JP4178263B2 - データ保存方法及びデータ保存装置 - Google Patents

Description

本発明は、半導体装置製造工程で作成される、マスクやレチクル等のフォトマスクのパターンデータを保存するためのデータ保存方法及びデータ保存装置に関する。

近年のＬＳＩ等の半導体装置製造工程において、半導体装置の微細化に伴い、フォトマスク等のパターンのデータ量は増加傾向にある。また、図形パターンの細密化により、光近接効果補正法（ＯＰＣ；ｏｐｔｉｃａｌ＿ｐｒｏｘｉｍｉｔｙ＿ｃｏｒｒｅｃｔｉｏｎ）等の図形パターン補正処理が必須となっており、このこともパターンのデータ量をさらに増加させている。
フォトマスクは、ガラス等の透明基板上に光を通さない材料で電子回路パターンを形成した部品である。フォトマスクは、半導体装置製造工程に用いられるフォトリソグラフィ法で、ウェハ上に回路パターンを転写する際に用いられる。
半導体装置製造工程で作成されるフォトマスクには、様々な種類がある。大別すると、フォトマスクには、半導体装置と等倍の回路パターンをフォトマスク上に形成し、ウェハ上に一括転写する際に用いられるマスクや、縮小投影露光装置（ステッパ）に用いられるレチクルなどがある。これらを総称してフォトマスクと呼ぶのが一般的である。近年では、半導体装置の微細化に伴い、レチクルがフォトリソグラフィ法で使用されるマスクの主流となっている。
従来のＬＳＩ製造用パターンデータは、レジストに合わせてパターンの白黒イメージが決まる。また、パターン形状の複雑化に伴い、フォトマスク等のパターンのデータ量が増加する傾向にある。
なお、特開平６−１５１２８６号公報には、電子ビーム露光における近接効果補正にＧＨＯＳＴ法を用いた際の補正用露光に対し多重露光を使用せずに露光する方法が示されている。また、特開平６−０２９１９９号公報には、ビーム露光によってレジストを露光してフォトマスクを製作するための反転マスクパターンデータの作成方法が示されている。
上述のように、ＬＳＩ等の半導体装置製造用パターンデータにおいて、半導体装置の微細化に伴い、フォトマスク等のパターンのデータ量が増加傾向にある。
従来のデータ保存方法では、レジストに合わせてパターンの白黒イメージが固定的に決定される。すなわち、パターンデータを複数の領域（ここでは、露光／検査用データで設定される一定の領域をフィールドとよぶ）に分割して、各フィールド毎に個々のパターンを保存する際、その決定された白又は黒イメージで個々のパターンが保存される。
例えば、レジストに合わせて白イメージでパターンデータを保存する場合には、各フィールドの個々のパターンを白イメージで保存することになる。逆に、レジストに合わせて黒イメージでパターンデータを保存する場合には、各フィールドの個々のパターンを黒イメージで保存することになる。
しかし、パターン形状の複雑化に伴い、白イメージで保存するべき各フィールドのパターン数が、黒イメージで保存する場合よりも多くなる場合がある。この場合、上記従来のデータ保存方法では、必要以上に多くのデータ量を保存することになり、更にデータ量を増加させてしまうという課題がある。
今後、大規模データのハンドリング、データ転送やデータ保管に対して、装置環境の整備等で対応することが考えられるが、装置環境の整備のために、設備投資などコストの増加が予想される。従って、装置環境の整備の際に必要となるコストをできる限り低減することが要望されている。

本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、ＬＳＩ製造用のパターンデータを保存するデータ保存方法及びデータ保存装置において、必要最小限のデータ量で保存することを目的とする。
上記課題を解決するため、本発明のデータ保存方法は、半導体装置製造用フォトマスクの白黒パターンのデータを入力して複数の領域に分割する領域分割手順と、各領域ごとに、黒パターンを１又は複数個の矩形に分割し、その分割された矩形の個数を算出する第１の算出手順と、各領域ごとに、白黒パターンを反転し、元の白パターンに対応する黒パターンを１又は複数個の矩形に分割し、その分割された矩形の個数を算出する第２の算出手順と、各領域ごとに、前記第１の算出手順で算出した元の黒パターンを構成する矩形の個数と、前記第２の算出手順で算出した元の白パターンを構成する矩形の個数を大小比較し、個数の少ない方のパターンを選択する比較手順と、各領域ごとに、前記比較手順で選択されたパターンのデータをその領域についてのパターンデータとして記録媒体に記録する記録手順とを有することを特徴とする。
また、上記課題を解決するため、本発明のデータ保存装置は、半導体装置製造用フォトマスクの白黒パターンのデータを入力して複数の領域に分割する領域分割手段と、各領域ごとに、黒パターンを１又は複数個の矩形に分割し、その分割された矩形の個数を算出する第１の算出手段と、各領域ごとに、白黒パターンを反転し、元の白パターンに対応する黒パターンを１又は複数個の矩形に分割し、その分割された矩形の個数を算出する第２の算出手段と、各領域ごとに、前記第１の算出手段で算出した元の黒パターンを構成する矩形の個数と、前記第２の算出手段で算出した元の白パターンを構成する矩形の個数を大小比較し、個数の少ない方のパターンを選択する比較手段と、各領域ごとに、前記比較手段で選択されたパターンのデータをその領域についてのパターンデータとして記録媒体に記録する記録手段とを備えることを特徴とする。
本発明のデータ保存方法及びデータ保存装置によれば、露光／検査用データで設定される一定の領域（フィールド）毎にパターン数の少ない方のパターンが元の白パターンであるか、あるいは、元の黒パターンであるかを判定し、パターン数の少ない方のパターンのデータを選択して保存する。したがって、半導体装置製造用の白黒パターンのデータとして必要最小限のデータ量でデータ保存することができる。これにより、データのハンドリングや転送時間を軽減することができる。また、外部記憶装置等の装置資源を有効に活用することができる。

本発明の他の目的、特徴及び利点については、添付の図面に基づき下記の発明の詳細な説明を参照することにより明確となる。
図１は、本発明の実施の一形態に係るデータ保存装置の構成を示すブロック図である。
図２は、本発明の実施の一形態に係るデータ保存装置の機能ブロック図である。
図３は、本発明の実施の一形態に係るデータ保存方法を説明するためのフロー図である。
図４は、図形データを複数のフィールドに領域分割したときの一例を示す図である。
図５は、図４のデータ中のフィールドＡに対し行われる処理の例を説明するための図である。
図６は、図４のデータ中のフィールドＢに対し行われる処理の例を説明するための図である。
図７は、図４のデータ中のフィールドＣに対し行われる処理の例を説明するための図である。
図８は、図４のデータ中のフィールドＤに対し行われる処理の例を説明するための図である。
図９は、実際のパターンに本発明のデータ保存方法を適用した例を示す図である。
図１０は、実際のパターンに本発明のデータ保存方法を適用した例を示す図である。

本発明の実施の形態を添付の図面を用いて説明する。
図１は、本発明の実施の一形態に係るデータ保存装置の構成を示す。
図１のデータ保存装置は、入力デバイス２と、表示装置４と、メモリ６と、外部記憶装置８と、ＣＰＵ１０と、通信アダプタ１２とを含む。入力デバイス２、表示装置４、メモリ６、外部記憶装置８、ＣＰＵ１０、及び通信アダプタ１２は、バス１１により互いに接続されている。
ＣＰＵ１０は、図１のデータ保存装置全体を制御する制御部である。とくに、ＣＰＵ１０は、メモリ６に予め記憶されたデータ保存プログラムを実行することにより、ＬＳＩ等の半導体装置製造用フォトマスクの白黒パターンのデータを必要最小限のデータ量で保存するデータ保存装置（後述する）を実現する。
入力デバイス２は、半導体装置製造用フォトマスクの白黒パターンのデータを入力して外部記憶装置８内の記憶媒体に取り込む。あるいは、入力すべき白黒パターンの画像データを予め記録媒体に記録しておき、その記録媒体を外部記憶装置８を用いて読み込むことも可能である。あるいは、外部端末からネットワーク経由で通信アダプタ１２との通信を行うことにより、受信したデータを外部記憶装置８の記録媒体に記録することも可能である。
表示装置４は、前記データ保存プログラムに従って処理された、半導体装置製造用フォトマスクの白黒パターンの画像データを画面へ表示する。
図２は、本発明の実施の一形態に係るデータ保存装置の機能ブロック図である。
上述のように、図２のデータ保存装置は、図１のＣＰＵ１０により実行されるデータ保存プログラムにより、半導体装置製造用フォトマスクの白黒パターンのデータを必要最小限のデータ量で保存する。
図２に示したように、このデータ保存装置は、データ入力ブロック２１と、領域分割ブロック２２と、最終フィールド判定ブロック２３と、矩形分割ブロック２４と、パターン数計算ブロック２５と、白黒反転ブロック２６と、矩形分割ブロック２７と、パターン数計算ブロック２８と、パターン数比較ブロック２９と、データ保存ブロック３０とを含む。
図２のデータ保存装置において、データ入力ブロック２１は、入力デバイス２を用いて、半導体装置製造用フォトマスクの白黒パターンのデータを入力する。
領域分割ブロック２２は、入力された白黒パターンのデータ全体を複数のフィールド（露光／検査用データで設定される一定の領域）に領域分割する。この分割された複数のフィールドのパターンデータのそれぞれに対し、上記ブロック２３−３０による各処理手順が実行される。
最終フィールド判定ブロック２３は、領域分割ブロック２２で分割された複数のフィールドの中から取り出した一つのフィールド（対象フィールド）が最終のフィールドであるか否かを判定する。最終のフィールドでない場合には、対象フィールドに対し、上記ブロック２４−３０による各処理手順が実行される。最終のフィールドである場合、その最終のフィールド（対象フィールド）のデータ保存が完了すると、入力された白黒パターンのデータ全体に対する処理が終了する。
矩形分割ブロック２４は、対象フィールドの黒パターン（通常イメージ）を１又は複数個の矩形に分割する。
パターン数計算ブロック２５は、矩形分割ブロック２４で分割された、対象フィールドの黒パターンの矩形の個数Ａを算出する。
白黒反転ブロック２６は、対象フィールドの白黒パターンを反転させたパターンを生成する。
矩形分割ブロック２７は、白黒反転ブロック２６で生成された反転パターンの黒パターン（元の白パターンに対応する反転イメージ）を１又は複数個の矩形に分割する。
パターン数計算ブロック２８は、矩形分割ブロック２７で分割された、対象フィールドの黒パターン（元の白パターンに対応する）の矩形の個数Ｂを算出する。
パターン数比較ブロック２９は、パターン数計算ブロック２５で算出された、元の黒パターンを構成する矩形の個数Ａと、パターン数計算ブロック２８で算出された元の白パターンを構成する矩形の個数Ｂとを大小比較して、個数の少ない方のパターンを選択する。
すなわち、矩形の個数Ａ≦矩形の個数Ｂの場合には、パターン数比較ブロック２９は元の黒パターンのデータを選択する。矩形の個数Ａ＞矩形の個数Ｂの場合には、パターン数比較ブロック２９は元の白パターンのデータを選択する。また、後者の場合（元の白パターンのデータを選択した場合）、パターン数比較ブロック２９は、元の白パターンのデータに、パターンが白黒反転されていることを示す反転フラグ情報を追加する。
データ保存ブロック３０は、パターン数比較ブロック２９で選択されたパターンのデータを対象フィールドについてのパターンデータとして外部記憶装置８の記録媒体に記録する。その際、元の白パターンのデータを選択した場合には、前記反転フラグ情報を、対象フィールドについてのパターンデータとともに、外部記憶装置８の記録媒体に記録しておく。
対象フィールドが最終のフィールドでない場合には、上記ブロック２４−３０による各処理手順が繰り返し実行される。対象フィールドが最終のフィールドである場合には、その最終のフィールド（対象フィールド）のデータ保存が完了すると、入力された白黒パターンのデータ全体に対する処理が終了する。
図２のデータ保存装置においては、元の白パターンのデータ（反転イメージ）を選択した場合には、反転フラグ情報が、対象フィールドのパターンデータとともに、記録媒体に記録される。したがって、記録媒体から各フィールドのパターンデータを読み出す際に、そのフィールドについての反転フラグ情報がある場合には、読み出したパターンを反転することにより、半導体装置製造用の白黒パターンとして使用する。
以上説明したように、図２のデータ保存装置によれば、矩形分割された図形パターンの個数を必要最小限にして保存することができるので、保存すべきデータ量を従来の場合よりも低減することができる。
図３は、本発明の実施の一形態に係るデータ保存方法を説明するためのフロー図である。
図２と同様に、図３のデータ保存方法は、図１のＣＰＵ１０により実行されるデータ保存プログラムにより、半導体装置製造用フォトマスクの白黒パターンのデータを必要最小限のデータ量で保存する。
図３のデータ保存方法が開始すると、ステップＳ３１において、ＣＰＵ１０は、入力デバイス２を用いて、半導体装置製造用フォトマスクの白黒パターンのデータを入力し、入力された白黒パターンのデータ全体を複数のフィールド（露光／検査用データで設定される一定の領域）に領域分割する。
この分割された複数のフィールドのパターンデータのそれぞれに対し、下記の各ステップが実行される。
ステップＳ３２において、ＣＰＵ１０は、分割された複数のフィールドの中から取り出した一つのフィールド（対象フィールド）の黒パターン（通常イメージ）を１又は複数個の矩形に分割し、その分割された対象フィールドの黒パターンの矩形の個数Ａを算出する。
ステップＳ３３において、ＣＰＵ１０は、対象フィールドの白黒パターンを反転させたパターンを生成し、生成された反転パターンの黒パターン（元の白パターンに対応する反転イメージ）を１又は複数個の矩形に分割し、その分割された対象フィールドの黒パターン（元の白パターンに対応する）の矩形の個数Ｂを算出する。
ステップＳ３４において、ＣＰＵ１０は、ステップＳ３２で算出された、元の黒パターンを構成する矩形の個数Ａが、ステップＳ３３で算出された、元の白パターンを構成する矩形の個数Ｂ以下であるか否かを判定する。
ステップＳ３４の判定結果がＹＥＳ（Ａ≦Ｂ）の場合、ステップＳ３５において、ＣＰＵ１０は、元の黒パターンのデータを選択し、その選択されたパターンのデータを対象フィールドについてのパターンデータとして外部記憶装置８の記録媒体に記録する。このステップＳ３５が完了すると、ＣＰＵ１０は次のステップＳ３８に移行する。
一方、ステップＳ３４の判定結果がＮＯ（Ａ＞Ｂ）の場合、ステップＳ３６において、ＣＰＵ１０は、元の白パターンのデータを選択し、選択された白パターンのデータに、パターンが白黒反転されていることを示す反転フラグ情報を追加する。
ステップＳ３６が完了すると、ステップＳ３７において、ＣＰＵ１０は、選択された白パターンのデータを対象フィールドについてのパターンデータとして外部記憶装置８の記録媒体に記録すると共に、ステップＳ３６で追加された反転フラグ情報を記録する。このステップＳ３７が完了すると、ＣＰＵ１０は次のステップＳ３８に移行する。
ステップＳ３８において、ＣＰＵ１０は、対象フィールドがステップＳ３１で分割された複数のフィールドの中の最終のフィールドであるか否かを判定する。
ステップＳ３８の判定結果がＮＯ（対象フィールドが最終のフィールドでない）の場合には、ＣＰＵ１０は上記ステップＳ３２へ戻り、次のフィールドのパターンデータについて、上記ステップＳ３２−Ｓ３７の各処理手順を繰り返す。
ステップＳ３８の判定結果がＹＥＳ（対象フィールドが最終のフィールドである）の場合には、入力された白黒パターンのデータ全体に対する処理が終了する。
したがって、図３のデータ保存方法によれば、矩形分割された図形パターンの個数を必要最小限にして保存することができるので、保存すべきデータ量を従来の場合よりも低減することができる。
図４は、ＬＳＩ等の半導体装置製造用フォトマスクの図形パターンデータを複数のフィールドに領域分割したときの一例を示す。
図４の図形データを全体イメージとして、複数のフィールドＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄ（図４の格子状の点線で示す）に領域分割を行った場合を考える。
図５、図６、図７及び図８はそれぞれ、図４の図形パターンデータ中のフィールドＡ、Ｂ、Ｃ及びＤに対して行われる処理の例を説明するための図である。図５、図６、図７及び図８において、（ａ）は元の黒パターンの矩形分割を行った状態、（ｂ）は元の白パターンの矩形分割を行った状態、（ｃ）はパターン数の比較判定を行った結果、（ｄ）は保存すべきパターンデータをそれぞれ示している。
図５乃至図８に示したように、各フィールド毎に、元の黒パターンの矩形分割を行い、その分割された矩形パターンの個数Ａを算出すると共に、白黒反転させた反転イメージの黒パターン（元の白パターンに対応する）の矩形分割を行い、その分割された矩形パターンの個数Ｂを算出する。
さらに、算出された矩形パターンの個数Ａと矩形パターンの個数Ｂとを比較判定し、個数が少ない方のパターンを選択して、その選択されたパターンのデータをそのフィールドについてのパターンデータとして記録媒体に保存する。
図５及び図６に示したように、フィールドＡ及びフィールドＢについては、元の黒パターンの矩形パターンの個数が少ないため、元の図形パターンの白黒イメージ通りに各フィールドのパターンデータを記録する（黒パターンを登録）。
図７及び図８に示したように、フィールドＣ及びフィールドＤについては、元の白パターンの矩形パターンの個数が少ないため、元の図形パターンの白黒イメージを反転させた反転イメージで各フィールドのパターンデータを記録する（白パターンを登録）。また、パターンが白黒反転されていることを示す反転フラグ情報を追加して記録する。
上記の処理により、各フィールド毎に矩形分割された図形パターンの個数を必要最小限にして保存することができるので、保存すべきデータ量を従来の場合よりも低減することができる。
具体的には、図５のフィールドＡでは、元の黒パターンの矩形パターンが１個、元の白パターンの矩形パターンが２個であり、パターン数の少ない黒パターンを選択してフィールドＡのパターンデータとして保存する。記録すべきデータ中に反転フラグ情報は含まれない。
図６のフィールドＢでは、元の黒パターンの矩形パターンが１個、元の白パターンの矩形パターンが１個であり、パターン数の少ない黒パターンを選択してフィールドＢのパターンデータとして保存する。この場合には、黒パターンのパターン数は白パターンのパターン数と同じであり、白黒反転処理が不要な黒パターンが選択される。記録すべきデータ中に反転フラグ情報は含まれない。
図７のフィールドＣでは、元の黒パターンの矩形パターンが３個、元の白パターンの矩形パターンが１個であり、パターン数の少ない白パターンを選択してフィールドＣのパターンデータとして保存する。記録すべきデータ中に反転フラグ情報が追加されて保存される。
図８のフィールドＤの場合、元の黒パターンの矩形パターンが２個、元の白パターンが１個であり、パターン数の少ない白パターンを選択してフィールドＤのパターンデータとして保存する。記録すべきデータ中に反転フラグ情報が追加されて保存される。
図９は、実際の半導体装置製造用の図形パターンに本発明のデータ保存方法を適用した例を示す。
図９の例では、図形パターンのデータを入力して複数のフィールドに分割した後の１つのフィールドのデータに対する矩形分割とパターン数計算の処理手順が示されている。
図９に示したように、元の黒パターン（通常イメージ）の矩形パターンの個数Ａが２６７個であり、元の白パターン（反転イメージ）の矩形パターンの個数Ｂが２１６個である。パターン数の少ない白パターン（反転イメージ）が選択される。反転フラグ情報を追加し、白パターンのデータを外部記録装置８の記録媒体に保存することにより、図形パターンの個数を必要最小限にして保存することができる。黒パターンのデータを保存する場合と比較すると、本発明のデータ保存方法によれば、保存すべき図形パターンの個数は５１個少なくなる。
図１０は、実際の半導体装置製造用の図形パターンに本発明のデータ保存方法を適用した例を示す。
図１０の例では、図形パターンのデータを入力して複数のフィールドに分割した後の１つのフィールドのデータに対する矩形分割とパターン数計算の処理手順が示されている。
図１０に示したように、元の黒パターン（通常イメージ）の矩形パターンの個数Ａが７１個であり、元の白パターン（反転イメージ）の矩形パターンの個数Ｂが９８個である。パターン数の少ない黒パターン（通常イメージ）が選択される。黒パターンのデータを外部記録装置８の記録媒体に保存することにより、図形パターンの個数を必要最小限にして保存することができる。白パターンのデータを保存する場合と比較すると、本発明のデータ保存方法によれば、保存すべき図形パターンの個数は２７個少なくなる。
ここで、説明の便宜上、半導体装置製造用の図形パターンのデータを領域分割した結果が、図９と図１０の２つのフィールドのみであると仮定する。
パターンのイメージが固定されてしまう従来のデータ保存方法では、黒パターン選択の場合、保存すべき図形パターンの総数は３３８個に、白パターン選択の場合、保存すべき図形パターンの総数は３１４個になる。
この従来のデータ保存方法の場合と比較すると、本発明のデータ保存方法では、保存すべき図形パターンの総数は２８７個となる。すなわち、黒パターン選択の場合よりも５１個少なくなり、白パターン選択の場合より２７個少なくなる。したがって、本発明のデータ保存方法によれば、パターンデータ全体としてデータ量を少なく保存することができる。
以上説明したように、本発明のデータ保存方法及びデータ保存装置によれば、矩形分割された図形パターンの個数を必要最小限に削減して保存することができ、保存するべきデータ量を従来の場合よりも低減することができる。このことにより、データ保管時の資源を有効利用することができ、また、ハンドリングやデータ転送時間の軽減にも寄与する。
本発明を上記実施例に基づいて説明したが、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、下記請求項に記載した範囲内で様々な変形が可能である。

Claims (10)

1. 半導体装置製造用の白黒パターンのデータを入力して複数の領域に分割する領域分割手順と、
   各領域ごとに、白パターン及び黒パターンの一方のパターンを１又は複数個の矩形に分割し、その分割された矩形の個数を算出する第１の算出手順と、
   各領域ごとに、白黒パターンを反転し、元の前記白パターン及び黒パターンの他方のパターンに対応する前記一方のパターンを１又は複数個の矩形に分割し、その分割された矩形の個数を算出する第２の算出手順と、
   各領域ごとに、前記第１の算出手順で算出した元の前記一方のパターンを構成する矩形の個数と、前記第２の算出手順で算出した元の前記他方のパターンを構成する矩形の個数を大小比較し、個数の少ない方のパターンを選択する比較手順と、
   各領域ごとに、前記比較手順で選択されたパターンのデータをその領域についてのパターンデータとして記録媒体に記録する記録手順と
   を有することを特徴とするデータ保存方法。
2. 前記比較手順で元の前記他方のパターンのデータが選択された場合、前記記録手順において反転フラグ情報をその領域についてのパターンデータと共に前記記録媒体に記録することを特徴とするクレーム１記載のデータ保存方法。
3. 前記記録媒体に記録された各領域のパターンデータは、前記反転フラグ情報の有無に応じて、前記半導体装置製造用の白黒パターンを反転したパターンのデータであるか否かが判定されることを特徴とするクレーム２記載のデータ保存方法。
4. 前記記録媒体から各領域のパターンデータを読み出す際に、その領域についての前記反転フラグ情報がある場合には、読み出したパターンを反転したパターンを前記半導体装置製造用の白黒パターンとして使用することを特徴とするクレーム２記載のデータ保存方法。
5. 前記領域分割手順で得られた前記複数の領域中の最後の領域についてのパターンデータの記録が完了したか否かを判定する手順を有することを特徴とするクレーム１記載のデータ保存方法。
6. 半導体装置製造用の白黒パターンのデータを入力して複数の領域に分割する領域分割手段と、
   各領域ごとに、白パターン及び黒パターンの一方のパターンを１又は複数個の矩形に分割し、その分割された矩形の個数を算出する第１の算出手段と、
   各領域ごとに、白黒パターンを反転し、元の前記白パターン及び黒パターンの他方のパターンに対応する前記一方のパターンを１又は複数個の矩形に分割し、その分割された矩形の個数を算出する第２の算出手段と、
   各領域ごとに、前記第１の算出手段で算出した元の前記一方のパターンを構成する矩形の個数と、前記第２の算出手段で算出した元の前記他方のパターンを構成する矩形の個数を大小比較し、個数の少ない方のパターンを選択する比較手段と、
   各領域ごとに、前記比較手段で選択されたパターンのデータをその領域についてのパターンデータとして記録媒体に記録する記録手段と
   を備えることを特徴とするデータ保存装置。
7. 前記比較手段において元の前記他方のパターンのデータが選択された場合、前記記録手段は、反転フラグ情報をその領域についてのパターンデータと共に前記記録媒体に記録することを特徴とするクレーム６記載のデータ保存装置。
8. 前記領域分割手段で得られた前記複数の領域中の最後の領域についてのパターンデータの記録が完了したか否かを判定する手段を備えることを特徴とするクレーム６記載のデータ保存装置。
9. 半導体装置製造用の白黒パターンのデータを保存するためにコンピュータを、
   前記白黒パターンのデータを入力して複数の領域に分割する領域分割手段、
   各領域ごとに、白パターン及び黒パターンの一方のパターンを１又は複数個の矩形に分割し、その分割された矩形の個数を算出する第１の算出手段、
   各領域ごとに、白黒パターンを反転し、元の前記白パターン及び黒パターンの他方のパターンに対応する前記一方のパターンを１又は複数個の矩形に分割し、その分割された矩形の個数を算出する第２の算出手段、
   各領域ごとに、前記第１の算出手段で算出した元の前記一方のパターンを構成する矩形の個数と、前記第２の算出手段で算出した元の前記他方のパターンを構成する矩形の個数を大小比較し、個数の少ない方のパターンを選択する比較手段、
   各領域ごとに、前記比較手段で選択されたパターンのデータをその領域についてのパターンデータとして記録媒体に記録する記録手段
   として機能させるためのデータ保存プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
10. 半導体装置製造用の白黒パターンのデータを保存するためにコンピュータを、
    前記白黒パターンのデータを入力して複数の領域に分割する領域分割手段、
    各領域ごとに、白パターン及び黒パターンの一方のパターンを１又は複数個の矩形に分割し、その分割された矩形の個数を算出する第１の算出手段、
    各領域ごとに、白黒パターンを反転し、元の前記白パターン及び黒パターンの他方のパターンに対応する前記一方のパターンを１又は複数個の矩形に分割し、その分割された矩形の個数を算出する第２の算出手段、
    各領域ごとに、前記第１の算出手段で算出した元の前記一方のパターンを構成する矩形の個数と、前記第２の算出手段で算出した元の前記他方のパターンを構成する矩形の個数を大小比較し、個数の少ない方のパターンを選択する比較手段、
    各領域ごとに、前記比較手段で選択されたパターンのデータをその領域についてのパターンデータとして記録媒体に記録する記録手段
    として機能させるためのデータ保存プログラム。

Images