CN104662500A - 导电膜、具备该导电膜的触摸屏以及显示装置 - Google Patents

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Abstract

导电膜是设置于显示装置的显示单元上，且包括：一个以上的透明基体；及两层以上的配线层，呈层状配置于透明基体的两面或两个以上的透明基体的各单面，且具有规则性排列。将配线层的配线图案重叠于显示单元的像素阵列图案，且将下层的配线图案相对于上层偏移相位地配置。当将利用配线图案的空间频率特性与像素阵列图案的空间频率特性卷积所得的叠纹的空间频率的最低频率设为第1最低频率fm1，且将利用配线图案的一半的空间频率特性与像素阵列图案的空间频率特性卷积所得的叠纹的空间频率的最低频率设为第2最低频率fm2时，为fm1≤fm2。

Description

导电膜、具备该导电膜的触摸屏以及显示装置
技术领域
本发明涉及一种用于触控传感器(touch sensor)、触摸屏(touch panel)等的导电膜、具备该导电膜的触摸屏以及显示装置，尤其涉及一种不依存于视角(观察角)而减少叠纹(moire)产生的导电膜、具备该导电膜的触摸屏以及显示装置。
背景技术
作为设置于显示装置(以下也称为显示器(display))的显示单元(display unit)上的导电膜，例如可列举电磁波屏蔽(electromagnetic wave shield)用导电膜及触摸屏用导电膜等(例如参照专利文献1及专利文献2)。
在专利文献1中，揭示有提供如下配线图案的技术：该配线图案是在生成电磁波屏蔽膜的配线图案时，仅根据显示器的黑色矩阵(black matrix)图案与配线图案的频率信息，控制叠纹频率，且可见性优异。
在专利文献1中，具体而言，揭示有如下内容：自动选定利用第2图案数据(pattern data)生成的第2图案，该第2图案数据是显示器的像素阵列图案(例如黑色矩阵(以下也称为BM)图案)等第1图案、及例如电磁波屏蔽图案等第2图案的各自图案数据的二维傅立叶频谱(二维高速傅立叶变换频谱(2DFFTSp，Two Dimensional Fast Fourier Transform Spectrum))的频谱峰值(spectrum peak)间的相对距离超过规定的空间频率、例如8cm-1者。
再者，在专利文献1中，也揭示有如下内容：当上述相对距离未超过规定的空间频率的情形时，重复进行使第2图案数据的旋转角度、间距(pitch)、图案宽度中的一个以上变化，生成新的第2图案数据的处理，直至上述相对距离超过规定的空间频率为止。
以此方式，在专利文献1中，可自动地选定可抑制叠纹产生，也可避免表面电阻率增大及透明性劣化的电磁波屏蔽图案。
专利文献2的触摸屏用导电薄片包括：第1导电部，形成于基体的其中一个主面；及第2导电部，形成于基体的另一个主面。第1导电部是分别在第1方向延伸且排列于与第1方向正交的第2方向，并且包括两个以上的第1透明导电图案。第2导电部是分别在第2方向延伸且排列于第1方向，并且包括两个以上的第2透明导电图案。当自上面观察时，设为将第1透明导电图案与第2透明导电图案交叉地配置的形态，且在与第1方向及第2方向不同的方向上偏移。由此，在专利文献2中，成为多个空间频率结合所得的形态，其结果，与液晶显示装置的像素阵列的干涉得以抑制，有效地减少叠纹产生。
[现有技术文献]
[专利文献]
[专利文献1]日本专利特开2009-117683号公报
[专利文献2]日本专利特开2011-237839号公报
发明内容
[发明所要解决的问题]
专利文献1是将电磁波屏蔽者，且电磁波屏蔽图案仅存在于一层。此处，在电磁波屏蔽图案为两层以上的情形时，必须考虑正面观察时叠纹的减少、及视角变更时叠纹的减少。
然而，专利文献1是仅一层的叠纹最佳化手法，无法适用于存在多层配线的触摸屏等。
另外，在专利文献2中，虽对两层结构的透明导电图案的叠纹进行了考量，但对视角变化时的叠纹未进行任何考量。
如此般，现状如下所述：在存在多层配线图案的触摸屏等中，尚无对因视角变化引起的叠纹的产生、及降低叠纹产生而进行考量者。
本发明的目的在于提供一种可不依存于视角(观察角)地减少叠纹产生，尤其即便重叠于显示面板等的显示单元也可发挥优异可见性的导电膜、具备该导电膜的触摸屏及显示装置。
[解决问题的技术手段]
为实现上述目的，本发明的第1实施方式提供一种导电膜，该导电膜是设置于显示装置的显示单元上者，其特征在于包括：一个或两个以上的透明基体；及两层以上的配线层，形成于一个透明基体的两面或两个以上的透明基体各自的其中一个单面，且配置为层状，具有规则性排列；且配线层的配线图案重叠于显示单元的像素阵列图案，将下层配线层的配线图案相对于上层偏移相位而配置，当将利用配线层的配线图案的空间频率特性与显示单元的像素阵列图案的空间频率特性卷积所得的叠纹的空间频率中的最低频率设为第1最低频率fm1，且将利用配线层的配线图案的一半的空间频率特性与显示单元的像素阵列图案的空间频率特性卷积所得的叠纹的空间频率中的最低频率设为第2最低频率fm2时，为fm1≤fm2。
此处，优选为配线层的配线图案的空间频率特性是相对于透明基体垂直的方向上的空间频率特性，且配线层的配线图案的一半的空间频率特性是相对于透明基体倾斜规定角度的方向上的空间频率特性。
另外，优选为在透明基体的两面形成有配线层。
另外，优选为层叠有多层在其中一个面形成有配线层的透明基体。
另外，优选为配线层具有形成为网状且排列有多个开口部的配线图案。
另外，优选为像素阵列图案为显示单元的黑色矩阵图案。
另外，为实现上述目的，本发明的第2实施方式提供一种触摸屏，该触摸屏的特征在于包括：本发明第1实施方式的导电膜；以及检测控制部，在形成有配线层的区域，检测自外部接触于导电膜的位置。
另外，为实现上述目的，本发明的第3实施方式提供一种显示装置，该显示装置的特征在于包括：显示单元；以及本发明的第1实施方式的导电膜，设置于该显示单元上。
另外，为实现上述目的，本发明的第4实施方式提供一种显示装置，该显示装置的特征在于包括：显示单元；以及本发明的第1实施方式的导电膜，设置于该显示单元上。
[发明的效果]
根据本发明，不仅在正面，而且在使视角变化的情形时，也可不依存于视角地减少叠纹。尤其，根据本发明，可提供一种即便重叠于显示面板等的显示单元也可使可见性提升从而发挥优异的可见性的导电膜、触摸屏及显示装置。
由此，对于具备本发明的导电膜的触摸屏及显示装置，可使画质进一步提升。
附图说明
图1是表示本发明实施形态的显示装置的一例的示意图。
图2(a)是表示本发明实施形态的导电膜的一例的示意性剖面图，图2(b)是表示本发明实施形态的导电膜的配线图案的一例的示意图。
图3是表示本发明实施形态的导电膜的另一例的示意性剖面图。
图4是表示应用本发明的导电膜的液晶显示部的一部分像素阵列图案的一例的示意图。
图5是表示在图2(a)所示的导电膜中因视角差异而产生的配线图案像的示意图。
图6是表示叠纹的频率峰值位置的图表。
图7(a)是表示视角为0°的配线图案的示意图，图7(b)是表示图7(a)所示的配线图案的空间频率特性的图。
图8(a)是表示视角不为0°的配线图案的示意图，图8(b)是表示图8(a)所示的配线图案的空间频率特性的图。
图9(a)是表示视角为0°的配线图案的示意图，图9(b)是表示图9(a)所示的配线图案的空间频率特性的图。
图10(a)是表示视角不为0°的配线图案的示意图，图10(b)是表示图10(a)所示的配线图案的空间频率特性的图。
图11(a)及图11(b)是分别表示满足本发明的叠纹的空间频率条件即第1最低频率fm1≤第2最低频率fm2的、本发明例的正面观察图像及斜向观察图像的一例的图。
图12(a)及图12(b)是表示不满足本发明的叠纹的空间频率条件即第1最低频率fm1≤第2最低频率fm2的、比较例的正面观察图像及斜向观察图像的一例的图。
图13是表示本发明实施形态的导电膜配线图案的决定方法的一例的流程图。
图14(a)是表示本发明实施形态的显示单元的像素阵列图案的一例的示意图，图14(b)是表示重叠于图14(a)的像素阵列图案的导电膜的配线图案的一例的示意图，图14(c)是图14(a)的像素阵列图案的局部放大图。
图15是表示黑色矩阵的像素阵列图案的透过率图象数据的二维傅立叶频谱的空间频率特性的示意图。
具体实施方式
以下，基于随附图式所示的优选实施形态，对本发明的导电膜、具备该导电膜的触摸屏及显示装置进行详细说明。
以下，关于本发明的导电膜，以使用液晶显示面板(LCD：Liquid Crystal Display Panel)作为显示面板的触摸屏用导电膜为代表例进行说明，但本发明并不限定于此，只要为设置于下述各种显示装置的显示单元上的导电膜，则不限定于触摸屏用导电膜，任意者均可，例如当然也可为电磁波屏蔽用导电膜等。
图1是表示本发明实施形态的显示装置的示意图。图2(a)是表示本发明实施形态的导电膜的一例的示意性剖面图，图2(b)是表示本发明实施形态的导电膜的配线图案的一例的示意图。
如图1所示，本实施形态的显示装置10包括面板状的触控传感器12(触摸屏)、及显示单元14。
此处，触控传感器12具备依序层叠的第1粘着层16、本实施形态的导电膜18、第2粘着层20、及保护层22、以及经由电缆21电性连接于导电膜18的检测控制部23。此处，触控传感器12宜为介隔第1粘着层16或粘合层贴附于显示单元14上，但也可仅载置于该显示单元14上。
另外，显示单元14具备：背光(backlight)单元(BLK)24，射出面状照明光；以及液晶显示胞(LCC)26，利用背光单元24而自背面受到照明，且构成显示部。
如图1所示，本实施形态的导电膜18是设置于显示装置10的显示单元14上，且具有如下配线图案的导电膜，该配线图案在对显示单元14的下述液晶显示胞26的像素阵列、及黑色矩阵(以下也称为BM)抑制叠纹产生的方面优异，尤其当重叠于黑色矩阵图案(以下也称为BM图案)时对该BM图案，可不依存于视角地减少叠纹的产生，使可见性提升。
如图2(a)所示，导电膜18包括：透明基体30；配线层34a及配线层34b，形成于透明基体30的表面30a及背面30b的各面，且由多条金属制细线(以下称为金属细线)32形成。
透明基体30包含具有绝缘性且透光性高的材料，例如可列举树脂、玻璃(glass)及硅(silicon)等材料。作为树脂，例如可列举聚对苯二甲酸乙二酯(Polyethylene Terephthalate，PET)、聚甲基丙烯酸甲酯(Polymethyl methacrylate，PMMA)、聚丙烯(polypropylene，PP)及聚苯乙烯(polystyrene，PS)等。透明基体30的厚度d为100μm～150μm左右。
另外，透明基体30为至少一层即可。
配线层34a及配线层34b具有相同或同样的配线图案35，且以下层的配线层34b的金属细线32位于上层的配线层34a的相邻的两根金属细线32之间的方式，将下层的配线层34b相对于上层的配线层34a偏移相位地配置。例如下层的配线层34b是相对于上层的配线层34a偏移一半(1/2)间距地配置。具体而言，如图2(a)所示，以下层的配线层34b的金属细线32位于上层的配线层34a的相邻的两根金属细线32之间的中心的方式配置。在本说明书中，将此种配线层34a及配线层34b的配置状态称为下层的配线层34b相对于上层的配线层34a成为嵌套的状态。即，下层的配线图案35是相对于上层的配线图案35偏移相位地配置，而成为嵌套。
配线层34a及配线层34b在总称时以配线层34表示，但例如图2(b)所示，具有利用多根金属细线32而形成为网状且排列有多个开口部36的配线图案35。
构成配线层34(配线层34a及配线层34b)的金属细线32只要为导电性高的金属制细线，则无特别限定，例如可列举包含金(Au)、银(Ag)或铜(Cu)线材等者。金属细线32的线宽就可见性的方面而言优选为线宽较细者，但例如若为30μm以下即可。再者，在触摸屏用途中，金属细线32的线宽优选为0.1μm以上、15μm以下，更优选为1μm以上、9μm以下，进而优选为2μm以上、7μm以下。
在图2(b)所示的例中，配线层34中的开口部36的网形状为菱形，但本发明并不限定于此，若可构成相对于下述规定的BM图案将叠纹可见性最佳化的配线层34，且若为具有至少三边的多边形状，则任意形状均可。另外，配线层34可为同一网形状，也可为不同的网形状，例如可列举正三角形或等腰三角形等三角形、正方形或长方形等四边形(矩形)、五边形或六边形等同一或不同的多边形等。
在图1所示的触控传感器12中，在导电膜18的透明基体30(参照图2(a))的背面30b(参照图2(a))，以覆盖配线层34b(参照图2(a))的方式设置有第1粘着层16。再者，也可变为第1粘着层16而设置PET膜等树脂膜或玻璃板等。在此情形时，将触控传感器12的导电膜18介隔树脂膜或玻璃板而设置于显示单元14的液晶显示胞26的显示面。
在透明基体30(参照图2(a))的表面30a(参照图2(a))，以覆盖配线层34a(参照图2(a))的方式设置有第2粘着层20(参照图1)。
作为第1粘着层16、第2粘着层20的材料，若为具有粘着性或粘合性的树脂材料即可，可列举湿式层合(wet laminate)粘合剂、干式层合(dry laminate)粘合剂、或热熔(hot melt)粘合剂等。
再者，第1粘着层16、及第2粘着层20可为同一材质，也可为不同材质。
在第2粘着层20上设置有保护层22。该保护层22是用以保护导电膜18者，且与上述的透明基体30同样地包含含有树脂、玻璃或硅等的透光性高的材料，例如包括透明的树脂膜或玻璃板等。保护层22的折射率n1优选为等于或接近于透明基体30的折射率n0的值。在此情形时，透明基体30对于保护层22的相对折射率nr1成为接近1的值。
此处，本说明书中的折射率意指波长589.3nm(钠(sodium)的D线)的光的折射率，例如在树脂中，以作为国际标准规格的国际标准组织(International Organization forStandardization，ISO)14782：1999(与日本工业标准(Japanese Industrial Standard，JIS)K 7105对应)定义。另外，透明基体30对于保护层22的相对折射率nr1是以nr1＝(n1/n0)定义。此处，相对折射率nr1若处于0.86以上、1.15以下的范围内即可，更优选为0.91以上、1.08以下。
可通过将相对折射率nr1的范围限定于该范围内，控制透明基体30与保护层22的构件间的光的透过率，而进一步提升、改善叠纹的可见性。
第2粘着层20的折射率n2及第1粘着层16的折射率n3均为等于或接近于透明基体30的折射率n0的值。在此情形时，透明基体30对于第2粘着层20的相对折射率nr2及透明基体30对于第1粘着层16的相对折射率nr3均为接近1的值。此处，折射率及相对折射率的定义是如上述定义所述。因此，透明基体30对于第2粘着层20的相对折射率nr2是以nr2＝(n2/n0)定义，透明基体30对于第1粘着层16的相对折射率nr3是以nr3＝(n3/n0)定义。
此处，相对折射率nr2及相对折射率nr3与上述相对折射率nr1同样地处于0.86以上、1.15以下的范围内即可，更优选为0.91以上、1.08以下。
再者，可通过将相对折射率nr2、及相对折射率nr3的范围限定于该范围内，而与相对折射率nr1的范围限定同样地进一步提升叠纹的可见性。
导电膜18的配线层34a及配线层34b是经由电缆21而电性连接于包括形成于可挠性(flexible)基板(未图示)上的电子电路的检测控制部23。
可挠性基板是具有可挠性的电子基板。检测控制部23是配置于背光单元24的下侧，但该配置位置并无特别限定，可根据显示装置10的构成进行各种变更。
检测控制部23是检测在形成有配线层34a及配线层34b的区域，使作为导体的接触体(未图示)自外部与导电膜18接触的位置。例如若导电膜18为静电电容方式，则检测控制部23包括如下的电子电路，该电子电路捕捉接触或接近时的接触体与导电膜18之间的静电电容的变化，从而检测该接触位置或近接位置。
再者，图2(a)所示的导电膜18是在透明基体30的两面分别包括配线层34a及配线层34b者，但本发明并不限定于此。例如也可为如图3所示的导电膜18a般的导电膜，该导电膜构成为如下：层叠多个仅在透明基体30的表面30a、即仅在其中一个面形成有配线层34(配线层34c及配线层34d)的导电膜要素19(导电膜要素19a及导电膜要素19b)。如此般，在为层叠有多层导电膜要素19的导电膜18a的情形时，分别具有相同或同样的配线图案35的配线层34(配线层34c及配线层34d)是如上所述全部相同或同样的配线图案35，且将上层的配线层34(配线层34c或配线层34d)以相对于下层的配线层34(配线层34d或配线层34c)成为嵌套的状态的方式偏移相位地配置。
具体而言，如图3所示，自上而下为第奇数k(2n-1：n＝自然数(1、2、…))个导电膜要素19a的配线层34全部包含同一构成的配线层34c，且自上而下为第偶数k(2n：n＝自然数(1、2、…))个导电膜要素19b的配线层34全部包含同一构成的配线层34d，但配线层34c相对于配线层34d，以偶数层的配线层34d的金属细线32位于奇数层的配线层34c的相邻的两根金属细线32之间，优选为位于其中心的方式，偏移相位地配置。再者，配线层34d相对于配线层34c，同样地偏移相位地配置。
配线层34、即配线层34c及配线层34d分别为与配线层34a及配线层34b相同的构成，故而省略其详细说明。
再者，关于配线层34的层叠数，不论在使用在透明基体30的两面分别形成有配线层34a及配线层34b的导电膜18的情形时、还是在使用层叠有仅在透明基体30的其中一个面形成有配线层34的导电膜要素19(导电膜要素19a、导电膜要素19b)的导电膜18a的情形时，均并无特别限定，可根据作为触控传感器、或触摸屏所要求的规格，适当地进行选择。
导电膜18、导电膜18a可为静电电容方式及电阻膜方式中的任一种方式，另外，也可为组合静电电容方式及电阻膜方式者。
在以下的说明中，主要以导电膜18为代表例进行说明，但当然也可适用于导电膜18a。
如上所述，显示单元14例如包括背光单元24及液晶显示胞26。
背光单元24可适当利用与液晶显示胞26对应的公知者，且并不限定于边缘照明(edgelight)(侧光(side light)、或导光板)方式的背光，当然也可为正下方型。
另外，关于液晶显示胞26，也可用作显示单元14的显示面板，故而只要具备规定的像素阵列图案，则可适当利用公知者。再者，作为本发明中使用的显示面板，并不限定于液晶显示胞26，也可使用等离子体显示面板(PDP：Plasma Display Panel)、有机电致发光显示面板(OELD：Organic ElectroLuminescence Display Panel)、及无机电致发光显示面板(InorganicElectroLuminescence Display Panel)等显示面板。作为背光单元24，可适当利用与所使用的显示面板对应者。因此，根据显示面板，也可无需设置背光单元24。
图4是表示应用本发明的导电膜的液晶显示胞的一部分像素阵列图案的一例的示意图。
如图4中表示其一部分般，在液晶显示胞26中，将多个像素40排列成矩阵(matrix)状，构成规定的像素阵列图案。一个像素40是使三个子像素(subpixel)(红色子像素40r、绿色子像素40g及蓝色子像素40b)排列于水平方向而构成。一个子像素是形成为在垂直方向上设为纵长的长方形状。像素40的水平方向的排列间距(水平像素间距Ph)与像素40的垂直方向的排列间距(垂直像素间距Pv)大致相同。即，包含一个像素40与包围该一个像素40的黑色矩阵(BM)42的形状(参照以影线表示的区域44)成为正方形。另外，一个像素40的长宽比(aspect ratio)并非为1，而成为水平方向(横向)的长度＞垂直方向(纵向)的长度。
根据图4可明确，包括多个像素40的各个红色子像素40r、绿色子像素40g及蓝色子像素40b的像素阵列图案是利用分别包围这些红色子像素40r、绿色子像素40g及蓝色子像素40b的BM 42的BM图案46来规定，且将液晶显示胞26与导电膜18重叠时产生的叠纹是因液晶显示胞26的BM 42的BM图案46与导电膜18的配线层34的干涉而产生，故而，严格而言，BM图案46是像素阵列图案的反转图案，但在此处作为表示相同的图案者处理。
在具有包括上述液晶显示胞26的BM 42的BM图案46的液晶显示胞26上，例如在配置导电膜18的情形时，将导电膜18的配线层34a、配线层34b相对于BM图案46，以在叠纹可见性的方面不依存于视角变化的方式进行最佳化，故而，即便如下所述地视角变化，也几乎不存在像素40的排列周期与导电膜18或导电膜18a的金属细线32的配线排列周期之间的空间频率干涉，从而可抑制叠纹产生。
上述本发明的导电膜18及导电膜18a例如应用于图1中示意性表示的显示单元14的液晶显示胞26的触控传感器12，但相对于显示单元14的像素阵列图案、及BM(黑色矩阵)图案46，在叠纹可见性方面，具有不依存于对于显示单元14的液晶显示胞26的视角(观察角)地经最佳化处理的配线图案35。再者，在本发明中，所谓相对于BM(像素阵列)图案在叠纹可见性方面经最佳化处理的配线图案是指即便相对于规定的BM图案改变视角，也不会使叠纹被人的视觉察觉的一个或两个以上的一群配线图案。
本实施形态的显示装置10及导电膜18、导电膜18a基本上为如上所述的构成。
以下，对在本发明中导电膜的配线图案对于显示装置的规定的BM图案的叠纹可见性的评估、及不依存于视角(观察角)的最佳化进行说明。即，对在本发明的导电膜中即便使视角相对于显示装置的规定的BM图案变化，也以叠纹不被人的视觉察觉的方式被最佳化的配线图案及决定最佳化的配线图案的顺序进行说明。
此处，对配线图案相对于规定的BM图案的叠纹可见性不依存于视角的最佳化、即不依存于视角(观察角)地减少BM图案与配线图案的干涉造成的叠纹产生进行说明，在此之前，首先对导电膜的配线图案与视角的关系进行说明。
图5是表示在图2(a)所示的导电膜中对应于不同的视角所分别形成的不同的配线图案像的一例的示意图。
如该图所示，在视角θ为零(zero)(θ＝0)、即自相对于透明基体30的表面30a垂直方向观察的情形时，对将导电膜18的配线层34a及配线层34b的配线图案35以投影至与透明基体30的表面30a平行的面50上而成为合成配线图案像54者进行观察。
另一方面，在视角θ不为零(θ≠0)、即自相对于与透明基体30的表面30a垂直的方向倾斜规定角度θ的方向观察的情形时，将导电膜18的配线层34a及配线层34b投影至相对于上述面50倾斜了上述角度θ的面52上而成为合成配线图案像56。
此处，在形成于面50上的合成配线图案像54及形成于面52上的合成配线图案像56中，白标记是形成表侧，即形成观察侧的配线层34a的配线图案35的金属细线32的投影像，黑标记是形成背侧的配线层34b的配线图案35的金属细线32的投影像。
在导电膜18中，配线层34a及配线层34b具有相同的配线图案35，且配线层34a及配线层34b的各配线图案35具有相同的间距P1，故而若将合成配线图案像54与合成配线图案像56加以比较，则在合成配线图案像54中，配线层34a及配线层34b的各配线图案35的投影像的间距(相邻的白标记间的间隔及相邻的黑标记间的间隔)P1a均成为相同的间距P1(P1a＝P1)，并无不同，但合成配线图案像56中，存在视角θ(例如0＜θ＜π/2)，故而配线层34a及配线层34b的各配线图案35的投影像的间距P1b均以P1cosθ(P1b＝P1cosθ)表示，且0＜cosθ＜1(0＜θ＜π/2)，导致窄于P1(P1b＝P1cosθ＜P1)。
另外，配线层34a的配线图案35与配线层34b的配线图案35的相位仅相互偏移1/2间距，故而两者间的间距(相位差)P2成为P1/2(P2＝P1/2)。因此，在合成配线图案像54中，配线层34a及配线层34b的两配线图案35的投影像间的间距(相邻的白标记与黑标记之间的间隔)P2a全部成为相同的相位差F，并无不同，但合成配线图案像56中存在视角θ(例如0＜θ＜π/2)，故而受到导电膜18的透明基体30的影响，若将透明基体30的厚度设为d，则配线层34a及配线层34b的两配线图案35的投影像间的间距P2b及间距P2c由P2cosθ-dsinθ(P2b＝P2cosθ-dsinθ)及P2cosθ+dsinθ(P2c＝P2cosθ+dsinθ)(绝对值)表示，且其中一者变得窄于P2(P2b＜P2)，另一者变得宽于P2(P2c＞P2)。即，在配线层34a及配线层34b的两配线图案35的投影像间，产生依存于透明基体30的厚度d的相位偏移dsinθ。
其结果，如下所述，在合成配线图案像54中，配线间距成为等间距(参照图7(a))，但在合成配线图案像56中，成为使邻接的配线间距成为不等间隔的配线图案重复者(参照图8(a))。
其原因在于：由于自与正面(视角＝0°)倾斜的位置(视角θ)进行观察，故而受到透明基体30的厚度d的影响。如此般，配线层34a及配线层34b的合成配线图案像56因视角θ而受到透明基体30的厚度d的影响。再者，在图5中，为明确地表示构成配线图案35的金属细线32，而将其厚度相对透明基体30的厚度进行强调，但金属细线32的厚度与透明基体30的厚度相比可忽视，故而，将透明基体30的厚度d表示为包含构成配线图案35的金属细线32的厚度者。
且说，叠纹的可见性是由因两个图案的干涉而得的叠纹的频率及叠纹的强度所决定。具体而言，计算两个图案的图案数据的二维傅立叶频谱(2DFFTSp)，自两个图案的二维傅立叶频谱分别逐一地选择频谱峰值，且由该两个频谱峰值的(空间)频率差、即以空间频率座标上的峰值间的相对距离所赋予的叠纹的频率、及以两个频谱峰值的峰值强度的乘积所赋予的叠纹的强度而决定。
另一方面，在表示图案的空间频率特性的二维傅立叶频谱(2DFFTSp)图像(空间频率座标)中，频谱峰值由图案间距的倒数表现，故而，为了预测因液晶显示胞26的BM图案与导电膜18的配线层34的配线图案的两个图案的干涉而可见的叠纹，只要获知BM图案的间距(μm)及配线层的配线图案的间距(μm)即可。
如上所述，叠纹的可见性是由叠纹的频率及强度而决定，但即便叠纹的频率为可见的频率，若该强度为不可见的强度，则现实中叠纹也不可见，且即便强度达到某种程度，只要叠纹的频率为不可见的频率，则叠纹也不可见。
因此，原本就叠纹可见性的最佳化观点而言，如上所述，也应对叠纹的强度进行考量，但在考虑因BM图案与配线图案的两个图案的干涉而可见的叠纹的情形时，及在考量依存于对BM图案即液晶显示胞26的显示画面进行观察的角度、即视角的叠纹的情形时，难以相应于视角定义叠纹的强度。其原因在于：若视角θ变化，则如上所述，当将配线层34a及配线层34b的各配线图案35的投影像间距设为配线图案35本身的间距P1时，会以视角θ为参数(parameter)，且以P1cosθ进行变化，并且相对于其中一个配线层、例如配线层34a的配线图案35，另一配线层、例如配线层34b的配线图案35的相位以该透明基体30的厚度d及视角θ为参数，以dsinθ进行变化，且频谱峰值的峰值频率及峰值强度进行变化，其结果，叠纹的频率及叠纹的强度也相应地变化。再者，θ为视角，且如图5所示，将正面设为θ＝0°。
根据以上所述，在本发明中，仅使用频率预测叠纹。
在获取用于2DFFT(二维高速傅立叶变换)处理的峰值频率时，为算出峰值，而根据BM图案46及配线层34的配线图案的基频求出频率峰值(峰值频率)。其原因在于：用于2DFFT处理的数据为离散值，故而二维傅立叶频谱的峰值频率(频谱峰值的频率)依存于图像尺寸(size)的倒数。如图6所示，二维傅立叶频谱的频率峰值位置(频谱峰值的位置)能够以独立的二维基频矢量分量a横号(bar)及b横号为基础组合地表示。因此，勿庸置疑，所得的峰值位置成为格子状。再者，图6是表示配线层34的频率峰值位置的图表，但也能够以与配线层34相同的方式求出BM图案46。
例如对图7(a)所示的正面观察(视角为0°)下的配线层34a及配线层34b的合成配线图案像54进行二维傅立叶变换，求出二维傅立叶频谱，由此，求出配线层34a及配线层34b的合成配线图案像54的空间频率特性(FFT图像)。其结果示于图7(b)中。
另外，对图8(a)所示的斜向观察(视角不为0°)下的配线层34a及配线层34b的合成配线图案像56进行二维傅立叶变换，求出二维傅立叶频谱，由此，求出配线层34a及配线层34b的合成配线图案像56的空间频率特性(FFT图像)。其结果示于图8(b)中。
此处，如上述图5所示，斜向观察(视角不为0°)时的合成配线图案像56的间距P1b是相应于观察方向而相对于正面观察(视角为0°)时的合成配线图案像54的间距P1a变窄。在下文进行详细说明，但在求出斜向观察(视角不为0°)时的合成配线图案像56的空间频率特性(FFT图像)时，将斜向观察时的合成配线图案像56的间距P1b扩大，使其与正面观察时的间距P1a相同。
如上所述，斜向观察(参照图8(a))的情形下是相对于配线间距成为等间距的正面观察(参照图7(a))，使邻接的配线间距成为不等间隔的配线图案进行重复。
因此，斜向观察(参照图8(b))的FFT图像与正面观察(参照图7(b))的FFT图像相比，频谱峰值的峰值间隔短，当使配线图案重叠于BM图案的情形时，产生依存于视角的画质劣化。
再者，图7(b)及图8(b)所示的FFT图像中(空间频率座标上)，黑底中的白点及灰(gray)点表示频谱峰值，且白点及灰点的浓度依存于频谱峰值的峰值强度，但就本发明的叠纹可见性的最佳化而言，未考虑峰值强度，而使用频谱峰值的峰值频率，故而，将空间频率座标上的峰值位置设为以白点及灰点表示者。
再者，在求出配线图案(合成配线图案)及BM图案的频谱峰值的峰值频率的情形时，例如在对各图案的频率特性(峰值频率及峰值强度)卷积人的标准视觉响应特性时，也可仅选定特定的强度以上者。利用如此方法，而仅求出所选定的峰值彼此的差值，故而可缩短计算时间。
因此，为了防止在使配线图案重叠于BM图案的情形时依存于视角的画质劣化，只要对于在配线层中设计于正面的配线图案，使画质不依存于视角而劣化即可。为此，将设计于正面的配线层的配线图案(合成配线图案像54(参照图5))的频率特性与因相位偏移而产生的配线层的配线图案(合成配线图案像56(参照图5))的频率特性加以比较，满足正面的画质≤依存于视角的画质即可。即，预测正面观察的叠纹、及依存于视角所观察的叠纹的频率即可。
如图3所示，在配线层的配线图案重叠多层的情形时，前提为当k＝1(第一层)、k＝2(第两层)时，配线层34(配线层34c与配线层34d)成为上述嵌套的状态，且在正面观察时，合成配线图案像54具有单一频率。
再者，制造偏差当然包含在内，故而，在配线层的配线图案中，即便产生5％左右的误差，也视作大致固定的规则性图案。
在遍及多层地重叠具有配线图案的配线层的情形时，就透过率提升的观点而言，当k＝2n、k＝2n+1时，将配线层34(配线层34c、配线层34d)如上述配线层34a、配线层34b般偏移相位地配置，从而成为上述嵌套的状态。
此处，配线层的配线图案全部为等间距。即，金属细线32的间隔相同。在本发明中，以下层的配线层的金属细线32也位于最上层的配线层的金属细线32的间距之间为前提。在图3所示的例中，在最上方的配线层34，在左起两个金属细线32之间配置有该第2个配线层34的金属细线32。在第3个配线层34之后，在自最上方的配线层34的左起两个金属细线32之间，也配置有配线层34的金属细线32。即便层叠数多，下层的配线层的金属细线32也位于最上层的配线层的金属细线32的间距之间。
基于上述前提，依存于视角，对直至第k个配线层34为止也考虑在内的配线层34的配线图案(参照合成配线图案像56)的频率特性进行预测时，若将包括k＝1、k＝2的配线层34的配线图案(参照合成配线图案像54)的基频(最低的峰值频率分量的频率)设为f1，则根据由k＝1、k＝2的配线层34形成的重复图案考量f1/2进行设计即可。例如在k＝2的情形时，正面的频率特性成为f1，依存于视角的频率特性成为f1/2。即，为正面的频率特性的一半。
正面观察时产生的叠纹能够以配线层的配线图案的正面观察下的频率特性f1为基础，以与BM图案的空间频率特性的卷积进行表示。依存于视角而产生、即在斜向观察时产生的叠纹的频率也能够以依存于视角(斜向观察下)的配线层的配线图案的频率特性f1/2为基础，利用与BM图案的空间频率特性的卷积进行表示。
以下，以k＝2的情形为例，更具体地进行说明。
再者，在k＝2的情形时，作为构成，例如可列举：导电膜18，在图2(a)所示的1个透明基体30的两面分别具有配线层34a、配线层34b；及导电膜18a，如图3所示，将在透明基体30的表面30a形成有配线层34c者与在透明基体30的表面30a形成有配线层34d者层叠而成。
对于图9(a)所示的自正面观察的配线图案，实施2DFFT处理，求出二维傅立叶频谱，由此，可获得图9(b)所示的空间频率特性(FFT图像)。
另一方面，对于图10(a)所示的自斜向观察的配线图案，实施2DFFT处理，求出二维傅立叶频谱，由此，可获得图10(b)所示的空间频率特性(FFT图像)。
在图9(b)、图10(b)中，随后将进行详细说明，但也与上述图7(b)、图8(b)的情形相同，在求出斜向观察(视角不为0°)时的配线图案像的频率特性(FFT图像)时，将斜向观察时的合成配线图案像56的间距P1b扩大，使其与正面观察时的间距P1a相同。
再者，图9(b)及图10(b)所示的FFT图像中(空间频率座标上)，黑底中的白点及灰点表示频谱峰值，且白点及灰点的浓度依存于频谱峰值的峰值强度，但就本发明的叠纹可见性的最佳化而言，未考虑峰值强度，而使用频谱峰值的峰值频率，故而，将空间频率座标上的峰值位置以白点及灰点进行表示。
若将图9(b)所示的自正面观察的配线图案的空间频率特性与图10之b)所示的自斜向观察的配线图案的空间频率特性加以比较，则关于峰值间隔，斜向观察的FFT图像的频谱峰值的峰值间隔成为正面观察的FFT图像的频谱峰值的峰值间隔的一半。该情况表示因赋予视角，而相对于其中一个配线图案，另一个配线图案的相位偏移，配线图案的周期加倍。该情况与依存于上述视角的频率特性成为f1/2一致。
BM图案的频率特性是由液晶显示胞26的构成而决定，且为固定。因此，为了成为正面观察的画质≥产生视角时观察的画质，而在以对二维傅立叶频谱中的BM图案的频率及配线层的配线图案的频率考虑最多10次的条件为基础，且将正面观察的叠纹的最低频率设为第1最低频率fm1，将产生视角时观察的叠纹的最低频率设为第2最低频率fm2时，配线层具有满足fm1≤fm2的配线图案即可。
其原因在于：自斜向方向可见的叠纹的频率是对自正面方向可见的叠纹的频率追加因自斜向方向进行观察而增加的配线图案的峰值量+α。因此，在自正面观察时画质方面最优异，在自斜向方向观察时画质必然变差。为了最大限度地抑制画质变差的程度，而将第1最低频率fm1设为第2最低频率fm2以下即可。因此，在本发明中，关于配线层，设为fm1≤fm2。在fm1＝fm2时，自斜向方向观察时的画质未劣化，正面的画质＝依存于视角的画质。
此处，如上述图5所示，在产生视角的情形时，配线图案的间距P1b相对于在正面观察的配线图案的间距P1a变窄。在本发明中，以产生视角时的配线图案的间距与自正面观察的配线图案的间距相同为前提条件，求出这些配线图案的空间频率。因此，必须将产生视角时的配线图案的间距以与自正面观察的配线图案的间距相同的方式扩大。在BM图案中，当产生视角时，也产生与此时的配线图案的间距相同的情况，故而，即便是BM图案，也以与正面观察时相同的方式扩大。
再者，以成为自正面观察的配线图案的间距的方式，将产生视角时的配线图案的间距扩大的情况，以下简称为“规格化”。
关于规格化，若已知视角θ，则对斜向观察时的配线图案的间距，可通过使用1/cosθ作为视角依存系数而加以规格化。此情形时，对BM图案，也可通过使用1/cosθ而实现与正面观察时相同。
除此以外，也可使用BM图案，以如下方式规格化。
例如，当正面观察时的BM图案为正方形，且在斜向观察时BM图案呈长方形的情形时，求出用以使该长方形以成为正面观察时的正方形的方式扩大的系数(扩大率)。可通过使用该系数而进行规格化。关于BM图案，也与配线图案的间距同样地，可通过使用该系数而实现与正面观察时相同。再者，只要可规格化，则其方法并不限定于上述的方法。
再者，以上述前提条件为基础，则在产生视角时的空间频率中包含自正面观察时的空间频率。关于该方面，以下具体地进行说明。
若将上述的图7(b)与图8(b)重叠，则图7(b)的频谱峰值与图8(b)的频谱峰值完整地重叠。其原因在于：以上述前提条件为基础，产生视角时所观察的配线图案的重复周期相对于自正面观察的配线图案的重复周期加倍。由此，产生视角时所观察的配线图案的频率峰值出现在自正面观察的配线图案的频率峰值位置的一半处，频谱峰值完整地重合。因此，图7(b)的频谱峰值包含所有图8(b)的频谱峰值的位置。
如上所述，叠纹的频率是由配线图案与BM图案的峰值的空间频率差(空间频率座标上的峰值间的相对距离)赋予。因此，自斜向方向可见的叠纹的频率被追加自正面方向可见的叠纹的频率+因自斜向方向进行观察而增加的配线图案的峰值量+α者。
在图11(a)及图11(b)中，分别表示满足本发明的叠纹的空间频率条件fm1≤fm2的配线图案与BM图案的组合的本发明例的正面观察图像及斜向观察图像的一例。
在图12(a)及图12(b)中，分别表示不满足本发明的叠纹的空间频率条件fm1≤fm2的比较例的正面观察图像及斜向观察图像的一例。
在图11(a)及图11(b)所示的满足fm1≤fm2的本发明例中，为了表示因观察方向自正面变为斜向引起的配线图案的变化，而强调地表示配线图案，但可知即便观察方向自正面变为斜向，也不会产生新的低频叠纹。
对此，在图12(a)及图12(b)所示的不满足fm1≤fm2的比较例中，可知在观察方向为正面的情形时叠纹完全不可见，但在观察方向为斜向的情形时，如图12(b)中由箭头所示，产生新的低频叠纹。
如此般，可明确在本发明中通过满足叠纹的空间频率条件fm1≤fm2，而可减少叠纹的产生。
再者，在本发明中，为了求出叠纹的频率，BM图案及配线图案中的任一者均使用二维傅立叶频谱的频率最多10次(峰值频率最多10次)。该方法是基于若使用二维傅立叶频谱的频率最多10次，则大致包含可见的叠纹这一本发明者的经验规则(empirical rule)。即，其原因在于：二维傅立叶频谱的11次以上的高次项的峰值强度即便被忽视，也不会成为可见程度的叠纹。
再者，所谓可见的叠纹是指例如强度以常用对数计为-4.0以上(以逆对数计为10-4以上)者。
根据以上所述，在显示装置10及导电膜18中，关于层叠两层的配线层34a、配线层34b，如上所述满足fm1≤fm2，由此，即便在使导电膜18重叠于液晶显示胞26的BM图案46的情形时，也可不取决于视角地减少因导电膜18的配线图案35与液晶显示胞26的BM图案46的干涉造成的叠纹产生。由此，在显示装置10中，可使来自斜向方向的画质提升，从而可进一步提升包含视角等在内的整体的画质。
其次，对于在重叠于显示装置10的液晶显示胞26的导电膜18中，决定可不取决于视角地减少叠纹产生的配线图案的顺序进行说明。
图13是表示本发明的导电膜的配线层配线图案的决定方法的一例的流程图。
本发明的导电膜的配线层配线图案的决定方法为如下方法：根据使用显示装置10的液晶显示胞26的BM图案46与导电膜18的配线层34a及配线层34b的配线图案35的二维高速傅立叶变换(2DFFT)来进行的频率分析所得的各图案的空间频率特性，作为两图案的峰值频率的差值(峰值位置间的相对距离)而赋予叠纹频率，自该叠纹频率算出叠纹的最低频率，使用算出的叠纹的最低频率，决定不取决于视角地减少叠纹产生的配线层的配线图案。在求出叠纹的频率时，一般而言利用FFT，但因利用方法不同，对象的频率会较大地变化，故而规定以下的顺序。
在决定方法中，首先，作为顺序1，进行BM图案及配线层的配线图案的透过率图象数据的制作。即，如图13所示，在步骤S10中，制作并获取图5所示的显示装置10的液晶显示胞26的BM图案46(BM42)(参照图4)的透过率图象数据、及导电膜18的配线层34a及配线层34b(金属细线32)(参照图14(b))的配线图案的透过率图象数据。
在此情形时，关于配线层34a、配线层34b，对视角为零即正面观察时的合成配线图案、及在存在视角时即斜向观察的合成配线图案，进行透过率图象数据的制作。
本实施形态的重要之处在于如何根据二维傅立叶频谱精度良好地提取频率，故而使用周期边界条件，制作BM图案及配线层的配线图案的透过率图象数据。
再者，在预先准备或存储有BM图案46的透过率图象数据、及配线层34a、配线层34b的配线图案的透过率图象数据(视角为零及存在视角)的情形时，也可自所准备或存储的透过率图象数据中获取。
例如，如图14(a)及其区域H的局部放大图即图14(c)所示，液晶显示胞26的BM图案46可设为每一像素40均包含RGB3色的红色子像素40r、绿色子像素40g及蓝色子像素40b的图案，但当利用单色，例如仅利用G通道(channel)的绿色子像素40g时，R通道及B通道的透过率图象数据优选为设为0。在本发明中，作为BM42的图象数据、即BM图案46的透过率图象数据，并不限定于如图14(a)所示，具有BM42的长方形开口(红色子像素40r、绿色子像素40g及蓝色子像素40b)者，只要为可使用的BM图案，则也可为不具有BM42的长方形开口者，且也可指定使用具有任意的BM开口的BM图案。例如不限定于单纯的矩形形状者，也可为复杂的L型弯曲者，或也可为钩状者。
另一方面，关于导电膜18的配线层34a、配线层34b，例如图14(b)所示，形成为作为配线的金属细线32倾斜45°而成的正方格子的配线图案35状。配线层34a是设置于透明基体30(未图示)的正面(未图示)，配线层34b是设置于透明基体30(未图示)的背面(未图示)。
再者，此处，BM图案46及配线层34a、配线层34b的配线图案的透过率图象数据的尺寸若可使用周期边界条件周期性地切取BM图案46及配线层34a、配线层34b的配线图案的透过率图象数据，则并无特别限定。此处，所谓周期性是指使图像以周期重复，例如若为配线层34a、配线层34b的配线图案，则表示如图9(a)所示的形态。如上所述，只要可使用周期边界条件周期性地切取，则可使图像以周期重复，故而不需要折回处理、或翻转(flip)处理。
继而，作为顺序2，对顺序1中制作的各透过率图象数据进行二维高速傅立叶变换(2DFFT(基底2))。即，如图13所示，在步骤S12中，对步骤S10中制作的BM图案46及配线层34的各透过率图象数据进行2DFFT(基底2)处理。继而，根据BM图案46及配线层34的各透过率图象数据的二维傅立叶频谱，算出多个频谱峰值的峰值频率。
此处，图15是表示BM图案的各透过率图象数据的二维傅立叶频谱的空间频率特性的图。再者，在图15中，白色部分表示BM图案46的频谱峰值。根据图15所示的结果，对于BM图案46算出频谱峰值的峰值频率。即，图15所示的BM图案46的二维傅立叶频谱的频谱峰值在频率座标上的位置、即峰值位置表示峰值频率。再者，该峰值位置上的二维傅立叶频谱的强度成为峰值强度。
关于配线层34a、配线层34b，例如在视角为零、即正面的情形时，使用图9(b)所示的二维傅立叶频谱的空间频率特性，在存在视角的情形时、即斜向的情形时，使用图10(b)所示的二维傅立叶频谱的空间频率特性。
此处，关于BM图案46及配线层34a、配线层34b的各频谱峰值的频率，以如下方式算出获取。
对于获取峰值频率，如上所述，可获取BM图案46及配线层34a、配线层34b的配线图案的峰值频率。
继而，作为顺序3，进行叠纹的频率信息的算出。即，如图13所示，在步骤S14中，根据步骤S12中算出的BM图案46及配线层34a、配线层34b的配线图案的各二维傅立叶频谱的峰值频率的差值，算出多个叠纹的频率作为叠纹的频率信息。在本发明中，关于各二维傅立叶频谱的峰值频率，如上所述，优选为基于可大致包含可见的叠纹的经验规则，使用最多10次频率。
在实空间(real space)中，叠纹原本是因配线层34a、配线层34b的配线图案与BM图案46的透过率图象数据的相乘所引起，故而在频率空间中，进行两者的卷积积分。由此，可获得BM图案46与正面的配线层34a、配线层34b的叠纹频率。另外，可获得BM图案46与存在视角时的配线层34a、配线层34b的叠纹频率。
继而，作为顺序4，进行叠纹的视角特性判定。
具体而言，首先，如图13所示，在步骤S16中，使用步骤S14中所得的叠纹的频率信息，自BM图案46与正面的配线层34a、配线层34b的合成配线图案的多个叠纹频率中，算出最低频率，将该最低频率设为第1最低频率fm1。
继而，自BM图案46及存在视角时的配线层34a、配线层34b的合成配线图案的多个叠纹频率中，算出最低频率，将该最低频率设为第2最低频率fm2。
继而，在步骤S18中，将第1最低频率fm1与第2最低频率fm2加以比较。
若第1最低频率fm1为第2最低频率fm2以下、即fm1≤fm2，则决定配线层的配线图案(步骤S22)。
另一方面，若第1最低频率fm1并非为第2最低频率fm2以下、即不满足fm1≤fm2，则更新配线层的配线图案的透过率图象数据(步骤S20)。继而，返回至步骤S12。
此处，经更新的新的配线层的配线图案可为预先准备者，也可为新制作者。再者，在新制作的情形时，可使配线层的配线图案的透过率图象数据的旋转角度、间距及图案宽度中的任一个以上变化，也可变更配线层的配线图案的开口部的形状或尺寸，还可将这些适当组合。
此后，重复如下各步骤直至成为fm1≤fm2为止，上述步骤是步骤S12的峰值频率的算出、步骤S14的叠纹的频率信息的算出、步骤S16的第1最低频率fm1及第2最低频率fm2的算出、步骤S18的第1最低频率fm1与第2最低频率fm2的比较、以及步骤S20的配线层的配线图案的透过率图象数据的更新。
如此，本发明的导电膜的配线层的配线图案的决定方法结束，从而可获得具有即便重叠于显示装置的显示单元的BM图案也可抑制叠纹产生，并且，即便具有视角也可抑制叠纹产生的配线图案的本发明的导电膜。进而，可获得具备具有上述配线图案的导电膜18的触控传感器12(触摸屏)及显示装置10。
本发明基本上以如上方式构成。以上，对本发明的导电膜、具备该导电膜的触摸屏及显示装置进行了详细说明，但本发明并不限定于上述实施形态，当然可在不脱离本发明精神的范围内，进行各种改良或变更。
[符号的说明]
10：显示装置
12：触控传感器
14：显示单元
16：第1粘着层
18：导电膜
19、19a、19b：导电膜要素
20：第2粘着层
21：电缆
22：保护层
23：检测控制部
24：背光单元
26：液晶显示胞
30：透明基体
34、34a、34b、34c、34d：配线层
35：配线图案
40：像素
42：黑色矩阵(BM)
46：BM图案
54、56：合成配线图案像

Claims (9)

1.一种导电膜，其设置于显示装置的显示单元上，且其特征在于包括：
一个或两个以上的透明基体；
及两层以上的配线层，形成于所述一个透明基体的两面或所述两个以上的透明基体各自的其中一个单面，且配置为层状，具有规则性排列；
所述配线层的配线图案重叠于所述显示单元的像素阵列图案，且将下层配线层的配线图案相对于上层偏移相位地配置，
当将利用所述配线层的配线图案的空间频率特性与所述显示单元的像素阵列图案的空间频率特性卷积所得的叠纹的空间频率中的最低频率设为第1最低频率fm1，且
将利用所述配线层的配线图案的一半的空间频率特性与所述显示单元的像素阵列图案的空间频率特性卷积所得的叠纹的空间频率中的最低频率设为第2最低频率fm2时，为fm1≤fm2。
2.根据权利要求1所述的导电膜，其中所述配线层的配线图案的空间频率特性是相对于所述透明基体垂直的方向上的空间频率特性，且
所述配线层的配线图案的一半的空间频率特性是相对于所述透明基体倾斜规定角度的方向上的空间频率特性。
3.根据权利要求1或2所述的导电膜，其中在所述透明基体的两面形成有所述配线层。
4.根据权利要求1或2所述的导电膜，其中层叠有多个在其中一个面形成有所述配线层的所述透明基体。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的导电膜，其中所述配线层具有形成为网状且排列有多个开口部的配线图案。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的导电膜，其中所述像素阵列图案为显示单元的黑色矩阵图案。
7.一种触摸屏，其特征在于包括：
根据权利要求1至6中任一项所述的导电膜；以及
检测控制部，在形成有所述配线层的区域，检测自外部接触于所述导电膜的位置。
8.一种显示装置，其特征在于包括：
显示单元；以及
根据权利要求1至6中任一项所述的导电膜，设置于所述显示单元上。
9.一种显示装置，其特征在于包括：
显示单元；以及
根据权利要求7所述的触摸屏，设置于所述显示单元上。
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