CN103019045A - 一种具有防撞功能的硅片台 - Google Patents
一种具有防撞功能的硅片台 Download PDFInfo
- Publication number
- CN103019045A CN103019045A CN2012105337741A CN201210533774A CN103019045A CN 103019045 A CN103019045 A CN 103019045A CN 2012105337741 A CN2012105337741 A CN 2012105337741A CN 201210533774 A CN201210533774 A CN 201210533774A CN 103019045 A CN103019045 A CN 103019045A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- silicon wafer
- gas
- wafer stage
- platform
- stage
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
- H01L21/67346—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders characterized by being specially adapted for supporting a single substrate or by comprising a stack of such individual supports
Abstract
一种具有防撞功能的硅片台,该硅片台含有硅片台台体和线缆台,线缆台安装在硅片台的一个侧面,硅片台含有三个气囊、四个阻尼缓冲元件和气源,三个气囊串联布置,并分别通过气囊支架固定在硅片台的另外三个侧面上;相邻两个气囊之间通过一个阻尼缓冲元件和气体管路相连通,气体管路固定在线缆台上与气源相连通。当两个硅片台发生碰撞时,两个硅片台的气囊首先撞上,内部气体受到挤压,部分通过两侧阻尼缓冲原件的调节排出气囊,既缓冲了冲击力,又使得了硅片台不被反弹出去。由于该防撞结构具有可伸缩性,与机械式防撞相比刚度低,且结构简单紧凑,可应用于光刻机双台交换系统。
Description
技术领域
本发明涉及一种光刻机硅片台双台交换系统,该系统应用于半导体光刻机中,属于半导体制造设备技术领域。
背景技术
在光刻机磁浮硅片台双台交换系统中,由于两个硅片台没有推杆或是其它限位,完全依靠传感器的位置测量来控制硅片台在平衡块上的位置和姿态;此外,由于硅片台结构精密,所以,若在交换时或者控制系统失灵时,两个硅片台发生碰撞,损失将无法估量,因此,硅片台的防撞结构非常重要。另外,在两个硅片台发生碰撞时,除了会损坏零部件之外,还有可能发生反弹,如果发生这种情况时,测量系统将无法正常工作,必须重新寻向和归零,严重影响生产效率,因此,防撞系统需要安装有稳定的缓冲结构,可使发生碰撞的硅片台可以迅速停止运动。
现有技术的防撞结构采用在双侧加装悬臂杆,在悬臂杆上加装位置传感器,如果两个硅片台距离过近,传感器发生报警,可以快速反应使运动的硅片台迅速停止,但如果控制系统失控,则会先撞坏悬臂杆,再撞到硅片台,无法实现双重保护。在结构设计上,如果在硅片台外围加装防撞杆、距离传感器和缓冲器等,就会使硅片台的尺寸变得很大,并且增加了大量的零部件和传感器,对于集成度要求极高的设备来说,结构变更会变得非常复杂,无疑是大大增加了设计难度。
发明内容
本发明的目的是提供一种具有防撞功能的硅片台,即采用气囊和缓冲元件作为防撞结构,从而当两个硅片台在交换时或者控制系统失灵时,一方面不使硅片台相关部件受到损坏,使测量系统正常工作,进一步提高工作效率,另一方面具有结构简单,便于维护的优点。
一种具有防撞功能的硅片台,该硅片台含有硅片台台体和线缆台,所述的线缆台安装在硅片台的一个侧面,其特征在于:所述硅片台还含有三个气囊、四个阻尼缓冲元件和气源,所述的三个气囊串联布置,并分别通过气囊支架固定在硅片台的另外三个侧面上;相邻两个气囊之间通过一个阻尼缓冲元件和气体管路相连通,所述的气体管路与气源相连通,气体管路固定在线缆台上。
本发明的技术特征还在于:所述的阻尼缓冲元件上至少有一个细长阻尼孔。
本发明所述的气囊采用橡胶材质制成。
本发明与现有技术相比,具有以下优点及突出性效果:橡胶材质的气囊具有良好的弹性,当发生碰撞时,气体被挤压后,通过阻尼缓冲元件——阻尼孔流至相邻两个气囊,再进入气体循环系统,阻尼孔可以局部改变流体的流通面积产生压力损失,达到节流、调压、缓冲、防振等目的。本发明采用的是细长孔结构,其结构形式简单,当其处于稳定的层流状态时,元件两端压差与孔内流量具有良好的比例关系,有效增加了阻尼并最大限度的缓解发生碰撞后的反弹,可使两个硅片台在碰撞后迅速停止运动,通过对气囊气压和阻尼孔参数的设计,可使两个硅片台的定位精度满足控制系统要求,从而不必重新归零,提高了生产效率。
附图说明
图1为本发明提供的具有防撞功能的硅片台的实施例的结构原理示意图。
图2为本发明提供的具有防撞功能的两个硅片台发生碰撞时的工作状态示意图。
图3为本发明提供的具有防撞功能的两个硅片台发生碰撞时的另一种工作状态示意图。
图中:1—硅片台台体;2—线缆台;3—气囊;4—阻尼缓冲元件;5—气囊支架;6—气源;7—基座;8a—第一硅片台;8b—第二硅片台。
具体实施方式
图1为本发明提供的一种具有防撞功能的硅片台的实施例的结构原理示意图。该硅片台含有硅片台台体1和线缆台2,线缆台安装在硅片台的一个侧面,硅片台还含有三个气囊3、四个阻尼缓冲元件4和气源6,气囊采用橡胶材质制成,三个气囊串联布置,并分别通过气囊支架5固定在硅片台的另外三个侧面上;相邻两个气囊之间通过一个阻尼缓冲元件和气体管路相连通,气体管路固定在线缆台上,并与气源6相连通。阻尼缓冲元件优选采用多个细长阻尼孔进行节流,它可以局部改变流体的流通面积产生压力损失,达到节流、调压、缓冲、防振等目的,特别是长径比超过10的细长阻尼孔具有良好的缓冲性能。细长阻尼孔结构形式简单,当其处于稳定的层流状态时,元件两端压差与孔内流量具有良好的比例关系。
图2为本发明提供的具有防撞功能的两个硅片台发生碰撞时的工作状态示意图。当第一硅片台8a和第二硅片台8b沿X方向运动并发生碰撞时,沿X轴方向运动的第一硅片台8a向正常工作的第二硅片台8b运动,首先接触的是两个硅片台防撞气囊结构的沿Y方向布置的两个气囊,当橡胶材质的气囊受到挤压,具有柔性的气囊发生变形,缓冲了碰撞产生的冲击力;同时,由于撞击的冲击力使得两个气囊内部气体受到挤压,则分别与其相连的气囊产生了气压差,此时,气囊内的气体就会通过两侧的细长阻尼孔分别向与其相连的气囊流动,泄压流量和泄压速度缓慢,使得气囊具有一定的刚度,多余的气体则通过气体管路流出气囊结构回收。
细长阻尼孔的减压速度可通过碰撞冲击力的大小、气囊材质的相关参数,以及撞击速度等计算获得最佳取值,恰好既使两个硅片台在发生碰撞后由于气囊的柔性可在短时间内停止运动而又由于一定的刚度不会发生反弹。通过上述过程,可以实现两个硅片台发生碰撞时的双重保护。
图3为本发明提供的具有防撞功能的两个硅片台发生碰撞时的另一种工作状态示意图。当第一硅片台8a和第二硅片台8b沿Y方向运动并发生碰撞时,沿Y轴方向运动的第一硅片台8a向正常工作的第二硅片台8b运动,首先接触的是防撞气囊结构的沿X方向布置的两个气囊,当橡胶材质的气囊受到挤压,具有柔性的气囊发生变形,缓冲了碰撞产生的冲击力;同时,由于撞击的冲击力使得两个气囊内部气体受到挤压,则分别与其相连的气囊产生了气压差,此时,气囊内的气体就会通过两侧的细长阻尼孔分别向与其相连的气囊流动,泄压流量和泄压速度缓慢,使得气囊具有一定的刚度,多余的气体则通过气体管路流出气囊结构回收。
Claims (3)
1.一种具有防撞功能的硅片台,该硅片台含有硅片台台体(1)和线缆台(2),所述的线缆台安装在硅片台的一个侧面,其特征在于:所述硅片台还含有三个气囊(3)、四个阻尼缓冲元件(4)和气源(6),所述的三个气囊串联布置,并分别通过气囊支架(5)固定在硅片台的另外三个侧面上;相邻两个气囊之间通过一个阻尼缓冲元件(4)和气体管路相连通,所述的气体管路与气源(6)相连通,气体管路固定在线缆台上。
2.按照权利要求1所述的一种具有防撞功能的硅片台,其特征在于:所述的阻尼缓冲元件上至少有一个细长阻尼孔。
3.按照权利要求1或2所述的一种具有防撞功能的硅片台,其特征在于:所述的气囊采用橡胶材质制成。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN2012105337741A CN103019045A (zh) | 2012-12-11 | 2012-12-11 | 一种具有防撞功能的硅片台 |
US14/651,385 US20150311099A1 (en) | 2012-12-11 | 2013-12-06 | Wafer Stage Having Function of Anti-Collision |
PCT/CN2013/088729 WO2014090113A1 (zh) | 2012-12-11 | 2013-12-06 | 一种具有防撞功能的硅片台 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN2012105337741A CN103019045A (zh) | 2012-12-11 | 2012-12-11 | 一种具有防撞功能的硅片台 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN103019045A true CN103019045A (zh) | 2013-04-03 |
Family
ID=47967798
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN2012105337741A Pending CN103019045A (zh) | 2012-12-11 | 2012-12-11 | 一种具有防撞功能的硅片台 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20150311099A1 (zh) |
CN (1) | CN103019045A (zh) |
WO (1) | WO2014090113A1 (zh) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014090113A1 (zh) * | 2012-12-11 | 2014-06-19 | 上海微电子装备有限公司 | 一种具有防撞功能的硅片台 |
CN108345181A (zh) * | 2018-03-29 | 2018-07-31 | 清华大学 | 一种具有二级防撞保护结构的硅片台双台交换系统 |
CN109270805A (zh) * | 2018-11-14 | 2019-01-25 | 哈尔滨工业大学 | 一种无线缆式双向扫描装置 |
CN109564396A (zh) * | 2016-08-09 | 2019-04-02 | 卡尔蔡司Smt有限责任公司 | 具有用于模块组件的防撞装置的光学模块 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1501168A (zh) * | 2002-06-13 | 2004-06-02 | Asml | 光刻装置、器件的制造方法和由此制得的器件 |
TWI223734B (en) * | 1999-12-21 | 2004-11-11 | Asml Netherlands Bv | Crash prevention in positioning apparatus for use in lithographic projection apparatus |
CN101398636A (zh) * | 2008-09-17 | 2009-04-01 | 华中科技大学 | 一种精密减振组件及由其构成的减振平台 |
CN101770180A (zh) * | 2010-02-02 | 2010-07-07 | 清华大学 | 一种采用多关节机械手的光刻机硅片台的线缆台 |
Family Cites Families (30)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3137870A (en) * | 1963-03-15 | 1964-06-23 | Abe N Fink | Visual bumper guard for crib |
US3752270A (en) * | 1971-12-29 | 1973-08-14 | J Valdespino | Shock absorber structure including flexible bladder means |
US7365513B1 (en) * | 1994-04-01 | 2008-04-29 | Nikon Corporation | Positioning device having dynamically isolated frame, and lithographic device provided with such a positioning device |
TW411299B (en) * | 1998-10-16 | 2000-11-11 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | Wafer polishing apparatus and polishing quantity detection method |
JP2000249185A (ja) * | 1999-02-26 | 2000-09-12 | Fujita Corp | アクティブ型除振装置 |
JP2001274122A (ja) * | 2000-03-23 | 2001-10-05 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | ウェハ研磨装置 |
EP1477852A1 (en) * | 2003-05-16 | 2004-11-17 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby |
JP3849932B2 (ja) * | 2002-08-12 | 2006-11-22 | キヤノン株式会社 | 移動ステージ装置 |
JP4012024B2 (ja) * | 2002-09-10 | 2007-11-21 | キヤノン株式会社 | 位置決め装置に於ける衝撃吸収装置 |
US6926322B2 (en) * | 2003-11-24 | 2005-08-09 | General Motors Corporation | Laterally extendable bumper system |
JP4993554B2 (ja) * | 2005-11-22 | 2012-08-08 | 株式会社オーディオテクニカ | 墨出し器 |
DE102006056621A1 (de) * | 2006-11-30 | 2008-06-05 | Advanced Micro Devices, Inc., Sunnyvale | System und Verfahren zum Reduzieren durch Transport hervorgerufener Schäden während der Bearbeitung von Mikrostrukturen |
JP4159594B1 (ja) * | 2007-05-21 | 2008-10-01 | 株式会社東京精密 | 研磨終了時点の予測・検出方法とその装置 |
CN100470379C (zh) * | 2007-07-19 | 2009-03-18 | 清华大学 | 一种光刻机硅片台双台交换系统 |
US7821257B2 (en) * | 2007-09-03 | 2010-10-26 | Tokyo Seimitsu Co., Ltd | Method and device for forecasting/detecting polishing end point and method and device for monitoring real-time film thickness |
JP5248127B2 (ja) * | 2008-01-30 | 2013-07-31 | 株式会社荏原製作所 | 研磨方法及び研磨装置 |
JP2009188053A (ja) * | 2008-02-04 | 2009-08-20 | Canon Inc | 露光装置およびデバイス製造方法 |
JP2009252809A (ja) * | 2008-04-02 | 2009-10-29 | Hitachi High-Technologies Corp | ステージ装置及びステージ装置におけるステージの位置決め制御方法 |
CN101364052B (zh) * | 2008-10-08 | 2010-10-27 | 上海微电子装备有限公司 | 主动减振系统及其预见控制方法 |
CN101551599B (zh) * | 2009-04-03 | 2011-07-20 | 清华大学 | 一种光刻机硅片台双台交换系统 |
CN101571676B (zh) * | 2009-04-03 | 2010-12-01 | 清华大学 | 一种光刻机硅片台双台交换系统 |
CN101551598B (zh) * | 2009-04-03 | 2010-12-01 | 清华大学 | 一种光刻机硅片台双台交换系统 |
US8660756B2 (en) * | 2010-01-11 | 2014-02-25 | Honda Motor Co., Ltd. | Collision mitigation system |
JP5552401B2 (ja) * | 2010-09-08 | 2014-07-16 | 株式会社荏原製作所 | 研磨装置および方法 |
JP6003011B2 (ja) * | 2011-03-31 | 2016-10-05 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置 |
KR20130061513A (ko) * | 2011-12-01 | 2013-06-11 | 삼성전자주식회사 | 에칭용 지그 및 이를 포함하는 화학적 리프트 오프 장비 |
CN103019045A (zh) * | 2012-12-11 | 2013-04-03 | 清华大学 | 一种具有防撞功能的硅片台 |
CN103034073B (zh) * | 2012-12-26 | 2015-01-21 | 清华大学 | 带有浸液回收装置和激光干涉仪的硅片台双台交换系统 |
CN103034074B (zh) * | 2012-12-26 | 2015-04-15 | 清华大学 | 一种带有浸液回收装置的光刻机硅片台双台交换系统 |
CN104670132A (zh) * | 2015-02-15 | 2015-06-03 | 黄昌辉 | 汽车碰撞缓冲装置 |
-
2012
- 2012-12-11 CN CN2012105337741A patent/CN103019045A/zh active Pending
-
2013
- 2013-12-06 US US14/651,385 patent/US20150311099A1/en not_active Abandoned
- 2013-12-06 WO PCT/CN2013/088729 patent/WO2014090113A1/zh active Application Filing
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI223734B (en) * | 1999-12-21 | 2004-11-11 | Asml Netherlands Bv | Crash prevention in positioning apparatus for use in lithographic projection apparatus |
CN1501168A (zh) * | 2002-06-13 | 2004-06-02 | Asml | 光刻装置、器件的制造方法和由此制得的器件 |
CN101398636A (zh) * | 2008-09-17 | 2009-04-01 | 华中科技大学 | 一种精密减振组件及由其构成的减振平台 |
CN101770180A (zh) * | 2010-02-02 | 2010-07-07 | 清华大学 | 一种采用多关节机械手的光刻机硅片台的线缆台 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014090113A1 (zh) * | 2012-12-11 | 2014-06-19 | 上海微电子装备有限公司 | 一种具有防撞功能的硅片台 |
CN109564396A (zh) * | 2016-08-09 | 2019-04-02 | 卡尔蔡司Smt有限责任公司 | 具有用于模块组件的防撞装置的光学模块 |
CN109564396B (zh) * | 2016-08-09 | 2021-06-29 | 卡尔蔡司Smt有限责任公司 | 具有用于模块组件的防撞装置的光学模块 |
US11054755B2 (en) | 2016-08-09 | 2021-07-06 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optical module with an anticollision device for module components |
CN108345181A (zh) * | 2018-03-29 | 2018-07-31 | 清华大学 | 一种具有二级防撞保护结构的硅片台双台交换系统 |
CN109270805A (zh) * | 2018-11-14 | 2019-01-25 | 哈尔滨工业大学 | 一种无线缆式双向扫描装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2014090113A1 (zh) | 2014-06-19 |
US20150311099A1 (en) | 2015-10-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN103019045A (zh) | 一种具有防撞功能的硅片台 | |
CN204525455U (zh) | 一种变拓扑四自由度并联机构 | |
TW201522807A (zh) | 哈爾貝克磁陣列及採用其的磁懸浮減震設備 | |
CN103116249A (zh) | 一种用于微动台重力补偿的负刚度系统 | |
CN103308300B (zh) | 超大载荷拉伸试验机缓冲装置 | |
CN101942868A (zh) | 一种带限位装置的粘滞阻尼限位方法及粘滞阻尼器 | |
CN104678711A (zh) | 运动台反力抵消装置 | |
CN104315068A (zh) | 一种具有运动转换器的低频空气弹簧隔振器 | |
CN106695870A (zh) | 一种柔性关节变刚度机构 | |
CN102886710B (zh) | 防撞装置及机床 | |
CN109850086B (zh) | 一种浮动式海上平台抗海浪稳定装置 | |
CN203415440U (zh) | 滚轮式行程开关安装支座及碰块 | |
CN100460164C (zh) | 安全型可变刚度机械关节 | |
CN104440936B (zh) | 一种可变刚度的机器人关节 | |
CN104976178B (zh) | 一种调节气缸 | |
CN104238273B (zh) | 一种工件台安全防护装置 | |
CN205244230U (zh) | 改变受力方向的吸能放大机构 | |
CN112228494A (zh) | 主动减震系统及具有其的扫描电子显微镜 | |
CN203652762U (zh) | 一种生产线纸箱转向输送缓冲装置 | |
CN106286673B (zh) | 一种多工况匹配自适应逆势安全结构 | |
CN207992683U (zh) | 一种具有二级防撞保护结构的硅片台双台交换系统 | |
CN206246462U (zh) | 气缸缓冲限位结构 | |
CN113715764B (zh) | 一种一维展开机构与吸能材料复合作用的碰撞缓冲吸能装置 | |
CN101832353A (zh) | 一种复合气垫式气缸缓冲消能器 | |
CN104698766A (zh) | 重力补偿装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20130403 |