装置に転送すればよ
い。例えば、第５図の第３フレームを描画する場
合 １＊Cont（B4）＋11＊Cont（B13）＋１＊Con
t（B5） で表わされるデータの転送を行えばよい。なお、
上式において＋で表わされる加算はフレームの構
成データ番号が尽きたことを示すターミネータが
現れる迄行う。
セス方法を述べる。レイアウトテーブル、作成デ
ータの先頭番地をそれぞれAL、ADとする。また、
レイアウトテーブルのフレーム格納番地、フレー
ム幅の各情報の長さをそれぞれv1、v2とし、作成
データの格納番地の情報の長さをv3とする。い
ま、Cont(A)をＡ番地から格納されているデータ
の内容であると定義すると、第ｉフレームのフレ
ーム幅を取り出すには Cont（AL＋（ｉ−１）v1） をアクセスすればよい。第ｉフレームの構成デー
タ番号を取り出すには Cont（AL＋（ｉ−１）v1＋v2） をアクセスすればよい。またｑ＊Cont(A)をＡ番
地に格納されているデータの内容をｑ回参照する
ことであると定義し、レイアウトテーブルのデー
タ番号の情報の長さをv4、反復回数の情報の長さ
をv5とすると、第ｉフレームを描画する場合 AL＋（ｉ−１）v1＋v2＋v4） ＊Cont（｛Cont（AL＋（ｉ−１）v1＋v2）−
１｝v3＋AD） ＋Cont（AL＋（ｉ−１）v1＋v2＋（v4＋v5）
＋v4） ＊Cont（｛Cont（AL＋（ｉ−１）v1＋（v4＋
v5）＋v2）−１｝v3＋AD） … … ＋Cont（AL＋（ｉ−１）v1＋v2＋（v4＋v5）
（ｖ−１）＋v4） ＊Cont（｛Cont（AL＋（ｉ−１）v1＋（v4＋
v5）（ｖ−１）＋v2）−１｝v3＋AD） のデータを電子ビーム描画装置に転送すればよ
い。例えば、第５図の第３フレームを描画する場
合 １＊Cont（B4）＋11＊Cont（B13）＋１＊Con
t（B5） で表わされるデータの転送を行えばよい。なお、
上式において＋で表わされる加算はフレームの構
成データ番号が尽きたことを示すターミネータが
現れる迄行う。
かくして本実施例によれば、電子ビーム描画デ
ータの作成が短時間で行えるようになり、しかも
変換データの量を大幅に圧縮できることになる。
例えば第５図に示す第２フレームに着目すると、
データ変換を要するのは該フレームの非反復性領
域（の部分）と前記繰り返し要素１４を２個
並べた反復性部分（の部分）とになり、反復性
部分の10個分のデータ変換が不要となる。さらに
変換データの量も上記に相当する量のみと
なり、反復性部分の10個分に相当する量だけ変換
データが少なくて済む。これは、第３乃至第６フ
レームについても同様に云えることであり、本実
施例方法による効果は絶大なものである。
ータの作成が短時間で行えるようになり、しかも
変換データの量を大幅に圧縮できることになる。
例えば第５図に示す第２フレームに着目すると、
データ変換を要するのは該フレームの非反復性領
域（の部分）と前記繰り返し要素１４を２個
並べた反復性部分（の部分）とになり、反復性
部分の10個分のデータ変換が不要となる。さらに
変換データの量も上記に相当する量のみと
なり、反復性部分の10個分に相当する量だけ変換
データが少なくて済む。これは、第３乃至第６フ
レームについても同様に云えることであり、本実
施例方法による効果は絶大なものである。
なお、本発明は上述した各実施例に限定される
ものではない。例えば、前記反復性領域がチツプ
の複数個所に分かれているような場合（多くのメ
モリパターンは２乃至４個所に分かれている）で
も、フレーム分割を各々の反復性領域で繰り返し
要素の繰り返し開始点を基準に行うと云う原則を
守れば、最初に説明した実施例と同様に処理する
ことが可能である。また、描画実行時にデータの
転送を制御してフレームデータを再構成する代り
に、描画実行前に全フレームのデータを予め記憶
装置に再構成しておくか、或いはフレーム描画実
行前に１フレームのデータを記憶装置に再構成し
ておくことも可能である。その他、本発明の要旨
を逸脱しない範囲で、種々変形して実施すること
ができる。
ものではない。例えば、前記反復性領域がチツプ
の複数個所に分かれているような場合（多くのメ
モリパターンは２乃至４個所に分かれている）で
も、フレーム分割を各々の反復性領域で繰り返し
要素の繰り返し開始点を基準に行うと云う原則を
守れば、最初に説明した実施例と同様に処理する
ことが可能である。また、描画実行時にデータの
転送を制御してフレームデータを再構成する代り
に、描画実行前に全フレームのデータを予め記憶
装置に再構成しておくか、或いはフレーム描画実
行前に１フレームのデータを記憶装置に再構成し
ておくことも可能である。その他、本発明の要旨
を逸脱しない範囲で、種々変形して実施すること
ができる。
第１図乃至第３図はそれぞれ従来の電子ビーム
描画データ作成方法を説明するためのもので第１
図はデータ作成処理系を示すブロツク図、第２図
はフレーム分割状態を示す模式図、第３図は作成
データを示す模式図、第４図乃至第６図ａ，ｂは
本発明の一実施例方法を説明するためのもので第
４図はデータ作成処理系を示すブロツク図、第５
図はフレーム分割状態を示す模式図、第６図ａは
レイアウトテーブルを示す模式図、第６図ｂは作
成データを示す模式図、である。 １……CADシステム、２，２ａ，２ｂ……チ
ツプパターンデータ、３……データ変換処理シス
テム、４，４ａ，４ｂ……変換データフアイル、
１１……チツプパターン、１２……非反復性領
域、１３……反復性領域、１４……繰り返し要
素、１５，１５ａ，〜，１５ｄ……反復性部分。
描画データ作成方法を説明するためのもので第１
図はデータ作成処理系を示すブロツク図、第２図
はフレーム分割状態を示す模式図、第３図は作成
データを示す模式図、第４図乃至第６図ａ，ｂは
本発明の一実施例方法を説明するためのもので第
４図はデータ作成処理系を示すブロツク図、第５
図はフレーム分割状態を示す模式図、第６図ａは
レイアウトテーブルを示す模式図、第６図ｂは作
成データを示す模式図、である。 １……CADシステム、２，２ａ，２ｂ……チ
ツプパターンデータ、３……データ変換処理シス
テム、４，４ａ，４ｂ……変換データフアイル、
１１……チツプパターン、１２……非反復性領
域、１３……反復性領域、１４……繰り返し要
素、１５，１５ａ，〜，１５ｄ……反復性部分。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 繰り返し要素を複数個配列してなる反復性領
域及び非反復性領域からなるチツプパターンデー
タを基に電子ビーム描画データを作成する方法に
おいて、 チツプパターンを所定のｘ方向幅でｙ方向に沿
つてフレーム分割し、且つ前記反復性領域におけ
るフレーム分割を該領域のｘ方向開始点を基準に
行い、電子ビーム描画装置で規定されるフレーム
の最大許容幅をＷ、前記繰り返し要素のｘ方向ピ
ツチをｐ、ｘ方向繰り返し回数をｎとした場合 ｋ＝Inte（ｗ／ｐ） （Inte：整数部分を表わす） なるｋ（≦ｎ）を用い、フレーム幅ω（最終フレー
ムを除く）を ω＝kp と設定し、前記反復性領域を上記フレーム幅ωで
分割したとき ｌ＝（ｎ／ｋ）−Inte（ｎ／ｋ）≠０ となるときは最終フレームの幅ω′を k′＝ｎ−ｋ＊Inte（ｎ／ｋ） なるk′を用い ω′＝k′p と設定し、またｌ＝０なるときは全てのフレーム
幅をkpと設定し、 上記分割された各フレームにおける非反復性領
域については該領域に相当するチツプパターンデ
ータをデータ変換して非反復性EBフオーマツト
データを作成し、かつ反復性領域については前記
繰り返し要素をｘ方向にｋ個（最終フレームでは
k′個）、ｙ方向に１個並べてなる反復性部分に相
当するチツプパターンデータのデータ変換のみを
行つて反復性EBフオーマツトデータを作成し、 次いで上記作成された非反復性EBフオーマツ
トデータを記憶装置に格納し、かつ上記作成され
た反復性EBフオーマツトデータを前記各フレー
ム中での反復性部分の繰り返し回数と共に記憶装
置に格納することを特徴とする電子ビーム描画デ
ータ作成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16800182A JPS5957427A (ja) | 1982-09-27 | 1982-09-27 | 電子ビ−ム描画デ−タ作成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16800182A JPS5957427A (ja) | 1982-09-27 | 1982-09-27 | 電子ビ−ム描画デ−タ作成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5957427A JPS5957427A (ja) | 1984-04-03 |
| JPH056338B2 true JPH056338B2 (ja) | 1993-01-26 |
Family
ID=15859957
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16800182A Granted JPS5957427A (ja) | 1982-09-27 | 1982-09-27 | 電子ビ−ム描画デ−タ作成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5957427A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS614228A (ja) * | 1984-06-18 | 1986-01-10 | Toshiba Corp | 荷電ビ−ム描画方法 |
| JPS62156816A (ja) * | 1985-12-28 | 1987-07-11 | Toshiba Corp | パタ−ン描画方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5483773A (en) * | 1977-12-16 | 1979-07-04 | Fujitsu Ltd | Electron-beam exposure unit |
| JPS5734334A (en) * | 1980-08-08 | 1982-02-24 | Toshiba Corp | Pattern forming |
-
1982
- 1982-09-27 JP JP16800182A patent/JPS5957427A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5483773A (en) * | 1977-12-16 | 1979-07-04 | Fujitsu Ltd | Electron-beam exposure unit |
| JPS5734334A (en) * | 1980-08-08 | 1982-02-24 | Toshiba Corp | Pattern forming |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5957427A (ja) | 1984-04-03 |
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