TW201423517A - 導電膜、具備該導電膜的觸碰面板以及具備上述之顯示裝置 - Google Patents

導電膜、具備該導電膜的觸碰面板以及具備上述之顯示裝置 Download PDF

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Abstract

導電膜是設置於顯示裝置的顯示單元上，且包括：一個以上的透明基體；及兩層以上的配線層，呈層狀配置於透明基體的兩面或兩個以上的透明基體的各單面，且具有規則性排列。將配線層的配線圖案重疊於顯示單元的畫素排列圖案，且將下層的配線圖案相對於上層偏移相位地配置。於將利用配線圖案的空間頻率特性與畫素排列圖案的空間頻率特性捲積所得的疊紋的空間頻率的最低頻率設為第1最低頻率fm1，且將利用配線圖案的一半的空間頻率特性與畫素排列圖案的空間頻率特性捲積所得的疊紋的空間頻率的最低頻率設為第2最低頻率fm2時，為fm1≦fm2。

Description

導電膜、具備該導電膜的觸碰面板以及具備上述之顯示裝置
本發明是關於一種用於觸碰感測器(touch sensor)、觸碰面板(touch panel)等的導電膜、具備該導電膜的觸碰面板以及顯示裝置，尤其關於一種不依存於視角(觀察角)而減少疊紋(moire)產生的導電膜、具備該導電膜的觸碰面板以及顯示裝置。
作為設置於顯示裝置(以下亦稱為顯示器(display))的顯示單元(display unit)上的導電膜，例如可列舉電磁波屏蔽(electromagnetic wave shield)用導電膜及觸碰面板用導電膜等(例如參照專利文獻1及專利文獻2)。
於專利文獻1中，揭示有如下提供配線圖案的技術：該配線圖案是在生成電磁波屏蔽膜的配線圖案時，僅根據顯示器的黑色矩陣(black matrix)圖案與配線圖案的頻率資訊，控制疊紋頻率，且視認性優異。
於專利文獻1中，具體而言，揭示有如下內容：自動選定藉由第2圖案資料(pattern data)生成的第2圖案，該第2圖 案資料是顯示器的畫素排列圖案(例如黑色矩陣(以下亦稱為BM)圖案)等第1圖案、及例如電磁波屏蔽圖案等第2圖案的各自圖案資料的二維傅立葉頻譜(二維高速傅立葉變換頻譜(2DFFTSp，Two Dimensional Fast Fourier Transform Spectrum))的頻譜峰值(spectrum peak)間的相對距離超過規定的空間頻率、例如8cm-1。
再者，於專利文獻1中，亦揭示有如下內容：於上述相 對距離未超過規定的空間頻率的情形時，重複進行使第2圖案資料的旋轉角度、間距(pitch)、圖案寬度中的一個以上變化，生成新的第2圖案資料的處理，直至上述相對距離超過規定的空間頻率為止。
以此方式，於專利文獻1中，可自動地選定可抑制疊紋產生，亦可避免表面電阻率增大及透明性劣化的電磁波屏蔽圖案。
專利文獻2的觸碰面板用導電薄片包括：第1導電部，形成於基體的其中一個主面；及第2導電部，形成於基體的另一個主面。第1導電部是分別在第1方向延伸且排列於與第1方向正交的第2方向，且包括兩個以上的第1透明導電圖案。第2導電部是分別在第2方向延伸且排列於第1方向，且包括兩個以上的第2透明導電圖案。於自上面觀察時，設為將第1透明導電圖案與第2透明導電圖案交叉地配置的形態，且在與第1方向及第2方向不同的方向上偏移。藉此，於專利文獻2中，成為多個空間頻率結合所得的形態，其結果，將與液晶顯示裝置的畫素排列的干涉抑制，有效地減少疊紋產生。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2009-117683號公報
[專利文獻2]日本專利特開2011-237839號公報
專利文獻1是將電磁波屏蔽者，且電磁波屏蔽圖案僅存在於一層。此處，於電磁波屏蔽圖案為兩層以上的情形時，必須考慮正面觀察時疊紋的減少、及視角變更時疊紋的減少。
然而，專利文獻1是僅一層的疊紋最佳化手法，無法適用於存在多層配線的觸碰面板等。
又，於專利文獻2中，雖對兩層結構的透明導電圖案的疊紋進行考量，但對視角變化時的疊紋未進行任何考量。
如此般，現狀如下所述：於存在多層配線圖案的觸碰面板等中，尚無對因視角變化引起疊紋的產生、及降低疊紋產生而進行考量者。
本發明的目的在於提供一種可不依存於視角(觀察角)地減少疊紋產生，尤其即便重疊於顯示面板等的顯示單元亦可發揮優異視認性的導電膜、具備該導電膜的觸碰面板及顯示裝置。
為達成上述目的，本發明的第1實施方式提供一種導電膜，該導電膜是設置於顯示裝置的顯示單元上者，其特徵在於包括：一個或兩個以上的透明基體；及兩層以上的配線層，形成於一個透明基體的兩面或兩個以上的透明基體各自的其中一個單面，且配置為層狀，具有規則性排列；且配線層的配線圖案是重疊於顯示單元的畫素排列圖案者，將下層配線層的配線圖案相對於上層偏移相位而配置，於將利用配線層的配線圖案的空間頻率 特性與顯示單元的畫素排列圖案的空間頻率特性捲積所得的疊紋的空間頻率中的最低頻率設為第1最低頻率fm1，且將利用配線層的配線圖案的一半的空間頻率特性與顯示單元的畫素排列圖案的空間頻率特性捲積所得的疊紋的空間頻率中的最低頻率設為第2最低頻率fm2時，為fm1≦fm2。
此處，較佳為配線層的配線圖案的空間頻率特性是相對於透明基體垂直的方向上的空間頻率特性，且配線層的配線圖案的一半的空間頻率特性是相對於透明基體傾斜規定角度的方向上的空間頻率特性。
又，較佳為於透明基體的兩面形成有配線層。
又，較佳為於其中一個面積層有多層形成有配線層的透明基體。
又，較佳為配線層具有形成為網狀且排列有多個開口部的配線圖案。
又，較佳為畫素排列圖案為顯示單元的黑色矩陣圖案。
又，為達成上述目的，本發明的第2實施方式提供一種觸碰面板，該觸碰面板的特徵在於包括：本發明第1實施方式的導電膜；以及檢測控制部，於形成有配線層的區域，檢測自外部接觸於導電膜的位置。
又，為達成上述目的，本發明第3實施方式提供一種顯示裝置，該顯示裝置的特徵在於包括：顯示單元；以及本發明第1實施方式的導電膜，設置於該顯示單元上。
又，為達成上述目的，本發明第4實施方式提供一種顯示裝置，該顯示裝置的特徵在於包括：顯示單元；以及本發明的 第1實施方式的導電膜，設置於該顯示單元上。
根據本發明，於不僅使正面變化，而且使視角變化的情形時，亦可不依存於視角地減少疊紋。尤其，根據本發明，可提供一種即便重疊於顯示面板等的顯示單元亦可使視認性提昇從而發揮優異的視認性的導電膜、觸碰面板及顯示裝置。
藉此，對於具備本發明的導電膜的觸碰面板及顯示裝置，可使畫質進一步提昇。
10‧‧‧顯示裝置
12‧‧‧觸碰感測器
14‧‧‧顯示單元
16‧‧‧第1黏著層
18、18a‧‧‧導電膜
19、19a、19b‧‧‧導電膜要素
20‧‧‧第2黏著層
21‧‧‧電纜
22‧‧‧保護層
23‧‧‧檢測控制部
24‧‧‧背光單元
26‧‧‧液晶顯示胞
30‧‧‧透明基體
30a‧‧‧透明基體的表面
30b‧‧‧透明基體的背面
32‧‧‧金屬細線
34、34a、34b、34c、34d‧‧‧配線層
35‧‧‧配線圖案
36‧‧‧開口部
40‧‧‧畫素
40b‧‧‧藍色子畫素
40g‧‧‧綠色子畫素
40r‧‧‧紅色子畫素
42‧‧‧黑色矩陣(BM)
44‧‧‧以影線表示的區域
46‧‧‧BM圖案
50、52‧‧‧面
54、56‧‧‧合成配線圖案像
d‧‧‧厚度
H‧‧‧區域
P1、P2、P1a、P2a、P1b、P2b、P2c‧‧‧間距
Pv‧‧‧垂直畫素間距
Ph‧‧‧水平畫素間距
S10、S12、S14、S16、S18、S20、S22‧‧‧步驟
θ‧‧‧視角
圖1是表示本發明實施形態的顯示裝置的一例的示意圖。
圖2之(a)是表示本發明實施形態的導電膜的一例的示意性剖面圖，圖2之(b)是表示本發明實施形態的導電膜的配線圖案的一例的示意圖。
圖3是表示本發明實施形態的導電膜的另一例的示意性剖面圖。
圖4是表示應用本發明的導電膜的液晶顯示部的一部分畫素排列圖案的一例的示意圖。
圖5是表示於圖2之(a)所示的導電膜中因視角差異而產生的配線圖案像的示意圖。
圖6是表示疊紋的頻率峰值位置的圖表。
圖7之(a)是表示視角為0°的配線圖案的示意圖，圖7之(b)是表示圖7之(a)所示的配線圖案的空間頻率特性的圖。
圖8之(a)是表示視角不為0°的配線圖案的示意圖，圖8之(b)是表示圖8之(a)所示的配線圖案的空間頻率特性的圖。
圖9之(a)是表示視角為0°的配線圖案的示意圖，圖9之(b)是表示圖9之(a)所示的配線圖案的空間頻率特性的圖。
圖10之(a)是表示視角不為0°的配線圖案的示意圖，圖10之(b)是表示圖10之(a)所示的配線圖案的空間頻率特性的圖。
圖11之(a)及圖11之(b)是分別表示滿足本發明的疊紋的空間頻率條件即第1最低頻率fm1≦第2最低頻率fm2的本發明例的正面觀察圖像及斜向觀察圖像的一例的圖。
圖12之(a)及圖12之(b)是表示不滿足本發明的疊紋的空間頻率條件即第1最低頻率fm1≦第2最低頻率fm2的比較例的正面觀察圖像及斜向觀察圖像的一例的圖。
圖13是表示本發明實施形態的導電膜的配線圖案的決定方法的一例的流程圖。
圖14之(a)是表示本發明實施形態的顯示單元的畫素排列圖案的一例的示意圖，圖14之(b)是表示重疊於圖14之(a)的畫素排列圖案的導電膜的配線圖案的一例的示意圖，圖14(c)是圖14之(a)的畫素排列圖案的局部放大圖。
圖15是表示黑色矩陣的畫素排列圖案的透過率圖像資料的二維傅立葉頻譜的空間頻率特性的示意圖。
以下，基於隨附圖式所示的較佳實施形態，對本發明的導電膜、具備該導電膜的觸碰面板及顯示裝置進行詳細說明。
以下，關於本發明的導電膜，以使用液晶顯示面板 (LCD：Liquid Crystal Display Panel)作為顯示面板的觸碰面板用導電膜為代表例進行說明，但本發明並不限定於此，只要為設置於下述各種顯示裝置的顯示單元上的導電膜，則不限定於觸碰面板用導電膜，無論何者均可，例如當然亦可為電磁波屏蔽用導電膜等。
圖1是表示本發明實施形態的顯示裝置的示意圖。圖2 之(a)是表示本發明實施形態的導電膜的一例的示意性剖面圖，圖2之(b)是表示本發明實施形態的導電膜的配線圖案的一例的示意圖。
如圖1所示，本實施形態的顯示裝置10包括面板狀的觸碰感測器12(觸碰面板)、及顯示單元14。
此處，觸碰感測器12具備依序積層的第1黏著層16、本實施形態的導電膜18、第2黏著層20、及保護層22、以及經由電纜21電性連接於導電膜18的檢測控制部23。此處，觸碰感測器12較佳為介隔第1黏著層16或接著層貼附於顯示單元14上，但亦可僅載置於該顯示單元14上。
又，顯示單元14具備：背光(backlight)單元(BLK)24，射出面狀照明光；以及液晶顯示胞(LCC)26，藉由背光單元24而自背面受到照明，構成顯示部。
如圖1所示，本實施形態的導電膜18是設置於顯示裝置10的顯示單元14上，且具有如下配線圖案的導電膜，該配線圖案是在對顯示單元14的下述液晶顯示胞26的畫素排列、及黑色矩陣(以下亦稱為BM)抑制疊紋產生的方面優異，尤其於重疊 於黑色矩陣圖案(以下亦稱為BM圖案)時對該BM圖案，可不依存於視角地減少疊紋的產生，使視認性提昇。
如圖2之(a)所示，導電膜18包括：透明基體30；配線層34a及配線層34b，形成於透明基體30的表面30a及背面30b的各面，且由多條金屬製細線(以下稱為金屬細線)32形成。
透明基體30包含具有絕緣性且透光性高的材料，例如可列舉樹脂、玻璃(glass)及矽(silicon)等材料。作為樹脂，例如可列舉聚對苯二甲酸乙二酯(Polyethylene Terephthalate，PET)、聚甲基丙烯酸甲酯(Polymethyl methacrylate，PMMA)、聚丙烯(polypropylene，PP)及聚苯乙烯(polystyrene，PS)等。透明基體30的厚度d為100~150μm左右。
又，透明基體30為至少一層即可。
配線層34a及配線層34b具有相同或同樣的配線圖案35，且以下層的配線層34b的金屬細線32位於上層的配線層34a的相鄰的兩根金屬細線32之間的方式，將下層的配線層34b相對於上層的配線層34a偏移相位地配置。例如下層的配線層34b是相對於上層的配線層34a偏移一半(1/2)間距地配置。具體而言，如圖2之(a)所示，以下層的配線層34b的金屬細線32位於上層的配線層34a的相鄰的兩根金屬細線32之間的中心的方式配置。於本說明書中，將此種配線層34a及配線層34b的配置狀態稱為下層的配線層34b相對於上層的配線層34a成為嵌套的狀態。即，下層的配線圖案35是相對於上層的配線圖案35偏移相位地配置，而成為嵌套。
配線層34a及配線層34b是在總稱時以配線層34表示， 但例如圖2之(b)所示，具有藉由多根金屬細線32而形成為網狀且排列有多個開口部36的配線圖案35。
構成配線層34(配線層34a及配線層34b)的金屬細線 32只要為導電性高的金屬製細線，則無特別限定，例如可列舉包含金(Au)、銀(Ag)或銅(Cu)線材等者。金屬細線32的線寬就視認性的方面而言較佳為線寬細者，但例如若為30μm以下即可。再者，於觸碰面板用途中，金屬細線32的線寬較佳為0.1μm以上、15μm以下，更佳為1μm以上、9μm以下，進而較佳為2μm以上、7μm以下。
於圖2之(b)所示的例中，配線層34是開口部36的 網形狀為菱形，但本發明並不限定於此，若可構成相對於下述規定的BM圖案將疊紋視認性最佳化的配線層34，且若為具有至少三邊的多邊形狀，則無論為何種形狀均可。又，配線層34可為同一網形狀，亦可為不同的網形狀，例如可列舉正三角形或等腰三角形等三角形、正方形或長方形等四邊形(矩形)、五邊形或六邊形等同一或不同的多邊形等。
於圖1所示的觸碰感測器12中，在導電膜18的透明基體30(參照圖2之(a))的背面30b(參照圖2之(a))，以覆蓋配線層34b(參照圖2之(a))的方式設置有第1黏著層16。再者，亦可代替第1黏著層16而設置PET膜等樹脂膜或玻璃板等。於此情形時，將觸碰感測器12的導電膜18介隔樹脂膜或玻璃板而設置於顯示單元14的液晶顯示胞26的顯示面。
於透明基體30(參照圖2之(a))的表面30a(參照圖2之(a))，以覆蓋配線層34a(參照圖2之(a))的方式設置有 第2黏著層20(參照圖1)。
作為第1黏著層16、第2黏著層20的材料，若為具有黏著性或接著性的樹脂材料即可，可列舉濕式層壓(wet laminate)接著劑、乾式層壓(dry laminate)接著劑、或熱熔(hot melt)接著劑等。
再者，第1黏著層16、及第2黏著層20可為同一材質，亦可為不同材質。
於第2黏著層20上設置有保護層22。該保護層22是用以保護導電膜18者，且與上述的透明基體30同樣地包含含有樹脂、玻璃或矽等的透光性高的材料，例如包括透明的樹脂膜或玻璃板等。保護層22的折射率n1較佳為等於或接近於透明基體30的折射率n0之值。在此情形時，透明基體30對於保護層22的相對折射率nr1成為接近1的值。
此處，本說明書中的折射率意指波長589.3nm(鈉(sodium)的D線)的光的折射率，例如於樹脂中，以作為國際標準規格的國際標準組織(International Organization for Standardization，ISO)14782：1999(與日本工業標準(Japanese Industrial Standard，JIS)K 7105對應)定義。又，透明基體30對於保護層22的相對折射率nr1是以nr1=(n1/n0)定義。此處，相對折射率nr1若處於0.86以上、1.15以下的範圍內即可，更佳為0.91以上、1.08以下。
可藉由將相對折射率nr1的範圍限定於該範圍內，控制透明基體30與保護層22的構件間的光的透過率，而進一步提昇、改善疊紋的視認性。
第2黏著層20的折射率n2及第1黏著層16的折射率 n3均為等於或接近於透明基體30的折射率n0之值。於此情形時，透明基體30對於第2黏著層20的相對折射率nr2及透明基體30對於第1黏著層16的相對折射率nr3均為接近1的值。此處，折射率及相對折射率的定義是如上述定義所述。因此，透明基體30對於第2黏著層20的相對折射率nr2是以nr2=(n2/n0)定義，透明基體30對於第1黏著層16的相對折射率nr3是以nr3=(n3/n0)定義。
此處，相對折射率nr2及相對折射率nr3與上述相對折 射率nr1同樣地處於0.86以上、1.15以下的範圍內即可，更佳為0.91以上、1.08以下。
再者，可藉由將相對折射率nr2、及相對折射率nr3的 範圍限定於該範圍內，而與相對折射率nr1的範圍限定同樣地進一步提昇疊紋的視認性。
導電膜18的配線層34a及配線層34b是經由電纜21而 電性連接於包括形成於可撓性(flexible)基板(未圖示)上的電子電路的檢測控制部23。
可撓性基板是具有可撓性的電子基板。檢測控制部23 是配置於背光單元24的下側，但該配置位置並無特別限定，可根據顯示裝置10的構成進行各種變更。
檢測控制部23是檢測在形成有配線層34a及配線層34b 的區域，使作為導體的接觸體(未圖示)自外部與導電膜18接觸的位置。例如若導電膜18為靜電電容方式者，則檢測控制部23包括如下的電子電路，該電子電路捕捉接觸或接近時的接觸體與 導電膜18之間的靜電電容的變化，從而檢測該接觸位置或近接位置。
再者，圖2之(a)所示的導電膜18是於透明基體30 的兩面分別包括配線層34a及配線層34b者，但本發明並不限定於此。例如亦可為如圖3所示的導電膜18a般的導電膜，該導電膜構成為如下：積層多個僅於透明基體30的表面30a、即僅於其中一個面形成有配線層34(配線層34c及配線層34d)的導電膜要素19(導電膜要素19a及導電膜要素19b)。如此般，於積層有多層導電膜要素19的導電膜18a的情形時，分別具有相同或同樣的配線圖案35的配線層34(配線層34c及配線層34d)是如上所述全部相同或同樣的配線圖案35，且將上層的配線層34(配線層34c或配線層34d)以相對於下層的配線層34(配線層34d或配線層34c)成為嵌套的狀態的方式偏移相位地配置。
具體而言，如圖3所示，自上而下為第奇數k(2n-1： n=自然數(1、2、…))個導電膜要素19a的配線層34全部包含同一構成的配線層34c，且自上而下為第偶數k(2n：n=自然數(1、2、…))個導電膜要素19b的配線層34全部包含同一構成的配線層34d，但配線層34c相對於配線層34d，以偶數層的配線層34d的金屬細線32位於奇數層的配線層34c的相鄰的兩根金屬細線32之間，較佳為位於其中心的方式，偏移相位地配置。再者，配線層34d相對於配線層34c，同樣地偏移相位地配置。
配線層34、即配線層34c及配線層34d分別為與配線層34a及配線層34b相同的構成，故而省略其詳細說明。
再者，關於配線層34的積層數，即便於使用在透明基 體30的兩面分別形成有配線層34a及配線層34b的導電膜18的情形時、於使用積層有僅在透明基體30的其中一個面形成有配線層34的導電膜要素19(導電膜要素19a、導電膜要素19b)的導電膜18a的情形時，亦並無特別限定，可根據作為觸碰感測器、或觸碰面板所要求的規格，適當地進行選擇。
導電膜18、導電膜18a可為靜電電容方式及電阻膜方式中的任一種方式，又，亦可為組合靜電電容方式及電阻膜方式者。
於以下的說明中，主要以導電膜18為代表例進行說明，但當然亦可適用於導電膜18a。
如上所述，顯示單元14例如包括背光單元24及液晶顯示胞26。
背光單元24可適當利用與液晶顯示胞26對應的公知者，且並不限定於邊緣照明(edge light)(側光(side light)、或導光板)方式的背光，當然亦可為正下方型。
又，關於液晶顯示胞26，亦可用作顯示單元14的顯示面板，故而只要具備規定的畫素排列圖案，則可適當利用公知者。再者，作為本發明中使用的顯示面板，並不限定於液晶顯示胞26，亦可使用電漿顯示面板(PDP：Plasma Display Panel)、有機電致發光顯示面板(OELD：Organic Electro Luminescence Display Panel)、及無機電致發光顯示面板(Inorganic Electro Luminescence Display)等顯示面板。作為背光單元24，可適當利用與所使用的顯示面板對應者。因此，亦可根據顯示面板，無需設置背光單元24。
圖4是表示應用本發明的導電膜的液晶顯示胞的一部分 畫素排列圖案的一例的示意圖。
如圖4中表示其一部分般，於液晶顯示胞26中，將多個畫素40排列成矩陣(matrix)狀，構成規定的畫素排列圖案。一個畫素40是使三個子畫素(subpixel)(紅色子畫素40r、綠色子畫素40g及藍色子畫素40b)排列於水平方向而構成。一個子畫素是形成為於垂直方向上設為縱長的長方形狀。畫素40的水平方向的排列間距(水平畫素間距Ph)與畫素40的垂直方向的排列間距(垂直畫素間距Pv)大致相同。即，包含一個畫素40與包圍該一個畫素40的黑色矩陣(BM)42的形狀(參照以影線表示的區域44)成為正方形。又，一個畫素40的長寬比(aspect ratio)並非為1，而成為水平方向(橫向)的長度>垂直方向(縱向)的長度。
根據圖4可明確，包括多個畫素40的各個紅色子畫素40r、綠色子畫素40g及藍色子畫素40b的畫素排列圖案是藉由分別包圍該等紅色子畫素40r、綠色子畫素40g及藍色子畫素40b的BM42的BM圖案46來規定，且將液晶顯示胞26與導電膜18重疊時產生的疊紋是因液晶顯示胞26的BM42的BM圖案46與導電膜18的配線層34的干涉而產生，故而，嚴格而言，BM圖案46是畫素排列圖案的反轉圖案，但於此處作為表示相同的圖案者處理。
於具有包括上述液晶顯示胞26的BM42的BM圖案46的液晶顯示胞26上，例如在配置導電膜18的情形時，將導電膜18的配線層34a、配線層34b相對於BM圖案46，以於疊紋視認性的方面不依存於視角變化的方式進行最佳化，故而，即便如下 所述地視角變化，亦幾乎不存在畫素40的排列週期與導電膜18或導電膜18a的金屬細線32的配線排列週期之間的空間頻率干涉，從而可抑制疊紋產生。
上述本發明的導電膜18及導電膜18a是例如應用於圖1 中示意性表示的顯示單元14的液晶顯示胞26的觸碰感測器12，但相對於顯示單元14的畫素排列圖案、及BM(黑色矩陣)圖案46，於疊紋視認性方面，具有不依存於對於顯示單元14的液晶顯示胞26的視角(觀察角)地經最佳化處理的配線圖案35。再者，於本發明中，所謂相對於BM(畫素排列)圖案於疊紋視認性方面經最佳化處理的配線圖案是指即便相對於規定的BM圖案改變視角，亦不會使疊紋被人的視覺察覺的一個或兩個以上的一群配線圖案。
本實施形態的顯示裝置10及導電膜18、導電膜18a基本上為如上所述的構成。
以下，對在本發明中導電膜的配線圖案對於顯示裝置的規定的BM圖案的疊紋視認性的評估、及不依存於視角(觀察角)的最佳化進行說明。即，對在本發明的導電膜中即便使視角相對於顯示裝置的規定的BM圖案變化，亦以疊紋不被人的視覺察覺的方式被最佳化的配線圖案及決定最佳化的配線圖案的順序進行說明。
此處，對配線圖案相對於規定的BM圖案的疊紋視認性不依存於視角的最佳化、即不依存於視角(觀察角)地減少BM圖案與配線圖案的干涉造成的疊紋產生進行說明，在此之前，首先對導電膜的配線圖案與視角的關係進行說明。
圖5是表示於圖2之(a)所示的導電膜中對應於不同 的視角所分別形成的不同的配線圖案像的一例的示意圖。
如該圖所示，於視角θ為零(zero)(θ=0)、即自相對 於透明基體30的表面30a垂直方向觀察的情形時，將導電膜18的配線層34a及配線層34b的配線圖案35以投影至與透明基體30的表面30a平行的面50上成為合成配線圖案像54者進行觀察。
另一方面，於視角θ不為零(θ≠0)、即自相對與透明 基體30的表面30a垂直的方向傾斜規定角度θ的方向觀察的情形時，將導電膜18的配線層34a及配線層34b投影至相對於上述面50僅傾斜上述角度θ的面52上成為合成配線圖案像56。
此處，於形成於面50上的合成配線圖案像54及形成於 面52上的合成配線圖案像56中，白標記是形成表側，即形成觀察側的配線層34a的配線圖案35的金屬細線32的投影像，黑標記是形成背側的配線層34b的配線圖案35的金屬細線32的投影像。
於導電膜18中，配線層34a及配線層34b具有相同的 配線圖案35，且配線層34a及配線層34b的各配線圖案35具有相同的間距P1，故而若將合成配線圖案像54與合成配線圖案像56加以比較，則於合成配線圖案像54中，配線層34a及配線層34b的各配線圖案35的投影像的間距(相鄰的白標記間的間隔及相鄰的黑標記間的間隔)P1a均成為相同的間距P1(P1a=P1)，並無不同，但合成配線圖案像56中，存在視角θ(例如0<θ<π/2)，故而配線層34a及配線層34b的各配線圖案35的投影像的間距P1b均以P1cosθ(P1b=P1cosθ)表示，且0<cosθ<1(0<θ<π/2)， 導致窄於P1(P1b=P1cosθ<P1)。
又，配線層34a的配線圖案35與配線層34b的配線圖 案35是相位僅相互偏移1/2間距，故而兩者間的間距(相位差)P2成為P1/2(P2=P1/2)。因此，於合成配線圖案像54中，配線層34a及配線層34b的兩配線圖案35的投影像間的間距(相鄰的白標記與黑標記之間的間隔)P2a全部成為相同的相位差F，並無不同，但合成配線圖案像56中存在視角θ(例如0<θ<π/2)，故而受到導電膜18的透明基體30的影響，配線層34a及配線層34b的兩配線圖案35的投影像間的間距P2b及間距P2c若將透明基體30的厚度設為d，則由P2cosθ-dsinθ(P2b=P2cosθ-dsinθ)及P2cosθ+dsinθ(P2c=P2cosθ+dsinθ)(絕對值)表示，且一者變得窄於P2(P2b<P2)，另一者變得寬於P2(P2c>P2)。即，於配線層34a及配線層34b的兩配線圖案35的投影像間，產生依存於透明基體30的厚度d的相位偏移dsinθ。
其結果，如下所述，於合成配線圖案像54中，配線間 距成為等間距(參照圖7之(a))，但於合成配線圖案像56中，成為使鄰接的配線間距成為不等間隔的配線圖案重複者(參照圖8之(a))。
其原因在於：由於自與正面(視角=0°)傾斜的位置(視 角θ)進行觀察，故而受到透明基體30的厚度d的影響。如此般，配線層34a及配線層34b的合成配線圖案像56因視角θ而受到透明基體30的厚度d的影響。再者，於圖5中，為明確地表示構成配線圖案35的金屬細線32，而將其厚度相對透明基體30的厚度進行強調，但金屬細線32的厚度與透明基體30的厚度相比可忽 視，故而，將透明基體30的厚度d以包含構成配線圖案35的金屬細線32的厚度者進行表示。
且說，疊紋的視認性是由藉由兩個圖案的干涉而獲得的 疊紋的頻率及疊紋的強度所決定。具體而言，計算兩個圖案的圖案資料的二維傅立葉頻譜(2DFFTSp)，自兩個圖案的二維傅立葉頻譜分別逐一地選擇頻譜峰值，且藉由該兩個頻譜峰值的(空間)頻率差、即以空間頻率座標上的峰值間的相對距離所賦予的疊紋的頻率、及以兩個頻譜峰值的峰值強度之乘積所賦予的疊紋的強度而決定。
另一方面，於表示圖案的空間頻率特性的二維傅立葉頻 譜(2DFFTSp)圖像(空間頻率座標)中，頻譜峰值由圖案間距的倒數表現，故而，為了檢測藉由液晶顯示胞26的BM圖案與導電膜18的配線層34的配線圖案的兩個圖案的干涉而視認的疊紋，只要獲知BM圖案的間距(μm)及配線層的配線圖案的間距(μm)即可。
如上所述，疊紋的視認性是由疊紋的頻率及強度而決 定，但即便疊紋的頻率為可視認的頻率，若該強度為無法視認的強度，則現實中疊紋亦無法視認，且即便強度達到某種程度，只要疊紋的頻率為無法視認的頻率，則疊紋亦無法視認。
因此，原本就疊紋視認性的最佳化觀點而言，如上所 述，亦應對疊紋的強度進行考量，但於考慮因BM圖案與配線圖案的兩個圖案的干涉而可視認的疊紋的情形時，及於考量依存於觀察BM圖案即液晶顯示胞26的顯示畫面的角度、即視角的疊紋的情形時，難以相應於視角定義疊紋的強度。其原因在於：若視 角θ變化，則如上所述，若配線層34a及配線層34b的各配線圖案35的投影像間距設為配線圖案35本身的間距P1時，將以視角θ為參數(parameter)，以P1cosθ進行變化，並且相對於其中一個配線層、例如配線層34a的配線圖案35，另一配線層、例如配線層34b的配線圖案35的相位以該透明基體30的厚度d及視角θ為參數，以dsinθ進行變化，且頻譜峰值的峰值頻率及峰值強度進行變化，其結果，疊紋的頻率及疊紋的強度亦相應地變化。再者，θ為視角，且如圖5所示，將正面設為θ=0°。
根據以上所述，於本發明中，僅使用頻率預測疊紋。
於獲取用於2DFFT(二維高速傅立葉變換)處理的峰值 頻率時，為算出峰值，而根據BM圖案46及配線層34的配線圖案的基頻求出頻率峰值(峰值頻率)。其原因在於：用於2DFFT處理的資料為離散值，故而二維傅立葉頻譜的峰值頻率(頻譜峰值的頻率)依存於圖像尺寸(size)的倒數。如圖6所示，二維傅立葉頻譜的頻率峰值位置(頻譜峰值的位置)能夠以獨立的二維基頻向量分量a橫號(bar)及b橫號為基礎組合地表示。因此，勿庸置疑，所得的峰值位置成為格子狀。再者，圖6是表示配線層34的頻率峰值位置的圖表，但亦能夠以與配線層34相同的方式求出BM圖案46。
例如對圖7之(a)所示的正面觀察(視角為0°)下的 配線層34a及配線層34b的合成配線圖案像54進行二維傅立葉變換，求出二維傅立葉頻譜，藉此，求出配線層34a及配線層34b的合成配線圖案像54的空間頻率特性(FFT圖像)。其結果示於圖7之(b)中。
又，對圖8之(a)所示的斜向觀察(視角不為0°)下 的配線層34a及配線層34b的合成配線圖案像56進行二維傅立葉變換，求出二維傅立葉頻譜，藉此，求出配線層34a及配線層34b的合成配線圖案像56的空間頻率特性(FFT圖像)。其結果示於圖8之(b)中。
此處，如上述圖5所示，斜向觀察(視角不為0°)時的 合成配線圖案像56的間距P1b是相應於觀察方向而相對於正面觀察(視角為0°)時的合成配線圖案像54的間距P1a變窄。於下文進行詳細說明，但於求出斜向觀察(視角不為0°)時的合成配線圖案像56的空間頻率特性(FFT圖像)時，將斜向觀察時的合成配線圖案像56的間距P1b擴大，使其與正面觀察時的間距P1a相同。
如上所述，斜向觀察(參照圖8之(a))是相對於配線 間距成為等間距的正面觀察(參照圖7之(a))，使鄰接的配線間距成為不等間隔的配線圖案進行重複。
因此，斜向觀察(參照圖8之(b))的FFT圖像與正面 觀察(參照圖7之(b))的FFT圖像相比，頻譜峰值的峰值間隔短，於使配線圖案重疊於BM圖案的情形時，產生依存於視角的畫質劣化。
再者，圖7之(b)及圖8之(b)所示的FFT圖像中(空 間頻率座標上)的黑底中的白點及灰(gray)點表示頻譜峰值，且白點及灰點的濃度依存於頻譜峰值的峰值強度，但就本發明的疊紋視認性的最佳化而言，未考慮峰值強度，而使用頻譜峰值的峰值頻率，故而，將空間頻率座標上的峰值位置設為以白點及灰點 表示者。
再者，於求出配線圖案(合成配線圖案)及BM圖案的 頻譜峰值的峰值頻率的情形時，例如於對各圖案的頻率特性(峰值頻率及峰值強度)捲積人的標準視覺響應特性時，亦可僅選定特定的強度以上者。藉由如此方法，而僅求出所選定的峰值彼此的差值，故而可縮短計算時間。
因此，為了防止於使配線圖案重疊於BM圖案的情形時 依存於視角的畫質劣化，只要對於在配線層中設計於正面的配線圖案，使畫質不依存於視角而劣化即可。為此，將設計於正面的配線層的配線圖案(合成配線圖案像54(參照圖5))的頻率特性與因相位偏移而產生的配線層的配線圖案(合成配線圖案像56(參照圖5))的頻率特性進行比較，滿足正面的畫質≦依存於視角的畫質即可。即，預測正面觀察的疊紋、及依存於視角所觀察的疊紋的頻率即可。
如圖3所示，於配線層的配線圖案重疊多層的情形時， 前提為於k=1(第一層)、k=2(第兩層)時，配線層34(配線層34c與配線層34d)成為上述嵌套的狀態，且於正面觀察時，合成配線圖案像54具有單一頻率。
再者，製造差異當然包含在內，故而，於配線層的配線圖案中，即便產生5%左右的誤差，亦視作大致固定的規則性圖案。
於遍及多層地重疊具有配線圖案的配線層的情形時，就透過率提昇的觀點而言，於k=2n、k=2n+1時，將配線層34(配線層34c、配線層34d)如上述配線層34a、配線層34b般偏移相位地配置，從而成為上述嵌套的狀態。
此處，配線層的配線圖案全部為等間距。即，金屬細線 32的間隔相同。於本發明中，以下層的配線層的金屬細線32亦位於最上層的配線層的金屬細線32之間距間為前提。於圖3所示的例中，於最上方的配線層34，在左起兩個金屬細線32之間配置有該第2個配線層34的金屬細線32。亦於第3個配線層34之後，在自最上方的配線層34的左起兩個金屬細線32之間，配置有配線層34的金屬細線32。即便積層數多，下層的配線層的金屬細線32亦位於最上層的配線層的金屬細線32的間距間。
基於上述前提，依存於視角，對將第k個配線層34為 止亦考慮在內的配線層34的配線圖案(參照合成配線圖案像56)的頻率特性進行預測時，若將包括k=1、k=2的配線層34的配線圖案(參照合成配線圖案像54)的基頻(最低的峰值頻率分量的頻率)設為f1，則根據由k=1、k=2的配線層34形成的重複圖案考量f1/2進行設計即可。例如於k=2的情形時，正面的頻率特性成為f1，依存於視角的頻率特性成為f1/2。即，正面的頻率特性的一半。
正面觀察時產生的疊紋能夠以配線層的配線圖案的正 面觀察下的頻率特性f1為基礎，以與BM圖案的空間頻率特性的捲積進行表示。依存於視角而產生、即於斜向觀察時產生的疊紋的頻率亦能夠以依存於視角(斜向觀察下)的配線層的配線圖案的頻率特性f1/2為基礎，利用與BM圖案的空間頻率特性的捲積進行表示。
以下，以k=2的情形為例，更具體地進行說明。
再者，於k=2的情形時，作為構成，例如可列舉：導 電膜18，於圖2之(a)所示的1個透明基體30的兩面分別具有配線層34a、配線層34b；及導電膜18a，如圖3所示積層有於透明基體30的表面30a形成有配線層34c者與於透明基體30的表面30a形成有配線層34d者。
對於圖9之(a)所示的自正面觀察的配線圖案，實施 2DFFT處理，求出二維傅立葉頻譜，藉此，可獲得圖9之(b)所示的空間頻率特性(FFT圖像)。
另一方面，對於圖10之(a)所示的自斜向觀察的配線 圖案，實施2DFFT處理，求出二維傅立葉頻譜，藉此，可獲得圖10之(b)所示的空間頻率特性(FFT圖像)。
亦於圖9之(b)、圖10之(b)隨後進行詳細說明，但 與上述圖7之(b)、圖8之(b)的情形相同，於求出斜向觀察(視角不為0°)時的配線圖案像的頻率特性(FFT圖像)時，將斜向觀察時的合成配線圖案像56的間距P1b擴大，使其與正面觀察時的間距P1a相同。
再者，圖9之(b)及圖10之(b)所示的FFT圖像中 (空間頻率座標上)的黑底中的白點及灰點表示頻譜峰值，且白點及灰點的濃度依存於頻譜峰值的峰值強度，但就本發明的疊紋視認性的最佳化而言，未考慮峰值強度，而使用頻譜峰值的峰值頻率，故而，將空間頻率座標上的峰值位置以白點及灰點進行表示。
若將圖9之(b)所示的自正面觀察的配線圖案的空間 頻率特性與圖10之(b)所示的自斜向觀察的配線圖案的空間頻率特性加以比較，則關於峰值間隔，斜向觀察的FFT圖像的頻譜峰值的峰值間隔成為正面觀察的FFT圖像的頻譜峰值的峰值間隔 的一半。該情況表示因賦予視角，而相對於其中一個配線圖案，另一個配線圖案的相位偏移，配線圖案的週期成倍。該情況與依存於上述視角的頻率特性成為f1/2一致。
BM圖案的頻率特性是由液晶顯示胞26的構成而決定， 且為固定。因此，為了成為正面觀察的畫質≧產生視角時觀察的畫質，而在以對二維傅立葉頻譜中的BM圖案的頻率及配線層的配線圖案的頻率考慮最多10次的條件為基礎，將於正面觀察的疊紋的最低頻率設為第1最低頻率fm1，將產生視角時觀察的疊紋的最低頻率設為第2最低頻率fm2時，配線層具有滿足fm1≦fm2的配線圖案即可。
其原因在於：自斜向方向所視認的疊紋的頻率是對自正 面方向視認的疊紋的頻率追加藉由自斜向方向進行觀察而增加的配線圖案的峰值量+α。因此，於自正面觀察時畫質方面最優異，於自斜向方向觀察時的畫質必然變差。為了最大限度地抑制畫質變差的程度，而將第1最低頻率fm1設為第2最低頻率fm2以下即可。因此，於本發明中，關於配線層，設為fm1≦fm2。於fm1=fm2時，自斜向方向觀察時的畫質未劣化，正面的畫質=依存於視角的畫質。
此處，如上述圖5所示，於產生視角的情形時，配線圖 案的間距P1b相對於在正面觀察的配線圖案的間距P1a變窄。於本發明中，以產生視角時的配線圖案的間距與自正面觀察的配線圖案的間距相同為前提條件，求出該等配線圖案的空間頻率。因此，必須將產生視角時的配線圖案的間距以與自正面觀察的配線圖案的間距相同的方式擴大。於BM圖案中，當產生視角時，亦 產生與配線圖案的間距相同的情況，故而，即便BM圖案，亦以與正面觀察時相同的方式擴大。
再者，以成為自正面觀察的配線圖案的間距的方式，將產生視角時的配線圖案的間距擴大的情況，以下簡稱為「規格化」。
關於規格化，若已知視角θ，則對斜向觀察時的配線圖案的間距，可藉由使用1/cosθ作為視角依存係數而規格化。此情形時，亦對BM圖案，可藉由使用1/cosθ而達到與正面觀察時相同。
除此以外，亦可使用BM圖案，以如下方式規格化。
例如，當正面觀察時的BM圖案為正方形，且於斜向觀察時BM圖案呈長方形的情形時，求出用以使該長方形以成為正面觀察時的正方形的方式擴大的係數(擴大率)。可藉由使用該係數而進行規格化。關於BM圖案，亦與配線圖案的間距同樣地，可藉由使用該係數而達到與正面觀察時相同。再者，只要可規格化，則其方法並不限定於上述的方法。
再者，以上述前提條件為基礎，於產生視角時的空間頻率中包含自正面觀察時的空間頻率。關於該方面，以下具體地進行說明。
若將上述的圖7之(b)與圖8之(b)重疊，則圖7之(b)的頻譜峰值與圖8之(b)的頻譜峰值完整地重疊。其原因在於：以上述前提條件為基礎，產生視角時所觀察的配線圖案的重複週期相對於自正面觀察的配線圖案的重複週期成倍。藉此，產生視角時觀察的配線圖案的頻率峰值出現在自正面觀察的配線圖案的頻率峰值的位置的一半處，頻譜峰值完整地重合。因此，圖7 之(b)的頻譜峰值包含所有圖8之(b)的頻譜峰值的位置。
如上所述，疊紋的頻率是由配線圖案與BM圖案的峰值的空間頻率差(空間頻率座標上的峰值間的相對距離)賦予。因此，自斜向方向視認的疊紋的頻率被追加自正面方向視認的疊紋的頻率+藉由自斜向方向進行觀察而增加的配線圖案的峰值量+α者。
於圖11之(a)及圖11之(b)中，分別表示滿足本發明的疊紋的空間頻率條件fm1≦fm2的配線圖案與BM圖案的組合的本發明例的正面觀察圖像及斜向觀察圖像的一例。
於圖12之(a)及圖12之(b)中，分別表示不滿足本發明的疊紋的空間頻率條件fm1≦fm2的比較例的正面觀察圖像及斜向觀察圖像的一例。
於圖11之(a)及圖11之(b)所示的滿足fm1≦fm2的本發明例中，為了表示因觀察方向自正面變為斜向引起的配線圖案的變化，而強調地表示配線圖案，但可知即便觀察方向自正面變為斜向，亦不會產生新的低頻疊紋。
對此，於圖12之(a)及圖12之(b)所示的不滿足fm1≦fm2的比較例中，可知於觀察方向為正面的情形時疊紋完全未能視認，但於觀察方向為斜向的情形時，如圖12之(b)中由箭頭所示，產生新的低頻疊紋。
如此般，可明確於本發明中藉由滿足疊紋的空間頻率條件fm1≦fm2，而可減少疊紋的產生。
再者，於本發明中，為了求出疊紋的頻率，BM圖案及配線圖案中的任一者均使用二維傅立葉頻譜的頻率最多10次(峰 值頻率最多10次)。該方法是基於若使用二維傅立葉頻譜的頻率最多10次，則大致包含可視認的疊紋的本發明者的經驗規則(empirical rule)者。即，其原因在於：二維傅立葉頻譜的11次以上的高次項的峰值強度即便忽視，亦不會成為可視認程度的疊紋。
再者，所謂可視認的疊紋是指例如強度以常用對數計為-4.0以上(以逆對數計為10-4以上)者。
根據以上所述，於顯示裝置10及導電膜18中，關於積層兩層的配線層34a、配線層34b，如上所述滿足fm1≦fm2，藉此，即便於使導電膜18重疊於液晶顯示胞26的BM圖案46的情形時，亦可不取決於視角地減少因導電膜18的配線圖案35與液晶顯示胞26的BM圖案46的干涉造成的疊紋產生。藉此，於顯示裝置10中，可使來自斜向方向的畫質提昇，從而可進一步提昇包含視角等在內的整體的畫質。
其次，對於在重疊於顯示裝置10的液晶顯示胞26的導電膜18中，決定可不取決於視角地減少疊紋產生的配線圖案的順序進行說明。
圖13是表示本發明的導電膜的配線層的配線圖案的決定方法的一例的流程圖。
本發明的導電膜的配線層的配線圖案的決定方法為如下方法：根據自藉由使用顯示裝置10的液晶顯示胞26的BM圖案46與導電膜18的配線層34a及配線層34b的配線圖案35的二維高速傅立葉變換(2DFFT)的頻率分析所得的各圖案的空間頻率特性作為兩圖案的峰值頻率的差值(峰值位置間的相對距離)所賦予的疊紋頻率，算出疊紋的最低頻率，使用算出的疊紋的最 低頻率，決定不取決於視角地減少疊紋產生的配線層的配線圖案。於求出疊紋的頻率時，一般而言利用FFT，但因利用方法不同，對象物的頻率會較大地變化，故而規定以下的順序。
於決定方法中，首先，作為順序1，進行BM圖案及配 線層的配線圖案的透過率圖像資料的製作。即，如圖13所示，於步驟S10中，製作並獲取圖5所示的顯示裝置10的液晶顯示胞26的BM圖案46(BM42)(參照圖4)的透過率圖像資料、及導電膜18的配線層34a及配線層34b(金屬細線32)(參照圖14之(b))的配線圖案的透過率圖像資料。
於此情形時，關於配線層34a、配線層34b，對視角為 零即正面觀察時的合成配線圖案、及於存在視角時即斜向觀察的合成配線圖案，進行透過率圖像資料的製作。
本實施形態的重要之處在於如何根據二維傅立葉頻譜 精度良好地擷取頻率，故而使用週期邊界條件，製作BM圖案及配線層的配線圖案的透過率圖像資料。
再者，於預先準備或儲存有BM圖案46的透過率圖像 資料、及配線層34a、配線層34b的配線圖案的透過率圖像資料(視角為零及存在視角)的情形時，亦可自所準備或儲存的透過率圖像資料中獲取。
例如，如圖14之(a)及其之區域H的局部放大圖即圖 14(c)所示，液晶顯示胞26的BM圖案46可設為每一畫素40均包含RGB3色的紅色子畫素40r、綠色子畫素40g及藍色子畫素40b的圖案，但於利用單色，例如僅利用G通道(channel)的綠色子畫素40g時，R通道及B通道的透過率圖像資料較佳為設為 0。於本發明中，作為BM42的圖像資料、即BM圖案46的透過率圖像資料，如圖14之(a)所示，並不限定於具有BM42的長方形開口(紅色子畫素40r、綠色子畫素40g及藍色子畫素40b)者，只要為可使用的BM圖案，則亦可為不具有BM42的長方形開口者，且亦可指定使用具有任意的BM開口的BM圖案。例如不限定於單純的矩形狀者，亦可為複雜的L型彎曲者，或亦可為鉤狀者。
另一方面，關於導電膜18的配線層34a、配線層34b， 例如圖14之(b)所示，形成為作為配線的金屬細線32傾斜45°而成的正方格子的配線圖案35狀。配線層34a是設置於透明基體30(未圖示)的正面(未圖示)，配線層34b是設置於透明基體30(未圖示)的背面(未圖示)。
再者，此處，BM圖案46及配線層34a、配線層34b的 配線圖案的透過率圖像資料的尺寸若可使用週期邊界條件週期性地切取BM圖案46及配線層34a、配線層34b的配線圖案的透過率圖像資料，則並無特別限定。此處，所謂週期性是指使圖像以週期重複者，例如若為配線層34a、配線層34b的配線圖案，則表示如圖9之(a)所示的形態。如上所述，只要可使用週期邊界條件週期性地切取，則可使圖像週期地重複，故而不需要混疊處理、或翻轉(flip)處理。
繼而，作為順序2，對順序1中製作的各透過率圖像資 料進行二維高速傅立葉變換(2DFFT(基底2))。即，如圖13所示，於步驟S12中，對步驟S10中製作的BM圖案46及配線層34的各透過率圖像資料進行2DFFT(基底2)處理。繼而，根據BM 圖案46及配線層34的各透過率圖像資料的二維傅立葉頻譜，算出多個頻譜峰值的峰值頻率。
此處，圖15是表示BM圖案的各透過率圖像資料的二 維傅立葉頻譜的空間頻率特性的圖。再者，於圖15中，白色部分表示BM圖案46的頻譜峰值。根據圖15所示的結果，對於BM圖案46算出頻譜峰值的峰值頻率。即，圖15所示的BM圖案46的二維傅立葉頻譜的頻譜峰值的頻率座標上的位置、即峰值位置表示峰值頻率。再者，該峰值位置上的二維傅立葉頻譜的強度成為峰值強度。
關於配線層34a、配線層34b，例如於視角為零、即正 面的情形時，使用圖9之(b)所示的二維傅立葉頻譜的空間頻率特性，於存在視角的情形時、即斜向的情形時，使用圖10之(b)所示的二維傅立葉頻譜的空間頻率特性。
此處，關於BM圖案46及配線層34a、配線層34b的各頻譜峰值的頻率，以如下方式算出獲取。
對於獲取峰值頻率，如上所述，可獲取BM圖案46及配線層34a、配線層34b的配線圖案的峰值頻率。
繼而，作為順序3，進行疊紋的頻率資訊的算出。即，如圖13所示，於步驟S14中，根據步驟S12中算出的BM圖案46及配線層34a、配線層34b的配線圖案的各二維傅立葉頻譜的峰值頻率的差值，算出多個疊紋的頻率作為疊紋的頻率資訊。於本發明中，關於各二維傅立葉頻譜的峰值頻率，如上所述，較佳為基於可大致包含可視認的疊紋的經驗規則，使用最多10次頻率。
於實際空間(real space)中，疊紋原本是因配線層34a、 配線層34b的配線圖案與BM圖案46的透過率圖像資料的相乘所引起，故而於頻率空間中，進行兩者的捲積積分。藉此，可獲得BM圖案46與正面的配線層34a、配線層34b的疊紋頻率。又，可獲得BM圖案46與存在視角時的配線層34a、配線層34b的疊紋頻率。
繼而，作為順序4，進行疊紋的視角特性判定。
具體而言，首先，如圖13所示，於步驟S16中，使用步驟S14中所得的疊紋的頻率資訊，自BM圖案46與正面的配線層34a、配線層34b的合成配線圖案的多個疊紋頻率中，算出最低頻率，將該最低頻率設為第1最低頻率fm1。
繼而，自BM圖案46及存在視角時的配線層34a、配線層34b的合成配線圖案的多個疊紋頻率中，算出最低頻率，將該最低頻率設為第2最低頻率fm2。
繼而，於步驟S18中，將第1最低頻率fm1與第2最低頻率fm2進行比較。
若第1最低頻率fm1為第2最低頻率fm2以下、即fm1≦fm2，則決定配線層的配線圖案(步驟S22)。
另一方面，若第1最低頻率fm1並非為第2最低頻率fm2以下、即不滿足fm1≦fm2，則更新配線層的配線圖案的透過率圖像資料(步驟S20)。繼而，返回至步驟S12。
此處，經更新的新的配線層的配線圖案可為預先準備者，亦可為新製作者。再者，於新製作的情形時，可使配線層的配線圖案的透過率圖像資料的旋轉角度、間距及圖案寬度中的任一個以上變化，亦可變更配線層的配線圖案的開口部的形狀或尺 寸，且亦可將該等適當組合。
此後，重複如下各步驟直至達到fm1≦fm2為止，上述 步驟是步驟S12的峰值頻率的算出、步驟S14的疊紋的頻率資訊的算出、步驟S16的第1最低頻率fm1及第2最低頻率fm2的算出、步驟S18的第1最低頻率fm1與第2最低頻率fm2的比較、以及步驟S20的配線層的配線圖案的透過率圖像資料的更新。
如此，本發明的導電膜的配線層的配線圖案的決定方法 結束，從而可獲得即便重疊於顯示裝置的顯示單元的BM圖案亦可抑制疊紋產生，並且，即便具有視角亦可獲得抑制疊紋產生的具有配線圖案的本發明的導電膜。進而，可獲得具備具有上述配線圖案的導電膜18的觸碰感測器12(觸碰面板)及顯示裝置10。
本發明基本上以如上方式構成。以上，對本發明的導電膜、具備該導電膜的觸碰面板及顯示裝置進行了詳細說明，但本發明並不限定於上述實施形態，當然可於不脫離本發明精神的範圍內，進行各種改良或變更。
10‧‧‧顯示裝置
12‧‧‧觸碰感測器
14‧‧‧顯示單元
16‧‧‧第1黏著層
18‧‧‧導電膜
20‧‧‧第2黏著層
21‧‧‧電纜
22‧‧‧保護層
23‧‧‧檢測控制部
24‧‧‧背光單元
26‧‧‧液晶顯示胞

Claims (9)

  1. 一種導電膜，其設置於顯示裝置的顯示單元上，且其特徵在於包括：一個或兩個以上的透明基體；及兩層以上的配線層，形成於上述一個透明基體的兩面或上述兩個以上的透明基體各自的其中一個單面，且配置為層狀，具有規則性排列；上述配線層的配線圖案是重疊於上述顯示單元的畫素排列圖案者，且將下層配線層的配線圖案相對於上層偏移相位地配置，於將利用上述配線層的配線圖案的空間頻率特性與上述顯示單元的畫素排列圖案的空間頻率特性捲積所得的疊紋的空間頻率中的最低頻率設為第1最低頻率fm1，且將利用上述配線層的配線圖案的一半的空間頻率特性與上述顯示單元的畫素排列圖案的空間頻率特性捲積所得的疊紋的空間頻率中的最低頻率設為第2最低頻率fm2時，為fm1≦fm2。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的導電膜，其中上述配線層的配線圖案的空間頻率特性是相對於上述透明基體垂直的方向上的空間頻率特性，且上述配線層的配線圖案的一半的空間頻率特性是相對於上述透明基體傾斜規定角度的方向上的空間頻率特性。
  3. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的導電膜，其中於上述透明基體的兩面形成有上述配線層。
  4. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的導電膜，其中於一個面積層有多個形成有上述配線層的上述透明基體積層有多個。
  5. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的導電膜，其中上述配線層具有形成為網狀且排列有多個開口部的配線圖案。
  6. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的導電膜，其中上述畫素排列圖案為顯示單元的黑色矩陣圖案。
  7. 一種觸碰面板，其特徵在於包括：如申請專利範圍第1項至第6項中任一項所述的導電膜；以及檢測控制部，於形成有上述配線層的區域，檢測自外部接觸於上述導電膜的位置。
  8. 一種顯示裝置，其特徵在於包括：顯示單元；以及如申請專利範圍第1項至第6項中任一項所述的導電膜，設置於上述顯示單元上。
  9. 一種顯示裝置，其特徵在於包括：顯示單元；以及如申請專利範圍第7項所述的觸碰面板，設置於上述顯示單元上。
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