JP2015513208A - リソグラフィ装置用の所望のデバイスパターンのベクタ形式表現を変換する装置および方法、プログラマブルパターニングデバイスにデータを供給する装置および方法、リソグラフィ装置、デバイス製造方法 - Google Patents
リソグラフィ装置用の所望のデバイスパターンのベクタ形式表現を変換する装置および方法、プログラマブルパターニングデバイスにデータを供給する装置および方法、リソグラフィ装置、デバイス製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
Description
本出願は、2011年11月29日に出願された米国特許仮出願第61/564,661号、2012年1月27日に出願された米国特許仮出願第61/591,647号、2012年4月26日に出願された米国特許仮出願第61/638,843号の利益を主張し、その全体が本明細書に援用される。
Claims (15)
- 露光装置のプログラマブルパターニングデバイスにデータを提供する装置であって、
複数のデータユニットを受信するように構成されたバッファメモリであって、各データユニットは、所望のドースパターンの異なる部分に形成されるべきパターンを表し、前記露光装置による基板のパターン形成中に前記プログラマブルパターニングデバイスに制御信号を提供する必要があるとき前記データユニットを出力するように構成された、バッファメモリと、
前記バッファメモリとの間の前記データユニットの送受信を制御するように構成されたフローコントローラであって、各データユニットは、完全な所望のドースパターンを露光するために必要な時間よりも短い期間だけ前記バッファメモリ内に記憶される、フローコントローラと、
を備える装置。 - 各データユニットは、前記所望のドースパターンの一部のラスタ化表現を含むことを特徴とする請求項1に記載の装置。
- 前記ラスタ化表現は、
それぞれが異なるプリミティブパターンのラスタ化バージョンである一つまたは複数のラスタ化プリミティブと、
前記データユニット内に記憶されるラスタ化プリミティブのそれぞれの一つまたは複数のインスタンスから前記所望のドースパターンの一部が形成される方法を特定するインスタンスデータと、
を含むことを特徴とする請求項2に記載の装置。 - 前記フローコントローラは、特定の期間内に形成される所望のドースパターンのその部分のみのためのデータユニットを前記バッファメモリが記憶することを保障するように構成されており、前記期間は、完全な所望のドースパターンを形成するために必要な時間よりも短いことを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載の装置。
- 前記フローコントローラは、前記所望のドースパターンのそれぞれの部分がターゲット上に形成されるべき一つまたは複数の位置を指定する情報を受け取るように構成されることを特徴とする請求項1ないし4のいずれかに記載の装置。
- 前記所望のドースパターンの各部分は実質的に同一のサイズおよび/または形状であることを特徴とする請求項1ないし5のいずれかに記載の装置。
- 前記フローコントローラは、前記プログラマブルパターニングデバイスに対する前記基板の走査速度、ターゲット上の所望のドースパターンの拡大の度合い、または走査速度と拡大の度合いの両方の関数として、前記バッファメモリに前記データユニットが転送される速度を制御するように構成されることを特徴とする請求項1ないし6のいずれかに記載の装置。
- 前記フローコントローラは、特定の期間内に形成される所望のドースパターンのその部分のみのためのデータユニットを前記バッファメモリが記憶することを保障するように構成され、前記期間は、完全な所望のドースパターンを形成するために必要な時間よりも短く、
前記フローコントローラは、前記プログラマブルパターニングデバイスに対する前記基板の走査速度、ターゲット上の所望のドースパターンの拡大の度合い、または走査速度と拡大の度合いの両方の関数として、前記期間を設定するように構成されることを特徴とする請求項1ないし7のいずれかに記載の装置。 - 一つ以上の前記データユニットのそれぞれに幾何学的変換を適用して、前記データユニットによって表現される前記所望のパターンの部分が形成されるべき領域内の基板の幾何学的状態を考慮するように構成された基板適応ユニットをさらに備えることを特徴とする請求項1ないし8のいずれかに記載の装置。
- 前記幾何学的変換は、並進移動、回転移動、スキュー調整、および/または拡大から選択された一つまたは複数を含むことを特徴とする請求項9に記載の装置。
- データユニットの全てを提供するように構成されたリソースユニットをさらに備え、
前記リソースユニットは、基板から独立した一つまたは複数のデータユニットと、基板に依存する一つまたは複数のデータユニットと、を出力するように構成されることを特徴とする請求項1ないし10のいずれかに記載の装置。 - 露光装置のプログラマブルパターニングデバイスにデータを提供する方法であって、
バッファメモリ内で複数のデータユニットを受け取り、各データユニットは、所望のドースパターンの異なる部分に形成されるべきパターンを表しており、
前記露光装置による基板のパターン形成中に、前記プログラマブルパターニングデバイスに制御信号を提供する必要があるときに、前記バッファメモリから前記データユニットを出力し、
各データユニットが、完全な所望のドースパターンを露光するために必要な時間よりも短い期間だけ前記バッファメモリ内に記憶されるように、前記バッファメモリとの間の前記データユニットの送受信を制御する
ことを含む方法。 - 露光装置を使用して基板上に形成されるべき所望のデバイスパターンのベクタ形式表現を、所望のデバイスパターンに対応する所望の放射ドースパターンのラスタ化表現またはサンプリング表現に変換する方法であって、
前記所望のデバイスパターンの領域に対応するドースパターンは、該領域のラスタ化表現またはサンプリング表現を用いて形成され、
ラスタ化グリッドまたはサンプリンググリッドに対して定義される前記領域のラスタ化表現またはサンプリング表現は、前記ラスタ化表現またはサンプリング表現が前記領域におけるドース値を定義する点または場所を定義し、
前記方法は、
1)前記所望のデバイスパターンの領域を分析し、計算要件の測定を取得して、前記領域のラスタ化表現またはサンプリング表現を取得し、記憶し、または処理し、および/または、2)前記領域のラスタ化表現またはサンプリング表現を使用して、前記露光装置によって生成されるシミュレーションされたまたは実際のドースパターンを分析し、画像品質の測定値を取得し、
前記分析結果に応答して、前記ラスタ化グリッドまたはサンプリンググリッドを修正し、
修正されたラスタ化グリッドまたはサンプリンググリッドを使用して、前記所望のドースパターンのベクタ形式表現を変換する
ことを含む方法。 - 前記ラスタ化グリッドまたはサンプリンググリッドは、該ラスタ化グリッドまたはサンプリンググリッドの密度を変更するように修正されることを特徴とする請求項13に記載の方法。
- 露光装置を使用して基板上に形成されるべき所望のデバイスパターンのベクタ形式表現を、所望のデバイスパターンに対応する所望の放射ドースパターンのラスタ化表現またはサンプリング表現に変換する装置であって、
前記所望のデバイスパターンの領域に対応するドースパターンは、該領域のラスタ化表現またはサンプリング表現を用いて形成され、
ラスタ化グリッドまたはサンプリンググリッドに対して定義される前記領域のラスタ化表現またはサンプリング表現は、前記ラスタ化表現またはサンプリング表現が前記領域におけるドース値を定義する点または場所を定義し、
前記装置は、
1)前記所望のデバイスパターンの領域を分析し、計算要件の測定を取得して、前記領域のラスタ化表現またはサンプリング表現を取得し、記憶し、または処理し、および/または、2)前記領域のラスタ化表現またはサンプリング表現を使用して、前記露光装置によって生成されるシミュレーションされたまたは実際のドースパターンを分析し、画像品質の測定値を取得し、
前記分析結果に応答して、前記ラスタ化グリッドまたはサンプリンググリッドを修正し、
修正されたラスタ化グリッドまたはサンプリンググリッドを使用して、前記所望のドースパターンのベクタ形式表現を変換する
ように構成されたデータ処理デバイスを備えることを特徴とする装置。
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