WO2011125597A1 - 導電性フイルムの製造方法、導電性フイルム及び記録媒体 - Google Patents

導電性フイルムの製造方法、導電性フイルム及び記録媒体 Download PDF

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WO2011125597A1
WO2011125597A1 PCT/JP2011/057582 JP2011057582W WO2011125597A1 WO 2011125597 A1 WO2011125597 A1 WO 2011125597A1 JP 2011057582 W JP2011057582 W JP 2011057582W WO 2011125597 A1 WO2011125597 A1 WO 2011125597A1
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WO
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image data
pattern
conductive film
mesh pattern
imgtemp
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PCT/JP2011/057582
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Inventor
涌井隆史
磴秀康
島崎治
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富士フイルム株式会社
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    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B13/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing conductors or cables
    • H01B13/003—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing conductors or cables using irradiation
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K9/00—Screening of apparatus or components against electric or magnetic fields
    • H05K9/0073—Shielding materials
    • H05K9/0081—Electromagnetic shielding materials, e.g. EMI, RFI shielding
    • H05K9/0086—Electromagnetic shielding materials, e.g. EMI, RFI shielding comprising a single discontinuous metallic layer on an electrically insulating supporting structure, e.g. metal grid, perforated metal foil, film, aggregated flakes, sintering

Definitions

  • the present invention relates to a method for producing a conductive film in which a mesh pattern made of a wire is provided on a substrate, a conductive film, and a recording medium.
  • conductive films have been developed in which a mesh pattern made of wire is provided on a transparent substrate.
  • This conductive film can be used as an electrode or a heat generating sheet.
  • defroster vehicle defroster
  • the pattern of the mesh pattern may correspond to granular noise that hinders the visibility of the object to be observed depending on the use of the various articles described above. Therefore, various techniques for suppressing granular noise and improving the visibility of an observation object by arranging the same or different mesh shapes regularly or irregularly have been proposed.
  • Japanese Patent Application Laid-Open No. 2009-94467 discloses an image display device that attaches an electromagnetic wave shielding film having a conductive portion and an opening, and a moire suppressing film having a moire suppressing portion ([0063]).
  • FIG. 1 FIG. 10A, FIG. 10B.
  • the integral amount can be made almost constant throughout the film. That is, the mesh pattern formed by the combination of the conductive portion and the opening portion disappears as if, and moire is less likely to occur.
  • Japanese Patent Laid-Open No. 2009-117683 calculates two-dimensional power spectra for image data representing a pixel array pattern and an electromagnetic wave shield pattern, respectively, so that the difference in spatial frequency corresponding to these peaks exceeds a predetermined value.
  • JP-A-2009-137455 as shown in FIG. 33A, arc-shaped conductive wires 2 with a part of a circle cut out are repeatedly arranged in a lattice shape, and the arc-shaped wire
  • An end portion of the wire 2 discloses a passenger moving object window provided with a mesh layer 4 connected in the vicinity of a central portion of the adjacent arc-shaped wire 2 and a plan view shape of the pattern PT1 ([[ 0029], see FIG. Thereby, it is described that not only the visibility but also the shielding property and damage resistance of electromagnetic waves can be improved.
  • Japanese Patent Application Laid-Open No. 2009-16700 discloses a solution that spontaneously forms a network structure on a substrate when it is left on the substrate after being applied to the substrate, that is, self-organized.
  • the transparent conductive substrate manufactured using the metal fine particle solution to be converted and the shape of the pattern PT2 in plan view are disclosed ([0022] to [0024], see FIG. 1). As a result, it is described that an irregular network structure in which moire phenomenon does not occur can be obtained.
  • the electromagnetic wave shielding layer 6 has a sea area structure of sea island structure, and an island area 8 including an opening surrounded by the electromagnetic wave shielding layer 6 is formed.
  • a light-transmitting electromagnetic wave shielding material having different shapes and a plan view shape of the pattern PT3 (see [0011] to [0015], FIG. 1B).
  • the patterns PT1 and PT2 disclosed in JP2009-137455A and JP2009-16700A have a problem in the structure of the pattern in order to further reduce the granular noise and improve the visibility.
  • the periodicity of the wire 2 is extremely high. That is, when the power spectrum of the pattern PT1 is calculated, it is predicted to have a sharp peak in the spatial frequency band corresponding to the reciprocal of the arrangement interval of the wire 2.
  • the size (diameter) of the arc must be reduced.
  • the mesh pattern PT2 disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2009-16700 is extremely irregular because the mesh shape and size are not uniform. That is, when the power spectrum of the pattern PT2 is calculated, it is predicted to be a substantially constant value (close to white noise characteristics) regardless of the spatial frequency band.
  • the size of the self-assembly must be reduced.
  • the pattern PT3 disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2009-302439 does not constitute a mesh shape, the wiring shape of the cut surface varies. As a result, when the pattern PT3 is used as an electrode, for example, there is a disadvantage that a stable energization performance cannot be obtained.
  • the present invention has been made to solve the above-described problems, and can reduce the noise granularity caused by the pattern, can greatly improve the visibility of the observation object, and has a stable energization performance even after cutting. It is an object to provide a conductive film having a conductive film and a method for producing the conductive film. It is another object of the present invention to provide a recording medium storing a program for causing a computer to create output image data used for manufacturing a conductive film.
  • the conductive film manufacturing method includes a position selection step of selecting a plurality of positions from a predetermined two-dimensional image region, and image data representing a mesh pattern based on the selected plurality of positions.
  • An image data creation step for creating An evaluation value calculating step for calculating an evaluation value quantified with respect to the noise characteristics of the mesh pattern based on the created image data, and one image data based on the calculated evaluation value and a predetermined evaluation condition
  • An image data determining step for determining the output image data, and a forming step for producing a conductive film having the mesh pattern by outputting a wire on a substrate based on the determined output image data. It is characterized by providing.
  • an evaluation value calculation step of calculating an evaluation value quantified with respect to the noise characteristics of the mesh pattern, and one of the above-mentioned evaluation values and a predetermined evaluation condition based on the predetermined evaluation condition Since the image data determining step for determining the image data as the output image data is provided, the shape of the mesh pattern having noise characteristics satisfying the predetermined evaluation condition can be determined. In other words, the noise feeling can be reduced by appropriately controlling the noise characteristics of the mesh pattern.
  • the visual information of the pattern material related to the visibility of the structural pattern is input.
  • the estimated structural pattern It is preferable to create the image data representing a pattern in which the structure pattern is superimposed on the mesh pattern based on image information.
  • the visual information of the pattern material may include at least one of the type, color value, light transmittance or light reflectance of the pattern material, or the arrangement position, unit shape or unit size of the pattern structure. preferable.
  • the pattern material is preferably a black matrix.
  • a first input step of inputting visual information of the wire related to the visibility of the mesh pattern a second input step of inputting visual information of the base material related to the visibility of the mesh pattern
  • An image information estimating step for estimating image information of the mesh pattern based on visual information of the wire and the base material, and the image data creating step is based on the image information of the estimated mesh pattern. It is preferable to create the image data.
  • the evaluation value is preferably an evaluation value representing granularity.
  • the evaluation value is preferably RMS granularity.
  • the evaluation value is preferably an RMS granularity corrected by a human visual response characteristic function.
  • the human visual response characteristic function is preferably a Dooley-Show function.
  • the corrected RMS granularity is an RMS granularity calculated using new image data obtained by applying a filtering process corresponding to the human visual response characteristic function to the image data. Preferably there is.
  • the image data creation step forms a mesh pattern from the plurality of positions using Delaunay triangulation and creates image data representing the pattern.
  • the image data creation step forms a mesh pattern from the plurality of positions using a Voronoi diagram and creates image data representing the pattern.
  • a position update step of updating a part of the plurality of positions to another position based on the evaluation value and sequentially repeating the position update step, the image data creation step, and the evaluation value calculation step.
  • the output image data is determined by the image data determination step.
  • the position update step updates a part of the plurality of positions to different positions by using a simulated annealing method.
  • the conductive film according to the present invention is manufactured using any one of the above-described manufacturing methods.
  • the conductive film according to the present invention has a mesh pattern including a plurality of polygonal meshes, and the average intensity on the spatial frequency band side higher than a predetermined spatial frequency is related to the power spectrum of the centroid position distribution of each mesh.
  • the mesh pattern is formed so as to be larger than an average intensity on a spatial frequency band side lower than the predetermined spatial frequency.
  • the predetermined spatial frequency is preferably a spatial frequency corresponding to 5% of the maximum response of human visual response characteristics.
  • the human visual response characteristic is a visual response characteristic obtained based on a Dooley-show function with a clear visual distance of 300 mm, and the predetermined spatial frequency is 6 cycles / mm.
  • a recording medium stores a program for causing a computer to create output image data for use in manufacturing a conductive film, and the program stores a plurality of programs from a predetermined two-dimensional image region.
  • a position selection unit for selecting a position
  • an image data creation unit for creating image data representing a pattern of a mesh pattern based on the plurality of positions selected by the position selection unit, and the image created by the image data creation unit
  • An evaluation value calculation unit that calculates an evaluation value quantified with respect to noise characteristics of the mesh pattern based on the data, and one image data based on the evaluation value calculated by the evaluation value calculation unit and a predetermined evaluation condition Is functioned as an image data determination unit that determines the image data as output image data.
  • image data representing a pattern of a mesh pattern is created based on the selected plurality of positions, and the created image data Based on the above, the evaluation value quantified for the noise characteristics of the mesh pattern is calculated, and one image data is determined as output image data based on the calculated evaluation value and a predetermined evaluation condition.
  • the shape of the mesh pattern having noise characteristics satisfying the predetermined evaluation condition can be determined. In other words, the noise feeling can be reduced by appropriately controlling the noise characteristics of the mesh pattern.
  • the average intensity on the spatial frequency band side higher than the predetermined spatial frequency is lower than the predetermined spatial frequency with respect to the power spectrum of the centroid position distribution of each mesh. Since the mesh pattern is formed so as to be larger than the average intensity at, the amount of noise on the high spatial frequency band side is relatively larger than that on the low spatial frequency band side. Human vision has a high response characteristic in the low spatial frequency band, but has a property that the response characteristic rapidly decreases in the medium to high spatial frequency band, so that a sense of noise visually felt by humans is reduced. Thereby, the noise granularity resulting from the pattern which a transparent conductive film has can be reduced, and the visibility of an observation target object can be improved significantly. In addition, since a plurality of polygonal meshes are provided, the cross-sectional shape of each wiring after cutting is also substantially constant and has stable energization performance.
  • FIG. 2A is a partially enlarged plan view of the conductive film of FIG.
  • FIG. 2B is a schematic exploded perspective view showing an example of the configuration when the conductive film of FIG. 1 is applied to a touch panel.
  • FIG. 2A is a schematic sectional drawing of the electroconductive film of FIG. 2A.
  • FIG. 1 is a flowchart with which operation
  • FIG. 8A is a schematic explanatory diagram visualizing image data representing a mesh pattern.
  • FIG. 8B is a distribution diagram of a two-dimensional power spectrum obtained by performing FFT on the image data of FIG. 8A.
  • 8C is a cross-sectional view taken along line VIIIC-VIIIC of the two-dimensional power spectrum distribution shown in FIG. 8B. It is a graph of a Dooley show function (observation distance of 300 mm). It is a 1st flowchart explaining the production method of the image data for output. It is a graph showing an example of the relationship between the arrangement
  • FIG. 12B are explanatory diagrams of the results of defining eight regions each surrounding eight points using Voronoi diagrams.
  • FIG. 13A and FIG. 13B are explanatory diagrams of the results of defining eight triangular regions each having eight points as vertices using the Delaunay triangulation method.
  • FIG. 14A is an explanatory diagram illustrating the definition of a pixel address in image data.
  • FIG. 14B is an explanatory diagram illustrating the definition of pixel values in image data.
  • FIG. 15A is a schematic diagram of an initial position of a seed point.
  • FIG. 15B is a Voronoi diagram based on the seed point of FIG. 15A. It is a detailed flowchart of step S26 shown in FIG. FIG.
  • FIG. 17A is an explanatory diagram showing the positional relationship between the first seed point, the second seed point, and the candidate point in the image region.
  • FIG. 17B is an explanatory diagram of a result of updating the position of the seed point by exchanging the second seed point and the candidate point. It is sectional drawing along the X-axis of the two-dimensional power spectrum obtained by performing FFT with respect to the image data of the mesh pattern which concerns on this Embodiment, and the various patterns which concern on a comparative example, respectively. It is explanatory drawing showing the gravity center position of each area
  • FIG. 12B It is a schematic explanatory drawing which shows the relationship between a some mesh and the gravity center position of each mesh regarding the 1st mesh pattern which concerns on this Embodiment.
  • FIG. 21A is a schematic explanatory diagram in which image data representing the gravity center position distribution of each mesh included in the mesh pattern of FIG. 20 is visualized.
  • FIG. 21B is a distribution diagram of a two-dimensional power spectrum obtained by performing FFT on the image data of FIG. 21A.
  • FIG. 21C is a cross-sectional view taken along line XXIC-XXIC of the two-dimensional power spectrum distribution shown in FIG. 21B. It is a comparison figure of the spectrum and gravity center spectrum which are shown to FIG. 8C and FIG. 21C. It is a schematic explanatory drawing showing the characteristic of the power spectrum of FIG. 21C. It is a 2nd flowchart explaining the production method of the image data for output. It is a detailed flowchart of step S26A shown in FIG.
  • FIG. 26A is a schematic explanatory diagram visualized by superimposing a black matrix on output image data representing a pattern of a conductive film.
  • 26B to 26D are graphs showing the result of calculating the power spectrum by extracting the R component, G component, and B component of the color value from the image data of FIG. 26A.
  • FIG. 27A is a schematic explanatory diagram in which a human visual response characteristic is applied to the image data of FIG. 26A and visualized.
  • 27B to 27D are graphs showing the result of calculating the power spectrum by extracting the R component, G component, and B component of the color value from the image data of FIG. 27A.
  • FIG. 28A is a schematic explanatory diagram in which image data representing the pattern of the first mesh pattern optimized under the condition where the black matrix is not superimposed is visualized.
  • FIG. 28B is a schematic explanatory diagram visualizing image data representing the pattern of the second mesh pattern optimized under the condition where the black matrix is superimposed.
  • FIG. 29A to FIG. 29E are process diagrams showing a first manufacturing method of the conductive film according to the present embodiment.
  • 30A and 30B are process diagrams showing a second method for manufacturing a conductive film according to the present embodiment.
  • 31A and 31B are process diagrams showing a third manufacturing method of the conductive film according to the present embodiment. It is process drawing which shows the 4th manufacturing method of the electroconductive film which concerns on this Embodiment.
  • 33A to 33C are enlarged plan views of patterns according to the comparative example.
  • FIG. 1 is a schematic block diagram of a manufacturing apparatus 10 for manufacturing a conductive film 14 according to the present embodiment.
  • the manufacturing apparatus 10 creates image data Img (including output image data ImgOut) representing a pattern corresponding to the mesh pattern M, and the output image data created by the image processing apparatus 12. Based on ImgOut, an exposure unit 18 that irradiates the conductive film 14 under the manufacturing process with light 16 and exposes it, and various conditions for creating the image data Img (mesh pattern M and structural pattern visual information described later) Are input to the image processing apparatus 12, and a display unit 22 that displays a GUI image that assists the input operation by the input unit 20, the stored output image data ImgOut, and the like. Prepare.
  • the image processing device 12 generates image data Img, output image data ImgOut, position data SPd of candidate points SP, and position data SDd of seed points SD, and generates random numbers by generating pseudo-random numbers.
  • an initial position selection unit 28 position selection unit that selects an initial position of the seed point SD from a predetermined two-dimensional image region using the random number value generated by the random number generation unit 26.
  • An update candidate position determination unit 30 position selection unit that determines the position of the candidate point SP (excluding the position of the seed point SD) from the two-dimensional image region using the random number value, and for output
  • An exposure data conversion unit 32 that converts the image data ImgOut into a control signal (exposure data) for the exposure unit 18 and a display control unit 34 that performs control to display various images on the display unit 22 are provided.
  • the seed point SD includes a first seed point SDN that is not an update target and a second seed point SDS that is an update target.
  • the position data SDd of the seed point SD is composed of the position data SDNd of the first seed point SDN and the position data SDSd of the second seed point SDS.
  • control unit constituted by a CPU or the like can realize all control relating to this image processing by reading and executing a program recorded in a recording medium (ROM or storage unit 24 (not shown)). .
  • the image processing apparatus 12 includes an image information estimation unit 36 that estimates image information of the mesh pattern M and the structure pattern based on visual information (details will be described later) input from the input unit 20, and the image information estimation unit 36.
  • An image data creation unit 38 for creating image data Img representing a pattern corresponding to the mesh pattern M or the structure pattern based on the image information supplied from the image and the position of the seed point SD supplied from the storage unit 24;
  • a mesh pattern evaluation unit 40 that calculates an evaluation value EVP for evaluating a mesh pattern based on the image data Img created by the data creation unit 38, and an evaluation value EVP calculated by the mesh pattern evaluation unit 40
  • a data update instruction unit 42 for instructing update / non-update of data such as the seed point SD and the evaluation value EVP.
  • the plurality of conductive portions 50 form a mesh pattern M (mesh-like wiring) in which a plurality of fine metal wires 54 intersect each other. That is, the combined shape of one opening 52 and at least two conductive portions 50 surrounding the one opening 52 is a mesh shape. This mesh shape is different for each opening 52, and is arranged irregularly (that is, aperiodically).
  • the material constituting the conductive portion 50 may be referred to as “wire”.
  • the line width of the fine metal wire 54 can be selected from 5 ⁇ m to 200 ⁇ m (0.2 mm). Of course, in order to improve translucency, you may select from 5 micrometers or more and 50 micrometers or less. Further, the area of the opening 52 is preferably 0.02 mm 2 or more and 40 mm 2 or less, and more preferably 0.1 mm 2 or more and 1 mm 2 or less.
  • the entire light transmittance of the conductive film 14 is 70% or more and less than 99%, 80% or more and less than 99%, and further 85% or more and less than 99%. it can.
  • the conductive film 14 is a conductive film that can be used as an electrode for a touch panel, an inorganic EL element, an organic EL element, or a solar cell. As shown in FIG. 3, the conductive film 14 includes a transparent film base material 56 (base material), and the conductive portions 50 and the openings 52 formed on the transparent film base material 56.
  • FIG. 2B shows a schematic exploded perspective view when this conductive film 14 is used as an electrode of a touch panel.
  • a filter member 57 having the same size as that of the conductive film 14 is disposed on the surface of the conductive film 14 so as to overlap therewith.
  • the filter member 57 includes a plurality of red filters 58r, a plurality of green filters 58g, a plurality of blue filters 58b, and a black matrix 59 (structure pattern).
  • the material constituting the black matrix 59 may be referred to as a “pattern material”.
  • a red filter 58r (a green filter 58g or a blue filter 58b) is provided in parallel. Further, a red filter 58r, a green filter 58g, a blue filter 58b, a red filter 58r,... are periodically arranged in the left-right direction of the filter member 57. That is, a unit pixel in which a plane area in which one red filter 58r, one green filter 58g, and one blue filter 58b are arranged can display any color by a combination of red light, green light, or blue light. 60.
  • the black matrix 59 has a function of a light shielding material for preventing the reflected light from the outside and the transmitted light from the backlight (not shown) from being mixed between the adjacent unit pixels 60.
  • the black matrix 59 includes a light shielding material 61h extending in the left-right direction and a light shielding material 61v extending in the vertical direction. These light shielding members 61h and 61v form a rectangular lattice and surround a set of color filters (that is, a red filter 58r, a green filter 58g, and a blue filter 58b) constituting the unit pixel 60, respectively.
  • the conductive film 14 also functions as a transparent heating element that generates heat when an electric current is passed.
  • first and second electrodes (not shown) are formed at opposite ends of the conductive film 14, and a current flows from the first electrode to the second electrode.
  • the transparent heating element generates heat, and a heating object (for example, a window glass of a building, a window glass for a vehicle, a front cover of a vehicle lamp, etc.) that is in contact with or incorporates the transparent heating element is heated.
  • a heating object for example, a window glass of a building, a window glass for a vehicle, a front cover of a vehicle lamp, etc.
  • FIG. 4 is a detailed functional block diagram of the mesh pattern evaluation unit 40 and the data update instruction unit 42 shown in FIG.
  • the mesh pattern evaluation unit 40 performs two-dimensional spectrum data (hereinafter simply referred to as “spectrum Spc”) by applying fast Fourier transform (hereinafter referred to as FFT) to the image data Img supplied from the image data creation unit 38. .) And an evaluation value calculation unit 102 that calculates an evaluation value EVP based on the spectrum Spc supplied from the FFT calculation unit 100.
  • spectrum Spc two-dimensional spectrum data
  • FFT fast Fourier transform
  • the data update instruction unit 42 includes a counter 108 that counts the number of evaluations by the mesh pattern evaluation unit 40, a pseudo temperature management unit 110 that manages a value of a pseudo temperature T used in a pseudo annealing method described later, and the mesh pattern evaluation unit 40.
  • An update probability calculation unit 112 that calculates an update probability of the seed point SD based on the supplied evaluation value EVP and the pseudo temperature T supplied from the pseudo temperature management unit 110, and the update supplied from the update probability calculation unit 112
  • the position update determination unit 114 that determines whether the position data SDd of the seed point SD is updated or not based on the probability, and one image data Img as output image data ImgOut in response to a notification from the pseudo temperature management unit 110. And an output image data determination unit 116 to determine.
  • FIG. 5 is a diagram showing a first setting screen for setting image data creation conditions.
  • the setting screen 120 includes a left pull-down menu 122, a left display column 124, a right pull-down menu 126, a right display column 128, and seven text boxes 130, 132, 134, 136 in order from the top. 138, 140, 142 and buttons 144, 146 displayed as [Cancel] and [Next].
  • a character string “kind” is displayed in the left part of the pull-down menus 122 and 126.
  • a selection field (not shown) is also displayed in the lower part of the pull-down menus 122 and 126, and items in the selection field can be selected freely.
  • the display column 124 includes five columns 148a, 148b, 148c, 148d, and 148e. On the left side of these, "light transmittance”, “light reflectance”, “color value L * ", Character strings “color value a * ” and “color value b * ” are respectively displayed.
  • the display column 128 includes five columns 150a, 150b, 150c, 150d, and 150e. In the left part of these, the “light transmittance”, “light reflectance”, Character strings “color value L * ”, “color value a * ”, and “color value b * ” are displayed.
  • the total transmittance is displayed on the left side of the text box 130, and “%” is displayed on the right side thereof.
  • “Film thickness” is displayed on the left side of the text box 132, and “ ⁇ m” is displayed on the right side thereof.
  • “Wiring width” is displayed on the left side of the text box 134 and “ ⁇ m” is displayed on the right side thereof.
  • “Wiring thickness” is displayed on the left side of the text box 136, and “ ⁇ m” is displayed on the right side thereof.
  • “Pattern size H” is displayed on the left side of the text box 138, and “mm” is displayed on the right side thereof.
  • “Pattern size V” is displayed on the left side of the text box 140, and “mm” is displayed on the right side thereof.
  • “Image resolution” is displayed on the left side of the text box 142, and “dpi” is displayed on the right side thereof.
  • arithmetic numbers can be input by a predetermined operation of the input unit 20 (for example, a keyboard).
  • FIG. 6 is a diagram showing a second setting screen for setting image data creation conditions.
  • the setting screen 160 includes two radio buttons 162a and 162b, six text boxes 164, 166, 168, 170, 172, and 174, a matrix-like image 176, [Back], [ Buttons 178, 180, and 182 displayed as [SET] and [CANCEL].
  • the matrix image 176 is an image simulating the shape of the black matrix 59, and is provided with four openings 184 and a window frame 186.
  • first mesh pattern M1 under the condition where the black matrix 59 is not superimposed
  • second mesh pattern M2 under the condition where the black matrix 59 is superimposed
  • step S1 various conditions necessary for creating image data Img (including output image data ImgOut) representing a pattern corresponding to the mesh pattern M are input.
  • the worker inputs an appropriate numerical value or the like via the setting screen 120 (see FIG. 5) displayed on the display unit 22.
  • the visual information regarding the visibility of the mesh pattern M can be input.
  • the visual information of the mesh pattern M is various information that contributes to the shape and optical density of the mesh pattern M.
  • the visual information of the wire metal thin wire 54
  • the transparent base material transparent film base material 56.
  • Visual information is included.
  • the visual information of the wire includes, for example, at least one of the type, color value, light transmittance, or light reflectance of the wire, or the cross-sectional shape or thickness of the thin metal wire 54.
  • the visual information of the transparent substrate includes, for example, at least one of the type, color value, light transmittance, light reflectance, or film thickness of the transparent substrate.
  • the operator uses the pull-down menu 122 to select one type of wire for the conductive film 14 to be manufactured.
  • “silver (Ag)” is selected.
  • the display column 124 is immediately updated, and a known numerical value corresponding to the physical property of the wire is newly displayed.
  • light transmittance (unit:%), light reflectance (unit:%), color value L * , color value a * , and color of silver having a thickness of 100 ⁇ m are described.
  • Each value b * (CIELAB) is displayed.
  • the operator selects one type of film material (transparent film substrate 56) using the pull-down menu 126 for the conductive film 14 to be manufactured.
  • “PET film” is selected.
  • the display field 128 is immediately updated, and a known numerical value corresponding to the physical property of the film material is newly displayed.
  • the light transmittance (unit:%), light reflectance (unit:%), color value L * , color value a * , and PET film having a thickness of 1 mm are included.
  • Each of the color values b * (CIELAB) is displayed.
  • each physical property value may be directly input from the display columns 124 and 128 by selecting the “manual input” item (not shown) of the pull-down menus 122 and 126.
  • the operator inputs various conditions of the mesh pattern M using the text box 130 or the like regarding the conductive film 14 to be manufactured.
  • the input values of the text boxes 130, 132, 134, and 136 are the overall light transmittance (unit:%), the film thickness of the transparent film substrate 56 (unit: ⁇ m), and the line width of the metal thin wire 54 (unit: ⁇ m). , Corresponding to the thickness (unit: ⁇ m) of the thin metal wire 54.
  • the input values in the text boxes 138, 140, 142 correspond to the horizontal size of the mesh pattern M, the vertical size of the mesh pattern M, and the image resolution (pixel size) of the output image data ImgOut.
  • the worker inputs various conditions of the black matrix 59 via the setting screen 160 displayed on the display unit 22.
  • the input of the radio buttons 162a and 162b corresponds to whether or not to generate output image data ImgOut representing a pattern in which the black matrix 59 is superimposed on the mesh pattern M. In the case of “Yes” (radio button 162a), the black matrix 59 is superimposed, and in the case of “No” (radio button 162b), the black matrix 59 is not superimposed. Here, since the black matrix 59 is not superimposed, the radio button 162b is selected.
  • the image information estimation unit 36 estimates the image information of the mesh pattern M in response to the click operation of the [Setting] button 180 by the operator. This image information is referred to when creating image data Img (including output image data ImgOut).
  • the number of pixels in the horizontal direction of the output image data is calculated based on the vertical size of the mesh pattern M (input value of the text box 138) and the image resolution of the output image data ImgOut (input value of the text box 142).
  • the number of pixels corresponding to the line width of the thin metal wire 54 can be calculated based on the width of the wiring (input value of the text box 134) and the image resolution.
  • the light transmittance of the single metal wire 54 can be estimated based on the light transmittance of the wire (display value in the column 148a) and the thickness of the wiring (input value in the text box 136). In addition, based on the light transmittance of the film material (display value in the column 150a) and the film thickness (input value in the text box 132), the thin metal wire 54 is laminated on the transparent film substrate 56. Light transmittance can be estimated.
  • the light transmittance of the wire (displayed in the column 148a), the light transmittance of the film material (displayed in the column 150a), the overall transmittance (input value of the text box 130), and the width of the wiring (text box 132).
  • the number of openings 52 and the number of seed points SD can be estimated based on the input value). Note that the number of seed points SD may be estimated in accordance with an algorithm for determining the region of the opening 52.
  • step S2 output image data ImgOut for forming the mesh pattern M is created.
  • evaluation is performed based on an evaluation value EVP obtained by quantifying noise characteristics (for example, granular noise).
  • a predetermined region range of the image data Img may be determined, and RMS (Root Mean Square) may be obtained for the pixel values in the region range.
  • RMS Root Mean Square
  • human visual response characteristics are taken into account for evaluation, and a further improved evaluation value EVP is used.
  • FIG. 8A is a schematic explanatory diagram in which image data Img representing the pattern of the mesh pattern M is visualized.
  • image data Img will be described as an example.
  • FFT is applied to the image data Img shown in FIG. 8A.
  • it can grasp
  • FIG. 8B is a distribution diagram of a spectrum Spc obtained by performing FFT on the image data Img of FIG. 8A.
  • the horizontal axis of the distribution diagram indicates the spatial frequency in the X-axis direction
  • the vertical axis indicates the spatial frequency in the Y-axis direction.
  • the intensity level decreases as the display density for each spatial frequency band decreases, and the intensity level increases as the display density increases.
  • the distribution of this spectrum Spc is isotropic and has two circular peaks.
  • FIG. 8C is a cross-sectional view along the line VIIIC-VIIIC of the distribution of the spectrum Spc shown in FIG. 8B. Since the spectrum Spc is isotropic, FIG. 8C corresponds to the radial distribution for all angular directions. As can be understood from this figure, the intensity level in the low spatial frequency band and the high spatial frequency band is reduced, and a so-called bandpass type characteristic is obtained in which the intensity level is increased only in the intermediate spatial frequency band. That is, it can be said that the image data Img shown in FIG. 8A represents a pattern having the characteristics of “green noise” according to technical terms in the field of image engineering.
  • FIG. 9 is a graph showing a Dooley-Shaw function with an observation distance of 300 mm.
  • the Dooley show function is a type of VTF (Visual Transfer Function) and is a representative function that imitates human visual response characteristics. Specifically, this corresponds to the square value of the contrast ratio characteristic of luminance.
  • the horizontal axis of the graph is the spatial frequency (unit: cycle / mm), and the vertical axis is the VTF value (unit is dimensionless).
  • the VTF value is constant (equal to 1) in the range of 0 to 1.0 cycle / mm, and the VTF value tends to gradually decrease as the spatial frequency increases. That is, this function functions as a low-pass filter that cuts off the medium to high spatial frequency band.
  • the actual human visual response characteristic has a value smaller than 1 near 0 cycle / mm, which is a so-called band-pass filter characteristic.
  • the contribution to the evaluation value EVP is increased by setting the VTF value to 1 even in a very low spatial frequency band. Thereby, the effect which suppresses the periodicity resulting from the repeating arrangement
  • Evaluation value EVP is calculated by the following equation (1) when the value of spectrum Spc is F (Ux, Uy).
  • the value obtained by integrating the spectrum Spc over the entire spatial frequency band matches the square value of RMS.
  • a value obtained by multiplying the spectrum Spc by VTF and integrating the new spectrum Spc in the entire spatial frequency band is an evaluation index that substantially matches human visual characteristics.
  • This evaluation value EVP can be said to be RMS corrected by human visual response characteristics. Similar to normal RMS, the evaluation value EVP always takes a value of 0 or more, and the closer to 0, the better the noise characteristics.
  • IFFT inverse Fourier transform
  • the calculation formula of the evaluation value EVP can be variously changed according to the target level (allowable range) for determining the mesh pattern M and the evaluation function.
  • image data Img includes image data ImgInit as initial data in repetitive calculation and image data ImgTemp as temporary data.
  • evaluation value EVP includes an evaluation value EVPInit as an initial value in the repetitive calculation and an evaluation value EVPTemp as temporary data.
  • various search algorithms such as a structural algorithm and a sequential improvement algorithm can be used as an optimization problem for determining the output image data ImgOut.
  • a mesh pattern M optimization method based on simulated annealing (hereinafter referred to as SA method) will be described with reference mainly to the flowchart of FIG. 10 and the functional block diagram of FIG.
  • the SA method is a probabilistic search algorithm that imitates the “annealing method” in which robust iron is obtained by hitting iron in a high temperature state.
  • the initial position selection unit 28 selects the initial position of the seed point SD (step S21).
  • the random number generator 26 Prior to selection of the initial position, the random number generator 26 generates a random value using a pseudo-random number generation algorithm.
  • various algorithms such as Mersenne Twister, SFMT (SIMD-oriented Fast Mersenne Twister), and the Xorshift method may be used as a pseudo-random number generation algorithm.
  • the initial position selecting unit 28 randomly determines the initial position of the seed point SD using the random number value supplied from the random number generating unit 26.
  • the initial position selection unit 28 selects the initial position of the seed point SD as the address of the pixel on the image data Img, and sets the seed points SD at positions where they do not overlap each other.
  • the initial position selection unit 28 determines the range of the two-dimensional image region in advance based on the number of pixels in the vertical and horizontal directions of the image data Img supplied from the image information estimation unit 36. Further, the initial position selection unit 28 acquires the number of seed points SD from the image information estimation unit 36 in advance, and determines the number.
  • FIG. 11 is a graph showing an example of the relationship between the arrangement density of the seed points SD and the overall transmittance of the mesh pattern M. This figure shows that the covering area of the wiring increases as the arrangement density increases, and as a result, the overall transmittance of the mesh pattern M decreases.
  • This graph characteristic changes according to the light transmittance of the film material (indicated by the column 150a in FIG. 5), the wiring width (input value in the text box 132 in FIG. 5), and the region determination algorithm (for example, Voronoi diagram). . Therefore, characteristic data corresponding to each parameter such as the width of the wiring may be stored in the storage unit 24 in advance in various data formats such as functions and tables.
  • the correspondence between the arrangement density of the seed points SD and the electric resistance value of the mesh pattern M may be acquired in advance, and the number of seed points SD may be determined based on the designated value of the electric resistance value.
  • the electrical resistance value is one parameter representing the conductivity of the conductive portion 50 and is indispensable for the design of the mesh pattern M.
  • the initial position selection unit 28 may select the initial position of the seed point SD without using a random value.
  • the initial position can be determined with reference to data acquired from an external device including a scanner and a storage device (not shown). This data may be, for example, predetermined binary image data, specifically, halftone dot data for printing.
  • the image data creation unit 38 creates image data ImgInit as initial data (step S22).
  • the image data creation unit 38 is an image representing a pattern corresponding to the mesh pattern M based on the number and position data SDd of the seed points SD supplied from the storage unit 24 and the image information supplied from the image information estimation unit 36. Data ImgInit is created.
  • the algorithm for determining a mesh-like pattern from a plurality of seed points SD can take various methods. Hereinafter, this will be described in detail with reference to FIGS. 12A to 13B.
  • FIG. 12B is an explanatory diagram showing a result of defining eight regions V 1 to V 8 surrounding eight points P 1 to P 8 , respectively, using a Voronoi diagram.
  • the Euclidean distance was used as the distance function.
  • FIG. 13B shows the result of defining eight triangular regions each having the vertices at points P 1 to P 8 in FIG. 13A (same as FIG. 12A) using Delaunay triangulation.
  • the Delaunay triangulation method is a method of defining a triangular region by connecting adjacent points among the points P 1 to P 8 . Also by this method, the same number of regions V 1 to V 8 as the number of points P 1 to P 8 can be determined.
  • the definition of the pixel address and the pixel value are determined in advance.
  • FIG. 14A is an explanatory diagram showing the definition of the pixel address in the image data Img.
  • the pixel size is 10 ⁇ m
  • the number of vertical and horizontal pixels of the image data is 8192.
  • it is set to be a power of 2 (for example, 2 to the 13th power).
  • the entire image area of the image data Img corresponds to a rectangular area of about 82 mm square.
  • FIG. 14B is an explanatory diagram illustrating the definition of pixel values in the image data Img.
  • the number of gradations per pixel is 8 bits (256 gradations).
  • the optical density 0 corresponds to the pixel value 0 (minimum value), and the optical density 4.5 corresponds to the pixel value 255 (maximum value).
  • the intermediate pixel values 1 to 254 are determined so as to have a linear relationship with the optical density.
  • the optical density is not limited to the transmission density but may be the reflection density, and can be appropriately selected according to the use mode of the conductive film 14 and the like.
  • each pixel value can be defined in the same manner as described above even for tristimulus values XYZ, color values RGB, L * a * b * , and the like.
  • the image data creation unit 38 determines the image corresponding to the mesh pattern M based on the data definition of the image data Img and the image information estimated by the image information estimation unit 36 (see the description of step S1). Data ImgInit is created (step S22).
  • the image data creation unit 38 determines the initial state of the mesh pattern M shown in FIG. 15B using a Voronoi diagram based on the initial position of the seed point SD (see FIG. 15A). Appropriate processing is performed on the edge of the image so that it is repeatedly arranged in the vertical and horizontal directions. For example, for the seed point SD near the left end (or right end) of the image, a region V i is obtained between the seed point SD near the right end (or left end) of the image. Similarly, the upper (or lower) seed point SD near the image, so as to obtain a region V i between the lower end of the image (upper end) in the vicinity of the seed point SD.
  • the image data Img is image data including each data of four channels of the optical density OD, the color value L * , the color value a * , and the color value b * .
  • the mesh pattern evaluation unit 40 calculates an evaluation value EVPInit as an initial value (step S23). Note that, in the SA method, the evaluation value EVP plays a role as a consideration function (Cost Function).
  • the FFT operation unit 100 shown in FIG. 4 performs FFT on the image data ImgInit. Then, the evaluation value calculation unit 102 calculates the evaluation value EVP based on the spectrum Spc supplied from the FFT calculation unit 100.
  • the evaluation values EVP (L * ), EVP (a * ), and EVP (b * ) described above are applied to the channels of the color value L * , the color value a * , and the color value b * , respectively.
  • an evaluation value EVP is obtained by performing a product-sum operation using a predetermined weight coefficient.
  • the optical density OD may be used instead of the color value L * , the color value a * , and the color value b * .
  • the type of observation mode specifically, whether the auxiliary light source is dominant in transmitted light, dominant in reflected light, or mixed light of transmitted and reflected light. Accordingly, it is possible to appropriately select a calculation method that is more suitable for human visibility.
  • the calculation formula of the evaluation value EVP can be variously changed according to the target level (allowable range) for determining the mesh pattern M and the evaluation function.
  • the mesh pattern evaluation unit 40 calculates the evaluation value EVPInit (step S23).
  • the storage unit 24 temporarily stores the image data ImgInit created in step S22 and the evaluation value EVPInit calculated in step S23 (step S24). At the same time, an initial value n ⁇ T (n is a natural number and ⁇ T is a positive real number) is substituted for the pseudo temperature T.
  • the counter 108 initializes a variable K (step S25). That is, 0 is substituted for K.
  • Step S26 Whether the seed point SD is “updated” or “non-updated” is determined (step S26). Step S26 will be described in more detail with reference to the functional block diagrams of FIGS. 1 and 4 and the flowchart of FIG.
  • the update candidate position determination unit 30 extracts candidate points SP from a predetermined two-dimensional image region 200 and determines them (step S261). For example, the update candidate position determination unit 30 determines a position that does not overlap with any position of the seed point SD using the random number value supplied from the random number generation unit 26. Note that the number of candidate points SP may be one or plural. In the example shown in FIG. 17A, there are two candidate points SP (points Q 1 and Q 2 ) with respect to eight seed points SD (points P 1 to P 8 ).
  • the update candidate position determination unit 30 associates each seed point SD exchanged (or updated) with each candidate point SP at random.
  • FIG. 17A it is assumed that point P 1 and point Q 1 are associated with each other, and point P 3 and point Q 2 are associated with each other.
  • FIG. 17B the point P 1 and the point Q 1 are exchanged, and the point P 3 and the point Q 2 are exchanged.
  • the point P 2 and the points P 4 to P 8 that are not the object of exchange (or update) are referred to as the first seed point SDN, and the points P 1 and P 3 that are the object of exchange (or update) are the second seed point SDS. That's it.
  • the image data creation unit 38 creates image data ImgTemp using the exchanged new seed point SD (see FIG. 17B) (step S263). At this time, since the same method as in the case of step S22 (see FIG. 10) is used, the description is omitted.
  • the mesh pattern evaluation unit 40 calculates an evaluation value EVPTemp based on the image data ImgTemp (step S264). At this time, since the same method as that in the case of step S24 (see FIG. 10) is used, description thereof is omitted.
  • the update probability calculation unit 112 calculates the update probability Prob of the position of the seed point SD (step S265).
  • “update of position” means that the seed point SD (that is, the first seed point SDN and the candidate point SP) obtained by provisional exchange in step S262 is determined as a new seed point SD. .
  • the update probability Prob is given by the following equation (2).
  • T represents a pseudo temperature
  • the update rule of the seed point SD changes from stochastic to deterministic.
  • the position update determination unit 114 determines whether or not to update the position of the seed point SD according to the update probability Prob calculated by the update probability calculation unit 112 (step 266).
  • the random number value supplied from the random number generator 26 may be used to make a probabilistic determination.
  • step S267 and S268 If the seed point SD is updated, “update” is instructed to the storage unit 24, and if not updated, “non-update” is instructed to the storage unit 24 side (steps S267 and S268).
  • step S26 is completed.
  • step S27 it is determined whether or not the seed point SD is to be updated in accordance with either “update” or “non-update” instruction. If the seed point SD is not updated, the process proceeds to the next step S30 without performing step S29.
  • the storage unit 24 when updating the seed point SD, the storage unit 24 overwrites and updates the image data ImgTemp obtained in step S263 (see FIG. 16) with respect to the currently stored image data Img (step S28).
  • the storage unit 24 overwrites and updates the evaluation value EVPTemp obtained in step S264 with respect to the currently stored evaluation value EVP (step S28). Further, the storage unit 24 overwrites and updates the position data SPd of the candidate point SP obtained in step S261 with respect to the position data SDSd of the second seed point SDS currently stored (step S28). Thereafter, the process proceeds to next Step S29.
  • the counter 108 adds 1 to the current value of K (step S29).
  • the pseudo temperature management unit 110 subtracts the pseudo temperature T by ⁇ T (step S31), and proceeds to the next step S32.
  • the change amount of the pseudo temperature T may be not only the subtraction of ⁇ T but also a multiplication of a constant ⁇ (0 ⁇ ⁇ 1). In this case, the probability Prob (lower stage) shown in the equation (2) is subtracted by a certain value.
  • the simulated temperature management unit 110 determines whether or not the current simulated temperature T is equal to 0 (step S32). If T is not equal to 0, the process returns to step S25, and thereafter steps S25 to S31 are repeated.
  • the pseudo temperature management unit 110 notifies the output image data determination unit 116 that the evaluation of the mesh pattern by the SA method has been completed. Then, the storage unit 24 overwrites and updates the output image data ImgOut with the content of the image data Img last updated in step S28 (step S33).
  • step S2 is completed.
  • the output image data ImgOut is image data that is then supplied to the exposure data conversion unit 32 and converted into a control signal for the exposure unit 18.
  • the output image data ImgOut obtained may be displayed on the display unit 22 and the mesh pattern M may be visualized in a pseudo manner for the operator to visually check.
  • the result of actual visualization of the output image data ImgOut will be described.
  • FIG. 18 shows spectra obtained by performing FFT on image data representing patterns of the first mesh pattern M1 according to the present embodiment and various patterns PT1 to PT3 (see FIGS. 33A to 33C) according to the conventional example. It is sectional drawing along the X-axis of Spc.
  • the spectrum Spc of the pattern PT1 shown in FIG. 33A has a wide peak (ranging from 2 to 30 cycles / mm) with the apex at about 10 cycles / mm.
  • the spectrum Spc of the pattern PT2 shown in FIG. 33B has a wide peak (range of 3 to 20 cycles / mm) centered at about 3 cycles / mm.
  • the spectrum Spc of the pattern PT3 shown in FIG. 33C has a slightly narrow peak (in the range of 8 to 18 cycles / mm) with a center of about 10 cycles / mm.
  • the spectrum Spc of the first mesh pattern M1 has a narrow peak centered at 8.8 cycle / mm.
  • FIG. 20 is a schematic explanatory diagram showing the relationship between a plurality of meshes and the center of gravity of each mesh with respect to the first mesh pattern M1 according to the present embodiment.
  • centroid image data Imgc representing the distribution of the center of gravity of each mesh (hereinafter referred to as “centroid distribution C”) included in the first mesh pattern M1 of FIG. FIG.
  • centroid distribution C representing the distribution of the center of gravity of each mesh
  • FIG. 21B is a distribution diagram of a two-dimensional power spectrum (hereinafter referred to as “centroid spectrum Spcc”) obtained by performing FFT on the centroid image data Imgc of FIG. 21A.
  • centroid spectrum Spcc a two-dimensional power spectrum
  • the horizontal axis of the distribution diagram indicates the spatial frequency in the X-axis direction
  • the vertical axis indicates the spatial frequency in the Y-axis direction.
  • the intensity level decreases as the display density for each spatial frequency band decreases, and the intensity level increases as the display density increases.
  • the distribution of the centroid spectrum Spcc is isotropic and has one circular peak.
  • FIG. 21C is a cross-sectional view along the line XXIC-XXIC of the distribution of the centroid spectrum Spcc shown in FIG. 21B. Since the center-of-gravity spectrum Spcc is isotropic, FIG. 21C corresponds to a radial direction distribution for all angular directions. As can be understood from this figure, the intensity level in the low spatial frequency band is small, and the intermediate spatial frequency band has a wide peak. Furthermore, it has a so-called high-pass characteristic in which the intensity level in the high spatial frequency band is higher than the low space fractional band. That is, it can be said that the center-of-gravity image data Imgc shown in FIG. 21A represents a pattern having the characteristics of “blue noise” according to technical terms in the field of image engineering.
  • FIG. 22 is a comparison diagram of the spectrum Spc and the centroid spectrum Spcc shown in FIGS. 8C and 21C. Specifically, the spectrum Spc of the first mesh pattern M1 and the centroid spectrum Spcc of the centroid distribution C are compared. For convenience, the intensity of each spectrum is normalized so that the maximum peak value P K matches.
  • the spatial frequency F P peak Pk is coincident, this value corresponds to 8.8cycle / mm.
  • the constituent elements of the mesh pattern M are line segments having a predetermined width intersecting each other, whereas the constituent elements of the centroid distribution C are points.
  • FIG. 23 is a schematic explanatory diagram showing the feature of the center-of-gravity spectrum Spcc of FIG. 21C.
  • the value of the center-of-gravity spectrum Spcc gradually increases in the range of 0 to 5 cycles / mm, increases rapidly around 6 cycles / mm, and has a broad peak at about 10 cycles / mm. Then, it gradually decreases in the range of 10 to 15 cycles / mm and maintains a high value in a high spatial frequency band exceeding 15 cycles / mm.
  • the reference spatial frequency Fb (predetermined spatial frequency) is set to 6 cycles / mm.
  • P L be the average value of the center-of-gravity spectrum Spcc in the spatial frequency band lower than Fb, that is, in the range of 0 to Fb [cycle / mm].
  • a high spatial frequency band side than Fb i.e., the mean value of centroid spectrum Spcc in Fb [cycle / mm] ⁇ Nyquist frequency and P H.
  • P H is larger than P L. Since the center-of-gravity spectrum Spcc has such a feature, the noise feeling visually felt by the observer is reduced. The basis for this is as follows.
  • the value of Fb is set so that the human visual response characteristic is a spatial frequency corresponding to 5% of the maximum response. This is because at this strength level, it is difficult to view.
  • the visual response characteristic obtained based on the Dooley-show function with a clear visual distance of 300 mm is used. This is because this function fits well with human visual response characteristics.
  • a spatial frequency of 6 cycles / mm corresponding to 5% of the maximum response can be used in the Dooley-show function with a clear visual distance of 300 mm. Note that 6 cycles / mm corresponds to an interval of 167 ⁇ m.
  • the power spectrum of the gravity center position distribution of the mesh pattern M included in the conductive film 14 corresponds to a spectrum obtained by the following process. That is, the image data ImgOut representing the pattern of the mesh pattern M is acquired, each mesh (closed space) is identified, the center of gravity position (for example, one pixel dot) is calculated, and the center of gravity image data Imgc is obtained.
  • the power spectrum of the centroid position distribution of the mesh pattern M is obtained by obtaining the dimensional power spectrum (centroid spectrum Spcc).
  • the image data ImgOut may be acquired as grayscale image data of the conductive film 14 using an input device such as a scanner, or the image data ImgOut actually used for forming the mesh pattern M (see FIG. 1).
  • step S1 the operation of the manufacturing apparatus 10 is basically the same as when the first mesh pattern M1 is created.
  • step S1 when inputting various conditions (step S1), not only the visual information related to the visibility of the mesh pattern M but also visual information regarding the black matrix 59 is further input.
  • the worker inputs an appropriate numerical value or the like via the setting screen 160 (see FIG. 6) displayed on the display unit 22.
  • the visual information related to the visibility of the black matrix 59 can be input.
  • the visual information of the black matrix 59 is various information that contributes to the shape and optical density of the black matrix 59, and includes visual information of the pattern material.
  • the visual information of the pattern material includes, for example, at least one of the type of the pattern material, the color value, the light transmittance or the light reflectance, or the arrangement position, unit shape, or unit size of the pattern structure.
  • the worker inputs various conditions of the black matrix 59 with respect to the black matrix 59 to be superimposed using the text box 164 shown in FIG.
  • the input of the radio buttons 162a and 162b corresponds to whether or not output image data ImgOut representing a pattern in which the black matrix 59 is superimposed on the mesh pattern M is created.
  • the radio button 162a (“Yes”) is selected.
  • the input value in the text box 164 corresponds to the number of trials in which the arrangement position of the black matrix 59 is randomly determined and the image data Img is created and evaluated. For example, when this value is set to 5 times, five superimposed image data in which the positional relationship between the mesh pattern M and the black matrix 59 is determined at random are created, and the average value of the evaluation value EVP is used respectively. Evaluate the pattern.
  • the input values of the text boxes 166, 168, 170, and 172 include the optical density (unit: D) of the black matrix 59, the horizontal size (unit: ⁇ m) of the unit pixel 60, the vertical size (unit: ⁇ m) of the unit pixel 60, This corresponds to the width (unit: ⁇ m) of the light shielding material 68h and the width (unit: ⁇ m) of the light shielding material 68v, respectively.
  • the optical density of the black matrix 59 (text box 166), the horizontal size of the unit pixel 60 (text box 168), the vertical size of the unit pixel 60 (text box 170), and the width of the light shielding material 68h (text box 172).
  • the width of the light shielding material 68v (text box 174), the pattern (shape / optical density) of the mesh pattern M when the black matrix 59 is superimposed can be estimated.
  • FIG. 24 is a second flowchart illustrating a method for creating output image data ImgOut. This figure is different from FIG. 10 in that it includes a step (step S23A) for creating superimposed image data ImgInit '. Moreover, the point (step S26A) which judges the update / non-update of seed point SD from the superimposition image data ImgTemp 'mentioned later differs from step S26 (refer FIG. 10). Since steps S21 to S25 and S27 to S33 have already been described above, description of the operation at each step is omitted.
  • step S23A the image data creation unit 38 performs superimposition based on the image data ImgInit created in step S22 and the image information of the black matrix 59 estimated by the image information estimation unit 36 (see the description of step S1).
  • Image data ImgInit ′ is created.
  • the superimposed image data ImgInit ′ is image data representing a pattern in which a black matrix 59 as a structural pattern is superimposed on the second mesh pattern M2.
  • the transmission density of each pixel corresponding to the arrangement position of the black matrix 59 (the input value of the text box 166 in FIG. 6) is added to superimpose image data.
  • the data definition of the pixel value of the image data ImgInit is a reflection density
  • the superimposed image data is replaced with the reflection density (input value of the text box 166) of each pixel corresponding to the arrangement position of the black matrix 59.
  • step S26A in a state where a part of the seed point SD (second seed point SDS) is replaced with the candidate point SP, the superimposed image data ImgTemp ′ is created and the evaluation value EVPTtemp is calculated. "Or” not updated ".
  • step S263A for creating superimposed image data ImgTemp '. Since steps S261 to S268 have already been described above, description of the operation at each step is omitted.
  • step S263A the image data creation unit 38, based on the image data ImgTemp created in step S263 and the image information of the black matrix 59 estimated by the image information estimation unit 36 (see the description of step S1).
  • the superimposed image data ImgTemp ′ is created.
  • the description is omitted.
  • the evaluation value EVP (or evaluation value EVPInit) is calculated to take into account the pattern of the black matrix 59.
  • the mesh shape can be evaluated.
  • step S2A is completed.
  • the output image data ImgOut is image data that is then supplied to the exposure data conversion unit 32 and converted into a control signal for the exposure unit 18.
  • FIG. 26A is a schematic explanatory diagram in which the black matrix 59 is superimposed and visualized on the output image data ImgOut representing the pattern of the conductive film 14.
  • the second mesh pattern M2, the red filter 58r, the green filter 58g, the blue filter 58b, and the black matrix 59 are displayed in an identifiable manner.
  • 26B to 26D are graphs obtained by calculating the spectrum Spc by extracting the R component, G component, and B component of the color value from the image data ImgOut of FIG. 26A, respectively. As shown in FIGS. 26B to 26D, substantially the same spectrum Spc was obtained for each of the RGB components. In both cases, noise peaks occur around the spatial frequency corresponding to the arrangement interval of the light shielding members 61h and 61v of the black matrix 59.
  • FIG. 27A is a schematic explanatory diagram in which a human visual response characteristic is applied to the output image data ImgOut in FIG. 26A and visualized.
  • a human visual response characteristic in other words, a low-pass filter (see FIG. 9), the fine structural contours of the second mesh pattern M2 and the black matrix 59 are hardly visible as shown in FIG. 27A.
  • FIGS. 27B to 27D are graphs obtained by calculating the spectrum Spcv by extracting the R component, G component, and B component of the color value from the image data of FIG. 27A, respectively. Compared to FIG. 26A, the peak of the noise characteristic described above is shifted to the low spatial frequency side, and the area formed by the spectrum Spcv is reduced.
  • FIG. 28A is a schematic explanatory diagram in which the second mesh pattern M1 representing the pattern of the conductive film 14 is visualized using the output image data ImgOut optimized under the condition where the black matrix 59 is superimposed.
  • the pattern (each opening 52) of the mesh pattern M2 generally has a horizontally long shape as compared with the pattern of the mesh pattern M1.
  • the grounds are presumed as follows.
  • the shape of the unit pixel 60 of the black matrix 59 shown in FIG. 2B is a square.
  • the unit pixel 60 is partitioned into 1/3 regions, and the noise granularity of high spatial frequency components increases.
  • the vertical direction only the spatial frequency component corresponding to the arrangement period of the light shielding material 61h exists, and there is no other spatial frequency component, so that the mesh pattern M2 is reduced so as to reduce the visibility of the arrangement period.
  • the pattern is determined. That is, the wirings extending in the left-right direction are determined so as to be as narrow as possible and to be regularly arranged between the light shielding members 61h.
  • the mesh shape can be optimized in consideration of the pattern of the black matrix 59. Is possible.
  • the exposure unit 18 performs an exposure process of the mesh pattern M (step S3), and then performs a development process (step S4).
  • the first method is a method in which a mesh pattern M is formed by a metallic silver portion formed by exposing, developing and fixing a silver salt photosensitive layer provided on a transparent film substrate 56.
  • a silver salt photosensitive layer 66 obtained by mixing silver halide 62 (for example, silver bromide grains, silver chlorobromide grains or silver iodobromide grains) with gelatin 64 is formed as a transparent film. It is applied on the substrate 56.
  • the silver halide 62 is expressed as “grains”, but is exaggerated to help understanding of the present invention, and the size, concentration, etc. are shown. It is not a thing.
  • the silver salt photosensitive layer 66 is subjected to exposure necessary for forming the conductive portion 50. That is, the light 16 is irradiated on the silver salt photosensitive layer 66 through the mask pattern corresponding to the exposure pattern obtained through the pattern generation processing shown in FIG. 10 or FIG. Alternatively, the exposure pattern generated by the pattern generation process is exposed to the silver salt photosensitive layer 66 by digital writing exposure on the silver salt photosensitive layer 66.
  • silver halide 62 receives light energy, it is exposed to light and generates fine silver nuclei called “latent images” that cannot be observed with the naked eye.
  • development processing is performed as shown in FIG. 29C.
  • the silver salt photosensitive layer 66 on which the latent image is formed is developed with a developer (both alkaline solutions and acidic solutions, but usually alkaline solutions are large).
  • a developer both alkaline solutions and acidic solutions, but usually alkaline solutions are large.
  • silver ions supplied from silver halide grains or a developer are reduced to metallic silver by using a latent image silver nucleus as a catalyst nucleus by a reducing agent called a developing agent in the developer, and as a result
  • the image silver nuclei are amplified to form a visualized silver image (developed silver 68).
  • silver halide 62 that can be exposed to light remains in the silver salt photosensitive layer 66.
  • a fixing processing solution either an acidic solution or an alkaline solution is used as shown in FIG. 29D.
  • fixing is usually performed by using an acidic solution.
  • the metal silver portion 70 is formed in the exposed portion, and only the gelatin 64 remains in the unexposed portion to become the light transmitting portion 72. That is, a mesh pattern M is formed on the transparent film substrate 56 by a combination of the metallic silver portion 70 and the light transmitting portion 72.
  • the developing step is a step of causing the developing agent 68 to react with the latent image to precipitate the developed silver 68
  • the fixing step is a step of eluting the silver halide 62 that did not become the developing silver 68 into water.
  • the development process is performed with an alkaline solution. Therefore, when entering the fixing process from the development process, the alkaline solution adhered in the development process is a fixing process solution (in many cases, an acidic solution). Therefore, there is a problem that the activity of the fixing processing solution changes. Further, there is a concern that an unintended development reaction may further progress due to the developer remaining in the film after leaving the development processing tank. Therefore, it is preferable to neutralize or acidify the silver salt photosensitive layer 66 with a stop solution such as an acetic acid (vinegar) solution after the development processing and before entering the fixing processing step.
  • a stop solution such as an acetic acid (vinegar) solution
  • the mesh pattern M may be formed by the conductive metal 74 carried on the metal silver part 70.
  • the photopolymerization initiator absorbs light by the exposure process and the reaction starts, and the photoresist film (resin) itself undergoes a polymerization reaction to increase or decrease the solubility in the developer.
  • the exposed resin is removed.
  • a solution called a developing solution in the resist technique is an alkaline solution that does not contain a reducing agent and dissolves an unreacted resin component, for example.
  • fine silver nuclei called so-called “latent image” are formed from photoelectrons and silver ions generated in the silver halide 62 at the site receiving light.
  • the latent image silver nuclei are amplified by a development process (in this case, the developer always contains a reducing agent called a developing agent) to become a visualized silver image.
  • a development process in this case, the developer always contains a reducing agent called a developing agent
  • the resist technology and the silver salt photographic technology have completely different reactions from exposure processing to development processing.
  • the exposed or unexposed part of the resin part that has not undergone a polymerization reaction is removed.
  • the developed silver 68 grows to a visible size by causing a reduction reaction with a reducing agent called a developing agent contained in the developer using the latent image as a catalyst nucleus.
  • the gelatin 64 in the unexposed part is not removed. In this way, the resist technology and the silver salt photographic technology have completely different reactions in development processing.
  • the main reaction is silver halide
  • resist technology it is a photopolymerization initiator.
  • the binder gelatin 64
  • the binder remains in the silver salt photographic technique, but the binder disappears in the resist technique.
  • the silver salt photographic technique and the photoresist technique are greatly different.
  • a photoresist film 76 on a copper foil 75 formed on a transparent film substrate 56 is formed to obtain a photosensitive material. Thereafter, the photosensitive material is exposed. That is, the photoresist film 76 is irradiated with light through a mask pattern corresponding to the exposure pattern obtained through the pattern generation process shown in FIG. Alternatively, the exposure pattern generated by the pattern generator is exposed to the photoresist film 76 by digital writing exposure on the photoresist film 76. Thereafter, by developing, a resist pattern 78 corresponding to the conductive portion 50 is formed on the transparent film substrate 56, and the copper foil 75 exposed from the resist pattern 78 is etched as shown in FIG. 30B. At this stage, the conductive portion 50 (mesh pattern M) made of the copper foil 75 is formed on the transparent film substrate 56.
  • the paste 80 containing a metal microparticle is printed on the transparent film base material 56, and metal plating is carried out to the printed paste 80 as shown in FIG. 31B.
  • the conductive portion 50 (mesh pattern M) may be formed.
  • a metal thin film 84 may be printed on the transparent film substrate 56 by a screen printing plate or a gravure printing plate to form a mesh pattern M.
  • the conductive film 14 according to the present embodiment is exposed by exposing a photosensitive material having an emulsion layer containing a photosensitive silver halide salt on the transparent film substrate 56 and developing the photosensitive material.
  • the metallic silver portion 70 and the transparent portion 72 are respectively formed in the exposed portion and the unexposed portion, and the metallic silver portion 70 is further subjected to physical development and / or plating treatment, thereby supporting the conductive metal 74 on the metallic silver portion 70.
  • the method for forming the conductive film 14 according to the present embodiment includes the following three forms depending on the photosensitive material and the form of development processing.
  • a photosensitive silver halide black-and-white photosensitive material that does not contain physical development nuclei and an image-receiving sheet that has a non-photosensitive layer that contains physical development nuclei are overlaid and diffused and transferred to develop a non-photosensitive image of the metallic silver portion 70. Form formed on a sheet.
  • the above aspect (1) is an integral black-and-white development type, and a light-transmitting conductive film such as a light-transmitting electromagnetic wave shielding film or a light-transmitting conductive film is formed on the photosensitive material.
  • the resulting developed silver is chemically developed silver or physical developed silver, and is highly active in the subsequent plating or physical development process in that it is a filament with a high specific surface.
  • the light-transmitting conductive film is formed on the photosensitive material by dissolving the silver halide near the physical development nucleus and depositing on the development nucleus in the exposed portion.
  • This is also an integrated black-and-white development type.
  • the development action is precipitation on the physical development nuclei, it is highly active, but the specific surface of developed silver is a small sphere.
  • the light-transmitting conductive film is formed on the image receiving sheet by dissolving and diffusing the silver halide in the unexposed area and depositing on the development nuclei on the image receiving sheet.
  • This is a so-called separate type in which the image receiving sheet is peeled off from the photosensitive material.
  • either negative development processing or reversal development processing can be selected (in the case of the diffusion transfer method, negative development processing is possible by using an auto-positive type photosensitive material as the photosensitive material).
  • the photosensitive material (photosensitive web) as the material to be plated is, for example, a long flexible base material in which a silver salt-containing layer containing a silver salt (for example, silver halide) is provided on the transparent film base material 56.
  • a protective layer may be provided on the silver salt-containing layer, and this protective layer means a layer made of a binder such as gelatin or a high molecular polymer, and exhibits effects of preventing scratches and improving mechanical properties. In order to do so, it is formed on the silver salt-containing layer.
  • the thickness of the protective layer is preferably 0.02 to 20 ⁇ m.
  • composition of these silver salt-containing layers and protective layers can be applied as appropriate.
  • a silver salt photographic film (silver salt light-sensitive material) is preferable, and a black-and-white silver salt photographic film (black-and-white silver salt light-sensitive material) is the best.
  • the silver salt applied to the silver salt-containing layer is most preferably silver halide.
  • the width of the photosensitive material is preferably 20 cm or more and the thickness is preferably 50 to 200 ⁇ m.
  • Transparent film substrate 56 As the transparent film base material 56 used in the manufacturing method of the present embodiment, a flexible plastic film can be used.
  • Examples of the raw material for the plastic film include polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl butyral, polyamide, polyether, polysulfone, polyethersulfone, polycarbonate, and polyarylate.
  • PET polyethylene terephthalate
  • PEN polyethylene naphthalate
  • Polyvinyl chloride polyvinylidene chloride
  • polyvinyl butyral polyamide
  • polyether polysulfone
  • polyethersulfone polycarbonate
  • polyarylate polyarylate
  • Polyetherimide, polyetherketone, polyetheretherketone, polyolefins such as EVA, polycarbonate, triacetylcellulose (TAC), acrylic resin, polyimide, or aramid can be used.
  • the plastic film is preferably a polyethylene terephthalate (PET) film or a triacetyl cellulose (TAC) film from the viewpoint of translucency, heat resistance, ease of handling and price.
  • PET polyethylene terephthalate
  • TAC triacetyl cellulose
  • the transparent heating element for window glass requires translucency, it is desirable that the transparent film substrate 56 has high translucency.
  • the total visible light transmittance of the plastic film is preferably 70 to 100%, more preferably 85 to 100%, and particularly preferably 90 to 100%.
  • what was colored to such an extent that the objective of this invention is not prevented as said plastic film can also be used.
  • the plastic film in this embodiment can be used as a single layer, but can also be used as a multilayer film in which two or more layers are combined.
  • the photosensitive material used may be provided with a protective layer on the emulsion layer described later.
  • the “protective layer” means a layer made of a binder such as gelatin or a high molecular polymer, and is formed on a photosensitive emulsion layer in order to exhibit an effect of preventing scratches or improving mechanical properties.
  • the protective layer is preferably not provided for the plating treatment, and even if provided, the protective layer is preferably thin. The thickness is preferably 0.2 ⁇ m or less.
  • the formation method of the coating method of the said protective layer is not specifically limited, A well-known coating method can be selected suitably.
  • the photosensitive material used in the manufacturing method of the present embodiment preferably has an emulsion layer (silver salt photosensitive layer 66) containing a silver salt as a photosensor on the transparent film substrate 56.
  • the emulsion layer in the present embodiment can contain a dye, a binder, a solvent, and the like as required.
  • the silver salt used in the present embodiment is preferably an inorganic silver salt such as silver halide.
  • the silver salt is preferably used in the form of silver halide grains for a silver halide photographic light-sensitive material.
  • Silver halide is excellent in characteristics as an optical sensor.
  • the silver halide preferably used in the form of a photographic emulsion of a silver halide photographic light-sensitive material will be described.
  • silver halide in order to function as an optical sensor, and a technique used for silver halide photographic film, photographic paper, printing plate making film, emulsion mask for photomask, etc. relating to silver halide. Can also be used in this embodiment.
  • the halogen element contained in the silver halide may be any of chlorine, bromine, iodine and fluorine, or a combination thereof.
  • silver halide mainly composed of AgCl, AgBr, and AgI is preferably used, and silver halide mainly composed of AgBr or AgCl is preferably used.
  • Silver chlorobromide, silver iodochlorobromide and silver iodobromide are also preferably used. More preferred are silver chlorobromide, silver bromide, silver iodochlorobromide and silver iodobromide, and most preferred are silver chlorobromide and silver iodochlorobromide containing 50 mol% or more of silver chloride. Used.
  • silver halide mainly composed of AgBr refers to silver halide in which the molar fraction of bromide ions in the silver halide composition is 50% or more.
  • the silver halide grains mainly composed of AgBr may contain iodide ions and chloride ions in addition to bromide ions.
  • the silver halide emulsion used in this embodiment may contain a metal belonging to Group VIII or Group VIIB.
  • a metal belonging to Group VIII or Group VIIB it is preferable to contain a rhodium compound, an iridium compound, a ruthenium compound, an iron compound, an osmium compound or the like in order to obtain a gradation of 4 or more or to achieve low fog.
  • the amount of these compounds added is preferably 10 ⁇ 10 to 10 ⁇ 2 mol / mol Ag per mol of silver halide, and more preferably 10 ⁇ 9 to 10 ⁇ 3 mol / mol Ag.
  • silver halides containing Pd (II) ions and / or Pd metals can also be preferably used.
  • Pd may be uniformly distributed in the silver halide grains, but is preferably contained in the vicinity of the surface layer of the silver halide grains.
  • Pd “contains in the vicinity of the surface layer of the silver halide grains” means that the Pd content is higher than the other layers within 50 nm in the depth direction from the surface of the silver halide grains. means.
  • Such silver halide grains can be prepared by adding Pd in the course of forming silver halide grains. After adding silver ions and halogen ions to 50% or more of the total addition amount, Pd Is preferably added. It is also preferred that Pd (II) ions be present in the surface layer of the silver halide by a method such as addition at the time of post-ripening.
  • the Pd-containing silver halide grains increase the speed of physical development and electroless plating, increase the production efficiency of a desired heating element, and contribute to the reduction of production costs.
  • Pd is well known and used as an electroless plating catalyst.
  • Pd can be unevenly distributed on the surface layer of silver halide grains, so that extremely expensive Pd can be saved. is there.
  • the content of Pd ions and / or Pd metals contained in silver halide is 10 ⁇ 4 to 0.5 mol / mol Ag with respect to the number of moles of silver in the silver halide. It is preferably 0.01 to 0.3 mol / mol Ag.
  • Examples of the Pd compound to be used include PdCl 4 and Na 2 PdCl 4 .
  • chemical sensitization performed with a photographic emulsion can be performed.
  • the chemical sensitization method sulfur sensitization, selenium sensitization, chalcogen sensitization such as tellurium sensitization, noble metal sensitization such as gold sensitization, reduction sensitization and the like can be used. These are used alone or in combination.
  • sulfur sensitization method and gold sensitization method sulfur sensitization method and selenium sensitization method and gold sensitization method
  • sulfur sensitization method and tellurium sensitization sulfur sensitization method and tellurium sensitization.
  • a combination of a method and a gold sensitization method is preferable.
  • a binder in the emulsion layer, can be used for the purpose of uniformly dispersing silver salt grains and assisting the adhesion between the emulsion layer and the support.
  • the binder both a water-insoluble polymer and a water-soluble polymer can be used as a binder, but a water-soluble polymer is preferably used.
  • binder examples include gelatin, polyvinyl alcohol (PVA), polyvinyl pyrrolidone (PVP), starch and other polysaccharides, cellulose and derivatives thereof, polyethylene oxide, polysaccharides, polyvinylamine, chitosan, polylysine, polyacrylic acid, poly Examples include alginic acid, polyhyaluronic acid, and carboxycellulose. These have neutral, anionic, and cationic properties depending on the ionicity of the functional group.
  • PVA polyvinyl alcohol
  • PVP polyvinyl pyrrolidone
  • starch examples include starch and other polysaccharides, cellulose and derivatives thereof, polyethylene oxide, polysaccharides, polyvinylamine, chitosan, polylysine, polyacrylic acid, poly Examples include alginic acid, polyhyaluronic acid, and carboxycellulose. These have neutral, anionic, and cationic properties depending on the ionicity of the functional group.
  • the content of the binder contained in the emulsion layer is not particularly limited, and can be appropriately determined as long as dispersibility and adhesion can be exhibited.
  • the binder content in the emulsion layer is preferably adjusted so that the Ag / binder volume ratio in the silver salt photosensitive layer 66 is 1 ⁇ 4 or more, and is 1 ⁇ 2 or more. It is further preferable to adjust.
  • the solvent used for the formation of the emulsion layer is not particularly limited.
  • water organic solvents (for example, alcohols such as methanol, ketones such as acetone, amides such as formamide, dimethyl sulfoxide, etc. Sulphoxides, esters such as ethyl acetate, ethers, etc.), ionic liquids, and mixed solvents thereof.
  • the content of the solvent used in the emulsion layer of the present invention is in the range of 30 to 90% by mass and in the range of 50 to 80% by mass with respect to the total mass of silver salt, binder and the like contained in the emulsion layer. Preferably there is.
  • the exposure unit 18 exposes the photosensitive material having the silver salt photosensitive layer 66 provided on the transparent film substrate 56.
  • the exposure can be performed using electromagnetic waves. Examples of the electromagnetic wave include light such as visible light and ultraviolet light, and radiation such as X-rays. Furthermore, a light source having a wavelength distribution may be used for exposure, or a light source having a specific wavelength may be used.
  • a scanning exposure method in which is formed on the photosensitive surface.
  • Exposure can be performed using various laser beams.
  • the exposure in this embodiment is performed by using a monochromatic light source such as a gas laser, a light emitting diode, a semiconductor laser, a semiconductor laser, or a second harmonic light source (SHG) that combines a solid state laser using a semiconductor laser as a pumping light source and a nonlinear optical crystal.
  • a monochromatic light source such as a gas laser, a light emitting diode, a semiconductor laser, a semiconductor laser, or a second harmonic light source (SHG) that combines a solid state laser using a semiconductor laser as a pumping light source and a nonlinear optical crystal.
  • a scanning exposure method using high-density light can be preferably used, and a KrF excimer laser, ArF excimer laser, F2 laser, or the like can also be used.
  • exposure is more preferably performed using a semiconductor laser, a semiconductor laser, or a second harmonic generation light source (SHG) that combines a solid-state laser and a nonlinear optical crystal.
  • SHG second harmonic generation light source
  • the method of exposing the silver salt photosensitive layer 66 in a pattern is preferably scanning exposure using a laser beam.
  • a capstan type laser scanning exposure apparatus described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-39677 is preferable.
  • a DMD described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-1224 is optically used instead of beam scanning by rotation of a polygon mirror. It is also preferable to use it for a beam scanning system.
  • a long flexible film heater having a length of 3 m or more it is preferable to perform exposure with a laser beam while conveying the photosensitive material on a curved exposure stage.
  • the mesh pattern M includes lattice patterns such as triangles, quadrilaterals (diamonds, squares, etc.) and hexagons formed by intersecting substantially parallel straight thin lines, parallel straight lines, zigzag lines, wavy lines, etc.
  • the structure is not particularly limited as long as a current can flow between electrodes to which a voltage is applied.
  • development processing is further performed.
  • the development processing can be performed by a normal development processing technique used for silver salt photographic film, photographic paper, printing plate-making film, photomask emulsion mask, and the like.
  • the developer is not particularly limited, but PQ developer, MQ developer, MAA developer and the like can also be used.
  • Commercially available products include, for example, CN-16, CR-56, CP45X, FD prescribed by FUJIFILM Corporation. -3, Papitol, developers such as C-41, E-6, RA-4, D-19, and D-72 prescribed by KODAK, or developers included in the kit can be used.
  • Lith developer can also be used.
  • As the lith developer D85 or the like prescribed by KODAK can be used.
  • a metal silver portion 70 preferably a patterned metal silver portion 70 is formed in the exposed portion, and a light transmitting portion 72 described later is formed in the unexposed portion.
  • the developer used in the development process can contain an image quality improver for the purpose of improving the image quality.
  • the image quality improver include nitrogen-containing heterocyclic compounds such as benzotriazole.
  • a lith developer it is particularly preferable to use polyethylene glycol.
  • the mass of the metallic silver contained in the exposed portion after the development treatment is preferably a content of 50% by mass or more, and 80% by mass or more with respect to the mass of silver contained in the exposed portion before exposure. More preferably. If the mass of silver contained in the exposed portion is 50% by mass or more based on the mass of silver contained in the exposed portion before exposure, it is preferable because high conductivity can be obtained.
  • the gradation after the development processing in the present embodiment is not particularly limited, but is preferably more than 4.0.
  • the conductivity of the conductive metal portion can be increased while keeping the translucency of the translucent portion high.
  • means for setting the gradation to 4.0 or higher include the aforementioned doping of rhodium ions and iridium ions.
  • “physical development” means that metal ions such as silver ions are reduced with a reducing agent on metal or metal compound nuclei to deposit metal particles. This physical phenomenon is used for instant B & W film, instant slide film, printing plate manufacturing, and the like, and the technology can be used in the present invention.
  • the developed metal silver portion 70 (entire metal silver portion, metal mesh pattern portion, or metal wiring pattern portion) may be smoothed by performing a calendar process. As a result, the conductivity of the metallic silver part 70 is significantly increased.
  • the calendar process can be performed by a calendar roll.
  • the calendar roll usually consists of a pair of rolls.
  • a plastic roll or a metal roll such as epoxy, polyimide, polyamide, polyimide amide or the like is used.
  • a metal roll such as epoxy, polyimide, polyamide, polyimide amide or the like.
  • a combination of a metal roll and a plastic roll can be used from the viewpoint of preventing wrinkles.
  • the upper limit of the linear pressure is 1960 N / cm (200 kgf / cm, converted to a surface pressure of 699.4 kgf / cm 2 ) or more, more preferably 2940 N / cm (300 kgf / cm, converted to a surface pressure of 935.8 kgf / cm 2). ) That's it.
  • the upper limit of the linear pressure is 6880 N / cm (700 kgf / cm) or less.
  • the application temperature of the smoothing treatment represented by the calender roll is preferably 10 ° C. (no temperature control) to 100 ° C.
  • the more preferable temperature varies depending on the line density and shape of the metal mesh pattern and metal wiring pattern, and the binder type. , Approximately 10 ° C. (no temperature control) to 50 ° C.
  • the effect of the calendar process can be further brought out by bringing it into contact with steam immediately before or after the calendar process. That is, the conductivity can be significantly improved.
  • the temperature of the steam used is preferably 80 ° C. or higher, more preferably 100 ° C. or higher and 140 ° C. or lower.
  • the contact time with steam is preferably about 10 seconds to 5 minutes, more preferably 1 minute to 5 minutes.
  • this invention can be used in combination with the technique of the publication gazette and international publication pamphlet which are described in the following Table 1 and Table 2. Notations such as “JP,” “Gazette” and “No. Pamphlet” are omitted.
  • K 3 Rh 2 Br 9 and K 2 IrCl 6 were added so as to have a concentration of 10 ⁇ 7 (mol / mol silver), and silver bromide grains were doped with Rh ions and Ir ions. .
  • the coating amount of silver is 1 g / m 2. It was coated on polyethylene terephthalate (PET). At this time, the volume ratio of Ag / gelatin was 1 ⁇ 2.
  • the setting conditions of the first mesh pattern M1 and the second mesh pattern M2 are as follows: the overall transmittance is 93%, the thickness of the transparent film substrate 56 is 20 ⁇ m, the width of the fine metal wire 54 is 20 ⁇ m, and the thickness of the fine metal wire 54 is 10 ⁇ m. did.
  • the pattern size was 5 mm both vertically and horizontally, and the image resolution was 3500 dpi (dot per inch).
  • the initial position of the seed point SD was randomly determined using a Mersenne twister, and each polygonal mesh region was defined using a Voronoi diagram.
  • the evaluation value EVP was calculated based on the color value L * , the color value a * , and the color value b * of the image data Img.
  • a periodic exposure pattern was formed by arranging the same output image data ImgOut in the vertical direction and the horizontal direction.
  • the setting conditions of the black matrix 59 were an optical density of 4.5D, a vertical size and a horizontal size of the unit pixel 60 of 200 ⁇ m, a width of the light shielding material 61v, and a width of the light shielding material 61v of 20 ⁇ m.
  • the radio button 162b is selected on the setting screen 160 of FIG. 6, and “image presence / absence” is set to “none”, and output image data ImgOut is created. As a result, output image data ImgOut representing the mesh pattern M1 shown in FIG. 28A was obtained.
  • the radio button 162a is selected on the setting screen 160 of FIG. 6 and “presence / absence of matrix” is set to “present”, and output image data ImgOut is created.
  • output image data ImgOut representing the mesh pattern M2 shown in FIG. 28B was obtained.
  • Exposure of the exposure pattern to the silver halide photosensitive material is performed by arranging exposure heads using DMD (digital mirror device) described in the embodiment of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-1224 so as to have a width of 25 cm.
  • the exposure head and exposure stage are curved and arranged so that the laser beam forms an image on the photosensitive layer of the material, and the photosensitive material feeding mechanism and winding mechanism are attached, and the tension control and winding and feeding mechanism of the exposure surface are attached.
  • the continuous exposure apparatus was provided with a bend having a buffering action so that the speed fluctuation of the above does not affect the speed of the exposed portion.
  • the wavelength of exposure was 400 nm, the beam shape was approximately 12 ⁇ m, and the output of the laser light source was 100 ⁇ J.
  • the exposed photosensitive material is processed using an automatic developing machine FG-710PTS manufactured by FUJIFILM Corporation. Development conditions: development 35 ° C. 30 seconds, fixing 34 ° C. 23 seconds, washing water (5 L / min) 20 seconds Done in the process.
  • the processing amount of the photosensitive material was 100 m 2 / day
  • the developer was replenished at 500 ml / m 2
  • the fixing solution was 640 ml / m 2 for 3 days.
  • the copper pattern after the plating treatment had a 12 ⁇ m line width and a 300 micron pitch.
  • plating solution (copper sulfate 0.06 mol / L, formalin 0.22 mol / L, triethanolamine 0.12 mol / L, polyethylene glycol 100 ppm, yellow blood salt 50 ppm, ⁇ , ⁇ ′-bipyridine 20 ppm)
  • the conductive film 14 having the first mesh pattern M1 is referred to as a first sample
  • the conductive film 14 having the second mesh pattern M2 is referred to as a second sample
  • the conductive film 14 having the patterns PT1 to PT3 is referred to as third to fifth samples.
  • a commercially available color liquid crystal display (screen size 4.7 type, 640 ⁇ 480 dots) is used.
  • the touch panel to which the first and second samples were attached was incorporated in the liquid crystal display, an LED lamp as auxiliary light was turned on from the back surface of the liquid crystal panel, the display screen was observed, and a visual evaluation of the noise feeling was performed.
  • the visibility of the noise feeling was performed at an observation distance of 300 mm from the front side of the liquid crystal panel.
  • the surface resistivity was at a level that could be sufficiently put into practical use as a transparent electrode, and the translucency was also good.
  • the fourth and fifth samples (the conductive film 14 according to the present invention) that had the smallest variation in surface resistivity.
  • the first sample is less noticeable than the second sample. It was confirmed. That is, it is understood that the pattern of the mesh pattern M is optimized according to the visual recognition mode of the conductive film 14 (for example, the presence or absence of a color filter such as the red filter 58r or the black matrix 59).
  • image data representing a pattern of the mesh pattern M based on a plurality of selected positions (seed points SD) is selected from a predetermined two-dimensional image region 200.
  • Img is created, based on the created image data Img, an evaluation value EVP quantified with respect to the noise characteristics of the mesh pattern M is calculated, and one image is calculated based on the calculated evaluation value EVP and a predetermined evaluation condition. Since the data Img is determined as the output image data ImgOut, and the wire material is output on the transparent film substrate 56 based on the determined output image data ImgOut, noise characteristics satisfying the predetermined evaluation condition are obtained.
  • the shape of the mesh pattern M can be determined. In other words, the noise feeling can be reduced by appropriately controlling the noise characteristics of the mesh pattern M.
  • the average intensity P H on the spatial frequency band side higher than the predetermined spatial frequency Fb is larger than the average intensity P L on the spatial frequency band side lower than the predetermined spatial frequency Fb.
  • the mesh pattern M since the mesh pattern M is formed, the amount of noise on the high spatial frequency band side is relatively larger than that on the low spatial frequency band side.
  • Human vision has a high response characteristic in the low spatial frequency band, but has a property that the response characteristic rapidly decreases in the medium to high spatial frequency band, so that a sense of noise visually felt by humans is reduced. Thereby, the noise graininess resulting from the pattern which the electroconductive film 14 has can be reduced, and the visibility of an observation target object can be improved significantly.
  • the cross-sectional shape of each wiring (the metal thin wire 54) after cutting is substantially constant, and has stable energization performance.
  • the pattern material is not limited to the black matrix, and it goes without saying that the present invention can be applied to various structural pattern shapes according to various uses.

Abstract

　本発明は、線材からなるメッシュパターンを基材上に設けた導電性フイルムの製造方法、導電性フイルム及び記録媒体に関する。選択された複数の位置（ＳＤ）に基づいてメッシュパターン（Ｍ、Ｍ１、Ｍ２）の模様を表す画像データ（Ｉｍｇ、ＩｍｇＩｎｉｔ、ＩｍｇＴｅｍｐ、ＩｍｇＴｅｍｐ'）を作成し、該画像データ（Ｉｍｇ、ＩｍｇＩｎｉｔ、ＩｍｇＴｅｍｐ、ＩｍｇＴｅｍｐ'）に基づいて、メッシュパターン（Ｍ、Ｍ１、Ｍ２）のノイズ特性について定量化した評価値（ＥＶＰ）を算出する。算出された前記評価値（ＥＶＰ）及び所定の評価条件に基づいて１つの画像データ（Ｉｍｇ）を出力用画像データ（ＩｍｇＯｕｔ）として決定する。

Description

導電性フイルムの製造方法、導電性フイルム及び記録媒体
　本発明は、線材からなるメッシュパターンを基材上に設けた導電性フイルムの製造方法、導電性フイルム及び記録媒体に関する。
　近時、線材からなるメッシュパターンを透明基材上に設けた導電性フイルムが開発されている。この導電性フイルムは、電極や発熱シートとして使用可能である。例えば、タッチパネル用電極、無機ＥＬ素子、有機ＥＬ素子又は太陽電池の電極のみならず、車両のデフロスタ（霜取り装置）、窓ガラス等の一部に適用してもよい。
　このメッシュパターンの模様は、上記した各種物品の用途によっては、観察対象物の視認性を妨げる粒状ノイズに相当する場合がある。そこで、同一の又は異なるメッシュ形状を規則的又は不規則的に配置することで、粒状ノイズを抑止し、観察対象物の視認性を向上させるための技術が種々提案されている。
　例えば、特開２００９－９４４６７号公報には、導電部と開口部とを有する電磁波シールドフイルムと、モアレ抑止部を配置したモアレ抑止フイルムとを貼付する画像表示装置が開示されている（［００６３］、図１、図１０Ａ、図１０Ｂ参照）。これにより、透過光の積分量の局部的な増加が抑えられ、フイルム全体においてほぼ一定の積分量にすることができる。つまり、導電部と開口部との組み合わせによるメッシュパターンがあたかも消滅したようになり、モアレが発生しにくくなる。
　また、特開２００９－１１７６８３号公報には、画素配列パターンと電磁波シールドパターンを表す画像データに対する二次元パワースペクトルをそれぞれ算出し、これらのピークに対応する空間周波数の差が所定の値を超えるように、前記電磁波シールドパターンの形状を決定する装置及び方法が開示されている（［００１４］、［００２４］参照）。これにより、モアレの発生を抑止でき、表面抵抗率の増大や透明性の劣化をも回避することができる。
　さらに、特開２００９－１３７４５５号公報には、図３３Ａに示すように、円の一部を切り欠いた円弧状の導電性を有する線材２が格子状に繰り返し配置されるとともに、前記円弧状の線材２の端部は、隣接する円弧状の線材２の中央部近傍に接続されるメッシュ層４が設けられている乗用移動体用窓及びそのパターンＰＴ１の平面視形状が開示されている（［００２９］、図３参照）。これにより、視認性のみならず、電磁波のシールド性及び耐破損性を向上できる旨が記載されている。
　さらに、特開２００９－１６７００号公報には、図３３Ｂに示すように、基板上に一面に塗布して放置しておくと、自然に基板上に網目状の構造を形成する溶液、すなわち自己組織化する金属微粒子溶液を用いて製造した透明導電性基板及びそのパターンＰＴ２の平面視形状が開示されている（［００２２］～［００２４］、図１参照）。これにより、モアレ現象が発生しない不規則な網目状の構造が得られる旨が記載されている。
　さらに、特開２００９－３０２４３９号公報には、図３３Ｃに示すように、電磁波シールド層６が海島構造の海領域の構造を有し、電磁波シールド層６で囲まれた開口部からなる島領域８の形状が相互に異なっている光透過性電磁波シールド材及びそのパターンＰＴ３の平面視形状が開示されている（［００１１］～［００１５］、図１（Ｂ）参照）。これにより、モアレの発生がなく、光透過性及び電磁波シールド性が向上する旨が記載されている。
　しかしながら、特開２００９－１３７４５５号公報及び特開２００９－１６７００号公報に開示されたパターンＰＴ１、ＰＴ２では、粒状ノイズをさらに低減し、視認性を改善するにはパターンの構造上の問題がある。
　例えば、特開２００９－１３７４５５号公報のメッシュ状のパターンＰＴ１は、円弧状の線材２を格子状に繰り返し配置しているので、線材２の周期性がきわめて高い。すなわち、パターンＰＴ１のパワースペクトルを算出すると、線材２の配置間隔の逆数に相当する空間周波数帯域に鋭いピークを有すると予測される。ここで、パターンＰＴ１の視認性をさらに改善するためには、前記円弧のサイズ（径）を小さくしなければならない。
　また、特開２００９－１６７００号公報のメッシュ状のパターンＰＴ２は、メッシュの形状やサイズが不揃いであるため、不規則性がきわめて高い。すなわち、パターンＰＴ２のパワースペクトルを算出すると、空間周波数帯域によらず略一定の値である（ホワイトノイズ特性に近い）と予測される。ここで、ここで、パターンＰＴ２の視認性をさらに改善するためには、自己組織化のサイズを小さくしなければならない。
　そうすると、特開２００９－１３７４５５号公報に開示された乗用移動体用窓や、特開２００９－１６７００号公報に開示された透明導電性基板のいずれも、視認性をさらに改善するためには、光透過率や生産性が低下するという不都合があった。
　さらに、特開２００９－３０２４３９号公報に開示されたパターンＰＴ３は、メッシュ形状を構成していないので、この断裁面の配線形状にばらつきが生じる。そうすると、パターンＰＴ３を例えば電極として用いる場合に、安定した通電性能を得られないという不都合があった。
　本発明は上記した問題を解決するためになされたもので、パターンに起因するノイズ粒状感を低減可能であり、観察対象物の視認性を大幅に向上できるとともに、断裁後にも安定した通電性能を有する導電性フイルム及び導電性フイルムの製造方法を提供することを目的とする。また、コンピュータに、導電性フイルムの製造に供される出力用画像データを作成させるプログラムを格納した記録媒体を提供することを目的とする。
　本発明に係る導電性フイルムの製造方法は、所定の二次元画像領域の中から複数の位置を選択する位置選択ステップと、選択された前記複数の位置に基づいてメッシュパターンの模様を表す画像データを作成する画像データ作成ステップと、
　作成された前記画像データに基づいて、前記メッシュパターンのノイズ特性について定量化した評価値を算出する評価値算出ステップと、算出された前記評価値及び所定の評価条件に基づいて１つの前記画像データを出力用画像データとして決定する画像データ決定ステップと、決定された前記出力用画像データに基づいて基材上に線材を出力形成し、前記メッシュパターンを有する導電性フイルムを製造する形成ステップとを備えることを特徴とする。
　このように、作成された画像データに基づいて、メッシュパターンのノイズ特性について定量化した評価値を算出する評価値算出ステップと、算出された前記評価値と所定の評価条件に基づいて１つの前記画像データを出力用画像データとして決定する画像データ決定ステップとを設けたので、前記所定の評価条件を満たすノイズ特性を有するメッシュパターンの形状を決定できる。換言すれば、メッシュパターンのノイズ特性を適切に制御することで、ノイズ感を低減できる。
　また、前記メッシュパターンの模様と異なる模様を有する構造パターンを形成するパターン材を前記導電性フイルムに重畳して視認する場合における、前記構造パターンの視認性に関わる前記パターン材の視認情報を入力する構造パターン入力ステップと、入力された前記パターン材の視認情報に基づいて前記構造パターンの画像情報を推定する画像情報推定ステップと、を備え、前記画像データ作成ステップでは、推定された前記構造パターンの画像情報に基づいて、前記メッシュパターンに前記構造パターンを重畳した模様を表す前記画像データを作成することが好ましい。これにより、構造パターンを含めた実際の使用態様を考慮に入れた上で、ノイズ特性の最適化を行うことができる。特に、メッシュパターンと構造パターンとにより発生するモアレを抑制できる。
　さらに、前記パターン材の視認情報には、該パターン材の種類、色値、光透過率若しくは光反射率、又は前記パターン構造の配設位置、単位形状若しくは単位サイズの少なくとも１つが含まれることが好ましい。
　さらに、前記パターン材は、ブラックマトリクスであることが好ましい。
　さらに、前記メッシュパターンの視認性に関わる前記線材の視認情報を入力する第１入力ステップと、前記メッシュパターンの視認性に関わる前記基材の視認情報を入力する第２入力ステップと、入力された前記線材及び前記基材の視認情報に基づいて前記メッシュパターンの画像情報を推定する画像情報推定ステップと、を備え、前記画像データ作成ステップは、推定された前記メッシュパターンの前記画像情報に基づいて前記画像データを作成することが好ましい。
　さらに、前記評価値は、粒状度を表す評価値であることが好ましい。
　さらに、前記評価値は、ＲＭＳ粒状度であることが好ましい。
　さらに、前記評価値は、人間の視覚応答特性関数により補正されたＲＭＳ粒状度であることが好ましい。
　さらに、前記人間の視覚応答特性関数は、ドゥーリー・ショー関数であることが好ましい。
　さらに、前記補正されたＲＭＳ粒状度は、前記画像データに対して、前記人間の視覚応答特性関数に対応するフィルタ処理を施して得られた新たな画像データを用いて算出されたＲＭＳ粒状度であることが好ましい。
　さらに、前記画像データ作成ステップは、ドロネー三角形分割法を用いて前記複数の位置からメッシュ状の模様を形成し、該模様を表す画像データを作成することが好ましい。
　さらに、前記画像データ作成ステップは、ボロノイ図を用いて前記複数の位置からメッシュ状の模様を形成し、該模様を表す画像データを作成することが好ましい。
　さらに、前記評価値に基づいて前記複数の位置のうちの一部を別の位置にそれぞれ更新する位置更新ステップを備え、前記位置更新ステップ、前記画像データ作成ステップ及び前記評価値算出ステップを順次繰り返し、前記画像データ決定ステップにより前記出力用画像データを決定することが好ましい。
　さらに、前記位置更新ステップは、擬似焼きなまし法を用いて、前記複数の位置のうちの一部を別の位置にそれぞれ更新することが好ましい。
　本発明に係る導電性フイルムは、上記したいずれかの製造方法を用いて製造することを特徴とする。
　本発明に係る導電性フイルムは、多角形状のメッシュを複数備えるメッシュパターンを有し、各前記メッシュの重心位置分布のパワースペクトルに関して、所定の空間周波数よりも高い空間周波数帯域側における平均強度が、前記所定の空間周波数よりも低い空間周波数帯域側における平均強度よりも大きくなるように、前記メッシュパターンが形成されていることを特徴とする。
　また、前記所定の空間周波数は、人間の視覚応答特性が最大応答の５％に相当する空間周波数であることが好ましい。
　さらに、前記人間の視覚応答特性は、明視距離が３００ｍｍでのドゥーリー・ショー関数に基づいて得られる視覚応答特性であり、前記所定の空間周波数は６ｃｙｃｌｅ／ｍｍであることを特徴とする。
　本発明に係る記録媒体は、コンピュータに、導電性フイルムの製造に供される出力用画像データを作成させるプログラムを格納し、前記プログラムは、コンピュータを、所定の二次元画像領域の中から複数の位置を選択する位置選択部、前記位置選択部により選択された前記複数の位置に基づいてメッシュパターンの模様を表す画像データを作成する画像データ作成部、前記画像データ作成部により作成された前記画像データに基づいて、前記メッシュパターンのノイズ特性について定量化した評価値を算出する評価値算出部、前記評価値算出部により算出された前記評価値及び所定の評価条件に基づいて１つの前記画像データを出力用画像データとして決定する画像データ決定部として機能させることを特徴とする。
　本発明に係る導電性フイルムの製造方法、導電性フイルム及び記録媒体によれば、選択された前記複数の位置に基づいてメッシュパターンの模様を表す画像データを作成し、作成された前記画像データに基づいて、前記メッシュパターンのノイズ特性について定量化した評価値を算出し、算出された前記評価値と所定の評価条件に基づいて１つの前記画像データを出力用画像データとして決定するようにしたので、前記所定の評価条件を満たすノイズ特性を有するメッシュパターンの形状を決定できる。換言すれば、メッシュパターンのノイズ特性を適切に制御することで、ノイズ感を低減できる。
　本発明に係る導電性フイルムによれば、各メッシュの重心位置分布のパワースペクトルに関して、所定の空間周波数よりも高い空間周波数帯域側における平均強度が、前記所定の空間周波数よりも低い空間周波数帯域側における平均強度よりも大きくなるように、メッシュパターンが形成されているので、低空間周波数帯域側と比べて高空間周波数帯域側のノイズ量が相対的に大きくなっている。人間の視覚は、低空間周波数帯域での応答特性は高いが、中～高空間周波数帯域において応答特性が急激に低下する性質を有するので、人間にとって視覚的に感じられるノイズ感が減少する。これにより、透明導電膜が有するパターンに起因するノイズ粒状感を低減可能であり、観察対象物の視認性を大幅に向上できる。また、多角形状のメッシュを複数備えているので、断裁後における各配線の断面形状も略一定であり、安定した通電性能を有する。
本実施の形態に係る導電性フイルムを製造するための製造装置の概略構成ブロック図である。 図２Ａは、図１の導電性フイルムの一部拡大平面図である。図２Ｂは、図１の導電性フイルムをタッチパネルに適用した場合の一構成例を示す概略分解斜視図である。 図２Ａの導電性フイルムの概略断面図である。 図１のメッシュ模様評価部及びデータ更新指示部の機能ブロック図である。 画像データ作成条件を設定するための第１設定画面を示す図である。 画像データ作成条件を設定するための第２設定画面を示す図である。 図１の製造装置の動作説明に供されるフローチャートである。 図８Ａは、メッシュパターンの模様を表す画像データを可視化した概略説明図である。図８Ｂは、図８Ａの画像データに対してＦＦＴを施して得られる二次元パワースペクトルの分布図である。図８Ｃは、図８Ｂに示す二次元パワースペクトル分布のＶＩＩＩＣ－ＶＩＩＩＣ線に沿う断面図である。 ドゥーリー・ショー関数（観察距離３００ｍｍ）のグラフである。 出力用画像データの作成方法を説明する第１のフローチャートである。 シード点の配置密度と全体透過率との関係の一例を表すグラフである。 図１２Ａ及び図１２Ｂは、ボロノイ図を用いて、８つの点をそれぞれ囲繞する８つの領域を画定した結果の説明図である。 図１３Ａ及び図１３Ｂは、ドロネー三角形分割法を用いて、８つの点をそれぞれ頂点とする８つの三角形状領域を画定した結果の説明図である。 図１４Ａは、画像データにおける画素アドレスの定義を表す説明図である。図１４Ｂは、画像データにおける画素値の定義を表す説明図である。 図１５Ａは、シード点の初期位置の模式図である。図１５Ｂは、図１５Ａのシード点を基準とするボロノイ図である。 図１０に示すステップＳ２６の詳細フローチャートである。 図１７Ａは、画像領域内の第１シード点、第２シード点及び候補点の位置関係を表す説明図である。図１７Ｂは、第２シード点と候補点とを交換してシード点の位置を更新した結果の説明図である。 本実施の形態に係るメッシュパターン及び比較例に係る各種パターンの画像データに対してそれぞれＦＦＴを施して得られる二次元パワースペクトルのＸ軸に沿った断面図である。 図１２Ｂに示す各領域の重心位置を表す説明図である。 本実施の形態に係る第１メッシュパターンに関し、複数のメッシュと各メッシュの重心位置との関係を示す概略説明図である。 図２１Ａは、図２０のメッシュパターンが有する各メッシュの重心位置分布を表す画像データを可視化した概略説明図である。図２１Ｂは、図２１Ａの画像データに対してＦＦＴを施して得られる二次元パワースペクトルの分布図である。図２１Ｃは、図２１Ｂに示す二次元パワースペクトル分布のＸＸＩＣ－ＸＸＩＣ線に沿う断面図である。 図８Ｃ及び図２１Ｃに示すスペクトル及び重心スペクトルの比較図である。 図２１Ｃのパワースペクトルの特徴を表す概略説明図である。 出力用画像データの作成方法を説明する第２のフローチャートである。 図２４に示すステップＳ２６Ａの詳細フローチャートである。 図２６Ａは、導電性フイルムの模様を表す出力用画像データに対してブラックマトリクスを重畳して可視化した概略説明図である。図２６Ｂ～図２６Ｄは、図２６Ａの画像データのうち色値のＲ成分、Ｇ成分、Ｂ成分をそれぞれ抽出してパワースペクトルを算出した結果を表すグラフである。 図２７Ａは、図２６Ａの画像データに対して人間の視覚応答特性を作用し、可視化した概略説明図である。図２７Ｂ～図２７Ｄは、図２７Ａの画像データのうち色値のＲ成分、Ｇ成分、Ｂ成分をそれぞれ抽出してパワースペクトルを算出した結果を表すグラフである。 図２８Ａは、ブラックマトリクスを重畳しない条件下で最適化された第１メッシュパターンの模様を表す画像データを可視化した概略説明図である。図２８Ｂは、ブラックマトリクスを重畳する条件下で最適化された第２メッシュパターンの模様を表す画像データを可視化した概略説明図である。 図２９Ａ～図２９Ｅは、本実施の形態に係る導電性フイルムの第１の製造方法を示す工程図である。 図３０Ａ及び図３０Ｂは、本実施の形態に係る導電性フイルムの第２の製造方法を示す工程図である。 図３１Ａ及び図３１Ｂは、本実施の形態に係る導電性フイルムの第３の製造方法を示す工程図である。 本実施の形態に係る導電性フイルムの第４の製造方法を示す工程図である。 図３３Ａ～図３３Ｃは、比較例に係る各パターンの拡大平面図である。
　以下、本実施の形態に係る導電性フイルムの製造方法についてそれを実施する製造装置との関係において好適な実施形態を挙げ、添付の図面を参照しながら詳細に説明する。
　図１は、本実施の形態に係る導電性フイルム１４を製造するための製造装置１０の概略構成ブロック図である。
　製造装置１０は、メッシュパターンＭに応じた模様を表す画像データＩｍｇ（出力用画像データＩｍｇＯｕｔを含む。）を作成する画像処理装置１２と、該画像処理装置１２により作成された前記出力用画像データＩｍｇＯｕｔに基づいて製造工程下の導電性フイルム１４に光１６を照射して露光する露光部１８と、前記画像データＩｍｇを作成するための各種条件（メッシュパターンＭや後述する構造パターンの視認情報を含む。）を画像処理装置１２に入力する入力部２０と、該入力部２０による入力作業を補助するＧＵＩ画像や、記憶された出力用画像データＩｍｇＯｕｔ等を表示する表示部２２とを基本的に備える。
　画像処理装置１２は、画像データＩｍｇ、出力用画像データＩｍｇＯｕｔ、候補点ＳＰの位置データＳＰｄ、及びシード点ＳＤの位置データＳＤｄを記憶する記憶部２４と、擬似乱数を発生して乱数値を生成する乱数発生部２６と、該乱数発生部２６により生成された前記乱数値を用いて、所定の二次元画像領域の中からシード点ＳＤの初期位置を選択する初期位置選択部２８（位置選択部）と、前記乱数値を用いて前記二次元画像領域の中から候補点ＳＰの位置（シード点ＳＤの位置を除く。）を決定する更新候補位置決定部３０（位置選択部）と、出力用画像データＩｍｇＯｕｔを露光部１８の制御信号（露光データ）に変換する露光データ変換部３２と、表示部２２に各種画像を表示する制御を行う表示制御部３４とを備える。
　なお、シード点ＳＤは、更新対象でない第１シード点ＳＤＮと、更新対象である第２シード点ＳＤＳとからなる。換言すれば、シード点ＳＤの位置データＳＤｄは、第１シード点ＳＤＮの位置データＳＤＮｄと、第２シード点ＳＤＳの位置データＳＤＳｄとから構成されている。
　なお、ＣＰＵ等で構成される図示しない制御部は、記録媒体（図示しないＲＯＭ又は記憶部２４）に記録されているプログラムを読み出し実行することで、この画像処理に関するすべての制御を実現可能である。
　画像処理装置１２は、入力部２０から入力された視認情報（詳細は後述する。）に基づいてメッシュパターンＭや構造パターンの画像情報を推定する画像情報推定部３６と、該画像情報推定部３６から供給された前記画像情報及び記憶部２４から供給されたシード点ＳＤの位置に基づいてメッシュパターンＭや構造パターンに応じた模様を表す画像データＩｍｇを作成する画像データ作成部３８と、該画像データ作成部３８により作成された画像データＩｍｇに基づいてメッシュ状の模様を評価するための評価値ＥＶＰを算出するメッシュ模様評価部４０と、該メッシュ模様評価部４０により算出された評価値ＥＶＰに基づいてシード点ＳＤや評価値ＥＶＰ等のデータの更新／非更新を指示するデータ更新指示部４２とをさらに備える。
　図１の導電性フイルム１４は、図２Ａに示すように、複数の導電部５０と複数の開口部５２とを有している。複数の導電部５０は、複数の金属細線５４が互いに交叉したメッシュパターンＭ（メッシュ状の配線）を形成している。すなわち、１つの開口部５２と、該１つの開口部５２を囲む少なくとも２つの導電部５０の組み合わせ形状がメッシュ形状となっている。このメッシュ形状は開口部５２毎に異なっており、それぞれ不規則（すなわち非周期的）に配列されている。以下、導電部５０を構成する材料を「線材」という場合がある。
　金属細線５４の線幅は、５μｍ以上２００μｍ（０．２ｍｍ）以下から選択可能である。もちろん、透光性を向上させたい場合は、５μｍ以上５０μｍ以下から選択してもよい。また、開口部５２の面積は、０．０２ｍｍ2以上４０ｍｍ2以下が好ましく、さらに好ましくは、０．１ｍｍ2以上１ｍｍ2以下である。
　このように構成しているので、導電性フイルム１４の全体の光透過率は７０％以上９９％未満であり、８０％以上９９％未満、さらには、８５％以上９９％未満を実現することができる。
　この導電性フイルム１４は、タッチパネルの電極や、無機ＥＬ素子、有機ＥＬ素子又は太陽電池の電極として使用可能な導電性フイルムである。この導電性フイルム１４は、図３に示すように、透明フイルム基材５６（基材）と、該透明フイルム基材５６上に形成された前記導電部５０及び開口部５２を備える。
　この導電性フイルム１４をタッチパネルの電極として使用する場合の概略分解斜視図を図２Ｂに示す。導電性フイルム１４の表面上に、該導電性フイルム１４と同じサイズを有するフィルタ部材５７を重畳して配置する。フィルタ部材５７は、複数の赤色フィルタ５８ｒと、複数の緑色フィルタ５８ｇと、複数の青色フィルタ５８ｂと、ブラックマトリクス５９（構造パターン）とを備える。以下、ブラックマトリクス５９を構成する材料を「パターン材」という場合がある。
　フィルタ部材５７の上下方向には、赤色フィルタ５８ｒ（緑色フィルタ５８ｇ、あるいは青色フィルタ５８ｂ）がそれぞれ並設されている。また、フィルタ部材５７の左右方向には、赤色フィルタ５８ｒ、緑色フィルタ５８ｇ、青色フィルタ５８ｂ、赤色フィルタ５８ｒ…の順番で周期的に配設されている。すなわち、１つの赤色フィルタ５８ｒ、１つの緑色フィルタ５８ｇ、１つの青色フィルタ５８ｂが配置された平面領域が、赤色光、緑色光又は青色光の組み合わせにより、任意の色の表示が自在である単位画素６０を構成している。
　ブラックマトリクス５９は、外部からの反射光や、図示しないバックライトからの透過光が、隣接する単位画素６０同士で混合することを防止するための遮光材の機能を有する。ブラックマトリクス５９は、左右方向に延在する遮光材６１ｈと、上下方向に延在する遮光材６１ｖとからなる。これらの遮光材６１ｈ、６１ｖは、矩形状の格子を形成しており、単位画素６０を構成する一組のカラーフィルタ（すなわち、赤色フィルタ５８ｒ、緑色フィルタ５８ｇ及び青色フィルタ５８ｂ）をそれぞれ囲繞する。
　また、この導電性フイルム１４は、電流を流すことで発熱する透明発熱体としても機能する。この場合は、導電性フイルム１４の対向する端部に図示しない第１及び第２電極を形成し、第１電極から第２電極に電流を流す。これにより、透明発熱体が発熱し、透明発熱体に接する又は透明発熱体を組み込んだ加熱対象物（例えば、建物の窓ガラス、車両用の窓ガラス、車両用灯具の前面カバー等）が加熱される。その結果、加熱対象物に付着していた雪等が取り除かれることになる。
　図４は、図１に示すメッシュ模様評価部４０及びデータ更新指示部４２の詳細機能ブロック図である。
　メッシュ模様評価部４０は、画像データ作成部３８から供給された画像データＩｍｇに高速フーリエ変換（Ｆａｓｔ　Ｆｏｕｒｉｅｒ　Ｔｒａｎｓｆｏｒｍａｔｉｏｎ；以下、ＦＦＴという。）を施して二次元スペクトルデータ（以下、単に「スペクトルＳｐｃ」という。）を取得するＦＦＴ演算部１００と、該ＦＦＴ演算部１００から供給されたスペクトルＳｐｃに基づいて評価値ＥＶＰを算出する評価値算出部１０２とを備える。
　データ更新指示部４２は、メッシュ模様評価部４０による評価回数を計上するカウンタ１０８と、後述する擬似焼きなまし法で用いる擬似温度Ｔの値を管理する擬似温度管理部１１０と、メッシュ模様評価部４０から供給された評価値ＥＶＰ及び擬似温度管理部１１０から供給された擬似温度Ｔに基づいてシード点ＳＤの更新確率を算出する更新確率算出部１１２と、該更新確率算出部１１２から供給された前記更新確率に基づいてシード点ＳＤの位置データＳＤｄ等の更新／非更新を判定する位置更新判定部１１４と、擬似温度管理部１１０からの通知に応じて１つの画像データＩｍｇを出力用画像データＩｍｇＯｕｔとして決定する出力用画像データ決定部１１６とを備える。
　図５は、画像データ作成条件を設定するための第１設定画面を示す図である。
　設定画面１２０は、上方から順番に、左側のプルダウンメニュー１２２と、左側の表示欄１２４と、右側のプルダウンメニュー１２６と、右側の表示欄１２８と、７個のテキストボックス１３０、１３２、１３４、１３６、１３８、１４０、１４２と、［中止］、［次へ］と表示されたボタン１４４、１４６とを備える。
　プルダウンメニュー１２２、１２６の左方部には、「種類」なる文字列が表示されている。入力部２０（例えば、マウス）の所定の操作により、プルダウンメニュー１２２、１２６の下方部に図示しない選択欄が併せて表示され、その中の項目を選択自在である。
　表示欄１２４は、５つの欄１４８ａ、１４８ｂ、１４８ｃ、１４８ｄ、１４８ｅから構成されており、これらの左方部には、「光透過率」、「光反射率」、「色値Ｌ*」、「色値ａ*」及び「色値ｂ*」なる文字列がそれぞれ表示されている。
　表示欄１２８は、表示欄１２４と同様に、５つの欄１５０ａ、１５０ｂ、１５０ｃ、１５０ｄ、１５０ｅから構成されており、これらの左方部には、「光透過率」、「光反射率」、「色値Ｌ*」、「色値ａ*」及び「色値ｂ*」なる文字列がそれぞれ表示されている。
　テキストボックス１３０の左方部には「全体透過率」と表示され、その右方部には「％」と表示されている。テキストボックス１３２の左方部には「膜厚」と表示され、その右方部には「μｍ」と表示されている。テキストボックス１３４の左方部には「配線の幅」と表示され、その右方部には「μｍ」と表示されている。テキストボックス１３６の左方部には「配線の厚さ」と表示され、その右方部には「μｍ」と表示されている。テキストボックス１３８の左方部には「パターンサイズＨ」と表示され、その右方部には「ｍｍ」と表示されている。テキストボックス１４０の左方部には「パターンサイズＶ」と表示され、その右方部には「ｍｍ」と表示されている。テキストボックス１４２の左方部には「画像解像度」と表示され、その右方部には「ｄｐｉ」と表示されている。
　なお、７個のテキストボックス１３０、１３２、１３４、１３６、１３８、１４０、１４２のいずれにも、入力部２０（例えば、キーボード）の所定の操作により算用数字の入力が自在である。
　図６は、画像データ作成条件を設定するための第２設定画面を示す図である。
　設定画面１６０は、上方から順番に、２個のラジオボタン１６２ａ、１６２ｂと、６個のテキストボックス１６４、１６６、１６８、１７０、１７２、１７４と、マトリクス状の画像１７６と、［戻る］、［設定］、［中止］と表示されたボタン１７８、１８０、１８２とを備える。
　ラジオボタン１６２ａ、１６２ｂの右方部には、「あり」、「なし」なる文字列がそれぞれ表示されている。そして、ラジオボタン１６２ａの左方には、「マトリクスの有無」なる文字列が表示されている。
　テキストボックス１６４、１６６、１６８、１７０、１７２、１７４の左方部には、「重畳位置の平均サンプル数」、「濃度」、「寸法」、「ａ」、「ｂ」、「ｃ」及び「ｄ」なる文字列がそれぞれ表示されている。また、テキストボックス１６４、１６６、１６８、１７０、１７２、１７４の右方部には、「回」、「Ｄ」、「μｍ」、「μｍ」、「μｍ」及び「μｍ」なる文字列がそれぞれ表示されている。ここで、テキストボックス１６４、１６６、１６８、１７０、１７２、１７４のいずれにも、入力部２０（例えば、キーボード）の所定の操作により算用数字の入力が自在である。
　マトリクス状の画像１７６は、ブラックマトリクス５９の形状を模した画像であり、４個の開口部１８４及び窓枠１８６が設けられている。
　基本的には、以上のように構成される製造装置１０の動作について、図７のフローチャートを参照して説明する。
　最初に、ブラックマトリクス５９を重畳しない条件下において適切な第１メッシュパターンＭ１を作成する方法を説明する。その後、ブラックマトリクス５９を重畳する条件下において適切な第２メッシュパターンＭ２を作成する方法について、メッシュパターンＭ１の場合との差異点を中心に説明する。以下、第１メッシュパターンＭ１及び第２メッシュパターンＭ２を特に区別しない場合は、単に「メッシュパターンＭ」と表記する。
　先ず、メッシュパターンＭに応じた模様を表す画像データＩｍｇ（出力用画像データＩｍｇＯｕｔを含む。）を作成する際に必要な各種条件を入力する（ステップＳ１）。
　作業者は、表示部２２に表示された設定画面１２０（図５参照）を介して、適切な数値等を入力する。これにより、メッシュパターンＭの視認性に関わる視認情報を入力することができる。ここで、メッシュパターンＭの視認情報とは、メッシュパターンＭの形状や光学濃度に寄与する各種情報であり、線材（金属細線５４）の視認情報や、透明基材（透明フイルム基材５６）の視認情報が含まれる。線材の視認情報として、例えば、該線材の種類、色値、光透過率、若しくは光反射率、又は金属細線５４の断面形状若しくは太さの少なくとも１つが含まれる。透明基材の視認情報として、例えば、該透明基材の種類、色値、光透過率、光反射率又は膜厚の少なくとも１つが含まれる。
　作業者は、製造しようとする導電性フイルム１４に関して、プルダウンメニュー１２２を用いて線材の種類を１つ選択する。図５の例では、「銀（Ａｇ）」が選択されている。線材の種類を１つ選択すると、表示欄１２４が即時に更新され、該線材の物性に応じた既知の数値が新たに表示される。欄１４８ａ、１４８ｂ、１４８ｃ、１４８ｄ、１４８ｅには、１００μｍの厚さを有する銀の光透過率（単位：％）、光反射率（単位：％）、色値Ｌ*、色値ａ*、色値ｂ*（ＣＩＥＬＡＢ）がそれぞれ表示される。
　また、作業者は、製造しようとする導電性フイルム１４に関して、プルダウンメニュー１２６を用いて膜材（透明フイルム基材５６）の種類を１つ選択する。図５の例では、「ＰＥＴフイルム」が選択されている。膜材の種類を１つ選択すると、表示欄１２８が即時に更新され、該膜材の物性に応じた既知の数値が新たに表示される。欄１５０ａ、１５０ｂ、１５０ｃ、１５０ｄ、１５０ｅには、１ｍｍの厚さを有するＰＥＴフイルムの光透過率（単位：％）、光反射率（単位：％）、色値Ｌ*、色値ａ*、色値ｂ*（ＣＩＥＬＡＢ）がそれぞれ表示される。
　なお、プルダウンメニュー１２２、１２６の図示しない「マニュアル入力」の項目を選択することで、表示欄１２４、１２８から各物性値を直接入力できるようにしてもよい。
　さらに、作業者は、製造しようとする導電性フイルム１４に関して、テキストボックス１３０等を用いてメッシュパターンＭの各種条件をそれぞれ入力する。
　テキストボックス１３０、１３２、１３４、１３６の入力値は、全体の光透過率（単位：％）、透明フイルム基材５６の膜厚（単位：μｍ）、金属細線５４の線幅（単位：μｍ）、金属細線５４の厚さ（単位：μｍ）にそれぞれ対応する。
　テキストボックス１３８、１４０、１４２の入力値は、メッシュパターンＭの横サイズ、メッシュパターンＭの縦サイズ、出力用画像データＩｍｇＯｕｔの画像解像度（画素サイズ）に相当する。
　作業者は、設定画面１２０の入力作業を完了した後、［次へ］ボタン１４６をクリックする。そうすると、表示制御部３４は、表示部２２に表示させる設定画面１２０を図６に示す設定画面１６０に変更する。
　作業者は、表示部２２に表示された設定画面１６０を介して、ブラックマトリクス５９の各種条件をそれぞれ入力する。ラジオボタン１６２ａ、１６２ｂの入力は、メッシュパターンＭにブラックマトリクス５９を重畳した模様を表す出力用画像データＩｍｇＯｕｔを作成するか否かに対応する。「あり」（ラジオボタン１６２ａ）の場合はブラックマトリクス５９を重畳し、「なし」（ラジオボタン１６２ｂ）の場合はブラックマトリクス５９を重畳しない。ここでは、ブラックマトリクス５９を重畳しないので、ラジオボタン１６２ｂを選択する。
　作業者による［設定］ボタン１８０のクリック操作に応じて、画像情報推定部３６は、メッシュパターンＭの画像情報を推定する。この画像情報は、画像データＩｍｇ（出力用画像データＩｍｇＯｕｔを含む。）を作成する際に参照される。
　例えば、メッシュパターンＭの縦サイズ（テキストボックス１３８の入力値）と出力用画像データＩｍｇＯｕｔの画像解像度（テキストボックス１４２の入力値）とに基づいて、出力用画像データの横方向の画素数を算出できるし、配線の幅（テキストボックス１３４の入力値）と前記画像解像度とに基づいて金属細線５４の線幅に相当する画素数を算出できる。
　また、線材の光透過率（欄１４８ａの表示値）と配線の厚さ（テキストボックス１３６の入力値）とに基づいて金属細線５４単体の光透過率を推定できる。これに加えて、膜材の光透過率（欄１５０ａの表示値）と膜厚（テキストボックス１３２の入力値）とに基づいて、透明フイルム基材５６上に金属細線５４を積層した状態での光透過率を推定できる。
　さらに、線材の光透過率（欄１４８ａの表示）と、膜材の光透過率（欄１５０ａの表示）と、全体透過率（テキストボックス１３０の入力値）と、配線の幅（テキストボックス１３２の入力値）とに基づいて、開口部５２の個数を推定するとともに、シード点ＳＤの個数を推定できる。なお、開口部５２の領域を決定するアルゴリズムに応じて、シード点ＳＤの個数を推定するようにしてもよい。
　次いで、メッシュパターンＭを形成するための出力用画像データＩｍｇＯｕｔを作成する（ステップＳ２）。
　出力用画像データＩｍｇＯｕｔの作成方法の説明に先立って、画像データＩｍｇの評価方法について始めに説明する。本実施の形態では、ノイズ特性（例えば、粒状ノイズ）を定量化した評価値ＥＶＰに基づいて評価を行う。
　ノイズ特性を評価する例として、画像データＩｍｇの所定の領域範囲を定め、該領域範囲内の画素値に対してＲＭＳ（Ｒｏｏｔ　Ｍｅａｎ　Ｓｑｕａｒｅ）を求めてもよい。本実施の形態では、人間の視覚応答特性を評価に採り入れ、さらに改良した評価値ＥＶＰを用いている。
　図８Ａは、メッシュパターンＭの模様を表す画像データＩｍｇを可視化した概略説明図である。以下、この画像データＩｍｇを例に挙げて説明する。
　先ずは、図８Ａに示す画像データＩｍｇに対してＦＦＴを施す。これにより、メッシュパターンＭの形状について、部分的形状ではなく、全体の傾向（空間周波数分布）として把握できる。
　図８Ｂは、図８Ａの画像データＩｍｇに対してＦＦＴを施して得られるスペクトルＳｐｃの分布図である。ここで、当該分布図の横軸はＸ軸方向に対する空間周波数を示し、その縦軸はＹ軸方向に対する空間周波数を示す。また、空間周波数帯域毎の表示濃度が薄いほど強度レベル（スペクトルＳｐｃの値）が小さくなり、表示濃度が濃いほど強度レベルが大きくなっている。本図の例では、このスペクトルＳｐｃの分布は、等方的であるとともに環状のピークを２個有している。
　図８Ｃは、図８Ｂに示すスペクトルＳｐｃの分布のＶＩＩＩＣ－ＶＩＩＩＣ線に沿った断面図である。スペクトルＳｐｃは等方的であるので、図８Ｃはあらゆる角度方向に対する動径方向分布に相当する。本図から諒解されるように、低空間周波数帯域及び高空間周波数帯域での強度レベルが小さくなり、中間の空間周波数帯域のみ強度レベルが高くなるいわゆるバンドパス型の特性を有する。すなわち、図８Ａに示す画像データＩｍｇは、画像工学分野の技術用語によれば、「グリーンノイズ」の特性を有する模様を表すものといえる。
　図９は、観察距離３００ｍｍであるドゥーリー・ショー（Ｄｏｏｌｅｙ－Ｓｈａｗ）関数を表すグラフである。
　ドゥーリー・ショー関数は、ＶＴＦ（Ｖｉｓｕａｌ　Ｔｒａｎｓｆｅｒ　Ｆｕｎｃｔｉｏｎ）の一種であり、人間の視覚応答特性を模した代表的な関数である。具体的には、輝度のコントラスト比特性の２乗値に相当する。なお、グラフの横軸は空間周波数（単位：ｃｙｃｌｅ／ｍｍ）であり、縦軸はＶＴＦの値（単位は無次元）である。
　観察距離を３００ｍｍとすると、０～１．０ｃｙｃｌｅ／ｍｍの範囲ではＶＴＦの値は一定（１に等しい。）であり、空間周波数が高くなるにつれて次第にＶＴＦの値が減少する傾向がある。すなわち、この関数は、中～高空間周波数帯域を遮断するローパスフィルタとして機能する。
　なお、実際の人間の視覚応答特性は、０ｃｙｃｌｅ／ｍｍ近傍で１より小さい値になっており、いわゆるバンドパスフィルタの特性を有する。しかし、本実施の形態において、図９に例示するように、極めて低い空間周波数帯域であってもＶＴＦの値を１にすることで、評価値ＥＶＰへの寄与度を高くしている。これにより、メッシュパターンＭの繰り返し配置に起因する周期性を抑制する効果が得られる。
　評価値ＥＶＰは、スペクトルＳｐｃの値をＦ（Ｕｘ，Ｕｙ）とするとき、次の（１）式で算出される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000001
　ウィナー・ヒンチン（Ｗｉｅｎｅｒ－Ｋｈｉｎｔｃｈｅｎ）の定理によれば、スペクトルＳｐｃを全空間周波数帯域で積分した値は、ＲＭＳの２乗値に一致する。このスペクトルＳｐｃに対してＶＴＦを乗算し、この新たなスペクトルＳｐｃを全空間周波数帯域で積分した値は、人間の視覚特性に略一致する評価指標となる。この評価値ＥＶＰは、人間の視覚応答特性で補正したＲＭＳということができる。通常のＲＭＳと同様に、評価値ＥＶＰは、常に０以上の値を取り、０に近づくほどノイズ特性が良好であるといえる。
　また、図９に示すＶＴＦに対して逆フーリエ変換（例えば、ＩＦＦＴ）を施すことで、ＶＴＦに対応する実空間上のマスクを算出し、評価しようとする画像データＩｍｇに対して該マスクを作用して畳み込み演算を行い、新たな画像データＩｍｇに対してＲＭＳを求めてもよい。これにより、（１）式を用いた上記方法と同等の演算結果を得ることができる。
　なお、メッシュパターンＭを決定するための目標レベル（許容範囲）や評価関数に応じて、評価値ＥＶＰの算出式を種々変更し得ることはいうまでもない。
　以下、上記した評価値ＥＶＰに基づいて出力用画像データＩｍｇＯｕｔを決定する具体的方法について説明する。例えば、模様が異なる画像データＩｍｇの作成と、評価値ＥＶＰによる評価とを順次繰り返す方法を用いることができる。
　なお、この画像データＩｍｇには、繰り返し演算における初期データとしての画像データＩｍｇＩｎｉｔと、一時的データとしての画像データＩｍｇＴｅｍｐとが含まれる。また、この評価値ＥＶＰには、繰り返し演算における初期値としての評価値ＥＶＰＩｎｉｔと、一時的データとしての評価値ＥＶＰＴｅｍｐとが含まれる。
　かかる場合、出力用画像データＩｍｇＯｕｔを決定する最適化問題として、構成的アルゴリズムや逐次改善アルゴリズム等の種々の探索アルゴリズムを用いることができる。
　本実施の形態では、擬似焼きなまし法（Ｓｉｍｕｌａｔｅｄ　Ａｎｎｅａｌｉｎｇ；以下、ＳＡ法という。）によるメッシュパターンＭの最適化方法について、図１０のフローチャート及び図１の機能ブロック図を主に参照しながら説明する。なお、ＳＡ法は、高温状態で鉄を叩くことで頑健な鉄を得る「焼きなまし法」を模した確率的探索アルゴリズムである。
　先ず、初期位置選択部２８は、シード点ＳＤの初期位置を選択する（ステップＳ２１）。
　初期位置の選択に先立って、乱数発生部２６は、擬似乱数の発生アルゴリズムを用いて乱数値を発生する。ここで、擬似乱数の発生アルゴリズムとして、メルセンヌ・ツイスタ（Ｍｅｒｓｅｎｎｅ　Ｔｗｉｓｔｅｒ）、ＳＦＭＴ（ＳＩＭＤ－ｏｒｉｅｎｔｅｄ　Ｆａｓｔ　Ｍｅｒｓｅｎｎｅ　Ｔｗｉｓｔｅｒ）やＸｏｒｓｈｉｆｔ法等の種々のアルゴリズムを用いてもよい。そして、初期位置選択部２８は、乱数発生部２６から供給された乱数値を用いて、シード点ＳＤの初期位置をランダムに決定する。ここで、初期位置選択部２８は、シード点ＳＤの初期位置を画像データＩｍｇ上の画素のアドレスとして選択し、シード点ＳＤが互いに重複しない位置にそれぞれ設定する。
　なお、初期位置選択部２８は、画像情報推定部３６から供給される画像データＩｍｇの縦方向・横方向の画素数に基づいて、二次元画像領域の範囲を予め決定しておく。また、初期位置選択部２８は、シード点ＳＤの個数を画像情報推定部３６から予め取得し、その個数を決定しておく。
　図１１は、シード点ＳＤの配置密度と、メッシュパターンＭの全体透過率との関係の一例を表すグラフである。本図は、配置密度が高くなるにしたがって、配線の被覆面積が増加し、その結果、メッシュパターンＭの全体透過率が低下することを示している。
　このグラフ特性は、膜材の光透過率（図５の欄１５０ａの表示）、配線の幅（図５のテキストボックス１３２の入力値）及び領域決定アルゴリズム（例えば、ボロノイ図）に応じて変化する。よって、配線の幅等の各パラメータに応じた特性データを、関数やテーブル等の種々のデータ形式で、記憶部２４に予め記憶してもよい。
　また、シード点ＳＤの配置密度とメッシュパターンＭの電気抵抗値との対応を予め取得しておき、該電気抵抗値の指定値に基づいてシード点ＳＤの個数を決定するようにしてもよい。電気抵抗値は、導電部５０の通電性を表す１つのパラメータであり、メッシュパターンＭの設計に不可欠だからである。
　なお、初期位置選択部２８は、乱数値を用いることなくシード点ＳＤの初期位置を選択してもよい。例えば、図示しないスキャナや記憶装置を含む外部装置から取得したデータを参照しながら、初期位置を決定することができる。このデータは、例えば、所定の２値画像データであってもよく、具体的には印刷用の網点データであってもよい。
　次いで、画像データ作成部３８は、初期データとしての画像データＩｍｇＩｎｉｔを作成する（ステップＳ２２）。画像データ作成部３８は、記憶部２４から供給されたシード点ＳＤの個数や位置データＳＤｄ、並びに画像情報推定部３６から供給された画像情報に基づいて、メッシュパターンＭに応じた模様を表す画像データＩｍｇＩｎｉｔを作成する。
　複数のシード点ＳＤからメッシュ状の模様を決定するアルゴリズムは、種々の方法を採り得る。以下、図１２Ａ～図１３Ｂを参照しながら詳細に説明する。
　図１２Ａに示すように、例えば、正方形状の二次元画像領域２００内に８つの点Ｐ1～Ｐ8を無作為に選択したとする。
　図１２Ｂは、ボロノイ図を用いて８つの点Ｐ1～Ｐ8をそれぞれ囲繞する８つの領域Ｖ1～Ｖ8を画定した結果を示す説明図である。なお、距離関数としてユークリッド距離を用いた。本図から諒解されるように、領域Ｖi（ｉ＝１～８）内の任意の点において、点Ｐiが最も近接する点であることを示している。
　また、ドロネー三角形分割法を用いて、図１３Ａ（図１２Ａと同図）の点Ｐ1～Ｐ8をそれぞれ頂点とする８つの三角形状の領域を画定した結果を図１３Ｂに示す。
　ドロネー三角形分割法とは、点Ｐ1～Ｐ8のうち、隣接する点同士を繋いで三角形状の領域を画定する方法である。この方法によっても、点Ｐ1～Ｐ8の個数と同数の領域Ｖ1～Ｖ8を決定することができる。
　ところで、画像データＩｍｇ（画像データＩｍｇＩｎｉｔ、ＩｍｇＴｅｍｐ、及び出力用画像データＩｍｇＯｕｔを含む。）を作成する前に、画素のアドレス及び画素値の定義を予め決定しておく。
　図１４Ａは、画像データＩｍｇにおける画素アドレスの定義を表す説明図である。例えば、画素サイズが１０μｍであり、画像データの縦横の画素数はそれぞれ８１９２個とする。後述するＦＦＴの演算処理の便宜のため、２の冪乗（例えば、２の１３乗）となるように設けている。このとき、画像データＩｍｇの画像領域全体は、約８２ｍｍ四方の矩形領域に対応する。
　図１４Ｂは、画像データＩｍｇにおける画素値の定義を表す説明図である。例えば、１画素当たりの階調数を８ビット（２５６階調）とする。光学濃度０を画素値０（最小値）と対応させ、光学濃度４．５を画素値２５５（最大値）と対応させておく。その中間の画素値１～２５４では、光学濃度に対して線形関係となるように値を定めておく。ここで、光学濃度とは、透過濃度のみならず、反射濃度であってもよいことはいうまでもなく、導電性フイルム１４の使用態様等に応じて適宜選択できる。また、光学濃度の他に、三刺激値ＸＹＺや色値ＲＧＢ、Ｌ*ａ*ｂ*等であっても、上記と同様にして各画素値を定義することができる。
　このようにして、画像データ作成部３８は、画像データＩｍｇのデータ定義と、画像情報推定部３６で推定された画像情報（ステップＳ１の説明を参照）に基づいて、メッシュパターンＭに応じた画像データＩｍｇＩｎｉｔを作成する（ステップＳ２２）。画像データ作成部３８は、シード点ＳＤの初期位置（図１５Ａ参照）を基準とするボロノイ図を用いて、図１５Ｂに示すメッシュパターンＭの初期状態を決定する。なお、画像の端部については、上下方向、左右方向に繰り返し配列されるように適切な処理を行う。例えば、画像の左端（又は右端）近傍のシード点ＳＤについては、画像の右端（又は左端）近傍のシード点ＳＤとの間で領域Ｖiを得るようにする。同様に、画像の上端（又は下端）近傍のシード点ＳＤについては、画像の下端（上端）近傍のシード点ＳＤとの間で領域Ｖiを得るようにする。
　以下、画像データＩｍｇは、光学濃度ＯＤ、色値Ｌ*、色値ａ*、色値ｂ*の４チャンネルの各データを備える画像データであるとする。
　次いで、メッシュ模様評価部４０は、初期値としての評価値ＥＶＰＩｎｉｔを算出する（ステップＳ２３）。なお、ＳＡ法において、評価値ＥＶＰは、対価関数（Ｃｏｓｔ　Ｆｕｎｃｔｉｏｎ）としての役割を担う。
　具体的には、図４に示すＦＦＴ演算部１００は、画像データＩｍｇＩｎｉｔに対してＦＦＴを施す。そして、評価値算出部１０２は、ＦＦＴ演算部１００から供給されたスペクトルＳｐｃに基づいて評価値ＥＶＰを算出する。
　画像データＩｍｇのうち、色値Ｌ*、色値ａ*、色値ｂ*の各チャンネルに対して、上述した評価値ＥＶＰ（Ｌ*）、ＥＶＰ（ａ*）、ＥＶＰ（ｂ*）をそれぞれ算出する｛（１）式を参照｝。そして、所定の重み係数を用いて積和演算することで、評価値ＥＶＰを得る。
　なお、色値Ｌ*、色値ａ*、色値ｂ*の代わりに光学濃度ＯＤを用いてもよい。評価値ＥＶＰに関しては、観察態様の種別、具体的には、補助光源は透過光が支配的であるか、反射光が支配的であるか、あるいは透過光・反射光の混合光であるかに応じて、人間の視感度により適合した演算手法を適宜選択することができる。
　また、メッシュパターンＭを決定するための目標レベル（許容範囲）や評価関数に応じて、評価値ＥＶＰの算出式を種々変更し得ることはいうまでもない。
　このようにして、メッシュ模様評価部４０は、評価値ＥＶＰＩｎｉｔを算出する（ステップＳ２３）。
　次いで、記憶部２４は、ステップＳ２２で作成された画像データＩｍｇＩｎｉｔと、ステップＳ２３で算出された評価値ＥＶＰＩｎｉｔとを一時的に記憶する（ステップＳ２４）。あわせて、擬似温度Ｔに初期値ｎΔＴ（ｎは自然数、ΔＴは正の実数である。）を代入する。
　次いで、カウンタ１０８は、変数Ｋを初期化する（ステップＳ２５）。すなわち、Ｋに０を代入する。
　次いで、シード点ＳＤの一部（第２シード点ＳＤＳ）を候補点ＳＰに置き換えた状態で、一時的データとしての画像データＩｍｇＴｅｍｐを作成し、一時的データとしての評価値ＥＶＰＴｅｍｐを算出した後に、シード点ＳＤの「更新」又は「非更新」を判断する（ステップＳ２６）。このステップＳ２６について、図１、図４の機能ブロック図及び図１６のフローチャートを参照しながら、更に詳細に説明する。
　先ず、更新候補位置決定部３０は、所定の二次元画像領域２００から候補点ＳＰを抽出し、決定する（ステップＳ２６１）。更新候補位置決定部３０は、例えば、乱数発生部２６から供給された乱数値を用いて、シード点ＳＤのいずれの位置とも重複しない位置を決定する。なお、候補点ＳＰの個数は１つであっても複数であってもよい。図１７Ａに示す例では、現在のシード点ＳＤが８個（点Ｐ1～Ｐ8）に対して、候補点ＳＰは２個（点Ｑ1と点Ｑ2）である。
　次いで、シード点ＳＤの一部と候補点ＳＰとを無作為に交換する（ステップＳ２６２）。更新候補位置決定部３０は、各候補点ＳＰと交換（あるいは更新）される各シード点ＳＤを無作為に対応付けておく。図１７Ａでは、点Ｐ1と点Ｑ1とが対応付けられ、点Ｐ3と点Ｑ2とが対応付けられたとする。図１７Ｂに示すように、点Ｐ1と点Ｑ1とが交換されるとともに、点Ｐ3と点Ｑ2とが交換される。ここで、交換（あるいは更新）対象でない点Ｐ2、点Ｐ4～Ｐ8を第１シード点ＳＤＮといい、交換（あるいは更新）対象である点Ｐ1及び点Ｐ3を第２シード点ＳＤＳという。
　次いで、画像データ作成部３８は、交換された新たなシード点ＳＤ（図１７Ｂ参照）を用いて、画像データＩｍｇＴｅｍｐを作成する（ステップＳ２６３）。このとき、ステップＳ２２（図１０参照）の場合と同一の方法を用いるので、説明を割愛する。
　次いで、メッシュ模様評価部４０は、画像データＩｍｇＴｅｍｐに基づいて、評価値ＥＶＰＴｅｍｐを算出する（ステップＳ２６４）。このとき、ステップＳ２４（図１０参照）の場合と同一の方法を用いるので、説明を割愛する。
　次いで、更新確率算出部１１２は、シード点ＳＤの位置の更新確率Ｐｒｏｂを算出する（ステップＳ２６５）。ここで、「位置の更新」とは、ステップＳ２６２で暫定的に交換して得たシード点ＳＤ（すなわち、第１シード点ＳＤＮ及び候補点ＳＰ）を新たなシード点ＳＤとして決定することをいう。
　具体的には、メトロポリス基準に従って、シード点ＳＤを更新する確率又は更新しない確率をそれぞれ算出する。更新確率Ｐｒｏｂは、次の（２）式で与えられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000002
　ここで、Ｔは擬似温度を表し、絶対温度（Ｔ＝０）に近づくに従って、シード点ＳＤの更新則が確率論的から決定論的に変化する。
　次いで、位置更新判定部１１４は、更新確率算出部１１２により算出された更新確率Ｐｒｏｂに従って、シード点ＳＤの位置を更新するか否かについて判断する（ステップ２６６）。例えば、乱数発生部２６から供給された乱数値を用いて、確率的に判断してもよい。
　シード点ＳＤを更新する場合は「更新」の旨を、更新しない場合は「非更新」の旨を記憶部２４側にそれぞれ指示する（ステップＳ２６７、Ｓ２６８）。
　このようにして、ステップＳ２６が完了する。
　図１０に戻って、「更新」又は「非更新」のいずれか一方の指示に従って、シード点ＳＤを更新するか否かが判定される（ステップＳ２７）。シード点ＳＤを更新しない場合は、ステップＳ２９を行うことなく、次のステップＳ３０に進む。
　一方、シード点ＳＤを更新する場合は、記憶部２４は、現在記憶している画像データＩｍｇに対し、ステップＳ２６３（図１６参照）で求めた画像データＩｍｇＴｅｍｐを上書き更新する（ステップＳ２８）。また、記憶部２４は、現在記憶している評価値ＥＶＰに対し、ステップＳ２６４で求めた評価値ＥＶＰＴｅｍｐを上書き更新する（ステップＳ２８）。さらに、記憶部２４は、現在記憶している第２シード点ＳＤＳの位置データＳＤＳｄに対し、ステップＳ２６１で求めた候補点ＳＰの位置データＳＰｄを上書き更新する（ステップＳ２８）。その後、次のステップＳ２９に進む。
　次いで、カウンタ１０８は、現時点でのＫの値を１だけ加算する（ステップＳ２９）。
　次いで、カウンタ１０８は、現時点でのＫの値と予め定められたＫｍａｘの値との大小関係を比較する（ステップＳ３０）。Ｋの値の方が小さい場合はステップＳ２６まで戻り、以下ステップＳ２６～Ｓ２９を繰り返す。なお、この最適化演算における収束性を十分確保するため、例えば、Ｋｍａｘ＝１００００と定めることができる。
　それ以外の場合は、擬似温度管理部１１０は、擬似温度ＴをΔＴだけ減算し（ステップＳ３１）、次のステップＳ３２に進む。なお、擬似温度Ｔの変化量は、ΔＴの減算のみならず、定数δ（０＜δ＜１）の乗算であってもよい。この場合は、（２）式に示す確率Ｐｒｏｂ（下段）が一定値だけ減算される。
　次いで、擬似温度管理部１１０は、現時点での擬似温度Ｔが０に等しいか否かを判定する（ステップＳ３２）。Ｔが０と等しくない場合はステップＳ２５に戻って、以下ステップＳ２５～Ｓ３１を繰り返す。
　一方、Ｔが０に等しい場合は、擬似温度管理部１１０は、出力用画像データ決定部１１６に対し、ＳＡ法によるメッシュ模様の評価が終了した旨を通知する。そして、記憶部２４は、ステップＳ２８で最後に更新された画像データＩｍｇの内容を出力用画像データＩｍｇＯｕｔに上書き更新する（ステップＳ３３）。
　このようにして、ステップＳ２を終了する。この出力用画像データＩｍｇＯｕｔは、その後、露光データ変換部３２側に供給され、露光部１８の制御信号に変換される画像データである。
　なお、作業者が目視確認するために、得られた出力用画像データＩｍｇＯｕｔを表示部２２に表示させ、メッシュパターンＭを擬似的に可視化してもよい。以下、出力画像データＩｍｇＯｕｔを実際に可視化した結果の一例を説明する。
　図１８は、本実施の形態に係る第１メッシュパターンＭ１及び従来例に係る各種パターンＰＴ１～ＰＴ３（図３３Ａ～図３３Ｃ参照）の模様を表す画像データに対してそれぞれＦＦＴを施して得られるスペクトルＳｐｃのＸ軸に沿った断面図である。
　図３３Ａに示すパターンＰＴ１のスペクトルＳｐｃは、約１０ｃｙｃｌｅ／ｍｍを頂点とした幅の広いピーク（２～３０ｃｙｃｌｅ／ｍｍの範囲）を有している。また、図３３Ｂに示すパターンＰＴ２のスペクトルＳｐｃは、約３ｃｙｃｌｅ／ｍｍを中心とした幅の広いピーク（３～２０ｃｙｃｌｅ／ｍｍの範囲）を有している。さらに、図３３Ｃに示すパターンＰＴ３のスペクトルＳｐｃは、約１０ｃｙｃｌｅ／ｍｍを中心とした幅のやや狭いピーク（８～１８ｃｙｃｌｅ／ｍｍの範囲）を有している。これに対し、第１メッシュパターンＭ１のスペクトルＳｐｃは、８．８ｃｙｃｌｅ／ｍｍを中心とした幅の狭いピークを有している。
　ところで、図８Ｃに示すスペクトルＳｐｃの特徴と、各メッシュの重心位置との関係について以下説明する。図１９に示すように、図１２Ｂと同様の二次元画像領域２０２に対し、上述したボロノイ図を用いて多角形状の各領域Ｖ1～Ｖ8が画定されているものとする。なお、各領域Ｖ1～Ｖ8内にそれぞれ属する各点Ｃ1～Ｃ8は、各領域の重心位置を表している。
　図２０は、本実施の形態に係る第１メッシュパターンＭ１に関し、複数のメッシュと各メッシュの重心位置との関係を示す概略説明図である。
　図２１Ａは、図２０の第１メッシュパターンＭ１が有する各メッシュの重心位置の分布（以下、「重心分布Ｃ」という。）を表す画像データ（以下、「重心画像データＩｍｇｃ」という。）を可視化した概略説明図である。本図から諒解されるように、重心分布Ｃは、各重心位置が互いに重複することなく適度に分散している。
　図２１Ｂは、図２１Ａの重心画像データＩｍｇｃに対してＦＦＴを施して得られる二次元パワースペクトル（以下、「重心スペクトルＳｐｃｃ」という。）の分布図である。ここで、当該分布図の横軸はＸ軸方向に対する空間周波数を示し、その縦軸はＹ軸方向に対する空間周波数を示す。また、空間周波数帯域毎の表示濃度が薄いほど強度レベル（スペクトルの値）が小さくなり、表示濃度が濃いほど強度レベルが大きくなっている。本図の例では、この重心スペクトルＳｐｃｃの分布は、等方的であるとともに環状のピークを１個有している。
　図２１Ｃは、図２１Ｂに示す重心スペクトルＳｐｃｃの分布のＸＸＩＣ－ＸＸＩＣ線に沿った断面図である。重心スペクトルＳｐｃｃは等方的であるので、図２１Ｃはあらゆる角度方向に対する動径方向分布に相当する。本図から諒解されるように、低空間周波数帯域での強度レベルが小さくなり、中間の空間周波数帯域には幅が広いピークを有している。さらに、低空間数端数帯域に対して、高空間周波数帯域での強度レベルが高くなるいわゆるハイパス型の特性を有する。すなわち、図２１Ａに示す重心画像データＩｍｇｃは、画像工学分野の技術用語によれば、「ブルーノイズ」の特性を有する模様を表すものといえる。
　図２２は、図８Ｃ及び図２１Ｃに示すスペクトルＳｐｃ及び重心スペクトルＳｐｃｃの比較図である。具体的には、第１メッシュパターンＭ１のスペクトルＳｐｃと、重心分布Ｃの重心スペクトルＳｐｃｃとを比較する。便宜のため、最大のピーク値ＰKが一致するように、各スペクトルの強度を規格化している。
　本図によると、ピークＰｋの空間周波数ＦPは一致しており、この値は８．８ｃｙｃｌｅ／ｍｍに相当する。空間周波数ＦPを超えた高空間周波数帯域では、スペクトルＳｐｃの強度は徐々に減少するのに対し、重心スペクトルＳｐｃｃの強度はなおも高い値を維持している。この理由は、メッシュパターンＭの構成要素は互いに交差した所定の幅を有する線分であるのに対し、重心分布Ｃの構成要素が点であるためと推測される。
　図２３は、図２１Ｃの重心スペクトルＳｐｃｃの特徴を表す概略説明図である。重心スペクトルＳｐｃｃの値は、０～５ｃｙｃｌｅ／ｍｍの範囲で徐々に増加し、６ｃｙｃｌｅ／ｍｍの周辺で急激に増加し、約１０ｃｙｃｌｅ／ｍｍで幅が広いピークを有する。そして、１０～１５ｃｙｃｌｅ／ｍｍの範囲で徐々に減少し、１５ｃｙｃｌｅ／ｍｍを超える高空間周波数帯域で高い値を維持する。
　ここで、基準空間周波数Ｆｂ（所定の空間周波数）を６ｃｙｃｌｅ／ｍｍに設定する。Ｆｂよりも低い空間周波数帯域側、つまり、０～Ｆｂ［ｃｙｃｌｅ／ｍｍ］の範囲における重心スペクトルＳｐｃｃの平均値をＰLとする。一方、Ｆｂよりも高い空間周波数帯域側、つまり、Ｆｂ［ｃｙｃｌｅ／ｍｍ］～ナイキスト周波数での重心スペクトルＳｐｃｃの平均値をＰHとする。このように、ＰHはＰLよりも大きくなっている。重心スペクトルＳｐｃｃはこのような特徴を有しているので、観察者にとって視覚的に感じられるノイズ感が減少する。この根拠は以下の通りである。
　例えば、Ｆｂの値は、人間の視覚応答特性が最大応答の５％に相当する空間周波数となるように設定している。この強度レベルであれば、視認が困難なレベルだからである。また、図９に示すように、明視距離が３００ｍｍでのドゥーリー・ショー関数に基づいて得られる視覚応答特性を用いている。本関数は、人間の視覚応答特性に良く適合するからである。
　すなわち、Ｆｂの値として、明視距離が３００ｍｍでのドゥーリー・ショー関数において、最大応答の５％に相当する空間周波数６ｃｙｃｌｅ／ｍｍを用いることができる。なお、６ｃｙｃｌｅ／ｍｍは、１６７μｍ間隔に相当する。
　本明細書中において、導電性フイルム１４が有するメッシュパターンＭの重心位置分布のパワースペクトルとは、以下の過程により得られたスペクトルに相当する。つまり、メッシュパターンＭの模様を表す画像データＩｍｇＯｕｔを取得し、各メッシュ（閉空間）を識別し、その重心位置（例えば１画素のドット）をそれぞれ算出して重心画像データＩｍｇｃを求め、その二次元パワースペクトル（重心スペクトルＳｐｃｃ）を求めることにより、メッシュパターンＭの重心位置分布のパワースペクトルを得る。なお、画像データＩｍｇＯｕｔの取得方法は、スキャナ等の入力装置を用いて導電性フイルム１４の濃淡画像データとして取得してもよいし、メッシュパターンＭの出力形成に実際に用いた画像データＩｍｇＯｕｔ（図１参照）であってもよい。
　続いて、ブラックマトリクス５９（図２Ｂ参照）を重畳する条件下において適切な第２メッシュパターンＭ２の作成方法について、図７、図２４及び図２５のフローチャートを参照しながら説明する。
　図７のフローチャートにおいて、製造装置１０の動作は、第１メッシュパターンＭ１を作成する場合と基本的には同様である。ここで、各種条件の入力（ステップＳ１）の際、メッシュパターンＭの視認性に関わる視認情報のみならず、ブラックマトリクス５９に関する視認情報をさらに入力する。
　作業者は、表示部２２に表示された設定画面１６０（図６参照）を介して、適切な数値等を入力する。これにより、ブラックマトリクス５９の視認性に関わる視認情報を入力することができる。ここで、ブラックマトリクス５９の視認情報とは、ブラックマトリクス５９の形状や光学濃度に寄与する各種情報であり、パターン材の視認情報が含まれる。パターン材の視認情報として、例えば、該パターン材の種類、色値、光透過率若しくは光反射率、又は前記パターン構造の配設位置、単位形状若しくは単位サイズの少なくとも１つが含まれる。
　作業者は、重畳しようとするブラックマトリクス５９に関して、図６に示すテキストボックス１６４等を用いてブラックマトリクス５９の各種条件をそれぞれ入力する。
　ラジオボタン１６２ａ、１６２ｂの入力は、メッシュパターンＭにブラックマトリクス５９を重畳した模様を表す出力用画像データＩｍｇＯｕｔを作成するか否かに対応する。ここでは、ブラックマトリクス５９を重畳するので、ラジオボタン１６２ａ（「あり」）を選択する。
　テキストボックス１６４の入力値は、ブラックマトリクス５９の配置位置をランダムに決定し、画像データＩｍｇの作成・評価を行う試行回数に相当する。例えば、この値を５回と設定した場合、メッシュパターンＭとブラックマトリクス５９との位置関係をランダムに定めた５つの重畳画像データを作成し、評価値ＥＶＰの平均値をそれぞれ用いて、メッシュの模様の評価を行う。
　テキストボックス１６６、１６８、１７０、１７２の入力値は、ブラックマトリクス５９の光学濃度（単位：Ｄ）、単位画素６０の横サイズ（単位：μｍ）、単位画素６０の縦サイズ（単位：μｍ）、遮光材６８ｈの幅（単位：μｍ）、遮光材６８ｖの幅（単位：μｍ）にそれぞれ対応する。
　さらに、ブラックマトリクス５９の光学濃度（テキストボックス１６６）と、単位画素６０の横サイズ（テキストボックス１６８）と、単位画素６０の縦サイズ（テキストボックス１７０）と、遮光材６８ｈの幅（テキストボックス１７２）と、遮光材６８ｖの幅（テキストボックス１７４）とに基づいて、ブラックマトリクス５９を重畳した場合のメッシュパターンＭの模様（形状・光学濃度）を推定できる。
　図２４は、出力用画像データＩｍｇＯｕｔの作成方法を説明する第２のフローチャートである。本図は、図１０と比べて、重畳画像データＩｍｇＩｎｉｔ’を作成するステップ（ステップＳ２３Ａ）を備える点が異なる。また、後述する重畳画像データＩｍｇＴｅｍｐ’からシード点ＳＤの更新／非更新を判断する点（ステップＳ２６Ａ）が、ステップＳ２６（図１０参照）と異なる。なお、ステップＳ２１～Ｓ２５、Ｓ２７～Ｓ３３は、既に上述した通りであるから、各ステップでの動作説明を省略する。
　ステップＳ２３Ａにおいて、画像データ作成部３８は、ステップＳ２２で作成された画像データＩｍｇＩｎｉｔと、画像情報推定部３６で推定されたブラックマトリクス５９の画像情報（ステップＳ１の説明を参照）に基づいて、重畳画像データＩｍｇＩｎｉｔ’を作成する。なお、この重畳画像データＩｍｇＩｎｉｔ’は、第２メッシュパターンＭ２に構造パターンとしてのブラックマトリクス５９を重畳した模様を表す画像データである。
　画像データＩｍｇＩｎｉｔの画素値のデータ定義が透過濃度である場合は、ブラックマトリクス５９の配置位置に対応する各画素の透過濃度（図６のテキストボックス１６６の入力値）を加算して、重畳画像データＩｍｇＩｎｉｔ’を作成できる。また、画像データＩｍｇＩｎｉｔの画素値のデータ定義が反射濃度である場合は、ブラックマトリクス５９の配置位置に対応する各画素の反射濃度（同テキストボックス１６６の入力値）に置換して、重畳画像データＩｍｇＩｎｉｔ’を作成できる。
　ステップＳ２６Ａにおいて、シード点ＳＤの一部（第２シード点ＳＤＳ）を候補点ＳＰに置き換えた状態で、重畳画像データＩｍｇＴｅｍｐ’を作成し、評価値ＥＶＰＴｅｍｐを算出した後に、シード点ＳＤの「更新」又は「非更新」を判断する。
　図２５におけるフローチャートは、図１６と比べて、重畳画像データＩｍｇＴｅｍｐ’を作成するステップ（ステップＳ２６３Ａ）を備える点が異なる。なお、ステップＳ２６１～Ｓ２６８は、既に上述した通りであるから、各ステップでの動作説明を省略する。
　ステップＳ２６３Ａにおいて、画像データ作成部３８は、ステップＳ２６３で作成された画像データＩｍｇＴｅｍｐと、画像情報推定部３６で推定されたブラックマトリクス５９の画像情報（ステップＳ１の説明を参照）とに基づいて、重畳画像データＩｍｇＴｅｍｐ’を作成する。このとき、ステップＳ２２Ａ（図２４参照）の場合と同一の方法を用いるので、説明を割愛する。
　このように、重畳画像データＩｍｇＴｅｍｐ’（又は、重畳画像データＩｍｇＩｎｉｔ’）を作成した上で、評価値ＥＶＰ（又は、評価値ＥＶＰＩｎｉｔ）を算出することで、ブラックマトリクス５９の模様を考慮に入れたメッシュ形状の評価が可能である。
　このようにして、ステップＳ２Ａを終了する。なお、この出力用画像データＩｍｇＯｕｔは、その後、露光データ変換部３２側に供給され、露光部１８の制御信号に変換される画像データである。
　図２６Ａは、導電性フイルム１４の模様を表す出力用画像データＩｍｇＯｕｔに対してブラックマトリクス５９を重畳して可視化した概略説明図である。第２メッシュパターンＭ２、赤色フィルタ５８ｒ、緑色フィルタ５８ｇ、青色フィルタ５８ｂ及びブラックマトリクス５９がそれぞれ識別可能に表示されている。
　図２６Ｂ～図２６Ｄは、図２６Ａの画像データＩｍｇＯｕｔのうち色値のＲ成分、Ｇ成分、Ｂ成分をそれぞれ抽出してスペクトルＳｐｃを算出したグラフである。図２６Ｂ～図２６Ｄに示すように、ＲＧＢの各成分とも略同様のスペクトルＳｐｃを得た。いずれも、ブラックマトリクス５９の遮光材６１ｈ、６１ｖの配置間隔に対応する空間周波数を中心にノイズのピークが発生している。
　これに対し、図２７Ａは、図２６Ａの出力用画像データＩｍｇＯｕｔに対して人間の視覚応答特性を作用し、可視化した概略説明図である。人間の視覚応答特性、換言すればローパスフィルタ（図９参照）を作用することで、図２７Ａのように、第２メッシュパターンＭ２とブラックマトリクス５９の微細な構造輪郭がほとんど視認できなくなっている。
　図２７Ｂ～図２７Ｄは、図２７Ａの画像データのうち色値のＲ成分、Ｇ成分、Ｂ成分をそれぞれ抽出してスペクトルＳｐｃｖを算出したグラフである。図２６Ａと比較して、上記したノイズ特性のピークが低空間周波数側にシフトするとともに、スペクトルＳｐｃｖが形成する面積が減少している。
　このような方法を用いれば、ブラックマトリクス５９を重畳した第２メッシュパターンＭ２のノイズ特性について、人間の視覚応答特性に一層適合した評価を行うことができる
　図２８Ａは、ブラックマトリクス５９を重畳しない条件下で最適化された出力用画像データＩｍｇＯｕｔを用いて、導電性フイルム１４の模様を表す第２メッシュパターンＭ１を可視化した概略説明図である。図２８Ａは、ブラックマトリクス５９を重畳する条件下で最適化された出力用画像データＩｍｇＯｕｔを用いて、導電性フイルム１４の模様を表す第２メッシュパターンＭ１を可視化した概略説明図である。
　図２８Ａ及び図２８Ｂから諒解されるように、メッシュパターンＭ２の模様（各開口部５２）は、メッシュパターンＭ１の模様と比べて、総じて横長の形状を有している。その根拠は以下のように推測される。
　例えば、図２Ｂに示すブラックマトリクス５９の単位画素６０の形状を正方形と仮定する。赤色フィルタ５８ｒ、緑色フィルタ５８ｇ、青色フィルタ５８ｂが左右方向に配設されることで、単位画素６０が１／３の領域に区画され、高空間周波数成分のノイズ粒状度が増加する。一方、上下方向には、遮光材６１ｈの配設周期に相当する空間周波数成分のみ存在し、それ以外の空間周波数成分がないため、この配設周期の視認性を低減するようにメッシュパターンＭ２の模様が決定される。すなわち、左右方向に延在する各配線は、その間隔がなるべく狭くなるように、且つ、各遮光材６１ｈの間に規則的に配置されるように決定される。
　このように、ブラックマトリクス５９（構造パターン）を重畳させて画像データＩｍｇ（出力用画像データＩｍｇＯｕｔを含む。）を作成することで、ブラックマトリクス５９の模様を考慮に入れたメッシュ形状の最適化が可能である。
　図７に戻って、露光部１８は、メッシュパターンＭの露光処理を行い（ステップＳ３）、その後、現像処理を行う（ステップＳ４）。
　ここで、透明フイルム基材５６上に金属細線５４によるメッシュパターンＭを形成するいくつの方法（第１方法～第４方法）について図２９Ａ～図３２を参照しながら説明する。
　第１方法は、透明フイルム基材５６上に設けられた銀塩感光層を露光し、現像、定着することによって形成された金属銀部にてメッシュパターンＭを構成する方法である。
　具体的には、図２９Ａに示すように、ハロゲン化銀６２（例えば臭化銀粒子、塩臭化銀粒子や沃臭化銀粒子）をゼラチン６４に混ぜてなる銀塩感光層６６を透明フイルム基材５６上に塗布する。なお、図２９Ａ～図２９Ｃでは、ハロゲン化銀６２を「粒々」として表記してあるが、あくまでも本発明の理解を助けるために誇張して示したものであって、大きさや濃度等を示したものではない。
　その後、図２９Ｂに示すように、銀塩感光層６６に対して導電部５０の形成に必要な露光を行う。すなわち、図１０又は図２４に示すパターン生成処理を経て得られた露光パターンに対応したマスクパターンを介して光１６を銀塩感光層６６に照射する。あるいは、銀塩感光層６６に対するデジタル書込み露光によって、銀塩感光層６６に、前記パターン生成処理にて生成された露光パターンを露光する。ハロゲン化銀６２は、光エネルギーを受けると感光して「潜像」と称される肉眼では観察できない微小な銀核を生成する。
　その後、潜像を肉眼で観察できる可視化された画像に増幅するために、図２９Ｃに示すように、現像処理を行う。具体的には、潜像が形成された銀塩感光層６６を現像液（アルカリ性溶液と酸性溶液のどちらもあるが通常はアルカリ性溶液が多い）にて現像処理する。この現像処理とは、ハロゲン化銀粒子ないし現像液から供給された銀イオンが現像液中の現像主薬と呼ばれる還元剤により潜像銀核を触媒核として金属銀に還元されて、その結果として潜像銀核が増幅されて可視化された銀画像（現像銀６８）を形成する。
　現像処理を終えたあとに銀塩感光層６６中には光に感光できるハロゲン化銀６２が残存するのでこれを除去するために図２９Ｄに示すように定着処理液（酸性溶液とアルカリ性溶液のどちらもあるが通常は酸性溶液が多い）により定着を行う。
　この定着処理を行うことによって、露光された部位には金属銀部７０が形成され、露光されていない部位にはゼラチン６４のみが残存し、透光部７２となる。すなわち、透明フイルム基材５６上に金属銀部７０と透光部７２との組み合わせによるメッシュパターンＭが形成されることになる。
　ハロゲン化銀６２として臭化銀を用い、チオ硫酸塩で定着処理した場合の定着処理の反応式を以下に示す。
　　ＡｇＢｒ（固体）＋２個のＳ2Ｏ3イオン　→　Ａｇ（Ｓ2Ｏ3）2
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（易水溶性錯体）
　すなわち、２個のチオ硫酸イオンＳ2Ｏ3とゼラチン６４中の銀イオン（ＡｇＢｒからの銀イオン）が、チオ硫酸銀錯体を生成する。チオ硫酸銀錯体は水溶性が高いのでゼラチン６４中から溶出されることになる。その結果、現像銀６８が金属銀部７０として定着されて残ることになる。この金属銀部７０にてメッシュパターンＭが構成されることになる。
　したがって、現像工程は、潜像に対し還元剤を反応させて現像銀６８を析出させる工程であり、定着工程は、現像銀６８にならなかったハロゲン化銀６２を水に溶出させる工程である。詳細は、Ｔ．Ｈ．Ｊａｍｅｓ，　Ｔｈｅ　Ｔｈｅｏｒｙ　ｏｆ　ｔｈｅ　Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ　Ｐｒｏｃｅｓｓ，　４ｔｈ　ｅｄ．，　Ｍａｃｍｉｌｌｉａｎ　Ｐｕｂｌｉｓｈｉｎｇ　Ｃｏ．，Ｉｎｃ，　ＮＹ，Ｃｈａｐｔｅｒ１５，　ｐｐ．４３８－４４２．　１９７７を参照されたい。
　なお、現像処理は多くの場合アルカリ性溶液で行われることから、現像処理工程から定着処理工程に入る際に、現像処理にて付着したアルカリ溶液が定着処理溶液（多くの場合は酸性溶液である）に持ち込まれるため、定着処理液の活性が変わるといった問題がある。また、現像処理槽を出た後、膜に残留した現像液により意図しない現像反応が更に進行する懸念もある。そこで、現像処理後で、定着処理工程に入る前に、酢酸（酢）溶液等の停止液で銀塩感光層６６を中和もしくは酸性化することが好ましい。
　そして、図２９Ｅに示すように、例えばめっき処理（無電解めっきや電気めっきを単独ないし組み合わせる）を行って、金属銀部７０のみに導電性金属７４を担持させることによって、金属銀部７０と該金属銀部７０に担持された導電性金属７４にてメッシュパターンＭを形成するようにしてもよい。
　ここで、上述した銀塩感光層６６を用いた方法（銀塩写真技術）と、フォトレジストを用いた方法（レジスト技術）との違いを説明する。
　レジスト技術では、露光処理により光重合開始剤が光を吸収して反応が始まりフォトレジスト膜（樹脂）自体が重合反応して現像液に対する溶解性の増大又は減少させ、現像処理により露光部分又は未露光部分の樹脂を除去する。なお、レジスト技術で現像液とよばれる液は還元剤を含まず、未反応の樹脂成分を溶解する例えばアルカリ性溶液である。一方、本発明の銀塩写真技術の露光処理では上記に記載したように、光を受けた部位のハロゲン化銀６２内において発生した光電子と銀イオンからいわゆる「潜像」と呼ばれる微小な銀核が形成され、その潜像銀核が現像処理（この場合の現像液は必ず現像主薬と呼ばれる還元剤を含む）により増幅されて可視化された銀画像になる。このように、レジスト技術と銀塩写真技術とでは、露光処理から現像処理での反応が全く異なる。
　レジスト技術の現像処理では露光部分又は未露光部分の重合反応しなかった樹脂部分が除去される。一方、銀塩写真技術の現像処理では、潜像を触媒核にして現像液に含まれる現像主薬と呼ばれる還元剤により還元反応がおこり、目に見える大きさまで現像銀６８が成長するものであって、未露光部分のゼラチン６４の除去は行われない。このように、レジスト技術と銀塩写真技術とでは、現像処理での反応も全く異なる。
　なお、未露光部分のゼラチン６４に含まれるハロゲン化銀６２は、その後の定着処理によって溶出されるものであって、ゼラチン６４自体の除去は行われない。
　このように、銀塩写真技術では反応（感光）主体がハロゲン化銀であるのに対し、レジスト技術では光重合開始剤である。また、現像処理では、銀塩写真技術ではバインダ（ゼラチン６４）は残存するが、レジスト技術ではバインダがなくなる。このような点で、銀塩写真技術とフォトレジスト技術は大きく相違する。
　その他の製造方法（第２の製造方法）としては、図３０Ａに示すように、例えば透明フイルム基材５６上に形成された銅箔７５上のフォトレジスト膜７６を形成して感光材料を得る。その後、感光材料に対して露光を行う。すなわち、図１０又は図１４に示すパターン生成処理を経て得られた露光パターンに対応したマスクパターンを介して光をフォトレジスト膜７６に照射する。あるいは、フォトレジスト膜７６に対するデジタル書込み露光によって、フォトレジスト膜７６に、パターン生成装置にて生成された露光パターンを露光する。その後、現像処理することで、透明フイルム基材５６上に導電部５０に対応したレジストパターン７８を形成し、図３０Ｂに示すように、レジストパターン７８から露出する銅箔７５をエッチングする。この段階で、透明フイルム基材５６上に、銅箔７５による導電部５０（メッシュパターンＭ）が形成される。
　また、第３の製造方法としては、図３１Ａに示すように、透明フイルム基材５６上に金属微粒子を含むペースト８０を印刷し、図３１Ｂに示すように、印刷されたペースト８０に、金属めっき８２を行うことによって、導電部５０（メッシュパターンＭ）を形成するようにしてもよい。
　あるいは、第４の製造方法として、図３２に示すように、透明フイルム基材５６に金属薄膜８４をスクリーン印刷版又はグラビア印刷版によって印刷してメッシュパターンＭを形成するようにしてもよい。
　次に、本実施の形態に係る導電性フイルム１４において、特に好ましい態様であるハロゲン化銀写真感光材料を用いる導電性金属薄膜の作製方法を中心にして述べる。
　本実施の形態に係る導電性フイルム１４は、上述したように、透明フイルム基材５６上に感光性ハロゲン化銀塩を含有する乳剤層を有する感光材料を露光し、現像処理を施すことによって露光部及び未露光部に、それぞれ金属銀部７０及び透光部７２を形成し、さらに金属銀部７０に物理現像及び／又はめっき処理を施すことによって金属銀部７０に導電性金属７４を担持させることで製造することができる。
　本実施の形態に係る導電性フイルム１４の形成方法は、感光材料と現像処理の形態によって、次の３通りの形態が含まれる。
（１）　物理現像核を含まない感光性ハロゲン化銀黒白感光材料を化学現像又は物理現像して金属銀部７０を該感光材料上に形成させる態様。
（２）　物理現像核をハロゲン化銀乳剤層中に含む感光性ハロゲン化銀黒白感光材料を物理現像して金属銀部７０を該感光材料上に形成させる態様。
（３）　物理現像核を含まない感光性ハロゲン化銀黒白感光材料と、物理現像核を含む非感光性層を有する受像シートを重ね合わせて拡散転写現像して金属銀部７０を非感光性受像シート上に形成させる態様。
　上記（１）の態様は、一体型黒白現像タイプであり、感光材料上に透光性電磁波シールド膜や光透過性導電膜等の透光性導電膜が形成される。得られる現像銀は化学現像銀又は物理現像銀であり、高比表面のフィラメントである点で後続するめっき又は物理現像過程で活性が高い。
　上記（２）の態様は、露光部では、物理現像核近縁のハロゲン化銀が溶解されて現像核上に沈積することによって感光材料上に透光性導電膜が形成される。これも一体型黒白現像タイプである。現像作用が、物理現像核上への析出であるので高活性であるが、現像銀の比表面は小さい球形である。
　上記（３）の態様は、未露光部においてハロゲン化銀が溶解されて拡散して受像シート上の現像核上に沈積することによって受像シート上に透光性導電膜が形成される。いわゆるセパレートタイプであって、受像シートを感光材料から剥離して用いる態様である。
　いずれの態様もネガ型現像処理及び反転現像処理のいずれの現像を選択することもできる（拡散転写方式の場合は、感光材料としてオートポジ型感光材料を用いることによってネガ型現像処理が可能となる）。
　ここでいう化学現像、熱現像、溶解物理現像、拡散転写現像は、当業界で通常用いられている用語どおりの意味であり、写真化学の一般教科書、例えば菊地真一著「写真化学」（共立出版社、１９５５年刊行）、Ｃ．Ｅ．Ｋ．Ｍｅｅｓ編「Ｔｈｅ　Ｔｈｅｏｒｙ　ｏｆ　Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ　Ｐｒｏｃｅｓｓ，　４ｔｈ　ｅｄ．」（Ｍａｃｍｉｌｌａｎ社、１９７７年刊行）に解説されている。本件は液処理に係る発明であるが、その他の現像方式として熱現像方式を適用する技術も参考にすることができる。例えば、特開２００４－１８４６９３号、同２００４－３３４０７７号、同２００５－０１０７５２号の各公報、特願２００４－２４４０８０号、同２００４－０８５６５５号の各明細書に記載された技術を適用することができる。
（感光材料）
　被めっき素材としての感光材料（感光ウエブ）は、例えば、透明フイルム基材５６上に銀塩（例えばハロゲン化銀）が含有した銀塩含有層を設けた長尺フレキシブル基材である。また、銀塩含有層上には保護層が設けられていてもよく、この保護層とは例えばゼラチンや高分子ポリマーといったバインダからなる層を意味し、擦り傷防止や力学特性を改良する効果を発現するために銀塩含有層上に形成される。保護層の厚みは０．０２～２０μｍであることが好ましい。
　これらの銀塩含有層や保護層の組成等は、銀塩写真フイルム、印画紙、印刷製版用フイルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等に適用されるハロゲン化銀乳剤層（銀塩含有層）や保護層を適宜適用することができる。
　特に、感光材料としては、銀塩写真フイルム（銀塩感光材料）が好ましく、白黒銀塩写真フィルム（白黒銀塩感光材料）が最もよい。また、銀塩含有層に適用する銀塩としては、特にハロゲン化銀が最も好適である。なお、感光材料の幅は、例えば、２０ｃｍ以上とし、厚みは５０～２００μｍとすることがよい。
［透明フイルム基材５６］
　本実施の形態の製造方法に用いられる透明フイルム基材５６としては、フレキシブルなプラスチックフイルムを用いることができる。
　上記プラスチックフイルムの原料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルブチラール、ポリアミド、ポリエーテル、ポリスルフォン、ポリエーテルスルフォン、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ＥＶＡ等のポリオレフィン類、ポリカーボネート、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、アクリル樹脂、ポリイミド、又はアラミド等を用いることができる。
　本実施の形態においては、透光性、耐熱性、取り扱い易さ及び価格の点から、上記プラスチックフイルムはポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フイルム又はトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フイルムであることが好ましい。
　窓ガラス用の透明発熱体では透光性が要求されるため、透明フイルム基材５６の透光性は高いことが望ましい。この場合におけるプラスチックフイルムの全可視光透過率は７０～１００％が好ましく、さらに好ましくは８５～１００％であり、特に好ましくは９０～１００％である。また、本発明では、前記プラスチックフイルムとして本発明の目的を妨げない程度に着色したものを用いることもできる。
　本実施の形態におけるプラスチックフイルムは、単層で用いることもできるが、２層以上を組み合わせた多層フイルムとして用いることも可能である。
［保護層］
　用いられる感光材料は、後述する乳剤層上に保護層を設けていてもよい。本実施の形態において「保護層」とは、ゼラチンや高分子ポリマーといったバインダからなる層を意味し、擦り傷防止や力学特性を改良する効果を発現するために感光性を有する乳剤層に形成される。上記保護層は、めっき処理する上では設けない方が好ましく、設けるとしても薄い方が好ましい。その厚みは０．２μｍ以下が好ましい。上記保護層の塗布方法の形成方法は特に限定されず、公知の塗布方法を適宜選択することができる。
［乳剤層］
　本実施の形態の製造方法に用いられる感光材料は、透明フイルム基材５６上に、光センサとして銀塩を含む乳剤層（銀塩感光層６６）を有することが好ましい。本実施の形態における乳剤層には、銀塩のほか、必要に応じて、染料、バインダ、溶媒等を含有することができる。
　＜銀塩＞
　本実施の形態で用いられる銀塩としては、ハロゲン化銀等の無機銀塩が好ましく、特に銀塩がハロゲン化銀写真感光材料用ハロゲン化銀粒子の形で用いられるのが好ましい。ハロゲン化銀は、光センサとしての特性に優れている。
　ハロゲン化銀写真感光材料の写真乳剤の形で好ましく用いられるハロゲン化銀について説明する。
　本実施の形態では、光センサとして機能させるためにハロゲン化銀を使用することが好ましく、ハロゲン化銀に関する銀塩写真フイルムや印画紙、印刷製版用フイルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等で用いられる技術は、本実施の形態においても用いることができる。
　上記ハロゲン化銀に含有されるハロゲン元素は、塩素、臭素、ヨウ素及びフッ素のいずれであってもよく、これらの組み合わせでもよい。例えば、ＡｇＣｌ、ＡｇＢｒ、ＡｇＩを主体としたハロゲン化銀が好ましく用いられ、さらにＡｇＢｒやＡｇＣｌを主体としたハロゲン化銀が好ましく用いられる。塩臭化銀、沃塩臭化銀、沃臭化銀もまた好ましく用いられる。より好ましくは、塩臭化銀、臭化銀、沃塩臭化銀、沃臭化銀であり、最も好ましくは、塩化銀５０モル％以上を含有する塩臭化銀、沃塩臭化銀が用いられる。
　なお、ここで、「ＡｇＢｒ（臭化銀）を主体としたハロゲン化銀」とは、ハロゲン化銀組成中に占める臭化物イオンのモル分率が５０％以上のハロゲン化銀をいう。このＡｇＢｒを主体としたハロゲン化銀粒子は、臭化物イオンのほかに沃化物イオン、塩化物イオンを含有していてもよい。
　本実施の形態に用いられるハロゲン化銀乳剤は、ＶＩＩＩ族、ＶＩＩＢ族に属する金属を含有してもよい。特に、４以上の階調を得るためや低かぶりを達成するために、ロジウム化合物、イリジウム化合物、ルテニウム化合物、鉄化合物、オスミウム化合物等を含有することが好ましい。
　また、高感度化のためにはＫ4〔Ｆｅ（ＣＮ）6〕やＫ4〔Ｒｕ（ＣＮ）6〕、Ｋ3〔Ｃｒ（ＣＮ）6〕のごとき六シアノ化金属錯体のドープが有利に行われる。
　これらの化合物の添加量はハロゲン化銀１モル当り１０-10～１０-2モル／モルＡｇであることが好ましく、１０-9～１０-3モル／モルＡｇであることがさらに好ましい。
　その他、本実施の形態では、Ｐｄ（ＩＩ）イオン及び／又はＰｄ金属を含有するハロゲン化銀も好ましく用いることができる。Ｐｄはハロゲン化銀粒子内に均一に分布していてもよいが、ハロゲン化銀粒子の表層近傍に含有させることが好ましい。ここで、Ｐｄが「ハロゲン化銀粒子の表層近傍に含有する」とは、ハロゲン化銀粒子の表面から深さ方向に５０ｎｍ以内において、他層よりもパラジウムの含有率が高い層を有することを意味する。
　このようなハロゲン化銀粒子は、ハロゲン化銀粒子を形成する途中でＰｄを添加することにより作製することができ、銀イオンとハロゲンイオンとをそれぞれ総添加量の５０％以上添加した後に、Ｐｄを添加することが好ましい。また、Ｐｄ（ＩＩ）イオンを後熟時に添加する等の方法でハロゲン化銀表層に存在させることも好ましい。
　このＰｄ含有ハロゲン化銀粒子は、物理現像や無電解めっきの速度を速め、所望の発熱体の生産効率を上げ、生産コストの低減に寄与する。Ｐｄは、無電解めっき触媒としてよく知られて用いられているが、本発明では、ハロゲン化銀粒子の表層にＰｄを偏在させることが可能なため、極めて高価なＰｄを節約することが可能である。
　本実施の形態において、ハロゲン化銀に含まれるＰｄイオン及び／又はＰｄ金属の含有率は、ハロゲン化銀の、銀のモル数に対して１０-4～０．５モル／モルＡｇであることが好ましく、０．０１～０．３モル／モルＡｇであることがさらに好ましい。
　使用するＰｄ化合物の例としては、ＰｄＣｌ4や、Ｎａ2ＰｄＣｌ4等が挙げられる。
　本実施の形態では、さらに光センサとしての感度を向上させるため、写真乳剤で行われる化学増感を施すこともできる。化学増感の方法としては、硫黄増感、セレン増感、テルル増感等のカルコゲン増感、金増感等の貴金属増感、還元増感等を用いることができる。これらは、単独又は組み合わせて用いられる。上記化学増感の方法を組み合わせて使用する場合には、例えば、硫黄増感法と金増感法、硫黄増感法とセレン増感法と金増感法、硫黄増感法とテルル増感法と金増感法等の組み合わせが好ましい。
　＜バインダ＞
　乳剤層には、銀塩粒子を均一に分散させ、且つ、乳剤層と支持体との密着を補助する目的でバインダを用いることができる。本発明において、上記バインダとしては、非水溶性ポリマー及び水溶性ポリマーのいずれもバインダとして用いることができるが、水溶性ポリマーを用いることが好ましい。
　上記バインダとしては、例えば、ゼラチン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）、澱粉等の多糖類、セルロース及びその誘導体、ポリエチレンオキサイド、ポリサッカライド、ポリビニルアミン、キトサン、ポリリジン、ポリアクリル酸、ポリアルギン酸、ポリヒアルロン酸、カルボキシセルロース等が挙げられる。これらは、官能基のイオン性によって中性、陰イオン性、陽イオン性の性質を有する。
　乳剤層中に含有されるバインダの含有量は、特に限定されず、分散性と密着性を発揮し得る範囲で適宜決定することができる。例えば、乳剤層中に含有されるバインダの含有量として、銀塩感光層６６中のＡｇ／バインダ体積比が１／４以上になるように調節することが好ましく、１／２以上になるように調節することがさらに好ましい。
　＜溶媒＞
　上記乳剤層の形成に用いられる溶媒は、特に限定されるものではないが、例えば、水、有機溶媒（例えば、メタノール等のアルコール類、アセトン等のケトン類、ホルムアミド等のアミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、酢酸エチル等のエステル類、エーテル類等）、イオン性液体、及びこれらの混合溶媒を挙げることができる。
　本発明の乳剤層に用いられる溶媒の含有量は、前記乳剤層に含まれる銀塩、バインダ等の合計の質量に対して３０～９０質量％の範囲であり、５０～８０質量％の範囲であることが好ましい。
　次に、導電部５０（メッシュパターンＭ）を形成するための各工程について説明する。
［露光］
　本実施の形態では、露光部１８により、透明フイルム基材５６上に設けられた銀塩感光層６６を有する感光材料への露光が行われる。露光は、電磁波を用いて行うことができる。電磁波としては、例えば、可視光線、紫外線等の光、Ｘ線等の放射線等が挙げられる。さらに露光には波長分布を有する光源を利用してもよく、特定の波長の光源を用いてもよい。
　パターン像を形成させる露光方式としては、均一光をマスクパターンを介して感光面に照射してマスクパターンを像様形成させる面露光方式と、レーザ光等のビームを走査してパターン状の照射部を感光性面上に形成させる走査露光方式とがある。
　露光は、種々のレーザビームを用いて行うことができる。例えば、本実施の形態における露光は、ガスレーザ、発光ダイオード、半導体レーザ、半導体レーザ又は半導体レーザを励起光源に用いた固体レーザと非線形光学結晶を組み合わせた第２高調波発光光源（ＳＨＧ）等の単色高密度光を用いた走査露光方式を好ましく用いることができ、さらに、ＫｒＦエキシマレーザ、ＡｒＦエキシマレーザ、Ｆ２レーザ等も用いることができる。システムをコンパクトで、安価なものにするために、露光は、半導体レーザ、半導体レーザあるいは固体レーザと非線形光学結晶を組合わせた第２高調波発生光源（ＳＨＧ）を用いて行うことがより好ましい。特に、コンパクトで、安価、さらに寿命が長く、安定性が高い装置を設計するためには、露光は半導体レーザを用いて行うことが最も好ましい。
　銀塩感光層６６をパターン状に露光する方法は、レーザビームによる走査露光が好ましい。特に特開２０００－３９６７７号公報記載のキャプスタン方式のレーザ走査露光装置が好ましく、さらには該キャプスタン方式においてポリゴンミラーの回転によるビーム走査の代わりに特開２００４－１２２４号公報記載のＤＭＤを光ビーム走査系に用いることも好ましい。特に、３ｍ以上の長尺フレキシブルフイルムヒータを作製する場合には、湾曲した露光ステージ上において、感光材料を搬送しながらレーザビームで露光するのが好ましい。
　メッシュパターンＭは、後述するように、実質的に平行の直線状細線が交叉してなす三角形、四角形（菱形、正方形等）、六角形等の格子紋様や、平行な直線やジグザグ線、波線等、電圧の印加される電極間に電流を流せる構造であれば特に限定されない。
［現像処理］
　本実施の形態では、乳剤層を露光した後、さらに現像処理が行われる。現像処理は、銀塩写真フイルムや印画紙、印刷製版用フイルム、フォトマスク用エマルジョンマスク等に用いられる通常の現像処理の技術を用いることができる。現像液については特に限定はしないが、ＰＱ現像液、ＭＱ現像液、ＭＡＡ現像液等を用いることもでき、市販品では、例えば、富士フイルム社処方のＣＮ－１６、ＣＲ－５６、ＣＰ４５Ｘ、ＦＤ－３、パピトール、ＫＯＤＡＫ社処方のＣ－４１、Ｅ－６、ＲＡ－４、Ｄ－１９、Ｄ－７２等の現像液、又はそのキットに含まれる現像液を用いることができる。
　リス現像液を用いることもできる。リス現像液としては、ＫＯＤＡＫ社処方のＤ８５等を用いることができる。本発明では、上記の露光及び現像処理を行うことにより露光部に金属銀部７０、好ましくはパターン状の金属銀部７０が形成されると共に、未露光部に後述する透光部７２が形成される。
　現像処理で用いられる現像液は、画質を向上させる目的で、画質向上剤を含有することができる。画質向上剤としては、例えばベンゾトリアゾール等の含窒素へテロ環化合物を挙げることができる。また、リス現像液を利用する場合、特に、ポリエチレングリコールを使用することも好ましい。
　現像処理後の露光部に含まれる金属銀の質量は、露光前の露光部に含まれていた銀の質量に対して５０質量％以上の含有率であることが好ましく、８０質量％以上であることがさらに好ましい。露光部に含まれる銀の質量が露光前の露光部に含まれていた銀の質量に対して５０質量％以上であれば、高い導電性を得ることができるため好ましい。
　本実施の形態における現像処理後の階調は、特に限定されるものではないが、４．０を超えることが好ましい。現像処理後の階調が４．０を超えると、透光部の透光性を高く保ったまま、導電性金属部の導電性を高めることができる。階調を４．０以上にする手段としては、例えば、前述のロジウムイオン、イリジウムイオンのドープが挙げられる。
［物理現像及びめっき処理］
　本実施の形態では、上述した露光及び現像処理により形成された金属銀部７０の導電性を向上させる目的で、金属銀部７０に導電性金属粒子を担持させるための物理現像及び／又はめっき処理を行ってもよい。本実施の形態では物理現像又はめっき処理のいずれか一方のみで導電性金属粒子を金属銀部７０に担持させることが可能であるが、さらに物理現像とめっき処理とを組み合わせて導電性金属粒子を金属銀部７０に担持させることもできる。
　本実施の形態における「物理現像」とは、金属や金属化合物の核上に、銀イオン等の金属イオンを還元剤で還元して金属粒子を析出させることをいう。この物理現象は、インスタントＢ＆Ｗフイルム、インスタントスライドフイルムや、印刷版製造等に利用されており、本発明ではその技術を用いることができる。
［カレンダー処理］
　現像処理済みの金属銀部７０（全面金属銀部、金属メッシュパターン部又は金属配線パターン部）にカレンダー処理を施して平滑化するようにしてもよい。これによって金属銀部７０の導電性が顕著に増大する。カレンダー処理は、カレンダーロールにより行うことができる。カレンダーロールは通常一対のロールからなる。
　カレンダー処理に用いられるロールとしては、エポキシ、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等のプラスチックロール又は金属ロールが用いられる。特に、両面に乳剤層を有する場合は、金属ロール同士で処理することが好ましい。片面に乳剤層を有する場合は、シワ防止の点から金属ロールとプラスチックロールの組み合わせとすることもできる。線圧力の上限値は１９６０Ｎ／ｃｍ（２００ｋｇｆ／ｃｍ、面圧に換算すると６９９．４ｋｇｆ／ｃｍ2）以上、さらに好ましくは２９４０Ｎ／ｃｍ（３００ｋｇｆ／ｃｍ、面圧に換算すると９３５．８ｋｇｆ／ｃｍ2）以上である。線圧力の上限値は、６８８０Ｎ／ｃｍ（７００ｋｇｆ／ｃｍ）以下である。
　カレンダーロールで代表される平滑化処理の適用温度は１０℃（温調なし）～１００℃が好ましく、より好ましい温度は、金属メッシュパターンや金属配線パターンの画線密度や形状、バインダ種によって異なるが、おおよそ１０℃（温調なし）～５０℃の範囲にある。
［蒸気接触処理］
　カレンダー処理の直前あるいは直後に蒸気に接触させるとカレンダー処理による効果をより引き出すことができる。すなわち、導電性を著しく向上させることができる。使用する蒸気の温度は８０℃以上が好ましく、１００℃以上１４０℃以下がさらに好ましい。蒸気への接触時間は１０秒から５分程度が好ましく、１分から５分がさらに好ましい。
　なお、本発明は、下記表１及び表２に記載の公開公報及び国際公開パンフレットの技術と適宜組み合わせて使用することができる。「特開」、「号公報」、「号パンフレット」等の表記は省略する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
　以下に、本発明の実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。なお、以下の実施例に示される材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
［ハロゲン化銀感光材料］
　水媒体中のＡｇ６０ｇに対してゼラチン１０．０ｇを含む、球相当径平均０．１μｍの沃臭塩化銀粒子（Ｉ＝０．２モル％、Ｂｒ＝４０モル％）を含有する乳剤を調製した。
　また、この乳剤中にはＫ3Ｒｈ2Ｂｒ9及びＫ2ＩｒＣｌ6を濃度が１０-7（モル／モル銀）になるように添加し、臭化銀粒子にＲｈイオンとＩｒイオンをドープした。この乳剤にＮａ2ＰｄＣｌ4を添加し、さらに塩化金酸とチオ硫酸ナトリウムを用いて金硫黄増感を行った後、ゼラチン硬膜剤と共に、銀の塗布量が１ｇ／ｍ2となるようにポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）上に塗布した。この際、Ａｇ／ゼラチン体積比は１／２とした。
　幅３０ｃｍのＰＥＴ支持体に２５ｃｍの幅で２０ｍ分塗布を行ない、塗布の中央部２４ｃｍを残すように両端を３ｃｍずつ切り落としてロール状のハロゲン化銀感光材料を得た。
［露光パターンの作成］
　本実施の形態で説明したＳＡ法（図１０、図２４等参照）を用いて、不規則に配置された配線からなる第１メッシュパターンＭ１（図２８Ａ参照）及び第２メッシュパターンＭ２（図２８Ｂ参照）を表す出力用画像データＩｍｇＯｕｔをそれぞれ作成した。
　第１メッシュパターンＭ１及び第２メッシュパターンＭ２の設定条件は、全体透過率９３％、透明フイルム基材５６の厚さを２０μｍ、金属細線５４の幅を２０μｍ、金属細線５４の厚さを１０μｍとした。パターンサイズを縦横とも５ｍｍ、画像解像度を３５００ｄｐｉ（ｄｏｔ　ｐｅｒ　ｉｎｃｈ）とした。シード点ＳＤの初期位置はメルセンヌ・ツイスタを用いてランダムに決定し、ボロノイ図を用いて多角形状の各メッシュ領域を画定した。評価値ＥＶＰは画像データＩｍｇの色値Ｌ*、色値ａ*、色値ｂ*に基づいて算出した。そして、同一の出力画像データＩｍｇＯｕｔを上下方向及び左右方向に並べて配置することで、周期的な露光パターンを形成した。
　一方、ブラックマトリクス５９の設定条件は、光学濃度を４．５Ｄ、単位画素６０の縦サイズ、横サイズをともに２００μｍ、遮光材６１ｖの幅、遮光材６１ｖの幅をともに２０μｍとした。
　第１に、図６の設定画面１６０でラジオボタン１６２ｂを選択し、「マトリクスの有無」を「なし」に設定した上で、出力用画像データＩｍｇＯｕｔを作成した。その結果、図２８Ａに示すメッシュパターンＭ１の模様を表す出力用画像データＩｍｇＯｕｔが得られた。
　第２に、図６の設定画面１６０でラジオボタン１６２ａを選択し、「マトリクスの有無」を「あり」に設定した上で、出力用画像データＩｍｇＯｕｔを作成した。その結果、図２８Ｂに示すメッシュパターンＭ２の模様を表す出力用画像データＩｍｇＯｕｔが得られた。
［露光］
　ハロゲン化銀感光材料に対する露光パターンの露光は、特開２００４－１２２４号公報の発明の実施の形態記載のＤＭＤ（デジタル・ミラー・デバイス）を用いた露光ヘッドを２５ｃｍ幅になるように並べ、感光材料の感光層上にレーザ光が結像するように露光ヘッド及び露光ステージを湾曲させて配置し、感材送り出し機構及び巻取り機構を取り付けた上、露光面のテンション制御及び巻取り、送り出し機構の速度変動が露光部分の速度に影響しないようにバッファ作用を有する撓みを設けた連続露光装置にて行った。露光の波長は４００ｎｍで、ビーム形は１２μｍの略正方形、及びレーザ光源の出力は１００μＪであった。
［現像液の組成］
　現像液１リットル中に、以下の化合物が含まれる。
　　　ハイドロキノン　　　　　　　　　　　　２０　ｇ
　　　亜硫酸ナトリウム　　　　　　　　　　　５０　ｇ
　　　炭酸カリウム　　　　　　　　　　　　　４０　ｇ
　　　エチレンジアミン・四酢酸　　　　　　　　２　ｇ
　　　臭化カリウム　　　　　　　　　　　　　　３　ｇ
　　　ポリエチレングリコール２０００　　　　　１　ｇ
　　　水酸化カリウム　　　　　　　　　　　　　４　ｇ
　　　ｐＨ　　　　　　　　　　　　　　１０．３に調整
［定着液の組成］
　定着液１リットル中に、以下の化合物が含まれる。
　　　チオ硫酸アンモニウム液（７５％）　　３００　ｍｌ
　　　亜硫酸アンモニウム・１水塩　　　　　　２５　ｇ
　　　１，３－ジアミノプロパン・四酢酸　　　　８　ｇ
　　　酢酸　　　　　　　　　　　　　　　　　　５　ｇ
　　　アンモニア水（２７％）　　　　　　　　　１　ｇ
　　　ｐＨ　　　　　　　　　　　　　　　６．２に調整
［現像処理］
　上記処理剤を用いて露光済み感材を、富士フイルム社製自動現像機　ＦＧ－７１０ＰＴＳを用いて処理条件：現像３５℃　３０秒、定着３４℃　２３秒、水洗　流水（５Ｌ／分）の２０秒処理で行った。
　ランニング条件として、感材の処理量を１００ｍ2／日で現像液の補充を５００ｍｌ／ｍ2、定着液を６４０ｍｌ／ｍ2で３日間行った。このとき、めっき処理後の銅のパターンが１２μｍ線幅３００ミクロンピッチであることが確認された。
　さらに、めっき液（硫酸銅０．０６モル／Ｌ，ホルマリン０．２２モル／Ｌ，トリエタノールアミン０．１２モル／Ｌ，ポリエチレングリコール１００ｐｐｍ、黄血塩５０ｐｐｍ、α、α‘－ビピリジン２０ｐｐｍを含有する、ｐＨ＝１２．５の無電解Ｃｕめっき液）を用い、４５℃にて無電解銅めっき処理を行った後、１０ｐｐｍのＦｅ（ＩＩＩ）イオンを含有する水溶液で酸化処理を行ない、導電性フイルムの各試料を得た。
　以下、第１メッシュパターンＭ１を有する導電性フイルム１４を第１サンプルといい、第２メッシュパターンＭ２を有する導電性フイルム１４を第２サンプルという。パターンＰＴ１～ＰＴ３を有する導電性フイルム１４を第３～第５サンプルという。
［評価］
（表面抵抗測定）
　表面抵抗率の均一性を評価するために、導電性フイルム１４の表面抵抗率をダイアインスツルメンツ社製ロレスターＧＰ（型番ＭＣＰ－Ｔ６１０）直列４探針プローブ（ＡＳＰ）にて任意の１０箇所測定した値の平均値である。
（ノイズ感の評価）
　市販のカラー液晶ディスプレイ（画面サイズ４．７型、６４０×４８０ドット）を使用する。第１及び第２サンプルを貼付したタッチパネルを前記液晶ディスプレイに組み込み、液晶パネルの裏面から補助光としてのＬＥＤランプを点灯させ、表示画面を観察し、ノイズ感の目視評価を行った。ノイズ感の視認性は液晶パネルの正面側から観察距離３００ｍｍで行った。
［結果］
　１０枚の第１～第５サンプルともに、表面抵抗率も透明電極として十分に実用化できるレベルであり、透光性も良好であった。特に、表面抵抗率のばらつきが最も小さかったのは、第４及び第５サンプル（本発明に係る導電性フイルム１４）であった。
　ノイズ感の視認性に関し、第１サンプル、第２サンプル、第５サンプル、第３サンプル、第４サンプルの順番で高い評価結果が得られた。この順番は、図１８に示すスペクトルＳｐｃのピークがなす面積が小さい順番に一致している。特に、第１サンプル（本発明に係る導電性フイルム１４）でのノイズ感が一層目立たないことを確認した。
　さらに、液晶パネルの代わりに透明板を用いて、上記ＬＥＤランプ越しに光を観察して、同様の目視評価を行ったところ、第１サンプルは、第２サンプルよりもノイズ感が一層目立たないことを確認した。すなわち、導電性フイルム１４の視認態様（例えば、赤色フィルタ５８ｒ等のカラーフィルタやブラックマトリクス５９の有無）に応じて、メッシュパターンＭの模様が最適化されていることが諒解される。
　このように、所定の二次元画像領域２００の中から複数の位置（シード点ＳＤ）を選択し、選択された前記複数の位置（シード点ＳＤ）に基づいてメッシュパターンＭの模様を表す画像データＩｍｇを作成し、作成された画像データＩｍｇに基づいて、メッシュパターンＭのノイズ特性について定量化した評価値ＥＶＰを算出し、算出された評価値ＥＶＰと所定の評価条件とに基づいて１つの画像データＩｍｇを出力用画像データＩｍｇＯｕｔとして決定し、決定された出力用画像データＩｍｇＯｕｔに基づいて透明フイルム基材５６上に線材を出力形成するようにしたので、前記所定の評価条件を満たすノイズ特性を有するメッシュパターンＭの形状を決定できる。換言すれば、メッシュパターンＭのノイズ特性を適切に制御することで、ノイズ感を低減できる。
　また、各メッシュの重心スペクトルＳｐｃｃに関して、所定の空間周波数Ｆｂよりも高い空間周波数帯域側における平均強度ＰHが、前記所定の空間周波数Ｆｂよりも低い空間周波数帯域側における平均強度ＰLよりも大きくなるように、メッシュパターンＭが形成されているので、低空間周波数帯域側と比べて高空間周波数帯域側のノイズ量が相対的に大きくなっている。人間の視覚は、低空間周波数帯域での応答特性は高いが、中～高空間周波数帯域において応答特性が急激に低下する性質を有するので、人間にとって視覚的に感じられるノイズ感が減少する。これにより、導電性フイルム１４が有するパターンに起因するノイズ粒状感を低減可能であり、観察対象物の視認性を大幅に向上できる。また、多角形状のメッシュを複数備えているので、断裁後における各配線（金属細線５４）の断面形状も略一定であり、安定した通電性能を有する。
　なお、この発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、この発明の主旨を逸脱しない範囲で自由に変更できることは勿論である。
　パターン材はブラックマトリクスに限られず、種々の用途に応じた種々の構造パターンの形状に対して本発明が適用できることはいうまでもない。

Claims (19)

  1. 　所定の二次元画像領域（２００）の中から複数の位置（ＳＤ）を選択する位置選択ステップと、
    　選択された前記複数の位置（ＳＤ）に基づいてメッシュパターン（Ｍ、Ｍ１、Ｍ２）の模様を表す画像データ（Ｉｍｇ、ＩｍｇＩｎｉｔ、ＩｍｇＴｅｍｐ、ＩｍｇＴｅｍｐ’）を作成する画像データ作成ステップと、
    　作成された前記画像データ（Ｉｍｇ、ＩｍｇＩｎｉｔ、ＩｍｇＴｅｍｐ、ＩｍｇＴｅｍｐ’）に基づいて、前記メッシュパターン（Ｍ、Ｍ１、Ｍ２）のノイズ特性について定量化した評価値（ＥＶＰ）を算出する評価値算出ステップと、
    　算出された前記評価値（ＥＶＰ）及び所定の評価条件に基づいて１つの前記画像データ（Ｉｍｇ）を出力用画像データ（ＩｍｇＯｕｔ）として決定する画像データ決定ステップと、
    　決定された前記出力用画像データ（ＩｍｇＯｕｔ）に基づいて基材（５６）上に線材（５０）を出力形成し、前記メッシュパターン（Ｍ、Ｍ１、Ｍ２）を有する導電性フイルム（１４）を製造する形成ステップと
    　を備えることを特徴とする導電性フイルム（１４）の製造方法。
  2. 　請求項１記載の製造方法において、
    　前記メッシュパターン（Ｍ、Ｍ１、Ｍ２）の模様と異なる模様を有する構造パターンを形成するパターン材（５９）を前記導電性フイルム（１４）に重畳して視認する場合における、前記構造パターンの視認性に関わる前記パターン材（５９）の視認情報を入力する構造パターン入力ステップと、
    　入力された前記パターン材（５９）の視認情報に基づいて前記構造パターンの画像情報を推定する画像情報推定ステップと、を備え、
    　前記画像データ作成ステップでは、推定された前記構造パターンの画像情報に基づいて、前記メッシュパターン（Ｍ、Ｍ１、Ｍ２）に前記構造パターンを重畳した模様を表す前記画像データ（ＩｍｇＴｅｍｐ’）を作成する
    　ことを特徴とする導電性フイルム（１４）の製造方法。
  3. 　請求項２記載の製造方法において、
    　前記パターン材（５９）の視認情報には、該パターン材（５９）の種類、色値、光透過率若しくは光反射率、又は前記パターン構造の配設位置、単位形状若しくは単位サイズの少なくとも１つが含まれることを特徴とする導電性フイルム（１４）の製造方法。
  4. 　請求項２又は３に記載の製造方法において、
    　前記パターン材（５９）は、ブラックマトリクスであることを特徴とする導電性フイルム（１４）の製造方法。
  5. 　請求項１～４のいずれか１項に記載の製造方法において、
    　前記メッシュパターン（Ｍ、Ｍ１、Ｍ２）の視認性に関わる前記線材（５０）の視認情報を入力する第１入力ステップと、
    　前記メッシュパターン（Ｍ、Ｍ１、Ｍ２）の視認性に関わる前記基材（５６）の視認情報を入力する第２入力ステップと、
    　入力された前記線材（５０）及び前記基材（５６）の視認情報に基づいて前記メッシュパターン（Ｍ、Ｍ１、Ｍ２）の画像情報を推定する推定ステップと、を備え、
    　前記画像データ作成ステップでは、推定された前記メッシュパターン（Ｍ、Ｍ１、Ｍ２）の画像情報に基づいて前記画像データ（Ｉｍｇ、ＩｍｇＩｎｉｔ、ＩｍｇＴｅｍｐ、ＩｍｇＴｅｍｐ’）を作成する
    　ことを特徴とする導電性フイルム（１４）の製造方法。
  6. 　請求項１～５のいずれか１項に記載の製造方法において、
    　前記評価値（ＥＶＰ）は、粒状度を表す評価値であることを特徴とする導電性フイルム（１４）の製造方法。
  7. 　請求項６記載の製造方法において、
    　前記評価値（ＥＶＰ）は、ＲＭＳ粒状度であることを特徴とする導電性フイルム（１４）の製造方法。
  8. 　請求項７記載の製造方法において、
    　前記評価値（ＥＶＰ）は、人間の視覚応答特性関数により補正されたＲＭＳ粒状度であることを特徴とする導電性フイルム（１４）の製造方法。
  9. 　請求項８記載の製造方法において、
    　前記人間の視覚応答特性関数は、ドゥーリー・ショー関数であることを特徴とする導電性フイルム（１４）の製造方法。
  10. 　請求項８又は９に記載の製造方法において、
    　前記補正されたＲＭＳ粒状度は、前記画像データ（Ｉｍｇ、ＩｍｇＩｎｉｔ、ＩｍｇＴｅｍｐ、ＩｍｇＴｅｍｐ’）に対して、前記人間の視覚応答特性関数に対応するフィルタ処理を施して得られた新たな画像データを用いて算出されたＲＭＳ粒状度であることを特徴とする導電性フイルム（１４）の製造方法。
  11. 　請求項１～１０のいずれか１項に記載の製造方法において、
    　前記画像データ作成ステップでは、ドロネー三角形分割法を用いて前記複数の位置（ＳＤ）からメッシュ状の模様を形成し、該模様を表す画像データ（Ｉｍｇ、ＩｍｇＩｎｉｔ、ＩｍｇＴｅｍｐ、ＩｍｇＴｅｍｐ’）を作成することを特徴とする導電性フイルム（１４）の製造方法。
  12. 　請求項１～１０のいずれか１項に記載の製造方法において、
    　前記画像データ作成ステップでは、ボロノイ図を用いて前記複数の位置（ＳＤ）からメッシュ状の模様を形成し、該模様を表す画像データ（Ｉｍｇ、ＩｍｇＩｎｉｔ、ＩｍｇＴｅｍｐ、ＩｍｇＴｅｍｐ’）を作成することを特徴とする導電性フイルム（１４）の製造方法。
  13. 　請求項１～１２のいずれか１項に記載の製造方法において、
    　前記評価値（ＥＶＰ）に基づいて前記複数の位置（ＳＤ）のうちの一部を別の位置（ＳＰ）にそれぞれ更新する位置更新ステップを備え、
    　前記位置更新ステップ、前記画像データ作成ステップ及び前記評価値算出ステップを順次繰り返し、前記画像データ決定ステップにより前記出力用画像データ（ＩｍｇＯｕｔ）を決定する
    　ことを特徴とする導電性フイルム（１４）の製造方法。
  14. 　請求項１３記載の製造方法において、
    　前記位置更新ステップでは、擬似焼きなまし法を用いて、前記複数の位置（ＳＤ）のうちの一部を別の位置（ＳＰ）にそれぞれ更新することを特徴とする導電性フイルム（１４）の製造方法。
  15. 　請求項１～１４のいずれか１項に記載の製造方法を用いて製造することを特徴とする導電性フイルム（１４）。
  16. 　多角形状のメッシュを複数備えるメッシュパターン（Ｍ、Ｍ１、Ｍ２）を有する導電性フイルム（１４）であって、
    　各前記メッシュの重心位置分布のパワースペクトル（Ｓｐｃｃ）に関して、所定の空間周波数（Ｆｂ）よりも高い空間周波数帯域側における平均強度（ＰH）が、前記所定の空間周波数（Ｆｂ）よりも低い空間周波数帯域側における平均強度（ＰL）よりも大きくなるように、前記メッシュパターン（Ｍ、Ｍ１、Ｍ２）が形成されていることを特徴とする導電性フイルム（１４）。
  17. 　請求項１６記載の導電性フイルム（１４）において、
    　前記所定の空間周波数（Ｆｂ）は、人間の視覚応答特性が最大応答の５％に相当する空間周波数であることを特徴とする導電性フイルム（１４）。
  18. 　請求項１７記載の導電性フイルム（１４）において、
    　前記人間の視覚応答特性は、明視距離が３００ｍｍでのドゥーリー・ショー関数に基づいて得られる視覚応答特性であり、
    　前記所定の空間周波数（Ｆｂ）は６ｃｙｃｌｅ／ｍｍである
    　ことを特徴とする導電性フイルム（１４）。
  19. 　コンピュータに、導電性フイルム（１４）の製造に供される出力用画像データ（ＩｍｇＯｕｔ）を作成させるプログラムを格納した記録媒体であって、
    　前記プログラムは、
    　コンピュータを、
    　所定の二次元画像領域（２００）の中から複数の位置（ＳＤ）を選択する位置選択部（２８、３０）、
    　前記位置選択部（２８、３０）により選択された前記複数の位置（ＳＤ）に基づいてメッシュパターン（Ｍ、Ｍ１、Ｍ２）の模様を表す画像データ（Ｉｍｇ、ＩｍｇＩｎｉｔ、ＩｍｇＴｅｍｐ、ＩｍｇＴｅｍｐ’）を作成する画像データ作成部（３８）、
    　前記画像データ作成部（３８）により作成された前記画像データ（Ｉｍｇ、ＩｍｇＩｎｉｔ、ＩｍｇＴｅｍｐ、ＩｍｇＴｅｍｐ’）に基づいて、前記メッシュパターン（Ｍ、Ｍ１、Ｍ２）のノイズ特性について定量化した評価値（ＥＶＰ）を算出する評価値算出部（１０２）、
    　前記評価値算出部（１０２）により算出された前記評価値（ＥＶＰ）及び所定の評価条件に基づいて１つの前記画像データ（Ｉｍｇ）を出力用画像データ（ＩｍｇＯｕｔ）として決定する画像データ決定部（１１６）
    　として機能させる
    　ことを特徴とする記録媒体。
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