JP4048752B2 - パターンデータ補正方法、パターンデータ補正装置およびそのプログラム - Google Patents
パターンデータ補正方法、パターンデータ補正装置およびそのプログラム Download PDFInfo
- Publication number
- JP4048752B2 JP4048752B2 JP2001309151A JP2001309151A JP4048752B2 JP 4048752 B2 JP4048752 B2 JP 4048752B2 JP 2001309151 A JP2001309151 A JP 2001309151A JP 2001309151 A JP2001309151 A JP 2001309151A JP 4048752 B2 JP4048752 B2 JP 4048752B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pattern data
- pattern
- small sections
- small
- correction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、投影光学系を介して、加工対象にパターン転写を行うために使用するフォトマスク用のレイアウトパターンデータの補正方法、フォトマスクのレイアウトパターンデータの補正装置、およびそのプログラムに係わり、特にフォトマスクの製造過程で用いられるリソグラフィやエッチング等のパターン形成プロセスで生ずるパターン歪みを抑制して寸法精度の向上を図る上で好適な、パターンデータ補正方法、パターンデータ補正装置およびそのプログラムに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、フォトマスクの製造過程においては、リソグラフィやエッチング等のパターン形成プロセスが行なわれている。
（１）リソグラフィにより回路パターンの描画、現像を行なう場合、描画装置に固有の特性、使用するレジストと現像液の組み合わせ、現像条件等により、描画・現像後のパターンが、描画前の設計データ上のパターンに比較してパターン形状に誤差を生ずることが多々ある。
（２）また、エッチングの過程で生ずる寸法変動は、パターンの疎密差が大きくなるにつれて増大する。
【０００３】
上記の（１）のパターン形状の誤差、（２）の寸法変動は、リソグラフィのプロセスの改善やエッチング条件の改善のみで対処することは困難である。このため、上記の問題は一般にレイアウトパターンに補正を施すことで対処している。
（１）の描画・現像に伴うパターン形状の誤差の補正は、一般に「プロセスリサイズ」と称し、（２）のエッチングの過程で生ずる寸法変動の補正は、一般に「ローディング効果補正」と称する。
【０００４】
ここで、「プロセスリサイズ」について更に説明すると、パターンの描画、現像のプロセスにて発生するパターンの拡大・縮小・変形等を相殺するために、描画前の設計データ上のパターンを一定の幅だけ拡大あるいは縮小させて補正することである。その補正量（幅）は、描画装置、レジスト、現像条件を定義する工程フローにより予め定まる。
【０００５】
また、「ローディング効果」について更に説明すると、ドライエッチング工程において、レジストがポジ型レジストの場合、フォトマスクに形成すべきパターンが疎な領域にはエッチングに必要な活性種が必要以上に多く供給され、逆に、フォトマスクに形成すべきパターンが密な領域ではエッチングに必要とされる活性種の供給量が不足する現象である。その結果、パターンの密度に依存して所望寸法のパターンが得られなくなる。すなわち、フォトマスクに形成すべきパターンが疎な領域では、ドライエッチングにより形成されたパターンの寸法が所望のパターン寸法（基になるパターンデータで定まる寸法）より大きくなり、フォトマスクに形成すべきパターンが密な領域では、ドライエッチングにより形成されたパターンの寸法が所望のパターン寸法より小さくなる。これを補正するのが「ローディング効果補正」である。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
上述したように、フォトマスク用のパターンデータの全体に「プロセスリサイズ」を施し、さらに「ローディング効果補正」を施す（すなわち「プロセスリサイズ」と「ローディング効果補正」を２段階に分けて施す）には、データ変換に用いる電子計算機にかかる計算処理の負荷が膨大なものとなり、データ変換に要する時間も著しく長くなってしまう。
【０００７】
本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたもので、パターンデータに「プロセスリサイズ」と「ローディング効果補正」を施す場合に、データ変換に用いる電子計算機にかかる計算処理の負荷を軽減し、データ変換に要する時間を短縮することができるような、フォトマスクのパターンデータ補正方法、パターンデータ補正装置およびそのプログラムを提供することを第一の目的とする。
また、本発明は、上記のフォトマスクのパターンデータ補正装置を具備する描画装置を提供することを第二の目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
この発明は、上述した課題を解決すべくなされたもので、請求項１に記載の発明は、フォトマスク用のパターンデータを補正するパターンデータ補正方法であって、前記フォトマスク用のパターンデータを所定の形状の小区画に分割するステップと、前記小区画毎に、該小区画の面積に占める、プロセスリサイズ量で補正したパターンの面積の割合である面積密度を算出するステップと、前記小区画毎に、該小区画および該小区画の周辺の小区画が、該小区画へ与えるローディング効果の影響度係数を定める影響度係数情報を参照して、該小区画および周辺の小区画の前記面積密度と前記影響度係数を積算して積算値を求め、該積算値を全て加算した加算値に所定の係数を乗算することで、該小区画におけるローディング効果補正量を算出するステップと、該小区画において、算出した前記ローディング効果補正量と、前記プロセスリサイズ量とを加算して、該小区画のパターンデータ補正量を算出するステップと、前記小区画毎の前記パターンデータ補正量を用いて、前記小区画毎に前記パターンデータを補正するステップとを有することを特徴とする。
【０００９】
また、請求項２に記載の発明は、請求項１に記載のパターンデータ補正方法であって、上記面積密度を算出するステップは、パターンの周囲長を算出するステップと、前記周囲長と前記プロセスリサイズ量を乗算して近似的な補正面積を算出するステップと、補正前のパターン面積と前記補正面積との差を用いて、プロセスリサイズ量を補正したパターンの面積密度を算出するステップとを有することを特徴とする。
【００１０】
また、請求項３に記載の発明は、フォトマスク用のパターンデータを補正するパターンデータ補正装置であって、前記フォトマスク用のパターンデータを所定の形状の小区画に分割する分割手段と、前記小区画毎に、該小区画の面積に占める、プロセスリサイズ量で補正したパターンの面積の割合である面積密度を算出する面積密度算出手段と、前記小区画毎に、該小区画および該小区画の周辺の小区画が、該小区画へ与えるローディング効果の影響度係数を定める影響度係数情報を格納する係数情報格納部と、前記係数情報格納部より前記影響度係数情報を参照して、該小区画および周辺の小区画の前記面積密度と前記影響度係数を積算して積算値を求め、該積算値を全て加算した加算値に所定の係数を乗算することで、該小区画におけるローディング効果補正量を算出する第一補正量算出手段と、該小区画において、前記第一補正量算出手段が算出した前記ローディング効果補正量と、前記プロセスリサイズ量とを加算して、該小区画のパターンデータ補正量を算出する補正量算出手段と、前記小区画毎の前記パターンデータ補正量を用いて、前記小区画毎に前記パターンデータを補正する補正手段とを具備することを特徴とする。
【００１１】
また、請求項４に記載の発明は、請求項３に記載のパターンデータ補正装置であって、上記面積密度算出手段は、パターンの周囲長を算出し、前記周囲長算出手段が算出した前記周囲長と前記プロセスリサイズ量を乗算して近似的な補正面積を算出し、補正前のパターン面積と前記補正面積との差を用いて、プロセスリサイズ量を補正したパターンの面積密度を算出することを特徴とする。
【００１２】
また、請求項５に記載の発明は、フォトマスク用のパターン描画装置であって、請求項３に記載のパターンデータ補正装置と、前記パターンデータ補正装置が補正したパターンデータを基にしてフォトマスクを製造する製造手段とを具備することを特徴とする。
【００１３】
また、請求項６に記載の発明は、フォトマスク用のパターンデータを補正するパターンデータ補正用のプログラムであって、前記フォトマスク用のパターンデータを所定の形状の小区画に分割するステップと、前記小区画毎に、該小区画の面積に占める、プロセスリサイズ量で補正したパターンの面積の割合である面積密度を算出するステップと、前記小区画毎に、該小区画および該小区画の周辺の小区画が、該小区画へ与えるローディング効果の影響度係数を定める影響度係数情報を参照して、該小区画および周辺の小区画の前記面積密度と前記影響度係数を積算して積算値を求め、該積算値を全て加算した加算値に所定の係数を乗算することで、該小区画におけるローディング効果補正量を算出するステップと、該小区画において、算出した前記ローディング効果補正量と、前記プロセスリサイズ量とを加算して、該小区画のパターンデータ補正量を算出するステップと、前記小区画毎の前記パターンデータ補正量を用いて、前記小区画毎に前記パターンデータを補正するステップとをコンピュータへ実行させるためのプログラムである。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、発明の実施の形態を通じて本発明を説明する。ただし、以下の実施の形態は特許請求の範囲に記載された発明を限定するものではなく、また実施の形態の中で説明されている特徴の組み合わせのすべてが発明の解決手段に必要であるとは限らない。
まず、本発明の一実施形態におけるパターンデータ補正装置を具備するパターン描画装置の概略構成について図を用いて説明する。
【００１５】
図１は、本発明の一実施形態によるパターンデータ補正装置を具備するパターン描画装置の概略構成を示すブロック図である。この図において符号１０は、ガラス板１２へパターンデータを描画してフォトマスク１３を製造するフォトマスク製造部１１と、上述したプロセスリサイズやローディング効果を考慮したパターンデータの補正を行うパターンデータ補正装置１４とを少なくとも具備するパターン描画装置である。
【００１６】
図１に示すように、パターン描画装置１０のフォトマスク製造部１１は、パターンデータ補正装置１４が出力する補正後のパターンデータをガラス板１２へ描画して、フォトマスク１３を製造する。尚、フォトマスク製造部１１は、フォトマスクを製造する為の装置であればよく、機種や台数は任意でよい。また、図示するようにパターン描画装置１０が、パターンデータ補正装置１４を具備する構成に限らず、補正後のパターンデータを授受できる構成であればよい。
【００１７】
次に、本発明の一実施形態におけるパターンデータ補正装置１４の内部構成について図を用いて説明する。
図２は、本発明の一実施形態によるパターンデータ補正装置１４の概略構成を示すブロック図である。この図において符号２１は、パターンデータ補正装置１４内のデータを制御する制御部である。２２は、ガラス板１２へ描画するパターンデータおよびプロセスリサイズ量を特定するための工程フロー情報が入力される入力処理部である。尚、入力処理部２２は、パターンデータが記録媒体を介して入力される場合は記録媒体読取機能を具備してもよく、ネットワーク経由でパターンデータを受信する機能を具備してもよい。
【００１８】
２３は、パターンデータの補正処理を行う為の種々の情報を格納する格納部である。ここで、格納部２３が具備する係数情報格納部２３ａとプロセスリサイズ情報格納部２３ｂついて図を用いて説明する。
まず、係数情報格納部２３ａについて説明する。図３は、本発明の一実施形態における係数情報格納部２３ａの構成例および影響度係数パターン例を示す図である。図３（ａ）に示すように、影響度係数パターン１、影響度係数パターン２、影響度係数パターン３、…と種々の影響度係数パターンが格納されている。また、影響度係数パターン例を図３（ｂ）に示す。図に示すように、ローディング効果補正量を求める小区画を中心に、該小区画の影響度係数を“１００”として、周辺の小区画の影響度係数を定義している。尚、この影響度係数パターンは、描画装置の機種や、小区画の分割方法などにより変更して好適である。
【００１９】
次に、プロセスリサイズ情報格納部２３ｂについて説明する。図４は、本発明の一実施形態におけるプロセスリサイズ情報格納部２３ｂの構成例を示す図である。図４に示すように、入力処理部２２に入力される工程フロー情報で特定される工程フローを識別する情報である工程フロー１、工程フロー２、工程フロー３、…毎に、プロセスリサイズ量１、プロセスリサイズ量２、プロセスリサイズ量３、…が定められている。尚、工程フロー情報とは、プロセスリサイズ量を決める要素となる情報である、ガラス板１２の材料情報、現像条件情報、エッチング条件情報、フォトマスク製造部１１の機種情報などを含む。
以上に示すように、格納部２３は、係数情報格納部２３ａとプロセスリサイズ情報格納部２３ｂを具備し、種々の情報を格納する。
【００２０】
２４は、入力処理部２２より入力されたフォトマスク１３のパターンデータを所定の形状の小区画に分割する分割処理部である。例えば、図６に示すような多数の小区画へ分割する。尚、図６は、フォトマスク１３に描画されるパターンの一部であり、小区画Ａについてローディング効果の影響を考慮する際の周辺の小区画数について具体例を示す図である。２５は、分割処理部２４が分割した小区画毎に、該小区画の面積に占める、プロセスリサイズ量で補正したパターンの面積の割合である面積密度を算出する面積密度算出処理部である。
【００２１】
２６は、係数情報格納部２３ａより図３（ｂ）に示した影響度係数パターン１（影響度係数情報）を参照して、例えば、図６に示す範囲において、小区画Ａおよび周辺の小区画の面積密度と影響度係数を積算して積算値を求め、該積算値を全て加算した加算値に所定の係数を乗算することで、小区画Ａにおけるローディング効果補正量を算出する第一補正量算出処理部である。２７は、小区画Ａにおいて、第一補正量算出処理部２６が算出したローディング効果補正量と、プロセスリサイズ量とを加算して、小区画Ａのパターンデータ補正量を算出する補正量算出処理部である。
【００２２】
ここで、図６に示す、各小区画について、縦軸方向に１、２、…、ｉ、…Ｃ（Ｃは任意の整数であり図６ではＣ＝７）とし、横軸方向に１、２、…、ｊ、…Ｃとした場合に、座標ｉ、ｊにおける面積密度をＸ（ｉ，ｊ）、影響度係数パターン１で定まる影響度係数をＤ（ｉ，ｊ）とすると、小区画Ａのパターンデータ補正量は下記の式（１）で求まる。
【数１】
ただし、式（１）のＡは、第一補正量算出処理部２６が計算する際に用いる所定の係数であり、小区画Ａ周辺の小区画の面積密度Ｘ（ｉ，ｊ）と影響度係数Ｄ（ｉ，ｊ）を積算して積算値を求め、該積算値を全て加算した加算値をローディング効果補正量（距離）へ変換するための係数である。
【００２３】
２８は、第一補正量算出処理部２６および補正量算出処理部２７が式（１）を用いて小区画毎に算出したパターンデータ補正量を用いて、小区画毎にパターンデータを補正する補正処理部である。図７（ａ）にパターンデータの補正例を示す。図７（ａ）に示すように、各小区画毎に、パターンデータ補正量が違う。２９は、フォトマスク製造部１１へ補正後のパターンデータを出力する出力処理部である。
【００２４】
また、ここで、面積密度算出処理部２５がプロセスリサイズ量を考慮した面積密度Ｘ（ｉ，ｊ）を算出する方法の一例について図を用いて以下に示す。
図７（ｂ）に示すように、小区画７０にパターン面積Ｓのパターン７１がある場合に、面積密度算出処理部２５は、パターン７１の周囲長Ｌを算出（Ｌ＝Ｌ１＋Ｌ２＋Ｌ３＋Ｌ４＋Ｌ５）する。次に、プロセスリサイズ量がｅとすると、面積密度算出処理部２５は、パターン７１に対してプロセスリサイズ量を補正した場合の補正面積を以下の式（２）により求める。
補正面積＝Ｌ＊ｅ … （２）
【００２５】
次に、面積密度算出処理部２５は、補正前のパターン面積Ｓと補正面積との差を用いて、プロセスリサイズ量を補正した面積密度を以下の式（３）により算出する。
面積密度＝（Ｓ−補正面積）／小区画の面積 … （３）
以上に示したように、面積密度算出処理部２５が、面積密度を求める過程で、周囲長Ｌとプロセスリサイズ量ｅを用いて、近似的なプロセスリサイズ量の補正による補正面積を簡便に求めることで、パターンデータ補正装置１４の面積計算による処理負荷を大幅に軽減することができる。
【００２６】
尚、図２に示した各処理部は専用のハードウェアにより実現されるものであってもよく、また、各処理部はメモリおよびＣＰＵ（中央演算装置）により構成され、各処理部の機能を実現する為のプログラムをメモリにロードして実行することによりその機能を実現させるものであってもよい。
また、上記メモリは、ハードディスク装置や光磁気ディスク装置、フラッシュメモリ等の不揮発性のメモリや、ＣＤ−ＲＯＭ等の読み出しのみが可能な記録媒体、ＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ Ａｃｃｅｓｓ Ｍｅｍｏｒｙ）のような揮発性のメモリ、あるいはこれらの組み合わせによるコンピュータ読み取り、書き込み可能な記録媒体より構成されるものとする。
【００２７】
次に、上述したパターンデータ補正装置１４の動作について説明する。
図５は、本発明の一実施形態によるパターンデータ補正装置１４の動作を示すフロー図である。まず、パターンデータを入力処理部２２へ入力する（ステップＳ１０）。この際、プロセスリサイズ量を定める工程フロー情報も入力する。次に、分割処理部２４は、入力処理部２２より入力されたフォトマスク１３のパターンデータを図６に示した小区画に分割する（ステップＳ１１）。
【００２８】
次に、面積密度算出処理部２５は、分割処理部２４が分割した小区画毎に、該小区画の面積に占める、プロセスリサイズ量で補正したパターンの面積の割合である面積密度を算出する（ステップＳ１２）。次に、第一補正量算出処理部２６は、式（１）の係数Ａを含む項を計算することでローディング効果補正量を算出する（ステップＳ１３）。次に、補正量算出処理部２７は、各小区画において、第一補正量算出処理部２６が算出したローディング効果補正量と、プロセスリサイズ量とを加算して、該小区画のパターンデータ補正量を算出する（ステップＳ１４）。
【００２９】
次に、補正処理部２８は、第一補正量算出処理部２６および補正量算出処理部２７が式（１）を用いて小区画毎に算出したパターンデータ補正量を用いて、小区画毎にパターンデータを補正する（ステップＳ１５）。
以上に示したように、パターンデータ補正装置１４は、プロセスリサイズ量およびローディング効果補正量を考慮したパターンデータの補正を行うことができる。このローディング効果補正量を考慮しない場合はエッチングの過程で生じる寸法変動が２０ｎｍ以上あったが、ローディング効果補正量を考慮することで、数ｎｍまで寸法変動を抑制することができる。
【００３０】
尚、分割処理部２４が分割する小区画の大きさは、パターン描画装置１０がガラス板１２へ一度で描画する単位であるフィールドサイズと同じもしくは整数倍が好ましい。
【００３１】
また、図２において各種処理を行う処理部の機能を実現する為のプログラムをコンピュータ読み取り可能な記録媒体に記録して、この記録媒体に記録されたプログラムをコンピュータシステムに読み込ませ、実行することにより各処理を行っても良い。なお、ここでいう「コンピュータシステム」とは、ＯＳや周辺機器等のハードウェアを含むものとする。
また、「コンピュータシステム」とは、ＷＷＷシステムを利用している場合であれば、ホームページ提供環境（あるいは表示環境）も含むものとする。
【００３２】
また、「コンピュータ読み取り可能な記録媒体」とは、フレキシブルディスク、光磁気ディスク、ＲＯＭ、ＣＤ−ＲＯＭ等の可搬媒体、コンピュータシステムに内蔵されるハードディスク等の記憶装置のことをいう。さらに「コンピュータ読み取り可能な記録媒体」とは、インターネット等のネットワークや電話回線等の通信回線を介してプログラムが送信された場合のサーバやクライアントとなるコンピュータシステム内部の揮発メモリ（ＲＡＭ）のように、一定時間プログラムを保持しているものも含むものとする。
【００３３】
また、上記プログラムは、このプログラムを記憶装置等に格納したコンピュータシステムから、伝送媒体を介して、あるいは、伝送媒体中の伝送波により他のコンピュータシステムに伝送されてもよい。ここで、プログラムを伝送する「伝送媒体」は、インターネット等のネットワーク（通信網）や電話回線等の通信回線（通信線）のように情報を伝送する機能を有する媒体のことをいう。
また、上記プログラムは、前述した機能の一部を実現する為のものであっても良い。さらに、前述した機能をコンピュータシステムに既に記録されているプログラムとの組み合わせで実現できるもの、いわゆる差分ファイル（差分プログラム）であっても良い。
以上、この発明の実施形態について図面を参照して詳述してきたが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲の設計等も含まれる。
【００３４】
【発明の効果】
以上説明したように請求項１に記載の発明においては、フォトマスク用のパターンデータを所定の形状の小区画に分割するステップと、小区画毎に、該小区画の面積に占める、プロセスリサイズ量で補正したパターンの面積の割合である面積密度を算出するステップと、小区画毎に、該小区画および該小区画の周辺の小区画が、該小区画へ与えるローディング効果の影響度係数を定める影響度係数情報を参照して、該小区画および周辺の小区画の面積密度と影響度係数を積算して積算値を求め、該積算値を全て加算した加算値に所定の係数を乗算することで、該小区画におけるローディング効果補正量を算出するステップと、該小区画において、算出したローディング効果補正量と、プロセスリサイズ量とを加算して、該小区画のパターンデータ補正量を算出するステップと、小区画毎の前記パターンデータ補正量を用いて、小区画毎にパターンデータを補正するステップとを有するので、プロセスリサイズ量およびローディング効果補正量を考慮したパターンデータの補正を行うことができる。
これにより、パターンの描画、現像の際に生ずるパターン形状の誤差とエッチングの過程で生ずる寸法変動を有効に抑制することができる。
【００３５】
また、請求項２に記載の発明においては、上記面積密度を算出するステップは、パターンの周囲長を算出するステップと、周囲長と前記プロセスリサイズ量を乗算して近似的な補正面積を算出するステップと、補正前のパターン面積と補正面積との差を用いて、プロセスリサイズ量を補正したパターンの面積密度を算出するステップとを有するので、プロセスリサイズを近似的な計算手法により施すことができる。これにより、プロセスリサイズ量を反映させるデータ変換を行う電子計算機（パターンデータ補正装置）にかかる計算処理の負荷を軽減し、データ変換に要する時間を短縮することができる。
【００３６】
また、請求項３に記載の発明においては、フォトマスク用のパターンデータ補正装置であって、パターンデータにプロセスリサイズを施す面積密度算出手段とローディング効果補正を施す第一補正量算出手段の組み合わせよりなるので、パターンの描画、現像の際に生ずるパターン形状の誤差とエッチングの過程で生ずる寸法変動を有効に抑制することができる。
【００３７】
また、請求項４に記載の発明においては、フォトマスク用のパターンデータ補正装置であって、プロセスリサイズを施す面積密度算出手段は、近似的な計算機能のみで足りるので、データ変換に用いる電子計算機にかかる計算処理の負荷を軽減し、データ変換に要する時間を短縮することができる。
【００３８】
また、請求項５に記載の発明においては、フォトマスクへパターンデータを描画するパターン描画装置であって、請求項３に記載のパターンデータ補正装置を具備するので、描画装置内部でプロセスリサイズとローディング効果補正を施した上でパターンを描画することができる。尚、パターンの描画については、パターンデータ全体を一括してパターン描画装置内部でプロセスリサイズとローディング効果補正を施した上で、補正後のパターンを一括して描画してもよいし、また、パターンデータの部分毎（例えば小区画毎）にパターン描画装置内部でプロセスリサイズとローディング効果補正を施し、補正処理が終了したデータから順次、他の部分の処理と並行してパターン描画してもよい。これにより、事前に別途のデータ変換処理を施す手間を省略することができるので、パターンの描画、現像の際に生ずるパターン形状の誤差とエッチングの過程で生ずる寸法変動を有効に抑制したレイアウトパターンを短時間で描画することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の一実施形態によるパターンデータ補正装置を具備するパターン描画装置の概略構成を示すブロック図である。
【図２】 本発明の一実施形態によるパターンデータ補正装置１４の概略構成を示すブロック図である。
【図３】 本発明の一実施形態における係数情報格納部２３ａの構成例および影響度係数パターン例を示す図である。
【図４】 本発明の一実施形態におけるプロセスリサイズ情報格納部２３ｂの構成例を示す図である。
【図５】 本発明の一実施形態によるパターンデータ補正装置１４の動作を示すフロー図である。
【図６】 本発明の一実施形態におけるフォトマスク１３に描画されるパターンの一部であり、小区画Ａについてローディング効果の影響を考慮する際の周辺の小区画数について具体例を示す図である。
【図７】 本発明の一実施形態によるパターンデータの補正例およびプロセスリサイズによる補正面積例を示す図である。
【符号の説明】
１０ パターン描画装置
１１ フォトマスク製造部
１２ ガラス板
１３ フォトマスク
１４ パターンデータ補正装置
２１ 制御部
２２ 入力処理部
２３ 格納部
２３ａ 係数情報格納部
２３ｂ プロセスリサイズ情報格納部
２４ 分割処理部
２５ 面積密度算出処理部
２６ 第一補正量算出処理部
２７ 補正量算出処理部
２８ 補正処理部
２９ 出力処理部
【発明の属する技術分野】
この発明は、投影光学系を介して、加工対象にパターン転写を行うために使用するフォトマスク用のレイアウトパターンデータの補正方法、フォトマスクのレイアウトパターンデータの補正装置、およびそのプログラムに係わり、特にフォトマスクの製造過程で用いられるリソグラフィやエッチング等のパターン形成プロセスで生ずるパターン歪みを抑制して寸法精度の向上を図る上で好適な、パターンデータ補正方法、パターンデータ補正装置およびそのプログラムに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、フォトマスクの製造過程においては、リソグラフィやエッチング等のパターン形成プロセスが行なわれている。
（１）リソグラフィにより回路パターンの描画、現像を行なう場合、描画装置に固有の特性、使用するレジストと現像液の組み合わせ、現像条件等により、描画・現像後のパターンが、描画前の設計データ上のパターンに比較してパターン形状に誤差を生ずることが多々ある。
（２）また、エッチングの過程で生ずる寸法変動は、パターンの疎密差が大きくなるにつれて増大する。
【０００３】
上記の（１）のパターン形状の誤差、（２）の寸法変動は、リソグラフィのプロセスの改善やエッチング条件の改善のみで対処することは困難である。このため、上記の問題は一般にレイアウトパターンに補正を施すことで対処している。
（１）の描画・現像に伴うパターン形状の誤差の補正は、一般に「プロセスリサイズ」と称し、（２）のエッチングの過程で生ずる寸法変動の補正は、一般に「ローディング効果補正」と称する。
【０００４】
ここで、「プロセスリサイズ」について更に説明すると、パターンの描画、現像のプロセスにて発生するパターンの拡大・縮小・変形等を相殺するために、描画前の設計データ上のパターンを一定の幅だけ拡大あるいは縮小させて補正することである。その補正量（幅）は、描画装置、レジスト、現像条件を定義する工程フローにより予め定まる。
【０００５】
また、「ローディング効果」について更に説明すると、ドライエッチング工程において、レジストがポジ型レジストの場合、フォトマスクに形成すべきパターンが疎な領域にはエッチングに必要な活性種が必要以上に多く供給され、逆に、フォトマスクに形成すべきパターンが密な領域ではエッチングに必要とされる活性種の供給量が不足する現象である。その結果、パターンの密度に依存して所望寸法のパターンが得られなくなる。すなわち、フォトマスクに形成すべきパターンが疎な領域では、ドライエッチングにより形成されたパターンの寸法が所望のパターン寸法（基になるパターンデータで定まる寸法）より大きくなり、フォトマスクに形成すべきパターンが密な領域では、ドライエッチングにより形成されたパターンの寸法が所望のパターン寸法より小さくなる。これを補正するのが「ローディング効果補正」である。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
上述したように、フォトマスク用のパターンデータの全体に「プロセスリサイズ」を施し、さらに「ローディング効果補正」を施す（すなわち「プロセスリサイズ」と「ローディング効果補正」を２段階に分けて施す）には、データ変換に用いる電子計算機にかかる計算処理の負荷が膨大なものとなり、データ変換に要する時間も著しく長くなってしまう。
【０００７】
本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたもので、パターンデータに「プロセスリサイズ」と「ローディング効果補正」を施す場合に、データ変換に用いる電子計算機にかかる計算処理の負荷を軽減し、データ変換に要する時間を短縮することができるような、フォトマスクのパターンデータ補正方法、パターンデータ補正装置およびそのプログラムを提供することを第一の目的とする。
また、本発明は、上記のフォトマスクのパターンデータ補正装置を具備する描画装置を提供することを第二の目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
この発明は、上述した課題を解決すべくなされたもので、請求項１に記載の発明は、フォトマスク用のパターンデータを補正するパターンデータ補正方法であって、前記フォトマスク用のパターンデータを所定の形状の小区画に分割するステップと、前記小区画毎に、該小区画の面積に占める、プロセスリサイズ量で補正したパターンの面積の割合である面積密度を算出するステップと、前記小区画毎に、該小区画および該小区画の周辺の小区画が、該小区画へ与えるローディング効果の影響度係数を定める影響度係数情報を参照して、該小区画および周辺の小区画の前記面積密度と前記影響度係数を積算して積算値を求め、該積算値を全て加算した加算値に所定の係数を乗算することで、該小区画におけるローディング効果補正量を算出するステップと、該小区画において、算出した前記ローディング効果補正量と、前記プロセスリサイズ量とを加算して、該小区画のパターンデータ補正量を算出するステップと、前記小区画毎の前記パターンデータ補正量を用いて、前記小区画毎に前記パターンデータを補正するステップとを有することを特徴とする。
【０００９】
また、請求項２に記載の発明は、請求項１に記載のパターンデータ補正方法であって、上記面積密度を算出するステップは、パターンの周囲長を算出するステップと、前記周囲長と前記プロセスリサイズ量を乗算して近似的な補正面積を算出するステップと、補正前のパターン面積と前記補正面積との差を用いて、プロセスリサイズ量を補正したパターンの面積密度を算出するステップとを有することを特徴とする。
【００１０】
また、請求項３に記載の発明は、フォトマスク用のパターンデータを補正するパターンデータ補正装置であって、前記フォトマスク用のパターンデータを所定の形状の小区画に分割する分割手段と、前記小区画毎に、該小区画の面積に占める、プロセスリサイズ量で補正したパターンの面積の割合である面積密度を算出する面積密度算出手段と、前記小区画毎に、該小区画および該小区画の周辺の小区画が、該小区画へ与えるローディング効果の影響度係数を定める影響度係数情報を格納する係数情報格納部と、前記係数情報格納部より前記影響度係数情報を参照して、該小区画および周辺の小区画の前記面積密度と前記影響度係数を積算して積算値を求め、該積算値を全て加算した加算値に所定の係数を乗算することで、該小区画におけるローディング効果補正量を算出する第一補正量算出手段と、該小区画において、前記第一補正量算出手段が算出した前記ローディング効果補正量と、前記プロセスリサイズ量とを加算して、該小区画のパターンデータ補正量を算出する補正量算出手段と、前記小区画毎の前記パターンデータ補正量を用いて、前記小区画毎に前記パターンデータを補正する補正手段とを具備することを特徴とする。
【００１１】
また、請求項４に記載の発明は、請求項３に記載のパターンデータ補正装置であって、上記面積密度算出手段は、パターンの周囲長を算出し、前記周囲長算出手段が算出した前記周囲長と前記プロセスリサイズ量を乗算して近似的な補正面積を算出し、補正前のパターン面積と前記補正面積との差を用いて、プロセスリサイズ量を補正したパターンの面積密度を算出することを特徴とする。
【００１２】
また、請求項５に記載の発明は、フォトマスク用のパターン描画装置であって、請求項３に記載のパターンデータ補正装置と、前記パターンデータ補正装置が補正したパターンデータを基にしてフォトマスクを製造する製造手段とを具備することを特徴とする。
【００１３】
また、請求項６に記載の発明は、フォトマスク用のパターンデータを補正するパターンデータ補正用のプログラムであって、前記フォトマスク用のパターンデータを所定の形状の小区画に分割するステップと、前記小区画毎に、該小区画の面積に占める、プロセスリサイズ量で補正したパターンの面積の割合である面積密度を算出するステップと、前記小区画毎に、該小区画および該小区画の周辺の小区画が、該小区画へ与えるローディング効果の影響度係数を定める影響度係数情報を参照して、該小区画および周辺の小区画の前記面積密度と前記影響度係数を積算して積算値を求め、該積算値を全て加算した加算値に所定の係数を乗算することで、該小区画におけるローディング効果補正量を算出するステップと、該小区画において、算出した前記ローディング効果補正量と、前記プロセスリサイズ量とを加算して、該小区画のパターンデータ補正量を算出するステップと、前記小区画毎の前記パターンデータ補正量を用いて、前記小区画毎に前記パターンデータを補正するステップとをコンピュータへ実行させるためのプログラムである。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、発明の実施の形態を通じて本発明を説明する。ただし、以下の実施の形態は特許請求の範囲に記載された発明を限定するものではなく、また実施の形態の中で説明されている特徴の組み合わせのすべてが発明の解決手段に必要であるとは限らない。
まず、本発明の一実施形態におけるパターンデータ補正装置を具備するパターン描画装置の概略構成について図を用いて説明する。
【００１５】
図１は、本発明の一実施形態によるパターンデータ補正装置を具備するパターン描画装置の概略構成を示すブロック図である。この図において符号１０は、ガラス板１２へパターンデータを描画してフォトマスク１３を製造するフォトマスク製造部１１と、上述したプロセスリサイズやローディング効果を考慮したパターンデータの補正を行うパターンデータ補正装置１４とを少なくとも具備するパターン描画装置である。
【００１６】
図１に示すように、パターン描画装置１０のフォトマスク製造部１１は、パターンデータ補正装置１４が出力する補正後のパターンデータをガラス板１２へ描画して、フォトマスク１３を製造する。尚、フォトマスク製造部１１は、フォトマスクを製造する為の装置であればよく、機種や台数は任意でよい。また、図示するようにパターン描画装置１０が、パターンデータ補正装置１４を具備する構成に限らず、補正後のパターンデータを授受できる構成であればよい。
【００１７】
次に、本発明の一実施形態におけるパターンデータ補正装置１４の内部構成について図を用いて説明する。
図２は、本発明の一実施形態によるパターンデータ補正装置１４の概略構成を示すブロック図である。この図において符号２１は、パターンデータ補正装置１４内のデータを制御する制御部である。２２は、ガラス板１２へ描画するパターンデータおよびプロセスリサイズ量を特定するための工程フロー情報が入力される入力処理部である。尚、入力処理部２２は、パターンデータが記録媒体を介して入力される場合は記録媒体読取機能を具備してもよく、ネットワーク経由でパターンデータを受信する機能を具備してもよい。
【００１８】
２３は、パターンデータの補正処理を行う為の種々の情報を格納する格納部である。ここで、格納部２３が具備する係数情報格納部２３ａとプロセスリサイズ情報格納部２３ｂついて図を用いて説明する。
まず、係数情報格納部２３ａについて説明する。図３は、本発明の一実施形態における係数情報格納部２３ａの構成例および影響度係数パターン例を示す図である。図３（ａ）に示すように、影響度係数パターン１、影響度係数パターン２、影響度係数パターン３、…と種々の影響度係数パターンが格納されている。また、影響度係数パターン例を図３（ｂ）に示す。図に示すように、ローディング効果補正量を求める小区画を中心に、該小区画の影響度係数を“１００”として、周辺の小区画の影響度係数を定義している。尚、この影響度係数パターンは、描画装置の機種や、小区画の分割方法などにより変更して好適である。
【００１９】
次に、プロセスリサイズ情報格納部２３ｂについて説明する。図４は、本発明の一実施形態におけるプロセスリサイズ情報格納部２３ｂの構成例を示す図である。図４に示すように、入力処理部２２に入力される工程フロー情報で特定される工程フローを識別する情報である工程フロー１、工程フロー２、工程フロー３、…毎に、プロセスリサイズ量１、プロセスリサイズ量２、プロセスリサイズ量３、…が定められている。尚、工程フロー情報とは、プロセスリサイズ量を決める要素となる情報である、ガラス板１２の材料情報、現像条件情報、エッチング条件情報、フォトマスク製造部１１の機種情報などを含む。
以上に示すように、格納部２３は、係数情報格納部２３ａとプロセスリサイズ情報格納部２３ｂを具備し、種々の情報を格納する。
【００２０】
２４は、入力処理部２２より入力されたフォトマスク１３のパターンデータを所定の形状の小区画に分割する分割処理部である。例えば、図６に示すような多数の小区画へ分割する。尚、図６は、フォトマスク１３に描画されるパターンの一部であり、小区画Ａについてローディング効果の影響を考慮する際の周辺の小区画数について具体例を示す図である。２５は、分割処理部２４が分割した小区画毎に、該小区画の面積に占める、プロセスリサイズ量で補正したパターンの面積の割合である面積密度を算出する面積密度算出処理部である。
【００２１】
２６は、係数情報格納部２３ａより図３（ｂ）に示した影響度係数パターン１（影響度係数情報）を参照して、例えば、図６に示す範囲において、小区画Ａおよび周辺の小区画の面積密度と影響度係数を積算して積算値を求め、該積算値を全て加算した加算値に所定の係数を乗算することで、小区画Ａにおけるローディング効果補正量を算出する第一補正量算出処理部である。２７は、小区画Ａにおいて、第一補正量算出処理部２６が算出したローディング効果補正量と、プロセスリサイズ量とを加算して、小区画Ａのパターンデータ補正量を算出する補正量算出処理部である。
【００２２】
ここで、図６に示す、各小区画について、縦軸方向に１、２、…、ｉ、…Ｃ（Ｃは任意の整数であり図６ではＣ＝７）とし、横軸方向に１、２、…、ｊ、…Ｃとした場合に、座標ｉ、ｊにおける面積密度をＸ（ｉ，ｊ）、影響度係数パターン１で定まる影響度係数をＤ（ｉ，ｊ）とすると、小区画Ａのパターンデータ補正量は下記の式（１）で求まる。
【数１】
【００２３】
２８は、第一補正量算出処理部２６および補正量算出処理部２７が式（１）を用いて小区画毎に算出したパターンデータ補正量を用いて、小区画毎にパターンデータを補正する補正処理部である。図７（ａ）にパターンデータの補正例を示す。図７（ａ）に示すように、各小区画毎に、パターンデータ補正量が違う。２９は、フォトマスク製造部１１へ補正後のパターンデータを出力する出力処理部である。
【００２４】
また、ここで、面積密度算出処理部２５がプロセスリサイズ量を考慮した面積密度Ｘ（ｉ，ｊ）を算出する方法の一例について図を用いて以下に示す。
図７（ｂ）に示すように、小区画７０にパターン面積Ｓのパターン７１がある場合に、面積密度算出処理部２５は、パターン７１の周囲長Ｌを算出（Ｌ＝Ｌ１＋Ｌ２＋Ｌ３＋Ｌ４＋Ｌ５）する。次に、プロセスリサイズ量がｅとすると、面積密度算出処理部２５は、パターン７１に対してプロセスリサイズ量を補正した場合の補正面積を以下の式（２）により求める。
補正面積＝Ｌ＊ｅ … （２）
【００２５】
次に、面積密度算出処理部２５は、補正前のパターン面積Ｓと補正面積との差を用いて、プロセスリサイズ量を補正した面積密度を以下の式（３）により算出する。
面積密度＝（Ｓ−補正面積）／小区画の面積 … （３）
以上に示したように、面積密度算出処理部２５が、面積密度を求める過程で、周囲長Ｌとプロセスリサイズ量ｅを用いて、近似的なプロセスリサイズ量の補正による補正面積を簡便に求めることで、パターンデータ補正装置１４の面積計算による処理負荷を大幅に軽減することができる。
【００２６】
尚、図２に示した各処理部は専用のハードウェアにより実現されるものであってもよく、また、各処理部はメモリおよびＣＰＵ（中央演算装置）により構成され、各処理部の機能を実現する為のプログラムをメモリにロードして実行することによりその機能を実現させるものであってもよい。
また、上記メモリは、ハードディスク装置や光磁気ディスク装置、フラッシュメモリ等の不揮発性のメモリや、ＣＤ−ＲＯＭ等の読み出しのみが可能な記録媒体、ＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ Ａｃｃｅｓｓ Ｍｅｍｏｒｙ）のような揮発性のメモリ、あるいはこれらの組み合わせによるコンピュータ読み取り、書き込み可能な記録媒体より構成されるものとする。
【００２７】
次に、上述したパターンデータ補正装置１４の動作について説明する。
図５は、本発明の一実施形態によるパターンデータ補正装置１４の動作を示すフロー図である。まず、パターンデータを入力処理部２２へ入力する（ステップＳ１０）。この際、プロセスリサイズ量を定める工程フロー情報も入力する。次に、分割処理部２４は、入力処理部２２より入力されたフォトマスク１３のパターンデータを図６に示した小区画に分割する（ステップＳ１１）。
【００２８】
次に、面積密度算出処理部２５は、分割処理部２４が分割した小区画毎に、該小区画の面積に占める、プロセスリサイズ量で補正したパターンの面積の割合である面積密度を算出する（ステップＳ１２）。次に、第一補正量算出処理部２６は、式（１）の係数Ａを含む項を計算することでローディング効果補正量を算出する（ステップＳ１３）。次に、補正量算出処理部２７は、各小区画において、第一補正量算出処理部２６が算出したローディング効果補正量と、プロセスリサイズ量とを加算して、該小区画のパターンデータ補正量を算出する（ステップＳ１４）。
【００２９】
次に、補正処理部２８は、第一補正量算出処理部２６および補正量算出処理部２７が式（１）を用いて小区画毎に算出したパターンデータ補正量を用いて、小区画毎にパターンデータを補正する（ステップＳ１５）。
以上に示したように、パターンデータ補正装置１４は、プロセスリサイズ量およびローディング効果補正量を考慮したパターンデータの補正を行うことができる。このローディング効果補正量を考慮しない場合はエッチングの過程で生じる寸法変動が２０ｎｍ以上あったが、ローディング効果補正量を考慮することで、数ｎｍまで寸法変動を抑制することができる。
【００３０】
尚、分割処理部２４が分割する小区画の大きさは、パターン描画装置１０がガラス板１２へ一度で描画する単位であるフィールドサイズと同じもしくは整数倍が好ましい。
【００３１】
また、図２において各種処理を行う処理部の機能を実現する為のプログラムをコンピュータ読み取り可能な記録媒体に記録して、この記録媒体に記録されたプログラムをコンピュータシステムに読み込ませ、実行することにより各処理を行っても良い。なお、ここでいう「コンピュータシステム」とは、ＯＳや周辺機器等のハードウェアを含むものとする。
また、「コンピュータシステム」とは、ＷＷＷシステムを利用している場合であれば、ホームページ提供環境（あるいは表示環境）も含むものとする。
【００３２】
また、「コンピュータ読み取り可能な記録媒体」とは、フレキシブルディスク、光磁気ディスク、ＲＯＭ、ＣＤ−ＲＯＭ等の可搬媒体、コンピュータシステムに内蔵されるハードディスク等の記憶装置のことをいう。さらに「コンピュータ読み取り可能な記録媒体」とは、インターネット等のネットワークや電話回線等の通信回線を介してプログラムが送信された場合のサーバやクライアントとなるコンピュータシステム内部の揮発メモリ（ＲＡＭ）のように、一定時間プログラムを保持しているものも含むものとする。
【００３３】
また、上記プログラムは、このプログラムを記憶装置等に格納したコンピュータシステムから、伝送媒体を介して、あるいは、伝送媒体中の伝送波により他のコンピュータシステムに伝送されてもよい。ここで、プログラムを伝送する「伝送媒体」は、インターネット等のネットワーク（通信網）や電話回線等の通信回線（通信線）のように情報を伝送する機能を有する媒体のことをいう。
また、上記プログラムは、前述した機能の一部を実現する為のものであっても良い。さらに、前述した機能をコンピュータシステムに既に記録されているプログラムとの組み合わせで実現できるもの、いわゆる差分ファイル（差分プログラム）であっても良い。
以上、この発明の実施形態について図面を参照して詳述してきたが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲の設計等も含まれる。
【００３４】
【発明の効果】
以上説明したように請求項１に記載の発明においては、フォトマスク用のパターンデータを所定の形状の小区画に分割するステップと、小区画毎に、該小区画の面積に占める、プロセスリサイズ量で補正したパターンの面積の割合である面積密度を算出するステップと、小区画毎に、該小区画および該小区画の周辺の小区画が、該小区画へ与えるローディング効果の影響度係数を定める影響度係数情報を参照して、該小区画および周辺の小区画の面積密度と影響度係数を積算して積算値を求め、該積算値を全て加算した加算値に所定の係数を乗算することで、該小区画におけるローディング効果補正量を算出するステップと、該小区画において、算出したローディング効果補正量と、プロセスリサイズ量とを加算して、該小区画のパターンデータ補正量を算出するステップと、小区画毎の前記パターンデータ補正量を用いて、小区画毎にパターンデータを補正するステップとを有するので、プロセスリサイズ量およびローディング効果補正量を考慮したパターンデータの補正を行うことができる。
これにより、パターンの描画、現像の際に生ずるパターン形状の誤差とエッチングの過程で生ずる寸法変動を有効に抑制することができる。
【００３５】
また、請求項２に記載の発明においては、上記面積密度を算出するステップは、パターンの周囲長を算出するステップと、周囲長と前記プロセスリサイズ量を乗算して近似的な補正面積を算出するステップと、補正前のパターン面積と補正面積との差を用いて、プロセスリサイズ量を補正したパターンの面積密度を算出するステップとを有するので、プロセスリサイズを近似的な計算手法により施すことができる。これにより、プロセスリサイズ量を反映させるデータ変換を行う電子計算機（パターンデータ補正装置）にかかる計算処理の負荷を軽減し、データ変換に要する時間を短縮することができる。
【００３６】
また、請求項３に記載の発明においては、フォトマスク用のパターンデータ補正装置であって、パターンデータにプロセスリサイズを施す面積密度算出手段とローディング効果補正を施す第一補正量算出手段の組み合わせよりなるので、パターンの描画、現像の際に生ずるパターン形状の誤差とエッチングの過程で生ずる寸法変動を有効に抑制することができる。
【００３７】
また、請求項４に記載の発明においては、フォトマスク用のパターンデータ補正装置であって、プロセスリサイズを施す面積密度算出手段は、近似的な計算機能のみで足りるので、データ変換に用いる電子計算機にかかる計算処理の負荷を軽減し、データ変換に要する時間を短縮することができる。
【００３８】
また、請求項５に記載の発明においては、フォトマスクへパターンデータを描画するパターン描画装置であって、請求項３に記載のパターンデータ補正装置を具備するので、描画装置内部でプロセスリサイズとローディング効果補正を施した上でパターンを描画することができる。尚、パターンの描画については、パターンデータ全体を一括してパターン描画装置内部でプロセスリサイズとローディング効果補正を施した上で、補正後のパターンを一括して描画してもよいし、また、パターンデータの部分毎（例えば小区画毎）にパターン描画装置内部でプロセスリサイズとローディング効果補正を施し、補正処理が終了したデータから順次、他の部分の処理と並行してパターン描画してもよい。これにより、事前に別途のデータ変換処理を施す手間を省略することができるので、パターンの描画、現像の際に生ずるパターン形状の誤差とエッチングの過程で生ずる寸法変動を有効に抑制したレイアウトパターンを短時間で描画することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の一実施形態によるパターンデータ補正装置を具備するパターン描画装置の概略構成を示すブロック図である。
【図２】 本発明の一実施形態によるパターンデータ補正装置１４の概略構成を示すブロック図である。
【図３】 本発明の一実施形態における係数情報格納部２３ａの構成例および影響度係数パターン例を示す図である。
【図４】 本発明の一実施形態におけるプロセスリサイズ情報格納部２３ｂの構成例を示す図である。
【図５】 本発明の一実施形態によるパターンデータ補正装置１４の動作を示すフロー図である。
【図６】 本発明の一実施形態におけるフォトマスク１３に描画されるパターンの一部であり、小区画Ａについてローディング効果の影響を考慮する際の周辺の小区画数について具体例を示す図である。
【図７】 本発明の一実施形態によるパターンデータの補正例およびプロセスリサイズによる補正面積例を示す図である。
【符号の説明】
１０ パターン描画装置
１１ フォトマスク製造部
１２ ガラス板
１３ フォトマスク
１４ パターンデータ補正装置
２１ 制御部
２２ 入力処理部
２３ 格納部
２３ａ 係数情報格納部
２３ｂ プロセスリサイズ情報格納部
２４ 分割処理部
２５ 面積密度算出処理部
２６ 第一補正量算出処理部
２７ 補正量算出処理部
２８ 補正処理部
２９ 出力処理部
Claims (6)
- フォトマスク用のパターンデータを補正するパターンデータ補正方法であって、
前記フォトマスク用のパターンデータを所定の形状の小区画に分割するステップと、
前記小区画毎に、該小区画の面積に占める、プロセスリサイズ量で補正したパターンの面積の割合である面積密度を算出するステップと、
前記小区画毎に、該小区画および該小区画の周辺の小区画が、該小区画へ与えるローディング効果の影響度係数を定める影響度係数情報を参照して、該小区画および周辺の小区画の前記面積密度と前記影響度係数を積算して積算値を求め、該積算値を全て加算した加算値に所定の係数を乗算することで、該小区画におけるローディング効果補正量を算出するステップと、
該小区画において、算出した前記ローディング効果補正量と、前記プロセスリサイズ量とを加算して、該小区画のパターンデータ補正量を算出するステップと、
前記小区画毎の前記パターンデータ補正量を用いて、前記小区画毎に前記パターンデータを補正するステップと
を有することを特徴とするパターンデータ補正方法。 - 前記面積密度を算出するステップは、
パターンの周囲長を算出するステップと、
前記周囲長と前記プロセスリサイズ量を乗算して近似的な補正面積を算出するステップと、
補正前のパターン面積と前記補正面積との差を用いて、プロセスリサイズ量を補正したパターンの面積密度を算出するステップと
を有することを特徴とする請求項１に記載のパターンデータ補正方法。 - フォトマスク用のパターンデータを補正するパターンデータ補正装置であって、
前記フォトマスク用のパターンデータを所定の形状の小区画に分割する分割手段と、
前記小区画毎に、該小区画の面積に占める、プロセスリサイズ量で補正したパターンの面積の割合である面積密度を算出する面積密度算出手段と、
前記小区画毎に、該小区画および該小区画の周辺の小区画が、該小区画へ与えるローディング効果の影響度係数を定める影響度係数情報を格納する係数情報格納部と、
前記係数情報格納部より前記影響度係数情報を参照して、該小区画および周辺の小区画の前記面積密度と前記影響度係数を積算して積算値を求め、該積算値を全て加算した加算値に所定の係数を乗算することで、該小区画におけるローディング効果補正量を算出する第一補正量算出手段と、
該小区画において、前記第一補正量算出手段が算出した前記ローディング効果補正量と、前記プロセスリサイズ量とを加算して、該小区画のパターンデータ補正量を算出する補正量算出手段と、
前記小区画毎の前記パターンデータ補正量を用いて、前記小区画毎に前記パターンデータを補正する補正手段と
を具備することを特徴とするパターンデータ補正装置。 - 前記面積密度算出手段は、
パターンの周囲長を算出し、
算出した前記周囲長と前記プロセスリサイズ量を乗算して近似的な補正面積を算出し、
補正前のパターン面積と前記補正面積との差を用いて、プロセスリサイズ量を補正したパターンの面積密度を算出すること
を特徴とする請求項３に記載のパターンデータ補正装置。 - 請求項３に記載のパターンデータ補正装置と、
前記パターンデータ補正装置が補正したパターンデータを基にしてフォトマスクを製造する製造手段と
を具備することを特徴とするパターン描画装置。 - フォトマスク用のパターンデータを補正するパターンデータ補正用のプログラムであって、
前記フォトマスク用のパターンデータを所定の形状の小区画に分割するステップと、
前記小区画毎に、該小区画の面積に占める、プロセスリサイズ量で補正したパターンの面積の割合である面積密度を算出するステップと、
前記小区画毎に、該小区画および該小区画の周辺の小区画が、該小区画へ与えるローディング効果の影響度係数を定める影響度係数情報を参照して、該小区画および周辺の小区画の前記面積密度と前記影響度係数を積算して積算値を求め、該積算値を全て加算した加算値に所定の係数を乗算することで、該小区画におけるローディング効果補正量を算出するステップと、
該小区画において、算出した前記ローディング効果補正量と、前記プロセスリサイズ量とを加算して、該小区画のパターンデータ補正量を算出するステップと、
前記小区画毎の前記パターンデータ補正量を用いて、前記小区画毎に前記パターンデータを補正するステップと
をコンピュータへ実行させるためのプログラム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001309151A JP4048752B2 (ja) | 2001-10-04 | 2001-10-04 | パターンデータ補正方法、パターンデータ補正装置およびそのプログラム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001309151A JP4048752B2 (ja) | 2001-10-04 | 2001-10-04 | パターンデータ補正方法、パターンデータ補正装置およびそのプログラム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003114513A JP2003114513A (ja) | 2003-04-18 |
| JP4048752B2 true JP4048752B2 (ja) | 2008-02-20 |
Family
ID=19128349
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001309151A Expired - Fee Related JP4048752B2 (ja) | 2001-10-04 | 2001-10-04 | パターンデータ補正方法、パターンデータ補正装置およびそのプログラム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4048752B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4543614B2 (ja) * | 2003-03-18 | 2010-09-15 | 凸版印刷株式会社 | フォトマスクの製造方法および半導体集積回路の製造方法 |
| KR100640434B1 (ko) | 2005-11-30 | 2006-11-01 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 마스크 제작 파일 생성 방법 |
| JP5063071B2 (ja) * | 2006-02-14 | 2012-10-31 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | パタン作成方法及び荷電粒子ビーム描画装置 |
| JP5443548B2 (ja) * | 2006-02-14 | 2014-03-19 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | パタン作成方法及び荷電粒子ビーム描画装置 |
-
2001
- 2001-10-04 JP JP2001309151A patent/JP4048752B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2003114513A (ja) | 2003-04-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4832088B2 (ja) | 改善されたアシストフィーチャ構造をマスクレイアウトにおいて決定するための方法および装置 | |
| US6817003B2 (en) | Short edge management in rule based OPC | |
| JP3592666B2 (ja) | 露光用マスクパターンの補正方法、プログラム、マスクパターン形成方法、及び半導体装置の製造方法 | |
| US7386433B2 (en) | Using a suggested solution to speed up a process for simulating and correcting an integrated circuit layout | |
| JP2006189845A (ja) | アシストフィーチャを配置するための方法および装置 | |
| US7562337B2 (en) | OPC verification using auto-windowed regions | |
| US20070011648A1 (en) | Fast systems and methods for calculating electromagnetic fields near photomasks | |
| JP2008310353A (ja) | 光近接効果補正方法と装置、光近接効果検証方法と装置、露光用マスクの製造方法、更に光近接効果補正プログラムと光近接効果検証プログラム | |
| US6536032B1 (en) | Method of processing exposure mask-pattern data, simulation using this method, and recording medium | |
| US10796070B2 (en) | Layout pattern similarity determination based on binary turning function signatures | |
| US7784017B2 (en) | Lithography simulation method, photomask manufacturing method, semiconductor device manufacturing method, and recording medium | |
| US8788982B2 (en) | Layout design defect repair using inverse lithography | |
| US20090245618A1 (en) | Performing OPC on Hardware or Software Platforms with GPU | |
| JP4543614B2 (ja) | フォトマスクの製造方法および半導体集積回路の製造方法 | |
| JP4048752B2 (ja) | パターンデータ補正方法、パターンデータ補正装置およびそのプログラム | |
| US6687885B2 (en) | Correction of layout pattern data during semiconductor patterning process | |
| JP2005195787A (ja) | パターン描画装置及びパターン描画方法ならびにそのプログラム、フォトマスクとその製造方法および半導体集積回路とその製造方法 | |
| US8555209B2 (en) | Method for fabricating a semiconductor device using a modeling algorithm to model the proximity effect from the sub-layer | |
| US20090077519A1 (en) | Displacement Aware Optical Proximity Correction For Microcircuit Layout Designs | |
| US6795955B2 (en) | Method and apparatus for identifying an identical cell in an IC layout with an existing solution | |
| JP4068290B2 (ja) | マスクパターン補正方法及び補正装置 | |
| CN117311080B (zh) | 用于拆分版图图案的方法、设备和介质 | |
| TWI797588B (zh) | 光罩資訊調整裝置、光罩資料調整方法以及程式 | |
| US11727552B2 (en) | Method of verifying optical proximity effect correction | |
| JP4178263B2 (ja) | データ保存方法及びデータ保存装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040916 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070209 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070220 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070416 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20071106 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20071119 |
|
| R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101207 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111207 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121207 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121207 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131207 Year of fee payment: 6 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |