JPH1041224A - 電子ビーム描画データの合成方法及びその合成装置 - Google Patents
電子ビーム描画データの合成方法及びその合成装置Info
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- JPH1041224A JPH1041224A JP21415396A JP21415396A JPH1041224A JP H1041224 A JPH1041224 A JP H1041224A JP 21415396 A JP21415396 A JP 21415396A JP 21415396 A JP21415396 A JP 21415396A JP H1041224 A JPH1041224 A JP H1041224A
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- pattern
- electron beam
- pattern data
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 電子描画装置に用いられる描画データの合成
において、複数パターンデータの重なりやデータの繰り
返しにより、描画に要するステージ移動等により電子ビ
ームパターン描画に長時間を要していた。 【解決手段】 フォトマスクに描画されるべき複数のパ
ターンデータとジョブデックからなる電子ビーム描画デ
ータのうち、重なり合ったパターンデータまたは／およ
び隣り合ったパターンデータを抽出し、これらを単一デ
ータに合成する。
において、複数パターンデータの重なりやデータの繰り
返しにより、描画に要するステージ移動等により電子ビ
ームパターン描画に長時間を要していた。 【解決手段】 フォトマスクに描画されるべき複数のパ
ターンデータとジョブデックからなる電子ビーム描画デ
ータのうち、重なり合ったパターンデータまたは／およ
び隣り合ったパターンデータを抽出し、これらを単一デ
ータに合成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子ビーム描画装
置に用いられるパターンデータ及びジョブデックの電子
ビーム描画データの合成方法および合成装置に関するも
のである。
置に用いられるパターンデータ及びジョブデックの電子
ビーム描画データの合成方法および合成装置に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】電子ビーム描画データは描画すべきパタ
ーン図形の集合であるパターンデータと、このパターン
データをフォトマスク基板の位置、配置等の指示をする
ジョブデックと呼ばれる制御データから成っている。こ
れらは、ひとつのフォトマスクに対して複数のパターン
データとひとつのジョブデックで構成される。そして、
電子ビーム描画装置はひとつのパターンデータ内のデー
タを電子ビーム描画装置内のメモリに入力し、ジョブデ
ックの指示に従ってフォトマスク基板上の特定位置・特
定配置にて電子ビーム露光を行う。この処理は、パター
ンデータ内の全データの処理が終了するまで繰り返さ
れ、ひとつのパターンデータが終了すると次のパターン
データの処理へと連続的に行われる。
ーン図形の集合であるパターンデータと、このパターン
データをフォトマスク基板の位置、配置等の指示をする
ジョブデックと呼ばれる制御データから成っている。こ
れらは、ひとつのフォトマスクに対して複数のパターン
データとひとつのジョブデックで構成される。そして、
電子ビーム描画装置はひとつのパターンデータ内のデー
タを電子ビーム描画装置内のメモリに入力し、ジョブデ
ックの指示に従ってフォトマスク基板上の特定位置・特
定配置にて電子ビーム露光を行う。この処理は、パター
ンデータ内の全データの処理が終了するまで繰り返さ
れ、ひとつのパターンデータが終了すると次のパターン
データの処理へと連続的に行われる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところが、パターンデ
ータが重なって配置されていたり、データが繰り返して
配置されていると描画に要する位置決め操作並びにステ
ージ移動に多くの時間を必要とし、電子ビーム描画装置
の描画時間の長大化をもたらしていた。とりわけ、近年
の半導体素子の高集積化、高機能化に伴い、半導体素子
用のフォトマスクにおいても高集積化、微細化が求めら
れるとともに、膨大なデータにより電子ビーム描画する
必要のため、この傾向は著しくなっていた。
ータが重なって配置されていたり、データが繰り返して
配置されていると描画に要する位置決め操作並びにステ
ージ移動に多くの時間を必要とし、電子ビーム描画装置
の描画時間の長大化をもたらしていた。とりわけ、近年
の半導体素子の高集積化、高機能化に伴い、半導体素子
用のフォトマスクにおいても高集積化、微細化が求めら
れるとともに、膨大なデータにより電子ビーム描画する
必要のため、この傾向は著しくなっていた。
【０００４】以上の内容を、更に具体的に、図２・図３
のフォトマスクの例を用いて説明する。図２はフォトマ
スク基板上のパターンレイアウトである。ガラス基板２
１上にパターンＡ ２２・パターンＢ ２３・パターン
Ｃ ２４が描画されている。更に、図３は図２のパター
ンを従来の描画方法で電子ビーム露光する手順を示した
ものである。このうち、図３（ａ）は図２のパターンの
うちパターンＢを電子ビーム描画するときの電子ビーム
描画装置の電子ビームの移動方向（描画順序）を現して
おり、この中で実線は電子ビーム装置の電子銃により電
子ビーム露光を実行している箇所、点線は電子ビーム装
置の電子銃により電子ビーム露光を実行していない箇所
である。電子ビームの動作はステージの動作によるもの
なので、パターンＢを描画するためには電子ビーム描画
装置のステージを何度も往復する必要がある。
のフォトマスクの例を用いて説明する。図２はフォトマ
スク基板上のパターンレイアウトである。ガラス基板２
１上にパターンＡ ２２・パターンＢ ２３・パターン
Ｃ ２４が描画されている。更に、図３は図２のパター
ンを従来の描画方法で電子ビーム露光する手順を示した
ものである。このうち、図３（ａ）は図２のパターンの
うちパターンＢを電子ビーム描画するときの電子ビーム
描画装置の電子ビームの移動方向（描画順序）を現して
おり、この中で実線は電子ビーム装置の電子銃により電
子ビーム露光を実行している箇所、点線は電子ビーム装
置の電子銃により電子ビーム露光を実行していない箇所
である。電子ビームの動作はステージの動作によるもの
なので、パターンＢを描画するためには電子ビーム描画
装置のステージを何度も往復する必要がある。
【０００５】図３（ｂ）はパターンＡを電子ビーム描画
するときの電子ビーム描画装置の電子ビームの移動方向
（描画順序）を現したものである。前記図２のパターン
Ａ２２はパターンＢ ２３と重なる領域に目隠しと呼ば
れる矩形パターンＤ ３１を配置する。当該領域での重
複露光を防止するためである。
するときの電子ビーム描画装置の電子ビームの移動方向
（描画順序）を現したものである。前記図２のパターン
Ａ２２はパターンＢ ２３と重なる領域に目隠しと呼ば
れる矩形パターンＤ ３１を配置する。当該領域での重
複露光を防止するためである。
【０００６】この反転パターンとし、パターンＤ ３１
上では、電子ビーム描画時と同一速度でステージを動か
し、電子ビームを空打ちする。即ち、電子ビームで描画
しないときには直ちに次の描画位置にステージが移動す
るのではなく、描画時と同様のステージ速度でステージ
を動かす。電子ビームの空打ちのデータが無いとステー
ジが非常に速い速度で動作して次の電子ビーム描画位置
に移動し、その電子ビーム描画位置が狂う傾向にあるか
らである。その後、図３のパターンＤ ３１上に図２の
パターンＢ ２３を描画して、フォトマスクの描画時間
が終了する。
上では、電子ビーム描画時と同一速度でステージを動か
し、電子ビームを空打ちする。即ち、電子ビームで描画
しないときには直ちに次の描画位置にステージが移動す
るのではなく、描画時と同様のステージ速度でステージ
を動かす。電子ビームの空打ちのデータが無いとステー
ジが非常に速い速度で動作して次の電子ビーム描画位置
に移動し、その電子ビーム描画位置が狂う傾向にあるか
らである。その後、図３のパターンＤ ３１上に図２の
パターンＢ ２３を描画して、フォトマスクの描画時間
が終了する。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明はこのような状況
の下、これを改良すべく完成したものであり、上記目隠
し領域の電子ビームの空打ち時間を減少せしめることを
目的に、多重配置されているパターンデータのデータを
抽出するとともに可能な限りパターンデータを簡略化
し、これを合成する事によって電子ビーム描画装置の合
理的なＥＢ描画データを合成せしめるものである。
の下、これを改良すべく完成したものであり、上記目隠
し領域の電子ビームの空打ち時間を減少せしめることを
目的に、多重配置されているパターンデータのデータを
抽出するとともに可能な限りパターンデータを簡略化
し、これを合成する事によって電子ビーム描画装置の合
理的なＥＢ描画データを合成せしめるものである。
【０００８】即ち、本発明の合成方法・合成装置によっ
て、図２のパターンデータＡ ２２とパターンデータＢ
２３を図６のような一つのパターンデータＸ ６２に
変更せしめ、図７に示すような無駄な動作の少ないＥＢ
描画を達成せしめようとするものである。尚、図６は、
本発明により改良されたパターンデータの配置例を示す
ものであり、図７は、発明後のＥＢ描画の順序を示した
ものである。
て、図２のパターンデータＡ ２２とパターンデータＢ
２３を図６のような一つのパターンデータＸ ６２に
変更せしめ、図７に示すような無駄な動作の少ないＥＢ
描画を達成せしめようとするものである。尚、図６は、
本発明により改良されたパターンデータの配置例を示す
ものであり、図７は、発明後のＥＢ描画の順序を示した
ものである。
【０００９】ここに、第一の発明は、「フォトマスクに
描画されるべき複数のパターンデータとジョブデックか
らなる電子ビーム描画データを入力し、該パターンデー
タの中で重なり合ったデータまたは／および隣り合った
データーを合成して新たなパターンデータを作成すると
ともにジョブデックを修正して、新たな電子ビーム描画
データを生成する工程であって、少なくとも、複数の該
パターンデータと該ジョブデックのデータを入力して、
フォトマスクイメージデータに変換する工程と、該フォ
トマスクイメージデータからパターンデータのデータを
抽出する工程と、抽出されたデータを合成する工程と、
合成されたデータを新たなパターンデータに変換する工
程と、を有することを特徴とする電子ビーム描画データ
の合成方法」を提供するものであり、また、第二の発明
は、「フォトマスクに描画されるべき複数のパターンデ
ータとジョブデックからなる電子ビーム描画データを入
力し、該パターンデータの中で重なり合ったデータまた
は／および隣り合ったデーターを合成して新たなパター
ンデータを作成するとともにジョブデックを修正して、
新たな電子ビーム描画データを生成する工程であって、
少なくとも、（１）複数の該パターンデータと該ジョブ
デックのデータを入力して、フォトマスクイメージデー
タに変換する工程と、（２）該フォトマスクイメージデ
ータからパターンデータのデータを抽出する工程と、
（３）抽出されたデータを合成する工程と、（４）合成
されたデータを新たなパターンデータに変換する工程
と、（５）元のジョブデックを修正して、新たなパター
ンデータに適合せしめる工程と、を含むことを特徴とす
る電子ビーム描画データの合成方法」を提供するもので
ある。また、第三の発明は、「フォトマスクに描画され
るべき複数のパターンデータとジョブデックからなる電
子ビーム描画データを入力し、該パターンデータの中で
重なり合ったデータまたは／および隣り合ったデーター
を合成して新たなパターンデータを作成するとともにジ
ョブデックを修正して、新たな電子ビーム描画データを
生成する装置であって、少なくとも、複数の該パターン
データと該ジョブデックのデータを入力して、フォトマ
スクイメージデータに変換する工程と、該フォトマスク
イメージデータからパターンデータのデータを抽出する
工程と、抽出されたデータを合成する工程と、合成され
たデータを新たなパターンデータに変換する工程と、を
有することを特徴とする電子ビーム描画データの合成装
置。」を提供するものであり、また、第四の発明は、
「フォトマスクに描画されるべき複数のパターンデータ
とジョブデックからなる電子ビーム描画データを入力
し、該パターンデータの中で重なり合ったデータまたは
／および隣り合ったデータを合成して新たなパターンデ
ータを作成するとともにジョブデックを修正して、新た
な電子ビーム描画データを生成する装置であって、少な
くとも、複数の該パターンデータと該ジョブデックのデ
ータを入力して、フォトマスクイメージデータに変換す
る工程と、該フォトマスクイメージデータからパターン
データのデータを抽出する工程と、抽出されたデータを
合成する工程と、合成されたデータを新たなパターンデ
ータに変換する工程と、元のジョブデックを修正して、
新たなパターンデータに適合せしめる工程と、を含むこ
とを特徴とする電子ビーム描画データの合成装置」であ
り、更に、第五の発明は、「上記電子ビーム描画データ
の合成装置において、複数のパターンデータとジョブデ
ックのデータを入力してフォトマスクイメージのデータ
に変換した後、該データを画像表示装置に表示すること
ができることを特徴とする第三の発明又は第四の発明の
電子ビーム描画データの合成装置。」を提供するもので
ある。
描画されるべき複数のパターンデータとジョブデックか
らなる電子ビーム描画データを入力し、該パターンデー
タの中で重なり合ったデータまたは／および隣り合った
データーを合成して新たなパターンデータを作成すると
ともにジョブデックを修正して、新たな電子ビーム描画
データを生成する工程であって、少なくとも、複数の該
パターンデータと該ジョブデックのデータを入力して、
フォトマスクイメージデータに変換する工程と、該フォ
トマスクイメージデータからパターンデータのデータを
抽出する工程と、抽出されたデータを合成する工程と、
合成されたデータを新たなパターンデータに変換する工
程と、を有することを特徴とする電子ビーム描画データ
の合成方法」を提供するものであり、また、第二の発明
は、「フォトマスクに描画されるべき複数のパターンデ
ータとジョブデックからなる電子ビーム描画データを入
力し、該パターンデータの中で重なり合ったデータまた
は／および隣り合ったデーターを合成して新たなパター
ンデータを作成するとともにジョブデックを修正して、
新たな電子ビーム描画データを生成する工程であって、
少なくとも、（１）複数の該パターンデータと該ジョブ
デックのデータを入力して、フォトマスクイメージデー
タに変換する工程と、（２）該フォトマスクイメージデ
ータからパターンデータのデータを抽出する工程と、
（３）抽出されたデータを合成する工程と、（４）合成
されたデータを新たなパターンデータに変換する工程
と、（５）元のジョブデックを修正して、新たなパター
ンデータに適合せしめる工程と、を含むことを特徴とす
る電子ビーム描画データの合成方法」を提供するもので
ある。また、第三の発明は、「フォトマスクに描画され
るべき複数のパターンデータとジョブデックからなる電
子ビーム描画データを入力し、該パターンデータの中で
重なり合ったデータまたは／および隣り合ったデーター
を合成して新たなパターンデータを作成するとともにジ
ョブデックを修正して、新たな電子ビーム描画データを
生成する装置であって、少なくとも、複数の該パターン
データと該ジョブデックのデータを入力して、フォトマ
スクイメージデータに変換する工程と、該フォトマスク
イメージデータからパターンデータのデータを抽出する
工程と、抽出されたデータを合成する工程と、合成され
たデータを新たなパターンデータに変換する工程と、を
有することを特徴とする電子ビーム描画データの合成装
置。」を提供するものであり、また、第四の発明は、
「フォトマスクに描画されるべき複数のパターンデータ
とジョブデックからなる電子ビーム描画データを入力
し、該パターンデータの中で重なり合ったデータまたは
／および隣り合ったデータを合成して新たなパターンデ
ータを作成するとともにジョブデックを修正して、新た
な電子ビーム描画データを生成する装置であって、少な
くとも、複数の該パターンデータと該ジョブデックのデ
ータを入力して、フォトマスクイメージデータに変換す
る工程と、該フォトマスクイメージデータからパターン
データのデータを抽出する工程と、抽出されたデータを
合成する工程と、合成されたデータを新たなパターンデ
ータに変換する工程と、元のジョブデックを修正して、
新たなパターンデータに適合せしめる工程と、を含むこ
とを特徴とする電子ビーム描画データの合成装置」であ
り、更に、第五の発明は、「上記電子ビーム描画データ
の合成装置において、複数のパターンデータとジョブデ
ックのデータを入力してフォトマスクイメージのデータ
に変換した後、該データを画像表示装置に表示すること
ができることを特徴とする第三の発明又は第四の発明の
電子ビーム描画データの合成装置。」を提供するもので
ある。
【００１０】
【発明の実施の形態】最初に、本発明の電子ビーム描画
データの合成装置の処理手順を示して、その流れを説明
し、次いで、個々の工程について説明する。図１は本発
明の電子ビーム描画データの合成装置の処理手順の一例
を示したものである。以下に各工程の主たる機能を列挙
する。
データの合成装置の処理手順を示して、その流れを説明
し、次いで、個々の工程について説明する。図１は本発
明の電子ビーム描画データの合成装置の処理手順の一例
を示したものである。以下に各工程の主たる機能を列挙
する。
【００１１】（１）複数のパターンデータとジョブデッ
クのデータを入力して、フォトマスクイメージデータに
変換する工程（Ｄ１） フォトマスクイメージデータに変換することで、電子ビ
ーム描画データをＬＳＩ設計で一般的に使用されている
セルの集合体として扱えるようになる。尚、上記表現に
変換されたデータをＣＲＴ上に画面表示して、各パター
ンデータの重なりや配置を確認することにより、パター
ン配置に関する情報を知るようにすることも可能である
（Ｓ０）。
クのデータを入力して、フォトマスクイメージデータに
変換する工程（Ｄ１） フォトマスクイメージデータに変換することで、電子ビ
ーム描画データをＬＳＩ設計で一般的に使用されている
セルの集合体として扱えるようになる。尚、上記表現に
変換されたデータをＣＲＴ上に画面表示して、各パター
ンデータの重なりや配置を確認することにより、パター
ン配置に関する情報を知るようにすることも可能である
（Ｓ０）。
【００１２】（２）フォトマスクイメージデータからパ
ターンデータのデータを抽出する工程（Ｓ２） 合成すべきパターンファイルを抽出し、別のファイルに
コピーする。このとき、ネガパターンセルであればデー
タを反転し、ポジパターンセルであればそのままコピー
する。
ターンデータのデータを抽出する工程（Ｓ２） 合成すべきパターンファイルを抽出し、別のファイルに
コピーする。このとき、ネガパターンセルであればデー
タを反転し、ポジパターンセルであればそのままコピー
する。
【００１３】（３）抽出されたデータを合成する工程
（Ｓ３） 先の工程により、処理すべきパターンデータが全てポジ
パターンとなり、通常の階層処理によるマージを行っ
て、ひとつのパターンに合成するすることができる。こ
の際、必要に応じ、サイジング等の補正も行う。
（Ｓ３） 先の工程により、処理すべきパターンデータが全てポジ
パターンとなり、通常の階層処理によるマージを行っ
て、ひとつのパターンに合成するすることができる。こ
の際、必要に応じ、サイジング等の補正も行う。
【００１４】（４）合成されたデータを新たなパターン
データに変換する工程（Ｓ４） 合成されたパターンデータ（Ｄ３）を元の電子ビームフ
ォーマットに変換して、電子ビーム装置で使用できるよ
うにする。
データに変換する工程（Ｓ４） 合成されたパターンデータ（Ｄ３）を元の電子ビームフ
ォーマットに変換して、電子ビーム装置で使用できるよ
うにする。
【００１５】（５）元のジョブデックを修正して、新た
なパターンデータに適合せしめる工程（Ｓ５） 合成された新たなパターンデータを使用できるようにジ
ョブデックを自動で修正し、オペレーションの簡素化を
図るものである。 以上の工程で合成後のパターンデータ（Ｄ４）と修正さ
れたジョブディック（Ｄ５）を得ることが出来、これを
用いることにより、効率的な電子ビーム露光が達成され
る。
なパターンデータに適合せしめる工程（Ｓ５） 合成された新たなパターンデータを使用できるようにジ
ョブデックを自動で修正し、オペレーションの簡素化を
図るものである。 以上の工程で合成後のパターンデータ（Ｄ４）と修正さ
れたジョブディック（Ｄ５）を得ることが出来、これを
用いることにより、効率的な電子ビーム露光が達成され
る。
【００１６】
【実施例】上記で本発明の装置の概要を示したが、更に
具体的に各工程について説明する。再度、本発明の実施
例を本発明の処理手順を示す図（図１）に沿って説明す
る。
具体的に各工程について説明する。再度、本発明の実施
例を本発明の処理手順を示す図（図１）に沿って説明す
る。
【００１７】描画データの入力（図１中のＳ１） 先に示した図２に示すフォトマスクを描画するために
は、反データからなるパターンファイルデータＡと正デ
ータからなるパターンファイルデータＢ、パターンファ
イルデータＣが作成される。そして、本発明の合成装置
にフォトマスクに係るデータを入力する。図４は、描画
データの入力工程と、更にこの描画データに対応した各
セルのセル構造木を示したものである。各パターンデー
タＡ〜Ｃのフォーマットに合わせて、データ入力して、
セル構造に変換する。これらはＭＥＢＥＳフォーマット
であれば、１マスク中のデータは、パターンセルで構成
され、更にパターンセルはセグメントセルで、セグメン
トセルはストライプセルで構成されるという様に構造木
で表現されるような構成をとる。そして、各パターンデ
ータのルートセルをジョブデックで指定される箇所にセ
ルを配置する。このように表現することで、電子ビーム
描画データをＬＳＩ設計で一般的に使用されているセル
の集合体として扱えるようになり、かつ、電子ビーム描
画データ固有の情報も失われることは無い。また、後述
する階層処理による図形演算も可能となり、図形処理能
率を向上せしめる効果がある。このとき、仮にパターン
データＡのアドレスユニットとジョブデックに記述され
たアドレスユニットに描画シュリンクがあれば、レベル
セルからパターンセルＡの引用に引用倍率を付与する。
同様にしてセル構造表現のデータベースのアドレスユニ
ットとパターンファイルのユニット値に違いがあれば、
その差も引用倍率として付与する。例えば、パターンア
ドレスのユニット値が0.0３１２５で図１中のＤ１のデ
ータベースユニットのユニット値が0.00１であれば、パ
ターンセルの引用には３１.１５倍の倍率を掛けるよう
にする。
は、反データからなるパターンファイルデータＡと正デ
ータからなるパターンファイルデータＢ、パターンファ
イルデータＣが作成される。そして、本発明の合成装置
にフォトマスクに係るデータを入力する。図４は、描画
データの入力工程と、更にこの描画データに対応した各
セルのセル構造木を示したものである。各パターンデー
タＡ〜Ｃのフォーマットに合わせて、データ入力して、
セル構造に変換する。これらはＭＥＢＥＳフォーマット
であれば、１マスク中のデータは、パターンセルで構成
され、更にパターンセルはセグメントセルで、セグメン
トセルはストライプセルで構成されるという様に構造木
で表現されるような構成をとる。そして、各パターンデ
ータのルートセルをジョブデックで指定される箇所にセ
ルを配置する。このように表現することで、電子ビーム
描画データをＬＳＩ設計で一般的に使用されているセル
の集合体として扱えるようになり、かつ、電子ビーム描
画データ固有の情報も失われることは無い。また、後述
する階層処理による図形演算も可能となり、図形処理能
率を向上せしめる効果がある。このとき、仮にパターン
データＡのアドレスユニットとジョブデックに記述され
たアドレスユニットに描画シュリンクがあれば、レベル
セルからパターンセルＡの引用に引用倍率を付与する。
同様にしてセル構造表現のデータベースのアドレスユニ
ットとパターンファイルのユニット値に違いがあれば、
その差も引用倍率として付与する。例えば、パターンア
ドレスのユニット値が0.0３１２５で図１中のＤ１のデ
ータベースユニットのユニット値が0.00１であれば、パ
ターンセルの引用には３１.１５倍の倍率を掛けるよう
にする。
【００１８】また、ジョブデックでミラー反転を指示す
る場合にはその情報もパターンセルの引用に付与する。
更に、ポジ／ネガの情報も各セルに付与する。即ち、パ
ターンファイルデータＡには反データ、パターンファイ
ルデータＢとパターンファイルデータＣには正データを
付与する。そして、パターンセル以外のセルは全てミラ
ー反転無しで、倍率１のセルとして扱うこととする。以
上のセル構造のもと、パターンファイル内のデータをそ
れぞれのセグメント／ストライプセルに等倍で変換す
る。このようにすることにより、異なるアドレスユニッ
トを持つパターンファイルが混在しても一様に表現する
ことが出来、かつ、電子ビーム描画装置が規定するシュ
リンク率の限界精度がアドレスユニットの値を超えてい
ても精度良く変換することができる。
る場合にはその情報もパターンセルの引用に付与する。
更に、ポジ／ネガの情報も各セルに付与する。即ち、パ
ターンファイルデータＡには反データ、パターンファイ
ルデータＢとパターンファイルデータＣには正データを
付与する。そして、パターンセル以外のセルは全てミラ
ー反転無しで、倍率１のセルとして扱うこととする。以
上のセル構造のもと、パターンファイル内のデータをそ
れぞれのセグメント／ストライプセルに等倍で変換す
る。このようにすることにより、異なるアドレスユニッ
トを持つパターンファイルが混在しても一様に表現する
ことが出来、かつ、電子ビーム描画装置が規定するシュ
リンク率の限界精度がアドレスユニットの値を超えてい
ても精度良く変換することができる。
【００１９】画面表示装置（図１中のＳ０） 次にＤ１のセル表現のデータを画面に表示する。パター
ンファイルの重なりや配置の確認を容易にすることがで
きる。
ンファイルの重なりや配置の確認を容易にすることがで
きる。
【００２０】合成データ抽出（図１中のＳ２） 図１中のＤ１のセル表現のデータから合成すべきセルを
抽出する。合成すべきセルは画面表示装置（図１中のＳ
０）における画面表示装置にて確認後指示すること、ま
たは、パターンの重なり等を自動的に判定した後、指示
してもよい。選択されたパターンデータＡ及びパターン
データＢのうち、パターンデータＡのセルをルートとし
て子孫のセル、即ち、セグメントセル、ストライプセル
を全て取り出し、合成すべきデータとして出力する。こ
のときパターンデータＡのセルには描画データの入力
（図１中のＳ１）において、パターンデータＡのセルに
反マークが付与しておいた（図４）。この場合は、パタ
ーンデータＡのセルを反転した後、出力する処理を行
い、正データとする。具体的にはパターンデータＡのセ
ルの領域を囲む矩形を発生させ、次にパターンデータＡ
のセル内のパターン図形とパターンデータＡのセルが引
用する子セルＡ１、Ａ２、Ａ３、…を囲む矩形で論理差
（NOT）を出力する。これを各セルデータの反転処理を
全ての子孫が終了するまで繰り返し、結果を出力させ
る。次に、パターンデータＢのセルに対して行うが、こ
のセルはポジマークが付与されているため、反転処理は
行わずに単にコピー出力を行う。この結果、図４の構造
木が図５に示すように抽出された合成データは全てポジ
データとして統一されることとなる。
抽出する。合成すべきセルは画面表示装置（図１中のＳ
０）における画面表示装置にて確認後指示すること、ま
たは、パターンの重なり等を自動的に判定した後、指示
してもよい。選択されたパターンデータＡ及びパターン
データＢのうち、パターンデータＡのセルをルートとし
て子孫のセル、即ち、セグメントセル、ストライプセル
を全て取り出し、合成すべきデータとして出力する。こ
のときパターンデータＡのセルには描画データの入力
（図１中のＳ１）において、パターンデータＡのセルに
反マークが付与しておいた（図４）。この場合は、パタ
ーンデータＡのセルを反転した後、出力する処理を行
い、正データとする。具体的にはパターンデータＡのセ
ルの領域を囲む矩形を発生させ、次にパターンデータＡ
のセル内のパターン図形とパターンデータＡのセルが引
用する子セルＡ１、Ａ２、Ａ３、…を囲む矩形で論理差
（NOT）を出力する。これを各セルデータの反転処理を
全ての子孫が終了するまで繰り返し、結果を出力させ
る。次に、パターンデータＢのセルに対して行うが、こ
のセルはポジマークが付与されているため、反転処理は
行わずに単にコピー出力を行う。この結果、図４の構造
木が図５に示すように抽出された合成データは全てポジ
データとして統一されることとなる。
【００２１】マージ／補正（図１中のＳ３） 次に抽出されたセルデータを通常使用されるマージ（Ｏ
Ｒ）を使って合成する。更に必要に応じてサイジング処
理を行う。ここでのマージ処理においての特徴は、同一
パターンが多面付けされているパターンデータのセルの
実体はひとつのセル木として表現して、このパターンを
繰り返し用いることで、それぞれ複数のデータを１回で
処理している点である。例えば、図８は、同一パターン
が多面付けされているパターンデータを一括して、反転
処理する様子を概念的に示したものである。複数のパタ
ーンＡのうち、一つのチップのパターンＡのみに対して
反転指示するさせることで、同一のパターンＡは全て反
転される。この様に、同一パターンに対する階層処理は
１回で足るのである。これらの工程により、複数のパタ
ーンデータを一つのパターンデータに合成することがで
きる。図２と図６のフォトマスク及びデータを比較する
とパターンデータＡ（図２中２２）とパターンデータＢ
（図２中２３）が一つのパターンデータＸ（図６中６
２）に合成されていることが判る。
Ｒ）を使って合成する。更に必要に応じてサイジング処
理を行う。ここでのマージ処理においての特徴は、同一
パターンが多面付けされているパターンデータのセルの
実体はひとつのセル木として表現して、このパターンを
繰り返し用いることで、それぞれ複数のデータを１回で
処理している点である。例えば、図８は、同一パターン
が多面付けされているパターンデータを一括して、反転
処理する様子を概念的に示したものである。複数のパタ
ーンＡのうち、一つのチップのパターンＡのみに対して
反転指示するさせることで、同一のパターンＡは全て反
転される。この様に、同一パターンに対する階層処理は
１回で足るのである。これらの工程により、複数のパタ
ーンデータを一つのパターンデータに合成することがで
きる。図２と図６のフォトマスク及びデータを比較する
とパターンデータＡ（図２中２２）とパターンデータＢ
（図２中２３）が一つのパターンデータＸ（図６中６
２）に合成されていることが判る。
【００２２】パターンフォーマット変換（図１中のＳ
４） 合成データを電子ビーム露光装置が取り扱える形式のフ
ォーマットに変換して、合成後のパターンデータを得
る。
４） 合成データを電子ビーム露光装置が取り扱える形式のフ
ォーマットに変換して、合成後のパターンデータを得
る。
【００２３】ジョブディック更新（図１中のＳ５） 上記の装置にて、パターンデータが抽出したパターン位
置と同じ箇所にくるようにジョブデックを修正する。図
９は更新前の元のジョブディックと更新後の新たなジョ
ブディックを概念的に示したものである。例えば、異な
るパターンであるＣＨＩＰ ＡとＣＨＩＰＢが隣接して
存在する場合、ＣＨＩＰ ＡＢとして新たなパターンと
してジョブディックを更新すると共にこれに応じた新た
な番地を指定する。これにより、データの簡素化を図
る。その後、合成すべきパターンがある場合は再びの合
成データ抽出（図１中のＳ２）に戻り、処理が繰り返さ
れる。最後に、合成すべきパターンが無いときは処理は
終了する。
置と同じ箇所にくるようにジョブデックを修正する。図
９は更新前の元のジョブディックと更新後の新たなジョ
ブディックを概念的に示したものである。例えば、異な
るパターンであるＣＨＩＰ ＡとＣＨＩＰＢが隣接して
存在する場合、ＣＨＩＰ ＡＢとして新たなパターンと
してジョブディックを更新すると共にこれに応じた新た
な番地を指定する。これにより、データの簡素化を図
る。その後、合成すべきパターンがある場合は再びの合
成データ抽出（図１中のＳ２）に戻り、処理が繰り返さ
れる。最後に、合成すべきパターンが無いときは処理は
終了する。
【００２４】
【発明の効果】図７はパターンフォーマット変換後のデ
ータを用いて電子ビーム露光をする描画手順を現した図
である。本発明の合成方法・合成装置を用いずに電子ビ
ームを描画する場合は、まず、パターンデータＡを描画
するとともにパターンデータＢの部位は目隠しデータＤ
として、電子銃を作動させず、空打ちさせるパターンＣ
を描画し、更にパターンデータＢを描画する必要があっ
た。これに対して、図７では、パターンＸを連続的に描
画することができ、この結果、電子描画の空打ち時間が
減少し、描画時間が大幅に短縮することとなる。また、
予め、パターンデータを合成して、簡素化を図っている
ので、描画時の電子ビームの位置精度向上に資するこ
と、更に、描画データの減少によって使用メモリ量が節
約され、その扱いが容易になる効果を奏するものであ
る。
ータを用いて電子ビーム露光をする描画手順を現した図
である。本発明の合成方法・合成装置を用いずに電子ビ
ームを描画する場合は、まず、パターンデータＡを描画
するとともにパターンデータＢの部位は目隠しデータＤ
として、電子銃を作動させず、空打ちさせるパターンＣ
を描画し、更にパターンデータＢを描画する必要があっ
た。これに対して、図７では、パターンＸを連続的に描
画することができ、この結果、電子描画の空打ち時間が
減少し、描画時間が大幅に短縮することとなる。また、
予め、パターンデータを合成して、簡素化を図っている
ので、描画時の電子ビームの位置精度向上に資するこ
と、更に、描画データの減少によって使用メモリ量が節
約され、その扱いが容易になる効果を奏するものであ
る。
【図１】 本発明の電子ビーム描画データの合成装置の
処理手順の一例を示した図である。
処理手順の一例を示した図である。
【図２】 従来装置によるフォトマスクの描画エリアと
対応するデータを示した一例である。
対応するデータを示した一例である。
【図３】 従来装置によるフォトマスクの電子ビームの
描画順を示した図である。
描画順を示した図である。
【図４】 描画データの入力工程とこの描画データに対
応する各セルのセル構造木を示した図である。
応する各セルのセル構造木を示した図である。
【図５】 ポジ／ネガ反転後の抽出された合成データを
構造木で示した図である。
構造木で示した図である。
【図６】 本願装置によるフォトマスクの描画エリアと
対応するデータを示した図である。
対応するデータを示した図である。
【図７】 本願装置によるフォトマスクの電子ビームの
描画順を示した図である。
描画順を示した図である。
【図８】 本願装置によってデータのポジ／ネガ反転を
一括して行う処理を概念的にを示した図である。
一括して行う処理を概念的にを示した図である。
【図９】 本願装置によってデータ更新前後のジョブデ
ィックを概念的に示した図である。
ィックを概念的に示した図である。
Ｓ１、Ｓ２、Ｓ３、Ｓ４、Ｓ５ … セル Ｄ１、Ｄ２、Ｄ３、Ｄ４、Ｄ５ … データ ２１ … フォトマスク基板 ２２ … パターンＡ ２３ … パターンＢ ２４、６１ … パターンＣ ３１ … 目隠しパターンＤ
Claims (5)
- 【請求項１】 フォトマスクに描画されるべき複数のパ
ターンデータとジョブデックからなる電子ビーム描画デ
ータを入力し、該パターンデータの中で重なり合ったデ
ータまたは／および隣り合ったデーターを合成して新た
なパターンデータを作成するとともにジョブデックを修
正して、新たな電子ビーム描画データを生成する工程で
あって、少なくとも、複数の該パターンデータと該ジョ
ブデックのデータを入力して、フォトマスクイメージデ
ータに変換する工程と、該フォトマスクイメージデータ
からパターンデータのデータを抽出する工程と、抽出さ
れたデータを合成する工程と、合成されたデータを新た
なパターンデータに変換する工程と、を有することを特
徴とする電子ビーム描画データの合成方法。 - 【請求項２】 フォトマスクに描画されるべき複数のパ
ターンデータとジョブデックからなる電子ビーム描画デ
ータを入力し、該パターンデータの中で重なり合ったデ
ータまたは／および隣り合ったデーターを合成して新た
なパターンデータを作成するとともにジョブデックを修
正して、新たな電子ビーム描画データを生成する工程で
あって、少なくとも、複数の該パターンデータと該ジョ
ブデックのデータを入力して、フォトマスクイメージデ
ータに変換する工程と、該フォトマスクイメージデータ
からパターンデータのデータを抽出する工程と、抽出さ
れたデータを合成する工程と、合成されたデータを新た
なパターンデータに変換する工程と、元のジョブデック
を修正して、新たなパターンデータに適合せしめる工程
と、を含むことを特徴とする電子ビーム描画データの合
成方法。 - 【請求項３】 フォトマスクに描画されるべき複数のパ
ターンデータとジョブデックからなる電子ビーム描画デ
ータを入力し、該パターンデータの中で重なり合ったデ
ータまたは／および隣り合ったデーターを合成して新た
なパターンデータを作成するとともにジョブデックを修
正して、新たな電子ビーム描画データを生成する装置で
あって、少なくとも、複数の該パターンデータと該ジョ
ブデックのデータを入力して、フォトマスクイメージデ
ータに変換する工程と、該フォトマスクイメージデータ
からパターンデータのデータを抽出する工程と、抽出さ
れたデータを合成する工程と、合成されたデータを新た
なパターンデータに変換する工程と、を有することを特
徴とする電子ビーム描画データの合成装置。 - 【請求項４】 フォトマスクに描画されるべき複数のパ
ターンデータとジョブデックからなる電子ビーム描画デ
ータを入力し、該パターンデータの中で重なり合ったデ
ータまたは／および隣り合ったデータを合成して新たな
パターンデータを作成するとともにジョブデックを修正
して、新たな電子ビーム描画データを生成する装置であ
って、少なくとも、複数の該パターンデータと該ジョブ
デックのデータを入力して、フォトマスクイメージデー
タに変換する工程と、該フォトマスクイメージデータか
らパターンデータのデータを抽出する工程と、抽出され
たデータを合成する工程と、合成されたデータを新たな
パターンデータに変換する工程と、元のジョブデックを
修正して、新たなパターンデータに適合せしめる工程
と、を含むことを特徴とする電子ビーム描画データの合
成装置。 - 【請求項５】 上記電子ビーム描画データの合成装置に
おいて、複数のパターンデータとジョブデックのデータ
を入力してフォトマスクイメージのデータに変換した
後、該データを画像表示装置に表示することができるこ
とを特徴とする請求項３又は請求項４の電子ビーム描画
データの合成装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21415396A JPH1041224A (ja) | 1996-07-24 | 1996-07-24 | 電子ビーム描画データの合成方法及びその合成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21415396A JPH1041224A (ja) | 1996-07-24 | 1996-07-24 | 電子ビーム描画データの合成方法及びその合成装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1041224A true JPH1041224A (ja) | 1998-02-13 |
Family
ID=16651107
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21415396A Withdrawn JPH1041224A (ja) | 1996-07-24 | 1996-07-24 | 電子ビーム描画データの合成方法及びその合成装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1041224A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005521071A (ja) * | 2001-07-13 | 2005-07-14 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 階層データのキャッシュされたセルを用いるパターン生成方法及び装置 |
| KR101005662B1 (ko) | 2008-11-10 | 2011-01-05 | 주식회사 동부하이텍 | 포토마스크 데이터 검사방법 |
-
1996
- 1996-07-24 JP JP21415396A patent/JPH1041224A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005521071A (ja) * | 2001-07-13 | 2005-07-14 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 階層データのキャッシュされたセルを用いるパターン生成方法及び装置 |
| KR101005662B1 (ko) | 2008-11-10 | 2011-01-05 | 주식회사 동부하이텍 | 포토마스크 데이터 검사방법 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20031007 |