JP6503728B2 - 表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、電極を有したタッチパネルセンサ、タッチパネルセンサを含むタッチパネル装置、タッチパネルセンサを含む表示装置、並びに、タッチパネルセンサの製造方法に関する。

今日、入力手段として、タッチパネル装置が広く用いられている。タッチパネル装置は、多くの場合、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の画像表示機構が組み込まれた種々の装置等（例えば、券売機、ＡＴＭ装置、携帯電話、ゲーム機）に対する入力手段として、画像表示機構とともに用いられている。このような装置において、タッチパネルセンサは画像表示機構の表示面上に配置され、これにより、タッチパネル装置は表示装置に対する極めて直接的な情報の入力を可能にする。タッチパネルセンサのうちの画像表示機構の表示領域に対面する領域は透明になっており、タッチパネルセンサのこの領域が、接触位置（接近位置）を検出し得るアクティブエリアを構成するようになる。

タッチパネル装置は、タッチパネルセンサ上への接触位置（接近位置）を検出する原理に基づいて、種々の形式に区別され得る。昨今では、種々の利点から、投影型容量結合方式のタッチパネル装置が普及している。投影型の容量結合方式のタッチパネル装置は、アクティブエリア内に配置された一対の検出電極群を含んでいる。例えば特許文献１に開示されたタッチパネルセンサでは、アクティブエリア内に位置する検出電極が、金属材料からなる導線で形成されている。このタッチパネルセンサでは、金属材料の導電率が高いことから、面抵抗率（単位：Ω／□）を十分小さくすることができる。その一方で、導電性に優れた金属材料は、不透明である。したがって、各検出電極は、多数の開口領域を画成するメッシュパターンにて金属導線を配置してなる導電性メッシュとして、構成され、アクティブエリアでのタッチパネルセンサの可視光透過性を確保している。ただし、このような導電性メッシュは、モアレや濃淡むらといった不具合を引き起こすことが知られている。そして、このような不具合を解消するため、種々の研究が行われてきた。

特許第５２２４２０３号公報

モアレは、明暗の筋模様が視認されるようになる現象であり、導電性メッシュのパターン配列の規則性、即ち周期性と、導電性メッシュと重ねられる他の部材のパターンの周期性（例えば、画像表示機構の画素配列の周期性）との干渉によって生じるとされている。このため、一般的には、導電性メッシュのパターン単位格子の配列周期を不規則化すること、即ち非周期化が、モアレの不可視化に有効であるとされてきた。

一方、濃淡むらは、導電性メッシュの透過光量や導電性メッシュからの外光反射量が面内で不均一となり、明るく観察される部分が局所的に存在するようになる現象である。濃淡むらの発生は、導電性メッシュのパターンの局所的な不均一性、即ち非周期化が原因であると考えられている。

すなわち、モアレの不可視化には、導電性メッシュのパターンの非周期化が有効であり、濃淡むらの不可視化には、導電性メッシュのパターンの周期化が有効である。このため、従来の技術では、モアレ及び濃淡むらの両方に対処できる導電性メッシュは存在しなかった。本発明は、以上の点を考慮してなされたものであり、モアレ及び濃淡むらの両方を目立たなくさせる導電性メッシュを含んだタッチパネルセンサを提供することを目的とする。また、本発明は、このタッチパネルセンサを含むタッチパネル装置及び表示装置、並びに、このタッチパネルセンサの製造方法を提供することを目的とする。

本発明によるタッチパネルセンサは、
複数の開口領域を画成する導電性メッシュを含む検出電極を、備え、
前記導電性メッシュは、二つの分岐点の間を延びて前記開口領域を画成する導電性の接続要素を含み、
前記導電性メッシュの各分岐点は、二つの交点の間を延びて開口領域を画成する複数の線分から形成され前記開口領域が周期的に配列されてなる参照メッシュパターンの一つの交点上または所定長さ以下となる長さだけ当該一つの交点から変位した位置に位置しており、且つ、前記導電性メッシュの各接続要素は、一つの線分の両端に位置する二つの交点にそれぞれ対応する二つの分岐点の間を延びている。

本発明によるタッチパネルセンサにおいて、
前記参照メッシュパターンでは、一定形状の開口領域が交差する二以上の方向に周期的に配列されていてもよい。

本発明によるタッチパネルセンサにおいて、前記参照メッシュパターンでは、一定の四角形形状の開口領域が交差する二以上の方向に周期的に配列されていてもよい。

本発明によるタッチパネルセンサにおいて、
前記参照メッシュパターンは、各々が第１方向に直線状に延び且つ前記第１方向に直交する方向に一定周期で配列された複数の第１の直線群と、各々が第２方向に直線状に延び且つ前記第２方向に直交する方向に前記一定周期で配列された第２の直線群と、によって画成され、
前記第１方向と前記第２方向とがなす角度は、６０°以上８０°以下であるようにしてもよい。

本発明によるタッチパネルセンサが、
前記検出電極と重ねて配置され、前記導電性メッシュを含む第２検出電極を、さらに備え、
前記検出電極及び前記第２検出電極のそれぞれを生成する前記参照メッシュパターンは、互いに同一であり、
前記検出電極及び前記第２検出電極は、それぞれを生成する前記参照メッシュパターンが、前記二方向以上にそれぞれ半周期ずらして配置されるように、互いに対して位置決めされていてもよい。

本発明によるタッチパネルセンサが、
前記検出電極と重ねて配置され、前記導電性メッシュを含む第２検出電極を、さらに備え、
前記検出電極及び前記第２検出電極のそれぞれを生成する前記参照メッシュパターンは、互いに同一であり、
前記検出電極及び前記第２検出電極は、
それぞれを生成する前記参照メッシュパターンの前記第１方向が互いに平行となり、
それぞれを生成する前記参照メッシュパターンの前記第２方向が互いに平行となり、
それぞれを生成する前記参照メッシュパターンの前記第１の直線群が、前記第１方向に直交する配列方向に、前記一定周期の半分だけ変位して配置され、且つ、
それぞれを生成する前記参照メッシュパターンの前記第２の直線群が、前記第２方向に直交する配列方向に、前記一定周期の半分だけ変位して配置されるように、
互いに対して位置決めされていてもよい。

本発明によるタッチパネルセンサにおいて、参照メッシュパターンは、前記導電性メッシュのパターンのフーリエ変換パワースペクトル画像から、前記導電性メッシュのパターンに類似する周期的なパターンとして特定されるようにしてもよい。

本発明によるタッチパネルセンサにおいて、
前記参照メッシュパターンは、
平面スキャナを用いて作成した前記導電性メッシュのパターンのスキャンデータに、フーリエ変換および極座標変換を施すことによって得られた前記導電性メッシュのパターンのパワースペクトルの各角度での積算値分布において０°以上１８０°未満の範囲内でパワースペクトル積算値が最も大きくなる第１ピーク角度θ_ｐ１〔°〕と、
前記導電性メッシュのパターンの前記パワースペクトル積算値分布において０°以上１８０°未満の範囲内でパワースペクトル積算値が二番目に大きくなる第２ピーク角度θ_ｐ２〔°〕と、
前記第１ピーク角度θ_ｐ１〔°〕における前記導電性メッシュのパターンの前記パワースペクトルの各空間周波数での分布において基本周波数よりも高周波数側に位置する一つ目のピークを形成する第１空間周波数と、
前記第２ピーク角度θ_ｐ２〔°〕における前記導電性メッシュのパターンの前記パワースペクトルの各空間周波数での分布において基本周波数よりも高周波数側に位置する一つ目のピークを形成する第２空間周波数と、に基づいて特定されるようにしてもよい。

本発明によるタッチパネルセンサにおいて、前記参照メッシュパターンは、前記導電性メッシュのパターンのスキャンデータから当該導電性メッシュのパターンの前記パワースペクトルを特定する際と同様に座標系を設定し、第１ピーク角度θ_ｐ１〔°〕となる方向に、前記第１空間周波数に対応する長さとなる一定周期で配列された第１直線群と、第２ピーク角度θ_ｐ２〔°〕となる方向に、前記第２の空間周波数に対応する長さとなる一定周期で配列された第２直線群と、によって形成されているようにしてもよい。

本発明によるタッチパネルセンサにおいて、前記導電性メッシュのパターンの前記スキャンデータは、前記導電性メッシュのパターンをなす導線の線幅が複数ピクセルによって構成され且つ導電性メッシュのパターンの３ｃｍ×３ｃｍ以上となる領域の二次元画像として、前記導電性メッシュのパターンを画像データ化したものであるようにしてもよい。

本発明によるタッチパネルセンサにおいて、前記スキャンデータは、フーリエ変換される前に、二値化処理を施されるようにしてもよい。

本発明によるタッチパネルセンサにおいて、二値化処理された前記スキャンデータは、フーリエ変換される前に、細線化処理を施されるようにしてもよい。

本発明によるタッチパネルセンサにおいて、前記導電性メッシュのパターンの前記パワースペクトルの前記積算値分布に関する前記標準偏差は、当該積算値分布を、ガウシアンフィルタを用いて±１０°の角度範囲内にて平滑化処理を行った後に、特定された値であるようにしてもよい。

本発明によるタッチパネルセンサにおいて、前記参照メッシュパターンの前記パワースペクトルの前記積算値分布に関する前記標準偏差は、当該積算値分布を、ガウシアンフィルタを用いて±１０°の角度範囲内にて平滑化処理を行った後に、特定された値であるようにしてもよい。

本発明によるタッチパネル装置は、上述した本発明によるタッチパネルセンサのいずれかを備える。

本発明による第１の表示装置は、
上述した本発明によるタッチパネルセンサのいずれかと、
前記タッチパネルセンサと重ねて配置された画像表示機構と、を備える。

本発明による第２の表示装置は、
上述した本発明によるタッチパネルセンサのいずれかと、
前記タッチパネルセンサと重ねて配置された画像表示機構と、を備え、
前記参照メッシュパターンは、各々が第１方向に直線状に延び且つ前記第１方向に直交する方向に一定周期で配列された複数の第１の直線群と、各々が第２方向に直線状に延び且つ前記第２方向に直交する方向に前記一定周期で配列された第２の直線群と、によって画成され、
前記画像表示機構は、互いに直交する二つの方向にそれぞれ配列された画素を有し、
前記第１方向は、前記画素が配列された一方の方向に対して３０°以上４０°以下の角度をなし、且つ、前記第２方向は、前記画素が配列された前記一方の方向に対して３０°以上４０°以下の角度をなしている。

本発明によるタッチパネルセンサの製造方法は、
導電性メッシュを含んだ検出電極を備えるタッチパネルセンサを製造する方法であって、
複数の開口領域を画成する導電性メッシュを基材シート上に形成する工程を、備え、
前記導電性メッシュは、二つの分岐点の間を延びて前記開口領域を画成する導電性の接続要素を含み、
前記導電性メッシュのパターンは、
二つの交点の間を延びて開口領域を画成する複数の線分から形成され一定形状の前記開口領域が周期的に配列されてなる参照メッシュパターンを決定する工程と、
前記参照メッシュパターンの一つの交点上または所定長さ以下となる長さだけ当該一つの交点から変位した位置に、前記導電性メッシュの各分岐点を配置する工程と、
前記参照メッシュパターンの一つ線分の両端に位置する二つの交点にそれぞれ対応する二つの分岐点の間を延びるように、前記導電性メッシュの各接続要素を配置する工程と、を経て決定される。

本発明によれば、モアレ及び濃淡むらの両方を目立たなくさせることができる。

図１は、本発明の一実施の形態を説明するための図であり、表示装置及びタッチパネル装置を模式的に示す図である。 図２は、タッチパネル装置のタッチパネルセンサを示す平面図である。 図３は、タッチパネルセンサの層構成の一例を示す図である。 図４は、タッチパネルセンサの層構成の他の例を示す図である。 図５は、タッチパネルセンサの第１電極に含まれた第1検出電極の導電性メッシュを示す平面図である。 図６は、タッチパネルセンサの第２電極に含まれた第２検出電極の導電性メッシュを示す平面図である。 図７は、第１検出電極の導電性メッシュと第２検出電極の導電性メッシュとを重ねた状態で示す平面図である。 図８は、導電性メッシュのパターンの決定方法を説明するための図であって、導電性メッシュを参照メッシュパターンとともに示す平面図である。 図９は、第１検出電極の導電性メッシュと第２検出電極の導電性メッシュとを、各導電性メッシュを生成する参照メッシュパターンとともに、重ねた状態で示す平面図である。 図１０は、導電性メッシュのパターンのスキャンデータの一部を示す拡大図である。 図１１は、二値化処理された図１０のスキャンデータの一部を示す拡大図である。 図１２は、細線化処理前後のスキャンデータを示す図である。 図１３は、導電性メッシュのパターンのフーリエ変換パワースペクトル画像を示す図である。 図１４は、図１３のフーリエ変換パワースペクトル画像を極座標変換して示す図である。 図１５は、導電性メッシュのパターンのパワースペクトルの各角度での積算値分布を示すグラフである。 図１６は、導電性メッシュのパターンのパワースペクトルの各空間周波数での分布を示すグラフである。 図１７は、導電性メッシュのパターンのパワースペクトル変換画像に基づいて特定された参照メッシュパターンを示す平面図である。 図１８は、画像表示機構の画素配列の典型例を示す平面図である。 図１９は、図２に対応する図であって、タッチパネルセンサの電極の一変形例を説明するための図である。

以下、図面を参照して本発明の一実施の形態について説明する。なお、本明細書に添付する図面においては、図１０〜図１２は実物の寸法の縦横比を正確に表示しているが、これらを除いては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。

なお、本明細書において、「板」、「シート」、「フィルム」の用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いに他から区別されるものではない。例えば、「基材シート」はシートやフィルムと呼ばれ得るような部材も含む概念であり、したがって、「基材シート」は、「基材板（基板）」や「基材フィルム」と呼ばれる部材と呼称の違いのみにおいて互いに区別され得ない。

さらに、本明細書において用いる、形状や幾何学的条件並びにそれらの程度を特定する、例えば、「平行」、「直交」、「同一」等の用語や長さや角度の値等については、厳密な意味である場合も含むが、これのみに縛られることなく、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含めて解釈することとする。

図１〜図１８は、本発明による一実施の形態を説明するための図である。このうち図１はタッチパネル装置及び表示装置を概略的に示す図であり、図２はタッチパネル装置のタッチパネルセンサを示す平面図であり、図３及び図４はタッチパネルセンサの層構成を例示する図面であり、図５〜７はタッチパネルセンサの導電性メッシュを示す平面図であり、図８及び図９は導電性メッシュのパターンの決定方法を説明するための図である。図１０〜図１７は、導電性メッシュのパターンから参照メッシュパターンを特定する方法の一例を説明する図である。

図１に示すように、タッチパネル装置２０は、画像表示機構（例えば液晶表示装置）１２とともに組み合わせられて用いられ、表示装置１０を構成している。画像表示機構１２は、画像を表示することができる表示領域Ａ１と、表示領域Ａ１を取り囲むようにして表示領域Ａ１の外側に配置された非表示領域（額縁領域とも呼ばれる）Ａ２と、を含んでいる。タッチパネル装置２０は、タッチパネルセンサ３０を含んでいる。タッチパネルセンサ３０は、画像表示機構１２の表示面１２ａに対面する位置に配置されている。以下においては、タッチパネル装置２０が、投影型容量結合方式のタッチパネル装置として構成された例について説明する。

図２に示すように、投影型容量結合方式として構成されたタッチパネルセンサ３０は、その法線方向に沿って離間して配置された第１電極４０及び第２電極５０を有している。図３に示すように、タッチパネルセンサ３０は、両側の表面上に第１電極４０及び第２電極５０がそれぞれ形成された一枚の基材シート３５を含むようにしてもよい。また一変形例として、図４に示すように、タッチパネルセンサ３０は、第１電極４０が形成された第１透明基材３５ａと、第２電極５０が形成された第２透明基材３５ｂと、の二枚の透明基材３５を含むようにしてもよい。なお、以下においては、図３に示された層構成について説明していくが、図４に示された例において、第１電極４０及び第２電極５０は、以下に説明する方法にて、第１透明基材３５ａ及び第２透明基材３５ｂ上にそれぞれ作製することができる。また、図４に示された例において、第１基材シート３５ａ及び第２基材シート３５ｂは、以下に説明するタッチパネルセンサ３０の基材シート３５と同様に構成され得る。

基材シート３５（図４の形態に於いて、基材シート３５ａ及び基材シート３５ｂを意味する。以下、同樣。）は、電極４０，５０を支持する基材として機能し、且つ、タッチパネルセンサ３０における誘電体としても機能する。図２に示すように、基材シート３５は、タッチ位置を検出され得る領域に対応するアクティブエリアＡａ１と、アクティブエリアＡａ１に隣接し、其の周縁部を囲繞する非アクティブエリアＡａ２と、を含んでいる。図１に示すように、タッチパネルセンサ３０のアクティブエリアＡａ１は、画像表示機構１２の表示領域Ａ１に対面する領域を占めている。一方、非アクティブエリアＡａ２は、矩形状のアクティブエリアＡａ１を四方から周状に取り囲むように、言い換えると、額縁状に形成されている。この非アクティブエリアＡａ２は、画像表示機構１２の非表示領域Ａ２に対面する領域に形成されている。

アクティブエリアＡａ１を介して画像表示機構１２の画像を観察することができるよう、基材シート３５は、透明または半透明となっている。基材シート３５は、可視光領域における透過率が８０％以上であることが好ましく、８４％以上であることがより好ましい。なお、基材シート３５の可視光透過率は、分光光度計（（株）島津製作所製「ＵＶ−３１００ＰＣ」、ＪＩＳＫ０１１５準拠品）を用いて測定波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲内で測定したときの、各波長における透過率の平均値として特定される。

基材シート３５は、例えば、誘電体として機能し得るガラスや樹脂フィルムから構成され得る。樹脂フィルムとしては、光学部材の基材として使用されている種々の樹脂フィルムを好適に用いることができる。一例として、複屈折性を有さない光学等方性のフィルム、典型的には、トリアセチルセルロースに代表されるセルロースエステルからなるフィルムを、基材シート３５として用いることができる。その一方で、複屈折性を有する光学異方性のフィルムも、基材シート３５として用いることができる。例えば、安価で安定性に優れた２軸延伸ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等のポリエステルフィルムを、基材シート３５として用いることができる。ポリエステルフィルムは、吸湿性が低く、高温多湿の環境化においても変形等が生じ難いといった利点を、有している。

次に、基材シート３５上に設けられたタッチパネルセンサ３０の第１電極４０及び第２電極５０について説明する。なお、本実施の形態での説明において、第１電極に関連して四十番台の符号を使用し、第２電極に関連して五十番台の符号を使用している。「第１」又は「第２」との用語を用いることなく四十番台及び五十番台の双方の符号を付して行う説明は、第１電極４０及び第２電極５０の双方に当てはまる説明とする。

図２に示すように、基材シート３５の一方の側（観察者側）の面上には、多数の第１電極４０が設けられている。また、基材シート３５の他方の側（画像表示機構１２の側）の面上には、多数の第２電極５０が設けられている。各電極４０，５０は、位置検出に用いられる検出電極４１，５１と、検出電極４１，５１に接続された取出電極（取出配線）４２，５２と、を有している。検出電極４１，５１は、パターンをなすようにしてアクティブエリアＡａ１内に配置されている。一方、取出電極４２，５２は、非アクティブエリアＡａ２内に配置されている。

取出電極４２，５２は、検出電極４１，５１の各々に対し、接触位置の検出方法に応じて一つまたは二つ設けられている。各取出電極４２，５２は、対応する検出電極４１，５１に接続されて配線を形成している。取出電極４２，５２は、基材シート３５の非アクティブエリアＡａ２内を、対応する検出電極４１，５１から基材シート３５の端縁まで延びている。そして、取出電極４２，５２の検出電極４１，５１とは反対側の端部に、端子部４２ａ，５２ａが形成されている。取出電極４２，５２は、その端子部４２ａ，５２ａにて、図示しない外部接続配線（例えば、ＦＰＣ）を介し、制御回路（図示せず）に接続される。

第１検出電極４１は、基材シート３５の一方の側の面上に所定のパターンで配置されている。また、第２検出電極５１は、基材シート３５の他方の側の面上に、第１検出電極４１とは異なるパターンで配置されている。図示された例において、第１検出電極４１は、ストライプ状に配列され、且つ、その配列方向に直交する方向に直線状に延びている。また、第２検出電極５１も、ストライプ状に配列され、且つ、その配列方向に直交する方向に直線状に延びている。第１検出電極４１の配列方向と第２検出電極５１の配列方向とは互いに直交している。

検出電極４１，５１は、外部導体がタッチパネルセンサ３０に接近した際に生じる、電磁的な変化または静電容量の変化を検知するために設けられるものである。従って、検出電極４１，５１には、電磁的な変化または静電容量の変化に起因する電流を検知可能なレベルで流すことができる程度の導電性が求められる。このような検出電極４１，５１を構成するための材料として、優れた導電性を有する金属材料、例えば、金、銀、銅、白金、アルミニウム、クロム、モリブデン、ニッケル、チタン、パラジウム、インジウム、及び、これらの合金の一以上を用いることができる。

一方、これらの金属材料は、可視光に対して遮光性を有している。そこで、検出電極４１，５１は、図５及び図６の如く導線４４，５４が多数の開口領域４６，５６を画成するメッシュパターンにて配置されてなる導電性メッシュ４５，５５を含んでいる。とりわけ図２に示された例においては、各検出電極４１，５１が、細長い領域に形成された導電性メッシュ４５，５５から形成されている。導線４４，５４の線幅は、１μｍ以上３０μｍ以下とすることができる。また、導電性メッシュ４５，５５の開口率は、９０％以上９９％以下とすることができる。また、開口領域４６，５６の周期は、２００μｍ以上１０００μｍ以下とすることができる。

アクティブエリアＡａ１の全域にメッシュ状導電体が設けられ、各検出電極４１，５１の輪郭に対応して、メッシュ状導電体をなす導線４４，５４を断線させることにより、各検出電極４１，５１をなす導電性メッシュ４５，５５が形成され得る。すなわち、導電性メッシュ４５，５５は、アクティブエリアＡａ１の全域に広がるメッシュ状導電体を断線部にて断線していくことによって区画される複数のメッシュパターンの各々に対応している。各導電性メッシュ４５，５５は、多数の開口領域４６，５６を画成している。そして、導電性メッシュ４５，５５は、二つの分岐点４７，５７の間を延びて開口領域４６，５６を画成する多数の接続要素４８，５８から形成されている。すなわち、分岐点４７，５７は、三つ以上の接続要素４８，５８の一端が合流している点である。

ところで、図１８に示すように、タッチパネルセンサ３０と重ねて配置される画像表示機構１２の表示領域Ａ１には、画像を形成するための画素Ｐが周期的に配列されている。一般的には、画像表示機構１２の設置状態における水平方向（図１８における方向ｄ_ｘ）及び水平方向に直交する方向ｄ_ｙ（例えば鉛直方向）の両方に、一定の周期で画素Ｐが配列されている。なお、図１８に示された例のように、一般的に、各画素Ｐは、複数のサブ画素ＲＰ，ＧＰ，ＢＰを含んでいる。画素配列を有する画像表示機構１２に導電性メッシュ４５，５５を有したタッチパネルセンサ３０が積層されると、導電性メッシュ４５，５５の開口領域４６，５６が周期的に配列されている場合、即ち、画素Ｐの周期的配列パターンと導電性メッシュ４５，５５の開口領域４６，５６の配列パターンとに起因した縞状の模様、すなわちモアレが視認される可能性がある。

一般的に、導電性メッシュのパターンを非周期化する、即ち、開口領域４６、５５の隣接するもの同志の間隔を導電メッシュ全域内に於いて一定では無くし、分布を持たせることが、モアレの不可視化に有効であると考えられてきた。しかしながら、本件発明者らの研究によれば、単に導電性メッシュのパターンの形状及び配列周期を非周期化したとしても、常に、モアレを十分に目立たなくさせることはできなかった。また、導電性メッシュ４５，５５の開口領域４６，５６の配列の周期性を大きく崩すことによって、すなわち、開口領域４６，５６を非周期的に配列することによってモアレを目立たなくすることができたとしても、開口領域４６，５６の密度バラツキに起因した濃淡のむらが視認される可能性もある。そして、背景技術の節で説明したように、モアレ又は濃淡むらの不可視化対策が種々研究されてきたが、モアレ及び濃淡むらの双方を効果的に目立たなくさせるには至っていなかった。

一方、本件発明者らは、開口領域４６，５６の形状又は開口面積に着目して、鋭意研究を重ねた。その結果として、本件発明者らは、開口領域４６，５６の形状又は開口面積のばらつきに制約を課すことにより、モアレを極めて効果的に目立たなくさせること可能となること、同時に、濃淡むらを極めて効果的に目立たなくさせることの両方が可能となることを知見した。このような作用効果は、モアレの不可視化として単にパターンの非周期化を実施し、その一方で、濃淡むらの不可視化として単にパターンの周期化を実施し、結果として、モアレ及び濃淡むらの双方を不可視化することができていなかった従来の技術水準からして、予測される範囲を超えた顕著な効果であると言える。

図５には、第１検出電極４１をなす導電性メッシュ４５の一例が示されており、図６には、第２検出電極５１をなす導電性メッシュ５５の一例が示されている。これらの導電性メッシュ４５，５５のパターンは、二つの交点６２，６７の間を延びて開口領域（開口部）６１，６６を画成する複数の線分６３，６８から形成された参照メッシュパターン６０，６５（図８及び図９参照）を基礎にして、決定されている。此処で、参照メッシュパターン６０、６５は仮想上のパターンであり実在はしない。一方、導電性メッシュ４５、５５は実在の物体（金屬材料からなる実在のパターン）である。そして、仮想的な参照メシュパタ−ン６０、６５は、実在の導電性メシュ４５、５５を設計、製造する中間工程で用いる手段として利用される。導電性メッシュ４５、５５と其の参照メッシュパターン６０、６５とは、それ故、互いに特定の位置及び形状の対応関係を有する。より具体的には、これらの導電性メッシュ４５，５５のパターンは、開口領域６１，６６が周期的に配列されてなる、言い換えると、開口領域６１，６６が周期性を持って配列されてなる参照メッシュパターン６０，６５を基礎として、濃淡むらを引き起こさないように開口領域６１，６６の配置位置の均一性を維持しつつ、その一方でモアレを十分に不可視化できる程度に、開口領域６１，６６の形状を変化させて当該開口領域６１，６６の開口面積をばらつかせることにより、決定されている。

そして、図５及び図６に示された例において、第１検出電極４１をなす導電性メッシュ４５及び第２検出電極５１をなす導電性メッシュ５５は、同一パターンの参照メッシュパターン６０，６５を基礎として、そのパターンを決定されている。したがって、図５及び図６に示すように、参照メッシュパターン６０，６５の周期性が大きく崩されていない状態において、第１検出電極４１をなす導電性メッシュ４５及び第２検出電極５１をなす導電性メッシュ５５は、概ね同様のパターンとなっている。

図２に示された例において、第１検出電極４１をなす導電性メッシュ４５及び第２検出電極５１をなす導電性メッシュ５５は、大部分において、重なり合って配置される。そして、このように重なり合う部分において、第１検出電極４１をなす導電性メッシュ４５及び第２検出電極５１をなす導電性メッシュ５５は、図８及び図９に示すように、それぞれを生成する参照メッシュパターン６０，６５が、開口領域６１，６６の配列方向に、当該開口領域６１，６６の配列周期の半分の長さだけ変位して配置されるようにして、互いに対して位置決めされている。結果として、図７に示すように、第１検出電極４１をなす導電性メッシュ４５及び第２検出電極５１をなす導電性メッシュ５５は、互いに重ね合わされた状態において、或る程度の周期性を残したパターンを形成している。

なお、モアレは、第１検出電極４１をなす導電性メッシュ４５及び第２検出電極５１をなす導電性メッシュ５５を重ねて形成されるパターンと、他の部材の周期的なパターン（例えば、画像表示機構１２の画素Ｐの配列パターン）との干渉によって生じるとともに、第１検出電極４１，第２検出電極５１の各々単独によって形成されるパターンと、他の部材の周期的なパターンとの干渉によっても生じる。同様に、濃淡むらは、第１検出電極４１によって形成されるパターン及び第２検出電極５１によって形成されるパターンを重ねてなるパターンの局所的な不均一性によっても生じるし、また、各電極４０，５０の検出電極４１，５１の各々単独によって形成されるパターンの局所的な不均一性によっても生じ得る。したがって、第１検出電極４１によって形成されるパターン及び第２検出電極５１によって形成されるパターンを重ねてなるパターンを工夫することにより、モアレ及び濃淡むらの両方を目立たなくさせる上で有効であるとともに、各電極４０，５０をなす検出電極４１，５１によって形成されるパターンのいずれか一以上を工夫することによっても、モアレ及び濃淡むらの両方を目立たなくさせる上で有効である。

ここで、以上に説明した導電性メッシュ４５のパターンの決定方法の一例について説明する。以下に説明する方法では、二つの交点６２，６７の間を延びて開口領域６１，６６を画成する複数の線分６３，６８から形成され参照メッシュパターン６０，６５を決定する工程と、参照メッシュパターン６０，６５の交点６２，６７に基づいて分岐点４７，５７の位置を決定する工程と、決定された分岐点４７，５７及び参照メッシュパターン６０，６５の線分６３，６８に基づき、接続要素４８，５８の位置を決定する工程と、を有している。以下、各工程について順に説明していく。

まず、参照メッシュパターン６０，６５を決定する工程において、導電性メッシュ４５，５５を生成する基礎（出発点）となる周期的なパターン、すなわち、参照メッシュパターン６０，６５を決定する。ここで決定される参照メッシュパターン６０，６５は、隣接する二つの交点６２，６７の間を延びて開口領域６１，６６を画成する複数の線分６３，６８から形成されている。この参照メッシュパターン６０，６５において、一定形状の開口領域６１，６６が交差する二以上の方向ｄ_１，ｄ_２に周期的に配列されている。なお、参照メッシュパターン６０，６５に複数種類の開口領域６１，６６が含まれ、各種の開口領域６１，６６が交差する二以上の方向に周期的に配列されるようにしてもよい。

図８及び図９に示すように、図示された参照メッシュパターン６０，６５では、一定の四角形形状の開口領域６１，６６が、隙間なく敷き詰められたパターンとなっている。開口領域６１，６６は、互いに交差する第１方向ｄ_１及び第２方向ｄ_２にそれぞれ一定周期で配列されている。とりわけ、図示された参照メッシュパターン６０，６５は、各々が第１方向ｄ_１に直線状に延び且つ第１方向ｄ_１に直交する方向に一定周期ｐ_１で配列された複数の第１の直線６０ａ，６５ａ群と、各々が第２方向ｄ_２に直線状に延び且つ第２方向ｄ_２に直交する方向に前記一定周期ｐ_１と同一の一定周期ｐ_２で配列された第２の直線６０ｂ，６５ｂ群と、によって画成されている。結果として、参照メッシュパターン６０，６５に含まれる開口領域６１，６６は、すべて同一の四角形形状、とりわけ菱形形状に形成されている。

また、図９に示すように、図示された例において、導電性メッシュ４５を生成する参照メッシュパターン６０と、導電性メッシュ５５を生成する参照メッシュパターン６５とは同一のパターンとなっている。図９に示すように、導電性メッシュ４５を生成する基になる参照メッシュパターン６０と、導電性メッシュ５５を生成する参照メッシュパターン６５とは、それぞれの第１方向ｄ_１が互いに平行となるように配置されている。また、導電性メッシュ４５を生成する参照メッシュパターン６０と、導電性メッシュ５５を生成する参照メッシュパターン６５とは、それぞれの第２方向ｄ_２が互いに平行となるように配置されている。さらに、導電性メッシュ４５を生成する参照メッシュパターン６０と、導電性メッシュ５５を生成する参照メッシュパターン６５とは、それぞれの第１の直線６０ａ，６５ａの群が、第１方向ｄ_１に直交する方向に、一定周期ｐ_１の半分（ｐ_１／２）だけ互いから変位して配置されている。加えて、導電性メッシュ４５を生成する参照メッシュパターン６０と、導電性メッシュ５５を生成する参照メッシュパターン６５とは、それぞれの第２の直線６０ｂ，６５ｂの群が、第２方向ｄ_２に直交する方向に、一定周期ｐ_２の半分（ｐ_２／２）だけ互いから変位して配置されている。この参照メッシュパターン６０，６５の決定によれば、参照メッシュパターン６０，６５に基づいて作製される二つの導電性メッシュ４５，５５が互いに重なり合って、開口している領域が或る程度の周期性を残しながらその一方で一定ではない形状を持つようになるメッシュパターンを示すようになる。すなわち、導電性メッシュ４５，５５は、単独の状態だけでなく重ね合わせた状態においても、開口領域が或る程度均一に分散したパターンを呈するようになる。

ところで、一般に、画像表示機構１２の画素配列とタッチパネルセンサ３０の導電性メッシュ４５，５５との干渉によるモアレを不可視化する観点からは、画像表示機構１２における画素の配列方向ｄ_ｘ，ｄ_ｙに対し、タッチパネルセンサ３０の開口領域４６，５６の配列方向を傾斜させることが好ましいとされている。一方、本件発明者らが実験を繰り返したところ、図１８に示された正方格子配列された画素Ｐとのモアレを不可視化する上では、さらに、画素の対角線方向ｄ_ｏに対しても、タッチパネルセンサ３０の開口領域４６，５６の配列方向を傾斜させることが有効であった。これは、図１８に示すように、画素Ｐの対角線上となる位置に、画素Ｐを画成する遮光部（例えばブラックマトリクス）１３の幅太部１３ａが並び、一定間隔で並べられた遮光部１３の幅太部１３ａと開口領域４６，５６とのモアレが生じ易くなるためと考えられる。

正方格子配列された一般的な画素Ｐは、平面視において正方形形状を有している。このような画素Ｐを用いた場合、対角線方向ｄ_ｏは、画素配列方向ｄ_ｘ，ｄ_ｙに対して４５°傾斜する。そして、本件発明者が確認したところ、正方形形状の画素Ｐとのモアレを不可視化する上で、開口領域４６，５６の配列方向が、直交する画素配列方向ｄ_ｘ，ｄ_ｙのうちの一方ｄ_ｘに対してなす角度が３０°以上４０°以下であることが好ましく、３３°以上３７°以下であることより好ましく、３５°であることが最も好ましかった。言い換えると、正方形形状の画素Ｐとのモアレを不可視化する上で、開口領域４６，５６の配列方向が、直交する画素の配列方向ｄ_ｘ，ｄ_ｙのうちの他方ｄ_ｙに対してなす角度が５０°以上６０°以下であることが好ましく、５３°以上５７°以下であることより好ましく、５５°であることが最も好ましかった。

一方、ここで説明する導電性メッシュ４５，５５のパターン決定方法において、導電性メッシュ４５，５５の開口領域４６，５６は、概ね、参照メッシュパターン６０，６５の開口領域６１，６６の配列方向に従うようになる。そして、参照メッシュパターン６０，６５における開口領域６１，６６の配列方向は、第１方向ｄ_１及び第２方向ｄ_２となる。したがって、参照メッシュパターン６０，６５に含まれる開口領域６１，６６の向きを決める第１方向ｄ_１及び第２方向ｄ_２は、直交する画素Ｐの配列方向ｄ_ｘ，ｄ_ｙのうちの一方ｄ_ｘに対して３０°以上４０°以下の角度をなすことが好ましく、３３°以上３７°以下の角度をなすことがより好ましく、図８及び図９に示すように３５°の角度θ_１ｘ，θ_２ｘをなすことが最も好ましい。したがって、第１方向ｄ_１及び第２方向ｄ_２が互いに対してなす角度θ_ｘは、６０°以上８０°以下であることが好ましく、６６°以上７４°以下であることがより好ましく、図８及び図９に示すように７０°であることが最も好ましい。また、参照メッシュパターン６０，６５に含まれる開口領域６１，６６の向きを決める第１方向ｄ_１及び第２方向ｄ_２は、直交する画素の配列方向のうちの他方ｄ_ｙに対して５０°以上６０°以下の角度をなすことが好ましく、５３°以上５７°以下の角度をなすことがより好ましく、図８及び図９に示すように５５°の角度θ_１ｙ，θ_２ｙをなすことが最も好ましい。

次に、参照メッシュパターン６０，６５の交点６２，６７（これらは仮想的な点）に基づいて分岐点４７，５７（こちらは実在の点）の位置を決定する工程について説明する。この工程では、参照メッシュパターン６０，６５の一つの交点６２，６７から、一つの分岐点４７，５７の位置を決定する。具体的には、各分岐点４７，５７は、参照メッシュパターン６０，６５の対応する交点６２，６７上に配置されるか、或いは、当該対応する交点６２，６７上から所定長さ以下の長さだけ変位した位置に、配置される。この際、各分岐点４７，５７の対応する交点６２，６７からの変位量および変位する方向即ち変位ベクトルのｄ_１成分及びｄ_２成分を確立変数により不規則的に分布するように決定することにより、最終的に得られる導電性メッシュ４５，５５の開口領域４６，５６の形状が全域に亙って一定とはならず、モアレを効果的に目立たなくさせることができる。なお、不規則的に選択される変位量が０となった場合に、分岐点４７，５７が対応する交点６２，６７上に位置するように（両者の位置が位置するように）してもよい。ここで、該確率変数を与える確率分布（乃至確率密度函数）としては、正規分布、一樣分布等を選択することが出来、これら確率分布に屬する確率変数を所望の最大変位量の範囲内で採用すれば良い。

なお、各分岐点４７，５７の対応する交点６２，６７からの変位量は、接続要素４８，５８が他の接続要素に接触又は交叉することを回避すべく、開口領域６１，６６の配列周期の半分未満となっていることが好ましい。一つの接続要素４８，５８が他の接続要素と重なってしまうと、当該部分が視認されてしまい濃淡むらの原因となってしまう可能性があるからである。具体的には、接続要素４８，５８が他の接続要素に接触することを回避すべく、各分岐点４７，５７の対応する交点６２，６７からの変位量は、変位ベクトルの第１方向ｄ_１成分は第２の直線６０ｂ，６５ｂ群の配列周期ｐ_２の半分未満、且つ、第２方向ｄ_２成分は第１の直線６０ａ，５ａ群の配列周期ｐ_１の半分未満とすることができる。斯くの如く、交点６２、６７と分岐点４７、５７との位置関係を満たすように変位させる為には、所定の確率分布の中から選出する確率変数の上限値を、各々ｐ_１／２未満、ｐ_２／２未満となるように制限すれば良い。

また、上述したように、図示された例では、導電性メッシュ４５を生成する基となる参照メッシュパターン６０と、導電性メッシュ５５を生成する基となる参照メッシュパターン６５とは、それぞれの第１の直線６０ａ，６５ａの群が、第１方向ｄ_１に直交する配列方向に、一定周期ｐ_１の半分（ｐ_１／２）だけ変位して配置されている。加えて、導電性メッシュ４５を生成する参照メッシュパターン６０と、導電性メッシュ５５を生成する参照メッシュパターン６５とは、それぞれの第２の直線６０ｂ，６５ｂの群が、第２方向ｄ_２に直交する配列方向に、一定周期ｐ_２の半分（ｐ_２／２）だけ変位して配置されている。このような例においては、導電性メッシュ４５を生成する接続要素４８と、導電性メッシュ５５を生成する接続要素５８とが接触してしまうことを回避すべく、各分岐点４７，５７の対応する交点６２，６７からの変位量のｄ_１方向成分及びｄ_２方向成分は、開口領域６１，６６の配列周期の１／４未満となっていることが好ましい。導電性メッシュ４５を生成する接続要素４８と、導電性メッシュ５５を生成する接続要素５８とが接触してしまうと、当該部分が視認されてしまい濃淡むらの原因となってしまう可能性があるからである。具体的には、導電性メッシュ４５を生成する接続要素４８と、導電性メッシュ５５を生成する接続要素５８とが接触してしまうことを回避すべく、各分岐点４７，５７の対応する交点６２，６７からの変位量は、変位ベクトルの第１方向ｄ_１成分は第２の直線６０ｂ，６５ｂ群の配列周期ｐ_２の１／４未満、且つ、第２方向ｄ_２成分は第１の直線６０ａ，６５ａ群の配列周期ｐ_１での１／４未満とすることができる。

さらに、各分岐点４７，５７について、対応する交点６２，６７からの変位量および変位する方向、即ち変位ベクトルのｄ_１成分及びｄ_２成分の両方をそれぞれ決定していくことに代えて、各分岐点４７，５７について、対応する交点６２，６７からの予め設定したｄ_１、ｄ_２方向以外の他の二方向への変位量（以下、変位ベクトル成分とも呼稱する）をそれぞれ決定していくようにしてもよい。一例として、画像表示機構１２の画素Ｐの配列方向ｄ_ｘ，ｄ_ｙへの対応する交点６２，６７からの変位ベクトル成分δ_ｘ，δ_ｙ（図８参照）を、分岐点４７，５７毎に決定していくようにしてもよい。他の例として、四角形形状をなす開口領域６１，６６の二つの対角線方向に沿った変位ベクトル成分δ_ｘ，δ_ｙ（図８参照）を、分岐点毎４７，５７に決定していくようにしてもよい。なお、図示された実施の形態では、二つの対角線方向は、それぞれ、画像表示機構１２の画素Ｐの配列方向ｄ_ｘ，ｄ_ｙと平行になっている。

この例において、濃淡むらの発生を抑制する観点から画素Ｐの一方の配列方向ｄ_ｘに沿った開口領域６１，６６の配列周期ｐ_ｘの一定割合以下（例えば１５％以下）となり且つモアレの発生を防止する観点から画素Ｐの一方の配列方向ｄ_ｘに沿った開口領域６１，６６の配列周期ｐ_ｘの一定割合以上（例えば２％以上）となるように変位ベクトル成分δ_ｘが決定されるようにし、且つ、濃淡むらの発生を抑制する観点から画素Ｐの他方の配列方向ｄ_ｙに沿った開口領域６１，６６の配列周期ｐ_ｙの一定割合以下（例えば１５％以下）となり且つモアレの発生を防止する観点から画素Ｐの一方の配列方向ｄ_ｙに沿った開口領域６１，６６の配列周期ｐ_ｙの一定割合以上（例えば２％以上）となるように変位ベクトル成分δ_ｙが決定されるようにすることで、対応する交点６２，６７からの分岐点４７，５７の変位量に制約を課してもよい。

別の表現によれば、濃淡むらの発生を抑制する観点から開口領域６１，６６の一方の対角線と平行な方向ｄ_ｘに沿った当該開口領域６１，６６の一方の対角線の長さｐ_ｘの一定割合以下（例えば１５％以下）となり且つモアレの発生を防止する観点から開口領域６１，６６の一方の対角線と平行な方向ｄ_ｘに沿った当該開口領域６１，６６の一方の対角線の長さｐ_ｘの一定割合以上（例えば２％以上）となるように変位ベクトル成分δ_ｘが決定されるようにし、且つ、濃淡むらの発生を抑制する観点から開口領域６１，６６の他方の対角線と平行な方向ｄ_ｙに沿った当該開口領域６１，６６の他方の対角線の長さｐ_ｙの一定割合以下（例えば１５％以下）となり且つモアレの発生を防止する観点から開口領域６１，６６の他方の対角線と平行な方向ｄ_ｙに沿った当該開口領域６１，６６の他方の対角線の長さｐ_ｙの一定割合以上（例えば２％以上）となるように変位ベクトル成分δ_ｙが決定されるようにすることで、対応する交点６２，６７からの分岐点４７，５７の変位ベクトル成分に制約を課してもよい。尚、何れの場合に於いても、濃淡むら等の視覚上の欠点の解消の為、接続要素４８、５８同士が接触又は交叉しない為の前記の如き条件は満たすようにする。

次に、接続要素４８，５８の位置を決定する工程について説明する。以上のようにして、導電性メッシュ４５，５５における分岐点４７，５７の位置が決定すると、次に、決定された分岐点４７，５７に基づき、接続要素４８，５８の位置を決定する。具体的には、参照メッシュパターン６０，６５の或る一つ線分６３，６８の両端に位置する二つの交点６２，６７にそれぞれ対応する二つの分岐点４７，５７の間を延びるように、導電性メッシュ４５，５５の一つの接続要素４８，５８の位置を決定する。二つの分岐点４７，５７の間における接続要素４８，５８の経路は、直線であってもよいし、曲線であってもよいし、折れ線であってもよいし、直線及び曲線の組み合わせであってもよい。また、接続要素４８，５８の線幅は、上述したように０．２μｍ以上２μｍ以下とすることができるし、或いは、この範囲外の太さとしてもよい。

このようにして、電極４０，５０の検出電極４１，５１をなす導電性メッシュ４５，５５のメッシュパターンが形成される。導電性メッシュ４５，５５の分岐点４７，５７の位置が、周期性を有した参照メッシュパターン６０，６５の交点６２，６７の位置に基づいて決定されているため、得られた導電性メッシュ４５，５５において開口領域４６，５６が或る程度均一に分散して、濃淡むらの発生を抑制することが可能となる。ただし、分岐点４７，５７の位置は対応する交点６２，６７の位置から不規則的に選択された所定範囲内の量だけ変位している。したがって、得られた導電性メッシュ４５，５５において開口領域４６，５６の形状または開口面積の規則性または一定性が失われ、モアレによる不具合も回避することができる。

以上のようにしてパターンを決定された導電性メッシュ４５，５５は、基材シート３５上に形成された金属薄膜を、フォトリソグラフィー技術を用いてパターニングすることにより、或いは導電性組成物から成るインキの印刷により基材シート３５上に作製され得る。

なお、実際に作製された導電性メッシュ４５，５５から、次のようにして参照パターンを特定することができる。まず、実際に作製された導電性メッシュ４５，５５を顕微鏡で観察し、当該導電性メッシュ４５，５５のパターンの画像データを作成する。次に、得られた画像データを二次元空間座標（ｘ、ｙ）の函数としてフーリエ変換して空間周波数のパワースペクトル（以下、単にパワースペクトルとも呼稱する）を取得し、このパワースペクトルから参照メッシュパターン６０，６５を特定することができる。すなわち、この手法では、参照メッシュパターン６０，６５が、導電性メッシュ４５，５５のパターンのフーリエ変換パワースペクトル画像から、当該導電性メッシュ４５，５５のパターンに類似する周期的なパターンとして特定される。そして、参照パターンが特定されると、各交点の変位量を特定することも可能となる。

参照メッシュパターン６０，６５は、導電性メッシュ４５，５５のパターンのパワースペクトルの各角度での積算値分布から特定される第１ピーク角度θ_ｐ１〔°〕及び第２ピーク角度θ_ｐ２〔°〕、第１ピーク角度θ_ｐ１〔°〕における導電性メッシュ４５，５５のパターンのパワースペクトルの各空間周波数での分布から特定される第１空間周波数、及び、第２ピーク角度θ_ｐ２〔°〕における導電性メッシュ４５，５５のパターンのパワースペクトルの各空間周波数での分布から特定される第２空間周波数を用いて特定され得る。導電性メッシュ４５，５５のパターンのパワースペクトルの各角度での積算値分布は、平面スキャナを用いて作成した導電性メッシュ４５，５５のパターンを二次元の直交座標（ｘ、ｙ）に対する画像濃度値として読み込んだスキャンデータに、フーリエ変換および直交座標（ｘ、ｙ）を極座標（ｒ、θ）に変換する極座標変換を施すことによって得られる。第１ピーク角度θ_ｐ１〔°〕は、このパワースペクトルの各角度での積算値分布において０°以上１８０°未満の範囲内でパワースペクトル積算値が最も大きくなる角度である。また、第２ピーク角度θ_ｐ２〔°〕は、このパワースペクトルの各角度での積算値分布において０°以上１８０°未満の範囲内でパワースペクトル積算値が二番目に大きくなる角である。第１空間周波数は、第１ピーク角度θ_ｐ１〔°〕における導電性メッシュ４５，５５のパターンのパワースペクトルの各空間周波数での分布において基本周波数よりも高周波数側に位置する一つ目のピークをなす周波数である。第２空間周波数は、第２ピーク角度θ_ｐ２〔°〕における導電性メッシュ４５，５５のパターンのパワースペクトルの各空間周波数での分布において基本周波数よりも高周波数側に位置する一つ目のピークをなす周波数である。

そして、参照メッシュパターン６０，６５は、導電性メッシュ４５，５５のパターンのスキャンデータから当該導電性メッシュ４５，５５のパターンのパワースペクトルを特定する際と同様に座標系を設定し、第１ピーク角度θ_ｐ１〔°〕となる方向に、第１空間周波数に対応する長さとなる一定周期で配列された第１直線６０ａ，６５ａ群と、第２ピーク角度θ_ｐ２〔°〕となる方向に、第２の空間周波数に対応する長さとなる一定周期で配列された第２直線群６０ｂ，６５ｂと、によって形成されるパターンとして、特定され得る。

以下、主として図１０〜図１７を参照して、参照メッシュパターン６０，６５の特定方法について、詳述する。なお、図１０〜図１６は、図８及び図９を参照して説明した上述の方法により決定された第１検出電極４１のメッシュパターンにて導電体メッシュ４５を実際に作製し、当該作製された第１検出電極４１の導電体メッシュ４５についてのデータである。尚、第２検出電極５１の導電性メッシュ５５のデータについても、基本的には同様の挙動、特徴を有する為、其の図示は省略し、図１０〜図１６にて両検出電極４１、５１のデータを代表する。

最初に、導電体メッシュ４５，５５を平面スキャナでスキャンすることにより、導電体メッシュ４５，５５のパターンに関するスキャンデータを二次元空間座標（ｘ、ｙ）に対する画像濃度値の函数Ｄ（ｘ、ｙ）としての二次元画像として作成する。この際、実際に流通しているタッチパネルセンサ３０の開口領域４６，５６の周期等を考慮して、導電体メッシュ４５，５５のパターンのスキャンデータを作成されるべき導電体メッシュ４５，５５の領域は、３ｃｍ×３ｃｍ以上の領域とすることが好ましい。また、導電体メッシュ４５，５５のパターンをなす導線（接続要素４８，５８）の線幅が複数ピクセルで構成されるよう、解像度を調整することが好ましい。線幅が複数ピクセルで構成されるような解像度であれば、実物には存在しない断線箇所がスキャンデータに形成されてしまうことを効果的に防止することができる。図１０には、導電体メッシュ４５，５５のパターンのスキャンデータの一部が示されている。

導電体メッシュ４５，５５のパターンのスキャンデータＤ（ｘ、ｙ）を画像処理することにより、導電体メッシュ４５，５５のパターンのフーリエ変換パワースペクトルＳ_０（ｘ、ｙ）からなる画像が作成される。この際、フーリエ変換パワースペクトル画像の作成精度を向上させるため、いくつかの画像上の処理が行われることが好ましい。

例えば、導電体メッシュ４５，５５をなす金属導線以外を示す低周波成分をスキャンデータから除去するため、スキャンデータをハイパス（高周波通過）フィルタを通して低周波成分の除去処理を行うことが好ましい。除去されるべき低周波成分としては、必然的に生じてしまう照明むらを例示することができる。図１１には、図１０に示された画像データＤ（ｘ、ｙ）から低周波成分除去した後に二値化処理した画像データＤ_Ｂ（ｘ、ｙ）が示されている。

また、フーリエ変換パワースペクトル画像の作成精度を向上させる上で、フーリエ変換前に細線化処理を行っておくことも有効である。とりわけ上述したように、導電体メッシュ４５，５５のパターンをなす導線（接続要素５３）の線幅が複数ピクセルで構成されている場合には、細線化処理が有効となる。

図１２には、二値化処理および細線化処理を行った後のスキャンデータＤ_Ｎ（ｘ、ｙ）が示されている。このスキャンデータＤ_Ｎ（ｘ、ｙ）は、実際に作製された第１検出電極４１の導電体メッシュ４５における４１５５μｍ×４１５５μｍの面積を有する領域についての画像データである。そして、図１３には、図１２に示されたスキャンデータＤ_Ｎ（ｘ、ｙ）にフーリエ変換を施すことによって得られた直交座標系（ｘ、ｙ）に於けるフーリエ変換パワースペクトル画像Ｓ_０（ｘ、ｙ）が、示されている。また、図１４は、図１３のフーリエ変換パワースペクトル画像を極座標変換して極座標（ｒ、θ）に於けるフーリエ変換パワースペクトルＳ_０（ｒ、θ）を示している。なお、図１２〜図１４における座標系は、互いに同様に設定されており、図５〜図９に示された座標系とも同様に設定されている。また、図１４における座標系の設定は、図１３に示したとおりである。

図１３及び図１４の画像データから、各角度θ〔°〕での、導電体メッシュのパターンのパワースペクトルの分布が特定され得る。次に、各角度θ〔°〕毎にパワースペクトルを径ｒ＝０からｒ＝∞迄（実際には、十分な精度で∞に近似されると判断する値迄）積分した値としてのパワースペクトルの積算値
を特定する。図１５には、メッシュパターンのパワースペクトルの各角度θでの積算値Ｓ（θ）の分布が示されている。このパワースペクトル積算値分布において、０°以上１８０°未満の範囲内でパワースペクトル積算値が最も大きくなる角度が第１ピーク角度θ_ｐ１〔°〕であり、０°以上１８０°未満の範囲内でパワースペクトル積算値が二番目に大きくなる角度が第２ピーク角度θ_ｐ２〔°〕である。なお、パワースペクトル積算値分布において、積算値が最も大きくなる角度と二番目に大きくなる角度の区別が付かない場合には、いずれか一方を第１ピーク角度θ_ｐ１とし、他方を第２ピーク角度θ_ｐ２とすればよい。

ところで、第１ピーク角度θ_ｐ１及び第２ピーク角度θ_ｐ２を高精度に特定するため、いくつかの処理が積算値分布Ｓ（θ）に対して行われてもよい。例えば、パワースペクトル積算値分布に対して、周囲±１０°の範囲で平滑化処理を行うようにし、特定の高周波成分を除去するようにしてもよい。このような処理によれば、パワースペクトルの積算値分布において極大値がより明確に現れるようになる。ぼかし処理には、ガウシアンフィルタを用いることができる。図１５に示されたパワースペクトル積算値分布Ｓ（θ）は、ガウシアンフィルタを用いて±１０°の角度範囲内にて平滑化処理を行った後の積算値分布である。

図１５の積算値分布Ｓ（θ）において、第１ピーク角度θ_ｐ１は１２５°となっており、第２ピーク角度θ_ｐ２は５５°となっている。メッシュパターン５０のパワースペクトルの積算値分布Ｓ（θ）では、積算値のピークが現れる角度方向に、メッシュパターン５０をなす金属導線が配列されていることを意味する。したがって、ピーク角度θ_ｐ１，θ_ｐ２が５５°および１２５°に出現することから、図８及び図９に示されたθ１ｘ＝３５°（θ＝９０°―５５°）及びθ２ｘ＝３５°（θ＝１２５°―９０°）の参照パターン６０が高精度に特定されている。

次に、図１６は、図１０〜図１５で対象としたパターンに関し、極座標において５５°となる方向での、空間周波数に対するパワースペクトルの分布を示している。つまり、図１６は、第２ピーク角度θ_ｐ２における導電性メッシュ４５のパターンのパワースペクトルの各空間周波数での分布を示している。上述したように、図示された例において、フーリエ変換パワースペクトル画像を取得した元の導電体メッシュ５５の領域は、４１５５μｍ×４１５５μｍの領域である。そして、基本周波数に対応する長さ、すなわち基本周波数（１〔ｃｙｃｌｅ〕／４．１５５〔ｍｍ〕＝０．２４〔ｃｙｃｌｅ／ｍｍ〕）での波長は４１５５μｍとなる。一方、図１６のパワースペクトル分布において、基本周波数よりも高周波数側に位置する一つ目のパワースペクトルピークが現れる第２空間周波数は、１．９９７６〔ｃｙｃｌｅ／ｍｍ〕である。したがって、第２空間周波数での波長は約５００．６μｍ＝１０００μｍ／１．９９７６周期となる。図１７に示すように、直線群の配列方向ｄ_ａａ２は、極座標における基準方向（０°方向）となっていたｘ軸方向に対し、第２ピーク角度θ_ｐ２である５５°だけ反時計回り方向に傾斜した方向となる。そして、この直線群をなす直線６０ａは、その配列方向ｄ_ａａ１に、第２空間周波数での波長（第２空間周波数に対応する長さ）となる５００．６μｍの周期Ｐ_ａ１で配列される。

なお、図１７に示された参照メッシュパターン６０では、一方の直線群と同様にして特定された他方の直線群も示されている。すなわち、他方の直線群の配列方向ｄ_ａａ２は、極座標における基準方向（０°方向）となっていたｘ軸方向に対し、第１ピーク角度θ_ｐ１である１２５°だけ反時計回り方向に傾斜した方向となっている。そして、他方の直線群をなす直線６０ｂは、その配列方向ｄ_ａａ２に、第１空間周波数に対応する長さと同一の周期Ｐ_ａ２で配列される。

以上のようにして、参照メッシュパターンをなすようになる直線群が特定され、結果としてこの直線群から参照メッシュパターンが特定される。上述してきた例では、図８に示された参照メッシュパターン６０をなす複数の第１の直線６０ａが、一方の直線群として特定され、参照メッシュパターン６０をなす複数の第２の直線６０ｂが、他方の直線群として特定されたことになる。

以上のようにして、導電性メッシュ４５，５５のパターンから、参照メッシュパターン６０，６５を特定することができる。特定された参照メッシュパターン６０，６５と導電性メッシュ４５，５５のパターンとを比較することにより、導電性メッシュ４５，５５の各分岐点４７，５７についての参照メッシュパターン６０，６５の対応する交点６２，６７からの変位量を計測することができる。

以上のような本実施の形態によるタッチパネルセンサ３０では、導電性メッシュ４５，５５の各分岐点４７，５７は、二つの交点６２，６７の間を延びて開口領域６１，６６を画成する複数の線分６３，６８から形成され開口領域６１，６６が周期的に配列されてなる参照メッシュパターン６０，６５の一つの交点６２，６７上または所定長さ以下となる長さだけ当該一つの交点６２，６７から変位した位置に位置しており、且つ、導電性メッシュ４５，５５の各接続要素４８，５８は、一つの線分６３，６８の両端に位置する二つの交点６２，６７にそれぞれ対応する二つの分岐点４７，５７の間を延びている。このようなタッチパネルセンサ３０の導電性メッシュ４５，５５のパターンは、濃淡むらを引き起こさないように開口領域６１，６６の配置位置の均一性を維持しつつ、その一方でモアレを十分に不可視化できる程度に、開口領域６１，６６の形状をばらつかせることができる。結果として、得られたタッチパネルセンサ３０の導電性メッシュ４５，５５を用いた際に、モアレ及び濃淡むらの双方を効果的に目立たなくさせることができる。

各分岐点４７，５７の交点６２，６７からの変位量が所定の長さ以下となっているか否かの判断は、全体的な傾向を反映し得ると期待される数の分岐点４７，５７について測定すればよく、通常であれば、１００箇所測定すれば十分である。

ここで、本件発明者らが行ったモアレ及び濃淡むらの評価結果の一例について説明する。以下の実験では、図１８に示された正方形の画素Ｐが正方格子配列されている画像表示機構１２との組み合わせで、タッチパネルセンサ３０のサンプルについて、モアレ及び濃淡むらに関する評価を行った。

サンプル１の導電体メッシュは、図８に示された参照メッシュパターン６０と同一のパターンとした。すなわち、画素の一方の配列方向であるｘ軸方向（基準方向）に対して１４５°傾斜した方向に延びる第１の直線群と、ｘ軸方向（基準方向）に対して３５°傾斜した方向に延びる第２の直線群と、からなるパターンとした。第１の直線群に含まれる第１の直線６０ａは、その長手方向に直交する方向に５００μｍの周期で配列され、第２の直線群に含まれる第２の直線６０ｂは、その長手方向に直交する方向に５００μｍの周期で配列されるようにした。したがって、サンプル１の導電体メッシュのパターンは、一定の菱形形状の開口領域が周期的に配列されてなるパターンとなっている。

一方、サンプル２〜７の導電体メッシュのパターンは、上述した参照メッシュパターンの周期性を崩すことにより作製した。参照メッシュパターンは、サンプル１の導電体メッシュのパターンとした。各サンプルのパターンの分岐点は、参照メッシュパターンの対応する交点をｘ軸方向およびｘ軸方向に直交するｙ軸方向のそれぞれ独立した変位量δ_ｘ，δｙ（図８参照）だけずらすことにより決定していった。ｘ軸方向への変位量δ_ｘは、開口領域の一方の対角線の長さに相当する開口領域のｘ軸方向への配列周期ｐ_ｘに基づいた制限を課して乱数表に従ってランダムに決定し、ｙ軸方向への変位量δ_ｙは、開口領域の他方の対角線の長さに相当する開口領域のｙ軸方向への配列周期ｐ_ｙに基づいた制限を課して乱数表に従ってランダムに決定した。

具体的には、サンプル２のパターンでは、「０≦δ_ｘ≦０．０２×ｐ_ｘ」及び「０≦δ_ｙ≦０．０２×ｐ_ｙ」とした。サンプル３のパターンでは、「０≦δ_ｘ≦０．０５×ｐ_ｘ」及び「０≦δ_ｙ≦０．０５×ｐ_ｙ」とした。サンプル４のパターンでは、「０≦δ_ｘ≦０．１×ｐ_ｘ」及び「０≦δ_ｙ≦０．１×ｐ_ｙ」とした。サンプル５のパターンでは、「０≦δ_ｘ≦０．１５×ｐ_ｘ」及び「０≦δ_ｙ≦０．１５×ｐ_ｙ」とした。サンプル６のパターンでは、「０≦δ_ｘ≦０．２×ｐ_ｘ」及び「０≦δ_ｙ≦０．２×ｐ_ｙ」とした。サンプル７のパターンでは、「０≦δ_ｘ≦０．３×ｐ_ｘ」及び「０≦δ_ｙ≦０．３×ｐ_ｙ」とした。サンプル８のパターンでは、「０≦δ_ｘ≦０．４×ｐ_ｘ」及び「０≦δ_ｙ≦０．４×ｐ_ｙ」とした。

次に、各サンプルのパターンの接続要素は、参照パターンの一つの線分の両端に位置する二つの交点に対応する二つの分岐点の間を直線状に延びるようにした。そして、以上のようにして決定したパターンにて、サンプル２〜７に係る導電体メッシュを作製した。

各サンプルに係る導電体メッシュを、市販されている液晶表示装置の表示面上に配置して、モアレ及び濃淡むらの有無を確認した。液晶表示装置は、図１８に示された画素配列と同様に、画素がｘ軸方向およびｙ軸方向の両方に同一の一定の周期で配列されていた。モアレ及び濃淡むらの有無の確認は、液晶表示装置が全面白色を表示した状態で行った。確認結果を表１に示す。表１の評価の欄は、次の基準で判断した結果を示している。
「×：モアレ又は濃淡むらが通常の使用において、問題となる程度に確認された。」
「○：モアレ又は濃淡むらが通常の使用において、問題となる程度に確認されなかった。」

なお、上述した実施の形態に対して様々な変更を加えることが可能である。以下、適宜図面を参照しながら、変形の一例について説明する。以下の説明および以下の説明で用いる図面では、上述した実施の形態と同様に構成され得る部分について、上述の実施の形態における対応する部分に対して用いた符号と同一の符号を用いることとし、重複する説明を省略する。

上述した実施の形態の図２に示されたタッチパネルセンサ３０では、各検出電極４１，５１がアクティブエリアＡａ１内に配置された細長い矩形状の導電性メッシュ４５，５５として形成されているが、これに限られない。検出電極４１，５１の構成は、種々の変更が可能である。図１９に示された例では、各第１検出電極４１が、その長手方向に間隔を明けて配列された多数の導電性メッシュ４５，５５と、隣り合う二つの導電性メッシュ４５，５５の間を接続する接続部４３，５３と、を有している。各検出電極４１，５１は、導電性メッシュ４５，５５および接続部４３，５３により、アクティブエリアＡａ１内を直線状に延びている。例えば、図１に於いては、導電性メッシュ４５及び接続要素４３は図の上下方向に延びている。各検出電極４１，５１が配置されている領域の幅は、導電性メッシュ４５，５５が設けられている部分において太くなっている。第１電極４０に含まれる各第１検出電極４１は、第２電極５０に含まれる多数の第２検出電極５１とは共に１枚の基材シート３５の一方の面上に存在し、且つ其の延びる方向が互いに交差している。そして、図１９に示すように、第１電極４０の第１検出電極４１は、その接続部４３において、第２電極５０の第２検出電極５１の接続部５３と間に図示はし無い絶縁層を介して交差している。したがって、第１検出電極４１の導電性メッシュ４５は、隣り合う二つの第２検出電極５１の間に配置され、第２検出電極５１の導電性メッシュ５５は、隣り合う二つの第１検出電極４１の間に配置されている。

また、上述した実施の形態において、参照メッシュパターン６０，６５の一例を示したが、上述した例に限られず、種々のパターンを採用することができる。例えば、参照メッシュパターン６０，６５がハニカムパターン（６方格子）として形成されていてもよい。また、上述したように、参照メッシュパターン６０，６５が、二種類以上の開口領域６１，６６を含み、各種の開口領域６１，６６が周期的に配列されているようにしてもよい。

なお、以上において上述した実施の形態に対するいくつかの変形例を説明してきたが、当然に、複数の変形例を適宜組み合わせて適用することも可能である。

１０ 表示装置
１２ 画像表示機構
２０ タッチパネル装置
３０ タッチパネルセンサ
３５ 基材シート
３５ａ 第１基材シート
３５ｂ 第２基材シート
４０ 第１電極
４１ 第１検出電極
４２ 第１取出電極、第１取出配線
４２ａ 端子部
４３ 接続部
４４ 導線
４５ 導電性メッシュ
４６ 開口領域
４７ 分岐点
４８ 接続要素
５０ 第２電極
５１ 第２検出電極
５２ 第２取出電極、第２取出配線
５２ａ 端子部
５３ 接続部
５４ 導線
５５ 導電性メッシュ
５６ 開口領域
５７ 分岐点
５８ 接続要素
６０ 参照メッシュパターン
６０ａ 第１の直線
６０ｂ 第２の直線
６１ 開口領域、開口部
６２ 交点
６３ 線分
６５ 参照メッシュパターン
６５ａ 第１の直線
６５ｂ 第２の直線
６６ 開口領域、開口部
６７ 交点
６８ 線分

Claims (7)

1. タッチパネルセンサと、
   ｘ方向及びｙ方向の両方に配列された画素を含み、前記タッチパネルセンサと重ねて配置された画像表示機構と、を備え、
   前記タッチパネルセンサは、複数の開口領域を画成する導電性メッシュを含む検出電極を、備え、
   前記導電性メッシュは、二つの分岐点の間を延びて前記開口領域を画成する導電性の接続要素を含み、
   前記導電性メッシュの各分岐点は、二つの交点の間を延びて開口領域を画成する複数の線分から形成され前記開口領域が周期的に配列されてなる参照メッシュパターンの一つの交点上または所定長さ以下となる長さだけ当該一つの交点から変位した位置に位置しており、且つ、前記導電性メッシュの各接続要素は、一つの線分の両端に位置する二つの交点にそれぞれ対応する二つの分岐点の間を延び、
   各分岐点の当該分岐点が対応する交点からの前記ｘ方向への変位量は、前記ｘ方向に沿った前記開口領域の配列周期の２％以上１５％以下であり、
   各分岐点の当該分岐点が対応する交点からの前記ｙ方向への変位量は、前記ｙ方向に沿った前記開口領域の配列周期の２％以上１５％以下である、表示装置。
2. 前記参照メッシュパターンでは、一定形状の開口領域が交差する二以上の方向に周期的に配列されている、請求項１に記載の表示装置。
3. 前記参照メッシュパターンでは、一定の四角形形状の開口領域が交差する二以上の方向に周期的に配列されている、請求項１に記載の表示装置。
4. 前記参照メッシュパターンは、各々が第１方向に直線状に延び且つ前記第１方向に直交する方向に一定周期で配列された複数の第１の直線群と、各々が第２方向に直線状に延び且つ前記第２方向に直交する方向に前記一定周期で配列された第２の直線群と、によって画成され、
   前記第１方向と前記第２方向とがなす角度は、６０°以上８０°以下である、請求項１に記載の表示装置。
5. 前記検出電極と重ねて配置され、前記導電性メッシュを含む第２検出電極を、さらに備え、
   前記検出電極及び前記第２検出電極のそれぞれを生成する前記参照メッシュパターンは、互いに同一であり、
   前記検出電極及び前記第２検出電極は、それぞれを生成する前記参照メッシュパターンが、前記二以上の方向にそれぞれ半周期ずらして配置されるように、互いに対して位置決めされている、請求項２または３に記載の表示装置。
6. 前記検出電極と重ねて配置され、前記導電性メッシュを含む第２検出電極を、さらに備え、
   前記検出電極及び前記第２検出電極のそれぞれを生成する前記参照メッシュパターンは、互いに同一であり、
   前記検出電極及び前記第２検出電極は、
   それぞれを生成する前記参照メッシュパターンの前記第１方向が互いに平行となり、
   それぞれを生成する前記参照メッシュパターンの前記第２方向が互いに平行となり、
   それぞれを生成する前記参照メッシュパターンの前記第１の直線群が、前記第１方向に直交する配列方向に、前記一定周期の半分だけ変位して配置され、且つ、
   それぞれを生成する前記参照メッシュパターンの前記第２の直線群が、前記第２方向に直交する配列方向に、前記一定周期の半分だけ変位して配置されるように、
   互いに対して位置決めされている、請求項４に記載の表示装置。
7. 前記画像表示機構は、互いに直交する二つの方向にそれぞれ配列された画素を有し、
   前記第１方向は、前記画素が配列された一方の方向に対して３０°以上４０°以下の角度をなし、且つ、前記第２方向は、前記画素が配列された前記一方の方向に対して３０°以上４０°以下の角度をなしている、請求項４又は６に記載された表示装置。