DE102006056621A1 - System und Verfahren zum Reduzieren durch Transport hervorgerufener Schäden während der Bearbeitung von Mikrostrukturen - Google Patents

System und Verfahren zum Reduzieren durch Transport hervorgerufener Schäden während der Bearbeitung von Mikrostrukturen Download PDF

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Abstract

Durch Vorsehen eines Sicherheitsmaterials, etwa einer Klebefolie, kann die Wahrscheinlichkeit für eine transporthervorgerufene Schädigung oder Zerstörung von Substraten, die durch gebrochene Substrate bewirkt wird, deutlich reduziert werden.

Description

  • Gebiet der vorliegenden Erfindung
  • Im Allgemeinen betrifft die vorliegende Erfindung das Gebiet der Herstellung von Mikrostrukturen in aufgeteilten Fertigungsumgebungen und betrifft insbesondere den Transport und die Handhabung von Substraten zur Herstellung von Mikrostrukturen, etwa von integrierten Schaltungen.
  • Beschreibung des Stands der Technik
  • Der heutige globale Markt zwingt Hersteller von Massenprodukten dazu, ihre Produkte mit hoher Qualität und geringem Preis anzubieten. Es ist daher wichtig, die Ausbeute und die Prozesseffizienz zu verbessern, um damit die Herstellungskosten zu minimieren. Dies gilt insbesondere auf dem Gebiet der Herstellung von Mikrostrukturen, beispielsweise für die Herstellung von Halbleiterbauelementen, da es in diesem Bereiche wichtig ist, modernste Technologie mit Massenherstellungsverfahren zu kombinieren. Es ist daher das Ziel von Herstellern von Halbleiterbauelementen oder allgemein von Mikrostrukturbauelementen, den Verbrauch von Rohmaterialien und Verbrauchsmaterialien zu reduzieren, wobei gleichzeitig die Ausbeute und die Prozessanlagenauslastung zu verbessern sind. Die zuletzt genannten Aspekte sind besonders wichtig, da die in modernen Halbleiterfertigungsstätten erforderlichen Anlagen äußerst kostenintensiv sind und den wesentlichen Teil der Gesamtherstellungskosten repräsentieren. Gleichzeitig müssen die Prozessanlagen einer Halbleiterfertigungsstätte häufiger im Vergleich zu den meisten anderen technischen Gebieten auf Grund der raschen Entwicklung neuer Produkte und Prozesse, die auch entsprechend angepasste Prozessanlagen erfordern, ersetzt werden.
  • Integrierte Schaltungen werden typischerweise in automatisierten oder halbautomatisierten Fertigungsstätten hergestellt, wobei sie eine große Anzahl an Prozess- und Messschritten bis zur Fertigstellung der Bauelemente durchlaufen. Die Anzahl und die Art der Prozessschritte und Messschritte, die ein Halbleiterbauelement durchlaufen muss, hängt von den Gegebenheiten des herzustellenden Halbleiterbauelements ab. Beispielsweise erfordert eine moderne CPU mehrere hundert Prozessschritte, wovon jeder innerhalb spezifizierter Prozessgrenzen auszuführen ist, um damit die Spezifikationen für das betrachtete Bauelement zu erfüllen.
  • In vielen Fertigungslinien für Mikrostrukturbauelemente, etwa Halbleiterfertigungsstätten, wird eine Vielzahl unterschiedlicher Produktarten gleichzeitig hergestellt, etwa Speicherchips mit unterschiedlicher Gestaltung und Speicherkapazität, CPU's mit unterschiedlicher Gestaltung und Arbeitsgeschwindigkeit, und dergleichen, wobei die Anzahl unterschiedlicher Produktarten bis zu 100 oder mehr erreichen kann in Fertigungslinien für die Herstellung von ASIC's (anwendungsspezifische IC's). Somit wird für das Bearbeiten der diversen Produktarten in den vielen Prozessanlagen ein komplexes Disponierschema benötigt, um eine hohe Produktqualität sicherzustellen und ein hohes Leistungsniveau, etwa einen hohen Durchsatz der Prozessanlagen zum Erhalten einer maximalen Anzahl von Produkten pro Zeit und pro Anlageninvestitionskosten, sicherzustellen. Somit ist das Anlagenleistungsverhalten insbesondere im Hinblick auf den Durchsatz ein sehr wichtiger Fertigungsparameter, da dieser die Gesamtproduktionskosten der einzelnen Produkte deutlich beeinflusst. Daher werden auf dem Gebiet der Halbleiterherstellung diverse Strategien in dem Versuch eingesetzt, den Produktstrom zu optimieren, um damit eine hohe Ausbeute mit einem moderaten Verbrauch an Rohmaterialien zu erreichen, wodurch ein hoher Anteil an Transportaktivitäten auf der Grundlage von Substraten erforderlich ist, die diverse Prozesse abgeschlossen haben und damit Mikrostrukturbauelemente in einem mehr oder weniger fortgeschrittenen Bearbeitungszustand aufweisen. Häufig wird der Fertigungsprozess für die entsprechenden Mikrostrukturbauelemente auf zwei oder mehrere Fertigungsorte aufgeteilt, anstatt die Bauelemente in einer einzelnen Fertigungsstätte vollständig herzustellen, wodurch der Aufwand für erforderliche Transportaktivitäten weiter erhöht wird, wobei jede Transportaktivität auch die Gefahr einer Schädigung oder eines Totalverlusts an Substraten beinhaltet.
  • Innerhalb der Produktionsstätten werden Substrate, d. h. typischerweise Scheiben, in Gruppen gehandhabt, die als Lose bezeichnet werden, die abhängig von dem Grad der Automatisierung innerhalb der Fertigungsumgebung mittels eines automatischen Transportsystems transportiert werden, das auch als automatisches Materialhandhabungssystem (AMHS) bezeichnet wird, und das die Substrate in entsprechenden Behälter, beispielsweise an der Vorderseite öffnende vereinheitlichte Behälter (FOUP), in denen die mehreren Substrate gestapelt sind und jedes Substrat horizontal orientiert ist, zu sogenannten Ladestati onen der Anlagen zuführt und die Behälter dort aufnimmt, die zuvor bearbeitete Substrate enthalten. Somit repräsentiert der Transportvorgang selbst einen wichtigen Faktor für das effiziente Disponieren und Verwalten der Fertigungsumgebung, da die Zeit zum Einladen und Ausladen von Behältern bis zu mehreren Minuten pro Behälteraustauschereignis beanspruchen kann und auch einer großen Schwankung unterliegt, die zu unerwünschten Wartezeiten an speziellen Prozessanlagen führen kann, wodurch deren Leistungsverhalten beeinträchtigt wird. Andererseits gibt es ein ständiges Bestreben, die Größe der entsprechenden Substrate zu vergrößern, um damit die Prozesseffizienz zu verbessern. Beispielsweise fand in der Vergangenheit eine Entwicklung von 150 mm auf 200 mm statt, während aktuell 300 mm zu einem industriellen Standard in der IC-Herstellung wird mit der Aussicht auf 450 mm Scheiben in der absehbaren Zukunft.
  • Somit führt abhängig von der Größe und der Prozessphase der Substrate der Bruch eines Substrats innerhalb eines entsprechenden Transportbehälters nicht nur zu einem Verlust der Bauteile, die auf dem gebrochenen Substrat ausgebildet sind, sondern es können auch die verbleibenden Substrate in dem Transportbehälter beschädigt werden. Beispielsweise werden Mikrostrukturbauelemente häufig bis zu einem sehr fortgeschrittenen Fertigungsstadium bearbeitet, während ein nächster Prozessschritt, etwa dem Zerteilen der Substrate, in einer anderen Fertigungsstätte ausgeführt wird. Dazu werden mehrere Substrate in einem Transportbehälter angeordnet, wobei die einzelnen Substrate horizontal durch geeignete Kanten, die in dem Transportbehälter vorgesehen sind, in Position gehalten werden. Auf Grund der thermischen und/oder mechanischen Verspannung oder anderer Umwelteinflüsse während des Transports kann ein Substrat brechen und die resultierenden Bruchstücke können ein oder mehrere der anderen Substrate treffen, wodurch eine Schädigung, etwa Kratzer, Teilchenkontamination, und dergleichen hervorgerufen wird. Da die Substrate bereits den Hauptanteil der Fertigungsprozesse durchlaufen haben, ist ein entsprechender Verlust von Bauelementen äußerst kostenintensiv.
  • Es wird nun eine typische Situation während des Transports von Substraten, die für die Herstellung von Mikrostrukturbauelementen verwendbar sind oder verwendet werden, mit Bezug zu den 1a bis 1c beschrieben.
  • 1a zeigt schematisch eine Querschnittsansicht eines Transportbehälters oder Containers 150, der ausgebildet ist, mehrere Substrate 100 aufzunehmen, die Substrate reprä sentieren, die darauf ausgebildet Mikrostrukturbauelemente, etwa integrierte Schaltungen und dergleichen aufweisen, wobei typischerweise die Mikrostrukturbauelemente in einem fortgeschrittenen Fertigungszustand sind, der den Transport zu einer anderen Fertigungsstätte erfordert, um damit in geeigneter Weise die Gesamtfertigungssequenz fortzusetzen. Z. B. können die Substrate 100 entsprechende integrierte Schaltungen aufweisen, die in einzelne Chips vor dem Einbringen in ein Gehäuse zu vereinzeln sind. Abhängig von der Größe der einzelnen Chipbereiche, die auf dem Substrat 100 ausgebildet sind, können somit mehrere 100 Bauelemente oder mehr pro Substrat 100 vorhanden sein, wobei jedes einzelne Bauelement einen Wert von einigen Dollar bis zu mehreren 100 Dollar aufweisen kann. Der Einfachheit halber sind derartige Mikrostrukturbauelemente in 1a nicht gezeigt. Typischerweise werden die einzelnen Substrate 100 am Rand durch entsprechende Haltestrukturen 151 gehalten, um damit das automatische Einladen und Ausladen in die und aus den Transportbehälter 150 zu ermöglichen. Der Transportbehälter 150 kann ferner eine Abdeckung 152 aufweisen, die im Wesentlichen die Substrate vor Umwelteinflüssen, etwa Teilchen, Feuchtigkeit, und dergleichen schützt. Während des Transports des Behälters 150 werden abhängig von den Transportbedingungen die Substrate 100 diversen Belastungszuständen ausgesetzt, beispielsweise thermischen und/oder mechanischen Belastungssituationen, die schließlich in Verbindung mit intern bestehenden mechanischen Verspannungen zu deutlichen Schäden in einem oder mehreren der Substrate 100 führen können, was sogar zu einem vollständigen Bruch des entsprechenden Substrats führen kann. Beispielsweise kann in 1a eine mechanische Belastung oder eine andere Belastung 140 auf eines der Substrate 100 einwirken, wobei zu beachten ist, dass die externe Belastung 140 zu einer unterschiedlichen Reaktion in einzelnen Substraten führen kann, abhängig von den substratspezifischen Bedingungen, etwa dem Ausmaß an innerer Verspannung der Substrate innerhalb des Transportbehälters 150, und dergleichen. Wenn daher ein gewisser Schwellwert überschritten wird, der für jedes der Substrate 100 unterschiedlich sein kann, kann ein Bruch eines entsprechenden Substrats 100 auftreten, wodurch mehrere Teilstücke und Teilchen, die das innere des Transportbehälters 150 kontaminieren, erzeugt werden.
  • 1b zeigt schematisch die entsprechende Situation, wenn mehrere Teilstücke 101 in dem Transportbehälter 150 verteilt sind, wodurch auch andere Substrate 100 kontaminiert werden, d. h. er werden Teilchen und dergleichen erzeugt, die die weitere Bearbeitung der intakten Substrate 100 nach der Ankunft in der neuen Fertigungsstätte negativ beeinflussen können.
  • 1c zeigt schematisch den Transportbehälter 150, wobei die Wechselwirkung der Fragmente 101 mit weiteren Substraten 100 zum Zerstören eines oder mehrerer weiterer Substrate führt.
  • Folglich kann der Bruch eines Substrats 100 während des Transports nicht nur zu einem deutlichen Verlust an Mikrostrukturbauelementen, die auf dem gebrochenen Substrat vorgesehen sind, führen, sondern kann auch zu beträchtlichen Schäden oder sogar einem Bruch anderer Substrate führen, die ursprünglich nicht durch während des Transports hervorgerufene Belastungen wesentlich beeinflusst wurden.
  • Angesichts der zuvor beschriebenen Situation besteht ein Bedarf für eine Technik für ein effizienteres Handhaben von Transportproblemen für Substrate bei der Bereitstellung von Mikrostrukturen, wobei eines oder mehrere der oben erkannten Probleme vermieden oder reduziert werden.
  • Überblick über die Erfindung
  • Im Allgemeinen betrifft die vorliegende Erfindung eine Technik zum deutlichen Reduzieren der Wahrscheinlichkeit für durch Transport hervorgerufene Schäden von Substraten, die zur Bearbeitung von Mikrostrukturen verwendbar sind oder verwendet werden. Zu diesem Zweck werden die Substrate so vorbereitet, dass diese eine geringere Wahrscheinlichkeit für das Erzeugen loser Teilstücke aufweisen, selbst wenn schwerwiegende durch den Transport hervorgerufene Schäden in einem oder mehreren der entsprechenden Substrate erzeugt werden. Folglich kann durch Verringern der Wahrscheinlichkeit zur Erzeugung loser Teilstücke eine Kontamination des entsprechenden Transportbehälters deutlich verringert werden, wodurch auch die Gefahr einer Schädigung oder Zerstörung anderer Substrate verringert wird, die in dem Transportbehälter vorhanden sind. Durch geeignetes Vorbereiten des Substrats derart, dass dieses ein gewünschtes Sicherheitsverhalten beim Bruch aufweist, können bestehende konventionelle Anlagen und Ressourcen mit erhöhter Effizienz eingesetzt werden, wodurch eine deutlich erhöhte Gesamtausbeute der Transportaktivitä ten und somit des gesamten Fertigungsprozesses der betrachteten Mikrostrukturbauelemente erreicht wird.
  • Gemäß einer anschaulichen Ausführungsform der vorliegenden Erfindung umfasst ein Verfahren das Transportieren eines Substrats in einem Transportbehälter von einer ersten Fertigungsstätte zu einer zweiten Fertigungsstätte, wobei das Substrat eine Vorderseite und eine Rückseite aufweist und ein Trägermaterial zur Herstellung von Mikrostrukturbauelementen in und auf der Vorderseite repräsentiert. Das Verfahren umfasst ferner das Aufbringen einer Haftschicht auf der Rückseite des Substrats vor dem Transportieren des Substrats, wobei die Haftschicht ausgebildet ist, eine Kontamination des Transportbehälters bei einem beim Transport verursachten Bruch des Substrats zu verringern.
  • Gemäß einer noch weiteren anschaulichen Ausführungsform der vorliegenden Erfindung umfasst ein Verfahren das Bilden eines Sicherheitsmaterials auf einem Substrat, das zur Bearbeitung von Mikrostrukturbauelementen verwendet wird, wobei das Sicherheitsmaterial ausgebildet ist, die Bildung loser Teilstücke beim Brechen des Substrats zu reduzieren. Des weiteren wird das Substrat von einer ersten Fertigungsstätte zu einer zweiten Fertigungsstätte transportiert.
  • Gemäß einer noch weiteren anschaulichen Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird ein System zum Transportieren von Substraten von Mikrostrukturbauelementen von einer ersten Fertigungsstätte zu einer zweiten Fertigungsstätte bereitgestellt. Das System umfasst eine Ladestation, die ausgebildet ist, ein oder mehrere Substrate in dem Transportbehälter einzuladen, wobei das eine oder die mehreren Substrate ein Sicherheitsmaterial aufweisen, das ausgebildet ist, eine Kontamination des Transportbehälters beim Brechen eines Substrats zu verringern. Das System umfasst ferner eine Prozessanlage, die ausgebildet ist, das Sicherheitsmaterial auf jedem des einen oder der mehreren Substrate herzustellen.
  • Kurze Beschreibung der Zeichnungen
  • Weitere Vorteile, Aufgaben und Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung sind in den angefügten Patentansprüchen definiert und gehen deutlicher aus der folgenden detaillierten Beschreibung hervor, wenn diese mit Bezug zu den begleitenden Zeichnungen studiert wird, in denen:
  • 1a bis 1c schematisch Querschnittsansichten eins Transportbehälters während des Transports von Substraten gemäß einem konventionellen Ablauf zeigen, wobei der Bruch eines einzelnen Substrats zu einem deutlichen Schaden an anderen Substraten in dem entsprechenden Transportbehälter führen kann;
  • 2a schematisch ein Substrat mit einem darauf ausgebildeten Sicherheitsmaterial zur Verringerung der Wahrscheinlichkeit des Erzeugens loser Teilstücke beim Brechen des Substrats gemäß anschaulicher Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung zeigt;
  • 2b schematisch einen Transportbehälter während des Transports mehrerer Substrate mit einem entsprechenden Sicherheitsmaterial gemäß weiterer anschaulicher Ausführungsformen zeigt;
  • 2c zeigt schematisch ein Transportschema mit einem geeigneten Sicherheitsmaterial und einer Transportorientierung der Substrate für ein weiteres Verringern der Wahrscheinlichkeit des Brechens von Substraten während des Transports gemäß weiterer anschaulicher Ausführungsformen zeigt;
  • 3a bis 3c schematisch Querschnittsansichten von Substraten mit darauf ausgebildeten Sicherheitsmaterialien zur Reduzierung der Kontamination von Transportbehältern beim Brechen des Substrats gemäß weiterer anschaulicher Ausführungsformen zeigen;
  • 4a schematisch ein System zum Transport von Substraten mit einer geringeren Wahrscheinlichkeit für durch Transport hervorgerufene Kontaminationen gemäß anschaulicher Ausführungsformen zeigt; und
  • 4b zeigt schematisch eine Querschnittsansicht eines Substrats mit einem Sicherheitsmaterial zeigt, das mit einem Sensorelement zur Überwachung von Transportbedingungen des Substrats verbunden ist, gemäß weiterer anschaulicher Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung.
  • Detaillierte Beschreibung
  • Obwohl die vorliegende Erfindung mit Bezug zu den Ausführungsformen beschrieben ist, wie sie in der folgenden detaillierten Beschreibung sowie in den Zeichnungen dargestellt sind, sollte es selbstverständlich sein, dass die folgende detaillierte Beschreibung sowie die Zeichnungen nicht beabsichtigen, die vorliegende Erfindung auf die speziellen anschaulichen offenbarten Ausführungsformen einzuschränken, sondern die beschriebene anschaulichen Ausführungsformen stellen lediglich beispielhaft den Gegenstand der angefügten Patentansprüche dar.
  • Im Allgemeinen löst die vorliegende Erfindung das Problem der ausgeprägten Ausbeuteverringerung während des Transports oder während des Versendens von Substraten für die Bearbeitung von Mikrostrukturbauelementen, die durch den Bruch eines oder mehrerer Substrate während des Transports hervorgerufen wird. Wie zuvor erläutert ist, sind typischerweise insbesondere bei der Herstellung von modernen Mikrostrukturbauelementen, etwa integrierten Schaltungen mit hoher Komplexität und dergleichen, eine Vielzahl komplexer Fertigungsprozesse auszuführen, wobei eine große Anzahl an Prozessaktivitäten auszuführen sind, um damit die Substrate in geeigneter Weise den entsprechenden Fertigungsstätten zuzuführen. Obwohl im Allgemeinen gewisse Prozessmodule so ausgebildet sind, dass der Substrattransport durch automatische Transportsysteme bewältigt wird, wodurch deutlich die Wahrscheinlichkeit von Belastungsbedingungen, die durch den Transport hervorgerufen werden, für die Substrate reduziert wird, werden entsprechende Mikrostrukturbauelemente häufig nicht in einer Fertigungsstätte vollständig hergestellt, sondern es ist mindestens eine Transportaktivität erforderlich, während welcher die entsprechenden Bedingungen nicht so steuerbar sind, wie dies wünschenswert ist, um im Wesentlichen transportbezogene Ausbeuteverluste zu vermeiden. Beispielsweise werden die Substrate typischerweise in unterschiedlichen Fertigungsstätten hergestellt und dann zu entsprechenden Einrichtungen, etwa Halbleiterfabriken, und dergleichen transportiert, um damit entsprechende Bauelemente auf den Substraten zu bilden. Einige der äußerst komplexen Fertigungsprozesse zur Vervollständigung eines separaten Halbleiterbauelements in einem Gehäuse erfordert typischerweise die Bearbeitung in unterschiedlichen Fertigungsstätten auf Grund ökonomischer, technischer oder anderer Gründe. Z. B. wird der Vorgang des Vereinzelns der einzelnen Substrate in einer anderen Fertigungsstätte als die vorhergehenden Prozesse auf Grund ökonomischer Gründe im Hinblick auf das relativ geringe Maß an Au tomatisierung, das beim Vereinzelungsprozess gegeben ist, ausgeführt. Da die entsprechenden Transportbedingungen während eines Transports von einer Fertigungsstätte zu einer anderen äußerst variabel sind und zu einem gewissen Maße nicht vorhersagbar sind, wird typischerweise ein Kompromiss zwischen ökonomischen Rahmenbedingungen, d. h. es werden möglichst viele Substrate in dicht gepackter Weise transportiert, und der Integrität der entsprechenden Substrate, die in den entsprechenden Transportbehältern enthalten sind, eingegangen. Folglich besteht in konventionellen Transportschemata, wie dies zuvor mit Bezug zu den 1a bis 1c beschrieben ist, eine große Wahrscheinlichkeit für einen deutlichen Ausbeuteverlust.
  • Gemäß der vorliegenden Erfindung werden entsprechende Gegenmaßnahmen getroffen, um die entsprechenden Ausbeuteverluste zu reduzieren, ohne im Wesentlichen zu einer erhöhten Gesamtkomplexität und zu höheren Fertigungskosten beizutragen, indem eine Strategie bereitgestellt wird, in der zumindest die Konsequenzen des Bruchs eines Substrats während des Transports deutlich verringert werden. Zu diesem Zweck werden die entsprechenden Substrate vor dem eigentlichen Transportieren der Substrate so präpariert, dass die Wahrscheinlichkeit für das Erzeugen loser Teilstücke und Teilchen beim Brechen des Substrats deutlich verringert wird. Dies kann auf der Grundlage eines geeignet gestalteten Sicherheitsmaterials bewerkstelligt werden, das auf geeigneten Positionen auf dem Substrat gebildet wird, wobei das Sicherheitsmaterial ein wesentlich größeres Maß an Flexibilität im Vergleich zu dem Substratmaterial aufweist, so dass es auf eine große Bandbreite externer Belastungen reagieren kann, ohne dass ein deutlicher Schaden auftritt. Ferner kann das Sicherheitsmaterial Bruchstücke des gebrochenen Substrats in geeigneter Weise zurückhalten, beispielsweise indem eine ausreichende Haftung zu den entsprechenden Teilstücken geschaffen wird, die damit das Innere des Transportbehälters im Wesentlichen nicht kontaminieren oder die zumindest eine Kontamination im Vergleich zu konventionellen Strategien deutlich einschränken. Die Wirkung der Sicherheitsmaterialien, die auf den entsprechenden Substraten vorgesehen sind, kann noch weiter verbessert werden, indem der Betrag der externen Belastung auf die Substrate verringert wird, indem beispielsweise die Substrate in den entsprechenden Transportbehältern in geeigneter Weise positioniert werden. In anschaulichen Ausführungsformen ist das Aufbringen des Sicherheitsmaterials mit dem Vorsehen entsprechender Sensorelemente verknüpft, um damit die Transportbedingungen der einzelnen Substrate zu detektieren oder zumindest zeitweilig zu überwachen.
  • Dies ermöglicht es, in geeigneter Weise die entsprechenden Daten zu sammeln und zu bewerten, wodurch die Gesamttransporteffizienz verbessert wird.
  • Somit ist die vorliegende Erfindung äußerst vorteilhaft im Zusammenhang mit dem Transportieren von Substraten für die Bearbeitung von Mikrostrukturbauelementen von einer Fertigungsstätte zu einer weiteren über lange Strecken, wobei Transportmedien, etwa Straßen, Flugrouten, Schiffsrouten, und dergleichen beteiligt sind, da hier äußerst variable und unvorhersehbare Transportbedingungen auftreten können. Es sollte jedoch beachtet werden, dass die vorliegende Erfindung auch auf Situationen angewendet werden kann, in denen die entsprechenden Fertigungsstätten nahe aneinander angeordnet sind, wobei dennoch Transportaktivitäten unter anspruchsvollen Bedingungen erforderlich sind, wenn beispielsweise nicht automatisierte Transportsysteme beteiligt sind, oder wenn im Allgemeinen die Wahrscheinlichkeit für durch Transport hervorgerufene Verluste zu verringern ist.
  • Mit Bezug zu den begleitenden Zeichnungen werden nunmehr weitere anschauliche Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung detaillierter beschrieben.
  • 2a zeigt schematisch ein Substrat 200, wenn es einer speziellen Belastungsbedingung ausgesetzt ist, die als eine externe Belastung 240 angegeben ist, die abhängig von den inneren Eigenschaften des Substrats 300 eine stärkere Beschädigung, etwa einen Riss, und dergleichen hervorrufen kann. Das Substrat 200 repräsentiert ein beliebiges geeignetes Trägermaterial zur Herstellung von entsprechenden Mikrostrukturbauelementen, etwa integrierten Schaltungen, mikromechanischen Bauelementen, optoelektronischen Bauelementen, und dergleichen. Der Einfachheit halber sind derartige Mikrostrukturbauelemente in 2a nicht gezeigt. In anderen Fällen repräsentieren die Substrate 200 Trägermaterialien, die einem Hersteller von Mikrostrukturen zuzuführen sind. Wie zuvor erläutert ist, gibt es ein ständiges Bestreben, den Durchmesser der einzelnen Substrate zu vergrößern, um damit die Effizienz der entsprechenden Fertigungsprozesse zu steigern. Somit kann auch die Anzahl der einzelnen Bauelemente, die auf einem einzelnen Substrat 200 ausgebildet sind, ebenso anwachsen, was zu einem deutlich erhöhten Maß an Ausbeuteverlust führen kann, wenn das Substrat 200 durch die transportinduzierte Belastungsbedingung 240 zerbricht. Beispielsweise beträgt ein typischer Durchmesser des Substrats 200 150 bis 300 mm, wobei 450 mm in der absehbaren Zukunft eine Standardsubstratgröße für die Bearbeitung von siliziumbasierten Mikrostrukturbauelementen werden kann. Das Substrat 200 be sitzt eine Vorderseite 202 und eine Rückseite 203, wobei die Vorderseite 202 als der entsprechende Bereich des Substrats 200 definiert ist, der darin und darüber Mikrostrukturbauelemente erhält, etwa integrierte Schaltungen und dergleichen. Es sollte beachtet werden, dass die Rückseite 203, die typischerweise für die Handhabung des Substrats 200 durch automatische Transportsysteme und Prozessanlagen verwendet wird, ebenso entsprechende Komponenten erhalten kann, etwa Kontaktelektroden und dergleichen, abhängig davon, welche Bauelemente auf und in dem Substrat 200 zu bilden sind. In anderen Fällen repräsentiert die Rückseite 203 ein Materialgebiet des Substrats 200, das in einer späteren Prozessphase entfernt wird, abhängig von den Bauteilerfordernissen. In jedem Falle repräsentiert die Vorderseite 202 einen Oberflächenbereich des Substrats 200, der den meisten Fertigungsprozessen ausgesetzt ist oder diesen noch unterliegt, um entsprechende Mikrostrukturbauelemente auf der Grundlage des Substrats 200 zu bilden. In einer anschaulichen Ausführungsform umfasst das Substrat 200 zumindest auf der Rückseite 203 ein geeignetes Sicherheitsmaterial 210, das ausgebildet ist, auf die Belastungsbedingung 240 so zu reagieren, dass die Erzeugung loser Teilstücke des Substrats 200 im Wesentlichen reduziert wird oder im Wesentlichen vermieden wird, wenn das Substrat 200 der Belastungsbedingung 240 nicht widersteht. In einer anschaulichen Ausführungsform repräsentiert das Sicherheitsmaterial 210 ein Material mit einer erhöhten Flexibilität im Vergleich zu dem Substrat 200, so dass das Material 210 nicht wesentlich dazu neigt, entsprechende Risse oder andere Deformationen zu bilden, die die mechanische Integrität des Materials 210 gefährden, zumindest für eine große Klasse an externen Belastungen 240. In einer anschaulichen Ausführungsform umfasst das Sicherheitsmaterial 210 eine Haftschicht, die in zuverlässiger Weise an der Rückseite 203 des Substrats 200 haftet, wodurch das Ablösen von Fragmenten des Substrats 200 beim Zerbrechen im Wesentlichen vermieden wird. Beispielsweise kann die Haftschicht, die das Sicherheitsmaterial 210 repräsentiert oder einen Teil davon bildet, in Form eines folienartigen Materials vorgesehen werden, das ausreichend Haftung zu der Rückseite 203 besitzt, um damit Teilstücke zurückzuhalten. Z. B. sind geeignete Polymermaterialien verfügbar, die das gewünschte Maß an Stabilität und Haftung bieten. In einem Beispiel weist das entsprechende Sicherheitsmaterial 210 ein Folienmaterial auf, wie es in ähnlicher Weise als Sägefolie verwendet wird, die zum Separieren einzelner Chips in einer späteren Fertigungsphase eingesetzt wird. Das Sicherheitsmaterial 210 wird auf der Rückseite 203 auf der Grundlage einer beliebigen etablierten Prozesstechnik aufgebracht, etwa Aufschleuderverfahren, CVD (chemische Dampfabscheidung), wobei eine nachfolgende Behandlung optional ausgeführt werden kann, um dem zuvor aufge brachten Basismaterial die gewünschten Eigenschaften zu verleihen. In anderen Fällen wird das Sicherheitsmaterial 210 an dem Substrat 200 mittels eines mechanischen Prozesses festgemacht, wenn das Basismaterial zur Herstellung des Sicherheitsmaterials 210 mit einer folienartigen Konsistenz bereitgestellt werden kann. Danach können weitere Materialien aufgebracht werden, wie dies nachfolgend detaillierter beschrieben ist.
  • Während einer typischen Transportsituation wirkt die Belastung 240 auf das Substrat 200, was zu einer entsprechenden Erzeugung eines Risses 201a auf Grund bereits bestehender innerer mechanischer Verspannungen und dergleichen führen kann, wodurch möglicherweise entsprechende Teilstücke bzw. Fragmente 201 gebildet werden können, die jedoch an dem Sicherheitsmaterial 210 haften bleiben, wodurch die Fragmente 201 mit dem Sicherheitsmaterial 210 verbunden bleiben. Es sollte beachtet werden, dass in der in 2a gezeigten Konfiguration das Substrat 200 in einer im Wesentlichen horizontalen Orientierung vorgesehen ist, wobei in diesem Falle der Begriff „horizontal" als eine absolute Positionsinformation zu verstehen ist, d. h. das Substrat 200 ist im Wesentlichen horizontal in Bezug auf den Grund bzw. Boden 260 angeordnet. Folglich kann das Vorsehen des Sicherheitsmaterials 210 auf der Rückseite 203 zumindest zu einem gewissen Grade das gebrochene Substrat 200 stabilisieren, da die entsprechenden Ränder des Risses 201a an der Vorderseite 202 gegeneinandergedrückt werden, während die entsprechenden Ränder an der Rückseite 203 durch die Schwerkraft auseinandergezogen werden, wodurch sich der resultierende Abstand im Wesentlichen durch die Elastizität des Sicherheitsmaterials 210 begrenzt ist. Bei einer geringen Elastizität kann das Sicherheitsmaterial 210 sogar die Lage des Substrats 200 selbst in dem gebrochenen Zustand beibehalten, mit Ausnahme eines gewissen Maßes an Krümmung, das von dem Maß an Elastizität abhängt, das von dem Sicherheitsmaterial 210 bereitgestellt wird, ohne dass weitere mechanische Komponenten erforderlich sind.
  • 2b zeigt schematisch eine typische Transportsituation, in der ein Transportbehälter 250 mehrere Substrate aufweist, etwa die Substrate 200, wie sie in 2a gezeigt sind. In diesem Falle wirkt eine externe Belastung 240 auf die Substrate, wobei eines der Substrate 200, wie dies in 2b gezeigt ist, den entsprechenden „Schwellwert" übersteigt und einen entsprechenden Riss 201a bildet, wobei das Ablösen von Teilstücken 201 von den entsprechenden Substraten 200 in das Innere des Transportbehälters 250 im Wesentlichen vermieden werden kann oder die Anzahl der freigesetzten Bereiche des Substrats 200 zumin dest deutlich verringert wird im Vergleich zu konventionellen Strategien ohne das Sicherheitsmaterial 210. In Situationen, wie sie zuvor mit Bezug zu 2a beschrieben sind, kann das gebrochene Substrat 200 seine Position innerhalb des entsprechenden Faches beibehalten, wobei das Maß an Durchbiegung des Substrats 200 von dem Ausmaß an Zerstörung des Substrats 200 und den Eigenschaften des Sicherheitsmaterials 210 abhängt. Für ein Material mit einem moderat geringen Maß an Elastizität kann beispielsweise die sich ergebende Krümmung nach dem Bruch des Substrats 200 kleiner sein im Vergleich zu dem Abstand des tieferliegenden benachbarten Substrats 200 in dem Behälter 250, wodurch ein unerwünschter Kontakt des gebrochenen Substrats 200 mit dem tieferliegenden Nachbarsubstrat im Wesentlichen vermieden wird. In anderen Fällen, wenn ein gewisses Maß an Materialabtrag an der Vorderseite 202 des Substrats 200 auftritt, indem beispielsweise sich der entsprechende Rand des Risses 201a während der externen Belastung 240 ablöst, kann die Krümmung und damit die Durchbiegung des gebrochenen Substrats 200 größer werden, was möglicherweise zu einer Berührung des darunter liegenden Substrats führt, jedoch mit einer geringeren Neigung, das benachbarte Substrat zu schädigen, wobei dennoch eine Ablösung größerer Teilstücke 201 in effizienter Weise durch das Sicherheitsmaterial 210 unterdrückt wird. In anderen anschaulichen Ausführungsformen kann eine deutliche Materialablösung an der Vorderseite 202 unterdrückt werden, indem eine entsprechende Schutzschicht darauf gebildet wird, wie dies nachfolgend detaillierter beschrieben ist.
  • Es sollte beachtet werden, dass in dem in 2b beschriebenen Transportschema die Substrate 200 im Wesentlichen horizontal in Bezug auf den Boden orientiert sind, wodurch die Möglichkeit geschaffen wird, konventionelle Transportabläufe anzuwenden, jedoch mit einer deutlich reduzierten Wahrscheinlichkeit für durch den Transport hervorgerufene Behälterkontaminationen und damit entsprechende Ausbeuteverluste. Wie jedoch zuvor erläutert ist, werden die entsprechenden Substrate 200 im Wesentlichen an deren Rand mittels einer entsprechenden Halterungsstruktur 251 befestigt, was zu einer deutlichen mechanischen Belastung innerhalb zentraler Bereiche der entsprechenden Substrate 200 auf Grund der Schwerkraft führen kann, insbesondere wenn Substrate mit großem Durchmesser betrachtet werden. D. h., das entsprechende Substrat 200 kann unter einer deutlichen mechanischen Verspannung leiden, die zu einem gewissen Maße eine Zugdeformation an der Rückseite 203 und einer Druckdeformation an der Vorderseite 202 führt. Folglich kann für Substrate mit größerem Durchmesser eine mechanische Belastung oder eine andere extern hervorgerufene Belastung, etwa die Belastung 240 zu einer Absenkung des entspre chenden „Schwellwerts" oder „Toleranzpegels für externe Belastungen" im Hinblick auf einen Scheibenbruch führen, wodurch ein moderat hohes Risiko für einen Substratbruch selbst für moderat geringe interne Belastungspegel geschaffen wird. In einer derartigen Situation kann das Vorsehen des Sicherheitsmaterials 210 potentielle Ausbeuteverluste in konventionellen Transportschemata deutlich reduzieren. In anderen anschaulichen Ausführungsformen wird zusätzlich zu dem Sicherheitsmaterial 210 die Eigenstabilität des Substrats 200 verbessert, indem eine andere Orientierung der Substrate 200 während des Transports gewählt wird.
  • 2c zeigt schematisch die Situation des Transports des Substrats 200 in einem entsprechend ausgebildeten Transportbehälter 200, in welchem entsprechende Fächer 252 in einer nicht horizontalen Weise angeordnet sind. In den dargestellten Ausführungsformen sind die entsprechenden Fächer 252 so ausgebildet, dass die Substrate 200 in einer im Wesentlichen vertikalen Orientierung aufgenommen wurden, so dass durch Schwerkraft hervorgerufene Zugverspannungen und Druckverspannungen des Substrats 200 deutlich verringert werden. Somit kann in Verbindung mit dem Sicherheitsmaterial 210 die Wahrscheinlichkeit für das Erzeugen von Verspannungspegeln, die den Bruch von Substraten hervorrufen, reduziert werden, während zusätzlich eine Kontamination, die durch gebrochene Substrate hervorgerufen wird, ebenso verringert werden kann, wodurch insgesamt eine deutlich verbesserte Transporteffizienz erreicht wird. In einigen anschaulichen Ausführungsformen, wie dies in 2c gezeigt ist, besitzen die entsprechenden Substrate 200 darauf ausgebildet das Sicherheitsmaterial 210 in Form eines ersten Bereichs 210a, der auf der Rückseite vorgesehen ist, und eines zweiten Bereichs 210b, der auf der Vorderseite vorgesehen ist, wobei der erste und der zweite Bereiche 210a, 210b im Wesentlichen die gleichen Materialzusammensetzungen aufweisen oder aber sich zumindest in einer Eigenschaft abhängig von den Prozesserfordernissen unterscheiden können. Beispielsweise kann das Sicherheitsmaterial 210a, das an der Rückseite 203 vorgesehen ist, für die höhere mechanische Integrität und die Hafteigenschaften sorgen, während das Material 210b, das an der Vorderseite 202 vorgesehen ist, die Ablösung von kleinen Teilchen von Bereichen reduzieren kann, in denen entsprechende Risse 201a entstehen können. Auf diese Weise kann die Effizienz des Materials 210a verbessert werden und gleichzeitig kann eine substratinterne Kontamination durch Teilchen unterdrückt werden. Somit können entsprechende Teilstücke 201, die groß genug sind, dass diese ein oder mehrere intakte Bauelemente enthalten, für die weitere Bearbeitung verwendet werden, beispielsweise für das Abtrennen einzelner Chipbereiche, selbst nach dem Bruch des entsprechenden Substrats. Durch Vorsehen des entsprechenden Materials 210b auf der Vorderseite 202 kann eine weitere Kontamination, die mit der Substrathandhabung und mit Transportaktivitäten verknüpft ist, deutlich reduziert werden, wodurch weiter zu einer verbesserten Gesamtproduktionsausbeute beigetragen wird.
  • Es sollte beachtet werden, dass ein entsprechendes schützendes Vorderseitenmaterial und dergleichen auch in dem Transportschema eingesetzt werden kann, wie es mit Bezug zu den 2a und 2b beschrieben ist, wobei entsprechende Strategien nachfolgend detaillierter beschrieben werden, wenn auf die 3a bis 3c verwiesen wird.
  • In noch weiteren anschaulichen Ausführungsformen (nicht gezeigt) wird die Orientierung der Substrate 200 mit einem geeigneten Winkel zwischen der im Wesentlichen horizontalen Orientierung, die in 2b gezeigt ist, und der im Wesentlichen vertikalen Orientierung, wie sie in 2c gezeigt ist, ausgewählt. In diesem Falle kann der entsprechende Zuwachs der Eigenstabilität der Substrate 200 auf ein gewünschtes Maß eingestellt werden, indem beispielsweise ein Winkel von ungefähr 40 bis 60 Grad in Bezug auf den Untergrund gewählt wird, während dennoch eine gewisse Schwerkraft zur Wirkung auf ein gebrochenes Substrat 200 sichergestellt ist, um damit eine durch Schwerkraft hervorgerufene Biegung des gebrochenen Substrats zu erzeugen, wodurch ein gewisses Maß an Eigenstabilität selbst nach dem Bruch des entsprechenden Substrats gewährleistet ist.
  • 3a zeigt schematisch ein Substrat 300 mit einer Vorderseite 302 und einer Rückseite 303. Das Substrat 200 kann ein Substrat repräsentieren, wie es zuvor mit Bezug zu den Substraten 100 und 200 beschrieben ist. Des weiteren umfasst in der dargestellten Ausführungsform das Substrat 300 in und über seiner Vorderseite einen „aktiven" Bereich 305, in welchem entsprechende Mikrostrukturbauelemente, etwa integrierte Schaltungen und dergleichen vorgesehen sind. Die entsprechenden Mikrostrukturbauelemente in dem Bereich 305 können in einem fortgeschrittenen Fertigungsstadium sein, beispielsweise kann der Bereich 305 im Wesentlichen vollständige integrierte Schaltungen enthalten, die eine Separierung in einzelne Chips und das Befestigen an geeigneten Gehäusematerialien benötigen. Des weiteren umfasst das Substrat 300 an seiner Rückseite 303 ein entsprechendes Sicherheitsmaterial 310, um das Substrat 300 für die nachfolgende Transportaktivität vorzubereiten. In einer anschaulichen Ausführungsform umfasst das Sicherheitsmaterial 310 eine erste Materialschicht 310c, die zumindest die erforderliche Haftung an der Rückseite 303 des Substrats 300 bereitstellt. D. h., das Material 310c haftet an der Rückseite 303, selbst wenn das Substrat 300 in mehrere Teilstücke auf Grund der Einwirkung einer typischen transportverursachten externen Belastung bricht. Es sollte beachtet werden, dass eine transportbezogene Belastung als ein externer Einfluss mit einer gewissen Größe betrachtet wird, der zu der Zerstörung des entsprechenden Substrats 300 führen kann, der aber andere Substrate intakt lässt. Beispielsweise kann das Material 310c ein geeignetes Material repräsentieren, das für das gewünschte Maß an Haftung sorgt, wobei es auch ein gewisses Maß an mechanischer Stabilität und Flexibilität in Reaktion auf eine externe Belastung aufweist. Um die gewünschten Sicherheitseigenschaften des Materials 210 weiter zu verbessern, kann mindestens eine weitere Materialschicht 310d vorgesehen werden, die dem Material 310c eine erhöhte mechanische Stabilität verleiht. Z. B. kann die Steifigkeit des Materials 310c deutlich vergrößert werden, indem ein geeignetes Material, etwa eine Metallschicht und dergleichen, vorgesehen wird, die die erforderlichen Eigenschaften verleiht. In anderen Fällen ist die Schicht 310d aus einem Metallgitter aufgebaut, das entsprechende Bereiche aus Metallmaterial mit einem hohen Maß an Festigkeit enthält, wodurch die Gesamtstabilitätseigenschaften des Sicherheitsmaterials 310 verbessert werden. Es sollte beachtet werden, dass die Materialschichten 310c, 310d in Form eines Schichtstapels vorgesehen werden können, wie dies gezeigt ist, während in anderen anschaulichen Ausführungsformen diese Materialien in einer „integrierten" Form vorgesehen werden, wenn beispielsweise ein entsprechendes Metallgitter in das Material der Schicht 310c eingebaut wird. Des weiteren kann das Sicherheitsmaterial 310 zusätzliche Materialschichten aufweisen, beispielsweise eine weitere Schicht aus dem Material 310c, um das Material 310d mit der erhöhten mechanischen Stabilität einzukapseln. Zum Beispiel kann die Schicht 310c in Form eines Polymermaterials vorgesehen werden, etwa eines PVC-Materials, an das sich ein metallenthaltendes Material für die Schicht 310d anschließt, woran sich optional ein weiteres Material anschließen kann, etwa ein Polymer, und dergleichen.
  • Das Substrat 300, wie es in 3a gezeigt ist, kann durch Bearbeiten des Substrats 300 ohne das Sicherheitsmaterial 310 auf der Grundlage einer geeigneten Prozesssequenz zur Herstellung der entsprechenden Mikrostrukturbauelemente in dem Bereich 305 bearbeitet werden. In einem geeigneten Fertigungsstadium wird dann das Sicherheitsmaterial 310 aufgebracht, wobei in einigen anschaulichen Ausführungsformen die entsprechenden Materialschichten 310c, 310d individuell vorgesehen werden, beispielsweise durch geeignete Abscheideverfahren, während in anderen Fällen einige der Unterschichten des Materials 310 separat zu dem Substrat 300 hergestellt und nachfolgend auf das Substrat 300 aufgebracht werden. Wenn z. B. das Sicherheitsmaterial 310 im Wesentlichen folienartige Eigenschaften aufweist, d. h. es ist flexibel und hat ein hohes Maß an Zähigkeit, wobei das Maß an Elastizität beispielsweise auf der Grundlage des Materials 310d eingestellt werden kann, kann das Sicherheitsmaterial 310 in einem mechanischen Prozess aufgebracht werden, wobei z. B. geeignet dimensionierte Materialstücke 310 an der Rückseite 303 festgemacht werden. In anderen Fällen kann ein Teil des Materials 310 durch mechanische Verfahren befestigt werden, woran sich das Abscheiden eines geeigneten Materials zum Einstellen der gewünschten Eigenschaften anschließt. Bei Bedarf kann die entsprechende Prozesssequenz umgedreht werden, d. h. ein geeignetes Material, etwa ein Haftmittel, kann Mittels eines Abscheideverfahrens aufgebracht werden, etwa Aufschleudern, CVD, und dergleichen, woran sich das mechanische Anhaften eines weiteren Materials, etwa der Schicht 310d, anschließt.
  • Nach dem Aufbringen des Sicherheitsmaterials 310 wird das Substrat 300 weiter bearbeitet, wenn das Material 310 mit nachfolgenden Prozessschritten kompatibel ist, oder das Substrat 300 wird in einen entsprechenden Transportbehälter eingeführt, wie dies zuvor beschrieben ist.
  • 3b zeigt schematisch das Substrat 300 gemäß weiterer anschaulicher Ausführungsformen. Hier wird ein Sicherheitsmaterial 310a auf der Rückseite 303 vorgesehen, wobei zusätzlich ein weiteres Sicherheitsmaterial 310b auf der Vorderseite 302 vorgesehen ist, wodurch auch der Bereich 305 abgedeckt wird. Das Material 310b kann einen Schutzfilm aus einer geeigneten Materialzusammensetzung repräsentieren, die so gewählt ist, dass sie nicht in ungeeigneter Weise mit Mikrostrukturbauelementen in dem Bereich 305 in Wechselwirkung tritt, während dennoch eine Kontamination des Bereichs 305 zuverlässig unterdrückt wird. Beispielsweise kann das Material 310b aus einem Polymermaterial aufgebaut sein oder kann folienartige Eigenschaften zeigen, wobei in einigen anschaulichen Ausführungsformen die Haftung und die mechanischen Eigenschaften sich von jenen des Materials 310a unterscheiden können. Wie beispielsweise zuvor erläutert ist, können die Substrate 300 in einer im Wesentlichen horizontalen Orientierung innerhalb des entsprechenden Transportbehälters angeordnet werden, so dass die erforderliche mechanische Stabilität innerhalb des Behälters durch das Material 310a erzeugt wird, wenn das Substrat 300 während des Transports bricht. In diesem Falle kann das Material 310b das Ablösen von Material deutlich unterdrücken, insbesondere in der Nähe in Bruchbereichen, die ansonsten zu einer Teilchenkontamination anderer Substrate, die in dem gleichen Transportbehälter enthalten sind, führen würden. In anderen anschaulichen Ausführungsformen besitzt das Material 303b ähnliche Eigenschaften wie das Sicherheitsmaterial, wie dies zuvor mit Bezug zu den Substraten 200 und 300 in 3a beschrieben ist, wodurch die Wahrscheinlichkeit einer Behälterkontamination beim Bruch weiter reduziert wird. In anderen Fällen kann, wie zuvor mit Bezug zu 2c erläutert ist, ein entsprechendes Maß an mechanischer Stabilität des entsprechenden Sicherheitsmaterials auf beiden Seiten des Substrats 300 vorteilhaft sein, wenn dieses in einer im Wesentlichen vertikalen Orientierung angeordnet ist. In diesem Falle kann die Form und die Position des Substrats 300 im Wesentlichen unabhängig von der vertikalen Orientierung des Substrats 300 beibehalten werden. In Bezug auf das Herstellen der Sicherheitsmaterialien 310a, 310b gelten die gleichen Kriterien, wie sie zuvor mit Bezug zu den Materialien 210 und 310c und 310d erläutert sind. D. h., jedes der Materialien 310b, 310a kann selbst aus unterschiedlichen Materialien und/oder Schichten hergestellt sein, um damit die gewünschten Eigenschaften zu erhalten, wie dies zuvor erläutert ist.
  • 3c zeigt schematisch das Substrat 300 gemäß weiterer anschaulicher Ausführungsformen, in denen das Substrat 300 im Wesentlichen durch das entsprechende Sicherheitsmaterial 310 eingekapselt ist. In diesem Falle kann das Sicherheitsmaterial 310 im Wesentlichen als eine Hülle für das Substrat 300 dienen, wobei das Sicherheitsmaterial 310 in einigen anschaulichen Ausführungsformen eine ausreichende Eigenstabilität aufweist, um damit seine Größe und Form selbst nach einem Brechen des Substrats 300 beizubehalten. In anderen Fällen dient das Sicherheitsmaterial 310 als ein Puffermaterial, das den wirksamen Betrag von thermischen und/oder mechanischen Belastungen, die tatsächlich auf das Substrat 300 einwirken, deutlich verringern, wodurch die Wahrscheinlichkeit eines Brechens der Scheibe weiter verringert wird. Wenn der entsprechende „Schwellwert für das Brechen" überschritten wird, kann die Einkapselung durch das Material 310 das Herauswandern selbst kleiner Teilchen Sicherheitsmaterial 310 unterdrücken.
  • Das in 3c gezeigte Sicherheitsmaterial 310 kann auf der Grundlage einer geeigneten Technik hergestellt werden, etwa durch Eintauchen des Substrats 300 in ein geeignetes Vorstufenmaterial und durch Ausführen einer entsprechenden Nachbehandlung, um damit die abschließenden Eigenschaften des Materials 310 einzustellen. Beispielsweise können entsprechende Polymermaterialien in effizienter Weise auf der Grundlage von UV-Strahlung, Wärme, und dergleichen ausgehärtet werden. Wie zuvor mit Bezug zu 3a erläutert ist, können die mechanischen Eigenschaften eingestellt werden, indem unterschiedliche Materialien zumindest lokal innerhalb des Materials 310 bei Bedarf vorgesehen werden. In anderen Fällen wird die Behandlung des Materials 310 nach Aufbringen so gesteuert, dass die Materialeigenschaften über die Dicke des Materials 310 hinweg variieren. Beispielsweise kann das Aushärten des Materials 310 nach dem Aufbringen so gesteuert werden, dass ein relativ verformbarer Zustand in der Nähe der entsprechenden Oberflächen 302, 303 beibehalten wird, während die äußeren Flächenbereiche des Materials 310 für die gewünschte mechanische Stabilität sorgen.
  • 4a zeigt schematisch ein System 470 zum Versenden von Substraten oder zum Transportieren von Substraten, die zur Bearbeitung von Mikrostrukturen verwendbar sind oder verwendet werden, wobei der Transport von einer ersten Fertigungsstätte 471 zu einer zweiten Fertigungsstätte 472 verläuft. Die entsprechenden Fertigungsstätten 471, 472 können entsprechende Fabriken zur Ausführung einer Fertigungssequenz repräsentieren, um beispielsweise Halbleiterbauelemente bis zu einem spezifizierten Fertigungsstadium herzustellen, wobei eine nachfolgende Fertigungssequenz sodann an anderer Stelle ausgeführt wird. Das System 470 umfasst eine entsprechende Prozessanlage 473, die in der ersten Fertigungsstätte 471 angeordnet ist, um damit entsprechende Substrate mit einem Sicherheitsmaterial 410 zu versehen, das Eigenschaften aufweist, wie sie zuvor mit Bezug zu den Materialien 210, 310 beschrieben sind. Des weiteren ist das System 470 ausgebildet, die Substrate 400 mit dem Sicherheitsmaterial 410 in geeignete Transportbehälter 450 einzuführen, um damit die Substrate 400 über entsprechende Transportmedien 455 zu der zweiten Fertigungsstätte 472 zu transportieren. In einer anschaulichen Ausführungsform umfasst das System 470 eine entsprechende Prozessanlage 474, die ausgebildet ist, die Substrate 400 aufzunehmen und das entsprechende Sicherheitsmaterial 410 vor der eigentlichen weiteren Bearbeitung der Substrate 400 zu entfernen. Wie zuvor erläutert ist, kann das entsprechende Sicherheitsmaterial 410 auf Grundlage diverser Prozessverfahren hergestellt werden und kann unterschiedliche Materialien enthalten, so dass die entsprechenden Prozessanlagen 473 und 474 ausgebildet sind, um das entsprechende Sicherheitsmaterial 410 vorzusehen, und in geeigneter Weise zu entfernen. Die Prozessanlage 473 kann Anlagen zum mechanischen Befestigen, Abscheideanlagen, Aufschleuderverfahren, und dergleichen, abhängig von den Eigenschaften des Sicherheitsmaterials 410 umfassen. In ähnlicher Weise kann die Prozessanlage 474 entsprechende Mittel zum mechanischen Ablösen des Materials 410 und kann auch entsprechende Ätzanlagen und dergleichen aufweisen. In noch anderen anschaulichen Ausführungsformen wird das Sicherheitsmaterial 410 oder zumindest Teile davon beibehalten, wenn die entsprechenden Materialeigenschaften der verbleibenden Materialbereiche mit den Prozessschritten verträglich sind, die in der zweiten Fertigungsstätte 472 auszuführen sind.
  • In einer anschaulichen Ausführungsform umfasst das System 470 ein Überwachungssystem 475, das ausgebildet ist, mindestens einen Parameter, der mit Transportbedingungen in dem Transportmedien 455 verknüpft ist, zu überwachen oder zu detektieren. In einer anschaulichen Ausführungsform ist das Sicherheitsmaterial 410 mit einer entsprechenden Sensoreigenschaft verknüpft, um damit das Erkennen eines geeigneten Parameterwertes zu ermöglichen, der von dem Überwachungssystems 475 aufgenommen wird. In einer anschaulichen Ausführungsform weist das Sicherheitsmaterial 410 darin eingebaut oder daran angebracht ein entsprechendes Sensorelement auf, das in kabelloser Weise angesprochen werden kann, um damit Information über die Transportbedingungen in den Medien 455 zu erhalten. Zu diesem Zweck können funkfrequenzgesteuerte und aktivierte Elemente eingesetzt werden, die einen Sensorbereich zum Bewerten entsprechender Transportbedingungen aufweisen, etwa der Temperatur, der Feuchtigkeit, der mechanischen Belastung, und dergleichen. Entsprechende Messdaten werden von einer oder mehreren Empfängereinheiten 476 aufgenommen, die an geeigneten Stellen positioniert sind, um damit die gewünschte Information zu erhalten. Beispielsweise kann eine Empfängereinheit 476 an der zweiten Messstätte 472 positioniert sein, um damit die Transportbedingungen auf der Grundlage von Informationen zu bewerten, die von den entsprechenden Sensorelementen bereitgestellt werden. In anderen Fällen werden mehrere Empfängereinheiten 476 vorgesehen, um damit eine detailliertere Information im Hinblick auf die Transportsituation für die entsprechenden Substrate 400 zu gewinnen. Wenn beispielsweise entsprechende Sensorelemente, die mit dem Sicherheitsmaterial 410 verknüpft sind, einen Zugriff mittels Funkfrequenzsignalen ermöglichen, können entsprechende Messinformationen an einer beliebigen gewünschten Position innerhalb der gesamten Transportroute erfasst werden. Beispielsweise können entsprechende Funkidentifikationselemente oder intelligente Markierungen mit extrem kleinem Volumen hergestellt werden, so dass die entsprechenden Elemente einfach an dem Sicherheitsmaterial 410 angebracht werden können, ohne dass eine Neukonfigurie rung bereits bestehender Transportbehälter oder anderer Transportanlagen erforderlich ist. Z. B. können entsprechende Elemente effizient in folienartigen Materialien eingebaut oder an diesen angebracht werden, die dann als das Sicherheitsmaterial 410 verwendet werden können. Da viele dieser Sensormaterialien verwendet werden können, ohne dass eine interne Versorgungsspannung erforderlich ist, kann ein hohes Maß an Flexibilität in Bezug auf die Anwendung und auf das Zugreifen auf die entsprechenden Sensorelemente erreicht werden.
  • 4b zeigt schematisch das Substrat 400 gemäß einer beispielhaften Ausführungsform, wobei das Sicherheitsmaterial 410 darin eingebaut ein entsprechendes Sensorelement 477 aufweist. In einigen anschaulichen Ausführungsformen repräsentiert das Element 477 eine elektronische Komponente, die auf Funkfrequenzsignale reagiert, wobei die entsprechende Antwort von mindestens einem transportbezogenen Parameter, etwa dem Druck, der Belastung, die Temperatur, und dergleichen abhängt. In anderen anschaulichen Beispielen repräsentiert das Sensorelement 477 einen nicht elektronischen Bereich des Sicherheitsmaterials 410, der als ein Indikatormaterial fungieren kann, um damit den Status mindestens eines transportbezogenen Parameters anzuzeigen, etwa der Temperatur, der Feuchtigkeit, und dergleichen. Beispielsweise kann das Sensorelement 477 eine maximale Temperatur oder eine minimale Temperatur oder beides anzeigen, die auf das Bauelement 477 während des Transports eingewirkt hat.
  • Es gilt also: Die vorliegende Erfindung vermindert das Problem transportbezogener Kontaminationserscheinungen, die durch das Brechen von Substraten in einem Transportbehälter hervorgerufen werden, indem die entsprechenden Substrate für den Transport so vorbereitet werden, dass ein entsprechendes Sicherheitsmaterial vorgesehen wird, das die Wahrscheinlichkeit für das Erzeugen loser Teilstücke und Teilchen deutlich reduzieren kann, wenn ein entsprechendes Substrat auf Grund der jeweiligen Transportbedingungen bricht. Zu diesem Zweck wird zumindest ein Teil der Oberfläche des Substrats mit dem Sicherheitsmaterial abgedeckt, das Teilstücke zurückhalten und auch einen verstärkten Schutz gegenüber Oberflächenkontamination bieten kann. Durch geeignetes Positionieren der Substrate in dem Transportbehälter kann die Wahrscheinlichkeit des Brechens von Substraten verringert werden, was in Verbindung mit dem Vorsehen eines entsprechenden Sicherheitsmaterials Ausbeuteverluste weiter verringern kann, die durch Substrattransport hervorgerufen werden, insbesondere wenn im Wesentlichen vollständig bearbeitete Mikrostruktursubstrate betrachtet werden.
  • Weitere Modifizierungen und Variationen der vorliegenden Erfindung werden für den Fachmann angesichts dieser Beschreibung offenkundig. Daher ist diese Beschreibung als lediglich anschaulich und für die Zwecke gedacht, dem Fachmann die allgemeine Art und Weise des Ausführens der vorliegenden Erfindung zu vermitteln. Selbstverständlich sind die hierin gezeigten und beschriebenen Formen der Erfindung als die gegenwärtig bevorzugten Ausführungsformen zu betrachten.

Claims (22)

  1. Verfahren mit: Transportieren eines Substrats in einem Transportbehälter von einer ersten Fertigungsstätte zu einer zweiten Fertigungsstätte, wobei das Substrat eine Vorderseite und eine Rückseite aufweist und ein Trägermaterial repräsentiert, um in und auf der Vorderseite Mikrostrukturbauelemente zu bilden; und Aufbringen einer Haftschicht auf der Rückseite des Substrats vor dem Transportieren des Substrats, wobei die Haftschicht ausgebildet ist, eine Kontamination des Transportbehälters bei einem durch den Transport hervorgerufenen Bruch des Substrats zu verringern.
  2. Verfahren nach Anspruch 1, wobei das Substrat in einer im Wesentlichen horizontalen Richtung relativ zum Untergrund während des Transports orientiert ist, wobei die Rückseite nach unten zeigt.
  3. Verfahren nach Anspruch 1, wobei das Substrat in einer schrägen Orientierung relativ zum Untergrund angeordnet ist, um eine laterale Kraft zu verringern, die auf das Substrat während des Transports wirkt.
  4. Verfahren nach Anspruch 1, das ferner Aufbringen eines Schutzfilms über der Vorderseite umfasst.
  5. Verfahren nach Anspruch 4, wobei der Schutzfilm ausgebildet ist, eine Kontamination des Transportbehälters bei einem durch den Transport hervorgerufenen Bruch des Substrats zu reduzieren.
  6. Verfahren nach Anspruch 5, wobei das Substrat in einer im Wesentlichen vertikalen Orientierung relativ zum Untergrund angeordnet ist, um damit eine laterale Kraft, die auf das Substrat während des Transports wirkt, zu verringern.
  7. Verfahren nach Anspruch 1, wobei Aufbringen der Haftschicht umfasst: Bilden einer flexiblen Materialschicht auf der Rückseite, wobei die flexible Materialschicht eine klebrige Oberfläche besitzt, die mit der Rückseite in Kontakt ist.
  8. Verfahren nach Anspruch 7, wobei die Stabilität der Haftschicht vergrößert wird, indem eine Verstärkungsschicht auf der flexiblen Materialschicht gebildet wird.
  9. Verfahren nach Anspruch 1, das ferner Empfangen des Transportbehälters in der zweiten Fertigungsstätte und Entfernen der Haftschicht umfasst.
  10. Verfahren nach Anspruch 1, das ferner umfasst: Vorsehen eines Detektorsystems, das an der Haftschicht angebracht ist, und Bestimmen mindestens eines Parameters zum Bewerten von Transportbedingungen des Substrats.
  11. Verfahren nach Anspruch 1, wobei mindestens ein weiteres Substrat in dem Transportbehälter transportiert wird, wobei das mindestens eine weitere Substrat an seiner Rückseite eine weitere Haftschicht aufweist, die ausgebildet ist, eine Kontamination des Transportbehälters bei einem durch Transport hervorgerufenen Bruch des mindestens einen weiteren Substrats zu reduzieren.
  12. Verfahren mit: Bilden eines Sicherheitsmaterials auf einem Substrat, das zum Bearbeiten von Mikrostrukturbauelementen verwendet wird, wobei das Sicherheitsmaterial ausgebildet ist, die Ausbildung loser Teilstücke beim Brechen des Substrats zu reduzieren; und Transportieren des Substrats von einer ersten Fertigungsstätte zu einer zweiten Fertigungsstätte.
  13. Verfahren nach Anspruch 12, wobei das Substrat in einer im Wesentlichen horizontalen Orientierung relativ zum Untergrund transportiert wird und wobei das Sicherheitsmaterial als eine flexible Haftmaterialschicht, die nach unten zeigt, vorgesehen wird.
  14. Verfahren nach Anspruch 12, wobei das Substrat in einer im Wesentlichen vertikalen Orientierung relativ zum Untergrund transportiert wird, um damit die Eigenstabilität des Substrats in Bezug auf eine laterale Kraft während des Transports zu erhöhen.
  15. Verfahren nach Anspruch 12, wobei Bilden des Sicherheitsmaterials umfasst: Bilden eines Haftmaterials auf einer Rückseite und/oder Vorderseite des Substrats, wobei das Haftmaterial eine höhere Flexibilität im Vergleich zu dem Substrat aufweist.
  16. Verfahren nach Anspruch 12, wobei Bilden des Sicherheitsmaterials umfasst: im Wesentliches Einkapseln des Substrats.
  17. Verfahren nach Anspruch 11, das ferner umfasst: zumindest teilweise Entfernen des Sicherheitsmaterials in der zweiten Fertigungsstätte und Fortsetzen der Bearbeitung des Substrats.
  18. Verfahren nach Anspruch 12, wobei Bilden des Sicherheitsmaterials Bilden eines Folienmaterials zumindest auf einer Seite des Substrats umfasst.
  19. Verfahren nach Anspruch 12, das ferner umfasst: Überwachen mindestens eines Transportparameters beim Transportieren des Substrats von der ersten Fertigungsstätte zu der zweiten Fertigungsstätte.
  20. System zum Transportieren von Substraten von Mikrostrukturbauelementen von einer ersten Fertigungsstätte zu einer zweiten Fertigungsstätte, mit: einer Ladestation, die ausgebildet ist, ein oder mehrere Substrate in einen Transportbehälter einzuladen, wobei das eine oder die mehreren Substrate ein Sicherheitsmaterial aufweisen, das ausgebildet ist, eine Kontamination des Transportbehälters beim Bruch eines Substrats der einen oder mehreren Substrate zu reduzieren; und einer Prozessanlage, die ausgebildet ist, das Sicherheitsmaterial auf jedem des einen oder der mehreren Substrate zu bilden.
  21. System nach Anspruch 20, das ferner ein Überwachungssystem aufweist, das ausgebildet ist, mindestens einen Transportparameter zu überwachen, der den Transportstatus jedes des einen oder der mehreren Substrate angibt.
  22. System nach Anspruch 21, wobei das Überwachungssystem ein Sensorelement aufweist, das mit dem Sicherheitsmaterial verknüpft ist.
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103019045A (zh) * 2012-12-11 2013-04-03 清华大学 一种具有防撞功能的硅片台

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10252849A1 (de) * 2001-11-13 2003-05-22 Lintec Corp Wafer-Umsetzvorrichtung
DE10140827B4 (de) * 2001-08-21 2004-07-29 Infineon Technologies Ag Vorrichtung zum Debonden von Dünnwafern

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6713366B2 (en) * 2002-06-12 2004-03-30 Intel Corporation Method of thinning a wafer utilizing a laminated reinforcing layer over the device side
JP2004063953A (ja) * 2002-07-31 2004-02-26 Ube Ind Ltd ダイシングテ−プ
US7458763B2 (en) * 2003-11-10 2008-12-02 Blueshift Technologies, Inc. Mid-entry load lock for semiconductor handling system
JP4903429B2 (ja) * 2005-12-05 2012-03-28 ミライアル株式会社 載置トレイ及び薄板保持容器
US7844099B2 (en) * 2006-11-15 2010-11-30 International Business Machines Corporation Inspection method for protecting image sensor devices with front surface protection

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10140827B4 (de) * 2001-08-21 2004-07-29 Infineon Technologies Ag Vorrichtung zum Debonden von Dünnwafern
DE10252849A1 (de) * 2001-11-13 2003-05-22 Lintec Corp Wafer-Umsetzvorrichtung

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