JP2005521071A - 階層データのキャッシュされたセルを用いるパターン生成方法及び装置 - Google Patents
階層データのキャッシュされたセルを用いるパターン生成方法及び装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005521071A JP2005521071A JP2003515918A JP2003515918A JP2005521071A JP 2005521071 A JP2005521071 A JP 2005521071A JP 2003515918 A JP2003515918 A JP 2003515918A JP 2003515918 A JP2003515918 A JP 2003515918A JP 2005521071 A JP2005521071 A JP 2005521071A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- image data
- cell
- cells
- data
- hierarchical
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/302—Controlling tubes by external information, e.g. programme control
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70383—Direct write, i.e. pattern is written directly without the use of a mask by one or multiple beams
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/302—Controlling tubes by external information, e.g. programme control
- H01J37/3023—Programme control
- H01J37/3026—Patterning strategy
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/30—Electron or ion beam tubes for processing objects
- H01J2237/317—Processing objects on a microscale
- H01J2237/3175—Lithography
Abstract
Description
本発明は、少なくとも一つのビーム(例えば、少なくとも一つのレーザビームまたは少なくとも一つの電子ビーム)がターゲット上にパターンを生成するために制御されるパターンの生成方法及び装置に関する。代表的な実施例において、本発明は、階層的イメージデータのセットの少なくとも一つのセルがキャッシュされ、その後、ビームがパターン化されたマスクを生成するのに適したビーム制御データ(ピクセルまたはベクトル形式を有する)へのイメージデータの変換中に、抽出されるマイクロリソグラフィ方法及び装置である。
パターン生成装置は、例えば、集積回路を製造するために使用されるマスクの製造のようなマイクロリソグラフィへの適用ばかりでなく、他の応用にも使用される。
本発明のパターン生成方法及びシステムの好適な実施例において、メモリを有するグラフィックエンジン(“GE”)は、メモリにストアされる少なくとも一つのセル(繰返されたフィーチャのセットを決める)に階層イメージデータのセット(ターゲット上にイメージ化されるべきパターンを決める)を受信し、ビーム制御データがそのイメージデータに応答して生成される。用語“フィーチャのセット”は、ここではパターンに生じるフィーチャまたはフィーチャのセットを示し、用語“繰返されるフィーチャのセット”は、パターンに繰り返し生じるフィーチャまたはフィーチャのセットを示すために用いられる。階層イメージデータは、残りのデータを含み、この残りのデータは、メモリにストアされた各セルに対する少なくとも2つのサブルーチン呼び出しコマンドを含み、また各サブルーチン呼び出しコマンドは、ターゲット上の位置及びメモリから抽出されるべきセルを示している。各サブルーチン呼び出しコマンドに応答して、GEはメモリからセルを抽出し、及びサブルーチン呼び出しコマンドによって識別される位置で(また位置で始まる)ターゲット上にイメージされるべきフィーチャのセット(セルによって決められる)を決めるビーム制御データをアサートする。サブルーチン呼び出しコマンドは、キャッシュされるべき少なくとも一つのセル(例えば、一次セルに、そして一次セルの場合にそれは二次セルを識別する)ばかりでなく残りのデータに含んでいる、GEへ転送されるイメージデータ全体に分布されることができる。
図1を参照して、本発明の好適な実施例を説明する。図1のシステムは、生の階層イメージデータのセットに応答して、ターゲット8上にパターンをイメージ化するプリントジョブを行うためにプログラムされ、構成されている。ターゲット8は、それがこのようなプリントジョブの結果としてパターン化された後に、集積回路を形成するために用いられるマスク(例えば、クロムがコーティングされたクォーツガラス片)である。図1のシステムは、ビーム装置6、及びイメージデータ生成装置2とグラフィックエンジン4を含むパターン生成装置を有する。ビーム装置6は、ターゲット8上にビーム(電子ビームまたはレーザビーム)を投射し、ターゲット上のスポットをイメージ化し、且つターゲット上に一連のピクセルをイメージ化するために、ターゲット8に対してラスター走査路に沿ってビームをスイープする。ターゲット8は移動可能なステージ(図示せず)上に取り付けられており、ステージ及びビームの双方の移動がターゲットの基準フレーム内のラスター走査路に沿ってビームをスイープさせるように制御される。
セルの境界のあるボックスの大きさ:CEX;
セルのインスタンティエーションの数(イメージデータの全セット内):CNI;
アレー化されたプリミティブス(primitives)を含むセルのローカルフィギュアの数(local figure count):CFC;
イメージデータがインスタンティエーションされるイメージデータの全セットの全サイズ(量)のセルの割合:CPO=(CNI)(CFC)/TGC;
イメージデータの全セットに対する残りの平面出力:RFO=[1−ΣCPO]TGC、ここで、Σは全体の解析されたセル;
セルの等価メモリ:CEM=a×CFC(ここで、aは定数、一つの実施例では、a=8);
その復号されたインスタンティエーションによるセルの出力(すなわち、キャッシュされたセルの全インスタンティエーションを実現するためにセルを(セルがGEにキャッシュされた後に)繰り返し呼び出す必要がある、最適化された階層イメージデータに含まれるべきデータ量):CIO=b×CNI(ここで、bは定数、一つの実施例では、b=12);
利用可能なGEのメモリ(すなわち、キャッシュするために利用可能なラスターエンジン4のメモリ10のその部分の大きさ):GEM;
ライブラリーの出力(すなわち、最適化された階層イメージデータの各キャッシュされたセルの全呼び出しを実現するために用いられる最適化された階層イメージデータの全セットのキャッシュされない“呼び出しデータ”部分の量。呼び出しデータは、キャッシュされたセルを参照する全てのサブルーチン呼び出しコマンドを含む。):LO=ΣCIO(全体の解析されたセルをまとめる);
キャッシュされるべき階層イメージデータのセルを含む最適化された階層イメージデータの全セットの投射された大きさ:PFS=LO+RFO;及び
GEに転送されるべき最適化されたイメージデータのセットの最大の大きさ(キャッシュされるべきそれらのセルを含まない):FSL(例えば、FSLは13ギガバイトである。)
2.前に解析されなかった最も高いCPOを有するセルでスタートする。もし、CEM≦GEMならば、ステップ3へ行き、もし、CEM>GEMならば、終了へ行く(すなわち、最適化されたイメージデータの(キャッシュされるべき)セルとして生のイメージデータの如何なるセルも含まない。)。
3.CEM≦GEMである各セルに対して、CIOを計算する。その後、もし、LO+CIO<FSLならば、ステップ5に行き、その他はステップ4へ進む。
4.CIOを減少するために、できるだけ現在のセルの多くのインスタンティエーションを含む新しいセルを作る。
5.セルのためのCEMがCEM≦GEMを満足することをチェックすることによって復号するライブラリーのためセルの大きさをチェックする(もし、ステップ5がステップ3に続くなら、古いセルの大きさ、またはステップ5がステップ4に続くなら、新しいセルの大きさ)、及び必要に応じて(すなわち、セルのためのCEMがGEMより大きいなら)、セルを多数のセルにする。
6.GEM(利用可能なGEメモリの量)、及びLO(ライブラリーの出力)を更新する。
7.最適化されたイメージデータの全セットの投射サイズ(“PES”)を計算し、もし、PFS>FSLならば、ステップ2へ行き、その他はステップ8へ進む。
8.終了。
生のイメージデータのための階層グラフを決め、前記階層グラフを有する階層イメージデータの仮のバージョンを決めるステップと、
階層イメージデータの仮のバージョンを変更して、生のイメージデータのデータ量に対する減少されたデータ量、及びグラフィックエンジンにおける生のイメージデータからビーム制御データの生成に必要な時間に対してグラフィックエンジンにおける最適化された階層イメージデータからビーム制御データの生成に必要な減少された時間の最適的な組み合わせを達成する階層イメージデータの最適化されたバージョンを決めるステップとを有する。
“大きさ”とは、セルがGEメモリ(もし、セルがそこにキャッシュされたなら)において占有するバイトの数である。
代わりに、FOMは、上記定義された“節約”の値のみであっても良い(先の例における“節約と大きさ”の比ではなく)。
Claims (34)
- 少なくとも一つのビームがターゲット上にパターンをイメージ化するためのビーム制御データを生成するパターン生成システムであって、
少なくとも3つの階層を有する階層イメージデータのセットを生成し、アサートするように構成されたデータ生成サブシステム、及び
メモリを有するグラフィックエンジン、
を備え、
前記階層イメージデータは、残りのデータ及びセルのセットを含み、前記セルの各々は、パターンのフィーチャセットを決め、残りのデータは少なくとも2つのサブルーチン呼び出しコマンドを含み、且つ前記サブルーチン呼び出しコマンドの各々は、セルのセットのセル及び前記セルによって決められたフィーチャセットがイメージ化されるべきターゲットの一部を識別し、
前記グラフィックエンジンは、前記階層イメージデータを受信し、前記階層イメージデータを受信すると前記セルのセットをストアし、且つ前記残りのデータ及びメモリの内容に応答して前記ビーム制御データを生成するように接続され、且つ構成されており、更に、前記グラフッィエンジンは、前記メモリからセルの1つを抽出し、及び前記サブルーチン呼び出しコマンドの少なくとも2つの各々によって識別されたターゲットの前記一部に前記セルの1つによって決められたフィーチャセットのイメージ化を制御する前記ビーム制御データの一部を生成することによって、前記サブルーチン呼び出しコマンドの少なくとも2つの各々に応答するように構成され、
前記セルのセットは、少なくとも1つの一次セルと少なくとも1つの二次セルを有し、前記サブルーチン呼び出しコマンドは、少なくとも2つの一次呼び出しコマンドと少なくとも2つの二次呼び出しコマンドを有し、前記一次セルは、前記少なくとも2つの二次呼び出しコマンドを有し、前記グラフィックエンジンは、前記メモリから前記一次セルを抽出し、前記一次呼び出しコマンドの少なくとも2つの各々によって識別される前記ターゲットの一部に前記一次セルによって決められるフィーチャセットのイメージ化を制御する前記ビーム制御データの一部を生成することによって、前記一次呼び出しコマンドの少なくとも2つの各々に応答するように構成され、且つ、グラフィックエンジンは、前記メモリから前記二次セルを抽出し、前記二次呼び出しコマンドの少なくとも2つの各々によって識別される前記ターゲットの一部に前記二次セルによって決められるフィーチャセットのイメージ化を制御する前記ビーム制御データの一部を生成することによって、前記二次呼び出しコマンドの少なくとも2つの各々に応答するように構成されることを特徴とするパターン生成システム。 - 前記ビーム制御データは、ピクセル形式であることを特徴とする請求項1に記載のパターン形成システム。
- また、前記グラフィックエンジンから前記ビーム制御データを受け取るために結合され、前記ビーム制御データに応答して前記ターゲット上にパターンをイメージ化するように構成されるビームシステムを有し、前記ビームシステムは、少なくとも1つのビームがターゲット上にパターンをイメージ化する構成のシーケンスにおいて動作することによってビーム制御データに応答するように構成されることを特徴とする請求項1に記載のパターン形成システム。
- 前記グラフィックエンジンは、ラスターエンジンであり、且つ前記ビームシステムは、前記ターゲットに対して少なくとも1つのビームのラスター走査を行なうことによって前記制御データに応答するように構成されていることを特徴とする請求項3に記載のパターン形成システム。
- 前記データ生成システムは、生の階層イメージデータのセットに応答して階層イメージデータのセットを生成するようにプログラムされたプロセッサを有し、
前記プロセッサは:
生のイメージデータのための階層グラフを決め、前記階層グラフを前記階層イメージデータの仮のバージョンの仮の階層グラフとして識別し、フィギュア・オブ・メリットにより前記仮の階層グラフのセルをソートし、且つ第1のセルのセットにおける各セルは、前記第1のセルのセットの各セルのフィギュア・オブ・メリットがスレッショルド値と所定の関係を有し、第2のセルのセットは前記第1のセルのセットにないセルの各々から成っていると言う基準を含む少なくとも1つの所定の基準を満足するように、前記仮の階層グラフのセルを第1のセルのセット及び第2のセルのセットにクラス分けするための;及び
前記階層イメージデータの前記階層グラフは、前記第1のセルのセットを含むが、前記第2のセルのセットを含まず、且つ前記階層イメージデータの残りのデータは置き換えの残りのデータを含むように、前記第2のセルのセット及び前記第2のセルのセットにおける各々のセルへの前記サブルーチン呼び出しを置き換えの残りのデータで置きかえることによって、生の階層イメージデータから前記階層イメージデータを決めるための、
ソフトウェアでプログラムされることを特徴とする請求項1に記載のパターン形成システム。 - 前記データ生成システムは、生の階層イメージデータのセットに応答して階層イメージデータのセットを生成するためにプログラムされたプロセッサを有し、
前記プロセッサは:
前記生のイメージデータのための階層グラフを決め、前記階層イメージデータの仮のバージョンの仮の階層グラフとして前記階層グラフを識別し、且つ前記生のイメージデータのセットの全大きさに対するそれらの個々の大きさによる仮の階層グラフのセルをソートし;
前記階層イメージデータの仮のバージョンの全大きさに対して大きさが最も大きい仮の階層グラフのセルの1つを識別し、そしてもし、前記セルの1つの大きさがキャッシュ可能な大きさを越えないならば、階層イメージデータのセルとしてセルの1つの含有によって前記階層イメージデータの残りの部分の大きさが所定の最大の大きさを越えるか否かを決め;
もし、前記階層イメージデータのセルとしてセルの1つの含有によって前記階層イメージデータの残りの部分の大きさが前記所定の最大の大きさを越えるならば、前記セルの一つの多数のインスタンティエーションを含み、且つキャッシュ可能な大きさを越えない大きさを有する新しいセルを識別し、前記セルの1つの多数のインスタンティエーションを前記新しいセルで置き換えることによって、前記階層グラフ及び前記階層イメージデータの前記仮のバージョンを更新し、それによって、前記階層イメージデータの更新された階層グラフ及び更新されたバージョンを決め、もし、更新された階層イメージデータの残りの部分の大きさが前記所定の最大の大きさを越えないならば、前記更新された階層イメージデータを前記階層イメージデータとして識別するためのソフトウェアでプログラムされることを特徴とする請求項1に記載のパターン形成システム。 - 少なくとも1つのビームがターゲット上にパターンをイメージ化するためのビーム制御データを生成するグラフィックエンジンであって、
少なくとも3−レベルの階層を有する階層イメージデータのセットを受信するために結合されたメモリと前記メモリに結合されたビーム制御データ生成器を備え、
前記階層イメージデータは、残りのデータとセルのセットを含み、前記セルの各々は、前記パターンのフィーチャセットを決め、前記残りのデータは、少なくとも2つのサブルーチン呼び出しコマンドを有し、且つ前記サブルーチン呼び出しコマンドの各々は、セルのセットのセル及びセルによって決められるフィーチャセットがイメージ化されるべきターゲットの一部を識別し、前記エンジンは、前記階層イメージデータを受信するとメモリにセルのセットをストアするように構成され;及び
前記ビーム制御データ生成器は、前記階層イメージデータの少なくとも残りのデータを受信するために結合され、前記残りのデータと前記メモリの内容に応答して前記ビーム制御データを生成するように構成され、且つ、前記ビーム制御データ生成器は、メモリから前記セルの1つを抽出し、前記サブルーチン呼び出しコマンドの少なくとも2つの各々によって識別された前記ターゲットの一部に前記セルの1つによって識別されたフィーチャセットのイメージ化を制御する前記ビーム制御データの一部を生成することによって、前記サブルーチン呼び出しコマンドの少なくとも2つの各々に応答するように構成されており、
前記セルのセットは、少なくとも1つの一次セルと少なくとも1つの二次セルを有し、前記サブルーチン呼び出しコマンドは、少なくとも2つの一次呼び出しコマンドと少なくとも2つの二次呼び出しコマンドを有し、前記一次セルは、前記少なくとも2つの二次呼び出しコマンドを有し、前記ビーム制御データ生成器は、メモリから前記一次セルを抽出し、前記一次呼び出しコマンドの各々によって識別された前記ターゲットの一部に前記一次セルよって識別されたフィーチャセットのイメージ化を制御する前記ビーム制御データの一部を生成することによって、前記一次呼び出しコマンドの少なくとも2つの各々に応答するように構成されており、且つ、前記ビーム制御データ生成器は、前記メモリから前記二次セルを抽出し、前記二次呼び出しコマンドの少なくとも2つの各々によって識別された前記ターゲットの一部に前記二次セルよって識別されたフィーチャセットのイメージ化を制御する前記ビーム制御データの一部を生成することによって、前記二次呼び出しコマンドの少なくとも2つの各々に応答するように構成されることを特徴とするグラフィックエンジン。 - 前記ビーム制御データは、ピクセル形式であることを特徴とする請求項7に記載のグラフィックエンジン。
- 少なくとも1つのビームがターゲット上にパターンをイメージ化するためのビーム制御データを生成するパターン生成システムであって、
少なくとも3-レベルの階層を有する階層イメージデータを生成し、アサートするように構成されたデータ生成サブシステム及びメモリを有するグラフィックエンジンを備え、
前記階層イメージデータは、残りのデータとセルを有し、前記セルは、パターンのフィーチャセットを決める少なくとも1つの一次セルとパターンのフィーチャセットを決める少なくとも1つの二次セルを有し、前記残りのデータは、前記セルの各々に対して少なくとも2つのサブルーチン呼び出しコマンドを有し、且つ、前記サブルーチン呼び出しコマンドの各々は、前記セルの1つ及び前記セルの1つによって決められたフィーチャセットがイメージされるべきターゲットの一部を識別し;及び
前記グラフィックエンジンは、前記階層イメージデータを受信し、前記階層イメージデータの前記セルの各々に応答してビーム制御データのセル生成し、前記をビーム制御データのセル前記メモリにストアし、且つ前記残りのデータ及び前記メモリの内容に応答して前記ビーム制御データを生成するように接続、構成され、更に、前記グラフィックエンジンは、前記メモリから1つの前記ビーム制御データのセルを抽出することによって前記サブルーチン呼び出しコマンドの各々に応答するように構成されていることを特徴とするパターン生成システム。 - 前記ビーム制御データは、ピクセル形式であることとを特徴とする請求項9に記載のパターン生成システム。
- 前記グラフィックエンジンから前記制御データを受信するように接続され、且つ、前記ビーム制御データに応答して前記ターゲット上にパターンをイメージ化するように構成されたビームシステムを備え、前記ビームシステムは、前記少なくとも1つのビームが前記ターゲット上にパターンをイメージ化する構成のシーケンスにおいて動作することによって前記ビーム制御データに応答するように構成されていることを特徴とする請求項9に記載のパターン生成システム。
- 前記グラフィックエンジンはラスターエンジンであり、且つ前記ビームシステムは前記ターゲットに対して前記少なくとも1つのビームのラスター走査を行なうことによって前記ビーム制御データに応答するように構成されていることを特徴とする請求項11に記載のパターン生成システム。
- 少なくとも1つのビームがターゲット上にパターンをイメージ化するためのビーム制御データを生成するグラフィックエンジンであって、
メモリと、
前記メモリに接続され、少なくとも3−レベルの階層を有する階層イメージデータのセットを受信するビーム制御データ生成器と、
を備え、
前記階層イメージデータは、残りのデータとセルを含み、前記セルは、パターンのフィーチャセットを決める少なくとも1つの一次セルとパターンのフィーチャセットを決める少なくとも1つの二次セルを有し、前記残りのデータは、前記セルの各々に対して少なくとも2つのサブルーチン呼び出しコマンドを有し、且つ、前記サブルーチン呼び出しコマンドの各々は、前記セルの1つ及び前記セルの1つによって決められたフィーチャセットがイメージされるべきターゲットの一部を識別し;及び
前記ビーム制御データ生成器は、前記セルの各々に応答してビーム制御データセルを生成して前記メモリにストアし、且つ、前記残りのデータ及び前記メモリのないように応答して前記ビーム制御データを生成するように構成され、更に、前記ビーム制御データ生成器は、メモリから一つの前記ビーム制御データセルを抽出することによって前記サブルーチン呼び出しコマンドの少なくとも2つの各々に応答するように構成されていることを特徴とするグラフィックエンジン。 - 前記ビーム制御データは、ピクセル形式であることを特徴とする請求項13に記載のグラフィックエンジン。
- 生の階層イメージデータのセットに応答して少なくとも2−レベルの階層を有する階層イメージデータのセットを生成するようにプログラムされたプロセッサであって、
その結果前記階層イメージデータは、残りのデータと少なくとも一つのセルを有し、前記セルの各々は、パターンフィーチャセットを定め、前記残りのデータは、少なくとも2つのサブルーチン呼び出しコマンドを有し、且つ前記サブルーチン呼び出しコマンドは、前記少なくとも一つのセルのセルと前記セルによって決められる前記フィーチャセットがイメージ化されるべきであるターゲットの一部を識別し、
前記プロセッサは、
(a)前記生のイメージデータのための階層グラフを決め、前記階層グラフを前記階層イメージデータの仮のバージョンの仮の階層グラフとして識別し、フィギュア・オブ・メリットにより前記仮の階層グラフのセルをソートし、且つ第1のセルのセットにおける各セルが、前記第1のセルのセットにおける各セルのフィギュア・オブ・メリットがスレッショルドに対して所定の関係を有し、及び第2のセルのセットが前記第1のセルのセットにないセルの各々から成っているという基準を含む少なくとも1つの所定の基準を満足するように、前記仮の階層グラフのセルを前記第1のセルのセット及び第2のセルのセットにクラス分けし;及び
(b)前記第2のセルのセットと前記第2のセルのセットにおける各々のセルへのサブルーチン呼び出しを残りの置換データで置き換えることによって、前記生の階層イメージデータから前記階層イメージデータを決め、その結果、前記階層イメージデータの前記階層グラフは、前記第1のセルのセットを有するが、前記第2のセルのセットを有せず、且つ前記階層イメージデータの残りのデータは、残りの置換データを有するためのソフトウェアでプログラムされることを特徴とするプロセッサ。 - 前記プロセッサは、前記第1のセルのセットの各セルのフィギュア・オブ・メリットが前記スレッショルド値を越え、且つ前記第2のセルのセットの各セルのフィギュア・オブ・メリットが前記スレッショルド値を越えないように、前記仮の階層グラフのセルを前記第1のセルのセットと前記第2のセルのセットにクラス分けするためのソフトウェアでプログラムされることを特徴とする請求項15に記載のプロセッサ。
- 前記階層イメージデータのセルは、グラフィックエンジンのメモリにキャッシュされ、各セルに対する前記フィギュア・オブ・メリットは、もし、前記セルが前記メモリにキャッシュされたならば、前記セルによって占有されるメモリのその部分の大きさであることとを特徴とする請求項16に記載のプロセッサ。
- 前記階層イメージデータは、前記グラフィックエンジンに転送され、前記階層イメージデータのセルは、前記グラフィックエンジンのメモリにキャッシュされ、且つ各セルのためのフィギュア・オブ・メリットは、SAV(節約)/SIZE(大きさ)である:ただし、もし、前記セルが前記メモリにキャッシュされたならば、SIZEは前記セルによって占有されるメモリのその部分の大きさであり、且つSAVは、前記階層イメージデータの全体の量が前記セルに対応する残りのデータに代えて前記セルがメモリにキャッシュされた後に前期セルを繰り返し呼び出すサブルーチン呼び出しコマンドと共に、前記階層イメージデータに前記セルを含むことによって減少されるデータ量であることを特徴とする請求項16に記載のプロセッサ。
- 生の階層イメージデータのセットに応答して少なくとも2−レベルの階層を有する階層イメージデータのセットを生成するようにプログラムされたプロセッサであって、前記階層イメージデータは、残りのデータとセルのセットを含み、前記セルの各々は、パターンのフィーチャセットを定め、前記残りのデータは、少なくとも2つのサブルーチン呼び出しコマンドを含み、且つ前記サブルーチン呼び出しコマンドの各々は、前記セルのセットのセル及び前記セルによって決められた前記フィーチャのセットがイメージ化されるターゲットの一部を識別し、
前記プロセッサは、
(a)前記生のイメージデータのための階層グラフを定め、前記階層グラフを前記階層イメージデータの仮のバージョンの仮の階層グラフとして認識し、且つ前記生のイメージデータのセットの全大きさに対して個々の大きさにより仮の階層グラフのセルをソートし、
(b)前記階層イメージデータの仮のバージョンの全大きさに対して大きさが最も大きい仮の階層グラフのセルの1つを識別し、且つもし、前記セルの1つの大きさがキャッシュ可能な大きさを越えないならば、前記階層イメージデータのセルとして前記セルの1つの含有によって、前記階層イメージデータの残りの部分の大きさが所定の最大の大きさを越えるか否かを判断し、且つ
(c)もし、前記階層イメージデータのセルとして前記セルの一つの含有によって、前記階層イメージデータの残りの部分の大きさが所定の最大の大きさを越えるならば、前記セルの1つの多重インスタンティエーションを含み、キャッシュ可能な大きさを越えない大きさを有する新しいセルを識別し、前記セルの1つの多重インスタンティエーションを前記新しいセルで置き換えることによって仮の階層グラフ及び前記階層イメージデータの仮のバージョンを更新し、それによって更新された階層グラフ及び前記階層イメージデータの更新されたバージョンを決め、且つもし、更新された階層イメージデータの残りの部分の大きさが前記所定の最大の大きさを越えないならば、前記更新された階層イメージデータを前記階層イメージデータとして識別するためのソフトウェアでプログラムされることを特徴とするプロセッサ。 - 生の階層イメージデータのセットに応答して少なくとも2−レベルの階層を有する階層イメージデータのセットを生成する方法であって、前記階層イメージデータは、残りのデータとセルのセットを含み、前記セルの各々は、パターンのフィーチャセットを定め、前記残りのデータは、少なくとも2つのサブルーチン呼び出しコマンドを含み、且つ前記サブルーチン呼び出しコマンドの各々は、前記セルのセットのセル及び前記セルによって定められた前記フィーチャのセットがイメージ化されるターゲットの一部を識別し、
前記方法は、
(a)前記生のイメージデータのための階層グラフを定め、前記階層グラフを前記階層イメージデータの仮のバージョンの仮の階層グラフとして認識し、且つ前記生のイメージデータのセットの全大きさに対して個々の大きさにより仮の階層グラフのセルをソートするステップと、
(b)前記階層イメージデータの仮のバージョンの全大きさに対して大きさが最も大きい仮の階層グラフのセルの1つを識別し、且つもし、前記セルの1つの大きさがキャッシュ可能な大きさを越えないならば、前記階層イメージデータのセルとして前記セルの1つの含有によって、前記階層イメージデータの残りの部分の大きさが所定の最大の大きさを越えるか否かを判断するステップと、且つ
(c)もし、前記階層イメージデータのセルとして前記セルの一つの含有によって、前記階層イメージデータの残りの部分の大きさが所定の最大の大きさを越えるならば、前記セルの1つの多重インスタンティエーションを含み、キャッシュ可能な大きさを越えない大きさを有する新しいセルを識別し、前記セルの1つの多重インスタンティエーションを前記新しいセルで置換えることによって、仮の階層グラフ及び前記階層イメージデータの仮のバージョンを更新し、それによって更新された階層グラフ及び前記階層イメージデータの更新されたバージョンを決め、且つもし、更新された階層イメージデータの残りの部分の大きさが前記所定の最大の大きさを越えないならば、前記更新された階層イメージデータを前記階層イメージデータとして識別するステップと、
を有することを特徴とする方法。 - 生の階層イメージデータのセットに応答してグラフィックエンジンに転送されるべき階層イメージデータのセットを生成する方法であって、前記階層イメージデータは、少なくとも2−レベルの階層を有し、且つ残りのデータとセルのセットを含み、前記セルの各々は、パターンのフィーチャセットを決め、前記残りのデータは、少なくとも2つのサブルーチン呼び出しコマンドを含み、且つ、前記サブルーチン呼び出しコマンドの各々は、前記セルのセットのセル及び前記セルによって決められた前記フィーチャセットがイメージ化されるべきであるターゲットの一部を識別し、
前記方法は、
前記生のイメージデータのための階層グラフを定め、及び前記階層グラフを有する前記階層イメージデータの仮のバージョンを決めるステップと、
前記生のイメージデータのデータ量に対して減少されたデータ量と前記グラフィックエンジンにおける生のイメージデータから前記ビーム制御データの生成のために必要な時間に対して前記グラフィックエンジンにおける前記最適な階層イメージデータからのビーム制御データの生成のために必要な減少された時間との最適な組み合わせを達成する階層イメージデータの最適バージョンを決めるために前記階層イメージデータの仮のバージョンを変更するするステップと、
を有することを特徴とする方法。 - 生の階層イメージデータのセットに応答して少なくとも2−レベルの階層を有する階層イメージデータのセットを生成する方法であって、前記階層イメージデータは、残りのデータと少なくとも一つのセルを含み、前記セルの各々は、パターンのフィーチャセットを決め、前記残りのデータは、少なくとも2つのサブルーチン呼び出しコマンドを含み、且つ前記サブルーチン呼び出しコマンドの各々は、前記セルのセットのセル及び前記セルによって決められた前記フィーチャのセットがイメージ化されるターゲットの一部を識別し、
前記方法は、
(a)前記生のイメージデータのための階層グラフを決め、前記階層イメージデータの仮のバージョンの仮の階層グラフとして前記階層グラフを識別し、フィギュア・オブ・メリットによる前記仮の階層グラフのセルをソートし、且つ前記仮の階層グラフのセルを第1のセルのセットと第2のセルのセットにクラス分けするステップを有し、前記第1のセルのセットにおける各々のセルは、前記第1のセルのセットの各々のセルのフィギュア・オブ・メリットがスレッショルド値と所定の関係を有する基準を有する少なくとも一つの所定の基準を満足し、且つ第2のセルのセットは、前記第1のセルのセットにないセルの各々から成り、且つ
(b)前記第2のセルのセットおよび前記第2のセルのセットにおける各々のセルへのサブルーチン呼び出しを残りの置換データで置き換えることによって、前記生の階層イメージデータからの階層イメージデータを定めるステップを有し、前記階層イメージデータの階層グラフは、前記第1のセルのセットを含むが、前記第2のセルのセットを含まず、且つ前記階層イメージデータの残りのデータは、前記残りの置換データを含むことを特徴とする方法。 - 少なくとも一つのビームがターゲット上にパターンをイメージ化するようにするためのビーム制御データを生成する方法であって、前記方法は、
(a)少なくとも3-レベルの階層を有する階層イメージデータのセットを生成するステップ、前記階層イメージデータは、残りのデータ、及び前記パターンのフィーチャセットを決める少なくとも1つの一次セルと前記パターンのフィーチャセットを決める少なくとも1つの二次セルを有し、前記残りのデータは、一次のサブルーチン呼び出しコマンドを含み、前記一次セルは、少なくとも2つの二次サブルーチン呼び出しコマンドを含み、前記サブルーチン呼び出しコマンドの各々は、前記セルのセット及び前記セルによって定められるフィーチャセットがイメージ化されるべきであるターゲットの一部を識別し、
(b)前記セルの各々をメモリにストアするステップ、及び
(c)前記一次セルを前記メモリから抽出し、前記一次呼び出しコマンドの少なくとも2つの各々によって識別された前記ターゲットの一部に前記一次セルによって定められたフィーチャセットのイメージ化を制御する前記ビーム制御データの一部を生成することによって、前記一次の呼び出しコマンドの少なくとも2つの各々に応答することによって、且つ前記二次セルを前記メモリから抽出し、前記二次呼び出しコマンドの少なくとも2つの各々によって識別された前記ターゲットの一部に前記二次セルによって定められたフィーチャセットのイメージ化を制御する前記ビーム制御データの一部を生成することによって、前記二次の呼び出しコマンドの少なくとも2つの各々に応答することによって含む前記残りのデータと前記メモリの内容に応答して前記ビーム制御データを生成するステップ、
を有することを特徴とする方法。 - 前記ステップ(c)は、ビーム制御データがピクセル形式であるように実行されることを特徴とする請求項23に記載の方法。
- (d)前記ビーム制御データに応答して少なくとも一つのビームが前記ターゲット上に前記パターンをイメージ化する構成のシーケンスにおいてビームシステムを動作するステップを含むことを特徴とする請求項23に記載の方法。
- 前記ビームシステムは、前記ステップ(d)中に、前記ターゲットに対して少なくとも1つのビームのラスター走査を行なうことを特徴とする請求項25に記載の方法。
- 少なくとも1つのビームがターゲット上にパターンをイメージ化するようにするためのビーム制御データを生成する方法であって、前記方法は、
(a)少なくとも3-レベルの階層を有し、前記パターンのフィーチャセットを決める少なくとも1つの一次セル及び前記パターンのフィーチャセットを決める少なくとも1つの二次セルを含むセルのセットを有する階層イメージデータのセット及び残りのデータを受信するため、及びメモリ内に前記一次セル及び二次セルをストアするためにグラフィックエンジンを動作するステップ、前記残りのデータは、一次のサブルーチン呼び出しコマンドを含み、前記一次セルは、二次のサブルーチン呼び出しコマンドを含み、前記サブルーチン呼び出しコマンドの各々は、セルの1つ及び前記セルの1つによって決められるフィーチャセットがイメージされるべきターゲットの一部を識別し、及び
(b)前記一次セルを前記メモリから抽出し、前記一次呼び出しコマンドの少なくとも2つの各々によって識別された前記ターゲットの一部に前記一次セルによって定められたフィーチャセットのイメージ化を制御する前記ビーム制御データの一部を生成することによって、前記一次の呼び出しコマンドの少なくとも2つの各々に応答することによって、且つ前記二次セルを前記メモリから抽出し、前記二次呼び出しコマンドの少なくとも2つの各々によって識別された前記ターゲットの一部に前記二次セルによって定められたフィーチャセットのイメージ化を制御する前記ビーム制御データの一部を生成することによって、前記二次の呼び出しコマンドの少なくとも2つの各々に応答することによって含む前記残りのデータと前記メモリの内容に応答して前記ビーム制御データを生成するために前記グラフィックエンジンを動作するステップ、
を有することを特徴とする方法。 - 前記ステップ(b)は、前記ビーム制御データがピクセル形式であるように行なわれることを特徴とする請求項27に記載の方法。
- 前記ビーム制御データに応答して前記少なくとも一つのビームが前記ターゲット上にパターンをイメージ化するようにする構成のシーケンスにおいてビームシステムを動作するステップを有することを特徴とする請求項27に記載の方法。
- 前記ビームシステムは、前記ステップ(c)中に前記ターゲットに対して少なくとも1つのビームのラスター走査を行なうことを特徴とする請求項29に記載の方法。
- 少なくとも一つのビームがターゲット上にパターンをイメージ化するようにするためのビーム制御データを生成する方法であって、前記方法は、
(a)少なくとも3−レベルの階層及び少なくとも1つの一次セルと少なくとも1つの二次セルを含むセルを有する階層イメージデータのセットを受信し、前記階層イメージデータの前記一次セルの各々及び前記二次セルの各々に応答して前記制御データを生成し、メモリにストアするためにグラフィックエンジンを動作するステップ、前記階層イメージデータは、サブルーチン呼び出しコマンドを含む残りのデータを含み、且つ前記サブルーチン呼び出しコマンドの各々は、1つの前記ビーム制御データセルと前記ビーム制御データセルによって決められたフィーチャセットがイメージされるべき前記ターゲットの一部を識別し、及び
(b)1つの前記ビーム制御データセルを前記メモリから抽出することによって前記サブルーチン呼び出しコマンドの少なくとも2つの各々に応答することによって含む、前記残りのデータと前記メモリの内容に応答して前記ビーム制御データを生成するために前記グラフィックエンジンを動作するステップ、
を有することを特徴とする方法。 - 前記ステップ(b)は、前記ビーム制御データがピクセル形式であるように行なわれることを特徴とする請求項31に記載の方法。
- 前記ビーム制御データに応答して、前記少なくとも1つのビームが前記ターゲット上にパターンをイメージ化するようにする構成のシーケンスにおいてビームシステムを動作するステップを有することを特徴とする請求項32に記載の方法。
- 前記ビームシステムは、前記ステップ(c)中に前記ターゲットに対して少なくとも1つのビームのラスター走査を行なうことを特徴とする請求項33に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US09/905,561 US6812474B2 (en) | 2001-07-13 | 2001-07-13 | Pattern generation method and apparatus using cached cells of hierarchical data |
PCT/US2002/021089 WO2003010605A2 (en) | 2001-07-13 | 2002-07-01 | Pattern generation method and apparatus using cached cells of hierarchical data |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005521071A true JP2005521071A (ja) | 2005-07-14 |
Family
ID=25421050
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003515918A Pending JP2005521071A (ja) | 2001-07-13 | 2002-07-01 | 階層データのキャッシュされたセルを用いるパターン生成方法及び装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6812474B2 (ja) |
EP (1) | EP1412962A2 (ja) |
JP (1) | JP2005521071A (ja) |
KR (1) | KR20040015357A (ja) |
TW (1) | TWI239486B (ja) |
WO (1) | WO2003010605A2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007025022A (ja) * | 2005-07-13 | 2007-02-01 | Hitachi Via Mechanics Ltd | 描画装置及びそれを搭載した露光装置 |
KR20110091903A (ko) * | 2008-12-05 | 2011-08-16 | 마이크로닉 마이데이타 에이비 | 마이크로-리소그래피 인쇄에서의 그레디언트 기반 이미지 리샘플링 |
JP2015513208A (ja) * | 2011-11-29 | 2015-04-30 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ装置用の所望のデバイスパターンのベクタ形式表現を変換する装置および方法、プログラマブルパターニングデバイスにデータを供給する装置および方法、リソグラフィ装置、デバイス製造方法 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005268657A (ja) * | 2004-03-19 | 2005-09-29 | Toshiba Corp | 電子ビーム描画データ生成方法と電子ビーム描画データ生成用プログラム及び電子ビーム描画装置 |
US20110090327A1 (en) * | 2009-10-15 | 2011-04-21 | General Electric Company | System and method for imaging with enhanced depth of field |
JP6206865B2 (ja) * | 2012-05-31 | 2017-10-04 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーションInternational Business Machines Corporation | 入力文字列の集合から当該入力文字列の集合を文字列で表現する少なくとも1つのパターン表現に変換する方法、並びに、当該変換パターンを近似パターン表現式として取り出す方法、並びにそのコンピュータ及びコンピュータ・プログラム |
Citations (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02139913A (ja) * | 1988-11-21 | 1990-05-29 | Fujitsu Ltd | 半導体装置の製造方法 |
JPH0314218A (ja) * | 1989-06-13 | 1991-01-22 | Toshiba Corp | 荷電ビーム描画方法 |
JPH04162611A (ja) * | 1990-10-26 | 1992-06-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 電子線描画データ作成方法 |
JPH04211112A (ja) * | 1990-02-20 | 1992-08-03 | Hitachi Ltd | 描画データ作成方法、データ変換方法、及びデータ変換装置 |
JPH04225216A (ja) * | 1990-12-26 | 1992-08-14 | Fujitsu Ltd | 露光データ伝送方法 |
JPH04302451A (ja) * | 1991-03-29 | 1992-10-26 | Toshiba Corp | 荷電ビーム描画方法 |
JPH05198485A (ja) * | 1991-07-26 | 1993-08-06 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 形状分解システム及びその方法 |
JPH06168869A (ja) * | 1992-11-30 | 1994-06-14 | Hitachi Ltd | 電子線描画方法及びその装置 |
JPH08505003A (ja) * | 1992-11-02 | 1996-05-28 | イーテック・システムズ・インコーポレーテッド | パターン発生装置用のラスタライザ |
JPH0917709A (ja) * | 1995-06-27 | 1997-01-17 | Toshiba Corp | 荷電ビーム描画方法 |
JPH1041224A (ja) * | 1996-07-24 | 1998-02-13 | Dainippon Printing Co Ltd | 電子ビーム描画データの合成方法及びその合成装置 |
JPH10172876A (ja) * | 1996-12-13 | 1998-06-26 | Hitachi Ltd | Ebデータ圧縮方法 |
JPH10256113A (ja) * | 1997-03-07 | 1998-09-25 | Fujitsu Ltd | 露光データ作成方法、露光データ作成装置、及び、記憶媒体 |
JPH10261568A (ja) * | 1997-03-18 | 1998-09-29 | Toshiba Corp | 荷電ビーム描画データ作成方法 |
JPH10335202A (ja) * | 1997-05-28 | 1998-12-18 | Mitsubishi Electric Corp | 電子ビームデータ生成装置 |
JPH1185826A (ja) * | 1997-09-11 | 1999-03-30 | Sony Corp | 描画データ処理システムおよび描画データの処理方法 |
JPH11274036A (ja) * | 1998-03-23 | 1999-10-08 | Toshiba Corp | 荷電ビーム描画装置 |
JP2000155774A (ja) * | 1998-11-20 | 2000-06-06 | Nec Corp | データ処理方法および装置、パターン形成方法および装置、情報記憶媒体 |
JP2000285152A (ja) * | 1999-03-31 | 2000-10-13 | Sony Corp | レイアウトデータの階層化処理方法、レイアウトデータの階層化処理システムおよび記録媒体 |
JP2001007018A (ja) * | 1999-04-21 | 2001-01-12 | Matsushita Electronics Industry Corp | 描画パターンデータ生成方法、パターン描画方法及び荷電粒子描画装置 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5239624A (en) | 1985-06-19 | 1993-08-24 | Pixar | Pseudo-random point sampling techniques in computer graphics |
US5535128A (en) * | 1995-02-09 | 1996-07-09 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Hierarchical feedback control of pulsed laser deposition |
US5852443A (en) | 1995-08-04 | 1998-12-22 | Microsoft Corporation | Method and system for memory decomposition in a graphics rendering system |
SE509062C2 (sv) | 1997-02-28 | 1998-11-30 | Micronic Laser Systems Ab | Dataomvandlingsmetod för en laserskrivare med flera strålar för mycket komplexa mikrokolitografiska mönster |
US6035113A (en) | 1998-01-05 | 2000-03-07 | International Business Machines Corporation | Electron beam proximity correction method for hierarchical design data |
US6415432B1 (en) * | 1999-04-21 | 2002-07-02 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Lithography pattern data generation method, lithography pattern fabrication method and charged particle lithography system |
JP4146059B2 (ja) * | 2000-03-24 | 2008-09-03 | 株式会社東芝 | キャラクタ抽出方法およびコンピュータ読取り可能な記録媒体 |
-
2001
- 2001-07-13 US US09/905,561 patent/US6812474B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2002
- 2002-07-01 EP EP02749765A patent/EP1412962A2/en not_active Withdrawn
- 2002-07-01 JP JP2003515918A patent/JP2005521071A/ja active Pending
- 2002-07-01 WO PCT/US2002/021089 patent/WO2003010605A2/en active Application Filing
- 2002-07-01 KR KR10-2004-7000564A patent/KR20040015357A/ko not_active Application Discontinuation
- 2002-07-09 TW TW091115251A patent/TWI239486B/zh not_active IP Right Cessation
Patent Citations (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02139913A (ja) * | 1988-11-21 | 1990-05-29 | Fujitsu Ltd | 半導体装置の製造方法 |
JPH0314218A (ja) * | 1989-06-13 | 1991-01-22 | Toshiba Corp | 荷電ビーム描画方法 |
JPH04211112A (ja) * | 1990-02-20 | 1992-08-03 | Hitachi Ltd | 描画データ作成方法、データ変換方法、及びデータ変換装置 |
JPH04162611A (ja) * | 1990-10-26 | 1992-06-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 電子線描画データ作成方法 |
JPH04225216A (ja) * | 1990-12-26 | 1992-08-14 | Fujitsu Ltd | 露光データ伝送方法 |
JPH04302451A (ja) * | 1991-03-29 | 1992-10-26 | Toshiba Corp | 荷電ビーム描画方法 |
JPH05198485A (ja) * | 1991-07-26 | 1993-08-06 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 形状分解システム及びその方法 |
JPH08505003A (ja) * | 1992-11-02 | 1996-05-28 | イーテック・システムズ・インコーポレーテッド | パターン発生装置用のラスタライザ |
JPH06168869A (ja) * | 1992-11-30 | 1994-06-14 | Hitachi Ltd | 電子線描画方法及びその装置 |
JPH0917709A (ja) * | 1995-06-27 | 1997-01-17 | Toshiba Corp | 荷電ビーム描画方法 |
JPH1041224A (ja) * | 1996-07-24 | 1998-02-13 | Dainippon Printing Co Ltd | 電子ビーム描画データの合成方法及びその合成装置 |
JPH10172876A (ja) * | 1996-12-13 | 1998-06-26 | Hitachi Ltd | Ebデータ圧縮方法 |
JPH10256113A (ja) * | 1997-03-07 | 1998-09-25 | Fujitsu Ltd | 露光データ作成方法、露光データ作成装置、及び、記憶媒体 |
JPH10261568A (ja) * | 1997-03-18 | 1998-09-29 | Toshiba Corp | 荷電ビーム描画データ作成方法 |
JPH10335202A (ja) * | 1997-05-28 | 1998-12-18 | Mitsubishi Electric Corp | 電子ビームデータ生成装置 |
JPH1185826A (ja) * | 1997-09-11 | 1999-03-30 | Sony Corp | 描画データ処理システムおよび描画データの処理方法 |
JPH11274036A (ja) * | 1998-03-23 | 1999-10-08 | Toshiba Corp | 荷電ビーム描画装置 |
JP2000155774A (ja) * | 1998-11-20 | 2000-06-06 | Nec Corp | データ処理方法および装置、パターン形成方法および装置、情報記憶媒体 |
JP2000285152A (ja) * | 1999-03-31 | 2000-10-13 | Sony Corp | レイアウトデータの階層化処理方法、レイアウトデータの階層化処理システムおよび記録媒体 |
JP2001007018A (ja) * | 1999-04-21 | 2001-01-12 | Matsushita Electronics Industry Corp | 描画パターンデータ生成方法、パターン描画方法及び荷電粒子描画装置 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007025022A (ja) * | 2005-07-13 | 2007-02-01 | Hitachi Via Mechanics Ltd | 描画装置及びそれを搭載した露光装置 |
JP4617210B2 (ja) * | 2005-07-13 | 2011-01-19 | 日立ビアメカニクス株式会社 | 描画装置及びそれを搭載した露光装置 |
KR20110091903A (ko) * | 2008-12-05 | 2011-08-16 | 마이크로닉 마이데이타 에이비 | 마이크로-리소그래피 인쇄에서의 그레디언트 기반 이미지 리샘플링 |
JP2012511168A (ja) * | 2008-12-05 | 2012-05-17 | マイクロニック マイデータ アーベー | マイクロリソグラフ印刷における勾配を援用した画像再サンプリング |
KR101657218B1 (ko) | 2008-12-05 | 2016-09-13 | 마이크로닉 마이데이타 에이비 | 마이크로-리소그래피 인쇄에서의 그레디언트 기반 이미지 리샘플링 |
JP2015513208A (ja) * | 2011-11-29 | 2015-04-30 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | リソグラフィ装置用の所望のデバイスパターンのベクタ形式表現を変換する装置および方法、プログラマブルパターニングデバイスにデータを供給する装置および方法、リソグラフィ装置、デバイス製造方法 |
US10346729B2 (en) | 2011-11-29 | 2019-07-09 | Asml Netherlands B.V. | Apparatus and method for converting a vector-based representation of a desired device pattern for a lithography apparatus, apparatus and method for providing data to a programmable patterning device, a lithography apparatus and a device manufacturing method |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20030010937A1 (en) | 2003-01-16 |
WO2003010605A2 (en) | 2003-02-06 |
EP1412962A2 (en) | 2004-04-28 |
KR20040015357A (ko) | 2004-02-18 |
WO2003010605A3 (en) | 2003-11-06 |
US6812474B2 (en) | 2004-11-02 |
TWI239486B (en) | 2005-09-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP1431820B1 (en) | Method and system for classifying an integrated circuit for optical proximity correction | |
JP3612166B2 (ja) | 荷電ビーム描画データ作成方法および装置 | |
US5251140A (en) | E-beam control data compaction system and method | |
US6219149B1 (en) | Print processing apparatus | |
US7162071B2 (en) | Progressive self-learning defect review and classification method | |
JP2003508825A (ja) | 高性能パターン発生器のためのデータパス | |
JPH0915833A (ja) | 露光用マスク作製装置における走査用データ作成装置及び走査用データの作成方法 | |
US7608844B2 (en) | Charged particle beam drawing apparatus | |
CN112862661A (zh) | 处理图形图元的方法、图形处理系统和存储介质 | |
JP2675964B2 (ja) | 電子線制御データ短縮システム及び方法 | |
JP2005128553A (ja) | 相互関係マップの効率的な長距離計算用のデザインへの再ネスティング | |
KR20220127004A (ko) | 확률론적 콘투어 예측 시스템 및 확률론적 콘투어 예측 시스템의 제공 방법 및 확률론적 콘투어 예측 시스템을 이용한 EUV(Extreme Ultra violet) 마스크의 제공 방법 | |
JP2005521071A (ja) | 階層データのキャッシュされたセルを用いるパターン生成方法及び装置 | |
US7039487B2 (en) | Exposure apparatus and exposure method | |
CN116306812A (zh) | 用于深度学习模型解析、优化和部署的后端可扩展框架及方法 | |
US6200710B1 (en) | Methods for producing segmented reticles | |
US7171047B2 (en) | Adaptive Sem edge recognition algorithm | |
JP2005521253A (ja) | 大量データフローをプリントする方法と装置 | |
EP0825531A1 (en) | A language processing unit and a language processing method to translate a source program and generate an object module file | |
JP3125863B2 (ja) | 印刷処理装置 | |
US20040123266A1 (en) | Method and system for constructing a hierarchy-driven chip covering for optical proximity correction | |
US9564293B2 (en) | Charged particle beam writing apparatus, and buffer memory data storage method | |
KR100273855B1 (ko) | 셀 투영 방식 및 가변 성형 빔 방식을 병용하는 전자 빔 제도방법 | |
US6091072A (en) | Piece-wise processing of very large semiconductor designs | |
US6042971A (en) | Method of manufacturing an EB mask for electron beam image drawing and device for manufacturing an EB mask |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050701 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080722 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080728 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20081006 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20081014 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090128 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20100208 |