JPH04225216A - 露光データ伝送方法 - Google Patents

露光データ伝送方法

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Publication number
JPH04225216A
JPH04225216A JP2406922A JP40692290A JPH04225216A JP H04225216 A JPH04225216 A JP H04225216A JP 2406922 A JP2406922 A JP 2406922A JP 40692290 A JP40692290 A JP 40692290A JP H04225216 A JPH04225216 A JP H04225216A
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JP
Japan
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data
pattern
exposure
group
layer
Prior art date
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Pending
Application number
JP2406922A
Other languages
English (en)
Inventor
Masaaki Miyajima
正明 宮島
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Fujitsu VLSI Ltd
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu VLSI Ltd
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Priority to JP2406922A priority Critical patent/JPH04225216A/ja
Publication of JPH04225216A publication Critical patent/JPH04225216A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は露光装置での露光対象物
を露光する際に使用される露光データの伝送方法に関す
るものである。近年のLSI技術の高密度化に伴い露光
データは膨大なものとなり、メモリ品種においては一般
に約4倍単位での高集積化が行われており、パターン数
の増加が著しい。このため、膨大な露光データ量に対し
その保持の困難化、露光データ伝送時間の増大化、露光
装置内におけるバッファメモリの増大化等の問題が発生
している。よって、この問題を解決するために露光デー
タの圧縮が必要となる。
【0002】
【従来の技術】従来、露光装置で使用される露光データ
の膨大化に伴って、露光データの圧縮化が種々提案され
ている。例えば、複数のパターンよりなりなるパターン
群の露光パターンデータと、そのパターン群の配置デー
タで構成されたパターンデータとを別々に用意し、当該
露光パターンデータを繰り返し配置することによって、
同じパターン群については1つの露光パターンデータを
指定することにより圧縮を行っていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
技術では繰り返すパターン群の大きさを決定する際、少
数のパターンの集まりをパターン群にすると、配置デー
タが逆に多くなったり、露光装置内部でのパターンデー
タへのアクセス回数が多くなり、露光時間に影響を及ぼ
しかねない。又、多数のパターンの集まりをパターン群
にすると、それ自体が持つパターンデータが大きくなっ
たり、繰り返しが少なくなるため、データ圧縮の効果が
現れない場合もでてくる。
【0004】又、露光データの膨大化に伴って、露光デ
ータ伝送装置のディスクメモリの容量も増大させなけれ
ばならなかった。本発明は上記問題点を解決するために
なされたものであって、繰り返し配置されるパターン群
のパターンデータ量はそのままとし、配置データ量を抑
えることにより露光データの圧縮を行い、露光データの
伝送時間の短縮化を図ることができるとともに、露光設
備の大型化を抑制することができることを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するために、まず、1つ以上のパターンよりなりかつ繰
り返し配置される種々のパターン群をそれぞれ第1階層
パターンとしてそれらのパターンデータを予め第1の記
憶手段に記憶する。第1の記憶手段に記憶された各第1
階層パターンのうち、同一の第1階層パターンを2つ以
上繰り返し配置して構成される各パターン群又は2種以
上の第1階層パターンを配置して構成される各パターン
群を第2階層パターンとするとともに、各第2階層パタ
ーンのパターンデータを第1階層パターンの配置データ
とし、同一の第2階層パターンを2つ以上繰り返し配置
して構成される各パターン群又は2種以上の第2階層パ
ターンを配置して構成される各パターン群を第3階層パ
ターンとするとともに、各第3階層パターンのパターン
データを第1又は第2階層パターンの配置データとし、
以下前記と同様にして当該階層パターンを複数配置して
順次上位階層パターンとするとともに、各上位階層パタ
ーンのパターンデータを下位階層パターンの配置データ
とすることにより全ての露光データを階層化するととも
に、上位階層パターンのパターンデータから順次検索で
きるように第2の記憶手段に記憶する。
【0006】そして、露光装置に露光データを伝送する
に際し、第2の記憶手段より上位階層パターンのパター
ンデータを読出すとともに順次その下位階層パターンの
パターンデータを読み出し、第2階層パターンのパター
ンデータが読出された時、第1の記憶手段から当該第2
階層パターンに対応するパターンデータを読出し、その
パターンデータと当該パターンデータを指示する各階層
パターンのパターンデータを展開して求められる配置デ
ータとを合成して露光出力データとして出力するように
した。
【0007】
【作用】本発明では、第1の記憶手段に対して1つ以上
のパターンよりなりかつ繰り返し配置される種々のパタ
ーン群がそれぞれ第1階層パターンとしてそれらのパタ
ーンデータが記憶され、第2の記憶手段には配置データ
で定義された各階層における種々の階層パターンのパタ
ーンデータが記憶されている。従って、例えば同一の第
3階層パターンが繰り返し配置されている場合には、そ
の第3階層パターンを構成する各第2階層パターンの配
置データは共通となるため、配置データ量は各第2階層
パターンの配置データ個数とその第3階層パターンの配
置個数との和となって配置データ量が低減され、露光デ
ータは圧縮される。これにより、第2の記憶手段のアク
セス回数が低減され、データ伝送時間が短縮される。
【0008】又、第1の記憶手段に記憶される各第1階
層パターンは1つの共通パターンデータであるため、第
1及び第2の記憶手段を併せても全体としての記憶容量
が小さくなる。又、同一の第1階層パターンについては
1つの共通パターンデータが使用されるため、露光デー
タとしての信頼性が向上する。
【0009】
【実施例】以下、本発明を具体化した一実施例を図1〜
図7に従って説明する。図1は本発明の一実施例におけ
る露光データ伝送装置を示す構成図、図2は露光パター
ンをLSIチップに展開配置した状態を示す図、図3(
a)〜(d)はそれぞれ各階層におけるデータ内容を示
す図、図4は露光データの階層構造を示す図、図5は露
光データファイルのデータフォーマットを示す図、図6
,図7は露光データ伝送処理の一部を示すフローチャー
トである。
【0010】第1図に示す露光データ伝送装置10は露
光装置の一部を構成し、露光データ作成装置(図示略)
にて作成された露光データを編集して記憶し、各パター
ン毎にその露光データを電子ビーム描画装置等の露光部
(図示略)に伝送する。即ち、露光データ伝送装置10
は、データ編集制御部1、第1の記憶手段としてのグル
ープ用ファイル2、第2の記憶手段としての露光データ
ファイル3、展開配置データ抽出部4、グループパター
ン抽出部5、及びパターンデータ展開部6等を備えて構
成されている。
【0011】データ編集制御部1は、前記露光データ作
成装置にて作成された露光データのうち、1つ以上のパ
ターンよりなりかつ繰り返し配置される種々のパターン
群をそれぞれ第1階層パターンとしてのグループとする
。又、同一グループを2つ以上繰り返し配置して構成さ
れる各パターン群又は2種以上の第1階層パターンを配
置して構成される各パターン群を第2階層パターンとし
てのスケジュールとするとともに、各スケジュールのパ
ターンデータを各グループの配置データとする。更に、
繰り返し配置されたスケジュールを最上階層パターンと
してのトップとするとともに、トップのパターンデータ
を各スケジュールの配置データとして全ての露光データ
を階層化する。
【0012】即ち、例えば図2に示すように展開配置後
のLSIチップ11において、繰り返し配置される1つ
のパターン12を図3(a)に示すようにグループG1
とするとともに、逆L字状に配置された12個のパター
ン13よりなるパターン群を図3(b)に示すようにグ
ループG2とする。又、繰り返し配置された9個のグル
ープG1とグループG2とからなるパターン群を図3(
c)に示すようにスケジュールSC1とし、そのパター
ンデータを各グループG1の頂点A1〜A9及びグルー
プG2の頂点Bの配置データとする。更に、繰り返し配
置された6個のスケジュールSC1からなるパターン群
を図3(d)に示すようにトップTOPとし、そのパタ
ーンデータを各スケジュールSC1の頂点C1〜C6の
配置データとすることにより、全ての露光データを第4
図に示すように階層化する。尚、頂点A,B,Cの配置
データはxy座標(xi,yi)で表示される。
【0013】そして、データ編集制御部1は階層化した
露光データのうち、トップTOPに含まれる各スケジュ
ールの配置データに続いて、スケジュールの種類毎にそ
のスケジュールに含まれる各グループの配置データを順
次検索できるように露光データファイル3の上部記憶領
域3aに記憶させるとともに、各グループのグループ番
号及びパターンデータを下部記憶領域3bに記憶させる
。又、データ編集制御部1は下部記憶領域3bに記憶さ
せた各グループのグループ番号及びパターンデータをグ
ループ用ファイル2に転送して記憶させる。
【0014】即ち、図5は図2に示したLSIチップ1
1の露光パターンを露光データファイル3内に記憶させ
たときのデータフォーマットを示し、スケジュール配置
開始フラグに続いてスケジュール番号SC1の6つの配
置データが記憶され、グループ配置開始フラグに続いて
グループ番号G1の9つの配置データとグループ番号G
2の1つの配置データとが記憶されている。更にグルー
プパターンデータ開始フラグに続いてグループ番号G1
,G2のグループパターンデータが記憶されており、グ
ループ番号G1,G2のグループパターンデータはグル
ープ用ファイル2に複写される。
【0015】展開配置データ抽出部4は露光データファ
イル3の上部記憶領域3aの配置順に1つのスケジュー
ル配置データを読出すとともに、そのスケジュール配置
データに続くグループ配置データを順次読出し、スケジ
ュール配置データとグループ配置データとに基づいて展
開すべきグループを求めるとともに、展開すべきグルー
プを指示する各階層における配置データを保持する。そ
して、展開配置データ抽出部4は展開すべきグループ番
号情報をグループパターン抽出部5に出力するとともに
、各階層における配置データをパターンデータ展開部6
に出力する。そして、展開配置データ抽出部4は上部記
憶領域3aに未処理のスケジュール配置データがなくな
るまで前記と同様の処理を繰り返し実行する。
【0016】パターンデータ抽出部5は展開配置データ
抽出部4から入力されたグループ番号情報に基づいてグ
ループ用ファイル2から必要対象とするグループパター
ンデータを読出してパターンデータ展開部6に出力する
。パターンデータ展開部6は展開配置データ抽出部4か
ら入力された各階層における配置データに基づいてその
グループの展開時におけるパターン座標を求めるととも
に、グループパターンデータ抽出部5から入力されたグ
ループパターンデータを合成して露光出力データとして
露光部に出力する。
【0017】このように、本実施例では膨大な露光デー
タを階層化し、トップTOPに含まれる各スケジュール
SC1の配置データを露光データファイル3の上部記憶
領域3aに記憶させるとともに、これらに続いて各スケ
ジュールSC1を構成する各グループG1,G2の配置
データを共通化して上部記憶領域3aに記憶させるよう
にしたので、配置データ量は各グループG1,G2の配
置データ個数とスケジュールSC1の配置個数との和と
なって配置データ量を軽減でき、露光データを圧縮する
ことができる。これにより、露光データファイル3のア
クセス回数を低減でき、データ伝送時間を短縮すること
ができる。従って、スケジュール配置データを増やすこ
とによって更に配置データ量を軽減させることができる
【0018】又、本実施例ではグループ用ファイル2を
設けて各グループG1,G2のパターンデータを記憶さ
せるようにしているので、繰り返し配置されるパターン
に対しては同一グループG1のパターンデータを使用で
きるので、露光データとしての信頼性を向上することが
できる。尚、本実施例では露光データをグループ、スケ
ジュール及びトップの3つに階層化したが、4つ以上に
階層化してもよい。
【0019】又、本実施例では露光データファイル3の
下部記憶領域3bにグループ番号G1,G2のグループ
パターンデータを一旦記憶させてからグループ用ファイ
ル2に複写させるようにしたが、露光データファイル3
にスケジュール配置データ及びグループ配置データを記
憶させる時に、グループ番号G1,G2のグループパタ
ーンデータは直接グループ用ファイル2に記憶させるこ
とにより、転送の時間をなくすようにしてもよい。
【0020】又、使用頻度が高いグループのパターンデ
ータをグループ用ファイル2の先頭に記憶させることに
より、アクセス作業を単純化するようにしてもよい。更
に、使用頻度が高いグループのパターンデータのデータ
量が小さい場合、第1の記憶手段としての半導体メモリ
を設けてこのデータ量の小さいパターンデータを記憶さ
せることにより、より一層の高速化を図るようにしても
よい。
【0021】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば入
力露光データの圧縮ができ、露光データの少量化と第2
の記憶手段へのアクセス回数の軽減化を図ることができ
、露光設備の大型化を抑制できるとともに、露光データ
伝送処理時間の短縮化を図ることができる優れた効果が
ある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例における露光データ伝送装置
を示す構成図である。
【図2】露光パターンをLSIチップに展開配置した状
態を示す図である。
【図3】(a)〜(d)はそれぞれ各階層におけるデー
タ内容を示す図であり、(a)はグループG1のデータ
内容を示す図、(b)はグループG2のデータ内容を示
す図、(c)はスケジュールSC1のデータ内容を示す
図、(d)はトップのデータ内容を示す図である。
【図4】露光データの階層構造を示す図である。
【図5】露光データファイルのデータフォーマットを示
す図である。
【図6】露光データ伝送処理の一部を示すフローチャー
トである。
【図7】露光データ伝送処理の一部を示すフローチャー
トである。
【符号の説明】
1  データ編集制御部 2  第1の記憶手段としてのグループ用ファイル3 
 第2の記憶手段としての露光データファイル4  展
開配置データ抽出部 5  グループパターン抽出部 6  パターンデータ展開部

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  露光対象物を露光する際に露光装置に
    伝送される露光データにおいて、1つ以上のパターンよ
    りなりかつ繰り返し配置される種々のパターン群をそれ
    ぞれ第1階層パターンとしてそれらのパターンデータを
    予め第1の記憶手段に記憶し、第1の記憶手段に記憶さ
    れた各第1階層パターンのうち、同一の第1階層パター
    ンを2つ以上繰り返し配置して構成される各パターン群
    又は2種以上の第1階層パターンを配置して構成される
    各パターン群を第2階層パターンとするとともに、各第
    2階層パターンのパターンデータを第1階層パターンの
    配置データとし、同一の第2階層パターンを2つ以上繰
    り返し配置して構成される各パターン群又は2種以上の
    第2階層パターンを配置して構成される各パターン群を
    第3階層パターンとするとともに、各第3階層パターン
    のパターンデータを第1又は第2階層パターンの配置デ
    ータとし、以下前記と同様にして当該階層パターンを複
    数配置して順次上位階層パターンとするとともに、各上
    位階層パターンのパターンデータを下位階層パターンの
    配置データとすることにより全ての露光データを階層化
    するとともに、上位階層パターンのパターンデータから
    順次検索できるように第2の記憶手段に記憶し、露光装
    置に露光データを伝送するに際し、第2の記憶手段より
    上位階層パターンのパターンデータを読出すとともに順
    次その下位階層パターンのパターンデータを読み出し、
    第2階層パターンのパターンデータが読出された時、第
    1の記憶手段から当該第2階層パターンに対応するパタ
    ーンデータを読出し、そのパターンデータと当該パター
    ンデータを指示する各階層パターンのパターンデータを
    展開して求められる配置データとを合成して露光出力デ
    ータとして出力するようにしたことを特徴とする露光デ
    ータ伝送方法。
JP2406922A 1990-12-26 1990-12-26 露光データ伝送方法 Pending JPH04225216A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005521071A (ja) * 2001-07-13 2005-07-14 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド 階層データのキャッシュされたセルを用いるパターン生成方法及び装置
DE19848861B4 (de) * 1998-02-25 2007-05-10 Fujitsu Ltd., Kawasaki Herstellungsprozeß einer Halbleitervorrichtung durch Elektronenstrahllithographie

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19848861B4 (de) * 1998-02-25 2007-05-10 Fujitsu Ltd., Kawasaki Herstellungsprozeß einer Halbleitervorrichtung durch Elektronenstrahllithographie
JP2005521071A (ja) * 2001-07-13 2005-07-14 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド 階層データのキャッシュされたセルを用いるパターン生成方法及び装置

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Effective date: 20000926