TWI223734B - Crash prevention in positioning apparatus for use in lithographic projection apparatus - Google Patents
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Description
1223734
本發明係有關於一種用於微影投影裝置之定位裝置中之 碰撞防護技術，包括： 知、明系統用以供應一輻射之投影光束； 一第一物件平台用以支撐圖案形成裝置，該裝置能夠根 據所欲的圖案將投影光束形成特定的樣式； 一第二可移動的物件平台用以支撐一基片； 一第二可移動的物件平台用以支撐第二圖案形成裝置或 一第二基片；及 投影系統用以將圖案化的光束成像在基片的一目標部 分上。 圖案形成裝置”應廣泛地解釋被視為是可使用來賦予進 入的輻射光束具有一圖案化的橫斷面，該圖案係與形成在 基片 < 目標部分上的圖案符合，同時，，光閥，，這個名詞已在 本又中使用。一般地，該圖案係與在元件之目標部分上所 形成之特別的功能性層一致，諸如一積體電路或其他元件（ 見以下說明）。該等圖案形成裝置之範例包括： 藉由該第一物件平台支撐著一光罩。光罩的概念在微影 術万面係廣為熟知的，其包括之光罩型式諸如雙體的、可 任擇之移相、及衰減移相以及不同之混接的光罩型式。在 投影光束中佈置該一光罩，根據光罩上的圖案致使發生輻 射之可選擇的透射（在可透射之光罩的例子中）或反射（在可 反射之光罩的例子中）成像在光罩上。第一物件平台確保光 罩能夠在進入的投影光束中被支撐在所欲的位置上，並且 如有所欲可相對於光束移動。 -5· 本紙浪尺度適用中國國家標準(cns)A4^；(摩撕公爱) 2 A7 B7 五、發明説明（ _一程式化的反射鏡陣列藉由一被視為是第一物件平台的 結構物所支撐。該一元件之一範例係為一可尋址的壓膜表 面汶表面具有一兼具黏性和彈性的控制層及一反射的表 面a及裝置所縊含之基本的原理在於（例如）反射表面之 可哥址的區域將入射光反射為繞射光，藉此非可以尋址的 區域將入射光反射為非繞射光。使用一適當的過濾器，該 非繞射光可從反射光束中濾除，僅留下繞射光於原處；以 $方式，根據可尋址的壓膜表面之可尋址的圖案使光束變 '寻圖木化所而的壓膜尋址可使用適合的電子裝置來完成 :可收集關於該反射鏡陣列之進—步的資訊，例如，來自 吴國專利US 5,296,891及US 5,523，193之資料在此併入本案 以為參考資料。 :一可程式化的液晶顯示器（LCD)陣列係藉由一被視為是 =一物件平台的結構物所支撐。在美國專利US 5,229,872所 才疋出之咸一構造之範例在併入本案以為參考資料。 為了簡化起見，本文之其餘部分，在特定的位置，其本 身係特別地針對包括光罩的範例；然而，在該等例子中所 說明 < 一般的原理在以上提出之圖案形成裝置之廣泛的說 明文中可以見到。 為了簡化起見，投影系統之後可被視為”透鏡”；然而， 此名同應廣泛地解釋成包含數種類型之投影系統，例如， =括折射光學系統、反射光學系統以及反射折射的系統。 照明系統亦可包含根據任何用以將輻射之投影光束導向、 成形或控制 < 設計類型的操作元件，且該等元件以下可同 -6 - 1223734 A7 B7 五、發明説明 時共同或個別地被視為是一”透鏡”。此外，第一與第二物 件平台可分別地被視為是，，光罩平台"及"基片平台，，。 微影投影裝置，例如，可使用來製造積體電路（ICs)。在 該一例子中，光罩（光柵）可包含一相當於個別積體電路（ic) 層的電路圖案，此圖案於是顯像至基片（矽晶圓）的目標部 分（包含一或一個以上晶粒）上，該目標部分已塗佈一層對 輻射敏感的材料（防蝕塗層）。一般說來，一單一的基片係 包含相鄰目標部分的一完整的網絡，係經由光罩一次一個 連續地照明。在一種微影投影裝置的型式中，每個目標部 分係藉著將整個光罩圖案一次一個地曝光在目標部分上； ^亥裝置通$被視為是一晶圓分節器。在一可任擇的裝置 中-其通常被視為是步進掃描裝置-藉著在一特定參考方向 ("掃描”方向）的投影光束下，日益增加地掃描光罩圖案用 以照明每—目標部分’ 1同時在與該方向平行或反平行的 万向上同步地掃描基片平台，一般來說，因為投影系統具 有一放大係數Μ(通常小於丨），基片平台掃描的速度將是由 光罩平台掃描的速度乘上係數Μ。有關於此說明之微影投 影裝置的更多資料，可從國際專利申請案w〇 97/332〇5中收 一般地，此類型之裝置包含一單一的第一物件（光罩）平台 以及一單一的第二物件（基片）平台。然而現在亦已有至少 具有二個可單獨移動基片平台之裝置，例如，us 5,969,441 以及1998年2月27日提出之美國專利第us 〇9/18〇,〇ii號（國 際專利申請案W0 98/40791)中所說明的多載物台裝置，在
裝 訂
線 A7 B7 4 五、發明説明（ 此併入本案以為參考資料。該一多載物台裝置所蘊含之基 本操作原則為：使第一基片平台位在投影系統的下方以便 谷弄位在基片台上之第一基片曝光，第二基片平台運轉至 一裝載位置，卸載一曝光的基片，拾起一個新的基片，並 對新的基片執行一些初始的測量步驟，然後待命用以一經 將此新的基片移動至位在投影系統下方的曝光位置，即完 成第一基片之曝光，以此方式本身重複循環，因此能夠在 只負上達到增加機器的生產量，改善機器業主之成本。 另一雙平台型式的裝置係於國際專利申請案W〇 98/241 15 中所說明。該一裝置具有二特性區域及一單一的曝光區域 。二基片平台係於其之個別特性區域與曝光區域之間移動 。以軟體來控制裝置可確保二基片平台不致於同時被帶至 曝光區域。 目前發明者已決定在一多平台裝置其中平台係在不同的 區域間調換，於平台之間存在著特別之碰撞風險。在一微 影裝置中平台係為重的並且係在相當高的速度下移動。其 同時係以極易碎的材料製成並承載了很多精細的元件，該 元件的定位係需要非常高的精確度。因此，任何在平台間 之碰撞的後果即使是在低速下亦是非常嚴重。大的碰撞對 一平台之精細元件造成重大的損害，由於精密配件之斷裂 或永久變形而使整個裝置無法使用。當然，可設計軟體來 控制裝置使防止其產生平台會發生碰撞之移動，但是軟體 藉由干擾或電力受到阻礙或者是突如其來的電力損失所造 成的軟體錯誤仍然會導致碰撞。 -8- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐) 1223734
本發明ι一目的在於提供一多物件定位系統，藉此可避 免待定位之二物件間的碰撞，及/或改善任何碰撞的影響。 根據本發明所提供之一種微影投影裝置，其係包括·· —照明系統用以供應一輻射之投影光束； 一第一物件平台用以支撐圖案形成裝置，該裝置能夠根 據所欲的圖案將投影光束形成特定的樣式； 第二及第三可移動的物件平台其係個別用以支撐一基片 ，該第二及第三物件平台係可移動涵蓋於一共同的移動範 圍’該範圍包括至少第一及第二工作區域；及 才又景〉系統用以將圖案化的光束成像在基片的一目標部 分上，及 裝 平台定位裝置用以移動該第二及第三物件平台；其特徵 在於： ^ 碰撞防護裝置本質上限制了該第二及第三物件平台之至 訂
線 少一平台之移動，用以防止該第二與第三物件平台之間 碰撞。 目勺 根據本發明之進一步的觀點所提供之一種微影投影 ，其係包括： 一照明系統用以供應一輻射之投影光束； 第一及第二可移動的物件平台其係個別用以支撐圖安/ 成裝置，該裝置能夠根據所欲的圖案將投影光束形i特二 的樣式，該第一及第二物件平台係可移動涵蓋於一 疋 μ 、开同的 移動範圍，該範圍至少包括第一及第二工作區域； 一第三可移動的物件平台其係用以支撐一基片； 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(210 X 297公爱) 1223734 五 A7 ___ _ B7、發明説明（~Γ7 ' _ 一投影系統用以將圖案化的光束成像在基片的一目標部 分上，及 平台定位裝置係用以移動該第一及第二物件平台；其特 徵在於： 碰撞防護裝置本質上限制了該第一及第二物件平台之至 少一平台之移動，用以防止該第一與第二物件平台之間的 碰撞。 碰撞防護裝置其包括一本質的移動限制裝置，例如一栅 欄’而非完全依賴供碰撞防護所用之軟體，即使在元件之 悲慘的故障狀況下，諸如主要的電力損失或嚴重的系統故 障’仍能確保能夠避免碰撞。在該等環境下可避免基片或 光罩平台所發生之昂貴的及/或不能挽回的損害的可能性。 根據本發明之尚有的進一步的觀點所提供之一種利用微 影投影裝置製造元件的方法，其係包括： 一照明系統用以供應一輻射之投影光束； 一第一物件平台用以支撐圖案形成裝置，該裝置能夠根 據所欲的圖案將投影光束形成特定的樣式； 第二及第三可移動的物件平台其係個別用以支撐一基片 ，該第二及第三物件平台係可移動涵蓋於一共同的移動範 圍，該範圍至少包括第一及第二工作區域；及 一投影系統用以將圖案化的光束成像在基片的一目標部 分上；及 平台定位裝置用以移動該第二及第三物件平台；該方法 包括以下步驟：
裝 訂
線 -10- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) ^3734 A7
利用照明系統提供一輻射之投影光束； 使用圖案形成裝置用以賦予投影光束於其斷面具有一圖 案； 將位在琢第一工作區域中之該第二物件平台定位，將位 在该第二工作區域中之該第三物件平台定位； 將一具有一輻射敏感層的第一基片配置到位在該第一工 作區域中的該第二物件平台上； 在該第一及第二工作區域間調換該第二及第三物件平台； 將輻射之圖案化的光束投影到配置在第二物件平台之該 第一基片之輻射敏感層的目標部分上； 將具有一輕射敏感層的第二基片配置到位在該第一工作 區域中的該第三物件平台上；及 再次在該第一及第二工作區域間調換該第二及第三物件 平台；其特徵在於： 於該調換該第二及第三物件平台之步驟期間，碰撞防護 裝置貫際上^疋供该弟二及第三物件平台之至少一平台之限 制的移動，用以防止該第二及第三物件平台之間的碰撞。 根據本發明，在使用一種微影投影裝置的製程中，光罩 上的圖案成像到一基片上，該基片至少有部分覆蓋著一層 對輕射靈敏的材料（防蝕塗層）。在此成像步驟之前，基片 可經過不同的製程，諸如塗底漆、塗佈防蝕塗層及輕微烘 乾等。曝光後，基片可再施以其他的製程，諸如曝光後烘 乾（PEB)、顯影、強烈烘乾及顯像正片的測量和檢查等。這 些一系列的製程可使用作為對一元件（諸如積體電路）之個 -11 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐） 1223734
別層上圖案的基礎。隨後此圖案層可再接受不同之製程， 诸如蝕刻、離子注入（攙雜）、鍍金屬、氧化、化學機械拋 光等等 白疋用來完成一個別層的製程。假若需要數層， 則所有的製程或其中之變體重複用於每_個新層。最後， 將會有一系列的元件呈現在基片（晶圓）上。這些元件隨後 在藉由諸如切割或鋸開等技術彼此分開，因此個別的元件 可被安置在運送器上，連接至管腳等等。有關於這些方法 的更進一步的資訊可以從下列書中獲得：”微晶片製造：半 導缸加工之貫務指導丨丨，第三版，peter Van hnt著，
McGraw Hill 出版公司，1997, ISBN 0-07-067250-4。 儘管根據本發明在積體電路製造，對於裝置使用的明確 參考資料已於之前有所敘述，應更明確的了解此一裝置具 有其他可能的應用。例如，其可用於積體光學系統的製造 、磁疇記憶體之引導及探測圖案、液晶顯示板、薄膜磁頭 等。熟知此技藝之人士應會察知此可任擇應用的上下文中 ，任何文中使用的專門名詞，，光柵”、"晶圓，，或，，晶粒"被認 為可分別以更普遍的專門名詞如”光罩”、”基片”及,，目標部 分”取代。 不口 在本文件中，所使用的專門名詞，，輻射”及"光束"用以包 έ所有類型的電磁ϋ射或粒子通量，包括但不限制在紫外 光（υν)輕射（例如所具有之波長為365 ,248, 193，my% nm)、極紫外光（EUV)輻射、X射線、電子或離子。 本發明將相關於示範的具體實施例及所伴隨之概要的圖 示於以下加以說明，其中： -12- 本紙張尺錢;家標準(CNS)A4B(21()X297公寶) 9 A7 圖1係圖 裝置； 示根據本發明之第一 具體實施例的一種微影投影 圖2係為圖1 士 IL古· pi 、 具有二晶圓平毛 之晶圓載物台的平面圖； 圖3係為一與圖2相似的視圖 換製程之第一步驟； 圖4係為一與圖2相似的視圖 換製程之第二步驟； 圖5係為一與圖2相似的視圖 換製程之第三步驟； 圖6係為一與圖2相似的視圖 換製程之第四步驟； 圖7係為一與圖2相似的視圖 換製私之弟五步驟； 圖8A至8D係為聯結器機構圖 位在操作位置之裝置，其 但晶圓平台係處於在一調 但晶圓平台係處於在一調 但晶圓平台係處於在一調 但晶圓平台係處於在一調 但晶圓平台係處於在一調 / ^ wy-j 貫施例中可鬆開地將晶圓載物台與傳動裝置結合； 圖9係為包括在圖2之晶圓載物台中一迷宮式佈 (labyrinth)的平面圖； 、圖10係為本發明之第二具體實施例之晶圓載物台的平面 視圖，茲晶圓平台係處於一調換或交換製程之第二步驟； 圖11係為與圖10相似的視圖，但該晶圓平台係處於一交 換製程之第三步驟； 圖12係為與圖10相似的視圖，但該晶圓平台係處於一交 換製程之第四步驟； -13- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 1223734
圖1 3係為與圖丨〇相似的視圖，但該晶圓平台在完成交換 之後係處於操作位置； 圖1 4係為本發明之第三具體實施例之晶圓載物台的平面 視圖； 圖1 5係為本發明之第四具體實施例之晶圓載物台的平面 視圖； 圖1 6係為本發明之第四具體實施例之晶圓載物台的平面
視圖，圖中顯7F平台係如何防止通過中心桿之錯誤的側邊； 圖1 7係為本發明之第五具體實施例之晶圓載物台的平面 視圖； 裝 圖1 8係為本發明之第五具體實施例之修正的晶圓載物台 的平面視圖；及 圖1 9係為本發明之第六具體實施例之晶圓載物台的平面 視圖。
線 於圖中相同之參考數字係表示相同的元件。 具體實施例1 圖1係本發明之微影投影裝置之示意圖，該裝置包括 一輻射系統LA、IL，用以供應輻射之投影光束ΡΒ(例如 紫外光UV、極紫外光EUV); 二物件平台（光罩平台）ΜΤ’其配有—光罩支撐架用以支 撐一光罩ΜΑ(例如，光柵），並連接至第—定位裝置用以 相關於投影系統p L精確地將光罩定位； 第二及第三物件平台（基片平台)WTa、WTb，其係個別 配置有一基片支撐架用以支撐一基片％(例如，塗体防蝕 -14 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐） 1223734 A7
________B7______ 五、發明説明（”） 塗層的矽晶圓），並連接至第二及第三定位裝置用以相關 於投影系統PL及MS精確地將基片定位； 籲一個投影系統（，，透鏡”）P L (例如，一折射的或反射折射 的系統，一反射鏡組或一場轉向裝置），用以將光罩Μ A 的照明部分成像至基片W的目標部分c上。 在此圖示中，該裝置係為透射的型式（即具有一透射的光 罩）。然而，一般來說，例如其同時可係為一反射的型式。 在此例中所圖示之輻射系統包括一光源lA(例如，水銀燈 、激態原子雷射或波盪器係配置在儲存環或同步加速器中 一電子束之路徑周圍，或一電子或離子束源），其可產生輻 射光束。光束沿著不同的光學元件前進以至合成光束具有 所欲的形狀及密度分配，該光學元件係包括在光學系統中 ，例如，射束成形光學元件Εχ、積分器…及聚光鏡c〇，因 此所產生之光束P B具有所須的外形及強度。 光束PB接著截斷支撐在光罩平台MT的光罩支撐架上的光 罩MA。穿經光罩MA ,光束pB通過透鏡凡，該透鏡可將光 束PB聚焦在基片W的目標部分c上。借助干涉位移測量裝置 IF及第一足位裝置，基片平台WTa、可以準確地移動 ，例如，以便定位在光束四路徑上的不同目標部分^上。 同樣地，可使用第一定位裝置相關於光束p B之路徑用以準 確地將光罩MA定位，例如在從—光罩庫中將光罩似一機 械方式取回之後。一般說來，物件平台M丁、WT的移動可借 助於一長衝程挺組（万向定位）和一短衝程模組（微調定位）來 達成，這在第1圖中並未明確地描述。 -15- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Aii^(21〇X297公釐) 1223734 A7
1223734 A7 ___ _ B7 五、發明説明（—" ·— 載物台聯結器125、135運動地連接該個別的X方向滑件ι22 132。母一 X方向樑之每一端係安裝在一 γ方向滑件123、 124、133、134上，該滑件係藉由一 γ方向線性馬達（未顯示 )f動’馬達定子係安裝在一配重1上該配重係採用矩形 支架的形式圍繞著參考平台丨1〇。晶圓平台WTa、WTb於是 藉由驅動X方向滑件122、132，沿著X方向樑121、131而在 X方向上定位’並藉著驅動X方向樑經由Y方向滑件〗23、 124、133、134而在Y方向上定位。平台藉著單獨控制丫方 向滑件123、124、133、134 ,可同時相關於與z方向平行之 軸而轉動。 個別線性馬達所作動之X及γ方向一般係互相為直角的， 並且與參考平台110之頂部表面平行。然而，如以上所述， 在每個傳動單元中之二γ方向滑件123、124、133、134係單 獨地加以定位，在一定的限制範圍内，控制晶圓平台WTa 、WTb之RZ的位置，將致使χ方向樑不再精確地垂直於配重 140中之Υ方向馬達。 Η式傳動單元12〇、130實際上包括長衝程模組供晶圓平台 方向定位所用，同時短衝程模組用以將晶圓微調定位，該 傳動單元係包括在個別之晶圓平台WTa、WTb中。 曝光區域20係位於參考平台ho之一端，於該處一光罩圖 案可投影至一晶圓上使對輻射敏感層曝光。在另一端係為 一準備區域（特性區域）30，於該處裝載晶圓並將晶圓從晶 圓平台中移除，並可於該區域作任何準備的步驟，例如， 完成測量製程用以建立位在平台上晶圓六個自由度之精確 -17- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格“χ 297公寶）
裝
線 1223734 五、發明説明（14 ) 的定位。如上所述完成了曝光製程而同時藉由所熟知之裝 置以所熟知之方式完成裝載、移除以及準備的步驟’為了 簡化起見在此不加說明。在本具體實施例中，H式傳動單元 no、130涵蓋了二相等的區域20、3〇，儘管其不須但如有 需要晶圓平台在二區域之移動的範圍、速度及加速度 不同的。 … 如以上所述，晶圓平台WTa、WTb係藉由可鬆開的聯結琴 =、135運動地連接至X方向滑件122、132。所佈置的聯結 态125、135因而能夠與二晶圓平台WTa、WTb及其之二侧邊 結合。在平台交換製程中（將在以下加以詳細說明），將二 平台帶至位在移動區域40a、4〇b中的位置上，將聯結器 裝 、⑴鬆開而X方向滑件移動至另一晶圓平台接著加以接合。 當聯結器125、135連接時傳送位在灯平面上之力，亦即 介於晶圓平台與個別^方向滑件之間χΛγ方向平移力以 及Rz力矩。為了增加定位的準確度，聯結器在另一自由度 中係j不受限制的，亦即z方向平移而Rx&Ry轉動。例二 。。：猎由將一置於在力傳送平面中之板片彈簧包括在聯結 為中可提供該自由度。 線 藉由-摩擦的聯結器(例如，位在單一或多重疊片上之_ t甜夹具）或-聯鎖裝置（例如’利用插銷與孔或凹口、或 :聯：的V形槽口及脊狀部分嚙合)可傳送同平面的力 的聯結器夹具可於W向滑件及晶圓平台之相對位 件作嚙合’因此在平台交換的製程中可以減少對滑 石疋位的需求。另一方面’一聯鎖裝置需要較低的 本紙張尺度咖 18- 15 15 A7 B7 五、發明説明（ 1 、、而可使用軚小且消耗能量較少的裝置。聯結器 =可使用摩擦與聯鎖原理之結合方式，並且根據在該等方 :所而〈不同的力量傳$，可於不同的方向使用不同的 接方法。 了防止在電力或其他機器故障的情況下造成連接的動 i抽失，聯結备係為在正常狀態下為閉合（附裝）之型式並 :要供應電力引動而開啟(分開），或是處於雙穩定並藉由 :力引動而在開啟與閉合狀態之間切換。該類型聯結器之 範^係匕括夾具，而该夾具例如係藉由螺旋狀或圓錐狀之 7育堆登所提供之彈性能、藉由永久磁鐵所提供之磁能、 藉：靜電力所提供之電能或是在升高之壓力下氣體質量之 位把所產生 < 偏向的閉合。所施加用以抵擋被動閉合力的 開啟力可以是氣動的、液壓的（較佳地係使用極純的水用以 將文到/亏染的機會減至最小）或是電磁的等等。由於聯結器 位在開啟與閉合位置間之衝程係很可能為小的，所以在致 動器與夾具之間可使用具有大型機械的優點之傳動機構。 =等傳動機構之範例包括單一或多級的槓桿系統、氣動/液 壓增壓器等等。再者，一傳動機構具有一可變化的機械優 點並且僅在可以使用之衝程的最後部分提供最大的夾緊力 ’例如一所謂的肘節機構或具有一可移動之有效的樞軸點 的一槓桿系統。於圖8 A至8 D係圖示適合的機構。 圖8 A係顯示一主動開啟型式的聯結器機構。在此機構中 ，一般係平行位於X γ方向之平板的一板片彈簧丨5丨係固定 至晶圓平台WTa、WTb，並且當聯結器係為閉合時係在固定 -19- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐) 1223734 A7 B7
五、發明説明（ 至X方向滑件丨22、m的型鍛砧153與可移動之鎚狀構件152 之間被加緊。型鍛砧153與鎚狀構件152之相對的夾緊表面 根據摩擦抑或是所欲之聯鎖夾緊原則，可加以粗糙化以提 升摩彳祭力，或是配置凸出部分，例如插銷或脊狀部分，或 是與相符之凸出部分配合的凹口或者是位在板片彈簧151上 的凹口。鎚狀構件152係如樞軸般連接至槓桿丨54並接近其 之第一端部。槓桿154係於其之第一端部連接至一固定在χ 方向滑件122、132的樞軸155，且於其之相對的第二端連接 土彈頁156，該彈簧係靠在位在χ方向滑件122、132上的一 固定點157用以將槓桿偏向，因此鎚狀構件ι52係靠著型鍛 石占15 3而加壓用以夾緊板片彈簧15 1。為了開啟聯結器，一 開啟致動器158在槓桿154上施加一力，而該力與藉由彈簧 1 5 6所施加之力係為相對的方向。 圖8 Β係顯示一主動肘節型式的聯結器機構。在此例子中 ，型鍛砧161係包含外罩162中但藉由彈簧163偏動用以靠著 型鍛石占153而夾緊板片彈簧151。一第一槓桿ι64係如樞軸般 地於第一端部處安裝至外罩162，及一第二槓桿165係如樞 軸般地連接介於第一槓桿上之一中間樞軸點167與安裝到χ 方向滑件122、132之一固定樞軸166之間。致動器168在第 一槓桿164之一端部上以一指向施力，用以將藉由第一及第 二槓桿164、165所構成之曲柄（dog-leg)伸直，將外罩162朝 向板片彈簧151推進’並因而增加藉由彈簧16 3靠著型鍛石占 153推動鎚狀構件161所產生之力。藉著佈置槓桿使閉合之 狀態穩定，因此致動器稍微推動槓桿164、165通過平直的 -20- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(21〇x297公釐） 1223734
部分並靠在一停止裝置（未顯示）俾便"固定"曲柄。 圖8C及8D係顯示一可任擇的聯結器機構，該機構係使用 -V形狀脊狀部分以m彡狀溝槽部分來改善聯鎖；鎖固 機構可以是主動肘節抑或是上述之開啟的型式。圖8(:及80 之聯結器機構中’型鍛⑴53t置有向下地V形狀脊狀凸出 部分並於X方向伸長’同時板片彈簧151，係配置有—終端構 件’該構件具有一與型鍛石占153,之v形狀脊狀部分一致的v 形狀溝槽部分。所配置的鎚狀構件152係用以將終端構件 159夾緊靠著型料153’。當然可以察知的是聯結器機構可 以是上下倒置的-亦即溝槽部分配置在型鍛砧153，上，而脊 狀部分係配置在終端構件159上。 為與圖8C及8D之聯結器機構嚙合，配置基片平台wTa、 WTb與傳動裝置，因此終端構件159係配置在型鍛=i53，與 鎚狀構件152之間。鎚狀構件152接著向上推進，v形狀脊狀 部分因而進入v形狀溝槽部分，而終端構件159係牢固地被 支撐靠著型鍛石占1 5 3f，如圖8 D所示。 圖8C及8D之聯結器機構由於實際上v形狀脊狀部分與溝 槽部分係平行於X方向而延伸而提供了數項優點。首先，在 Y方向上之移動質量，以及傳動力係較大於又方向之力。僅 有晶圓載物台、X方向滑件及空氣足狀構件等係於χ方向上 移動，同時X方向樑及Υ方向滑件在Υ方向上移動。因此， 配置在聯鎖部分上的溝槽及脊狀部分於γ方向將力轉移，其 係最為堅固同時摩擦係足以在X方向將力轉移。同時，係有 助於在兩傳動裝置之間調換晶圓平台。於調換期間，型鍛 -21 -
1223734 A7 __ _B7 五、發明説明(~~) ^ * 砧153’附裝於其上的X方向滑件僅在χ方向上移動。因此， 聯結器機構僅需開啟即足以切斷介於終端構件159與型鍛砧 153’之間的連接以容許此移動；需要較大的移動用以容許v 形狀脊狀部分清除非為所需的V形狀溝槽部分。然而假若所 配置之脊狀部分與溝槽部分在X及γ二方向上延伸，較大的 移動係為所需的。減少聯結器用於調換所需的移動，從而 減少了调換所花費的時間增加了裝置的生產量。 以下將相關於圖2至圖7及圖9說明用以調換晶圓平台步驟 的順序。圖2係顯示位在操作位置之晶圓平台，位在曝光^ 域20中的晶圓平台WTa並與傳動單元120連接，同時晶圓平 台WTb位在準備區域30中並與傳動單元13〇連接。平台交換 之製成的目的在於將晶圓平台WTa連接至傳動單元13〇 ,並 將其移動至準備區域30中，同時同步地將晶圓平台…几連 接至傳動單元120，並將其移動至曝光區域2〇中。 如圖3所示，在平台交換的製程之第一步驟中，將晶圓平 台WTa、WTb移動至工作區域的邊緣用以與個別的線纔梭動 裝置CS1、CS2嚙合。線纜梭動裝置係安裝在配重14〇之側軌 或是另一平行的軌道上並係為聯節的，例如藉由鏈條（未顯 示），用以確保晶圓平台WTa、WTb於調換的製程中係同步 的移動。在此步驟中，晶圓平台WTa、…几同時進入迷宮式 佈置（labyrinth)，其係於圖9中所示並包含側壁i7〇、18〇1 及一中心拄190。側壁170、180具有突出的肩部部分171、 172、181、182，於該每一端部係凸出於參考平台之側 邊，因此在工作區域（亦即曝光區域與準備區域）中晶圓平 -22- 本纸張尺度適用中國國家榇準(CNS) Α4%#Τ21〇χ297^7 1223734 A7 一 —____Β7 五、發明説明（19 ) 台之有效的移動範圍係較在中央區域之有效的移動範圍為 窄。中心柱係位在參考平台Π〇的中間並製成適當的大小， 用以防止在一直線上移動的晶圓平台從曝光區域2 〇移動到 準備區域3 0，反之亦然。取而帶之，晶圓平台在向外移動 至位在移動區域40a、40b中之側軌之前，必須移動通過肩 部部分171、172、181、182。這些位置係顯示於圖3中。可 配置感應器173、174、175、183、184、185當晶圓平台通過 位在迷宮式佈置中之特定點時用以偵測晶圓平台。 於步驟2中，晶圓平台WTa、WTb#向前移動直到其並列 在移動區域40a、40b中，如圖4所示。線纜梭動裝置CS1、 CS2間的聯節能確保的是除非是在二晶圓平台連接至個別的 線纜梭動裝置及在軟體的控制下同步移動，否則此步驟不 會發生。此聯節不會驅動平台但會呈現任何錯誤的軟體指 令，該錯誤指令會導致脫離同步移動。從而確保一平台不 會移動進入該一工作區域中，除非有平台於同時間事先移 出。線纜梭動裝置支撐著控制線纜以及其他的實用的導線 管到其之個別的平台。事實上平台僅能通過位在其自身之 側邊上的中心柱確保線纜不會變得糾結在一起。八 於步驟3中，將晶圓平台WTa、…几固定至參考平台HQ， 例如藉由輕輕地關掉支撐平台之足狀構件。可任擇地，插 銷或通常係隱藏在配重之凹口或孔中的相同構件，其係可 凸出用以牢固平台。接著，聯結器機構125、135係為開啟 用以將晶圓平台從其原來所附裝之X方向滑件中鬆開。 向滑们22、132係接著移動俾便能接近另一晶圓平台 -23-
1223734 A7 ------------B7五、發明説 圖5所不，而聯結器機構125、135再次嚙合。晶圓平台WTa 於是連接至傳動單元13〇，而晶圓平台WTb係連接至傳動單 元 120。 於步驟4中，晶圓平台WTa、WTb係藉由傳動單元130、 120而移動’其已移動朝向其之個別目的地，如圖6所示。 於此製程中’晶圓平台仍然連接至能確保平台同步移動的 線纜梭動裝置CS1、CS2上。 最後’晶圓平台一經移動通過中心柱19〇，平台可從線境 板動裝置CS1、CS2中鬆開並移動至其之開啟的位置。晶圓 平台WTa現位於準備區域3〇中而晶圓平台WTb現位於曝光 區域2 0中，如圖7中所示。 具體實族你丨？ 本發明之第二具體實施例係顯示在圖1 〇至1 3中。在此具 體實施例中藉由提供具傳動裝置的線纜梭動裝置CS1，、CS2, 進一步地減少碰撞的可能性，因此該梭動裝置（非為傳動單 元120、130)致使晶圓平台在測量與曝光區域之間移動。 於第二具體實施例之移動製程中的第一步驟係與第一具 體實施例相同；晶圓平台WTa、WTb係移動進入迷宮式佈置 用以分別地與線纜梭動裝置CS1’、CS21嘴合。於第二步驟中 ’除了藉由傳動單元120、130引導通過迷宮式佈置外，鬆 開聯結器機構125、135用以將晶圓平台WTa、WTb從傳動單 元120、130中脫離。晶圓平台WTa、WTb係接著藉由線纜梭 動裝置CS1、CS2’驅動通過迷宮式佈置，如圖1〇中所示。 於第二具體實施例之第一及第二步驟係可迅速地完成用以 -24- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公爱) —
装 訂
線
減少移動所需的時間 藉由傳動單元12〇、 繼續於γ方向上使平 間。在此佈置中，晶圓平台WTa、WTb係 、130驅動進入迷宮式佈置，該傳動單元 ^ 万σ上使平台加速，同時線纜梭動裝置cS1，、CS2, Λ個別的平台嚙合。晶圓平台WTa、WTb—經以定速移動， 傳動單兀12〇、13〇脫離而平台剩下的部分移動通過迷宮式 佈2係藉由線纜梭動裝置CS1，、CS2，來驅動。並且減少變化 2需的時間，利用此佈置可以降低線纜梭動傳動裝置的性 能規格。、線、雙梭動裝置CS1、CS2亦可使用作為一碰撞防護 裝置用以防止在Y方向滑件123及133與Y方向滑件124及 134之間發生碰撞。 傳動早元120、130—經從晶圓平台WTa、WTb中鬆開，χ 方向滑件122及132係移動越過至另一側，如圖丨丨中所示， f線纜梭動裝置CS1，、CS2’熬開之前，於該位置傳動單元再 次與另一平台嚙合，圖12,且平台移動進入工作區域，圖 1 3。在與上述製程相反的製程中，傳動單元12〇、13〇之再 次嚙合以及從線纜梭動裝置中鬆開係可於短時間内完成。 具體實施例3 於圖1 4所示，在第三具體實施例中，迷宮式佈置係可藉 由一旋轉的柵攔或是門200所取代。除此以外第三具體實施 例係與第一抑或是第二具體實施例相同。 旋轉的柵攔200係安裝在位於參考平台丨1〇之中心的一樞軸 點201上。為了開始移動晶圓平台wTa、WTb，平台係被驅 動至樞軸點201之任一邊之對角線相對的位置上。接著驅動 曰εϊ圓平台WTa、WTb彼此同步地通過移動區域4〇a、4〇b並轉 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 22 五、發明説明（ 動柵襴200。在此且蝴音+ 、 移動本〜 八" 彳中’於移動的製程期間同步地 故障 ^制然而，即使是在重大的 诸如軟體錯誤、突如其來的電 旋轉柵襴200總是合在…资w:力相失或疋干擾 接觸。 、疋曰在一千口 WTa、WTb之間防止二者發生 :::任擇的佈置中，以可縮回的柵欄可以獲得相同的 二―’當晶圓平台係位在工作區域中時_柵攔係凸出在一 置，而第二拇搁係凸出在一第二位置，用以定出供 移動製程所用的二路徑。 罘二具體實施例結合長衝程傳動裝置的佈置係特別地有 。、/'J如使用平面馬達’其中每一傳動單元可將個別的晶 圓平^定位涵蓋於參考平台110之整個區立或，以及諸如在第 :^第二具體實施例中所使用的傳動佈置，其中在移動的 氣私功間涵盍個別之半個參考平台之傳動單元間係需要 轉移。 具體實施你[£ 在第四具a豆貫施例中，如圖1 5及1 6所示，晶圓平台wTa 、WTb配置有凸出部分212、213、215、216，該凸出部分與 側壁170、180結合係能確保該每一晶圓平台僅能通過中心 枉190靠其自身之一側上的迷宮式佈置。 如圖1 5中所示，當每一晶圓平台WTa、WTb係位在中心柱 190之正確之一側時，凸出部分212、213、215、216延伸超 過側壁170、180之頂部，並且晶圓平台WTa、…几可非常接 近參考平台110以容許其能從側壁17〇、18〇與中心柱丨9〇之 1223734 A7 ___B7 五、發明説明（23 ) 間通過。可任擇地，凸出部分可進入位在側壁中之相符合 的溝槽内，以容許將晶圓平台移動至非常接近參考平台110 之側邊的位置。然而，所配置之中心柱1 9 0係凸出較側壁 170、180為高，因此當一晶圓平台係位在中心柱190之，'錯 誤π的一側時，如圖1 6中所示，晶圓平台無法從中心柱19〇 與側壁之間通過。 當發生電力損失並且另一平台係移動到平台交換準備位 置時，平台會朝向中心柱之’’錯誤π的一側以一對角線方向 移動而會發生碰撞，凸出部分212、213、215、216係能防 止發生的可能性。如無凸出部分212、213、215、216，平 台可能從側壁彈回並且至少部分通過間隙而造成與另一平 台碰撞。 具體實施例5 第五具體實施例，如圖17所示，使用安裝在迷宮式佈置 側壁170、180上的交換軌221、222來取代第一及第二具體 實施例中的線纜梭動裝置。在移動製程開始的時候，晶圓 平台WTa、WTb係被驅動至位在其之個別之迷宮式佈置之側 邊入口的位置。在這些位置中，位在晶圓平台上的凸出部 分211、214與安裝在交換軌221、222上的交換托架223、224 嚙合。一經與交換托架嚙合，平台係固定在X方向上並可制 止任何在此方向上的移動。在此方向上任何碰撞的能量可 以藉由交換軌加以吸收。交換托架223、224例如可以藉由 鏈條或電子的方式聯節，因此其僅可一起移動並且僅在二 者與其之個別的晶圓平台WTa、WTb嚙合時才能一起移動。 -27-
1223734 A7 ________B7 五、發明説明（24 ) 在一對第五具體實施例的修改當中，如圖1 8所示，係省 略了托架，並且凸出部分211、214具有掛鉤217' 218係可 直接地嚙合至交換軌221、222。再者，交換軌在當平台係 經由凸出部分211、216及掛鉤217、218與其嚙合時，能防 止在X方向上的移動，並吸收任何在X方向上發生碰撞所產 生的能量。 在此對第五具體實施例的修改當中，交換軌係藉由所配 置之插銷240與感應器250分成數個區域，用以在該每一區 域探測平台存在。插銷通常係凹入交換軌中但有配置一控 制系統，因此假若感應器250之輸出顯示平台並非同步移動 .時，插銷可使X換軌221、222不會堵住凸出部分2 π、216 , 並因而將平台WTa、WTb固定在X以及γ方向上。較佳地， 插銷240係藉由主動式致動器，例如電磁體彈性偏向地凸出 或縮回，因此插銷在電力故障的狀況下自動地凸出。 县體實施仞丨6 在第六具體實施例中（未圖示）移動製程係藉由一雙端部式 自動控制裝置臂來執行，其係在工作區域2 〇、3 〇中與二晶 圓平台WTa、WTb —端部一個的方式嚙合。平台接著從其之 長衝程傳動單元中鬆開，並轉動自動控制裝置臂以使二晶 圓平台在工作區域間交換。 曰 對於自動控制裝置臂之一可任擇的裝置係為一交換托架 /、係僅ι在Y方向上移動。為了移動製程，晶圓平台係藉 其之個別的傳動單元移動至對角線相對的位置，於是 介於二工作區域間的交換托架一次一個地移動。移動完成 -28-
1223734 A7 _______Β7 五、發明説明（25 ) 因此晶圓平台一直與一傳動單元或是交換托架嚙合。 具體實施例7 在第七具體實施例中，如圖19中所示，二基片平台WTa 、WTb係在個別的特性區域3〇a、3〇13及一中央、共用的曝光 區域2 0之間移動。基片平台一直是維持與其之個別的傳動 單元120、130結合，因此就其本身而言並不需要調換。 儘管可將裝置之控制系統（軟體）加以程式化，用以確保在 任何時間一次僅有一基片平台WTa、WTb係配置在曝光區域 2 0 ’然而軟體的錯誤或是機器故障可造成二平台同時移動 進入曝光區域，導致潛在的碰撞情況。為了防止易碎的平 台WTa、WTb之間實體的碰撞，需在γ方向滑件123、124、 133、134上配置碰撞防護裝置200。碰撞防護裝置2〇〇包括 配置有減震器，其係具有足夠的減震能力以確保二基片平 台不致發生實際的接觸。 在上述所有的具體實施例中，實體的柵欄裝置可防止二 晶圓平台之間的碰撞，例如中心柱19〇、側壁170及18〇、以 及旋轉的栅欄200和平台本身，其可裝配減震器。例如，可 以建構一緩衝裝置其係以減震器圍繞著晶圓平台。緩衝裝 置可以吸收所有因碰撞所可能發生的震動，因此晶圓平台 不會受到損害。該等減震器可全部或部分地以具彈力的材 料I成或疋藉由配置諸如空氣囊、碰塾、緩衝裝置、液壓 阻尼裝置、彈簧等主動或被動的減震裝置而發生作用。 儘管以上所說明的是本發明之特定的具體實施例，但可 察知的是發明可以上述之外的方式實行。上述的說明並不 -29- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 1223734
:欲PMU本發明。特別+也’可察知的是本發明可使用在微 影裝置以及任何型式之裝置之光栅或光罩載物台上，其中 一物件在一平面上快速並精確的定位係為令人滿意的。 LA ： 輻射系統/光源 110 平台 EX : 射束成形光學元件 120 傳動單元 IN ： 積分器 121 X方向樑 · CO ： 聚光鏡 122 X方向滑件 PB ： 投影光束 123 Y方向滑件 ΜΑ :光罩 124 γ方向滑件 ΜΤ ： 光罩平台 125 聯結器 PL ： 投影系統 130 傳動單元 W ： 基片 131 X方向樑 WTa •晶圓平台 132 X方向滑件 WTb :晶圓平台 133 Y方向滑件 IL ： 輕射系統 134 Y方向滑件 C ： 目標部分 135 聯結器 IF : 干涉位移測量裝置 140 配重 Wa ： 晶圓 151， ，15Γ :板片彈簧 Wb ： 晶圓 152 ： :可移動之鎚狀構件 CS1 ，C S1 ’ ：線境梭動裝置 153， • 153’ ：型鑰砧 CS2 ，CS2’ ：線纜梭動裝置 154 槓桿 20 : 曝光區域 155 樞軸 30 : 準備區域 156 彈簧 30a，30b :特性區域 157 固定點 -30- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐) 1223734 A7 B7 五、發明説明（27 ) 40a，40b :移動區域 100 :晶圓載物台 16 1 :型鍛站/鍵狀構件 162 :外罩 163 :彈簧 164 ··第一槓桿 165 :第二槓桿 16 6 :固定樞軸 167 :中間樞軸點 168 :致動器 170 :側壁 171 :肩部部分 172 :肩部部分 173 :感應器 174 :感應器 175 :感應器 180 :側壁 181 :肩部部分 182 :肩部部分 183 :感應器 184 :感應器 158 :致動器 159 :終端構件 185 :感應器 190 :中心柱 200 :旋轉的柵欄/碰撞防護裝置 201 :樞軸點 211 :凸出部分 212 :凸出部分 213 :凸出部分 214 :凸出部分 215 :凸出部分 216 :凸出部分 217 :掛鉤 218 :掛鉤 221 :交換軌 222 :交換軌 223 :交換托架 224 :交換托架 240 :插銷 250 :感應器 -31 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐)
Claims (1)
1223734 第089126236號專利申請案 A8
中文申請專利範圍替換今(21^五月〇 ?8 ------1___d£ 六、申請專利範圍 |公告本 1. 一種微影投影裝置，包括·· 明系統用以供應一輕射之投影光束； 一第一物件平台用以支撐圖案形成裝置，該裝置能夠 根據所欲的圖案將投影光束形成特定的樣式； 第二及第三可移動的物件平台係個別用以支撐一基片 ，孩第二及第三物件平台係可移動涵蓋於一共同的移動 範圍’該範圍包括至少第一及第二工作區域；及 一投影系統用以將圖案化的光束成像在基片的一目標 部分上，及 平台定位裝置用以移動該第二及第三物件平台；其特 徵在於： 碰撞防護裝置本質上限制了該第二及第三物件平台之 至少一平台的移動，用以防止該第二與第三物件平台之 間的碰撞。 2. 如申凊專利範圍第1項之裝置，其中該碰撞防護裝置包 括一迷宮式佈置，其係在該第一與第二工作區域之間定 出二不同的路徑。 3. 如申請專利範圍第2項之裝置，其中該迷宮式佈置包栝 第一及第二侧壁和一柱係配置在該侧壁之間，因此在戒 柱與該側壁之間定出不同的路徑。 4·如申請專利範圍第2或3項之裝置，其中該不同的路從旅 非為平直的。 5.如申請專利範圍第2或3項之裝置，其中該第二及第三物 件平台以及該迷宮式佈置係按適當尺寸大小切割成形’ 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格Τϋχ297公釐） 1223734 申請專利範圍 因此孩第二及第三物件平台僅可穿過個別之不同的路徑 〇 6. 如申請專利範圍第1、2或3項之裝置，其中該碰撞防護 裝置包括第一及第二梭動裝置，該每一裝置係可於分別 接近该第一及第二工作區域的第一及第二位置之間移動 ，该板動裝置係為聯節的因此當一梭動裝置從第一位置 移動至第二位置的同時，另一梭動裝置從第二位置移動 至第一位置，因此僅在每一梭動裝置連接至該第二及第 三物件平台之一不同的平台時係為可移動的。 如申請專利範圍第6項之裝置，其中該梭動裝置包括移 動傳動裝置用以驅動該物件平台於該第一及第二工作區 域間移動。 8. 如申印專利範圍第1項之裝置，其中該碰撞防護裝置包 括可轉動的柵攔係如樞軸般地安裝在介於該第一及第 二工作區域間該移動之範圍内，因此在該柵欄將該第一 及第一工作區域隔開之第一狀態，與該柵攔於任一侧上 疋出不同之路徑的第二狀態間係為可轉動的，藉此轉動 孩第二與第三物件平台可在該第一及第二工作區域之間 移動。 9. A8 B8 C8 D8 如申請專利範圍第i、2、3或8項之裝置，進而包括第一 及第二傳動裝置該每一裝置可選擇地連接至該第二及第 二物件平口之任一平台上，該第一傳動裝置係可將在該 第工作區域與一移動區域中的一物件平台加以定位， 該第二傳動裝置係可將在該第二工作區域與該移動區域 •2- 本紙張尺度Α4ϋ X 297公釐）
W 1亍Τ台 τ 10. 11. Λ JjL^ o 如申請專利範圍第9,之裳置，其中該第一及第二傳動 裝置包括-可鬆開的聯結器裝置，用以與該第二或第三 物件平口嚙合，孩可鬆開的聯結器裝置具有一故障安全 防護狀態，於該狀態下可維持該—物件平台之癌合。 12. 如申請專利範圍第9項之裝置，其中該第一及第二傳動 裝置包括一可鬆開之聯結器，該聯結器具有一與—V形 狀溝槽一致的V形狀脊狀部分。 如申請專利^圍第1項之裝置，其中該碰撞防護裝置包 括安裝·^忒平台足位裝置之一活動部分上的減震器， 用以吸收能量以防止該物件平台間的碰撞。 13. 如申請專利範圍第i、2、3、8或12項之裝置，進而包 括基片裝載裝置用以將基片裝載及移開至位在該第一工 作區域中之該第二及第三物件平台上；且其中所佈置之 該投影裝置系統用以將圖案化的光束成像在一基片的目 標邵分上’該基片係配置在該第二工作區域中之該一物 14. 件平台上。 一種微影投影裝置，其包括： 一照明系統用以供應一輕射之投影光束； 第一及第二可移動的物件平台，其係個別用以支撐圖 案形成裝置’該裝置能夠根據所欲的圖案將投影光束形 成特定的樣式，該第一及第二物件平台係可移動涵蓋於 一共同的移動範圍，該範圍至少包括第一及第二工作區 域； 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公董) 1223734 A B c D 々、申請專利範圍 一第三可移動的物件平台用以支撐一基片； 一投影系統用以將圖案化的光束成像在基片的一目標 部分上，及 平台定位裝置用以移動該第一及第二物件平台；其特 徵在於： 碰撞防護裝置本質上限制了該第一及第二物件平台之 至少一平台之移動’用以防止該第一與第二物件平台之 間的碰撞。 15.如申請專利範圍第1 4項之裝置，其中該碰撞防護裝置包 括一迷宮式佈置，其係在該第一與第二工作區域之間定 出二不同的路徑。 16·如申請專利範圍第1 5項之裝置，其中該迷宮式佈置包括 弟一及第一側壁和一柱係配置在該側壁之間，因此在該 柱與該側壁之間定出不同的路徑。 17·如申請專利範圍第1 5或1 6項之裝置，其中該不同的路徑 並非為平直的。 18. 如申請專利範圍第i 5或丨6項之裝置，其中該第一及第二 物件平台以及該迷宮式饰置係按適當尺寸大小切割成形 ，因此該第一及第二物件平台僅可穿過個別之不同的路 徑。 19. 如申請專利範圍第丄4、1 5或1 6項之裝置，其中該碰撞 防護裝置包括第一及第二梭動裝置，該每一裝置係可於 分別接近遠第一及第二工作區域的第一及第二位置之間 移動’該梭動裝置係為聯節的因此當一梭動裝置從第〜 -4- 本紙張尺度適财a H家標準(CNS) Α4»(210Χ297^Ϊ) ，置私：土第_位置的同時’另一梭動裝置從第二位置 ’’麵广％位置，因此僅在每一梭動裝置連接至該第一 20及第二物件平台之-不同的平台時係為可移動的。 如申Μ專利範圍第i 9項之裝置，其中該梭動裝置包括移 動傳動裝置用以驅動該物件平台於該第一及第二工作區 域間移動。 21.如:請專利範圍第14項之裝置，其中該碰撞防護裝置包 括可軲動的柵攔係如樞軸般地安裝在介於該第一及第 作區域間該移動之範圍内，因此在該柵欄將該第一 A第工作區域隔開之第一狀態，與該拇搁於任一側上 二ί不同,路徑的第二狀態間係為可轉動的，藉此轉動 涊罘一與第二物件平台可在該第一及第二工作區域之間 移動。 22·如:請專=範圍第14、15、16或21項之裝置，進而包 括第及第一傳動裝置該每一裝置可選擇地連接至該第 :及第二物件平台之任—平台上，該第—傳動裝置^ 私在孩罘一工作區域與一移動區域中的一物件平台加以 定位，該第二傳動$置係彳將在該第2工作區域與該移 動區域中的一物件平台加以定位。 23. t申請專利範圍第22項之裝置，其中該第一及第二傳動 裝置包括一可鬆開的聯結器裝置，用以與該第一或第二 物件平台嚙合，該可鬆開的聯結器裝置具有一故障安全 防護狀態，於該狀態下可維持該一物件平台之嚙合。 从如申請專利範圍第22項之裝置，其中該第一及第二傳動 5- 297公釐） 本紙張尺歧财_家鮮(CNS) A4規格 1223734 A8 B8 C8 申請專利範圍 裝置包括一可鬆開之聯結器，該聯結器具有一與一 V形 狀溝槽一致的V形狀脊狀部分。 25_如申請專利範圍第丨4項之裝置，其中該碰撞防護裝置包 括一安裝至該平台定位裝置之一活動部分上的減震器， 用以吸收能量以防止該物件平台間的碰撞。 26.種利用械影投影裝置製造元件的方法，其係包括： 一照明系統用以供應一輻射之投影光束； 一第一物件平台用以支撐圖案形成裝置，該裝置能夠 根據所欲的圖案將投影光束形成特定的樣式； 第二及第三可移動的物件平台，其係個別用以支撐一 基片，該第二及第三物件平台係可移動涵蓋於一共同的 移動範圍，該範圍至少包括第一及第二工作區域； 一投影系統用以將圖案化的光束成像在基片的一目標 部分上；及 平台定位裝置用以移動該第二及第三物件平台；該方 法包括以下步驟： 利用照明系統提供一輕射之投影光束； 使用圖案形成裝置用以賦予投影光束於其斷面具有一 圖案； 將位在該第一工作區域中之該第二物件平台與位在該 第二工作區域中之該第三物件平台加以定位； 將一具有一輻射敏感層的第一基片配置到位在該第一 工作區域中的該第二物件平台上； 在琢第一及第二工作區域間調換該第二及第三物件平 -6 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公董)
裝
1223734 A8 B8 C8 D8 、申請專利範圍 台； 將圖案化之輻射光束投影到配置在第二物件平台之該 第一基片之具有對輻射敏感材料之層的目標部分上； 將具有一輻射敏感層的第二基片配置到位在該第一工 作區域中的該第三物件平台上；及 再次在該第一及第二工作區域間調換該第二及第三物 件平台；其特徵在於： 於調換該第二及第三物件平台之該步騾期間，碰撞防 護裝置實際上限制了該第二及第三物件平台之至少一平 台的移動，用以防止該第二及第三物件平台之間的碰撞 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐)
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