JPH07287385A - マスクパターン設計支援装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 作業者の作業負担を低減し、これにより設計
に要する時間を短期化することができるマスクパターン
設計支援装置を提供する。 【構成】 複数種類の半導体製造プロセスについてのデ
ータを格納するデータベース11と、半導体製造プロセス
の選択および製造条件の設定を行うための入力設定部12
と、入力設定部12で選択された半導体製造プロセスにつ
いてのデータをデータベース11から入力し入力設定部12
で設定された製造条件にしたがってマスクパターンのレ
イアウトを自動的に作成するマスクパターン自動作成部
13と、マスクパターン自動作成部13で作成されたレイア
ウトデータを出力するレイアウトデータ出力部14と、レ
イアウトデータからマスクアライメントの設定条件を示
す設定データを抽出・出力する設定データ出力部15と、
レイアウトデータから描画データ作成用制御データを抽
出・出力する制御データ出力部16とを備える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、集積回路のマスク設計
に使用されるマスクパターン設計支援装置に関するもの
であり、より詳細には、マスクパターンのマークの配置
やスクライブラインの生成・面付け等を行うマスク設計
において使用されるマスクパターン設計支援装置に関す
るものである。

【０００２】

【従来の技術】ＬＳＩ(Large Scale Integrated Circui
t)のマスクパターン設計における、従来のマスクパター
ンのレイアウトの作成手順について、図４のフローチャ
ートを用いて説明する。

【０００３】まず、作業者が、マスク仕様書やパターン
設計基準等を参照しながらアライメントマークやスクラ
イブラインの挿入位置を計算してマスクパターンのレイ
アウトを示すデータ（以下、「レイアウトデータ」と記
す）を作成し、かかるアライメントマークやスクライブ
ラインの図面を作成する（Ｓ４０１）。さらに、このデ
ータを、ＣＡＤ(Computer Aided Design) システムに、
デジタイズ等を用いて入力する（Ｓ４０２）。そして、
検図を行いながら（Ｓ４０３）、デジタイズ等による再
入力（Ｓ４０２）を繰り返す。

【０００４】検図が終了すると、ＣＡＤシステムによ
る、アライメントマークのマークセルの座標値のプリン
トアウトとレイアウトデータの出力とを行う（Ｓ４０
４，Ｓ４０７）。

【０００５】アライメントマークのマークセルの座標値
は、作業者によって転記される（Ｓ４０５）。そして、
作業者は、この座標値から、ステッパー等のアライメン
ト装置に入力するためのマーク座標値設定データを作成
し、アライメント装置に入力する（Ｓ４０６）。

【０００６】また、作業者は、マスク仕様書等を参照し
てＥＢ(Electron Beam) 描画装置に入力する制御データ
を作成し、ＣＡＤシステムに入力する（Ｓ４１０）。Ｃ
ＡＤシステムは、この制御データと上述のレイアウトデ
ータとからＥＢ描画データを作成し（Ｓ４０８）、出力
する（Ｓ４０９）。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】上述のように、従来
は、作業者が、手作業でアライメントマークやスクライ
ブラインのパターンデータを算出して図面を作成し（Ｓ
４０１）、このデータをデジタイズ等によりＣＡＤシス
テムに手入力していた（Ｓ４０２）。このため、人手に
よる出力図面の検図が必要となってしまうので（Ｓ４０
３）、作業者の作業負担が大きく、設計に要する時間の
長期化の原因となっていた。また、計算ミスや入力ミス
のおそれがあるのでチェックを行わなければならず、こ
の点も、作業者の作業負担が大きくなる原因となってい
た。

【０００８】同様に、マークセルの座標値の転記（Ｓ４
０５）やＥＢ描画データの作成（Ｓ４０８）のための制
御データの作成（Ｓ４１０）も、人手によって行う必要
があったので、作業者の作業負担が大きく、設計に要す
る時間の長期化の原因となっていた。

【０００９】本発明は、このような従来技術の欠点に鑑
みてなされたものであり、作業者の作業負担を低減し、
これにより設計に要する時間を短期化することができる
マスクパターン設計支援装置を提供することを目的とす
る。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明に係わるマスクパ
ターン設計支援装置は、複数種類の半導体製造プロセス
についてのデータをそれぞれ格納するデータベースと、
一種類の前記半導体製造プロセスを選択するための指定
および製造条件の設定を行うための入力設定部と、この
入力設定部で選択された前記半導体製造プロセスについ
てのデータを前記データベースから入力し、前記入力設
定部で設定された前記製造条件にしたがって、マスクパ
ターンのレイアウトを自動的に作成するマスクパターン
自動作成部と、このマスクパターン自動作成部で作成さ
れたマスクパターンのレイアウトを示すデータを出力す
るレイアウトデータ出力部と、前記マスクパターン自動
作成部で作成されたマスクパターンのレイアウトからマ
スクアライメントの設定条件を示す設定データを抽出し
て出力する設定データ出力部と、前記マスクパターン自
動作成部で作成されたマスクパターンのレイアウトから
描画データ作成用制御データを抽出して出力する制御デ
ータ出力部と、を備えたことを特徴とする。

【００１１】

【作用】本発明は、入力設定部による入力設定値および
データベース内に格納された情報にしたがってマスクパ
ターン自動作成部がマスクパターンのレイアウトを作成
し、さらに、マスクパターン自動作成部が作成したマス
クパターンのレイアウトにしたがってレイアウトデータ
出力部、設定データ出力部および制御データ出力部がレ
イアウトデータ、設定データおよび制御データを出力す
るものである。

【００１２】これにより、アライメントマークやスクラ
イブラインについての計算、作図、手入力や、マークセ
ルの座標値の転記、ＥＢ描画データ作成用制御データの
作成等が不要となるので、作業者の作業負担が低減さ
れ、設計に要する時間の短期化が可能となる。

【００１３】

【実施例】以下、本発明の一実施例について、図１〜図
３を用いて説明する。

【００１４】図１は、本実施例に係わるマスクパターン
設計支援装置の概略構成を示すブロック図である。

【００１５】同図において、本実施例のマスクパターン
設計支援装置１０は、データベース１１、入力設定部１
２、マスクパターン自動作成部１３、レイアウトデータ
出力部１４、設定データ出力部１５および制御データ出
力部１６によって構成されている。

【００１６】データベース１１は、複数種類の半導体製
造プロセスについて、アライメントマーク類についての
データやプロセスデータを、半導体製造プロセスごとに
それぞれ格納している。すなわち、データベース１１の
記憶領域１１−１，１１−２，・・・には、それぞれ、
一種類の半導体製造プロセスＡ，Ｂ，・・・についての
各種データが格納されている。図２に、各記憶領域１１
−１，１１−２，・・・にそれぞれ格納されているデー
タの内容を示す。同図に示したように、プロセスデータ
としては、マーク情報（アライメントマークの種類、セ
ルの名称および大きさ等）とマスク層情報（各マスク層
のマスク名称、スクライブラインの有無および幅等）と
が格納されている。また、アライメントマーク類につい
てのデータとしては、上述のマーク情報に対応したマー
クセル（プロセスモニタセル、寸法チェックマークセ
ル、合せマークセル等）が登録されている。

【００１７】また、図１において、入力設定部１２は、
作業者が、データベースに格納された半導体製造プロセ
スＡ，Ｂ，・・・から１種類の半導体製造プロセスを選
択して指定するために使用される。さらに、この入力設
定部１２は、チップサイズ、レティクル倍体等の製造条
件の設定や、製品名の登録等にも使用される。

【００１８】マスクパターン自動作成部１３は、入力設
定部１２で指定された半導体製造プロセスについてのデ
ータをデータベース１１から取り込む。そして、後述す
るようにして、入力設定部１２で設定されたチップサイ
ズ、レティクル倍体等の製造条件にしたがってアライメ
ントマークやスクライブライン等を作成し、これによ
り、マスクパターンの自動作成（すなわち、マスクパタ
ーンのレイアウトデータの自動作成）を行う。なお、ア
ライメントマークやスクライブラインのパターンデータ
の算出方法や座標値の算出方法等は、従来の作業者によ
る手計算の場合と同様である。

【００１９】レイアウトデータ出力部１４は、マスクパ
ターン自動作成部１３で作成されたレイアウトデータ
を、ＣＡＤシステム内のＥＢ描画データ作成部２２に対
して出力する。

【００２０】設定データ出力部１５は、このレイアウト
データから各マークの座標位置等を抽出することによ
り、マスクアライメントの設定条件を示す設定データを
作成する。そして、この設定データをアライメント装置
２１に対して出力する。

【００２１】制御データ出力部１６は、マスクパターン
自動作成部１３がデータベース１１から入力したプロセ
スデータ等を取り込んで描画データ作成用制御データを
作成する。そして、この描画データ作成用制御データ
を、ＥＢ描画データ作成部２２に対して出力する。

【００２２】このような本実施例のマスクパターン設計
支援装置１０により生成される各種出力結果が、アライ
メント装置２１およびＥＢ描画データ作成部２２に直接
入力される。

【００２３】アライメント装置２１は、設定データ出力
部１５から入力した設定データを用いてマスクのアライ
メント（合せ）を行う。

【００２４】ＥＢ描画データ作成部２２は、レイアウト
データ出力部１４から入力したレイアウトデータおよび
制御データ出力部１６から入力した描画データ作成用制
御データを用いてＥＢ描画データを作成し、出力する。

【００２５】次に、本実施例のマスクパターン設計支援
装置１０を用いてレイアウトデータ、設定データおよび
制御データを作成する手順について、図３のフローチャ
ートを用いて説明する。

【００２６】まず、作業者が入力設定部１２で上述のご
とき半導体製造プロセスを選択や製造条件の設定等を行
うと、マスクパターン自動作成部１３は、指定された半
導体製造プロセスに対応するプロセス情報（図２参照）
をデータベース１１から取り込み、このプロセス情報と
レティクル倍体等の設定値とを用いて、レティクルサイ
ズを算出する（Ｓ３０１）。

【００２７】次に、マスクパターン自動作成部１３は、
入力設定部１２による半導体製造プロセスデータの指定
に基づいて、データベース１１から、必要なマーク情報
（図２参照）を取り込む（Ｓ３０２）。そして、データ
ベース１１から取り込んだ各マークセルのＹ軸上および
Ｘ軸上の配置を、それぞれ演算により求める（Ｓ３０
３，Ｓ３０４）。さらに、マスクパターン自動作成部１
３は、入力設定部１２およびデータベース１１から入力
した情報に基づいて、スクライブラインおよび外枠につ
いてのデータを演算により生成する（Ｓ３０５）。

【００２８】続いて、マスクパターン自動作成部１３
は、メインパターンの配置を演算により求める（Ｓ３０
６）。これによりレイアウトデータの作成が終了し、こ
のレイアウトデータがレイアウトデータ出力部１４から
出力される。

【００２９】最後に、設定データ出力部１５および制御
データ出力部１６が、上述のようにして設定データおよ
び制御データを作成し、出力する（Ｓ３０７）。このよ
うに、本実施例のマスクパターン設計支援装置１０によ
れば、入力設定部１２による入力設定値およびデータベ
ース１１内に格納された情報にしたがってマスクパター
ン自動作成部１３がマスクパターンのレイアウトを作成
し、さらに、このマスクパターン自動作成部１３が作成
したレイアウトデータを用いて設定データ出力部１５お
よび制御データ出力部１６で設定データおよび制御デー
タを作成することとしたので、アライメントマークやス
クライブラインについての計算、作図、手入力や、マー
クセルの座標値の転記、ＥＢ描画データの作成等が不要
となる。したがって、本実施例によれば、作業者の作業
負担が低減され、設計に要する時間の短期化が可能とな
る。

【００３０】

【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
れば、作業者の作業負担を低減し、これにより設計に要
する時間を短期化することができるマスクパターン設計
支援装置を提供することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例に係わるマスクパターン設計
支援装置の概略構成を示すブロック図である。

【図２】データベースの各記憶領域に格納されているデ
ータの内容を示す図である。

【図３】図１に示したマスクパターン設計支援装置を用
いてレイアウトデータ、設定データおよび制御データを
作成する手順を示すフローチャートである。

【図４】従来のマスクパターンレイアウトデータの作成
手順を示すフローチャートである。

【符号の説明】

１０ マスクパターン設計支援装置 １１ データベース １１−１，１１−２ データベースの記憶領域 １２ 入力設定部 １３ マスクパターン自動作成部 １４ レイアウトデータ出力部 １５ 設定データ出力部 １６ 制御データ出力部 ２１ アライメント装置 ２２ ＥＢ描画データ作成部

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】複数種類の半導体製造プロセスについての
   データをそれぞれ格納するデータベースと、 一種類の前記半導体製造プロセスを選択するための指定
   および製造条件の設定を行うための入力設定部と、 この入力設定部で選択された前記半導体製造プロセスに
   ついてのデータを前記データベースから入力し、前記入
   力設定部で設定された前記製造条件にしたがって、マス
   クパターンのレイアウトを自動的に作成するマスクパタ
   ーン自動作成部と、 このマスクパターン自動作成部で作成されたマスクパタ
   ーンのレイアウトを示すデータを出力するレイアウトデ
   ータ出力部と、 前記マスクパターン自動作成部で作成されたマスクパタ
   ーンのレイアウトからマスクアライメントの設定条件を
   示す設定データを抽出して出力する設定データ出力部
   と、 前記マスクパターン自動作成部で作成されたマスクパタ
   ーンのレイアウトから描画データ作成用制御データを抽
   出して出力する制御データ出力部と、 を備えたことを特徴とするマスクパターン設計支援装
   置。