WO2004111728A1

WO2004111728A1 - データ保存方法及びデータ保存装置

Info

Publication number: WO2004111728A1
Application number: PCT/JP2003/007374
Authority: WO
Inventors: Kazuhiko Takahashi; Taketoshi Omata; Kazuhito Honma
Original assignee: Fujitsu Limited
Priority date: 2003-06-10
Filing date: 2003-06-10
Publication date: 2004-12-23
Also published as: US7331025B2; JPWO2004111728A1; JP4178263B2; US20050229146A1

Abstract

半導体装置製造用の白黒パターンのデータを入力して複数の領域に分割する。各領域ごとに、黒パターンを１又は複数個の矩形に分割し、その分割された矩形の個数を算出する。各領域ごとに、白黒パターンを反転し、元の白パターンに対応する黒パターンを１又は複数個の矩形に分割し、その分割された矩形の個数を算出する。各領域ごとに、元の黒パターンを構成する矩形の個数と、元の白パターンを構成する矩形の個数とを大小比較し、個数の少ない方のパターンを選択する。各領域ごとに、選択されたパターンのデータをその領域についてのパターンデータとして記録する。

Description

明細書

データ保存方法及びデータ保存装置技術分野

本発明は、半導体装置製造工程で作成される、マスクゃレチクル等のフォトマスクのパターンデータを保存するためのデータ保存方法及びデータ保存装置に関する。背景技術

近年の LS I等の半導体装置製造工程において、半導体装置の微細化に伴い、フォトマスク等のパターンのデータ量は増加傾向にある。また、図形パターンの細密化により、光近接効果補正法（OPC ; o p t i c a l— p r o x im i t y— c o r r e c t i o n) 等の図形パターン補正処理が必須となっており、このこともパターンのデータ量をさらに増加さている。

フォトマスクは、ガラス等の透明基板上に光を通さない材料で電子回路パターンを形成した部品である。フォトマスクは、半導体装置製造工程に用いられるフォトリソグラフィ法で、ウェハ上に回路パターンを転写する際に用いられる。半導体装置製造工程で作成されるフォトマスクには、様々な種類がある。大別すると、フォトマスクには、半導体装置と等倍の回路パターンをフォトマスク上に形成し、ゥヱハ上に一括転写する際に用いられるマスクや、縮小投影露光装置 (ステツパ）に用いられるレチクルなどがある。これらを総称してフォトマスクと呼ぶのが一般的である。近年では、半導体装置の微細化に伴い、レチクルがフォトリソグラフィ法で使用されるマスクの主流となっている。

従来の LS I製造用パターンデータは、レジストに合わせてパターンの白黒ィメージが決まる。また、パターン形状の複雑ィ匕に伴い、フォトマスク等のパターンのデータ量が増加する傾向にある。

なお、特開平 6— 151286号公報には、電子ビーム露光における近接効果補正に GHO S T法を用いた際の補正用露光に対し多重露光を使用せずに露光する方法が示されている。また、特開平 6— 029199号公報には、ビーム露光によってレジストを露光してフォトマスクを製作するための反転マスクパターンデータの作成方法が示されている。

上述のように、 L S I等の半導体装置製造用パターンデータにおいて、半導体装置の微細化に伴い、フォトマスク等のパターンのデータ量が増加傾向にある。従来のデータ保存方法では、レジストに合わせてパターンの白黒イメージが固定的に決定される。すなわち、ノ《ターンデータを複数の領域（ここでは、露光 Z 検査用データで設定される一定の領域をフィールドとよぶ）に分割して、各フィールド毎に個々のパターンを保存する際、その決定された白又は黒ィメージで個々のパターンが保存される。

例えば、レジストに合わせて白イメージでパターンデータを保存する場合には、各フィールドの個々のパターンを白イメージで保存することになる。逆に、レジス卜に合わせて黒イメージでパターンデータを保存する場合には、各ブイ一ノレドの個々のパターンを黒ィメージで保存することになる。

し力し、パターン形状の複雑ィ匕に伴い、白イメージで保存するべき各フィールドのパターン数が、黒イメージで保存する場合よりも多くなる場合がある。この場合、上記従来のデータ保存方法では、必要以上に多くのデータ量を保存することになり、更にデータ量を増加させてしまうという課題がある。

今後、大規模データのハンドリング、データ転送やデータ保管に对して、装置環境の整備等で対応すること^考えられるが、装置環境の s のために、設備投資などコストの増加が予想される。従って、装置環境の整備の際に必要となるコストをできる限り低減することが要望されている。発明の開示

本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、 L S I製造用のパターンデータを保存するデータ保存方法及びデータ保存装置において、必要最小限のデータ量で保存することを目的とする。

上記課題を解決するため、本発明のデータ保存方法は、半導体装置製造用フォトマスクの白黒パターンのデータを入力して複数の領域に分割する領域分割手順と、各領域ごとに、黒パターンを 1又は複数個の矩形に分割し、その分割された矩形の個数を算出する第 1の算出手順と、各領域ごとに、白黒パターンを反転し、元の白パターンに対応する黒パターンを 1又は複数個の矩形に分割し、その分割された矩形の個数を算出する第 2の算出手順と、各領域ごとに、前記第 1の算出手順で算出した元の黒パターンを構成する矩形の個数と、前記第 2の算出手順で算出した元の白パターンを構成する矩形の個数を大小比較し、個数の少ない方のパターンを選択する比較手順と、各領域ごとに、前記比較手順で選択されたバターンのデータをその領域についてのパターンデータとして記録媒体に記録する記録手順とを有することを特徴とする。

また、上記課題を解決するため、本発明のデータ保存装置は、半導体装置製造用フォトマスクの白黒パターンのデータを入力して複数の領域に分割する領域分割手段と、各領域ごとに、黒パターンを 1又は複数個の矩形に分割し、その分割された矩形の個数を算出する第 1の算出手段と、各領域ごとに、白黒パターンを反転し、元の白パターンに対応する黒パターンを 1又は複数個の矩形に分割し、その分割された矩形の個数を算出する第 2の算出手段と、各領域ごとに、前記第 1の算出手段で算出した元の黒パターンを構成する矩形の個数と、前記第 2の算出手段で算出した元の白パターンを構成する矩形の個数を大小比較し、個数の少ない方のパターンを選択する比較手段と、各領域ごとに、前記比較手段で選択されたパターンのデータをその領域についてのパターンデータとして記録媒体に記録する記録手段とを備えることを特徴とする。

本発明のデ一タ保存方法及びデータ保存装置によれば、露光/検査用データで設定される一定の領域（フィールド）毎にパターン数の少ない方のパターンが元の白パターンであるか、あるいは、元の黒パターンであるかを判定し、パターン数の少ない方のパターンのデータを選択して保存する。したがって、半導体装置製造用の白黒パターンのデータとして必要最小限のデータ量でデータ保存することができる。これにより、データのハンドリングや転送時間を軽減することができる。また、外部記憶装置等の装置資源を有効に活用することができる。図面の簡単な説明

本発明の他の目的、特徴及び利点については、添付の図面に基づき下記の発明の詳細な説明を参照することにより明確となる。

図 1は、本発明の実施の一形態に係るデータ保存装置の構成を示すプロック図である。

図 2は、本発明の実施の一形態に係るデータ保存装置の機能プロック図である。図 3は、本発明の実施の一形態に係るデータ保存方法を説明するためのフロー図である。

図 4は、図形データを複数のフィールドに領域分割したときの一例を示す図である。

図 5は、図 4のデータ中のフィールド Aに対し行われる処理の例を説明するための図である。

図 6は、図 4のデータ中のフィール KBに対し行われる処理の例を説明するための図である。

図 7は、図 4のデータ中のブイールド Cに对し行われる処理の例を説明するための図である。

図 8は、図 4のデータ中のフィールド Dに対し行われる処理の例を説明するための図である。

図 9は、実際のパターンに本発明のデータ保存方法を適用した例を示す図である。

図 1 0は、実際のパターンに本発明のデータ保存方法を適用した例を示す図である。発明を実施するための最良の形態

本発明の実施の形態を添付の図面を用いて説明する。

図 1は、本発明の実施の一形態に係るデータ保存装置の構成を示す。

図 1のデータ保存装置は、入力デバイス 2と、表示装置 4と、メモリ 6と、外部記憶装置 8と、 C P U 1 0と、通信アダプタ 1 2とを含む。入力デバィス 2、表示装置 4、メモリ 6、外部記憶装置 8、 C P U 1 0、及び通信アダプタ 1 2は、バス 1 1により互いに接続されている。

C P U 1 0は、図 1のデータ保存装置全体を制御する制御部である。とくに、 C P U 1 0は、メモリ 6に予め記憶されたデータ保存プログラムを実行することにより、 L S I等の半導体装置製造用フォトマスクの白黒パターンのデータを必要最小限のデータ量で保存するデータ保存装置（後述する）を実現する。

入力デバイス 2は、半導体装置製造用フォトマスクの白黒パターンのデータを入力して外部記憶装置 8内の記憶媒体に取り込む。あるいは、入力すべき白黒パターンの画像データを予め記録媒体に記録しておき、その記録媒体を外部記憶装置 8を用いて読み込むことも可能である。あるいは、外部端末からネットワーク経由で通信アダプタ 1 2との通信を行うことにより、受信したデータを外部記憶装置 8の記録媒体に記録することも可能である。

表示装置 4は、前記データ保存プログラムに従って処理された、半導体装置製造用フォトマスクの白黒バターンの画像データを画面へ表示する。

図 2は、本発明の実施の一形態に係るデータ保存装置の機能プロック図である。上述のように、図 2のデータ保存装置は、図 1の C P U 1 0により実行されるデータ保存プログラムにより、半導体装置製造用フォトマスクの白黒パターンのデータを必要最小限のデータ量で保存する。

図 2に示したように、このデータ保存装置は、データ入カブ口ック 2 1と、領域分割プロック 2 2と、最終フィールド判定プロック 2 3と、矩形分割プロック

2 4と、パターン数計算プロック 2 5と、白黒反転プロック 2 6と、矩形分割ブロック 2 7とノ、。ターン数計算ブロック 2 8とノ、 °ターン数比較プロック 2 9と、データ保存ブロック 3 0とを含む。

図 2のデータ保存装置において、データ入カブ口ック 2 1は、入力デバイス 2 を用いて、半導体装置製造用フォトマスクの白黒パターンのデータを入力する。領域分割プロック 2 2は、入力された白黒パターンのデータ全体を複数のフィ —ルド（露光検査用データで設定される一定の領域）に領域分割する。この分割された複数のフィールドのパターンデータのそれぞれに対し、上記ブロック 2

3— 3 0による各処理手順が実行される。

最終フィールド判定プロック 2 3は、領域分割プロック 2 2で分割された複数のフィールドの中から取り出した一つのフィールド（対象フィールド）が最終のフィールドである力否かを判定する。最終のフィールドでない場合には、対象フィールドに対し、上記ブロック 2 4— 3 0による各処理手順が実行される。最終のフィールドである場合、その最終のフィールド（対象フィールド）のデータ保存が完了すると、入力された白黒パターンのデータ全体に対する処理が終了する。矩形分割プロック 2 4は、対象フィールドの黒パターン（通常ィメージ）を 1 又は複数個の矩形に分割する。

パターン数計算プロック 2 5は、矩形分割プロック 2 4で分割された、对象フィールドの黒パターンの矩形の個数 Aを算出する。

白黒反転ブロック 2 6は、対象フィールドの白黒パターンを反転させたパターンを生成する。

矩形分割ブロック 2 7は、白黒反転ブロック 2 6で生成された反転パターンの黒パターン（元の白パターンに対応する反転イメージ）を 1又は複数個の矩形に分割する。

パターン数計算プロック 2 8は、矩形分割プロック 2 7で分割された、対象フィールドの黒パターン (元の白パターンに対応する）の矩形の個数 Bを算出する。パターン数比較プロック 2 9は、パターン数計算ブロック 2 5で算出された、元の黒パターンを構成する矩形の個数 Aと、パターン数計算プロック 2 8で算出された元の白パターンを構成する矩形の個数 Bとを大小比較して、個数の少ない方のパターンを選択する。

すなわち、矩形の個数 A≤矩形の個数 Bの場合には、パターン数比較ブロック 2 9は元の黒パターンのデータを選択する。矩形の個数 A >矩形の個数 Bの場合にはノターン数比較ブロック 2 9は元の白パターンのデータを選択する。また、後者の場合（元の白パターンのデータを選択した場合)、パターン数比較ブロック 2 9は、元の白パターンのデータに、パターンが白黒反転されていることを示す反転フラグ情報を追加する。

データ保存ブロック 3 0は、パタ一ン数比較ブロック 2 9で選択されたパタ一ンのデータを対象フィールドについてのパターンデータとして外部記憶装置 8の記録媒体に記録する。その際、元の白パターンのデータを選択した場合には、前記反転フラグ情報を、対象フィールドについてのパターンデータとともに、外部記憶装置 8の記録媒体に記録しておく。対象フィールドが最終のフィールドでない場合には、上記ブロック 2 4— 3 0 による各処理手順が繰り返し実行される。対象ブイールドが最終のフィールドである場合には、その最終のフィールド（対象フィールド）のデータ保存が完了すると、入力された白黒パターンのデータ全体に対する処理が終了する。

図 2のデータ保存装置においては、元の白パターンのデータ（反転イメージ）を選択した場合には、反転フラグ情報が、対象フィールドのパターンデータとともに、記録媒体に記録される。したがって、記録媒体から各フィールドのパターンデータを読み出す際に、そのフィールドについての反転フラグ情報がある場合には、読み出したパターンを反転することにより、半導体装置製造用の白黒バターンとして使用する。

以上説明したように、図 2のデータ保存装置によれば、矩形分割された図形パターンの個数を必要最小限にして保存することができるので、保存すべきデータ量を従来の場合よりも低減することができる。

図 3は、本発明の実施の一形態に係るデータ保存方法を説明するためのフロー図である。

図 2と同様に、図 3のデータ保存方法は、図 1の C P U 1 0により実行されるデータ保存プログラムにより、半導体装置製造用フォトマスクの白黒パターンのデータを必要最小限のデータ量で保存する。

図 3のデータ保存方法が開始すると、ステップ S 3 1において、 C P U 1 0は、入力デバイス 2を用いて、半導体装置製造用フォトマスクの白黒パターンのデータを入力し、入力された白黒パターンのデータ全体を複数のフィールド（露光ノ検査用データで設定される一定の領域）に領域分割する。

この分割された複数のフィールドのパターンデータのそれぞれに対し、下記の各ステップが実行される。

ステップ S 3 2において、 C P U 1 0は、分割された複数のフィールドの中から取り出した一つのフィールド（对象フィールド）の黒パターン（通常イメージ）を 1又は複数個の矩形に分割し、その分割された対象フィ一ルドの黒パターンの矩形の個数 Aを算出する。

ステップ S 3 3において、 C P U 1 0は、対象フィールドの白黒パターンを反転させたパターンを生成し、生成された反転パターンの黒パターン（元の白パターンに対応する反転イメージ）を 1又は複数個の矩形に分割し、その分割された対象フィールドの黒パターン（元の白パターンに対応する）の矩形の個数 Bを算出する。

ステップ S 34において、 CPU 10は、ステップ S 32で算出された、元の黒パターンを構成する矩形の個数 Aが、ステップ S 33で算出された、元の白パターンを構成する矩形の個数 B以下である力否かを判定する。

ステップ S 34の判定結果が YES (A≤B) の場合、ステップ S 35において、 CPU10は、元の黒パターンのデータを選択し、その選択されたパターンのデータを対象フィールドについてのパターンデータとして外部記憶装置 8の記録媒体に記録する。このステップ S 35が完了すると、 CPU 10は次のステツプ S 38に移行する。

一方、ステップ S 34の判定結果が NO (A>B) の場合、ステップ S 36において、 CPU10は、元の白パターンのデータを選択し、選択された白パターンのデータに、パターンが白黒反転されていることを示す反転フラグ情報を口する。

ステップ S 36が完了すると、ステップ S 37において、 CPU 10は、選択された白パターンのデータを対象フィールドについてのパターンデータとして外部記憶装置 8の記録媒体に記録すると共に、ステップ S 36で追カ卩された反転フラグ情報を記録する。このステップ S 37が完了すると、 CPU10は次のステップ S 38に移行する。

ステップ S 38において、 CPU 10は、対象フィールドがステップ S 31で分割された複数のフィールドの中の最終のフィールドであるか否かを判定する。ステップ S 38の判定結果が NO (対象フィールドが最終のフィールドでなレ、）の場合には、 CPU 10は上記ステップ S 32へ戻り、次のフィールドのパターンデータについて、上記ステップ S 32— S 37の各処理手順を繰り返す。ステップ S 38の判定結果が YES (対象フィールドが最終のフィールドである）の場合には、入力された白黒パターンのデータ全体に対する処理が終了する。したがって、図 3のデータ保存方法によれば、矩形分割された図形パターンの個数を必要最小限にして保存することができるので、保存すべきデータ量を従来の場合よりも低減することができる。

図 4は、 L S I等の半導体装置製造用フォトマスクの図形パターンデータを複数のフィールドに領域分割したときの一例を示す。

図 4の図形データを全体イメージとして、複数のフィールド A、 B、 C、 D (図 4の格子状の点線で示す）に領域分割を行った場合を考える。

図 5、図 6、図 7及び図 8はそれぞれ、図 4の図形パターンデータ中のブイ一ノレド八、 B、 C及び Dに対して行われる処理の例を説明するための図である。図 5、図 6、図 7及び図 8において、（a ) は元の黒パターンの矩形分割を行った状態、（b ) は元の白パターンの矩形分割を行った状態、（c ) はパターン数の比較判定を行った結果、（d ) は保存すべきパターンデータをそれぞれ示している。図 5乃至図 8に示したように、各フィールド毎に、元の黒パターンの矩形分割を行い、その分割された矩形パターンの個数 Aを算出すると共に、白黒反転させた反転イメージの黒パターン（元の白パターンに対応する）の矩形分割を行い、その分割された矩形パターンの個数 Bを算出する。

さらに、算出された矩形パターンの個数 Aと矩形パターンの個数 Bとを比較判定し、個数が少ない方のパターンを選択して、その選択されたパターンのデータをそのフィールドについてのパターンデータとして記録媒体に保存する。

図 5及び図 6に示したように、フィールド A及びフィールド Bについては、元の黒パターンの矩形パターンの個数が少ないため、元の図形パターンの白黒ィメ一ジ通りに各フィールドのパタ一ンデータを記録する（黒パタ一ンを登録)。図 7及び図 8に示したように、フィールド C及ぴフィールド Dについては、元の白パターンの矩形パターンの個数が少ないため、元の図形パターンの白黒ィメージを反転させた反転イメージで各フィールドのパターンデータを記録する（白パターンを登録)。また、パターンが白黒反転されていることを示す反転フラグ情報を追加して記録する。

上記の処理により、各フィールド毎に矩形分割された図形パターンの個数を必要最小限にして保存することができるので、保存すべきデータ量を従来の場合よりも低減することができる。具体的には、図 5のフィールド Aでは、元の黒パターンの矩形パターンが 1個、元の白パターンの矩形パターンが 2個であり、パターン数の少ない黒パターンを選択してフィールド Aのパターンデータとして保存する。記録すべきデータ中に反転フラグ情報は含まれない。

図 6のフィールド Bでは、元の黒パターンの矩形パターンが 1個、元の白パターンの矩形パターンが 1個であり、パターン数の少ない黒パターンを選択してフィールド Bのパターンデータとして保存する。この場合には、黒パターンのパタ一ン数は白パターンのパターン数と同じであり、白黒反転処理が不要な黒パターンが選択される。記録すべきデータ中に反転フラグ情報は含まれない。

図 7のフィールド。では、元の黒パターンの矩形パターンが 3個、元の白パターンの矩形パターンが 1個であり、パターン数の少ない白パターンを選択してフィールド Cのパターンデータとして保存する。記録すべきデータ中に反転フラグ情報が追加されて保存される。

図 8のフィールド Dの場合、元の黒パターンの矩形パターンが 2個、元の白パターンが 1個であり、パターン数の少ない白パターンを選択してフィールド Dのパターンデータとして保存する。記録すべきデータ中に反転フラグ情報が追加されて保存される。

図 9は、実際の半導体装置製造用の図形パターンに本発明のデータ保存方法を適用した例を示す。

図 9の例では、図形パターンのデータを入力して複数のフィールドに分割した後の 1つのフィールドのデータに対する矩形分割とパターン数計算の処理手順が示されている。

図 9に示したように、元の黒パターン（通常イメージ）の矩形パターンの個数 Aが 2 6 7個であり、元の白パターン（反転イメージ）の矩形パターンの個数 B が 2 1 6個である。パターン数の少ない白パターン（反転イメージ）が選択される。反転フラグ情報を追カ卩し、白パターンのデータを外部記録装置 8の記録媒体に保存することにより、図形パターンの個数を必要最小限にして保存することができる。黒パターンのデータを保存する ¾ ^と比較すると、本発明のデータ保存方法によれば、保存すべき図形パターンの個数は 5 1個少なくなる。図 1 0は、実際の半導体装置製造用の図形パターンに本発明のデータ保存方法を適用した例を示す。

図 1 0の例では、図形パターンのデータを入力して複数のフィールドに分割した後の 1つのフィールドのデータに対する矩形分割とパターン数計算の処理手順が示されている。

図 1 0に示したように、元の黒パターン（通常イメージ）の矩形パターンの個数 Aが 7 1個であり、元の白パターン（反転イメージ）の矩形パターンの個数 B が 9 8個である。パターン数の少ない黒パターン（通常イメージ）が選択される。黒パターンのデータを外部記録装置 8の記録媒体に保存することにより、図形パターンの個数を必要最小限にして保存することができる。白パターンのデータを保存する場合と比較すると、本発明のデータ保存方法によれば、保存すべき図形パターンの個数は 2 7個少なくなる。

ここで、説明の便宜上、半導体装置製造用の図形パターンのデータを領域分割した結果が、図 9と図 1 0の 2つのフィールドのみであると仮定する。

パターンのイメージが固定されてしまう従来のデータ保存方法では、黒パターン選択の場合、保存すべき図形パターンの総数は 3 3 8個に、白パターン選択の場合、保存すべき図形パターンの総数は 3 1 4個になる。

この従来のデータ保存方法の場合と比較すると、本発明のデータ保存方法では、保存すべき図形パターンの総数は 2 8 7個となる。すなわち、黒パターン選択の場合よりも 5 1個少なくなり、白パターン選択の場合より 2 7個少なくなる。したがって、本発明のデータ保存方法によれば、パターンデータ全体としてデータ量を少なく保存することができる。

以上説明したように、本発明のデータ保存方法及びデータ保存装置によれば、矩形分割された図形パターンの個数を必要最小限に削減して保存することができ、保存するべきデータ量を従来の場合よりも低減することができる。このことにより、データ保管時の資源を有効利用することができ、また、ハンドリングゃデータ転送時間の軽減にも寄与する。

本発明を上記実施例に基づいて説明したが、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、下記請求項に記載した範囲内で様々な変形が可能である。

Claims

請求の範囲

1 . 半導体装置製造用の白黒パターンのデータを入力して複数の領域に分割する領域分割手順と、

各領域ごとに、白パターン及び黒パターンの一方のパターンを 1又は複数個の矩形に分割し、その分割された矩形の個数を算出する第 1の算出手順と、各領域ごとに、白黒パターンを反転し、元の前記白パターン及び黒パターンの他方のパターンに対応する前記一方のパターンを 1又は複数個の矩形に分割し、その分割された矩形の個数を算出する第 2の算出手順と、

各領域ごとに、前記第 1の算出手順で算出した元の前記一方のパターンを構成する矩形の個数と、前記第 2の算出手順で算出した元の前記他方のパターンを構成する矩形の個数を大小比較し、個数の少ない方のパターンを選択する比較手順と、

各領域ごとに、前記比較手順で選択されたパターンのデータをその領域についてのパターンデータとして記録媒体に記録する記録手順と

を有することを特徴とするデータ保存方法。

2 . 前記比較手順で元の前記他方のパターンのデータが選択された場合、前記記録手順において反転フラグ情報をその領域についてのパターンデータと共に前記記録媒体に記録することを特徴とするクレーム 1記載のデータ保存方法。

3 . 前記記録媒体に記録された各領域のパターンデータは、前記反転フラグ情報の有無に応じて、前記半導体装置製造用の白黒パターンを反転したパターンのデータである力否かが判定されることを特徴とするクレーム 2記載のデータ保存方法。

4 . 前記記録媒体から各領域のパターンデータを読み出す際に、その領域についての前記反転フラグ情報がある場合には、読み出したパターンを反転したパターンを前記半導体装置製造用の白黒パターンとして使用することを特徴とするクレーム 2記載のデータ保存方法。

5 . 前記領域分割手順で得られた前記複数の領域中の最後の領域についてのパターンデータの記録が完了したか否かを判定する手順を有することを特徴とする

> クレーム 1記載のデータ保存方法。

6 . 半導体装置製造用の白黒パターンのデータを入力して複数の領域に分割する領域分割手段と、

各領域ごとに、白パターン及び黒パターンの一方のパターンを 1又は複数個の矩形に分割し、その分割された矩形の個数を算出する第 1の算出手段と、各領域ごとに、白黒パターンを反転し、元の前記白パターン及び黒パターンの他方のパターンに対応する前記一方のパターンを 1又は複数個の矩形に分割し、その分割された矩形の個数を算出する第 2の算出手段と、

各領域ごとに、前記第 1の算出手段で算出した元の前記一方のパターンを構成する矩形の個数と、前記第 2の算出手段で算出した元の前記他方のパターンを構成する矩形の個数を大小比較し、個数の少ない方のパターンを選択する比較手段と、

各領域ごとに、前記比較手段で選択されたパターンのデータをその領域についてのパターンデータとして記録媒体に記録する記録手段と

を備えることを特徴とするデータ保存装置。

7 .前記比較手段において元の前記他方のパターンのデータが選択された場合、前記記録手段は、反転フラグ情報をその領域についてのパターンデータと共に前記記録媒体に記録することを特徴とするクレーム 6記載のデータ保存装置。

8 . 前記領域分割手段で得られた前記複数の領域中の最後の領域についてのパターンデータの記録が完了した力否かを判定する手段を備えることを特徴とするクレーム 6記載のデータ保存装置。

9 . 半導体装置製造用の白黒パターンのデータを保存するためにコンピュータを、

前記白黒パターンのデータを入力して複数の領域に分割する領域分割手段、各領域ごとに、白パターン及ぴ黒パターンの一方のパターンを 1又は複数個の矩形に分割し、その分割された矩形の個数を算出する第 1の算出手段、

各領域ごとに、白黒パターンを反転し、元の前記白パターン及び黒パターンの他方のパターンに対応する前記一方のパターンを 1又は複数個の矩形に分割し、その分割された矩形の個数を算出する第 2の算出手段、

各領域ごとに、前記第 1の算出手段で算出した元の前記一方のパターンを構成する矩形の個数と、前記第 2の算出手段で算出した元の前記他方のパターンを構成する矩形の個数を大小比較し、個数の少ない方のバターンを選択する比較手段、各領域ごとに、前記比較手段で選択されたパターンのデータをその領域についてのパターンデータとして記録媒体に記録する記録手段

として機能させるためのデータ保存プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。

1 0 . 半導体装置製造用の白黒パターンのデータを保存するためにコンビユータを、

前記白黒パターンのデータを入力して複数の領域に分割する領域分割手段、各領域ごとに、白パターン及び黒パターンの一方のパターンを 1又は複数個の矩形に分割し、その分割された矩形の個数を算出する第 1の算出手段、

各領域ごとに、前記第 1の算出手段で算出した元の前記一方のパターンを構成する矩形の個数と、前記第 2の算出手段で算出した元の前記他方のパターンを構成する矩形の個数を大小比較し、個数の少ない方のパターンを選択する比較手段、各領域ごとに、前記比較手段で選択されたパターンのデータをその領域についてのパターンデータとして記録媒体に記録する記録手段として機能させるためのデータ保存プログラム。